WO2023210654A1

WO2023210654A1 - フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物

Info

Publication number: WO2023210654A1
Application number: PCT/JP2023/016341
Authority: WO
Inventors: 裕介渡邊; 健前平; 恒雄山下; 尚志三橋
Original assignee: ダイキン工業株式会社
Priority date: 2022-04-27
Filing date: 2023-04-25
Publication date: 2023-11-02
Also published as: TW202402880A; JP2023163158A

Abstract

本発明は、成分（Ｂ）：式（Ｂ１）又は（Ｂ２）［式中、各記号は明細書の記載の通りである。］で表されるフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物を提供する。 RFB1-XB-CONRB1RB2 (B1) RB2RB1NOC-XB-RFB2-XB-CONRB1RB2 (B2)

Description

フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物

　本開示は、フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物、及びかかる化合物を含む表面処理剤に関する。

　ある種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている（特許文献１）。

特開２０１４－２１８６３９号公報

　特許文献１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層が求められている。

　本開示は、摩擦耐久性がより高い表面処理層を有する物品を提供することを目的とする。

　本開示は、以下の態様を含む。
［１］　成分（Ｂ）：式（Ｂ１）又は（Ｂ２）：

［式中：
　Ｒ^ＦＢ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^ＦＢ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｐは、０又は１であり、
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり、
　Ｒ^Ｂ１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基であり、
　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、水素原子、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［２］　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［３］　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基である、請求項１又は２に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［４］　前記オキシアルキレン含有基は、それぞれ独立して、下記式：
　　　－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２、又は
　　　－Ｘ^Ｅ（－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２）_ｒ２
［式中：
　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　ｂ３は、それぞれ独立して、１～６の整数であり、
　Ｘ^Ｅは、３～１０価の基であり、
　ｒ２は、２～９の整数であり、Ｘ^Ｅの価数より１小さい。］
で表される基である、請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［５］　前記オキシアルキレン含有基は、それぞれ独立して、下記式：
　　　－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２
［式中：
　Ｒ^６１は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６２は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　ｂ３は、１～６の整数である。］
で表される基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［６］　Ｒ^６３は、Ｃ_１－３アルキレン基である、請求項４又は５に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［７］　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は、－（Ｒ^６７）_ｂ１－（Ｒ^６８）_ｂ２－
［式中：
　Ｒ^６７は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６８は、それぞれ独立して、酸素原子、硫黄原子、ＣＯ、ＮＲ^６９、ＣＯＮＲ^６９、ＮＲ^６９ＣＯ、又はＣ_６－１２アリーレン基であり、
　Ｒ^６９は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｂ１は、０～６の整数で有り、
　ｂ２は、０～６の整数で有り、
　ｂ１及びｂ２の合計は、１以上であり、
　ｂ１又はｂ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である、請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［８］　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－６アルキレン基、又は、－Ｒ^６４－Ｏ－Ｒ^６５－であり、
　Ｒ^６４は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６５は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である、
請求項１～７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［９］　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　Ｒ^Ｆａは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１～８のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［１０］　Ｒｆ^１は、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１～９のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［１１］　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）、又は（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
［１２］　成分（Ａ）：フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、及び
　成分（Ｂ）：請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物
を含む、表面処理剤。
［１３］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：

［式中：
　Ｒ^ＦＡ１は、それぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^ＦＡ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｐは、０又は１であり、
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
　少なくとも１つのＲ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の基であり、
　α１は、１～９の整数であり、
　β１は、１～９の整数であり、
　γ１は、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される化合物である、請求項１２に記載の表面処理剤。
［１４］　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　Ｒ^Ｆａは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１３に記載の表面処理剤。
［１５］　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒｆ^１は、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１３又は１４に記載の表面処理剤。
［１６］　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）、又は（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１３～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１７］　Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり、
　Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合又は２価の基であり、
　Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｔは、それぞれ独立して、２以上の整数であり、
　Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、
　Ｒ^１５は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基、又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり、
　Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、それぞれ独立して、２価の基であり、
　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｐ１、ｑ１及びｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３であり、
　Ｚ^１’は、それぞれ独立して、２価の基であり、
　Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｐ１’、ｑ１’及びｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３であり、
　Ｚ^１”は、それぞれ独立して、２価の基であり、
　Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ１”及びｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３であり、
　Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３であり、
　Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、２価の基であり；
　Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
　Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり、
　ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３であり、
　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり；
　Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
　Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり、
　ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ２’及びｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３であり、
　Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり；
　Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^３５は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｎ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
　Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり、
　ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３であり、
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり、
　Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり、
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、請求項１３～１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１８］　α１、β１、及びγ１は、１であり、Ｘ^Ａは、単結合又は２価の基である、請求項１３～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１９］　Ｘ^Ａは、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
　Ｘ^５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ５は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり、
　右側がＲ^Ｓｉに結合する。］
で表される２価の基である、請求項１３～１８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２０］　Ｘ^Ａは、下記式：

［式中、Ｘ^ａは、単結合又は２価の基である。］
で表される基である、請求項１３～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２１］　前記成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対して、１～７０質量％である、請求項１２～２０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２２］　前記成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対して、１～５０質量％である、請求項１２～２１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２３］　含フッ素オイル、シリコーンオイル、アルコール、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１２～２２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２４］　さらに溶媒を含む、請求項１２～２３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２５］　防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、請求項１２～２４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［２６］　請求項１２～２５のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
［２７］　基材と、該基材上に、請求項１２～２５のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２８］　前記基材は、ガラス基材である、請求項２７に記載の物品。
［２９］　光学部材である、請求項２７に記載の物品。

　本開示によれば、より高い摩擦耐久性を有する表面処理層を与えることができる表面処理剤を提供することができる。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、例えば、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。３価以上の有機基も同様に、有機基から所定の数の水素原子を脱離させた基を意味する。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。炭化水素基は、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

