JP6828841B2

JP6828841B2 - 表面処理剤

Info

Publication number: JP6828841B2
Application number: JP2020084870A
Authority: JP
Inventors: 和希丸橋; 香織小澤; 尚志三橋
Original assignee: Daikin Industries Ltd
Current assignee: Daikin Industries Ltd
Priority date: 2019-05-29
Filing date: 2020-05-14
Publication date: 2021-02-10
Anticipated expiration: 2040-05-14
Also published as: KR20210134685A; US20220081574A1; CN113728034A; EP3978546A1; CN118027382A; WO2020241282A1; CN113728034B; TWI768351B; TW202104351A; KR102569913B1; JP7568924B2; JP2021063232A; EP3978546A4; JP2020196867A

Description

本開示は、表面処理剤に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１および２）。

特開２０１４−２１８６３９号公報特開２０１７−０８２１９４号公報

パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、撥水性、撥油性、防汚性などの機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性および透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されている。とりわけ、これら用途においては、繰り返し摩擦を受けてもかかる機能を維持し得るように摩擦耐久性が求められる。

本開示は、高い摩擦耐久性を有する層を形成することができるフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤を提供することを目的とする。

本開示は以下の態様を含む。
［１］下記式（１）または（２）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解可能な基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
少なくとも１つのＲ^Ｓｉは、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物、および塩素イオンを含む表面処理剤であって、該表面処理剤中の塩素イオン濃度が、０．１質量ｐｐｍ以上１．０質量ｐｐｍ以下である、表面処理剤。
［２］Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基である、上記［１］に記載の表面処理剤。
［３］Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基である、上記［１］または［２］に記載の表面処理剤。
［４］Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］〜［３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［５］Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［４］に記載の表面処理剤。
［６］Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］〜［５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［７］Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１’−ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１”−ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２’−ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。］
で表される基である、上記［１］〜［６］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［８］ α、β、およびγは、１である、上記［１］〜［７］のいずれかに記載の表面処理剤。
［９］Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３価の有機基であり、
αは１かつβは２であるか、αは２かつβは１であり、
γは２である、
上記［１］〜［７］のいずれかに記載の表面処理剤。
［１０］表面処理剤中の塩素イオン濃度が、０．２〜０．８質量ｐｐｍである、上記［１］〜［９］のいずれかに記載の表面処理剤。
［１１］含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記［１］〜［１０］のいずれかに記載の表面処理剤。
［１２］さらに溶媒を含む、上記［１］〜［１１］のいずれかに記載の表面処理剤。
［１３］防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、上記［１］〜［１２］のいずれかに記載の表面処理剤。
［１４］真空蒸着用である、上記［１］〜［１３］のいずれかに記載の表面処理剤。
［１５］上記［１］〜［１４］のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１６］基材と、該基材の表面に、上記［１］〜［１４］のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１７］光学部材である、上記［１６］に記載の物品。

本開示の表面処理剤は、塩素イオン濃度を０．１質量ｐｐｍ以上１．０質量ｐｐｍ以下の範囲とすることにより、摩擦耐久性に優れた表面処理層を形成することができる。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１−２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。

本開示の表面処理剤は、下記式（１）または（２）：

で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物を含み、表面処理剤中の塩素イオン濃度が、０．１質量ｐｐｍ以上１．０質量ｐｐｍ以下である。

上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基における「Ｃ_１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基における「Ｃ_１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。

上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０〜１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）〜（ｆ５）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］；
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］；または
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０、例えば２５〜３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−で表される基であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０〜２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ−である。

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２〜０．９５であり、より好ましくは０．２〜０．９である。

一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０〜２．０である。

上記フルオロポリエーテル基含有化合物において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。

上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解可能な基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、少なくとも１つのＲ^Ｓｉは、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｓｉは、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：

で表される基である。

上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１）または（Ｓ２）で表される基である場合、式（１）および式（２）の末端のＲ^Ｓｉ部分（以下、単に式（１）および式（２）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１〜３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）および式（２）の末端部分において、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

上記式中、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキレン基である。かかるＣ_１−２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または直鎖のＣ_１−６アルキレン基であり、好ましくは単結合または直鎖のＣ_１−３アルキレン基、より好ましくは単結合または直鎖のＣ_１−２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１−２アルキレン基である。

上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基である。かかるＣ_１−２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または直鎖のＣ_１−６アルキル基であり、好ましくは水素原子または直鎖のＣ_１−３アルキル基、好ましくは水素原子またはメチル基である。

