KR20220016216A

KR20220016216A - 표면 처리제

Info

Publication number: KR20220016216A
Application number: KR1020217043263A
Authority: KR
Inventors: 츠네오 야마시타; 다케시 마에히라; 겐이치 가츠카와; 히사시 미츠하시
Original assignee: 다이킨 고교 가부시키가이샤
Priority date: 2019-07-05
Filing date: 2020-06-17
Publication date: 2022-02-08
Also published as: CN114072475B; TW202108669A; JP2021011568A; JP6908166B2; CN114072475A; WO2021005981A1; US20220119592A1; TWI796576B; EP3995554A1; EP3995554A4

Abstract

본 발명은, 하기 식 (1A) 또는 (2A)로 표시되는 화합물인 성분 (A)와, 하기 식 (1B) 또는 (2B)로 표시되는 화합물인 성분 (B)와, 1종 또는 그 이상의 불소 함유 오일인 성분 (C)를 포함하는 표면 처리제를 제공한다.

Description

표면 처리제

본 개시는, 표면 처리제에 관한 것이다.

어느 종의 불소 함유 실란 화합물은, 기재의 표면 처리에 사용하면, 우수한 발수성, 발유성, 방오성 등을 제공할 수 있는 것이 알려져 있다. 불소 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리제로부터 얻어지는 층(이하, 「표면 처리층」이라고도 함)은, 소위 기능성 박막으로서, 예를 들어 유리, 플라스틱, 섬유, 위생용품, 건축 자재 등 다종 다양한 기재에 실시되어 있다(특허문헌 1 및 2).

일본 특허 공개 제2014-218639호 공보 일본 특허 공개 제2017-082194호 공보

특허문헌 1 또는 특허문헌 2에 기재된 불소 함유 실란 화합물은, 우수한 기능을 갖는 표면 처리층을 부여할 수 있지만, 더 높은 마찰 내구성이나 내약품성을 갖는 표면 처리층이 요구되고 있다.

본 개시는, 마찰 내구성, 내약품성이 더 높은 표면 처리층을 갖는 물품을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 개시는, 이하의 양태를 포함한다.

[1] 성분 (A): 하기 식 (1A) 또는 (2A):

[식 중:

Rf^1A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이고;

Rf^2A는, -Rf² _p-R^F-O_q-이고;

Rf¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-16 알킬기이고;

Rf²는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-6 알킬렌기이고;

R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;

p는 0 또는 1이고;

q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;

R^A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S1):

(식 중:

R^d1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z²-CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2이고;

Z²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이고;

R³¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z^2'-CR^32' _q2'R^33' _r2'이고;

R³²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이고;

R³³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이고;

p2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

q2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

r2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

Z^2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이고;

R^32'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이고;

R^33'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이고;

q2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

r2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

Z³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이고;

R³⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수분해성기이고;

R³⁵는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;

n2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

R^e1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이고;

R^f1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이고;

k2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

l2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

m2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다.)

로 표시되는 기이고;

적어도 하나의 R^A는, 수산기 또는 가수분해성기가 결합한 Si 원자를 포함하는 1가의 기이고;

X^A는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 내지 10가의 유기기이고;

α1은 1 내지 9의 정수이고;

β1은 1 내지 9의 정수이고;

γ1은, 각각 독립적으로, 1 내지 9의 정수이다.]

로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물;

성분 (B): 하기 식 (1B) 또는 (2B):

[식 중:

Rf^1B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이고;

Rf^2B는, -Rf² _p-R^F-O_q-이고;

p는 0 또는 1이고;

q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;

R^B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S2):

(식 중:

R¹¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수분해성기이고;

R¹²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;

n1은, (SiR¹¹ _n1R¹² _3-n1) 단위마다 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;

X¹¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합 또는 2가의 유기기이고;

R¹³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;

t는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2 내지 10의 정수이고;

R¹⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 할로겐 원자이다.)

로 표시되는 기이고;

적어도 하나의 R^B는, 수산기 또는 가수분해성기가 결합한 Si 원자를 포함하는 1가의 기이고;

X^B는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 내지 10가의 유기기이고;

α2는 1 내지 9의 정수이고;

β2는 1 내지 9의 정수이고;

γ2는, 각각 독립적으로, 1 내지 9의 정수이다.]

로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물 및

성분 (C): 1종 또는 그 이상의 불소 함유 오일을

함유하는, 표면 처리제.

[2] l2는 2이고, m2는 1이거나, 혹은 l2는 3인, 상기 [1]에 기재된 표면 처리제.

[3] l2는 3인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 표면 처리제.

[4] R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식:

[식 중, R^Fa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,

a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]

로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [3]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[5] R^Fa는 불소 원자인, 상기 [4]에 기재된 표면 처리제.

[6] R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4) 또는 (f5):

[식 중, d는 1 내지 200의 정수이다.],

[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;

e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;

c, d, e 및 f의 합은 10 내지 200의 정수이고;

첨자 c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],

[식 중, R⁶은 OCF₂ 또는 OC₂F₄이고;

R⁷은, OC₂F₄, OC₃F₆, OC₄F₈, OC₅F₁₀ 및 OC₆F₁₂에서 선택되는 기이거나, 혹은 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;

g는 2 내지 100의 정수이다.],

[식 중, e는 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.],

[식 중, f는 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]

로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [5]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[7] 상기 식(1A) 및 (2A)에 있어서, R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식(f2):

[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;

e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;

c, d, e 및 f의 합은 10 내지 200의 정수이고;

첨자 c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.]

로 표시되는 기이고,

상기 식(1B) 및 (2B)에 있어서, R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식(f1):

[식 중, d는 1 내지 200의 정수이다.]

로 표시되는 기인, 상기 [1] 내지 [6]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[8] α1, β1 및 γ1은 1이고, α2, β2 및 γ2는 1인, 상기 [1] 내지 [7]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[9] 상기 불소 함유 오일은, 하기 식 (C):

[식 중:

Rf⁵는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기를 나타내고;

Rf⁶은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기, 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고;

a', ｂ', c' 및 d'은, 서로 독립적으로 0 이상 300 이하의 정수이고, a', ｂ', c' 및 d'의 합은 적어도 1이고, 첨자 a', ｂ', c' 또는 d'을 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.]

로 표시되는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물인, 상기 [1] 내지 [8]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[10] 표면 처리제 중, 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여, 성분 (A)의 함유량은 40 내지 90질량％인, 상기 [1] 내지 [9]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[11] 표면 처리제 중, 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여,

성분 (A)의 함유량은 40 내지 80질량％이고,

성분 (B)의 함유량은 5 내지 20질량％이고,

성분 (C)의 함유량은 10 내지 30질량％인,

상기 [1] 내지 [10]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[12] 실리콘 오일 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 상기 [1] 내지 [11]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[13] 용매를 더 포함하는, 상기 [1] 내지 [12]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[14] 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 상기 [1] 내지 [13]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[15] 진공 증착용인, 상기 [1] 내지 [14]의 어느 것에 기재된 표면 처리제.

[16] 상기 [1] 내지 [15]의 어느 것에 기재된 표면 처리제를 함유하는 펠릿.

[17] 기재와, 해당 기재 상에, 상기 [1] 내지 [15]의 어느 것에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는 물품.

본 개시에 의하면, 더 높은 마찰 내구성을 갖는 표면 처리층을 갖는 물품을 제공할 수 있다.

본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「1가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 1가의 기를 의미한다. 1가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 탄화수소기 또는 그의 유도체일 수 있다. 탄화수소기의 유도체란, 탄화수소기의 말단 또는 분자쇄 중에, 1개 또는 그 이상의 N, O, S, Si, 아미드, 술포닐, 실록산, 카르보닐, 카르보닐옥시 등을 갖고 있는 기를 의미한다. 또한, 단순히 「유기기」라고 나타내는 경우, 1가의 유기기를 의미한다. 또한, 「2 내지 10가의 유기기」란, 탄소를 함유하는 2 내지 10가의 기를 의미한다. 이러한 2 내지 10가의 유기기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 유기기로부터 1 내지 9개의 수소 원자를 더 탈리시킨 2 내지 10가의 기를 들 수 있다. 예를 들어, 2가의 유기기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 유기기로부터 1개의 수소 원자를 더 탈리시킨 2가의 기를 들 수 있다.

본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」란, 탄소 및 수소를 포함하는 기이며, 탄화수소로부터 1개의 수소 원자를 탈리시킨 기를 의미한다. 이러한 탄화수소기로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되는, C_1-20 탄화수소기, 예를 들어 지방족 탄화수소기, 방향족 탄화수소기 등을 들 수 있다. 상기 「지방족 탄화수소기」는, 직쇄상, 분지쇄상 또는 환상의 어느 것이어도 되고, 포화 또는 불포화의 어느 것이어도 된다. 또한, 탄화수소기는, 1개 또는 그 이상의 환 구조를 포함하고 있어도 된다.

본 명세서에 있어서 사용되는 경우, 「탄화수소기」의 치환기로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 할로겐 원자, 1개 또는 그 이상의 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는, C_1-6 알킬기, C_2-6 알케닐기, C_2-6 알키닐기, C_3-10 시클로알킬기, C_3-10 불포화 시클로알킬기, 5 내지 10원의 헤테로시클릴기, 5 내지 10원의 불포화 헤테로시클릴기, C_6-10 아릴기 및 5 내지 10원의 헤테로아릴기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 기를 들 수 있다.

본 개시의 표면 처리제는,

성분 (A): 식(1A) 또는 (2A)로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물,

성분 (B): 식(1B) 또는 (2B)로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물 및

성분 (C): 1종 또는 그 이상의 불소 함유 오일을

포함한다.

본 개시의 표면 처리제는, 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)를 포함함으로써, 더 높은 마찰 내구성을 갖는다.

(성분 (A): 플루오로폴리에테르기 함유 화합물)

상기 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 하기 식 (1A) 또는 (2A):

[식 중:

Rf^1A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이고;

Rf^2A는, -Rf² _p-R^F-O_q-이고;

p는 0 또는 1이고;

q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;

R^A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S1):

(식 중:

로 표시되는 기이고;

α1은, 1 내지 9의 정수이고;

β1은, 1 내지 9의 정수이고;

γ1은, 각각 독립적으로, 1 내지 9의 정수이다.]

로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물이다.

상기 식 중, Rf^1A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이다.

상기 식 중, Rf^2A는, -Rf² _p-R^F-O_q-이다.

상기 Rf¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-16 알킬기이다.

상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-16 알킬기에 있어서의 「C_1-16 알킬기」는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C_1-6 알킬기, 특히 C_1-3 알킬기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C_1-6 알킬기, 특히 C_1-3 알킬기이다.

상기 Rf¹은, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C_1-16 알킬기이고, 보다 바람직하게는 CF₂H-C_1-15 퍼플루오로알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 C_1-16 퍼플루오로알킬기이다.

상기 C_1-16 퍼플루오로알킬기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C_1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C_1-3 퍼플루오로알킬기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C_1-6 퍼플루오로알킬기, 특히 C_1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF₃, -CF₂CF₃, 또는 -CF₂CF₂CF₃이다.

상기 식에 있어서, Rf²는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-6 알킬렌기이다.

상기 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-6 알킬렌기에 있어서의 「C_1-6 알킬렌기」는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C_1-3 알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C_1-3 알킬렌기이다.

상기 Rf²는, 바람직하게는 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있는 C_1-6 알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 C_1-6 퍼플루오로알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 C_1-3 퍼플루오로알킬렌기이다.

상기 C_1-6 퍼플루오로알킬렌기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되고, 바람직하게는 직쇄 또는 분지쇄의 C_1-3 퍼플루오로알킬렌기이고, 보다 바람직하게는 직쇄의 C_1-3 퍼플루오로알킬기, 구체적으로는 -CF₂-, -CF₂CF₂-, 또는 -CF₂CF₂CF₂-이다.

상기 p는, 0 또는 1이다. 일 양태에 있어서, p는 0이다. 다른 양태에 있어서 p는 1이다.

상기 q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 또는 1이다. 일 양태에 있어서 q는 0이다. 다른 양태에 있어서 q는 1이다.

상기 R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이다.

