JP6927373B2 - 表面処理剤 - Google Patents
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Description
[1] 含フッ素シラン化合物および金属化合物を含む表面処理剤であって、該金属化合物に含まれる金属原子は、周期表の3族〜11族の遷移金属原子、および12〜15族の典型金属原子から選択される1種またはそれ以上の金属原子である、表面処理剤。
[2] 前記含フッ素シラン化合物は、下記式(1)または(2):
RF1は、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
RF2は、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RSiは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
少なくとも1つのRSiは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
αは、1〜9の整数であり;
βは、1〜9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、上記[1]に記載の表面処理剤。
[3] Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、C1−16パーフルオロアルキル基であり、
Rf2は、各出現においてそれぞれ独立して、C1−6パーフルオロアルキレン基である、
上記[2]に記載の表面処理剤。
[4] RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3RFa 6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
[式中、RFaは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0〜200の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は1以上であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である、上記[2]または[3]に記載の表面処理剤。
[5] RFaは、フッ素原子である、上記[4]に記載の表面処理剤。
[6] RFは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)または(f5):
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは1〜200の整数である。]、
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1〜200の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10〜200の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]、
−(R6−R7)g− (f3)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
gは、2〜100の整数である。]、
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f4)
[式中、eは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f5)
[式中、fは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびeは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である、上記[2]〜[5]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[7] RSiは、下記式(S1)、(S2)、(S3)、または(S4):
R11は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R12は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n1は、(SiR11 n1R12 3−n1)単位毎にそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
X11は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基であり;
R13は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、2以上の整数であり;
R14は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または−X11−SiR11 n1R12 3−n1であり;
R15は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数1〜6のアルキレン基または炭素数1〜6のアルキレンオキシ基であり;
Ra1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1−SiR21 p1R22 q1R23 r1であり;
Z1は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基であり;
R21は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1’−SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’であり;
R22は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R23は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
p1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z1’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基であり;
R21’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1”−SiR22” q1”R23” r1”であり;
R22’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R23’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
p1’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q1’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r1’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z1”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基であり;
R22”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R23”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
q1”は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r1”は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Rb1は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
Rc1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
k1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Rd1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2−CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2’−CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z2’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R32’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