上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数である。

好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜６の整数である。

上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

上記Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ^１−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ２−（式中、ｚ１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ３−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−（式中、ｚ３は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ３−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１’−ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ^１’−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ１’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ２’−（式中、ｚ１’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ３’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４’−（式中、ｚ３’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ３’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４’−である。Ｚ^１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１”−ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ^１”−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ１”−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ２”−（式中、ｚ１”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ３”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４”−（式中、ｚ３”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ３”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４”−である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。

上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１’は、０である。

一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１は、０である。

一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。

上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

上記式（１）および（２）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１）および式（２）の末端部分において、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、−Ｚ^１−ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０〜２の整数である。）、−Ｚ^１’−ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０〜２の整数である。）、または−Ｚ^１”−ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０〜２の整数である。）のいずれか１つを有する。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２または３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２または３、好ましくは３である。

Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６−（式中、ｚ５は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ７−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−（式中、ｚ７は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２’−ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６’−（式中、ｚ５’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−（式中、ｚ７’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２である。

上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）に結合する。

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５”−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６”−（式中、ｚ５”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−（式中、ｚ７”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基である。

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解可能な基である。

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１）および式（２）の末端部分において、ｎ２が１〜３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）および式（２）の末端部分において、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２である。かかる−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２およびｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

一の態様において、ｐ２は、０である。

一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２’は、３である。

一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２である。かかる−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解可能な基を除く１価の有機基である。

上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２およびｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１〜３、好ましくは２または３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位は、式（１）および式（２）の各末端部分において、２個以上、例えば２〜２７個、好ましくは２〜９個、より好ましくは２〜６個、さらに好ましくは２〜３個、特に好ましくは３個存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２または３、好ましくは３であり、ｎ２は、２または３、好ましくは３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解可能な基を有することから、基材に強く密着し、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子またはＣ原子から分岐した複数の加水分解可能な基を有し得ることから、さらに高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

上記式（１）および（２）において、Ｘ^Ａは、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１）および（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

上記式（１）において、αは１〜９の整数であり、βは１〜９の整数である。これらαおよびβは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。αおよびβの和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。

上記式（２）において、γは１〜９の整数である。γは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；

上記Ｘ^Ａにおける２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜８価の有機基である。一の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは３〜８価の有機基、より好ましくは３〜６価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合または２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合または２価の有機基であり、γは１である。

一の態様において、Ｘ^Ａは３〜６価の有機基であり、αは１であり、βは２〜５である。

一の態様において、Ｘ^Ａは３〜６価の有機基であり、γは２〜５である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、γは２である。

Ｘ^Ａが、単結合または２価の有機基である場合、式（１）および（２）は、下記式（１’）および（２’）で表される。

一の態様において、Ｘ^Ａは単結合である。

別の態様において、Ｘ^Ａは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば、単結合または下記式：
−（Ｒ^５１）_ｐ５−（Ｘ^５１）_ｑ５−
［式中：
Ｒ^５１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ５−であり、
ｓ５は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^５１は、−（Ｘ^５２）_ｌ５−を表し、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、−ＣＯＮＲ^５４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−、−ＮＲ^５４−および−（ＣＨ_２）_ｎ５−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ５は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^Ａ（典型的にはＸ^Ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ａは、これらの基により置換されていない。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、−（Ｒ^５１）_ｐ５−（Ｘ^５１）_ｑ５−Ｒ^５２−である。Ｒ^５２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ５−である。ｔ５は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５６は、これらの基により置換されていない。

好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^５１−Ｘ^５３−Ｒ^５２−、または
−Ｘ^５４−Ｒ^５−
［式中、Ｒ^５１およびＲ^５２は、上記と同意義であり、
Ｘ^５３は、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−、
−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−Ｎ（Ｒ^５４）−、または
−ＣＯＮＲ^５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−
（式中、Ｒ^５３、Ｒ^５４およびｍ５は、上記と同意義であり、
ｕ５は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。）を表し、
Ｘ^５４は、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５４）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５４）_２−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−Ｎ（Ｒ^５４）−、または
−ＣＯＮＲ^５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^５４）_２−
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−
−Ｘ^５４−、または
−Ｘ^５４−（ＣＨ_２）_ｔ５−
［式中、Ｘ^５３、Ｘ^５４、ｓ５およびｔ５は、上記と同意義である。］
である。