R^F는, 바람직하게는 식:

-(OC₆F₁₂)_a-(OC₅F₁₀)_b-(OC₄F₈)_c-(OC₃R^Fa ₆)_d-(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-

[식 중:

R^Fa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,

a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이다. a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]

로 표시되는 기이다.

R^Fa는, 바람직하게는 수소 원자 또는 불소 원자이고, 보다 바람직하게는 불소 원자이다.

a, b, c, d, e 및 f는, 바람직하게는 각각 독립적으로, 0 내지 100의 정수여도 된다.

a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 200 이하, 보다 바람직하게는 100 이하, 더욱 바람직하게는 60 이하이고, 예를 들어 50 이하 또는 30 이하여도 된다.

이들 반복 단위는, 직쇄상이어도 되고, 분지쇄상이어도 된다. 예를 들어, 상기 반복 단위는, -(OC₆F₁₂)-는, -(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)-, -(OCF(CF₃)CF₂CF₂CF₂CF₂)-, -(OCF₂CF(CF₃)CF₂CF₂CF₂)-, -(OCF₂CF₂CF(CF₃)CF₂CF₂)-, -(OCF₂CF₂CF₂CF(CF₃)CF₂)-, -(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF(CF₃))- 등이어도 된다. -(OC₅F₁₀)-는, -(OCF₂CF₂CF₂CF₂CF₂)-, -(OCF(CF₃)CF₂CF₂CF₂)-, -(OCF₂CF(CF₃)CF₂CF₂)-, -(OCF₂CF₂CF(CF₃)CF₂)-, -(OCF₂CF₂CF₂CF(CF₃))- 등이어도 된다. -(OC₄F₈)-는, -(OCF₂CF₂CF₂CF₂)-, -(OCF(CF₃)CF₂CF₂)-, -(OCF₂CF(CF₃)CF₂)-, -(OCF₂CF₂CF(CF₃))-, -(OC(CF₃)₂CF₂)-, -(OCF₂C(CF₃)₂)-, -(OCF(CF₃)CF(CF₃))-, -(OCF(C₂F₅)CF₂)- 및 -(OCF₂CF(C₂F₅))-의 어느 것이어도 된다. -(OC₃F₆)-(즉, 상기 식 중, R^Fa는 불소 원자이다)는, -(OCF₂CF₂CF₂)-, -(OCF(CF₃)CF₂)- 및 -(OCF₂CF(CF₃))-의 어느 것이어도 된다. -(OC₂F₄)-는, -(OCF₂CF₂)- 및 -(OCF(CF₃))-의 어느 것이어도 된다.

일 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 직쇄상이다. 상기 반복 단위를 직쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 표면 미끄럼성, 마찰 내구성 등을 향상시킬 수 있다.

일 양태에 있어서, 상기 반복 단위는 분지쇄상이다. 상기 반복 단위를 분지쇄상으로 함으로써, 표면 처리층의 운동 마찰 계수를 크게 할 수 있다.

일 양태에 있어서, R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1) 내지 (f5)의 어느 것으로 표시되는 기이다.

[식 중, d는, 1 내지 200의 정수이다.];

[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, e 및 f는, 각각 독립적으로 1 이상 200 이하의 정수이고,

c, d, e 및 f의 합은 2 이상이고,

첨자 c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.];

[식 중, R⁶은, OCF₂ 또는 OC₂F₄이고,

R⁷은, OC₂F₄, OC₃F₆, OC₄F₈, OC₅F₁₀ 및 OC₆F₁₂에서 선택되는 기이거나, 혹은 이들 기로부터 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고,

g는, 2 내지 100의 정수이다.];

[식 중, e는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]

[식 중, f는, 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 및 f의 합은 적어도 1이고, 또한 a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]

상기 식(f1)에 있어서, d는, 바람직하게는 5 내지 200, 보다 바람직하게는 10 내지 100, 더욱 바람직하게는 15 내지 50, 예를 들어 25 내지 35의 정수이다. 상기 식(f1)은, 바람직하게는 -(OCF₂CF₂CF₂)_d- 또는 -(OCF(CF₃)CF₂)_d-로 표시되는 기이고, 보다 바람직하게는, -(OCF₂CF₂CF₂)_d-로 표시되는 기이다.

상기 식(f2)에 있어서, e 및 f는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 5 이상 200 이하, 보다 바람직하게는 10 내지 200의 정수이다. 또한, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상이고, 예를 들어 15 이상 또는 20 이상이어도 된다. 일 양태에 있어서, 상기 식(f2)는, 바람직하게는 -(OCF₂CF₂CF₂CF₂)_c-(OCF₂CF₂CF₂)_d-(OCF₂CF₂)_e-(OCF₂)_f-로 표시되는 기이다. 다른 양태에 있어서, 식(f2)는, -(OC₂F₄)_e-(OCF₂)_f-로 표시되는 기여도 된다.

상기 식(f3)에 있어서, R⁶은, 바람직하게는 OC₂F₄이다. 상기 (f3)에 있어서, R⁷은, 바람직하게는 OC₂F₄, OC₃F₆ 및 OC₄F₈에서 선택되는 기이거나, 혹은 이들 기로부터 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고, 보다 바람직하게는, OC₃F₆ 및 OC₄F₈에서 선택되는 기이다. OC₂F₄, OC₃F₆ 및 OC₄F₈에서 독립적으로 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합으로서는, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 -OC₂F₄OC₃F₆-, -OC₂F₄OC₄F₈-, -OC₃F₆OC₂F₄-, -OC₃F₆OC₃F₆-, -OC₃F₆OC₄F₈-, -OC₄F₈OC₄F₈-, -OC₄F₈OC₃F₆-, -OC₄F₈OC₂F₄-, -OC₂F₄OC₂F₄OC₃F₆-, -OC₂F₄OC₂F₄OC₄F₈-, -OC₂F₄OC₃F₆OC₂F₄-, -OC₂F₄OC₃F₆OC₃F₆-, -OC₂F₄OC₄F₈OC₂F₄-, -OC₃F₆OC₂F₄OC₂F₄-, -OC₃F₆OC₂F₄OC₃F₆-, -OC₃F₆OC₃F₆OC₂F₄- 및 -OC₄F₈OC₂F₄OC₂F₄- 등을 들 수 있다. 상기 식(f3)에 있어서, g는, 바람직하게는 3 이상, 보다 바람직하게는 5 이상의 정수이다. 상기 g는, 바람직하게는 50 이하의 정수이다. 상기 식(f3)에 있어서, OC₂F₄, OC₃F₆, OC₄F₈, OC₅F₁₀ 및 OC₆F₁₂는, 직쇄 또는 분지쇄의 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 직쇄이다. 이 양태에 있어서, 상기 식(f3)은, 바람직하게는 -(OC₂F₄-OC₃F₆)_g- 또는 -(OC₂F₄-OC₄F₈)_g-이다.

상기 식(f4)에 있어서, e는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.

상기 식(f5)에 있어서, f는, 바람직하게는 1 이상 100 이하, 보다 바람직하게는 5 이상 100 이하의 정수이다. a, b, c, d, e 및 f의 합은, 바람직하게는 5 이상이고, 보다 바람직하게는 10 이상, 예를 들어 10 이상 100 이하이다.

일 양태에 있어서, 상기 R^F는, 상기 식(f1)로 표시되는 기이다.

일 양태에 있어서, 상기 R^F는, 상기 식(f2)로 표시되는 기이다.

일 양태에 있어서, 상기 R^F는, 상기 식(f3)으로 표시되는 기이다.

일 양태에 있어서, 상기 R^F는, 상기 식(f4)로 표시되는 기이다.

일 양태에 있어서, 상기 R^F는, 상기 식(f5)로 표시되는 기이다.

바람직한 양태에 있어서, 식(1A) 및 식(2A)에 있어서, Rf^1A 및 Rf^2A 중의 R^F는, 상기 식(f2)로 표시되는 기이다.

상기 R^F에 있어서, f에 대한 e의 비(이하, 「e/f비」라고 한다)는, 0.1 내지 10이고, 바람직하게는 0.2 내지 5이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 2이고, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 1.5이고, 보다 더욱 바람직하게는 0.2 내지 0.85이다. e/f비를 10 이하로 함으로써, 이 화합물로부터 얻어지는 표면 처리층의 미끄럼성, 마찰 내구성 및 내케미컬성(예를 들어, 인공땀에 대한 내구성)이 더 향상된다. e/f비가 더 작을수록, 표면 처리층의 미끄럼성 및 마찰 내구성은 더 향상된다. 한편, e/f비를 0.1 이상으로 함으로써, 화합물의 안정성을 더 높일 수 있다. e/f비가 더 클수록, 화합물의 안정성은 더 향상된다.

일 양태에 있어서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 0.2 내지 0.95이고, 보다 바람직하게는 0.2 내지 0.9이다.

일 양태에 있어서, 내열성의 관점에서, 상기 e/f비는, 바람직하게는 1.0 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0 내지 2.0이다.

상기 플루오로폴리에테르기 함유 화합물에 있어서, Rf^1A 및 Rf^2A 부분의 수 평균 분자량은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,500 내지 30,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 10,000이다. 본 명세서에 있어서, Rf^1A 및 Rf^2A의 수 평균 분자량은, ¹⁹F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.

다른 양태에 있어서, R^F 부분의 수 평균 분자량은, 500 내지 30,000, 바람직하게는 1,000 내지 20,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 15,000, 보다 더욱 바람직하게는 2,000 내지 10,000, 예를 들어 3,000 내지 6,000일 수 있다.

다른 양태에 있어서, R^F 부분의 수 평균 분자량은, 4,000 내지 30,000, 바람직하게는 5,000 내지 10,000, 보다 바람직하게는 6,000 내지 10,000일 수 있다.

상기 식 중, R^A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S1):

(식 중:

로 표시되는 기이다.

상기 R^A는, 수산기 또는 가수분해성기가 결합한 Si 원자를 포함하는 1가의 기이다.

여기에, 「가수분해성기」란, 가수 분해 반응을 받을 수 있는 기를 의미하고, 즉, 가수 분해 반응에 의해, 화합물의 주골격으로부터 탈리할 수 있는 기를 의미한다. 가수분해성기의 예로서는, -OR^h, -OCOR^h, -O-N=CR^h ₂, -NRh^h ₂, -NHR^h, 할로겐(이들 식 중, R^h는, 치환 또는 비치환의 C_1-4 알킬기를 나타낸다) 등을 들 수 있다.

상기 R^d1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z²-CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2이다.

상기 Z²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이다. 또한, 이하 Z²로서 기재하는 구조는, 우측이 (CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2)에 결합한다.

바람직한 양태에 있어서, Z²는, 2가의 유기기이다.

상기 Z²는, 바람직하게는 C_1-6 알킬렌기, -(CH₂)_z5-O-(CH₂)_z6-(식 중, z5는, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z6은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다) 또는, -(CH₂)_z7-페닐렌-(CH₂)_z8-(식 중, z7은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z8은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다)이다. 이러한 C_1-6 알킬렌기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C_1-6 알킬기, C_2-6 알케닐기 및 C_2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다.

바람직한 양태에 있어서, Z²는, C_1-6 알킬렌기 또는 -(CH₂)_z7-페닐렌-(CH₂)_z8-, 바람직하게는 -페닐렌-(CH₂)_z8-이다. Z²가 이러한 기인 경우, 광 내성, 특히 자외선 내성이 더 높아질 수 있다.

다른 바람직한 형태에 있어서, 상기 Z²는, C_1-3 알킬렌기이다. 일 양태에 있어서, Z²는, -CH₂CH₂CH₂-일 수 있다. 다른 양태에 있어서, Z²는, -CH₂CH₂-일 수 있다.

상기 R³¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z^2'-CR^32' _q2'R^33' _r2'이다.

상기 Z^2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이다. 또한, 이하 Z^2'으로서 기재하는 구조는, 우측이 (CR^32' _q2'R^33' _r2')에 결합한다.

상기 Z^2'은, 바람직하게는 C_1-6 알킬렌기, -(CH₂)_z5'-O-(CH₂)_z6'-(식 중, z5'은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z6'은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다) 또는, -(CH₂)_z7'-페닐렌-(CH₂)_z8'-(식 중, z7'은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z8'은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다)이다. 이러한 C_1-6 알킬렌기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C_1-6 알킬기, C_2-6 알케닐기 및 C_2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다.