q2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R35は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Re1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数である。]
で表される基である、上記[2]〜[6]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[8] α、β、およびγは、1である、上記[2]〜[7]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[9] XAは、それぞれ独立して、3価の有機基であり、
αは1かつβは2であるか、αは2かつβは1であり、
γは2である、
上記[2]〜[7]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[10] 前記式(S1)で表される基は、下記式(S1−b):
で表される基である、上記[7]〜[9]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[11] アルコールをさらに含有する、上記[1]〜[10]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[12] 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記[1]〜[11]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[13] さらに溶媒を含む、上記[1]〜[12]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[14] 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、上記[1]〜[13]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[15] 真空蒸着用である、上記[1]〜[14]のいずれか1つに記載の表面処理剤。
[16] 上記[1]〜[15]のいずれか1つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
[17] 基材と、該基材上に、上記[1]〜[15]のいずれか1つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
[18] 基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、周期表の3族〜11族の遷移金属原子、および12〜15族の典型金属原子から選択される1種またはそれ以上の金属原子を含む、物品。
[19] 前記金属原子は、表面処理層中に、炭素、酸素、フッ素、ケイ素および金属原子の合計量に対して、0.03〜3at%含まれる、上記[18]に記載の物品。
[20] 前記金属原子は、Ta、Nb、Zr、Mo、W、Cr、Hf、Al、Ti、およびVから選択される1種またはそれ以上の金属原子である、上記[18]または[19]に記載の物品。
[21] 前記金属原子は、Taである、上記[18]〜[20]のいずれか1つに記載の物品。
[22] 前記含フッ素シラン化合物は、下記式(1)または(2):
RF1は、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
RF2は、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RSiは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
少なくとも1つのRSiは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
αは、1〜9の整数であり;
βは、1〜9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、上記[18]〜[21]のいずれか1つに記載の物品。
[23] 前記基材は、ガラス基材である、上記[17]〜[22]のいずれか1つに記載の物品。
[24] 光学部材である、上記[17]〜[23]のいずれか1つに記載の物品。
[25] 基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品の製造方法であって、
前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、周期表の3族〜11族の遷移金属原子、および12〜15族の典型金属原子から選択される1種またはそれ以上の金属原子を含み、
前記基材上に、前記含フッ素シラン化合物および前記属原子を含む金属化合物を含む表面処理剤を用いて、前記含フッ素シラン化合物および前記金属原子を含む金属化合物を蒸着させて、表面処理層を形成すること
を含む方法。
上記含フッ素シラン化合物は、フッ素を含み、防汚性を有する表面処理層を形成することができる化合物である。
RF1は、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
RF2は、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RSiは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
少なくとも1つのRSiは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
αは、1〜9の整数であり;
βは、1〜9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である。
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3RFa 6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
[式中:
RFaは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0〜200の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は1以上である。a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのRFaが水素原子または塩素原子である場合、a、b、c、eおよびfの少なくとも1つは、1以上である。]
で表される基である。
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは、1〜200の整数である。];
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、eおよびfは、それぞれ独立して1以上200以下の整数であり、
c、d、eおよびfの和は2以上であり、
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。];
−(R6−R7)g− (f3)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり、
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせであり、
gは、2〜100の整数である。];
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f4)
[式中、eは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f5)
[式中、fは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびeは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
R11、R12、R13、X11、およびn1は、上記式(S1)の記載と同意義であり;
t1およびt2は、各出現においてそれぞれ独立して、1以上の整数、好ましくは1〜10の整数、より好ましくは2〜10の整数、例えば1〜5の整数または2〜5の整数であり;
t1およびt2を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
−(R51)p5−(X51)q5−
[式中:
R51は、単結合、−(CH2)s5−またはo−、m−もしくはp−フェニレン基を表し、好ましくは−(CH2)s5−であり、
s5は、1〜20の整数、好ましくは1〜6の整数、より好ましくは1〜3の整数、さらにより好ましくは1または2であり、
X51は、−(X52)l5−を表し、
X52は、各出現においてそれぞれ独立して、−O−、−S−、o−、m−もしくはp−フェニレン基、−C(O)O−、−Si(R53)2−、−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、−CONR54−、−O−CONR54−、−NR54−および−(CH2)n5−からなる群から選択される基を表し、