より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−、または
−Ｘ^５４−（ＣＨ_２）_ｔ５−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−
［式中、
Ｘ^５３は、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
ｔ５は、１〜２０の整数である。］
であり得る。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ５−、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ５−、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ５−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（ＣＨ_２）_u５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５およびｕ５は、上記と同意義であり、ｖ５は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

尚、上記Ｘ^Ａは、各式の左側がＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合し、右側がＲ^Ｓｉに結合する。

一の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、−Ｏ−Ｃ_１−６アルキレン基以外であり得る。

別の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合し、Ｅは、Ｒ^Ｓｉに結合する。］

上記Ｘ^Ａの具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−ＣＨ_２−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_２−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_４−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_５−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

さらに別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、式：−（Ｒ^１６）_ｘ１−（ＣＦＲ^１７）_ｙ１−（ＣＨ_２）_ｚ１−で表される基である。式中、ｘ１、ｙ１およびｚ１は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ１、ｙ１およびｚ１の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^１８−（式中、Ｒ^１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１８は、酸素原子または２価の極性基である。

上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^１９）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１９−（これらの式中、Ｒ^１９は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^Ａ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲ^Ｓｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、

が挙げられる。

この態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。

［式中、Ｒ^２５、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して２〜６価の有機基であり、
Ｒ^２５は、少なくとも１つのＲ^Ｆ１に結合し、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲ^Ｓｉに結合する。］

一の態様において、上記Ｒ^２５は、単結合、Ｃ_１−２０アルキレン基、Ｃ_３−２０シクロアルキレン基、Ｃ_５−２０アリーレン基、−Ｒ^５７−Ｘ^５８−Ｒ^５９−、−Ｘ^５８−Ｒ^５９−、または−Ｒ^５７−Ｘ^５８−である。上記、Ｒ^５７およびＲ^５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１−２０アルキレン基、Ｃ_３−２０シクロアルキレン基、またはＣ_５−２０アリーレン基である。上記Ｘ^５８は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯＯ−である。

一の態様において、上記Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して、炭化水素、または炭化水素の端または主鎖中にＮ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ_１−６アルキル基、−Ｒ^３６−Ｒ^３７−Ｒ^３６−、−Ｒ^３６−ＣＨＲ^３８ _２−などが挙げられる。ここに、Ｒ^３６は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ^３７は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＮまたはＯである。Ｒ^３８は、−Ｒ^４５−Ｒ^４６−Ｒ^４５−、−Ｒ^４６−Ｒ^４５−または−Ｒ^４５−Ｒ^４６−である。ここに、Ｒ^４５は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ^４６は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＯである。

上記式（１）または式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３２，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「平均分子量」は、数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

一の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（２）で表される化合物である。

別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物および式（２）で表される化合物である。

本開示の表面処理剤中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％または１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下または５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、より摩擦耐久性を向上させることができる。

上記の式（１）または（２）で表される化合物は、例えば、上記特許文献１、特許文献２等に記載の方法により得ることができる。

本開示の表面処理剤に含まれるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、例えば、Ｓｉ原子に加水分解可能な基を導入する際に、トリクロロシラン誘導体に対して、加水分解可能な基を導入できる化合物、例えばメタノールを反応させることにより製造される。このように製造された場合、表面処理剤中にはある程度の塩素イオンが存在し得る。本発明者らは、表面処理剤中に含まれる塩素イオンが表面処理剤の機能に影響を与えることに気付いた。特に、表面処理剤中に含まれる塩素イオンが１．０質量ｐｐｍを超えると、加水分解可能な基を有するシラン部分の安定性が低下し、基材との反応点が減少し、得られる表面処理層の摩擦耐久性が低下し得る。また、塩素イオンを含むことによる金属腐食の懸念も生じる。さらに、表面処理剤中に含まれる塩素イオンが０．１質量ｐｐｍ未満になると、塩素イオンが有する触媒効果が十分に得られず、得られる表面処理剤の密着性が低下し、摩擦耐久性が低下し得る。そこで、本発明者らは、表面処理剤中の塩素イオン濃度を所定０．１質量ｐｐｍ以上１．０質量ｐｐｍに調整することにより、上記のような問題を回避できることを見出し、本開示の表面処理剤を発明するに至った

