JPWO2018047686A1 - パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
Rf1は、それぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し;
PFPE1は、それぞれ独立して、−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−を表し、ここに、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり;
X1は、単結合または2価の有機基を表し;
R1は、−X2−SiRa1 l1Rb1 m1Rc1 n1を表し;
X2は、2価の有機基を表し;
Ra1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1−SiRa2 l2Rb2 m2Rc2 n2を表し;
Z1は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
Ra2は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra1’を表し;
Ra1’は、Ra1と同意義であり;
Ra1中、Z1基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
Rb2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rc2は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Rb1は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rc1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
l1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
n1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
R2は、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し;
pは、1または2である、
ただし、式中、少なくとも1つのRb1またはRb2が存在する。]
および
少なくとも1種の下記式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物:
R3は、炭化水素基を表し;
R4は、有機基を表す。]
を含み、式(1)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物と式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物の総含有量に対する、式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物の含有量が、4.1mol%以上35mol%以下である、表面処理剤が提供される。
性アミドシラン化合物:
下記式(2)で表される少なくとも1種のアミン化合物:
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
で表される基である。式中、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0以上100以下の整数である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は5以上であり、より好ましくは10以上、例えば10以上100以下である。また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
−(CR8 2)k1−(O)k2−(NR9)k3−、
[式中:
R8は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり;
R9は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し;
k1は、1〜20の整数であり;
k2は、0〜10の整数であり;
k3は、0〜10の整数であり;
ここに、k1、k2またはk3を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基が挙げられる。
−(CF2)k1’−または−(CF2)k1’−(O)k2’−
[式中:
k1’は、1〜6の整数であり;
k2’は、1〜3の整数であり;
ここに、k1’またはk2’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である。
−(CR10 2)k4−(O)k5−(NR11)k6−、
[式中:
R10は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり;
R11は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し;
k4は、1〜20の整数であり;
k5は、0〜10の整数であり;
k6は、0〜10の整数であり;
ここに、k4、k5またはk6を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基が挙げられる。
−(CH2)k4’−または−(CH2)k4’−Ok5’−
[式中:
k4’は、1〜6の整数であり;
k5’は、1〜3の整数であり;
ここに、k4’またはk5’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である。
−(CF2)k1’−または−(CF2)k1’−(O)k2’−
[式中:
k1’は、1〜6の整数であり;
k2’は、1〜3の整数であり;
ここに、k1’またはk2’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
であり、
X2は、
−(CH2)k4’−または−(CH2)k4’−Ok5’−
[式中:
k4’は、1〜6の整数であり;
k5’は、1〜3の整数であり;
ここに、k4’またはk5’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である。
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
で表される基である。式中、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0以上100以下の整数である。好ましくは、a、b、c、d、eおよびfの和は5以上であり、より好ましくは10以上、例えば10以上100以下である。また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
−(CR8 2)k1−(O)k2−(NR9)k3−、
[式中:
R8は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり;
R9は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し;
k1は、1〜20の整数であり;
k2は、0〜10の整数であり;
k3は、0〜10の整数であり;
ここに、k1、k2またはk3を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基が挙げられる。
−(CF2)k1’−または−(CF2)k1’−(O)k2’−
[式中:
k1’は、1〜6の整数であり;
k2’は、1〜3の整数であり;
ここに、k1’またはk2’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である。
パーフルオロヘキサン、CF3CF2CHCl2、CF3CH2CF2CH3、CF3CHFCHFC2F5、1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−トリデカフルオロオクタン、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン((ゼオローラH(商品名)等)、C4F9OCH3、C4F9OC2H5、CF3CH2OCF2CHF2、C6F13CH=CH2、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、HCF2CF2CH2OH、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびCF3O(CF2CF2O)m(CF2O)nCF2CF3[式中、mおよびnは、それぞれ独立して0以上1000以下の整数であり、mまたはnを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しmおよびnの和は1以上である。]、1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン、1,2−ジクロロ−1,3,3,3−テトラフルオロ−1−プロペン、1,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペン、1,1−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロ−1−プロペン、1,1,2−トリクロロ―3,3,3−トリフルオロ−1−プロペン、1,1,1,4,4,4−ヘキサフルオロ−2−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。
PFPE3は、各出現においてそれぞれ独立して、式:
−(OC6F12)a1−(OC5F10)b1−(OC4F8)c1−(OC3F6)d1−(OC2F4)e1−(OCF2)f1−
(式中、a1、b1、c1、d1、e1およびf1は、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a1、b1、c1、d1、e1およびf1の和は少なくとも1であり、a1、b1、c1、d1、e1またはf1を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Rf3は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し;
R23は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R24は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜22のアルキル基を表し;
R21は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し;
R22は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
n3は、(−SiR23 n3R24 3−n3)単位毎に独立して、0〜3の整数であり;
ただし、式(A1)、(A2)、(B1)および(B2)において、少なくとも1つのn3が、1〜3の整数であり;
X4は、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基を表し;
X5は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基を表し;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、1〜10の整数であり;