R53は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、C1−6アルキル基またはC1−6アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはC1−6アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
R54は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、
m5は、各出現において、それぞれ独立して、1〜100の整数、好ましくは1〜20の整数であり、
n5は、各出現において、それぞれ独立して、1〜20の整数、好ましくは1〜6の整数、より好ましくは1〜3の整数であり、
l5は、1〜10の整数、好ましくは1〜5の整数、より好ましくは1〜3の整数であり、
p5は、0または1であり、
q5は、0または1であり、
ここに、p5およびq5の少なくとも一方は1であり、p5またはq5を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である]
で表される2価の有機基が挙げられる。ここに、XA(典型的にはXAの水素原子)は、フッ素原子、C1−3アルキル基およびC1−3フルオロアルキル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、XAは、これらの基により置換されていない。
単結合、
C1−20アルキレン基、
−R51−X53−R52−、または
−X54−R5−
[式中、R51およびR52は、上記と同意義であり、
X53は、
−O−、
−S−、
−C(O)O−、
−CONR54−、
−O−CONR54−、
−Si(R53)2−、
−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、
−O−(CH2)u5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、
−O−(CH2)u5−Si(R53)2−O−Si(R53)2−CH2CH2−Si(R53)2−O−Si(R53)2−、
−O−(CH2)u5−Si(OCH3)2OSi(OCH3)2−、
−CONR54−(CH2)u5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、
−CONR54−(CH2)u5−N(R54)−、または
−CONR54−(o−、m−またはp−フェニレン)−Si(R53)2−
(式中、R53、R54およびm5は、上記と同意義であり、
u5は1〜20の整数、好ましくは2〜6の整数、より好ましくは2〜3の整数である。)を表し、
X54は、
−S−、
−C(O)O−、
−CONR54−、
−O−CONR54−、
−CONR54−(CH2)u5−(Si(R54)2O)m5−Si(R54)2−、
−CONR54−(CH2)u5−N(R54)−、または
−CONR54−(o−、m−またはp−フェニレン)−Si(R54)2−
(式中、各記号は、上記と同意義である。)
を表す。]
であり得る。
単結合、
C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−X53−、
−(CH2)s5−X53−(CH2)t5−
−X54−、または
−X54−(CH2)t5−
[式中、X53、X54、s5およびt5は、上記と同意義である。]
である。
単結合、
C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−X53−(CH2)t5−、または
−X54−(CH2)t5−
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
であり得る。
単結合
C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−X53−、または
−(CH2)s5−X53−(CH2)t5−
[式中、
X53は、−O−、−CONR54−、または−O−CONR54−であり、
R54は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し、
s5は、1〜20の整数であり、
t5は、1〜20の整数である。]
であり得る。
−(CH2)s5−O−(CH2)t5−
−CONR54−(CH2)t5−
[式中、
R54は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し、
s5は、1〜20の整数であり、
t5は、1〜20の整数である。]
であり得る。
単結合、
C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−O−(CH2)t5−、
−(CH2)s5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−(CH2)t5−、
−(CH2)s5−O−(CH2)u5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−(CH2)t5−、または
−(CH2)s5−O−(CH2)t5−Si(R53)2−(CH2)u5−Si(R53)2−(CvH2v)−
[式中、R53、m5、s5、t5およびu5は、上記と同意義であり、v5は1〜20の整数、好ましくは2〜6の整数、より好ましくは2〜3の整数である。]
である。
Dは、
−CH2O(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3−、
−CF2O(CH2)3−、
−(CH2)2−、
−(CH2)3−、
−(CH2)4−、
−CONH−(CH2)3−、
−CON(CH3)−(CH2)3−、
−CON(Ph)−(CH2)3−(式中、Phはフェニルを意味する)、および
から選択される基であり、
Eは、−(CH2)n−(nは2〜6の整数)であり、
Dは、分子主鎖のRF1またはRF2に結合し、Eは、RSiに結合する。]
単結合、
−CH2OCH2−、
−CH2O(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3−、
−CH2O(CH2)4−、
−CH2O(CH2)5−、
−CH2O(CH2)6−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2OCF2CHFOCF2−、
−CH2OCF2CHFOCF2CF2−、
−CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2−C(O)NH−CH2−、
−CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2−、
−(CH2)2−Si(CH3)2−(CH2)2−、
−CH2−、
−(CH2)2−、
−(CH2)3−、
−(CH2)4−、
−(CH2)5−、
−(CH2)6−、
−CO−、
−CONH−、
−CONH−CH2−、
−CONH−(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3−、
−CONH−(CH2)4−、
−CONH−(CH2)5−、
−CONH−(CH2)6−、
−CON(CH3)−CH2−、
−CON(CH3)−(CH2)2−、
−CON(CH3)−(CH2)3−、
−CON(CH3)−(CH2)4−、
−CON(CH3)−(CH2)5−、
−CON(CH3)−(CH2)6−、
−CON(Ph)−CH2−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)2−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)3−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)4−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)5−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)6−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CONH−(CH2)2NH(CH2)3−、
−CONH−(CH2)6NH(CH2)3−、
−CH2O−CONH−(CH2)3−、
−CH2O−CONH−(CH2)6−、
−S−(CH2)3−、
−(CH2)2S(CH2)3−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2−、
−C(O)O−(CH2)3−、