　本明細書において、「加水分解性基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ１、－ＯＣＯＲ^ｈ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ１ _２、－ＮＲ^ｈ１ _２、－ＮＨＲ^ｈ１、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈ１は、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ^ｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈ１の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。

（表面処理剤）
　本開示の表面処理剤は、
　成分（Ａ）：フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、及び
　成分（Ｂ）：式（Ｂ１）又は（Ｂ２）：

［式中：
　Ｒ^ＦＢ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^ＦＢ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｐは、０又は１であり、
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり、
　Ｒ^Ｂ１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基であり、
　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物
を含む。

　本開示の表面処理剤は、成分（Ｂ）であるフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物を含むことにより、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を与えることができる。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、フルオロポリエーテル基及び加水分解性シラン基を含む化合物である。

　一の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：
［式中：
　Ｒ^ＦＡ１は、それぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^ＦＡ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｐは、０又は１であり、
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
　少なくとも１つのＲ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の基であり、
　α１は、１～９の整数であり、
　β１は、１～９の整数であり、
　γ１は、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である。

　式（Ａ１）において、Ｒ^ＦＡ１は、それぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　式（Ａ２）において、Ｒ^ＦＡ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒｆ^１は、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

　上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

　Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

　上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

　上記式において、ｑは、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

　Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
　Ｒ^Ｆａは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。

　Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは０～１００の整数、より好ましくは０～５０の整数であってもよい。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは２０以上であり、例えば２５以上又は３０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよく、環構造を含んでいてもよい。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

　上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

　上記環構造は、好ましくは四員環、五員環、又は六員環、より好ましくは四員環、又は六員環であり得る。

　環構造を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記の単位であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

　一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

　一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ６）のいずれかで表される基である。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１、好ましくは０である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
　ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）におけるＯＣ_３Ｆ_６は、好ましくは（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）、（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）又は（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））であり、より好ましくは（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）である。一の態様において、ｅは０である。別の態様において、ｅは１である。上記式（ｆ１）における（ＯＣ_２Ｆ_４）は、好ましくは（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）又は（ＯＣＦ（ＣＦ_３））であり、より好ましくは（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）である。

　上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６又はＯＣ_４Ｆ_８である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及び－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－又は－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

　上記式（ｆ４）において、Ｒ^６、Ｒ^７及びｇは、上記式（ｆ３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^６’、Ｒ^７’及びｇ’は、それぞれ、上記式（ｆ３）に記載のＲ^６、Ｒ^７及びｇと同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^ｒは、好ましくは、

［式中、＊は、結合位置を示す。］
であり、より好ましくは

［式中、＊は、結合位置を示す。］
である。

　上記式（ｆ５）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ６）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）又は（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ６）で表される基である。

　Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、好ましくは０．１～１０であり、より好ましくは０．２～５であり、さらに好ましくは０．２～２であり、さらにより好ましくは０．２～１．５であり、特に好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上し得る。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩擦耐久性はより向上し得る。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性がより向上し得る。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上し得る。

　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上、より好ましくは１．０～２．０であり得る。

　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、Ｒ^ＦＡ１及びＲ^ＦＢ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^ＦＡ１及びＲ^ＦＡ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、少なくとも１つのＲ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

　好ましい態様において、Ｒ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基、より好ましくは加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

　好ましい態様において、Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：
で表される基である。

　上記式中、Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ１、－ＯＣＯＲ^ｈ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ１、－ＮＲ^ｈ１ _２、－ＮＨＲ^ｈ１、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈ１は、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈ１は、メチル基である。別の態様において、Ｒ^ｈ１は、エチル基である。

　上記式中、Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の基である。かかる１価の基は、上記水素原子、水酸基及び加水分解性基を除く１価の基である。

　上記１価の基は、好ましくは１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^１２において、１価の基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１）又は（Ｓ２）で表される基である場合、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の末端のＲ^Ｓｉ部分（以下、単に式（Ａ１）及び式（Ａ２）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数、より好ましくは２又は３、さらに好ましくは３である。

　上記式中、Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合又は２価の基である。かかる２価の基は、好ましくは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ、ＣＯ、又は２価の有機基である。２価の基は、好ましくは２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、それぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

　一の態様において、Ｘ^１１は、それぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－又は－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。なお、Ｘ^１１は、右側がＳｉに結合する。

　好ましい態様において、Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合又は直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。

　上記式中、Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。かかるＣ_１－２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

　好ましい態様において、Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子又は直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子又は直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子又はメチル基である。

　上記式中、ｔは、それぞれ独立して、２以上の整数である。

　ｔは、それぞれ独立して、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。

　上記式中、Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

　上記式中、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。なお、アルキレンオキシ基は、アルキレン基が、Ｒ^１３を有する炭素原子に結合する。

　一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

　好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

　一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。
［式中、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり、
　ｔ１及びｔ２は、それぞれ独立して、０以上の整数、好ましくは１以上の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらに好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり、ｔ１及びｔ２の合計は２以上であり、
　ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。
［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

　上記式中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

　Ｚ^１は、それぞれ独立して、２価の基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

　上記２価の基は、好ましくは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ、ＣＯ、又は２価の有機基、より好ましくは酸素原子又は２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

　上記Ｚ^１’は、それぞれ独立して、２価の基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。Ｚ^１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

　上記Ｚ^１”は、それぞれ独立して、２価の基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２”は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２”は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ１、－ＯＣＯＲ^ｈ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ１ _２、－ＮＲ^ｈ１ _２、－ＮＨＲ^ｈ１、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈ１は、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈ１は、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈ１は、エチル基である。

　Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　一の態様において、１価の有機基は、Ｃ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

　上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ１、－ＯＣＯＲ^ｈ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ１ _２、－ＮＲ^ｈ１ _２、－ＮＨＲ^ｈ１、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈ１は、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈ１は、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈ１は、エチル基である。

　Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１’は、０である。

　一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

　一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ１、－ＯＣＯＲ^ｈ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ１ _２、－ＮＲ^ｈ１ _２、－ＮＨＲ^ｈ１、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈ１は、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈ１は、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈ１は、エチル基である。