α1は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
α1’は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
X6は、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基を表し;
β1は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
β1’は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
X7は、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基を表し;
γ1は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
γ1’は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
Ra3は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR71 p1R72 q1R73 r1を表し;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R71は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra3’を表し;
Ra3’は、Ra3と同意義であり;
Ra3中、Z3基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
R72は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R73は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
p1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
ただし、式(C1)および(C2)において、少なくとも1つのq1が1〜3の整数であり;
Rb3は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rc3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
k1は、各出現においてそれぞれ独立して、1〜3の整数であり;
l1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜2の整数であり;
m1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜2の整数であり;
X9は、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基を表し;
δ1は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
δ1’は、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
Rd3は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z4−CR81 p2R82 q2R83 r2を表し;
Z4は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R81は、各出現においてそれぞれ独立して、Rd3’を表し;
Rd3’は、Rd3と同意義であり;
Rd3中、Z4基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R82は、各出現においてそれぞれ独立して、−Y−SiR85 n2R86 3−n2を表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、2価の有機基を表し;
R85は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R86は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
n2は、(−Y−SiR85 n2R86 3−n2)単位毎に独立して、1〜3の整数を表し;
ただし、式(D1)および(D2)において、少なくとも1つのn2は1〜3の整数であり;
R83は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Re3は、各出現においてそれぞれ独立して、−Y−SiR85 n2R86 3−n2を表し;
Rf3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
ただし、式(D1)および(D2)において、少なくとも1つのq2は2または3であるか、あるいは、少なくとも1つのl2は2または3である。]
のいずれかで表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が挙げられる。
Rf5−(OC4F8)a’−(OC3F6)b’−(OC2F4)c’−(OCF2)d’−Rf6 ・・・(3)
式中、Rf5は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基(好ましくは、C1―16のパーフルオロアルキル基)を表し、Rf6は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基(好ましくは、C1−16パーフルオロアルキル基)、フッ素原子または水素原子を表し、Rf5およびRf6は、より好ましくは、それぞれ独立して、C1−3パーフルオロアルキル基である。
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1、好ましくは1〜300、より好ましくは20〜300である。添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および−(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および−(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および−(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
Rf5−(OCF2CF2CF2)b’’−Rf6 ・・・(3a)
Rf5−(OCF2CF2CF2CF2)a’’−(OCF2CF2CF2)b’’−(OCF2CF2)c’’−(OCF2)d’’−Rf6 ・・・(3b)
これら式中、Rf5およびRf6は上記の通りであり;式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して1以上30以下の整数であり、c’’およびd’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a’’、b’’、c’’、d’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。
合成例1
反応器に、メタノール240gおよびトリエチルアミン19.6gを仕込み、窒素気流下、5℃で平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)32CF2CF2COFで表されるパーフルオロポリエーテル変性酸フルオライド化合物500gを滴下し、その後、室温まで昇温させて、撹拌した。続いて、パーフルオロヘキサン300gを加えて撹拌した後、分液ロートに移送し静置後、パーフルオロヘキサン層を分取した。続いて、3規定塩酸水溶液による洗浄操作を行った。次に、パーフルオロヘキサン層に無水硫酸マグネシウム30gを加えて、撹拌した後、不溶物を濾別した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にメチルエステル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有エステル体(A)476gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物(A):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)32CF2CF2CO2CH3
・パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物の合成
反応器に、合成例1にて合成した末端にメチルエステルを有するパーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物(A)450gを仕込み、窒素気流下、室温でアミノプロピルトリメキシシラン(NH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3)15.38gを滴下した後、65℃まで昇温させ撹拌した。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物B)470gを得た。
・パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物(B):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)32CF2CF2CONHCH2CH2CH2Si(OCH3)3
上記合成例2で得たパーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物(B)および上記合成例1で得たパーフルオロポリエーテル基含有メチルエステル化合物(A)を、モル比95.5:4.5で混合し、ノベック7200(スリーエム社製)に溶解させて、濃度20wt%になるように、表面処理剤1を調製した。
化合物(B)と化合物(A)の混合比(モル比)を下記表に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(B)と化合物(A)の混合比(モル比)を下記表に示すように変更した以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
上記合成例2で得たパーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物(B)を単独で用いること以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
Claims (26)
- 少なくとも1種の下記式(1)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物:
Rf1は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し;
PFPE1は、それぞれ独立して、−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−を表し、ここに、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり;
X1は、単結合または2価の有機基を表し;
R1は、それぞれ独立して、−X2−SiRa1 l1Rb1 m1Rc1 n1を表し;
X2は、2価の有機基を表し;
Ra1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1−SiRa2 l2Rb2 m2Rc2 n2を表し;