−C(O)O−(CH2)6−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−(CH2)2−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−CH(CH3)−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−(CH2)3−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−CH(CH3)−CH2−、
−OCH2−、
−O(CH2)3−、
−OCFHCF2−、
などが挙げられる。
R41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数1〜6のアルキル基、またはC1−6アルコキシ基好ましくはメチル基であり;
各XA基において、Tのうち任意のいくつかは、分子主鎖のRF1またはRF2に結合する以下の基:
−CH2O(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3−、
−CF2O(CH2)3−、
−(CH2)2−、
−(CH2)3−、
−(CH2)4−、
−CONH−(CH2)3−、
−CON(CH3)−(CH2)3−、
−CON(Ph)−(CH2)3−(式中、Phはフェニルを意味する)、または
であり、別のTのいくつかは、分子主鎖のRSiに結合し、存在する場合、残りのTは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、C1−6アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。
R25は、少なくとも1つのRF1に結合し、R26およびR27は、それぞれ、少なくとも1つのRSiに結合する。]
Rf5−(OC4F8)a’−(OC3F6)b’−(OC2F4)c’−(OCF2)d’−Rf6 ・・・(3)
式中、Rf5は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基(好ましくは、C1―16のパーフルオロアルキル基)を表し、Rf6は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基(好ましくは、C1−16パーフルオロアルキル基)、フッ素原子または水素原子を表し、Rf5およびRf6は、より好ましくは、それぞれ独立して、C1−3パーフルオロアルキル基である。
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1、好ましくは1〜300、より好ましくは20〜300である。添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−(OC4F8)−は、−(OCF2CF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2CF2)−、−(OCF2CF(CF3)CF2)−、−(OCF2CF2CF(CF3))−、−(OC(CF3)2CF2)−、−(OCF2C(CF3)2)−、−(OCF(CF3)CF(CF3))−、−(OCF(C2F5)CF2)−および(OCF2CF(C2F5))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2CF2CF2)−である。−(OC3F6)−は、−(OCF2CF2CF2)−、−(OCF(CF3)CF2)−および(OCF2CF(CF3))−のいずれであってもよく、好ましくは−(OCF2CF2CF2)−である。−(OC2F4)−は、−(OCF2CF2)−および(OCF(CF3))−のいずれであってもよいが、好ましくは−(OCF2CF2)−である。
Rf5−(OCF2CF2CF2)b”−Rf6 ・・・(3a)
Rf5−(OCF2CF2CF2CF2)a”−(OCF2CF2CF2)b”−(OCF2CF2)c”−(OCF2)d”−Rf6 ・・・(3b)
これら式中、Rf5およびRf6は上記の通りであり;式(3a)において、b”は1以上100以下の整数であり;式(3b)において、a”およびb”は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c”およびd”はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a”、b”、c”、d”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
RF1は、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
RF2は、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RSiは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
少なくとも1つのRSiは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
αは、1〜9の整数であり;
βは、1〜9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である。
表面処理層の原子組成および構成原子の比率を測定するためのX線光電子分光分析法を行う装置としては、XPS,アルバック・ファイ社製 PHI5000VersaProbeIIを使用することができる。XPS分析の測定条件としては、X線源に単色化AlKα線を25W、光電子検出面積を1400μm×300μm,光電子検出角を20度、45度、90度、パスエネルギーを23.5eVとし、スパッタイオンにはArイオンを用いることが可能である。上記装置、測定条件により、C1s、O1s、F1s、Si2p軌道、および金属原子の適切な軌道のピーク面積を観測し、炭素、酸素、フッ素、ケイ素、および金属原子の原子比を算出することにより積層体の組成を求めることができる。金属原子の適切な軌道としては、例えば、原子番号5(B)は1s軌道、原子番号13〜14、21〜31(Al〜Si、Sc〜Ga)は2p軌道、原子番号32〜33、39〜52(Ge〜As、Y〜Te)は3d軌道、原子番号72〜83(Hf〜Bi)は4f軌道が挙げられる。
また、表面処理層の深さ方向の分析を実施することも可能である。XPS分析の測定条件としては、X線源に単色化AlKα線を25Wで用い、光電子検出面積を1400μm×300μm,光電子検出角を45度、パスエネルギーを23.5eVとし、スパッタイオンにはArイオンを用いることができる。Arイオンによるスパッタリングによって積層体表層を1〜100nmエッチングし、それぞれのエッチング後の深さにおいて、C1s、O1s、F1s、Si2p軌道、および金属原子の適切な軌道のピーク面積を観測し、炭素、酸素、フッ素、ケイ素、および金属原子の原子比を算出することにより積層体内部の組成を求めることができる。金属原子の適切な軌道としては、例えば、原子番号5(B)は1s軌道、原子番号13〜14、21〜31(Al〜Si、Sc〜Ga)は2p軌道、原子番号32〜33、39〜52(Ge〜As、Y〜Te)は3d軌道、原子番号72〜83(Hf〜Bi)は4f軌道が挙げられる。
基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、周期表の3族〜11族の遷移金属原子、および12〜15族の典型金属原子から選択される1種またはそれ以上の金属原子を含む、物品の製造方法であって、
上記基材上に、上記含フッ素シラン化合物および上記金属原子を含む金属化合物を含む表面処理剤を用いて、上記含フッ素シラン化合物および上記金属原子を含む金属化合物を蒸着させて、表面処理層を形成すること
を含む方法を提供する。
表面処理剤1〜4
下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、20質量%になるようにHFE7200を用いて希釈した溶液4gに対し、Ta(OCH2CH3)5(高純度化学研究所製)を、それぞれ、0.21g、0.12gおよび0.025gを添加して、表面処理剤1〜3を調製した。また、上記化合物を、20質量%になるようにHFE7200を用いて希釈して、比較例の表面処理剤4を調製した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)23CF2CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
上記で調製した表面処理剤1に、それぞれ、iso−プロパノール(東京化成工業製)を0.21g、CF3CF2CH2OH(ダイキン工業製)を0.21g加え、表面処理剤5および6を調製した。
上記で調製した表面処理剤1〜6を、それぞれ厚さ0.5mm、71.5mm×149.0mmの化学強化、表面研磨を実施してあるゴリラガラス3(コーニング社製)上に真空蒸着した。具体的には、表面処理剤1〜6(0.05g)を、それぞれ真空蒸着装置内の抵抗加熱ボートに充填し、真空蒸着装置内を圧力3.0×10−3Pa以下に排気した。次いで、上記ゴリラガラス3上に5nmの二酸化ケイ素膜を形成し、抵抗加熱ボートを昇温することで、化学強化ガラス上に成膜を行った。次に蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度150℃の雰囲気下で30分静置し、その後室温まで放冷させ、基材上に表面処理層を形成し、実施例1〜5(表面処理剤1〜3、5および6)および比較例1(表面処理剤4)の表面処理層付きガラス基体を得た。