　Ｒ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１は、０である。

　一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

　一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、さらに好ましくは３である。

　上記式中、Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^ｂ１は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^ｂ１は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ１、－ＯＣＯＲ^ｈ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ１ _２、－ＮＲ^ｈ１ _２、－ＮＨＲ^ｈ１、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈ１は、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈ１は、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈ１は、エチル基である。

　上記式中、Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ^１、Ｚ^１’、Ｚ^１”、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、Ｒ^２２”、及びＲ^２３”は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。

　一の態様において、式（Ｓ３）は、シロキサン結合を含まない。

　Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

　Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

　Ｚ^２は、それぞれ独立して、好ましくは酸素原子又は２価の有機基、より好ましくは２価の有機基である。

　上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、好ましくは酸素原子又は２価の有機基、より好ましくは２価の有機基である。

　上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

　上記Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

　Ｚ^３は、それぞれ独立して、好ましくは酸素原子又は２価の有機基、より好ましくは２価の有機基である。

　一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

　上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、それぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、それぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ１、－ＯＣＯＲ^ｈ１、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ１ _２、－ＮＲ^ｈ１ _２、－ＮＨＲ^ｈ１、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈ１は、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ１（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈ１としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈ１は、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈ１は、エチル基である。

　Ｒ^３５は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の末端部分において、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２又は３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又はＲ^４１’－（ＯＲ^４２’）_ｙ１’－Ｏ_ｙ２’－（式中、Ｒ^４１’は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、Ｒ^４２’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、ｙ１’は、１～３０の整数であり、ｙ２’は、０又は１である。）で表される基であり得る。

　一の態様において、Ｒ^４１’は、水素原子である。

　別の態様において、Ｒ^４１’は、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　Ｒ^４２’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基、好ましくはＣ_１－３アルキレン基、より好ましくはＣ_２－３アルキレン基である。

　ｙ１’は、１～３０の整数、好ましく１～２０の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは２～１０の整数、例えば、２～６の整数、２～４の整数、３～６の整数、又は４～６の整数である。

　一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３’は、Ｃ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　別の態様において、Ｒ^３３’は、Ｒ^４１’－（ＯＲ^４２’）_ｙ１’－Ｏ_ｙ２’－である。

　上記ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

　ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２又は３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又はＲ^４１－（ＯＲ^４２）_ｙ１－Ｏ_ｙ２－（式中、Ｒ^４１は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、ｙ１は、１～３０の整数であり、ｙ２は、０又は１である。）で表される基であり得る。

　一の態様において、Ｒ^４１は、水素原子である。

　別の態様において、Ｒ^４１は、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　Ｒ^４２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基、好ましくはＣ_１－３アルキレン基、より好ましくはＣ_２－３アルキレン基である。

　ｙ１は、１～３０の整数、好ましく１～２０の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは２～１０の整数、例えば、２～６の整数、２～４の整数、３～６の整数、又は４～６の整数である。

　一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３は、Ｃ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　別の態様において、Ｒ^３３は、Ｒ^４１－（ＯＲ^４２）_ｙ１－Ｏ_ｙ２－である。

　上記ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ２は、０である。

　一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。

　一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又はＲ^４３－（ＯＲ^４４）_ｙ３－Ｏ_ｙ４－（式中、Ｒ^４３は、水素原子又はＣ_１－６アルキル基であり、Ｒ^４４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、ｙ３は、１～３０の整数であり、ｙ４は、０又は１である。）で表される基であり得る。

　一の態様において、Ｒ^４３は、水素原子である。

　別の態様において、Ｒ^４３は、Ｃ_１－６アルキル基、好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　Ｒ^４４は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基、好ましくはＣ_１－３アルキレン基、より好ましくはＣ_２－３アルキレン基である。

　ｙ３は、１～３０の整数、好ましく１～２０の整数、より好ましくは１～１０の整数、さらにより好ましくは２～１０の整数、例えば、２～６の整数、２～４の整数、３～６の整数、又は４～６の整数である。

　一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^ｆ１は、Ｃ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　別の態様において、Ｒ^ｆ１は、Ｒ^４３－（ＯＲ^４４）_ｙ３－Ｏ_ｙ４－である。

　上記ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、好ましくは、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（Ａ１）及び式（Ａ２）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。

　一の態様において、式（Ｓ４）は、シロキサン結合を含まない。

　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２である。ここに、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｃ１、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。

　上記Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基である。尚、以下Ｚ^４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）に結合する。

　Ｚ^４は、それぞれ独立して、好ましくは酸素原子又は２価の有機基、より好ましくは２価の有機基である。

　一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^４は２価の有機基である。

　上記Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^４は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子又はＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ５）で表される基である。

　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｘ^Ａは、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^ＦＡ１及びＲ^ＦＡ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（Ａ１）及び（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

　式（Ａ１）において、α１は１～９の整数であり、β１は１～９の整数である。これらα１及びβ１は、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。α１及びβ１の和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の基である場合、α１及びβ１の和は１０であり、例えばα１が９かつβ１が１、α１が５かつβ１が５、又はα１が１かつβ１が９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の基である場合、α１及びβ１は１である。

　式（Ａ２）において、γは１～９の整数である。γは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。

　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の基である。

　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、好ましくは単結合又は２～１０価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－）を含まない。

　上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の基は、好ましくは２～８価の基である。一の態様において、かかる２～１０価の基は、好ましくは２～４価の基であり、より好ましくは２価の基である。別の態様において、かかる２～１０価の基は、好ましくは３～８価の基、より好ましくは３～６価の基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合又は２価の基であり、α１は１であり、β１は１である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合又は２価の基であり、γは１である。

　上記２価の基は、好ましくは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ、ＣＯ、又は２価の有機基、より好ましくは酸素原子又は２価の有機基、さらに好ましくは２価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、３～６価の基、好ましくは３～６価の有機基であり、α１は１であり、β１は２～５である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、３～６価の基、好ましくは３～６価の有機基であり、γは２～５である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の基、好ましくは３価の有機基であり、α１は１であり、β１は２である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の基、好ましくは３価の有機基であり、γは２である。