本開示の表面処理剤は、表面処理剤中の塩素イオン濃度が、０．１質量ｐｐｍ以上１．０質量ｐｐｍ以下である。塩素イオン濃度を１．０質量ｐｐｍ以下とすることにより、得られる表面処理層の摩擦耐久性を高めることができる。さらに、保存に有利であり、処理時の装置への悪影響、例えば金属部品の腐食を抑制することができる。また、塩素イオン濃度を０．１質量ｐｐｍ以上とすることにより、得られる表面処理層の摩擦耐久性を高めることができる。

上記塩素イオン濃度は、１．０質量ｐｐｍ以下、好ましくは０．８０質量ｐｐｍ以下、より好ましくは０．７０質量ｐｐｍ以下であり得る。

上記塩素イオン濃度は、０．１質量ｐｐｍ以上、より好ましくは０．２質量ｐｐｍ以上であり得る。

一の態様において、上記塩素イオン濃度は、好ましくは０．２０〜０．８０質量ｐｐｍ、例えば０．２０〜０．７０質量ｐｐｍ、０．３０〜０．８０質量ｐｐｍ、または０．３０〜０．７０質量ｐｐｍであり得る。

本開示の表面処理剤に含まれる塩素イオン濃度は、イオンクロマトグラフィーにより測定することができる。具体的には、イオンクロマトグラフィーによる塩素イオン濃度の測定は、例えば、イオンクロマトグラフ装置により塩素イオンを測定し、外部標準法により塩素イオン濃度を決定することができる。イオン濃度測定サンプルは、例えば、試料をＨＦＥ７３００等のハイドロフルオロエーテルで希釈し、ついで、超純粋を加えて水層へ塩素イオンを抽出することにより調製することができる。装置および条件としては、例えば以下のものが例示される。
装置名：ＤｉｏｎｅｘＩＣＳ−２１００（ＴｈｅｍｏＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ）
カラム：ＤｉｏｎｅｘＩｏｎＰａｃＡＳ２０
温度：３０℃
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度

本開示の表面処理剤に含まれる塩素イオン濃度は、塩素イオン濃度が高い組成物を精製することにより、あるいは塩素または塩素イオンを生じる化合物（例えばＨＣｌ、−ＳｉＣｌ_３基を有する化合物）を添加することにより、本開示の表面処理剤における塩素イオン濃度に調製することができる。

上記精製方法としては、例えば、塩素イオン濃度が高い組成物に、金属もしくは金属化合物を加え、加熱する方法、過剰量のアルコールで洗浄する方法、金属アルコキシドで処理する方法、または陰イオン性交換樹脂に付す方法が挙げられる。

上記金属としては、亜鉛、マグネシウム、アルミニウム等が挙げられる。

上記金属化合物としては、有機金属化合物、好ましくは有機亜鉛化合物、例えばジメチル亜鉛、オクテン酸亜鉛等が挙げられる。

上記金属および金属化合物は、好ましくは粉末の形態で用いられる。

上記アルコールとしては、エタノール、プロパノール等の炭化水素系アルコールが挙げられる。

上記金属アルコキシドとしては、ナトリウムメトキシド、カリウムエトキシド等の塩基性金属アルコキシドが挙げられる。

本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、３−ペンタノール、オクチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６・・・（３）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−Ｒｆ^６・・・（３ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”−（ＯＣＦ_２）_ｄ”−Ｒｆ^６・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３−Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

上記含フッ素オイルは、５００〜１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

含フッ素オイルは、本開示の組成物に対して、例えば０〜５０質量％、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性および高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

含フッ素オイルは、本開示の組成物によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

以下、本開示の物品について説明する。

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。

本開示の表面処理剤の層形成は、上記の組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

すなわち本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物またはフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む組成物の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する各繰り返し単位の存在順序は任意である。

下記において、塩素イオン濃度の測定は、下記の分析方法で行った。
・分析方法
イオンクロマトグラフィー
塩素イオン濃度の分析は、イオンクロマトグラフ装置により塩素イオンを測定し、外部標準法により濃度を決めた。
装置名：ＤｉｏｎｅｘＩＣＳ−２１００（ＴｈｅｍｏＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ）
カラム：ＤｉｏｎｅｘＩｏｎＰａｃＡＳ２０
温度：３０℃
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度
イオン濃度測定サンプルは、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物をＮｏｖｅｃ社製のＨＦＥ７３００で１０ｗｔ％希釈し、続いて超純水を加え、水層へ塩素イオンを抽出することで調製した。