上記で得られた表面処理層付きガラス基体について、それぞれ、次のように水接触角の測定、アルカリ試験、および摩擦耐久性の評価を行った。
直径1cmのPTFE(ポリテトラフルオロエチレン)製Oリングを、上記実施例1および比較例1のガラス基体の表面処理層を形成した表面に設置し、8NのNaOH溶液を上記Oリング内に滴下し、表面処理層の表面をアルカリ水溶液と接触させ、アルカリ浸漬試験に付した。アルカリ浸漬試験の20〜120分経過後にNaOH溶液をふき取り、純水、エタノールで洗浄したのちに、水に対する接触角を測定した。尚、水の静的接触角は、上記のアルカリ浸漬試験後のガラス基体の表面に対して、2μLの純水の水滴を着滴させ、接触角計(協和界面化学社製:自動接触角計 DropMaster701)を用いて、水に対する接触角を測定した。アルカリ浸漬試験後の水の静的接触角の測定箇所は5箇所で行った。浸漬時間と、5箇所の接触角平均値の関係を下記表1に示す。
表面処理層が形成されたサンプル物品を水平配置し、下記の摩擦子を表面処理層の表面に接触(接触面は直径1cmの円)させ、その上に5Nの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で摩擦子を40mm/秒の速度で往復させた。摩擦子を、最大10,000回往復させ、それぞれ、往復回数(摩擦回数)1000回毎に水の静的接触角(°)を測定した。水の静的接触角の測定値が80°未満となった時点で試験を中止した。尚、水の静的接触角の測定は、上記のアルカリ試験と同様に実施した。結果を、下記表2に示す。
下記に示すシリコーンゴム加工品の表面(直径1cm)を、下記に示す組成の人工汗に浸漬したコットンで覆ったものを摩擦子として用いた。
人工汗の組成:
無水リン酸水素二ナトリウム:2g
塩化ナトリウム:20g
85%乳酸:2g
ヒスチジン塩酸塩:5g
蒸留水:1Kg
シリコーンゴム加工品:
タイガースポリマー製、シリコーンゴム栓SR−51を、直径1cm、厚さ1cmの円柱状に加工したもの。
上記の処理されたガラス基体の表面処理層の表面組成を、X線光電子分光分析装置(XPS,アルバック・ファイ社製 PHI5000VersaProbeII)を用いて行った。XPS分析の測定条件は、下記の通りとした。
X線源:単色化AlKα線(25W)
光電子検出面積:1400μm×300μm
光電子検出角:45度
パスエネルギー:23.5eV
Claims (22)
- 含フッ素シラン化合物および金属化合物を含む表面処理剤であって、
該金属化合物に含まれる金属原子は、Ta、Nb、Zr、Mo、W、Cr、Hf、Al、Ti及びVから選択される1種またはそれ以上の金属原子であり、
前記含フッ素シラン化合物は、下記式(1)または(2):
RF1は、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
RF2は、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RSiは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
少なくとも1つのRSiは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
αは、1〜9の整数であり;
βは、1〜9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
式(1)および式(2)中、RSi βおよびRSi γ中、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子は2つ以上存在する。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、表面処理剤。 - Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、C1−16パーフルオロアルキル基であり、
Rf2は、各出現においてそれぞれ独立して、C1−6パーフルオロアルキレン基である、
請求項1に記載の表面処理剤。 - RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3RFa 6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
[式中、RFaは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0〜200の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は1以上であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのRFaが水素原子または塩素原子である場合、a、b、c、eおよびfの少なくとも1つは、1以上である。]
で表される基である、請求項1または2に記載の表面処理剤。 - RFaは、フッ素原子である、請求項3に記載の表面処理剤。
- RFは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)または(f5):
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは1〜200の整数である。]、
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1〜200の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10〜200の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]、
−(R6−R7)g− (f3)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
gは、2〜100の整数である。]、
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f4)
[式中、eは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f5)
[式中、fは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびeは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - RSiは、下記式(S1)、(S2)、(S3)、または(S4):
R11は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R12は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n1は、(SiR11 n1R12 3−n1)単位毎にそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
X11は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基であり;
R13は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、2以上の整数であり;
R14は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または−X11−SiR11 n1R12 3−n1であり;
R15は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数1〜6のアルキレン基または炭素数1〜6のアルキレンオキシ基であり;
Ra1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1−SiR21 p1R22 q1R23 r1であり;
Z1は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基であり;
R21は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1’−SiR21’ p1’R22’ q1’R23’ r1’であり;
R22は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R23は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
p1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z1’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基であり;