　Ｘ^Ａが、単結合又は２価の基である場合、式（Ａ１）及び（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）及び（Ａ２’）で表される。

　一の態様において、Ｘ^Ａは単結合である。

　別の態様において、Ｘ^Ａは２価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
　ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－を表し、
　Ｘ^５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基を表し、
　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
　ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり、
　右側がＲ^Ｓｉに結合する。］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^Ａ（典型的にはＸ^Ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ａは、これらの基により置換されていない。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－である。Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５６は、これらの基により置換されていない。

　好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－Ｒ^５１－Ｘ^５３－Ｒ^５２－、又は
－Ｘ^５４－Ｒ^５－
［式中、Ｒ^５１及びＲ^５２は、上記と同意義であり、
　Ｘ^５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－Ｎ（Ｒ^５４）－、又は
－ＣＯＮＲ^５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－
（式中、Ｒ^５３、Ｒ^５４及びｍ５は、上記と同意義であり、
　ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）を表し、
　Ｘ^５４は、
－Ｓ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５４）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５４）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－Ｎ（Ｒ^５４）－、又は
－ＣＯＮＲ^５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ^５４）_２－
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。

　より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
－Ｘ^５４－、又は
－Ｘ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、Ｘ^５３、Ｘ^５４、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。

　より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－、又は
－Ｘ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｘ^５３は、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基を表し、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基を表し、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数である。］
であり得る。

　一の態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（ＣＨ_２）_ｔ５－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（ＣＨ_２）_u５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－（Ｃ_vＨ_２v）－
［式中、Ｒ^５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５及びｕ５は、上記と同意義であり、ｖ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。］
である。

　上記式中、－（Ｃ_vＨ_２v）－は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン基以外であり得る。

　別の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば下記の基が挙げられる：
［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり、
　Ｄは、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）₄－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、及び
（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６のアルキル基又はＣ_１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
　Ｅは、－（ＣＨ_２）_ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
　Ｄは、分子主鎖のＲ^ＦＡ１又はＲ^ＦＡ２に結合し、Ｅは、Ｒ^Ｓｉに結合する。］

　上記Ｘ^Ａの具体的な例としては、例えば：
単結合、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_４－、
－（ＣＨ_２）_５－、
－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－ＣＨ_２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_４－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_５－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－Ｓ－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、
－ＯＣＨ_２－、
－Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＯＣＦＨＣＦ_２－、

などが挙げられる。

　さらに別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、式：－（Ｒ^１６）_ｘ１－（ＣＦＲ^１７）_ｙ１－（ＣＨ_２）_ｚ１－で表される基である。式中、ｘ１、ｙ１及びｚ１は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｘ１、ｙ１及びｚ１の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

　上記式中、Ｒ^１６は、それぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ^１８－（式中、Ｒ^１８は、水素原子又は有機基を表す）又は２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１８は、酸素原子又は２価の極性基である。

　上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ^１９）－、及び－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１９－（これらの式中、Ｒ^１９は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

　上記式中、Ｒ^１７は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

　尚、上記Ｘ^Ａは、各式の左側がＲ^ＦＡ１又はＲ^ＦＡ２に結合し、右側がＲ^Ｓｉに結合する。

　さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記の基が挙げられる：
［式中、
　Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基好ましくはメチル基であり、
　各Ｘ^Ａ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲ^ＦＡ１又はＲ^ＦＡ２に結合する以下の基：
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）₄－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、又は
［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６のアルキル基又はＣ_１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲ^Ｓｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１－６アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。

　ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、又はトリアジン類の残基が挙げられる。

　紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換及び未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレート又はアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

　好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基又は紫外線吸収基としては、
が挙げられる。

　この態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３～１０価の基であり得る。

　さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記の基が挙げられる：
［式中、Ｒ^２５、Ｒ^２６及びＲ^２７は、それぞれ独立して２～６価の有機基であり、
　Ｒ^２５は、少なくとも１つのＲ^ＦＡ１又はＲ^ＦＡ２に結合し、Ｒ^２６及びＲ^２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲ^Ｓｉに結合する。］

　一の態様において、Ｒ^２５は、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、Ｃ_５－２０アリーレン基、－Ｒ^５７－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、又は－Ｒ^５７－Ｘ^５８－である。上記、Ｒ^５７及びＲ^５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、又はＣ_５－２０アリーレン基である。上記Ｘ^５８は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－又は－ＣＯＯ－である。

　一の態様において、Ｒ^２６及びＲ^２７は、それぞれ独立して、炭化水素、又は炭化水素の端又は主鎖中にＮ、Ｏ及びＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ_１－６アルキル基、－Ｒ^３６－Ｒ^３７－Ｒ^３６－、－Ｒ^３６－ＣＨＲ^３８ _２－などが挙げられる。ここに、Ｒ^３６は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～６のアルキル基、好ましくは炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ^３７は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＮ又はＯである。Ｒ^３８は、－Ｒ^４５－Ｒ^４６－Ｒ^４５－、－Ｒ^４６－Ｒ^４５－又は－Ｒ^４５－Ｒ^４６－である。ここに、Ｒ^４５は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ^４６は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＯである。

　さらに別の態様において、Ｘ^Ａは、下記：

［式中、Ｘ^ａは、単結合又は２価の有機基である。］
で表される基である。

　上記Ｘ^ａは、イソシアヌル環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｘ^ａとしては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、又は、エーテル結合、エステル結合、アミド結合及びスルフィド結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１～１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