合成例１
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、下記の末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）２０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２０ｇを仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、アリルマグネシウムブロマイドを０．７ｍｏｌ／Ｌ含むジエチルエーテル溶液を３５．２ｍｌ加えた後、室温まで昇温させ、この温度にて１０時間撹拌した。その後、５℃まで冷却し、メタノールを５ｍｌ加えた後、室温まで昇温させて不溶物をろ過した。続いて、減圧下で揮発分を留去した後、不揮発分をパーフルオロヘキサンで希釈し、分液ロートでメタノールによる洗浄操作（より詳細には、パーフルオロヘキサン相（フルオラス相）にフルオロ系化合物を維持し、メタノール相（有機相）に非フルオロ系化合物を分離除去する操作）を３回行った。続いて、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）を含む生成物（Ｂ）１８ｇを得た。
パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ａ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂SiCl₃
パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH=CH₂)₃

合成例２
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）を含む生成物（Ｂ）１５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリアセトキシメチルシラン０．０５ｇ、トリクロロシラン４．２ｇ仕込み、窒素気流下、５℃で３０分間撹拌した。続いて、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体を２％含むキシレン溶液を０．１５ｍｌ加えた後、６０℃まで昇温させ、この温度にて５時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリクロロシランを有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）を含む生成物（Ｃ）１６ｇを得た。
パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃

合成例３
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例２にて合成した末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｃ）を含む生成物（Ｃ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１６ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール１．０４ｇとオルソギ酸トリメチル４８ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）を含む生成物（Ｄ）１６ｇを得た。
パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂CH₂OCH₂CH₂CH₂Si[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃
（なお、平均組成としては、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位が０．１７個および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）

合成例４
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、下記の末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）２１ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２１ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール１．３４ｇとオルソギ酸トリメチル６４ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）を含む生成物（Ｆ）２１ｇを得た。
パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｅ）：
CF₃O(CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂O)₃CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CONHCH₂C(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₃
パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）：
CF₃O(CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂O)₃CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CONHCH₂C[CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₃

合成例５
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、下記の末端にトリクロロシランを有するパーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）１６ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１６ｇを加え、窒素気流下、５０℃で３０分間撹拌した。続いて、メタノール１．０４ｇとオルソギ酸トリメチル４８ｇの混合溶液を加えた後、６５℃まで昇温させ、この温度にて３時間撹拌した。その後、室温まで冷却させて不溶物をろ過し、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）を含む生成物（Ｈ）１６ｇを得た。
パーフルオロポリエーテル基含有トリクロロシラン化合物（Ｇ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂C(OCH₂CH₂CH₂SiCl₃)(CH₂CH₂CH₂SiCl₃)₂
パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂C[OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃][CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃]₂
（なお、平均組成としては、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位が０．１７個および（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）

実施例１
合成例３で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）を含む生成物（Ｄ）５．０ｇをパーフルオロヘキサン１３ｇで希釈し、メタノール１．５ｇを加え、洗浄操作を３回行った。続いて、下相を濃縮することにより、パーフルオロポリエーテル基含有シラン組成物（Ｄ’）４．０ｇを得た。得られた組成物（Ｄ’）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は０．３質量ｐｐｍであった。

実施例２
合成例３で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）を含む生成物（Ｄ）１．０ｇをパーフルオロヘキサン４．０ｇで希釈し、続いて金属亜鉛粉末を３ｗｔ％加え、室温で２時間撹拌した。続いて固形分をろ過し、濃縮して得られた不揮発成分に対し、ＮＯＶＥＣ社製のＨＦＥ７３００９．０ｇで希釈し、大阪ガスケミカル社製の活性炭白鷺Ａを３ｗｔ％加え、室温で２時間撹拌した。その後、固形分をろ過し、濃縮することにより、パーフルオロポリエーテル基含有シラン組成物（Ｄ”）１．０ｇを得た。得られた組成物（Ｄ”）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は０．７質量ｐｐｍであった。

実施例３
合成例４で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）を含む生成物（Ｆ）５．０ｇを、実施例１と同様にメタノールにより洗浄した。得られた組成物（Ｆ’）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は０．２質量ｐｐｍであった。

実施例４
合成例４で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）を含む生成物（Ｆ）１．０ｇを、実施例２と同様に金属亜鉛粉末および活性炭により処理した。得られた組成物（Ｆ”）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は０．７質量ｐｐｍであった。