바람직한 양태에 있어서, Z^2'은, C_1-6 알킬렌기 또는 -(CH₂)_z7'-페닐렌-(CH₂)_z8'-, 바람직하게는 -페닐렌-(CH₂)_z8'-이다. Z^2'이 이러한 기인 경우, 광 내성, 특히 자외선 내성이 더 높아질 수 있다.

다른 바람직한 형태에 있어서, 상기 Z^2'은, C_1-3 알킬렌기이다. 일 양태에 있어서, Z^2'은, -CH₂CH₂CH₂-일 수 있다. 다른 양태에 있어서, Z^2'은, -CH₂CH₂-일 수 있다.

상기 R^32'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이다.

상기 Z³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이다. 또한, 이하 Z³으로서 기재하는 구조는, 우측이 (SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2)에 결합한다.

일 양태에 있어서, Z³은 산소 원자이다.

일 양태에 있어서, Z³은 2가의 유기기이다.

상기 Z³은, 바람직하게는 C_1-6 알킬렌기, -(CH₂)_z5"-O-(CH₂)_z6"-(식 중, z5"은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z6"은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다) 또는, -(CH₂)_z7"-페닐렌-(CH₂)_z8"-(식 중, z7"은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이고, z8"은, 0 내지 6의 정수, 예를 들어 1 내지 6의 정수이다)이다. 이러한 C_1-6 알킬렌기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다. 이들 기는, 예를 들어 불소 원자, C_1-6 알킬기, C_2-6 알케닐기 및 C_2-6 알키닐기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 되지만, 바람직하게는 비치환이다.

바람직한 양태에 있어서, Z³은, C_1-6 알킬렌기 또는 -(CH₂)_z7"-페닐렌-(CH₂)_z8"-, 바람직하게는 -페닐렌-(CH₂)_z8"-이다. Z³이 이러한 기인 경우, 광 내성, 특히 자외선 내성이 더 높아질 수 있다.

다른 바람직한 형태에 있어서, 상기 Z³은, C_1-3 알킬렌기이다. 일 양태에 있어서, Z³은, -CH₂CH₂CH₂-일 수 있다. 다른 양태에 있어서, Z³은, -CH₂CH₂-일 수 있다.

상기 R³⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수분해성기이다.

상기 R³⁴는, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가수분해성기이다.

상기 R³⁴는, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -OR^h, -OCOR^h, -O-N=CR^h ₂, -NR^h ₂, -NHR^h, 또는 할로겐(이들 식 중, R^h는, 치환 또는 비치환의 C_1-4 알킬기를 나타낸다)이고, 보다 바람직하게는 -OR^h(즉, 알콕시기)이다. R^h로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기 등의 비치환 알킬기; 클로로메틸기 등의 치환 알킬기를 들 수 있다. 그것들 중에서도, 알킬기, 특히 비치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하다. 일 양태에 있어서, R^h는 메틸기이고, 다른 양태에 있어서, R^h는 에틸기이다.

상기 R³⁵는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.

상기 R³⁵에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C_1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C_1-6 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.

상기 식 중, n2는, (SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2) 단위마다 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다. 단, 식(1A) 및 식(2A)의 말단 부분에 있어서, n2가 1 내지 3인(SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2) 단위의 적어도 하나 존재한다. 즉, 이러한 말단 부분에 있어서, 모든 n2가 동시에 0으로 되는 경우는 없다. 바꾸어 말하면, 식(1A) 및 식(2A)의 말단 부분에 있어서, 수산기 또는 가수분해성기가 결합한 Si 원자의 적어도 하나 존재한다.

n2는, (SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2) 단위마다 각각 독립적으로, 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고, 보다 바람직하게는 2 내지 3, 더욱 바람직하게는 3이다.

상기 R^33'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.

상기 R^33'에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C_1-20 알킬기 또는 -(C_sH_2s)_t1-(O-C_sH_2s)_t2(식 중, s는, 1 내지 6의 정수, 바람직하게는 2 내지 4의 정수이고, t1은 1 또는 0, 바람직하게는 0이고, t2는, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 2 내지 10의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 6의 정수이다.)이고, 보다 바람직하게는 C_1-20 알킬기, 더욱 바람직하게는 C_1-6 알킬기, 특히 바람직하게는 메틸기이다.

일 양태에 있어서, R^33'은, 수산기이다.

다른 양태에 있어서, R^33'은, 1가의 유기기, 바람직하게는 C_1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C_1-6 알킬기이다.

상기 q2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고, 상기 r2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다. 또한, q2'과 r2'의 합계는, (CR^32' _q2'R^33' _r2') 단위에 있어서, 3이다.

상기 q2'은, (CR^32' _q2'R^33' _r2') 단위마다 각각 독립적으로, 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고, 보다 바람직하게는 2 내지 3, 더욱 바람직하게는 3이다.

상기 R³²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이다. 이러한 -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2는, 상기 R³²'에 있어서의 기재와 동일한 의미이다.

상기 R³³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.

상기 R³³에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C_1-20 알킬기 또는 -(C_sH_2s)_t1-(O-C_sH_2s)_t2(식 중, s는, 1 내지 6의 정수, 바람직하게는 2 내지 4의 정수이고, t1은 1 또는 0, 바람직하게는 0이고, t2는 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 2 내지 10의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 6의 정수이다.)이고, 보다 바람직하게는 C_1-20 알킬기, 더욱 바람직하게는 C_1-6 알킬기, 특히 바람직하게는 메틸기이다.

일 양태에 있어서, R³³은 수산기이다.

다른 양태에 있어서, R³³은, 1가의 유기기, 바람직하게는 C_1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C_1-6 알킬기이다.

상기 p2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고, q2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고, r2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다. 또한, p2, q2 및 r2의 합계는, (CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2) 단위에 있어서, 3이다.

일 양태에 있어서, p2는 0이다.

일 양태에 있어서, p2는, (CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2) 단위마다 각각 독립적으로, 1 내지 3의 정수, 2 내지 3의 정수 또는 3이어도 된다. 바람직한 양태에 있어서, p2'은 3이다.

일 양태에 있어서, q2는, (CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2) 단위마다 각각 독립적으로, 1 내지 3의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 3의 정수, 보다 바람직하게는 3이다.

일 양태에 있어서, p2는 0이고, q2는, (CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2) 단위마다 각각 독립적으로, 1 내지 3의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 3의 정수, 더욱 바람직하게는 3이다.

상기 R^e1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이다. 이러한 -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2는, 상기 R^32'에 있어서의 기재와 동일한 의미이다.

상기 R^f1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.

상기 R^f1에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C_1-20 알킬기 또는 -(CsH_2s)_t1-(O-C_sH_2s)_t2(식 중, s는, 1 내지 6의 정수, 바람직하게는 2 내지 4의 정수이고, t1은 1 또는 0, 바람직하게는 0이고, t2는, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 2 내지 10의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 6의 정수이다.)이고, 보다 바람직하게는 C_1-20 알킬기, 더욱 바람직하게는 C_1-6 알킬기, 특히 바람직하게는 메틸기이다.

일 양태에 있어서, R^f1은 수산기이다.

다른 양태에 있어서, R^f1은, 1가의 유기기, 바람직하게는 C_1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C_1-6 알킬기이다.

상기 k2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고, l2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고, m2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다. 또한, k2, l2 및 m2의 합계는, (CR^d1 _k2R^e1 _l2Rf¹ _m2) 단위에 있어서, 3이다.

일 양태에 있어서, R^A가 식(S4)로 표시되는 기인 경우, n2가 1 내지 3, 바람직하게는 2 또는 3, 보다 바람직하게는 3이다(SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2) 단위는, 식(1) 및 식(2)의 각 말단 부분에 있어서, 2개 이상, 예를 들어 2 내지 27개, 바람직하게는 2 내지 9개, 보다 바람직하게는 2 내지 6개, 더욱 바람직하게는 2 내지 3개, 특히 바람직하게는 3개 존재한다.

바람직한 양태에 있어서, R^32'이 존재하는 경우, 적어도 하나의, 바람직하게는 모든 R^32'에 있어서, n2는, 1 내지 3의 정수이고, 바람직하게는 2 또는 3, 보다 바람직하게는 3이다.

바람직한 양태에 있어서, R³²가 존재하는 경우, 적어도 하나의, 바람직하게는 모든 R³²에 있어서, n2는, 1 내지 3의 정수이고, 바람직하게는 2 또는 3, 보다 바람직하게는 3이다.

바람직한 양태에 있어서, R^e1이 존재하는 경우, 적어도 하나의, 바람직하게는 모든 R^a1에 있어서, n2는, 1 내지 3의 정수이고, 바람직하게는 2 또는 3, 보다 바람직하게는 3이다.

바람직한 양태에 있어서, k2는 0이고, l2는 2이고, m2는 1이거나, 혹은 k2는 0이고, l2는 3이고, m2는 0이다. 바람직하게는, k2는 0이고, l2는 3이고, m2는 0이다.

바람직한 양태에 있어서, k2는 0이고, l2는 2 또는 3, 바람직하게는 3이고, n2는 2 또는 3, 바람직하게는 3이다.

상기 식(1A) 및 (2A)에 있어서, X^A는, 주로 발수성 및 표면 미끄럼성 등을 제공하는 플루오로폴리에테르부(Rf^1A 및 Rf^2A)와 기재의 결합능을 제공하는 부(R^A)를 연결하는 링커라고 이해된다. 따라서, 당해 X^A는, 식(1A) 및 (2A)로 표시되는 화합물이 안정적으로 존재할 수 있는 것이라면, 단결합이어도 되고, 어느 기라도 된다.

상기 식(1A)에 있어서, α1은 1 내지 9의 정수이고, β1은 1 내지 9의 정수이다. 이들 α1 및 β1은, X^A의 가수에 따라 변화될 수 있다. α1 및 β1의 합은, X^A의 가수와 동일하다. 예를 들어, X^A가 10가의 유기기인 경우, α1 및 β1의 합은 10이고, 예를 들어 α1이 9 또한 β1이 1, α1이 5 또한 β1이 5, 또는 α1이 1 또한 β1이 9로 될 수 있다. 또한, X^A가 2가의 유기기인 경우, α 및 β는 1이다.

상기 식(2A)에 있어서, γ1은 1 내지 9의 정수이다. γ1은, X^A의 가수에 따라 변화될 수 있다. 즉, γ1은, X^A의 가수로부터 1을 뺀 값이다.

X^A는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 내지 10가의 유기기이다.

상기 X^A에 있어서의 2 내지 10가의 유기기는, 바람직하게는 2 내지 8가의 유기기이다. 일 양태에 있어서, 이러한 2 내지 10가의 유기기는, 바람직하게는 2 내지 4가의 유기기이고, 보다 바람직하게는 2가의 유기기이다. 다른 양태에 있어서, 이러한 2 내지 10가의 유기기는, 바람직하게는 3 내지 8가의 유기기, 보다 바람직하게는 3 내지 6가의 유기기이다.

일 양태에 있어서, X^A는, 단결합 또는 2가의 유기기이고, α1은 1이고, β1은 1이다.

일 양태에 있어서, X^A는, 단결합 또는 2가의 유기기이고, γ1은 1이다.

일 양태에 있어서, X^A는 3 내지 6가의 유기기이고, α1은 1이고, β1은 2 내지 5이다.

일 양태에 있어서, X^A는 3 내지 6가의 유기기이고, γ1은 2 내지 5이다.

일 양태에 있어서, X^A는 3가의 유기기이고, α1은 1이고, β1은 2이다.

일 양태에 있어서, X^A는 3가의 유기기이고, γ1은 2이다.

X^A가, 단결합 또는 2가의 유기기인 경우, 식(1A) 및 (2A)는, 하기 식 (1A') 및 (2A')으로 표시된다.

일 양태에 있어서, X^A는 단결합이다.

다른 양태에 있어서, X^A는 2가의 유기기이다.