　Ｘ^ａとしては、下記式：
　　　－（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｘ１－（Ｘ^ａ１）_ｙ１－（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｚ１－
（式中、Ｘ^１２１～Ｘ^１２４は、それぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、－ＯＳｉ（ＯＲ^１２１）_３（式中、３つのＲ^１２１は、それぞれ独立して、炭素数１～４のアルキル基である。）であり、
　上記Ｘ^ａ１は、－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ－、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ－、又は、－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ－であり（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合する。）、
　ｘ１は０～１０の整数であり、ｙ１は０又は１であり、ｚ１は１～１０の整数である。）
で表される基が更に好ましい。

　上記Ｘ^ａ１としては、－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）Ｏ－が好ましい。

　上記Ｘ^ａとしては、下記式：
　　　－（ＣＦ_２）_ｍ１１－（ＣＨ_２）_ｍ１２－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｍ１３－
（式中、ｍ１１は１～３の整数であり、ｍ１２は１～３の整数であり、ｍ１３は１～３の整数である。）
で表される基、
　　　－（ＣＦ_２）_ｍ１４－（ＣＨ_２）_ｍ１５－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｍ１６－
（式中、ｍ１４は１～３の整数であり、ｍ１５は１～３の整数であり、ｍ１６は１～３の整数である。）
で表される基、
　　　－（ＣＦ_２）_ｍ１７－（ＣＨ_２）_ｍ１８－
（式中、ｍ１７は１～３の整数であり、ｍ１８は１～３の整数である。）
で表される基、
　　　－（ＣＦ_２）_ｍ１９－（ＣＨ_２）_ｍ２０－Ｏ－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）－（ＣＨ_２）_ｍ２１－
（式中、ｍ１９は１～３の整数であり、ｍ２０は１～３の整数であり、ｍ２１は１～３の整数である。）
で表される基、又は、
　　　－（ＣＨ_２）_ｍ２２－
（式中、ｍ２２は１～３の整数である。）
で表される基が特に好ましい。

　上記Ｘ^ａとして、特に限定されないが、具体的には、
－ＣＨ_２－、－Ｃ_２Ｈ_４－、－Ｃ_３Ｈ_６－、－Ｃ_４Ｈ_８－、－Ｃ_４Ｈ_８－Ｏ－ＣＨ_２－、－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－、－（ＣＦ_２）_ｎ５－（ｎ５は０～４の整数である。）、－（ＣＦ_２）_ｎ５－（ＣＨ_２）_ｍ５－（ｎ５およびｍ５は、それぞれ独立して、０～４の整数である。）、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２－
等が挙げられる。

　この態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、２又は３価の基であり得る。

　一の態様において、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－）を含まない。

　式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００～３２，０００、より好ましくは２，５００～１２，０００の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　一の態様において、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

　別の態様において、式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。

　一の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ２）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される化合物及び式（Ａ２）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、式（Ａ１）で表される化合物及び式（Ａ２）で表される化合物は、それぞれ、あるいは互いに部分的に縮合していてもよい。即ち、式（Ａ１）で表される化合物同士、式（Ａ２）で表される化合物同士、あるいは式（Ａ１）で表される化合物及び式（Ａ２）で表される化合物間で、部分的に縮合した状態で存在してもよい。従って、本開示の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される化合物の部分縮合物、式（Ａ２）で表される化合物の部分縮合物、又は式（Ａ１）で表される化合物と式（Ａ２）で表される化合物の部分縮合物を含有し得る。

　本開示の表面処理剤中、式（Ａ１）で表される化合物と式（Ａ２）で表される化合物との合計に対して、式（Ａ２）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（Ａ１）で表される化合物と式（Ａ２）で表される化合物との合計に対する式（Ａ２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（Ａ１）で表される化合物と式（Ａ２）で表される化合物との合計に対する式（Ａ２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。式（Ａ１）で表される化合物と式（Ａ２）で表される化合物との合計に対する式（Ａ２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。式（Ａ２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、より摩擦耐久性を向上させることができる。

　上記の式（Ａ１）又は（Ａ２）で表される化合物は、例えば、上記特許文献１、国際公開第２００６／１０７０８号、特開２０１９－１８３１６０号公報等に記載の方法により得ることができる。

（フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物）
　上記フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物は、オキシアルキレン基を有するアミド基、及びフルオロポリエーテル基を含む化合物である。

　本開示の表面処理剤は、成分（Ａ）のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に加え、成分（Ｂ）のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物を含有することにより、摩擦耐久性がより向上する。

　一の態様において、上記フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物は、式（Ｂ１）又は（Ｂ２）：

［式中：
　Ｒ^ＦＢ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^ＦＢ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｐは、０又は１であり、
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり、
　Ｒ^Ｂ１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基であり、
　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、水素原子、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である。］
で表される化合物である。

　式（Ｂ１）において、Ｒ^ＦＢ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　式（Ｂ２）において、Ｒ^ＦＢ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　式（Ｂ１）及び（Ｂ２）におけるＲ^ＦＢ１及びＲ^ＦＢ２は、それぞれ、式（Ａ１）及び（Ａ２）におけるＲ^ＦＡ１及びＲ^ＦＡ２に対応する。式（Ｂ１）及び（Ｂ２）におけるＲｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－及び－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－は、式（Ａ１）及び（Ａ２）におけるＲｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－及び－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－と同意義であり、同態様を有し得る。なお、表面処理剤中、Ｒ^ＦＢ１とＲ^ＦＡ１、及びＲ^ＦＡ２とＲ^ＦＢ２は、それぞれ同じであっても、異なっていてもよい。

　式（Ｂ１）及び（Ｂ２）において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基である。なお、以下において、Ｘ^Ｂは、左側がＲ^ＦＢ１又はＲ^ＦＢ２に結合する。