実施例５
合成例５で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）を含む生成物（Ｈ）５．０ｇを、実施例１と同様にメタノールにより洗浄した。得られた組成物（Ｈ’）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は０．２質量ｐｐｍであった。

実施例６
合成例５で得られたパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）を含む生成物（Ｈ）１．０ｇを、実施例２と同様に金属亜鉛粉末および活性炭により処理した。得られた組成物（Ｈ”）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は０．８質量ｐｐｍであった。

比較例１
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、合成例１にて合成した末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｂ）を含む生成物（Ｂ）１５ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１５ｇ、トリメトキシシラン３．０ｇ、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．５×１０^−２ｇ仕込み、窒素気流下、８０℃で１２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）を含む生成物（Ｐ）１５ｇを得た。得られた生成物（Ｐ）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は、０．１質量ｐｐｍ未満であった。

比較例２
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、下記の末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｉ）１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．０ｇ、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０^−２ｇ仕込み、窒素気流下、８０℃で１２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）を含む生成物（Ｑ）１５ｇを得た。得られた生成物（Ｑ）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は、０．１質量ｐｐｍ未満であった。
パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｉ）：
CF₃O(CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CF₂O)₃CF₂CF₂OCF₂CF₂CF₂CONHCH₂C(CH₂CH=CH₂)₃

比較例３
還流冷却器、温度計、撹拌機を取り付けた１００ｍＬの４つ口フラスコに、下記の末端にアリル基を有するパーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｊ）１０ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン１０ｇ、トリメトキシシラン２．０ｇ、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０^−２ｇ仕込み、窒素気流下、８０℃で１２時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去することにより、末端にトリメチルシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）を含む生成物（Ｒ）１５ｇを得た。得られた生成物（Ｒ）を上記イオンクロマトグラフィーで分析した結果、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中、塩素イオン濃度は、０．１質量ｐｐｍ未満であった。
パーフルオロポリエーテル基含有アリル体（Ｊ）：
CF₃O(CF₂CF₂O)₁₅(CF₂O)₁₆CF₂C(OCH₂CH=CH₂)(CH₂CH=CH₂)₂

比較例４
合成例３で得られた生成物（Ｄ）の未処理品を準備した。未処理の生成物（Ｄ）の塩素イオン濃度を上記イオンクロマトグラフィーで測定すると、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中６．７質量ｐｐｍであった。

比較例５
合成例４で得られた生成物（Ｆ）の未処理品を準備した。未処理の生成物（Ｆ）塩素イオン濃度を上記イオンクロマトグラフィーで測定すると、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中５．５質量ｐｐｍであった。

比較例６
合成例５で得られた生成物（Ｈ）の未処理品を準備した。未処理の生成物（Ｈ）塩素イオン濃度を上記イオンクロマトグラフィーで測定すると、ＨＦＥ７３００の１０ｗｔ％希釈溶液中８．７質量ｐｐｍであった。

（試験例）
・摩擦耐久性評価
上記の実施例１〜６および比較例１〜３のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物のＨＦＥ７３００中１０ｗｔ％希釈溶液を表面処理剤用いて、表面処理層を形成した。具体的には、上記表面処理剤を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、化学強化ガラス表面に７ｎｍの二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を０．２ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。

上記のように基材表面に形成された表面処理層について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（コクヨ株式会社製、ＫＥＳＨＩ−７０、平面寸法１ｃｍ×１．６ｃｍ）を表面処理層の表面に接触させ、その上に５００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数５００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、表３〜５に示す。

・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）

・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）

・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｈ）

上記の結果から、塩素イオン濃度が本開示の範囲内である組成物を用いた場合、より高い摩擦耐久性が得られることが確認された。本開示は、いかなる理論にも拘束されないが、塩素イオン濃度が１．０質量ｐｐｍを超える場合には、メトキシシラン部分の安定性が低下し、基材との反応点が減少し、表面処理層の摩擦耐久性が低くなると考えられる。塩素イオン濃度がが０．１以上１．０質量ｐｐｍ以下である場合には、微量の塩素イオン成分がガラスとの反応の際に触媒として働くため、密着性が向上し、摩擦耐久性が高くなると考えられる。さらに、塩素イオン濃度が０．１質量ｐｐｍ未満である場合、触媒効果が得られず、密着性が低下し、摩擦耐久性が低くなると考えられる。