일 양태에 있어서, X^A로서는, 예를 들어 단결합 또는 하기 식:

-(R⁵¹)_p5-(X⁵¹)_q5-

[식 중:

R⁵¹은, 단결합, -(CH₂)_s5- 또는 o-, m- 혹은 p-페닐렌기를 나타내고, 바람직하게는 -(CH₂)_s5-이고,

s5는, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수, 보다 더욱 바람직하게는 1 또는 2이고,

X⁵¹은, -(X⁵²)_l5-를 나타내고,

X⁵²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -O-, -S-, o-, m- 혹은 p-페닐렌기, -C(O)O-, -Si(R⁵³)₂-, -(Si(R⁵³)₂O)_m5-Si(R⁵³)₂-, -CONR⁵⁴-, -O-CONR⁵⁴-, -NR⁵⁴- 및 -(CH₂)_n5-로 이루어지는 군에서 선택되는 기를 나타내고,

R⁵³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 페닐기, C_1-6 알킬기 또는 C_1-6 알콕시기를 나타내고, 바람직하게는 페닐기 또는 C_1-6 알킬기이고, 보다 바람직하게는 메틸기이고,

R⁵⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 페닐기 또는 C_1-6 알킬기(바람직하게는 메틸기)를 나타내고,

m5는, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 1 내지 100의 정수, 바람직하게는 1 내지 20의 정수이고,

n5는, 각 출현에 있어서, 각각 독립적으로, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고,

l5는, 1 내지 10의 정수, 바람직하게는 1 내지 5의 정수, 보다 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고,

p5는, 0 또는 1이고,

q5는, 0 또는 1이고,

여기에, p5 및 q5의 적어도 한쪽은 1이고, p5 또는 q5를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 임의이다]

로 표시되는 2가의 유기기를 들 수 있다. 여기에, X^A(전형적으로는 X^A의 수소 원자)는, 불소 원자, C_1-3 알킬기 및 C_1-3 플루오로알킬기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 바람직한 양태에 있어서, X^A는, 이들 기에 의해 치환되어 있지 않다.

바람직한 양태에 있어서, 상기 X^A는, 각각 독립적으로, -(R⁵¹)_p5-(X⁵¹)_q5-R⁵²-이다. R⁵²는, 단결합, -(CH₂)_t5- 또는 o-, m- 혹은 p-페닐렌기를 나타내고, 바람직하게는 -(CH₂)_t5-이다. t5는, 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 2 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 3의 정수이다. 여기에, R⁵²(전형적으로는 R⁵²의 수소 원자)는, 불소 원자, C_1-3 알킬기 및 C_1-3 플루오로알킬기에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 바람직한 양태에 있어서, R⁵⁶은, 이들 기에 의해 치환되어 있지 않다.

바람직하게는, 상기 X^A는, 각각 독립적으로,

단결합,

-C_1-20 알킬렌기,

-R⁵¹-X⁵³-R⁵²-, 또는

-X⁵⁴-R⁵-

[식 중, R⁵¹ 및 R⁵²는, 상기와 동일한 의미이고,

X⁵³은,

-O-,

-S-,

-C(O)O-,

-CONR⁵⁴-,

-O-CONR⁵⁴-,

-Si(R⁵³)₂-,

-(Si(R⁵³)₂O)_m5-Si(R⁵³)₂-,

-O-(CH₂)_u5-(Si(R⁵³)₂O)_m5-Si(R⁵³)₂-,

-O-(CH₂)_u5-Si(R⁵³)₂-O-Si(R⁵³)₂-CH₂CH₂-Si(R⁵³)₂-O-Si(R⁵³)₂-,

-O-(CH₂)_u5-Si(OCH₃)₂OSi(OCH₃)₂-,

-CONR⁵⁴-(CH₂)_u5-(Si(R⁵³)₂O)_m5-Si(R⁵³)₂-,

-CONR⁵⁴-(CH₂)_u5-N(R⁵⁴)-, 또는

-CONR⁵⁴-(o-, m- 또는 p-페닐렌)-Si(R⁵³)₂-

(식 중, R⁵³, R⁵⁴ 및 m5는, 상기와 동일한 의미이고,

u5는 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 2 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 3의 정수이다.)를 나타내고,

X⁵⁴는,

-S-,

-C(O)O-,

-CONR⁵⁴-,

-O-CONR⁵⁴-,

-CONR⁵⁴-(CH₂)_u5-(Si(R⁵⁴)₂O)_m5-Si(R⁵⁴)₂-,

-CONR⁵⁴-(CH₂)_u5-N(R⁵⁴)-, 또는

-CONR⁵⁴-(o-, m- 또는 p-페닐렌)-Si(R⁵⁴)₂-

(식 중, 각 기호는, 상기와 동일한 의미이다.)

를 나타낸다.]

일 수 있다.

보다 바람직하게는, 상기 X^A는, 각각 독립적으로,

단결합,

-C_1-20 알킬렌기,

-(CH₂)_s5-X⁵³-,

-(CH₂)_s5-X⁵³-(CH₂)_t5-

-X⁵⁴-, 또는

-X⁵⁴-(CH₂)_t5-

[식 중, X⁵³, X⁵⁴, s5 및 t5는, 상기와 동일한 의미이다.]

이다.

보다 바람직하게는, 상기 X^A는, 각각 독립적으로,

단결합,

-C_1-20 알킬렌기,

-(CH₂)_s5-X⁵³-(CH₂)_t5-, 또는

-X⁵⁴-(CH₂)_t5-

[식 중, 각 기호는, 상기와 동일한 의미이다.]

일 수 있다.

바람직한 양태에 있어서, 상기 X^A는, 각각 독립적으로,

단결합

-C_1-20 알킬렌기,

-(CH₂)_s5-X⁵³-, 또는

-(CH₂)_s5-X⁵³-(CH₂)_t5-

[식 중,

X⁵³은, -O-, -CONR⁵⁴-, 또는 -O-CONR⁵⁴-이고,

R⁵⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 페닐기 또는 C_1-6 알킬기를 나타내고,

s5는, 1 내지 20의 정수이고,

t5는, 1 내지 20의 정수이다.]

일 수 있다.

바람직한 양태에 있어서, 상기 X^A는, 각각 독립적으로,

-(CH₂)_s5-O-(CH₂)_t5-

-CONR⁵⁴-(CH₂)_t5-

[식 중,

s5는, 1 내지 20의 정수이고,

t5는, 1 내지 20의 정수이다.]

일 수 있다.

일 양태에 있어서, 상기 X^A는, 각각 독립적으로,

단결합,

-C_1-20 알킬렌기,

-(CH₂)_s5-O-(CH₂)_t5-,

-(CH₂)_s5-(Si(R⁵³)₂O)_m5-Si(R⁵³)₂-(CH₂)_t5-,

-(CH₂)_s5-O-(CH₂)_u5-(Si(R⁵³)₂O)_m5-Si(R⁵³)₂-(CH₂)_t5-, 또는

-(CH₂)_s5-O-(CH₂)_t5-Si(R⁵³)₂-(CH₂)_u5-Si(R⁵³)₂-(C_vH_2v)-

[식 중, R⁵³, m5, s5, t5 및 u5는, 상기와 동일한 의미이고, v5는 1 내지 20의 정수, 바람직하게는 2 내지 6의 정수, 보다 바람직하게는 2 내지 3의 정수이다.]

이다.

상기 식 중, -(C_vH_2v)-는 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되고, 예를 들어 -CH₂CH₂-, -CH₂CH₂CH₂-, -CH(CH₃)-, -CH(CH₃)CH₂-일 수 있다.

상기 X^A는, 각각 독립적으로, 불소 원자, C_1-3 알킬기 및 C_1-3 플루오로알킬기(바람직하게는, C_1-3 퍼플루오로알킬기)에서 선택되는 1개 또는 그 이상의 치환기에 의해 치환되어 있어도 된다. 일 양태에 있어서, X^A는 비치환이다.

또한, 상기 X^A는, 각 식의 좌측이 Rf^1A 또는 Rf^2A에 결합하고, 우측이 R^A에 결합한다.

일 양태에 있어서, X^A는, 각각 독립적으로, -O-C_1-6 알킬렌기 이외일 수 있다.

다른 양태에 있어서, X^A로서는, 예를 들어 하기의 기를 들 수 있다:

[식 중, R⁴¹은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 페닐기, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 C_1-6 알콕시기, 바람직하게는 메틸기이고;

D는,

-CH₂O(CH₂)₂-,

-CH₂O(CH₂)₃-,

-CF₂O(CH₂)₃-,

-(CH₂)₂-,

-(CH₂)₃-,

-(CH₂)₄-,

-CONH-(CH₂)₃-,

-CON(CH₃)-(CH₂)₃-,

-CON(Ph)-(CH₂)₃-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다) 및

(식 중, R⁴²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, C_1-6의 알킬기 또는 C_1-6의 알콕시기, 바람직하게는 메틸기 또는 메톡시기, 보다 바람직하게는 메틸기를 나타낸다.)

에서 선택되는 기이고,

E는, -(CH₂)_n-(n은 2 내지 6의 정수)이고,

D는, 분자 주쇄의 Rf^1A 또는 Rf^2A에 결합하고, E는, R^A에 결합한다.]

상기 X^A의 구체적인 예로서는, 예를 들어:

단결합,

-CON(Ph)-CH₂-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다),

-CON(Ph)-(CH₂)₂-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다),

-CON(Ph)-(CH₂)₃-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다),

-CON(Ph)-(CH₂)₄-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다),

-CON(Ph)-(CH₂)₅-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다),

-CON(Ph)-(CH₂)₆-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다),

등을 들 수 있다.

또 다른 양태에 있어서, X^A는, 각각 독립적으로, 식: -(R¹⁶)_x1-(CFR¹⁷)_y1-(CH₂)_z1-로 표시되는 기이다. 식 중, x1, y1 및 z1은, 각각 독립적으로, 0 내지 10의 정수이고, x1, y1 및 z1의 합은 1 이상이고, 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.

상기 식 중, R¹⁶은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 산소 원자, 페닐렌, 카르바졸릴렌, -NR¹⁸-(식 중, R¹⁸은, 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다) 또는 2가의 유기기이다. 바람직하게는, R¹⁸은, 산소 원자 또는 2가의 극성기이다.

상기 「2가의 극성기」로서는, 특별히 한정되지는 않지만, -C(O)-, -C(=NR¹⁹)- 및 -C(O)NR¹⁹-(이들 식 중, R¹⁹는, 수소 원자 또는 저급 알킬기를 표시한다)를 들 수 있다. 당해 「저급 알킬기」는, 예를 들어 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필이고, 이것들은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 된다.

상기 식 중, R¹⁷은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 저급 플루오로알킬기이고, 바람직하게는 불소 원자이다. 당해 「저급 플루오로알킬기」는, 예를 들어 탄소수 1 내지 6, 바람직하게는 탄소수 1 내지 3의 플루오로알킬기, 바람직하게는 탄소수 1 내지 3의 퍼플루오로알킬기, 보다 바람직하게는 트리플루오로메틸기, 펜타플루오로에틸기, 더욱 바람직하게는 트리플루오로메틸기이다.

또 다른 양태에 있어서, X^A의 예로서, 하기의 기를 들 수 있다:

[식 중,

R⁴¹은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 페닐기, 탄소수 1 내지 6의 알킬기 또는 C_1-6 알콕시기 바람직하게는 메틸기이고;

각 X^A기에 있어서, T 중 임의의 몇 가지는, 분자 주쇄의 Rf^1A 또는 Rf^2A에 결합하는 이하의 기:

-CON(CH₃)-(CH₂)₃-,

-CON(Ph)-(CH₂)₃-(식 중, Ph는 페닐을 의미한다), 또는

[식 중, R⁴²는, 각각 독립적으로, 수소 원자, C_1-6의 알킬기 또는 C_1-6의 알콕시기, 바람직하게는 메틸기 또는 메톡시기, 보다 바람직하게는 메틸기를 표시한다.]

이고, 다른 T의 몇 가지는, 분자 주쇄의 R^A에 결합하고, 존재하는 경우, 나머지의 T는, 각각 독립적으로, 메틸기, 페닐기, C_1-6 알콕시기 또는 라디칼 포착기 또는 자외선 흡수기이다.