　上記２価の基は、好ましくは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ、ＣＯ、又は２価の有機基、より好ましくは酸素原子又は２価の有機基、より好ましくは２価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は、－（Ｒ^６７）_ｂ１－（Ｒ^６８）_ｂ２－
［式中：
　Ｒ^６７は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６８は、それぞれ独立して、酸素原子、硫黄原子、ＣＯ、ＮＲ^６９、ＣＯＮＲ^６９、ＮＲ^６９ＣＯ、又はＣ_６－１２アリーレン基であり、
　Ｒ^６９は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｂ１は、０～６の整数で有り、
　ｂ２は、０～６の整数で有り、
　ｂ１及びｂ２の合計は、１以上であり、
　ｂ１又はｂ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、好ましくは、単結合、Ｃ_１－６アルキレン基、又は、－Ｒ^６４－Ｏ－Ｒ^６５－である。Ｒ^６４は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり；Ｒ^６５は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である。

　別の態様において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合である。

　別の態様において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基である。

　上記Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ｂは、非置換である。

　式（Ｂ１）及び（Ｂ２）において、Ｒ^Ｂ１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基であり、Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、水素原子、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である。

　好ましい態様において、Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基である。

　上記オキシアルキレン含有基は、オキシアルキレン基（－Ｏ－アルキレン基）を含む基を意味する。

　上記オキシアルキレン含有基は、好ましくは、下記式：
　　　－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２、又は
　　　－Ｘ^Ｅ（－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２）_ｒ２
［式中：
　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　ｂ３は、それぞれ独立して、１～６の整数であり、
　Ｘ^Ｅは、３～１０価の基であり、
　ｒ２は、２～９の整数であり、Ｘ^Ｅの価数より１小さい。］
で表される基である。

　好ましい態様において、上記オキシアルキレン含有基は、－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２である。

　別の態様において、上記オキシアルキレン含有基は、－Ｘ^Ｅ（－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２）_ｒ２である。

　上記式において、Ｒ^６１は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である。

　一の態様において、Ｒ^６１は、単結合である。

　別の態様において、Ｒ^６１は、Ｃ_１－６アルキレン基である。

　上記Ｒ^６１におけるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、Ｒ^６１におけるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖である。別の態様において、Ｒ^６１におけるＣ_１－６アルキレン基は、分枝鎖である。

　上記Ｒ^６１におけるＣ_１－６アルキレン基は、好ましくはＣ_１－４アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

　上記式において、Ｒ^６２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基である。

　一の態様において、Ｒ^６２は、水素原子である。

　別の態様において、Ｒ^６２は、Ｃ_１－６アルキル基である。

　別の態様において、Ｒ^６２は、Ｃ_１－６アルコキシ基である。

　上記Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルキル基は、直鎖である。別の態様において、Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルキル基は、分枝鎖である。

　上記Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルキル基は、好ましくはＣ_１－４アルキル基、より好ましくはＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルコキシ基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよい。一の態様において、Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルコキシ基は、直鎖である。別の態様において、Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルコキシ基は、分枝鎖である。

　上記Ｒ^６２におけるＣ_１－６アルコキシ基は、好ましくはＣ_１－４アルコキシ基、より好ましくはＣ_１－３アルコキシ基である。

　上記式において、Ｒ^６３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基である。

　Ｒ^６３におけるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよい。一の態様において、Ｒ^６３におけるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖である。別の態様において、Ｒ^６３におけるＣ_１－６アルキレン基は、分枝鎖である。

　上記Ｃ_１－６アルキレン基は、好ましくはＣ_１－３アルキレン基、より好ましくはＣ_２－３アルキレン基である。

　ｂ３は、１～６の整数、好ましくは１～４の整数、例えば１～３、１～２、又は２～４の整数であり得る。

　上記式において、Ｘ^Ｅは、３～１０価の基、好ましくは３～６価の基である。

　上記３～１０価の基は、好ましくは３～１０価の炭化水素基、より好ましくは３～６価の炭化水素基であり得る。

　Ｘ^Ｅは、好ましくは、ＣＨ、ＣＨ_２ＣＨＣＨ_２、ＣＨ_３ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２）_３等の３価の基、Ｃ（ＣＨ_２）_４等の４価の基、ＣＨ_２［ＣＨ］_４ＣＨ_２等の６価の基であり得る。

　上記式において、ｒ２は、Ｘ^Ｅの価数より１小さい値であり、２～９の整数、好ましくは２～６の整数、例えば３又は４である。

　式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表されるフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

アミド化合物は、例えば、下記のように合成することができる。

　下記式（１ａ）又は（２ａ）：
　Ｒ^ＦＢ１－Ｘ^Ｂ－ＣＯＯＨ　　　　（１ａ）
　ＨＯＯＣ－Ｘ^Ｂ－Ｒ^ＦＢ２－Ｘ^Ｂ－ＣＯＯＨ　　　（２ａ）
［式中、各記号は上記と同意義である。］
で表される化合物を、ハロゲン化剤と反応させて、下記式（１ｂ）又は（２ｂ）：
　Ｒ^ＦＢ１－Ｘ^Ｂ－ＣＯＲ^Ｈ　　　　（１ｂ）
　Ｒ^ＨＯＣ－Ｘ^Ｂ－Ｒ^ＦＢ２－Ｘ^Ｂ－ＣＯＲ^Ｈ　　　（２ｂ）
［式中：
　Ｒ^Ｈは、ハロゲン原子、好ましくは塩素原子であり、
　Ｒ^ＦＢ１、Ｒ^ＦＢ２、及びＸ^Ｂは、上記と同意義である。］
で表される化合物を得る。

　上記ハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、塩化オキサリル等が挙げられる。

　次いで、上記で得られた式（１ｂ）又は（２ｂ）で表される化合物を、下記式：
　　　ＨＮＲ^Ｂ１Ｒ^Ｂ２
［式中、各記号は上記と同意義である。］
と反応させることにより、得ることができる。

　一の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物は、式（Ｂ１）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物は、式（Ｂ２）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物は、式（Ｂ１）で表される化合物及び式（Ｂ２）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、式（Ｂ１）で表される化合物及び式（Ｂ２）で表される化合物は、それぞれ、あるいは互いに部分的に縮合していてもよい。即ち、式（Ｂ１）で表される化合物同士、式（Ｂ２）で表される化合物同士、あるいは式（Ｂ１）で表される化合物及び式（Ｂ２）で表される化合物間で、部分的に縮合した状態で存在してもよい。従って、本開示の表面処理剤は、式（Ｂ１）で表される化合物の部分縮合物、式（Ｂ２）で表される化合物の部分縮合物、又は式（Ｂ１）で表される化合物と式（Ｂ２）で表される化合物の部分縮合物を含有し得る。