本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims

下記式（１）または（２）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：

［式中：
Ｒ ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ ^１１ _ｎ１Ｒ ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘ ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ _１−２０アルキレン基であり；
Ｒ ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
Ｒ ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子であり；
Ｒ ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^１ −ＳｉＲ ^２１ _ｐ１Ｒ ^２２ _ｑ１Ｒ ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、Ｃ _１−６アルキレン基、−（ＣＨ _２） _ｚ１ −Ｏ−（ＣＨ _２） _ｚ２ −（式中、ｚ１は、０〜６の整数であり、ｚ２は、０〜６の整数である）、または、−（ＣＨ _２） _ｚ３ −フェニレン−（ＣＨ _２） _ｚ４ −（式中、ｚ３は、０〜６の整数であり、ｚ４は、０〜６の整数である）であり；
Ｒ ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^１’ −ＳｉＲ ^２１’ _ｐ１’ Ｒ ^２２’ _ｑ１’ Ｒ ^２３’ _ｒ１’ であり；
Ｒ ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ ^１’ は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ _１−６アルキレン基、−（ＣＨ _２） _ｚ１’ −Ｏ−（ＣＨ _２） _ｚ２’ −（式中、ｚ１’は、０〜６の整数であり、ｚ２’は、０〜６の整数である）または、−（ＣＨ _２） _ｚ３’ −フェニレン−（ＣＨ _２） _ｚ４’ −（式中、ｚ３’は、０〜６の整数であり、ｚ４’は、０〜６の整数である）であり；
Ｒ ^２１’ は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^１” −ＳｉＲ ^２２” _ｑ１” Ｒ ^２３” _ｒ１” であり；
Ｒ ^２２’ は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ ^２３’ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ ^１” は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ _１−６アルキレン基、−（ＣＨ _２） _ｚ１” −Ｏ−（ＣＨ _２） _ｚ２” −（式中、ｚ１”は、０〜６の整数であり、ｚ２”は、０〜６の整数である）または、−（ＣＨ _２） _ｚ３” −フェニレン−（ＣＨ _２） _ｚ４” −（式中、ｚ３”は、０〜６の整数であり、ｚ４”は、０〜６の整数である）であり；
Ｒ ^２２” は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ ^２３” は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^２ −ＣＲ ^３１ _ｐ２Ｒ ^３２ _ｑ２Ｒ ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ _１−６アルキレン基、−（ＣＨ _２） _ｚ５ −Ｏ−（ＣＨ _２） _ｚ６ −（式中、ｚ５は、０〜６の整数であり、ｚ６は、０〜６の整数である）または、−（ＣＨ _２） _ｚ７ −フェニレン−（ＣＨ _２） _ｚ８ −（式中、ｚ７は、０〜６の整数であり、ｚ８は、０〜６の整数である）であり；
Ｒ ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^２’ −ＣＲ ^３２’ _ｑ２’ Ｒ ^３３’ _ｒ２’ であり；
Ｒ ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^３ −ＳｉＲ ^３４ _ｎ２Ｒ ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ ^２’ は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ _１−６アルキレン基、−（ＣＨ _２） _ｚ５’ −Ｏ−（ＣＨ _２） _ｚ６’ −（式中、ｚ５’は、０〜６の整数であり、ｚ６’は、０〜６の整数である）または、−（ＣＨ _２） _ｚ７’ −フェニレン−（ＣＨ _２） _ｚ８’ −（式中、ｚ７’は、０〜６の整数であり、ｚ８’は、０〜６の整数である）であり；
Ｒ ^３２’ は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^３ −ＳｉＲ ^３４ _ｎ２Ｒ ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ ^３３’ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ _１−６アルキレン基、−（ＣＨ _２） _ｚ５” −Ｏ−（ＣＨ _２） _ｚ６” −（式中、ｚ５”は、０〜６の整数であり、ｚ６”は、０〜６の整数である）または、−（ＣＨ _２） _ｚ７” −フェニレン−（ＣＨ _２） _ｚ８” −（式中、ｚ７”は、０〜６の整数であり、ｚ８”は、０〜６の整数である）であり；
Ｒ ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基であり；
Ｒ ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^３ −ＳｉＲ ^３４ _ｎ２Ｒ ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基またはＣ _１−２０アルキル基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
前記加水分解可能な基は、−ＯＲ ^ｈ、−ＯＣＯＲ ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ ^ｈ _２、−ＮＲ ^ｈ _２、−ＮＨＲ ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ ^ｈは、置換または非置換のＣ _１−４アルキル基を示す）である。］
で表される基であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合、下記式：
−（Ｒ ^５１） _ｐ５ −（Ｘ ^５１） _ｑ５ −
［式中：
Ｒ ^５１は、単結合、−（ＣＨ _２） _ｓ５ −またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
Ｘ ^５１は、−（Ｘ ^５２） _ｌ５ −を表し、
Ｘ ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ ^５３） _２ −、−（Ｓｉ（Ｒ ^５３） _２Ｏ） _ｍ５ −Ｓｉ（Ｒ ^５３） _２ −、−ＣＯＮＲ ^５４ −、−Ｏ−ＣＯＮＲ ^５４ −、−ＮＲ ^５４ −および−（ＣＨ _２） _ｎ５ −からなる群から選択される基を表し、
Ｒ ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ _１−６アルキル基またはＣ _１−６アルコキシ基を表し、
Ｒ ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ _１−６アルキル基を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
ｌ５は、１〜１０の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基、
下記式：