라디칼 포착기는, 광조사에 의해 발생하는 라디칼을 포착할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 벤조페논류, 벤조트리아졸류, 벤조산에스테르류, 살리실산페닐류, 크로톤산류, 말론산에스테르류, 오르가노아크릴레이트류, 힌더드아민류, 힌더드페놀류 또는 트리아진류의 잔기를 들 수 있다.

자외선 흡수기는, 자외선을 흡수할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어 벤조트리아졸류, 히드록시벤조페논류, 치환 및 비치환 벤조산 혹은 살리실산 화합물의 에스테르류, 아크릴레이트 또는 알콕시신나메이트류, 옥사미드류, 옥사닐리드류, 벤족사지논류, 벤족사졸류의 잔기를 들 수 있다.

바람직한 양태에 있어서, 바람직한 라디칼 포착기 또는 자외선 흡수기로서는,

를 들 수 있다.

이 양태에 있어서, X^A는, 각각 독립적으로, 3 내지 10가의 유기기일 수 있다.

[식 중, R²⁵, R²⁶ 및 R²⁷은, 각각 독립적으로 2 내지 6가의 유기기이고,

R²⁵는, 적어도 하나의 R^F1에 결합하고, R²⁶ 및 R²⁷은, 각각, 적어도 하나의 R^Si에 결합한다.]

일 양태에 있어서, 상기 R²⁵는, 단결합, C_1-20 알킬렌기, C_3-20 시클로알킬렌기, C_5-20 아릴렌기, -R⁵⁷-X⁵⁸-R⁵⁹-, -X⁵⁸-R⁵⁹-, 또는 -R⁵⁷-X⁵⁸-이다. 상기, R⁵⁷ 및 R⁵⁹는, 각각 독립적으로, 단결합, C_1-20 알킬렌기, C_3-20 시클로알킬렌기, 또는 C_5-20 아릴렌기이다. 상기 X⁵⁸은, -O-, -S-, -CO-, -O-CO- 또는 -COO-이다.

일 양태에 있어서, 상기 R²⁶ 및 R²⁷은, 각각 독립적으로, 탄화수소 또는 탄화수소의 단 또는 주쇄 중에 N, O 및 S에서 선택되는 적어도 하나의 원자를 갖는 기이고, 바람직하게는 C_1-6 알킬기, -R³⁶-R³⁷-R³⁶-, -R³⁶-CHR³⁸ ₂- 등을 들 수 있다. 여기에, R³⁶은, 각각 독립적으로, 단결합 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이다. R³⁷은, N, O 또는 S이고, 바람직하게는 N 또는 O이다. R³⁸은, -R⁴⁵-R⁴⁶-R⁴⁵-, -R⁴⁶-R⁴⁵- 또는 -R⁴⁵-R⁴⁶-이다. 여기에, R⁴⁵는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 6의 알킬기이다. R⁴⁶은, N, O 또는 S이고, 바람직하게는 O이다.

상기 식(1) 또는 식(2)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5×10² 내지 1×10⁵의 평균 분자량을 가질 수 있다. 이러한 범위 중에서도 2,000 내지 32,000, 보다 바람직하게는 2,500 내지 12,000의 평균 분자량을 갖는 것이, 마찰 내구성의 관점에서 바람직하다. 또한, 이러한 「평균 분자량」은, 수 평균 분자량을 말하고, 「평균 분자량」은, ¹⁹F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.

일 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 성분 (A)의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 식(1A)로 표시되는 화합물이다.

다른 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 성분 (A)의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 식(2A)로 표시되는 화합물이다.

다른 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 식(1A)로 표시되는 화합물 및 식(2A)로 표시되는 화합물이다.

본 개시의 표면 처리제 중, 식(1A)로 표시되는 화합물과 식(2A)로 표시되는 화합물의 합계에 대하여, 식(2A)로 표시되는 화합물이, 바람직하게는 0.1몰％ 이상 35몰％ 이하이다. 식(1A)로 표시되는 화합물과 식(2A)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식(2A)로 표시되는 화합물의 함유량의 하한은, 바람직하게는 0.1몰％, 보다 바람직하게는 0.2몰％, 더욱 바람직하게는 0.5몰％, 보다 더욱 바람직하게는 1몰％, 특히 바람직하게는 2몰％, 특별히는 5몰％일 수 있다. 식(1A)로 표시되는 화합물과 식(2A)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식(2A)로 표시되는 화합물의 함유량의 상한은, 바람직하게는 35몰％, 보다 바람직하게는 30몰％, 더욱 바람직하게는 20몰％, 보다 더욱 바람직하게는 15몰％ 또는 10몰％일 수 있다. 식(1A)로 표시되는 화합물과 식(2A)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식(2A)로 표시되는 화합물은, 바람직하게는 0.1몰％ 이상 30몰％ 이하, 보다 바람직하게는 0.1몰％ 이상 20몰％ 이하, 더욱 바람직하게는 0.2몰％ 이상 10몰％ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 0.5몰％ 이상 10몰％ 이하, 특히 바람직하게는 1몰％ 이상 10몰％ 이하, 예를 들어 2몰％ 이상 10몰％ 이하 또는 5몰％ 이상 10몰％ 이하이다. 식(2A)로 표시되는 화합물을 이러한 범위로 함으로써, 마찰 내구성을 더 향상시킬 수 있다.

상기 식(1A) 또는 식(2A)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5×10² 내지 1×10⁵의 평균 분자량을 가질 수 있다. 이러한 범위 중에서도 2,000 내지 32,000, 보다 바람직하게는 2,500 내지 12,000의 평균 분자량을 갖는 것이, 마찰 내구성의 관점에서 바람직하다. 또한, 이러한 「평균 분자량」은, 수 평균 분자량을 말하고, 「평균 분자량」은, ¹⁹F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.

상기 성분 (A)는, 표면 처리제 중, 상기 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여, 40 내지 90질량％, 바람직하게는 40 내지 80질량％, 보다 바람직하게는 50 내지 80질량％, 더욱 바람직하게는 60 내지 80질량％, 예를 들어 65 내지 75질량％ 포함된다. 성분 (A)의 함유 비율을 상기한 범위로 함으로써, 표면 처리층의 마찰 내구성을 더 향상시킬 수 있다.

(성분 (B): 플루오로폴리에테르기 함유 화합물)

상기 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 하기 식 (1B) 또는 (2B):

[식 중:

Rf^1B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이고;

Rf^2B는, -Rf² _p-R^F-O_q-이고;

p는, 0 또는 1이고;

q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;

R^B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S2):

(식 중:

로 표시되는 기이고;

α2는, 1 내지 9의 정수이고;

β2는, 1 내지 9의 정수이고;

γ2는, 각각 독립적으로, 1 내지 9의 정수이다.]

상기 식 중, Rf^1B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이다.

상기 식 중, Rf^2B는, -Rf² _p-R^F-O_q-이다.

상기 Rf¹-R^F-O_q- 및 -Rf² _p-R^F-O_q-는, 상기 식(1A) 및 (2A)의 Rf^1A 및 Rf^2A에 있어서의 Rf¹-R^F-O_q- 및 -Rf² _p-R^F-O_q-와 동일한 의미이다. 단, Rf^1A와 Rf^1B, 그리고 Rf^2A와 Rf^2B는, 동일해도 되고, 달라도 된다.

바람직한 양태에 있어서, 식(1B) 및 식(2B)에 있어서, Rf^1B 및 Rf^2B 중의 R^F는, 상기 식(f1)로 표시되는 기이다.

상기 식 중, R^B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S2):

(식 중:

로 표시되는 기이다.

상기 식 중, R¹¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수분해성기이다.

R¹¹은, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 가수분해성기이다.

R¹¹은, 바람직하게는 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -OR^h, -OCOR^h, -O-N=CR^h ₂, -NR^h ₂, -NHR^h, 또는 할로겐(이들 식 중, R^h는, 치환 또는 비치환의 C_1-4 알킬기를 나타낸다)이고, 보다 바람직하게는 -OR^h(즉, 알콕시기)이다. R^h로서는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기 등의 비치환 알킬기; 클로로메틸기 등의 치환 알킬기를 들 수 있다. 그것들 중에서도, 알킬기, 특히 비치환 알킬기가 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기가 보다 바람직하다. 일 양태에 있어서, R^h는 메틸기이고, 다른 양태에 있어서, R^h는 에틸기이다.

상기 식 중, R¹²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 상기 가수분해성기를 제외한 1가의 유기기이다.

R¹²에 있어서, 1가의 유기기는, 바람직하게는 C_1-20 알킬기이고, 보다 바람직하게는 C_1-6 알킬기, 더욱 바람직하게는 메틸기이다.

상기 식 중, n1은, (SiR¹¹ _n1R¹² _3-n1) 단위마다 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다. 단, 식(1B) 및 식(2B)의 말단의 R^B 부분(이하, 단순히 식(1B) 및 식(2B)의 「말단 부분」이라고도 한다)에 있어서, n1이 1 내지 3인(SiR¹¹ _n1R¹² _3-n1) 단위가 적어도 하나 존재한다. 즉, 이러한 말단 부분에 있어서, 모든 n1이 동시에 0으로 되는 경우는 없다. 바꾸어 말하면, 식(1B) 및 식(2B)의 말단 부분에 있어서, 수산기 또는 가수분해성기가 결합한 Si 원자가 적어도 하나 존재한다.

n1은, (SiR¹¹ _n1R¹² _3-n1) 단위마다 각각 독립적으로, 바람직하게는 1 내지 3의 정수이고, 보다 바람직하게는 2 내지 3, 더욱 바람직하게는 3이다.

상기 식 중, X¹¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합 또는 2가의 유기기이다. 이러한 2가의 유기기는, 바람직하게는 C_1-20 알킬렌기이다. 이러한 C_1-20 알킬렌기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.

바람직한 양태에 있어서, X¹¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합 또는 직쇄의 C_1-6 알킬렌기이고, 바람직하게는 단결합 또는 직쇄의 C_1-3 알킬렌기, 보다 바람직하게는 단결합 또는 직쇄의 C_1-2 알킬렌기이고, 더욱 바람직하게는 직쇄의 C_1-2 알킬렌기이다.

상기 식 중, R¹³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이다. 이러한 1가의 유기기는, 바람직하게는 C_1-20 알킬기이다. 이러한 C_1-20 알킬기는, 직쇄여도 되고, 분지쇄여도 되지만, 바람직하게는 직쇄이다.

바람직한 양태에 있어서, R¹³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 직쇄의 C_1-6 알킬기이고, 바람직하게는 수소 원자 또는 직쇄의 C_1-3 알킬기, 바람직하게는 수소 원자 또는 메틸기이다.

상기 식 중, t는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2 내지 10의 정수이다.

바람직한 양태에 있어서, t는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2 내지 6의 정수이다.

상기 식 중, R¹⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 할로겐 원자이다. 이러한 할로겐 원자는, 바람직하게는 요오드 원자, 염소 원자 또는 불소 원자이고, 보다 바람직하게는 불소 원자이다. 바람직한 양태에 있어서, R¹⁴는 수소 원자이다.

상기 식(1B) 및 (2B)에 있어서, X^B는, 주로 발수성 및 표면 미끄럼성 등을 제공하는 플루오로폴리에테르부(Rf^1B 및 Rf^2B)와 기재의 결합능을 제공하는 부(R^B)를 연결하는 링커라고 이해된다. 따라서, 당해 X^B는, 식(1B) 및 (2B)로 표시되는 화합물이 안정적으로 존재할 수 있는 것이라면, 단결합이어도 되고, 어느 기라도 된다.

상기 식(1B)에 있어서, α2는 1 내지 9의 정수이고, β2는 1 내지 9의 정수이다. 이들 α2 및 β2는, X^B의 가수에 따라 변화될 수 있다. α2 및 β2의 합은, X^B의 가수와 동일하다. 예를 들어, X^B가 10가의 유기기인 경우, α2 및 β2의 합은 10이고, 예를 들어 α2가 9 또한 β2가 1, α2가 5 또한 β2가 5, 또는 α2가 1 또한 β2가 9로 될 수 있다. 또한, X^B가 2가의 유기기인 경우, α2 및 β2는 1이다.

상기 식(2B)에 있어서, γ2는 1 내지 9의 정수이다. γ2는, X^B의 가수에 따라 변화될 수 있다. 즉, γ2는, X^B의 가수로부터 1을 뺀 값이다.