　成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対して、好ましくは１質量％以上、より好ましくは５質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上であり得る。また、成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対して、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、さらに好ましくは３５質量％以下、さらにより好ましくは２５質量％以下、特に好ましくは２０質量％以下であり得る。成分（Ｂ）を上記の量で含ませることにより、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を得ることができる。

　一の態様において、成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対して、好ましくは１～７０質量％、より好ましくは１～５０質量％、さらに好ましくは５～５０質量％である。

　表面処理剤中、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の濃度は、合計で、好ましくは０．１～９９．９質量％であり、より好ましくは１．０～５０質量％、さらに好ましくは５．０～３０質量％、さらにより好ましくは５．０～１５質量％である。

　本開示の表面処理剤中、成分（Ａ）と成分（Ｂ）は、部分的に縮合した状態で存在してもよい。即ち、本開示の表面処理剤は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の部分縮合物を含有し得る。

（他の成分）
　本開示の表面処理剤は、溶媒、アルコール類、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロポリエーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、相溶化剤、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

　上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の含フッ素炭化水素類；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等の含フッ素アルコール類；１，１，２，３，３，３－ヘキサフルオロプロピルメチルエーテル(ＣＦ_３ＣＦＨＣＦ_２ＯＣＨ_３）（ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ）ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分岐状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、ハイドロフルオロオレフィン類；ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ（例えば、セントラル硝子株式会社製のＣＥＬＥＦＩＮ（登録商標）１２３３Ｚ）、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌ（例えば、旭硝子株式会社製のＡＭＯＬＥＡ（登録商標）ＡＳ－３００）、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類；ジメチルスルホキシドなど。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが特に好ましい。

　上記アルコール類としては、例えば１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～６のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ、Ｈ（ＣＦ_２ＣＦ_２）ＣＨ_２ＯＨ、Ｈ（ＣＦ_２ＣＦ_２）_２ＣＨ_２ＯＨ、Ｈ（ＣＦ_２ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＯＨが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）と溶媒の相溶性を改善させる。

　好ましい態様において、本開示の表面処理剤は、溶媒とアルコールを含む。

　アルコールの含有量は、溶媒とアルコールの合計に対して、好ましくは０．１～５０質量％、より好ましくは０．５～３０質量％、さらに好ましくは１．０～２０質量％、さらにより好ましくは２．０～１０質量％である。

　含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロポリエーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６　　　・・・（３）
　式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　上記一般式（３）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ａ）
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ｂ）
　これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

　上記含フッ素オイルは、５００～１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

　含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、又は極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩擦耐久性及び高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

　含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記相溶化剤としては、２，２，２－トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール又は２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロ－１－ペンタノール等のフッ素置換アルコール、好ましくは末端がＣＦ_２Ｈであるフッ素置換アルコール、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等のフッ素置換アリール、好ましくはフッ素置換ベンゼン等が挙げられる。

　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

　触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。

　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

　本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

　本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。

（物品）
　以下、本開示の物品について説明する。

　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

　別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

　好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

　本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

　本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。

　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｈ（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の含フッ素炭化水素類；ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等の含フッ素アルコール類；１，１，２，３，３，３－ヘキサフルオロプロピルメチルエーテル(ＣＦ_３ＣＦＨＣＦ_２ＯＣＨ_３）（ＨＦＥ－３５６ｍｅｃ）ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分岐状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））、ハイドロフルオロオレフィン類；ＣＦ_３ＣＨ＝ＣＨＣｌ（例えば、セントラル硝子株式会社製のＣＥＬＥＦＩＮ（登録商標）１２３３Ｚ）、ＣＨＦ_２ＣＦ＝ＣＨＣｌ（例えば、旭硝子株式会社製のＡＭＯＬＥＡ（登録商標）ＡＳ－３００）、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類；ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン等のシロキサン類；ジメチルスルホキシドなど。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、グリコールエーテル類、アルコール類、エーテルアルコール類、シロキサン類が好ましい。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン、テトラデカメチルヘキサシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロペンタシロキサンが特に好ましい。

　乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

　触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

　本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したものが挙げられる。

　本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など、が挙げられる

　また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。

　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩擦耐久性及び防汚性の点から好ましい。

　以上、本開示の表面処理剤及び物品について詳述した。なお、本開示の表面処理剤及び物品などは、上記で例示したものに限定されない。

　以下、本開示の表面処理剤について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、フルオロポリエーテル及びポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意であり、以下に示される化学式は平均組成を示す。

（成分（Ａ））
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物として、下記化合物（ａ１）及び（ａ２）を準備した。

・化合物（ａ１）：ｍ＝１５、ｎ＝１６

・化合物（ａ２）：ｍ＝２１、ｎ＝３６

（成分（Ｂ））
　フルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物として、下記化合物（ｂ１）～（ｂ６）を準備した。

・化合物（ｂ１）：ｍ＝２０．４、ｎ＝３４．５
・化合物（ｂ２）：ｍ＝１７．２、ｎ＝１９．２
・化合物（ｂ３）：ｍ＝９．６、ｎ＝１６．１
・化合物（ｂ４）：ｍ＝４３．６、ｎ＝７４．５
・化合物（ｂ５）：ｍ＝２２．１、ｎ＝２１．３