Z1は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
Ra2は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra1’を表し;
Ra1’は、Ra1と同意義であり;
Ra1中、Z1基を介して直鎖状に連結されるSiは最大で5個であり;
Rb2は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rc2は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Rb1は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
Rc1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
l1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
n1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
R2は、それぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基またはフェニル基を表し;
pは、1または2である、
ただし、式中、少なくとも1つのRb1またはRb2が存在する。]
および
少なくとも1種の下記式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物:
R3は、炭化水素基を表し;
R4は、有機基を表す。]
を含み、式(1)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物と式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物の総含有量に対する、式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物の含有量が、4.1mol%以上35mol%以下である、表面処理剤。 - Rf1が、炭素数1〜16のパーフルオロアルキル基である、請求項1に記載の表面処理剤。
- PFPE1が下記式(a)、(b)または(c):
−(OC3F6)d− (a)
[式中、dは1以上200以下の整数である。]
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (b)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0以上30以下の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1以上200以下の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10以上200以下の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
−(R6−R7)q− (c)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
qは、2〜100の整数である。]
である、請求項1または2に記載の表面処理剤。 - X1における2価の有機基が、
−(CR8 2)k1−(O)k2−(NR9)k3−、
[式中:
R8は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり;
R9は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し;
k1は、1〜20の整数であり;
k2は、0〜10の整数であり;
k3は、0〜10の整数であり;
ここに、k1、k2またはk3を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - X2における2価の有機基が、
−(CR10 2)k4−(O)k5−(NR11)k6−、
[式中:
R10は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり;
R11は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し;
k4は、1〜20の整数であり;
k5は、0〜10の整数であり;
k6は、0〜10の整数であり;
ここに、k4、k5またはk6を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - X1が、−(CF2)k1’−または−(CF2)k1’−(O)k2’−
[式中:
k1’は、1〜6の整数であり;
k2’は、1〜3の整数であり;
ここに、k1’またはk2’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
であり、
X2が、−(CH2)k4’−または−(CH2)k4’−Ok5’−
[式中:
k4’は、1〜6の整数であり;
k5’は、1〜3の整数であり;
ここに、k4’またはk5’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - R2が、炭素数1〜3個のアルキル基またはフェニル基である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- Rb1およびRb2が、OCH3またはOC2H5である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- pが1である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- R4が、Rf2−PFPE2−X3−
[式中:
Rf2は、それぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し;
PFPE2は、それぞれ独立して、−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−を表し、ここに、a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり;
X3は、単結合または2価の有機基を表す。]
である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - Rf2が、炭素数1〜16のパーフルオロアルキル基である、請求項10に記載の表面処理剤。
- PFPE2が下記式(a)、(b)または(c):
−(OC3F6)d− (a)
[式中、dは1以上200以下の整数である。]
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (b)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0以上30以下の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1以上200以下の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10以上200以下の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
−(R6−R7)q− (c)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせであり;
qは、2〜100の整数である。]
である、請求項10または11に記載の表面処理剤。 - X3における2価の有機基が、
−(CR15 2)k7−(O)k8−(NR16)k9−、
[式中:
R15は、それぞれ独立して、水素原子またはフッ素原子であり;
R16は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し;
k7は、1〜20の整数であり;
k8は、0〜10の整数であり;
k9は、0〜10の整数であり;
ここに、k7、k8またはk9を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である、請求項10〜12のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - X3が、−(CF2)k7’−または−(CF2)k7’−(O)k8’−
[式中:
k7’は、1〜6の整数であり;
k8’は、1〜3の整数であり;
ここに、k7’またはk8’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
である、請求項10〜13のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - R3が、炭素数1〜3のアルキル基である、請求項1〜14のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 式(1)で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物と式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物の総含有量に対する、式(2)で表されるカルボン酸エステル化合物の含有量が、4.5mol%以上35mol%以下である、請求項1〜15のいずれか1項に表面処理剤。
- 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項1〜16のいずれかに記載の表面処理剤。
- 含フッ素オイルが、式(3):
Rf5−(OC4F8)a’−(OC3F6)b’−(OC2F4)c’−(OCF2)d’−Rf6 ・・・(3)
[式中:
Rf5は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基を表し;
Rf6は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し;
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1であり、添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表される1種またはそれ以上の化合物である、請求項17に記載の表面処理剤。 - さらに溶媒を含む、請求項1〜18のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項1〜19のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 請求項1〜20のいずれか1項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
- 基材と、該基材の表面に、請求項1〜20のいずれか1項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
- 基材がガラスまたはサファイアガラスである、請求項22に記載の物品。
- 基材が、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスである、請求項22に記載の物品。
- 光学部材である、請求項22〜24のいずれか1項に記載の物品。
- ディスプレイである、請求項22〜25のいずれか1項に記載の物品。
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