X^B는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 내지 10가의 유기기이다.

상기 X^B에 있어서의 2 내지 10가의 유기기는, 바람직하게는 2 내지 8가의 유기기이다. 일 양태에 있어서, 이러한 2 내지 10가의 유기기는, 바람직하게는 2 내지 4가의 유기기이고, 보다 바람직하게는 2가의 유기기이다. 다른 양태에 있어서, 이러한 2 내지 10가의 유기기는, 바람직하게는 3 내지 8가의 유기기, 보다 바람직하게는 3 내지 6가의 유기기이다.

일 양태에 있어서, X^B는, 단결합 또는 2가의 유기기이고, α2는 1이고, β2는 1이다.

일 양태에 있어서, X^B는, 단결합 또는 2가의 유기기이고, γ2는 1이다.

X^B가, 단결합 또는 2가의 유기기인 경우, 식(1B) 및 (2B)는, 하기 식 (1B') 및 (2B')으로 표시된다.

일 양태에 있어서, X^B는 3 내지 6가의 유기기이고, α2는 1이고, β2는 2 내지 5이다.

일 양태에 있어서, X^B는 3 내지 6가의 유기기이고, γ2는 2 내지 5이다.

일 양태에 있어서, X^B는 3가의 유기기이고, α2는 1이고, β2는 2이다.

일 양태에 있어서, X^B는 3가의 유기기이고, γ2는 2이다.

상기 X^B는, 상기 X^A와 동일한 의미이다. 단, X^A와 X^B는, 동일해도 되고, 달라도 된다.

바람직한 양태에 있어서, X^B는, 각각 독립적으로, 식: -(R¹⁶)_x1-(CFR¹⁷)_y1-(CH₂)_z1-로 표시되는 기이다. 식 중, x1, y1 및 z1은, 각각 독립적으로, 0 내지 10의 정수이고, x1, y1 및 z1의 합은 1 이상이고, 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.

일 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 성분 (B)의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 식(1B)로 표시되는 화합물이다.

다른 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 성분 (B)의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 식(2B)로 표시되는 화합물이다.

다른 양태에 있어서, 본 개시의 표면 처리제 중, 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 식(1B)로 표시되는 화합물 및 식(2B)로 표시되는 화합물이다.

본 개시의 표면 처리제 중, 식(1B)로 표시되는 화합물과 식(2B)로 표시되는 화합물의 합계에 대하여, 식(2B)로 표시되는 화합물이, 바람직하게는 0.1몰％ 이상 35몰％ 이하이다. 식(1B)로 표시되는 화합물과 식(2B)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식(2B)로 표시되는 화합물의 함유량의 하한은, 바람직하게는 0.1몰％, 보다 바람직하게는 0.2몰％, 더욱 바람직하게는 0.5몰％, 보다 더욱 바람직하게는 1몰％, 특히 바람직하게는 2몰％, 특별히는 5몰％일 수 있다. 식(1B)로 표시되는 화합물과 식(2B)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식(2B)로 표시되는 화합물의 함유량의 상한은, 바람직하게는 35몰％, 보다 바람직하게는 30몰％, 더욱 바람직하게는 20몰％, 보다 더욱 바람직하게는 15몰％ 또는 10몰％일 수 있다. 식(1B)로 표시되는 화합물과 식(2B)로 표시되는 화합물의 합계에 대한 식(2B)로 표시되는 화합물은, 바람직하게는 0.1몰％ 이상 30몰％ 이하, 보다 바람직하게는 0.1몰％ 이상 20몰％ 이하, 더욱 바람직하게는 0.2몰％ 이상 10몰％ 이하, 보다 더욱 바람직하게는 0.5몰％ 이상 10몰％ 이하, 특히 바람직하게는 1몰％ 이상 10몰％ 이하, 예를 들어 2몰％ 이상 10몰％ 이하 또는 5몰％ 이상 10몰％ 이하이다. 식(2B)로 표시되는 화합물을 이러한 범위로 함으로써, 마찰 내구성을 더 향상시킬 수 있다.

상기 식(1B) 또는 식(2B)로 표시되는 플루오로폴리에테르기 함유 화합물은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5×10² 내지 1×10⁵의 평균 분자량을 가질 수 있다. 이러한 범위 중에서도 2,000 내지 32,000, 보다 바람직하게는 2,500 내지 12,000의 평균 분자량을 갖는 것이, 마찰 내구성의 관점에서 바람직하다. 또한, 이러한 「평균 분자량」은, 수 평균 분자량을 말하고, 「평균 분자량」은, ¹⁹F-NMR에 의해 측정되는 값으로 한다.

상기 성분 (B)는, 표면 처리제 중, 상기 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여, 1 내지 50질량％, 보다 바람직하게는 5 내지 30질량％, 더욱 바람직하게는 5 내지 20질량％, 보다 더욱 바람직하게는 10 내지 15질량％의 양으로 포함된다. 성분 (B)의 함유 비율을 상기한 범위로 함으로써, 표면 처리층의 마찰 내구성을 더 향상시킬 수 있다.

(성분 (C): 불소 함유 오일)

상기 불소 함유 오일로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 바람직하게는이하의 일반식(C)로 표시되는 화합물(퍼플루오로(폴리)에테르 화합물)을 들 수 있다.

상기 식 중, Rf⁵는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C_1-16의 퍼플루오로알킬기)를 나타내고, Rf⁶은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기(바람직하게는, C_1-16 퍼플루오로알킬기), 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고, Rf⁵ 및 Rf⁶은, 보다 바람직하게는, 각각 독립적으로, C_1-3 퍼플루오로알킬기이다.

상기 식 중, a', ｂ', c' 및 d'은, 폴리머의 주골격을 구성하는 퍼플루오로(폴리)에테르의 4종의 반복 단위수를 각각 나타내고, 서로 독립적으로 0 이상 300 이하의 정수이고, a', ｂ', c' 및 d'의 합은 적어도 1, 바람직하게는 1 내지 300, 보다 바람직하게는 20 내지 300이다. 첨자 a', ｂ', c' 또는 d'을 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다. 이들 반복 단위 중, -(OC₄F₈)-는, -(OCF₂CF₂CF₂CF₂)-, -(OCF(CF₃)CF₂CF₂)-, -(OCF₂CF(CF₃)CF₂)-, -(OCF₂CF₂CF(CF₃))-, -(OC(CF₃)₂CF₂)-, -(OCF₂C(CF₃)₂)-, -(OCF(CF₃)CF(CF₃))-, -(OCF(C₂F₅)CF₂)- 및 (OCF₂CF(C₂F₅))-의 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF₂CF₂CF₂CF₂)-이다. -(OC₃F₆)-는, -(OCF₂CF₂CF₂)-, -(OCF(CF₃)CF₂)- 및 (OCF₂CF(CF₃))-의 어느 것이어도 되고, 바람직하게는 -(OCF₂CF₂CF₂)-이다. -(OC₂F₄)-는, -(OCF₂CF₂)- 및 (OCF(CF₃))-의 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 -(OCF₂CF₂)-이다.

상기 일반식(C)로 표시되는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물의 예로서, 이하의 일반식(Ca) 및 (Cb)의 어느 것으로 나타나는 화합물(1종 또는 2종 이상의 혼합물이어도 된다)을 들 수 있다.

이들 식 중, Rf⁵ 및 Rf⁶은 상기한 바와 같고; 식(Ca)에 있어서, b"은 1 이상 100 이하의 정수이고; 식(Cb)에 있어서, a" 및 b"은, 각각 독립적으로 0 이상 30 이하의 정수이고, c" 및 d"은 각각 독립적으로 1 이상 300 이하의 정수이다. 첨자a", b", c", d"을 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.

바람직한 양태에 있어서, 성분 (C)의 불소 함유 오일은, 상기 식(Cb)로 표시되는 불소 함유 오일이다.

또한, 다른 관점에서, 불소 함유 오일은, 일반식 Rf³-F(식 중, Rf³은 C_5-16 퍼플루오로알킬기이다.)로 표시되는 화합물이어도 된다. 또한, 클로로트리플루오로에틸렌 올리고머여도 된다.

상기 불소 함유 오일은, 500 내지 20000, 바람직하게는 1,000 내지 15,000, 보다 바람직하게는 2,000 내지 10,000의 수 평균 분자량을 갖고 있어도 된다. 불소 함유 오일의 분자량은, GPC를 사용하여 측정할 수 있다.

성분 (C)는, 본 개시의 표면 처리제에 있어서, 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여, 예를 들어 1 내지 60질량％, 바람직하게는 5 내지 50질량％, 보다 바람직하게는 10 내지 40질량％, 더욱 바람직하게는 10 내지 30질량％, 예를 들어 15 내지 20질량％ 포함될 수 있다. 성분 (C)의 함유량을 이러한 범위로 함으로써, 얻어지는 표면 처리층의 마찰 내구성이 더 향상된다.

바람직한 양태에 있어서, 표면 처리제 중, 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여,

성분 (A)의 함유량은, 40 내지 80질량％, 바람직하게는 50 내지 80질량％, 보다 바람직하게는 50 내지 75질량％, 더욱 바람직하게는 65 내지 75질량％이고,

성분 (B)의 함유량은, 5 내지 20질량％, 바람직하게는 10 내지 15질량％이고,

성분 (C)의 함유량은, 10 내지 30질량％, 바람직하게는 15 내지 20질량％이다.

성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 함유량을 이러한 범위로 함으로써, 얻어지는 표면 처리층의 마찰 내구성이 더 향상된다.

본 개시의 표면 처리제는, 용매, 실리콘 오일로서 이해될 수 있는(비반응성의) 실리콘 화합물(이하, 「실리콘 오일」이라고 한다), 촉매, 계면 활성제, 중합 금지제, 증감제 등을 포함할 수 있다.

상기 용매로서는, 예를 들어 헥산, 시클로헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 미네랄 스피릿 등의 지방족 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 나프탈렌, 솔벤트 나프타 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산셀로솔브, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 아세트산카르비톨, 디에틸옥살레이트, 피루브산에틸, 에틸-2-히드록시부틸레이트, 에틸아세토아세테이트, 아세트산아밀, 락트산메틸, 락트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 2-히드록시이소부티르산메틸, 2-히드록시이소부티르산에틸 등의 에스테르류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 2-헥사논, 시클로헥사논, 메틸아미노케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노알킬에테르 등의 글리콜에테르류; 메탄올, 에탄올, iso-프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올, sec-부탄올, 3-펜탄올, 옥틸알코올, 3-메틸-3-메톡시부탄올, tert-아밀알코올 등의 알코올류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜류; 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 디옥산 등의 환상 에테르류; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; 메틸셀로솔브, 셀로솔브, 이소프로필셀로솔브, 부틸셀로솔브, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르 등의 에테르알코올류; 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트; 1,1,2-트리클로로-1,2,2-트리플루오로에탄, 1,2-디클로로-1,1,2,2-테트라플루오로에탄, 디메틸술폭시드, 1,1-디클로로-1,2,2,3,3-펜타플루오로프로판(HCFC225), 제오로라H, HFE7100, HFE7200, HFE7300 등의 불소 함유 용매 등을 들 수 있다. 혹은 이들 2종 이상의 혼합 용매 등을 들 수 있다.

상기 실리콘 오일로서는, 예를 들어 실록산 결합이 2,000 이하의 직쇄상 또는 환상의 실리콘 오일을 사용할 수 있다. 직쇄상의 실리콘 오일은, 소위 스트레이트 실리콘 오일 및 변성 실리콘 오일이어도 된다. 스트레이트 실리콘 오일로서는, 디메틸 실리콘 오일, 메틸페닐 실리콘 오일, 메틸하이드로겐 실리콘 오일을 들 수 있다. 변성 실리콘 오일로서는, 스트레이트 실리콘 오일을, 알킬, 아르알킬, 폴리에테르, 고급 지방산 에스테르, 플루오로알킬, 아미노, 에폭시, 카르복실, 알코올 등에 의해 변성된 것을 들 수 있다. 환상의 실리콘 오일은, 예를 들어 환상 디메틸실록산 오일 등을 들 수 있다.