［式中、
Ｒ ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ _１−６アルコキシ基であり；
各Ｘ ^Ａ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲ ^Ｆ１またはＲ ^Ｆ２に結合する以下の基：
−ＣＨ _２Ｏ（ＣＨ _２） _２ −、
−ＣＨ _２Ｏ（ＣＨ _２） _３ −、
−ＣＦ _２Ｏ（ＣＨ _２） _３ −、
−（ＣＨ _２） _２ −、
−（ＣＨ _２） _３ −、
−（ＣＨ _２） ₄ −、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ _２） _３ −、
−ＣＯＮ（ＣＨ _３）−（ＣＨ _２） _３ −、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ _２） _３ −（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ _１−６のアルキル基またはＣ _１−６のアルコキシ基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲ ^Ｓｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ _１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。］
で表される３〜１０価の有機基、または
下記式：

［式中、
Ｒ ^２５は、単結合、Ｃ _１−２０アルキレン基、Ｃ _３−２０シクロアルキレン基、Ｃ _５−２０アリーレン基、−Ｒ ^５７ −Ｘ ^５８ −Ｒ ^５９ −、−Ｘ ^５８ −Ｒ ^５９ −、または−Ｒ ^５７ −Ｘ ^５８ −であり、
Ｒ ^５７およびＲ ^５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ _１−２０アルキレン基、Ｃ _３−２０シクロアルキレン基、またはＣ _５−２０アリーレン基であり、
Ｘ ^５８は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯＯ−であり、
Ｒ ^２６およびＲ ^２７は、それぞれ独立して、Ｃ _１−６アルキル基、−Ｒ ^３６ −Ｒ ^３７ −Ｒ ^３６ −、または−Ｒ ^３６ −ＣＨＲ ^３８ _２ −であり、
Ｒ ^３６は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキル基であり、
Ｒ ^３７は、Ｎ、ＯまたはＳであり、
Ｒ ^３８は、−Ｒ ^４５ −Ｒ ^４６ −Ｒ ^４５ −、−Ｒ ^４６ −Ｒ ^４５ −または−Ｒ ^４５ −Ｒ ^４６ −であり、Ｒ ^４５は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基であり、
Ｒ ^４６は、Ｎ、ＯまたはＳであり、
Ｒ ^２５は、少なくとも１つのＲ ^Ｆ１に結合し、Ｒ ^２６およびＲ ^２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲ ^Ｓｉに結合する。］
で表される３価の有機基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有化合物、および塩素イオンを含む表面処理剤であって、該表面処理剤中の塩素イオン濃度が、０．１質量ｐｐｍ以上１．０質量ｐｐｍ以下である、表面処理剤。
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基である、請求項１に記載の表面処理剤。
Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項４に記載の表面処理剤。
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）：
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
［式中、ｄは１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０〜３０の整数であり；
ｅおよびｆは、それぞれ独立して、１〜２００の整数であり；
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、１０〜２００の整数であり；
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり；
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２または３つの基の組み合わせであり；
ｇは、２〜１００の整数である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
α、β、およびγは、１である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３価の有機基であり、
αは１かつβは２であるか、αは２かつβは１であり、
γは２である、
請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
表面処理剤中の塩素イオン濃度が、０．２〜０．８質量ｐｐｍである、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
さらに溶媒を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
真空蒸着用である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
基材と、該基材の表面に、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
光学部材である、請求項１５に記載の物品。