R21’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z1”−SiR22” q1”R23” r1”であり;
R22’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R23’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
p1’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q1’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r1’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z1”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基であり;
R22”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R23”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
q1”は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r1”は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Rb1は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
Rc1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
k1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m1は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Rd1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2−CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2’−CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z2’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R32’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
q2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R35は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Re1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数である。]
で表される基である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - α、β、およびγは、1である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- XAは、それぞれ独立して、3価の有機基であり、
αは1かつβは2であるか、αは2かつβは1であり、
γは2である、
請求項1〜6のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - アルコールをさらに含有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項1〜10のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- さらに溶媒を含む、請求項1〜11のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項1〜12のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 真空蒸着用である、請求項1〜13のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 請求項1〜14のいずれか1項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
- 基材と、該基材上に、請求項1〜14のいずれか1項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
- 基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、
前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、
Ta、Nb、Zr、Mo、W、Cr、Hf、Al、Ti及びVから選択される1種またはそれ以上の金属原子を含み、
前記含フッ素シラン化合物は、下記式(1)または(2):
RF1は、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
RF2は、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RSiは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
少なくとも1つのRSiは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
αは、1〜9の整数であり;
βは、1〜9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
式(1)および式(2)中、RSi βおよびRSi γ中、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子は2つ以上存在する。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である、
物品。 - 前記金属原子は、表面処理層中に、炭素、酸素、フッ素、ケイ素および金属原子の合計量に対して、0.03〜3at%含まれる、請求項17に記載の物品。
- 前記金属原子は、Taである、請求項17または18に記載の物品。
- 前記基材は、ガラス基材である、請求項16〜19のいずれか1項に記載の物品。
- 光学部材である、請求項16〜20のいずれか1項に記載の物品。
- 基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品の製造方法であって、
前記表面処理層は、含フッ素シラン化合物から形成され、Ta、Nb、Zr、Mo、W、Cr、Hf、Al、Ti及びVから選択される1種またはそれ以上の金属原子を含み、
前記含フッ素シラン化合物は、下記式(1)または(2):
RF1は、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
RF2は、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RSiは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または1価の有機基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
少なくとも1つのRSiは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
αは、1〜9の整数であり;
βは、1〜9の整数であり;
γは、それぞれ独立して、1〜9の整数であり;
式(1)および式(2)中、RSi βおよびRSi γ中、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子は2つ以上存在する。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物であり、
前記基材上に、前記含フッ素シラン化合物および前記金属原子を含む金属化合物を含む表面処理剤を用いて、前記含フッ素シラン化合物および前記金属原子を含む金属化合物を蒸着させて、表面処理層を形成すること
を含む方法。
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FR2886309B1 (fr) * | 2005-05-31 | 2007-08-17 | Airbus France Sas | Sol pour le revetement par voie sol-gel d'une surface et procede de revetement par voie sol-gel le mettant en oeuvre |
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