본 개시의 표면 처리제 중, 이러한 실리콘 오일은, 상기 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물의 합계 100질량부(2종 이상의 경우에는 이것들의 합계, 이하도 마찬가지)에 대하여, 예를 들어 0 내지 300질량부, 바람직하게는 50 내지 200질량부로 포함될 수 있다.

실리콘 오일은, 표면 처리층의 표면 미끄럼성을 향상시키는 데 기여한다.

상기 촉매로서는, 산(예를 들어, 아세트산, 트리플루오로아세트산 등), 염기(예를 들어, 암모니아, 트리에틸아민, 디에틸아민 등), 전이 금속(예를 들어, Ti, Ni, Sn 등) 등을 들 수 있다.

촉매는, 상기 성분 (A) 및 성분 (B)의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물의 가수 분해 및 탈수 축합을 촉진하고, 본 개시의 표면 처리제에 의해 형성되는 층의 형성을 촉진한다.

다른 성분으로서는, 상기 이외에, 예를 들어 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 메틸트리아세톡시실란 등도 들 수 있다.

본 개시의 표면 처리제는, 다공질 물질, 예를 들어 다공질의 세라믹 재료, 금속 섬유, 예를 들어 스틸 울을 면 형상으로 굳힌 것에 함침시켜, 펠릿으로 할 수 있다. 당해 펠릿은, 예를 들어 진공 증착에 사용할 수 있다.

이하, 본 개시의 물품에 대하여 설명한다.

본 개시의 물품은, 기재와, 해당 기재 표면에 본 개시의 플루오로폴리에테르기 함유 실란 화합물을 포함하는 표면 처리제로 형성된 층(표면 처리층)을 포함한다.

본 개시에 있어서 사용 가능한 기재는, 예를 들어 유리, 수지(천연 또는 합성 수지, 예를 들어 일반적인 플라스틱 재료여도 되고, 판 형상, 필름, 기타의 형태여도 된다), 금속, 세라믹스, 반도체(실리콘, 게르마늄 등), 섬유(직물, 부직포 등), 모피, 피혁, 목재, 도자기, 석재 등, 건축 부재 등, 임의의 적절한 재료로 구성될 수 있다.

예를 들어, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면을 구성하는 재료는, 광학 부재용 재료, 예를 들어 유리 또는 투명 플라스틱 등이어도 된다. 또한, 제조해야 할 물품이 광학 부재인 경우, 기재의 표면(최외층)에 어떤 층(또는 막), 예를 들어 하드 코트층이나 반사 방지층 등이 형성되어 있어도 된다. 반사 방지층에는, 단층 반사 방지층 및 다층 반사 방지층의 어느 것을 사용해도 된다. 반사 방지층에 사용 가능한 무기물의 예로서는, SiO₂, SiO, ZrO₂, TiO₂, TiO, Ti₂O₃, Ti₂O₅, Al₂O₃, Ta₂O₅, CeO₂, MgO, Y₂O₃, SnO₂, MgF₂, WO₃ 등을 들 수 있다. 이들 무기물은, 단독으로, 또는 이것들의 2종 이상을 조합하여(예를 들어, 혼합물로서) 사용해도 된다. 다층 반사 방지층으로 하는 경우, 그 최외층에는 SiO₂ 및/또는 SiO를 사용하는 것이 바람직하다. 제조해야 할 물품이, 터치 패널용의 광학 유리 부품인 경우, 투명 전극, 예를 들어 산화인듐주석(ITO)이나 산화인듐아연 등을 사용한 박막을, 기재(유리)의 표면의 일부에 갖고 있어도 된다. 또한, 기재는, 그 구체적 사양 등에 따라, 절연층, 점착층, 보호층, 장식 프레임층(I-CON), 무화막층, 하드 코팅막층, 편광 필름, 상정도차 필름 및 액정 표시 모듈 등을 갖고 있어도 된다.

기재의 형상은 특별히 한정되지는 않는다. 또한, 표면 처리층을 형성해야 할 기재의 표면 영역은, 기재 표면의 적어도 일부여도 되고, 제조해야 할 물품의 용도 및 구체적 사양 등에 따라 적절히 결정될 수 있다.

이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 수산기를 원래 갖는 재료로 이루어지는 것이어도 된다. 이러한 재료로서는, 유리를 들 수 있고, 또한 표면에 자연 산화막 또는 열산화막이 형성되는 금속(특히 비금속), 세라믹스, 반도체 등을 들 수 있다. 혹은, 수지 등과 같이, 수산기를 갖고 있어도 충분하지 않은 경우나, 수산기를 원래 갖고 있지 않은 경우에는, 기재에 어떤 전처리를 실시함으로써, 기재의 표면에 수산기를 도입하거나, 증가시키거나 할 수 있다. 이러한 전처리의 예로서는, 플라스마 처리(예를 들어, 코로나 방전)나, 이온빔 조사를 들 수 있다. 플라스마 처리는, 기재 표면에 수산기를 도입 또는 증가시킬 수 있음과 함께, 기재 표면을 청정화하기(이물 등을 제거하기) 위해서도 적합하게 이용될 수 있다. 또한, 이러한 전처리의 다른 예로서는, 탄소-탄소 불포화 결합기를 갖는 계면 흡착제를 LB법(랭뮤어-블로젯법)이나 화학 흡착법 등에 의해, 기재 표면에 미리 단분자막의 형태로 형성하고, 그 후, 산소나 질소 등을 포함하는 분위기 하에서 불포화 결합을 개열하는 방법을 들 수 있다.

또한 혹은, 이러한 기재로서는, 적어도 그 표면 부분이, 다른 반응성 기, 예를 들어 Si-H기를 1개 이상 갖는 실리콘 화합물이나, 알콕시실란을 포함하는 재료로 이루어지는 것이어도 된다.

이어서, 이러한 기재의 표면에, 상기한 본 개시의 표면 처리제의 층을 형성하고, 이 층을 필요에 따라 후처리하고, 이에 의해, 본 개시의 표면 처리제로 층을 형성한다.

본 개시의 표면 처리제의 층 형성은, 상기한 조성물을 기재의 표면에 대하여, 해당 표면을 피복하도록 적용함으로써 실시할 수 있다. 피복 방법은, 특별히 한정되지는 않는다. 예를 들어, 습윤 피복법 및 건조 피복법을 사용할 수 있다.

습윤 피복법의 예로서는, 침지 코팅, 스핀 코팅, 플로 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅 및 유사한 방법을 들 수 있다.

건조 피복법의 예로서는, 증착(통상, 진공 증착), 스퍼터링, CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다. 증착법(통상, 진공 증착법)의 구체예로서는, 저항 가열, 전자 빔, 마이크로파 등을 사용한 고주파 가열, 이온빔 및 유사한 방법을 들 수 있다. CVD 방법의 구체예로서는, 플라스마-CVD, 광학 CVD, 열 CVD 및 유사한 방법을 들 수 있다.

또한, 상압 플라스마법에 의한 피복도 가능하다.

습윤 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 용매로 희석되고 나서 기재 표면에 적용될 수 있다. 본 개시의 조성물의 안정성 및 용매의 휘발성의 관점에서, 다음의 용매가 바람직하게 사용된다: 탄소수 5 내지 12의 퍼플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, 퍼플루오로헥산, 퍼플루오로메틸시클로헥산 및 퍼플루오로-1,3-디메틸시클로헥산); 폴리플루오로 방향족 탄화수소(예를 들어, 비스(트리플루오로메틸)벤젠); 폴리플루오로 지방족 탄화수소(예를 들어, C₆F₁₃CH₂CH₃(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록 상표) AC-6000), 1,1,2,2,3,3,4-헵타플루오로시클로펜탄(예를 들어, 닛폰 제온 가부시키가이샤제의 제오로라(등록 상표) H); 히드로플루오로에테르(HFE)(예를 들어, 퍼플루오로프로필메틸에테르(C₃F₇OCH₃)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7000), 퍼플루오로부틸메틸에테르(C₄F₉OCH₃)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7100), 퍼플루오로부틸에틸에테르(C₄F₉OC₂H₅)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7200), 퍼플루오로헥실메틸에테르(C₂F₅CF(OCH₃)C₃F₇)(예를 들어, 스미토모 쓰리엠 가부시키가이샤제의 Novec(상표) 7300) 등의 알킬퍼플루오로알킬에테르(퍼플루오로알킬기 및 알킬기는 직쇄 또는 분지상이어도 된다), 혹은 CF₃CH₂OCF₂CHF₂(예를 들어, 아사히 가라스 가부시키가이샤제의 아사히클린(등록 상표) AE-3000)) 등. 이들 용매는, 단독으로, 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다. 그 중에서도, 히드로플루오로에테르가 바람직하고, 퍼플루오로부틸메틸에테르(C₄F₉OCH₃) 및/또는 퍼플루오로부틸에틸에테르(C₄F₉OC₂H₅)가 특히 바람직하다.

건조 피복법을 사용하는 경우, 본 개시의 표면 처리제는, 그대로 건조 피복법에 부쳐도 되고, 또는 상기한 용매로 희석하고 나서 건조 피복법에 부쳐도 된다.

표면 처리제의 층 형성은, 층 중에서 본 개시의 표면 처리제가, 가수 분해 및 탈수 축합을 위한 촉매와 함께 존재하도록 실시하는 것이 바람직하다. 간편하게는, 습윤 피복법에 의한 경우, 본 개시의 표면 처리제를 용매로 희석한 후, 기재 표면에 적용하기 직전에, 본 개시의 표면 처리제의 희석액에 촉매를 첨가해도 된다. 건조 피복법에 의한 경우에는, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 그대로 증착(통상, 진공 증착) 처리하거나, 혹은 철이나 구리 등의 금속 다공체에, 촉매 첨가한 본 개시의 표면 처리제를 함침시킨 펠릿상 물질을 사용하여 증착(통상, 진공 증착) 처리를 해도 된다.

촉매에는, 임의의 적절한 산 또는 염기를 사용할 수 있다. 산 촉매로서는, 예를 들어 아세트산, 포름산, 트리플루오로아세트산 등을 사용할 수 있다. 또한, 염기 촉매로서는, 예를 들어 암모니아, 유기 아민류 등을 사용할 수 있다.

상기와 같이 하여, 기재의 표면에, 본 개시의 표면 처리제에서 유래하는 층이 형성되어, 본 개시의 물품이 제조된다. 이것에 의해 얻어지는 상기 층은, 높은 표면 미끄럼성과 높은 마찰 내구성의 양쪽을 갖는다. 또한, 상기 층은, 높은 마찰 내구성에 더하여, 사용하는 표면 처리제의 조성에 따라 다르지만, 발수성, 발유성, 방오성(예를 들어, 지문 등의 오염의 부착을 방지한다), 방수성(전자 부품 등으로의 물의 침입을 방지한다), 표면 미끄럼성(또는 윤활성, 예를 들어 지문 등의 오염의 닦아냄성이나, 손가락에 대한 우수한 촉감) 등을 가질 수 있어, 기능성 박막으로서 적합하게 이용될 수 있다.

즉 본 개시는 또한, 상기 표면 처리층을 최외층에 갖는 광학 재료에도 관한 것이다.

광학 재료로서는, 후기에 예시하는 바와 같은 디스플레이 등에 관한 광학 재료 외에, 다종다양한 광학 재료를 바람직하게 들 수 있다: 예를 들어, 음극선관(CRT; 예를 들어, 퍼스컴 모니터), 액정 디스플레이, 플라스마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 무기 박막 EL 도트 매트릭스 디스플레이, 배면 투사형 디스플레이, 형광 표시관(VFD), 전계 방출 디스플레이(FED; Field Emission Display) 등의 디스플레이 또는 그것들의 디스플레이의 보호판, 또는 그것들의 표면에 반사 방지막 처리를 실시한 것.

본 개시에 의해 얻어지는 층을 갖는 물품은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 광학 부재일 수 있다. 광학 부재의 예에는, 다음의 것을 들 수 있다: 안경 등의 렌즈; PDP, LCD 등의 디스플레이의 전방면 보호판, 반사 방지판, 편광판, 안티글레어판; 휴대 전화, 휴대 정보 단말기 등의 기기의 터치 패널 시트; 블루레이(Blu-ray(등록 상표)) 디스크, DVD 디스크, CD-R, MO 등의 광 디스크의 디스크면; 광 파이버; 시계의 표시면 등.

또한, 본 개시에 의해 얻어지는 층을 갖는 물품은, 의료 기기 또는 의료 재료여도 된다.

상기 층의 두께는 특별히 한정되지는 않는다. 광학 부재의 경우, 상기 층의 두께는, 1 내지 50㎚, 바람직하게는 1 내지 30㎚, 보다 바람직하게는 1 내지 15㎚의 범위인 것이, 광학 성능 및 마찰 내구성의 점에서 바람직하다.

이상, 본 개시에 대하여 상세하게 설명했다. 또한, 본 개시의 표면 처리제 및 물품, 이것들의 제조 방법 등은, 상기에서 예시한 것에 한정되지는 않는다.

실시예

이하, 본 개시에 대하여, 실시예에 있어서 설명하지만, 본 개시는 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에 있어서, 이하에 나타나는 화학식은 모두 평균 조성을 나타내고, 퍼플루오로폴리에테르를 구성하는 반복 단위((CF₂CF₂CF₂O), (CF₂CF₂O), (CF₂O) 등)의 존재 순서는 임의이다.

표면 처리 화합물로서, 하기의 화합물을 준비했다.

화합물 (A):

(m≒21, n≒35)

(또한, 평균 조성으로서는, (CF₂CF₂CF₂CF₂O)의 반복 단위가 0.27개 및 (CF₂CF₂CF₂O)의 반복 단위가 0.42개 포함되어 있었지만, 미량이기 때문에 생략했다. 또한, 양 말단에 -C(CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)를 갖는 화합물이 3.2％ 포함되어 있었지만, 미량이기 때문에 생략했다.)

화합물(B):

(m≒23, n≒22)

(또한, 평균 조성으로서는, (CF₂CF₂CF₂CF₂O)의 반복 단위가 0.17개 및 (CF₂CF₂CF₂O)의 반복 단위가 0.18개 포함되어 있었지만, 미량이기 때문에 생략했다. 또한, 양 말단에 -Si(CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃)를 갖는 화합물이 2.2％ 포함되어 있었지만, 미량이기 때문에 생략했다.)

화합물 (C):

(n≒20, t=1 내지 6이고, 평균은 약 3)

화합물 (D): CF₃(OCF₂CF₂)_m(OCF₂)_nOCF₃

(m≒22, n≒21)

상기 화합물 (A)를, 농도 0.1질량％로 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 희석액 (1)을 조제했다.

상기 화합물 (B)를, 농도 0.1질량％로 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 희석액 (2)를 조제했다.

상기 화합물 (C)를, 고형분 농도 0.1질량％로 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 희석액 (3)을 조제했다.

상기 화합물 (D)를, 고형분 농도 0.1질량％로 되도록, 하이드로플루오로에테르(쓰리엠사제, 노벡 HFE-7200)에 용해시켜, 희석액 (4)를 조제했다.

(표면 처리제의 조제)

희석액 1 내지 4를, 하기 표 1에 나타내는 비율로 혼합하여, 표면 처리제 1 내지 8을 조제했다. 표면 처리제 1 및 2가 실시예이고, 표면 처리제 3 내지 8이 비교예이다.

(표면 처리층의 형성)

상기에서 조제한 표면 처리제 1 내지 8을, 각각 화학 강화 유리(코닝사제, 「고릴라」 유리, 두께 0.7㎜) 상에 진공 증착했다. 진공 증착법의 조건은, 저항 가열식 증착기(싱크 론제), 챔버 사이즈 1,900㎜φ, 진공도 5.0E-05, 전류값 240A, 전압 10V, 기재 온도 40℃였다. 이어서, 증착한 화학 강화 유리를, 온도 150℃의 분위기 하에서 30분 정치하고, 그 후 실온까지 방랭시켜, 유리 기재 상에 표면 처리층을 형성했다.

(표면 처리층의 특성 평가)

얻어진 표면 처리층의 특성을 이하와 같이 평가했다. 결과를 하기 표 2에 나타낸다.

<정적 접촉각>

(초기 평가)

먼저, 초기 평가로서, 표면 처리층 형성 후, 그 표면에 아직 아무것도 접촉하고 있지 않은 상태로, 물의 정적 접촉각을 측정했다.

<내지우개 마모성 시험>

러빙 테스터(신토 가가쿠사제)를 사용하여, 하기 조건에서 2500회 문지를 때마다 내수 접촉각을 측정하여, 10000회 혹은 100° 미만으로 될 때까지 시험을 계속했다. 시험 환경 조건은 25℃, 습도 40％RH였다.

지우개: Raber Eraser(Minoan사제)

접지 면적: 6㎜φ

이동 거리(편도): 30㎜

이동 속도: 3,600㎜/분

하중: 1㎏/6㎜φ

상기한 결과로부터, 화합물 (A), 화합물 (C) 및 화합물 (D)를 조합하여 포함하는 표면 처리제 1 및 2는, 화합물 (A) 및 화합물 (C)를 각각 단독으로 포함하는 표면 처리제 6 및 8, 또한 화합물 (A)와 화합물 (C)의 조합 및 화합물 (A)와 화합물 (D)의 조합을 각각 포함하는 표면 처리제 3 및 4와 비교하여, 마찰 내구성이 높은 것이 확인되었다. 즉, 화합물 (A)에, 화합물 (C)와 화합물 (D)를 조합함으로써, 상승적으로 마찰 내구성이 향상되는 것이 확인되었다. 또한, 화합물 (D)만을 포함하는 표면 처리제에서는, 안정된 표면 처리층을 형성할 수 없었다.

본 개시의 물품은, 다종 다양한 용도, 예를 들어 터치 패널 등의 광학 부재로서 적합하게 이용될 수 있다.

Claims

성분 (A): 하기 식 (1A) 또는 (2A):

[식 중:
Rf^1A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이고;
Rf^2A는, -Rf² _p-R^F-O_q-이고;
Rf¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-16 알킬기이고;
Rf²는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-6 알킬렌기이고;
R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
p는 0 또는 1이고;
q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;
R^A는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S1):

(식 중:
R^d1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z²-CR³¹ _p2R³² _q2R³³ _r2이고;
Z²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이고;
R³¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z^2'-CR^32' _q2'R^33' _r2'이고;
R³²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이고;
R³³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이고;
p2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
q2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
r2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
Z^2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이고;
R^32'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이고;
R^33'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이고;
q2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
r2'은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
Z³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합, 산소 원자 또는 2가의 유기기이고;
R³⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수분해성기이고;
R³⁵는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
n2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
R^e1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, -Z³-SiR³⁴ _n2R³⁵ _3-n2이고;
R^f1은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 수산기 또는 1가의 유기기이고;
k2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
l2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
m2는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이다.)
로 표시되는 기이고;
적어도 하나의 R^A는, 수산기 또는 가수분해성기가 결합한 Si 원자를 포함하는 1가의 기이고;
X^A는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 내지 10가의 유기기이고;
α1은 1 내지 9의 정수이고;
β1은 1 내지 9의 정수이고;
γ1은, 각각 독립적으로, 1 내지 9의 정수이다.]
로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물;
성분 (B): 하기 식 (1B) 또는 (2B):

[식 중:
Rf^1B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, Rf¹-R^F-O_q-이고;
Rf^2B는, -Rf² _p-R^F-O_q-이고;
Rf¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-16 알킬기이고;
Rf²는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 C_1-6 알킬렌기이고;
R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2가의 플루오로폴리에테르기이고;
p는 0 또는 1이고;
q는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 0 또는 1이고;
R^B는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (S2):

(식 중:
R¹¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수산기 또는 가수분해성기이고;
R¹²는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
n1은, (SiR¹¹ _n1R¹² _3-n1) 단위마다 각각 독립적으로, 0 내지 3의 정수이고;
X¹¹은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 단결합 또는 2가의 유기기이고;
R¹³은, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 1가의 유기기이고;
t는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 2 내지 10의 정수이고;
R¹⁴는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 할로겐 원자이다.)
로 표시되는 기이고;
적어도 하나의 R^B는, 수산기 또는 가수분해성기가 결합한 Si 원자를 포함하는 1가의 기이고;
X^B는, 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 내지 10가의 유기기이고;
α2는 1 내지 9의 정수이고;
β2는 1 내지 9의 정수이고;
γ2는, 각각 독립적으로, 1 내지 9의 정수이다.]
로 표시되는 적어도 1종의 플루오로폴리에테르기 함유 화합물 및
성분 (C): 1종 또는 그 이상의 불소 함유 오일을
함유하는, 표면 처리제.
제1항에 있어서, l2는 2이고, m2는 1이거나, 혹은 l2는 3인, 표면 처리제.
제1항 또는 제2항에 있어서, l2는 3인, 표면 처리제.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식:

[식 중, R^Fa는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자 또는 염소 원자이고,
a, b, c, d, e 및 f는, 각각 독립적으로, 0 내지 200의 정수이며, a, b, c, d, e 및 f의 합은 1 이상이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
로 표시되는 기인, 표면 처리제.
제4항에 있어서, R^Fa는 불소 원자인, 표면 처리제.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 하기 식 (f1), (f2), (f3), (f4) 또는 (f5):

[식 중, d는 1 내지 200의 정수이다.],

[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
c, d, e 및 f의 합은 10 내지 200의 정수이고;
첨자 c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.],

[식 중, R⁶은 OCF₂ 또는 OC₂F₄이고;
R⁷은, OC₂F₄, OC₃F₆, OC₄F₈, OC₅F₁₀ 및 OC₆F₁₂에서 선택되는 기이거나, 혹은 이들 기에서 선택되는 2 또는 3개의 기의 조합이고;
g는 2 내지100의 정수이다.],

[식 중, e는 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 f는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.],

[식 중, f는 1 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d 및 e는, 각각 독립적으로 0 이상 200 이하의 정수이고, a, b, c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는 식 중에 있어서 임의이다.]
로 표시되는 기인, 표면 처리제.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 식(1A) 및 (2A)에 있어서, R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식(f2):

[식 중, c 및 d는, 각각 독립적으로, 0 내지 30의 정수이고;
e 및 f는, 각각 독립적으로, 1 내지 200의 정수이고;
c, d, e 및 f의 합은 10 내지 200의 정수이고;
첨자 c, d, e 또는 f를 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.]
로 표시되는 기이고,
상기 식(1B) 및 (2B)에 있어서, R^F는, 각 출현에 있어서 각각 독립적으로, 식(f1):

[식 중, d는 1 내지 200의 정수이다.]
로 표시되는 기인, 표면 처리제.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, α1, β1 및 γ1은 1이고, α2, β2 및 γ2는 1인, 표면 처리제.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 불소 함유 오일은, 하기 식 (C):

[식 중:
Rf⁵는, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기를 나타내고;
Rf⁶은, 1개 또는 그 이상의 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 내지 16 알킬기, 불소 원자 또는 수소 원자를 나타내고;
a', ｂ', c' 및 d'은, 서로 독립적으로 0 이상 300 이하의 정수이고, a', ｂ', c' 및 d'의 합은 적어도 1이고, 첨자 a', ｂ', c' 또는 d'을 붙이고 괄호로 묶인 각 반복 단위의 존재 순서는, 식 중에 있어서 임의이다.]
로 표시되는 퍼플루오로(폴리)에테르 화합물인, 표면 처리제.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 표면 처리제 중, 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여, 성분 (A)의 함유량은 40 내지 90질량％인, 표면 처리제.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 표면 처리제 중, 성분 (A), 성분 (B) 및 성분 (C)의 합계에 대하여,
성분 (A)의 함유량은 40 내지 80질량％이고,
성분 (B)의 함유량은 5 내지 20질량％이고,
성분 (C)의 함유량은 10 내지 30질량％인, 표면 처리제.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 오일 및 촉매에서 선택되는 1종 또는 그 이상의 다른 성분을 더 함유하는, 표면 처리제.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 용매를 더 포함하는, 표면 처리제.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 방오성 코팅제 또는 방수성 코팅제로서 사용되는, 표면 처리제.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 진공 증착용인, 표면 처리제.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제를 함유하는, 펠릿.
기재와, 해당 기재 상에, 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 기재된 표면 처리제로 형성된 층을 포함하는, 물품.