・化合物（ｂ６）：ｍ＝２２．４、ｎ＝２１．６

　合成例（ｂ１）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、平均組成ＨＯＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０．４（ＣＦ_２Ｏ）_３４．５ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）及び／又は（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位を微量に含む化合物も微量に含まれる）で表わされるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．１３ｇ、及び塩化チオニル０．８ｇを仕込み、６０℃で２時間攪拌した。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、末端に塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ１’）を４ｇ得た。
　　　Ｃｌ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０．４（ＣＦ_２Ｏ）_３４．５ＣＦ_２－ＣＯ－Ｃｌ　（ｂ１’）

　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、上記で得られた塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ１’）４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇを仕込み、５℃に冷却した。続いて、ビス（メトキシエチル）アミン０．６ｇと１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇの混合溶液を仕込み、室温で終夜攪拌した。その後、分液ロートで塩酸による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、パーフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物（ｂ１）を２．９６ｇ得た。
　　　（ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｎ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２０．４（ＣＦ_２Ｏ）_３４．５ＣＦ_２－ＣＯ－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２　（ｂ１）

　合成例（ｂ２）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、平均組成ＨＯＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１７．２（ＣＦ_２Ｏ）_１９．２ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）及び／又は（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位を微量に含む化合物も微量に含まれる）で表わされるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．３ｇ、及び塩化チオニル１ｇを仕込み、６０℃で２時間攪拌した。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、末端に塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ２’）を４ｇ得た。
　　　Ｃｌ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１７．２（ＣＦ_２Ｏ）_１９．２ＣＦ_２－ＣＯ－Ｃｌ　（ｂ２’）

　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、上記で得られた塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ２’）４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇを仕込み、５℃に冷却した。続いて、ビス（メトキシエチル）アミン１．３ｇと１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇの混合溶液を仕込み、室温で終夜攪拌した。その後、分液ロートで塩酸による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、パーフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物（ｂ２）を２．３４ｇ得た。
（ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｎ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_１７．２（ＣＦ_２Ｏ）_１９．２ＣＦ_２－ＣＯ－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２　（ｂ２）

　合成例（ｂ３）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、平均組成ＨＯＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_９．６（ＣＦ_２Ｏ）_１６．１ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）及び／又は（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位を微量に含む化合物も微量に含まれる）で表わされるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．３ｇ、及び塩化チオニル１ｇを仕込み、６０℃で２時間攪拌した。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、末端に塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ３’）を４ｇ得た。
　　　Ｃｌ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_９．６（ＣＦ_２Ｏ）_１６．１ＣＦ_２－ＣＯ－Ｃｌ　（ｂ３’）

　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、上記で得られた塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ３’）４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇを仕込み、５℃に冷却した。続いて、ビス（メトキシエチル）アミン１．３ｇと１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇの混合溶液を仕込み、室温で終夜攪拌した。その後、分液ロートで塩酸による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、パーフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物（ｂ３）を２．０５ｇ得た。
　　　（ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｎ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_９．６（ＣＦ_２Ｏ）_１６．１ＣＦ_２－ＣＯ－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２　（ｂ３）

　合成例（ｂ４）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、平均組成ＨＯＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_４３．６（ＣＦ_２Ｏ）_７４．５ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）及び／又は（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位を微量に含む化合物も微量に含まれる）で表わされるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．０６ｇ、塩化チオニル０．２ｇを仕込み、６０℃で２時間攪拌した。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、末端に塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ４’）を４ｇ得た。
　　　Ｃｌ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_４３．６（ＣＦ_２Ｏ）_７４．５ＣＦ_２－ＣＯ－Ｃｌ　（ｂ４’）

　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、上記で得られた塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ４’）４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇを仕込み、５℃に冷却した。続いて、ビス（メトキシエチル）アミン０．３ｇと１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇの混合溶液を仕込み、室温で終夜攪拌した。その後、分液ロートで塩酸による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、パーフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物（ｂ４）を３．５２ｇ得た。
　　　（ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｎ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_４３．６（ＣＦ_２Ｏ）_７４．５ＣＦ_２－ＣＯ－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２　（ｂ４）

　合成例（ｂ５）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、平均組成ＨＯＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２．１（ＣＦ_２Ｏ）_２１．３ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）及び／又は（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位を微量に含む化合物も微量に含まれる）で表わされるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．１５ｇ、及び塩化チオニル０．５ｇを仕込み、６０℃で２時間攪拌した。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、末端に塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ５’）を４ｇ得た。
　　　Ｃｌ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２．１（ＣＦ_２Ｏ）_２１．３ＣＦ_２－ＣＯ－Ｃｌ　（ｂ５’）

　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、上記で得られた塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ５’）４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇを仕込み、５℃に冷却した。続いて、ビス（メトキシエチル）アミン０．７ｇと１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇの混合溶液を仕込み、室温で終夜攪拌した。その後、分液ロートで塩酸による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、パーフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物（ｂ５）を３．４７ｇ得た。
　　　（ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｎ－ＣＯ－ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２．１（ＣＦ_２Ｏ）_２１．３ＣＦ_２－ＣＯ－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２　（ｂ５）

　合成例（ｂ６）
　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、平均組成ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２．４（ＣＦ_２Ｏ）_２１．６ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ただし、混合物中には（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）及び／又は（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の繰り返し単位を微量に含む化合物も微量に含まれる）で表わされるパーフルオロポリエーテル変性カルボン酸体４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．０８ｇ、及び塩化チオニル０．２５ｇを仕込み、６０℃で２時間攪拌した。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、末端に塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ６’）を４ｇ得た。
　　　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２．４（ＣＦ_２Ｏ）_２１．６ＣＦ_２－ＣＯ－Ｃｌ　（ｂ６’）

　還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付けた５０ｍｌの３つ口フラスコに、上記で得られた塩化アシル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物（ｂ５’）４ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇを仕込み、５℃に冷却した。続いて、ビス（メトキシエチル）アミン０．３５ｇと１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン２ｇの混合溶液を仕込み、室温で終夜攪拌した。その後、分液ロートで塩酸による洗浄操作を行った。続いて、減圧下で揮発成分を留去することにより、パーフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物（ｂ６）を３．３５ｇ得た。
　　　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_２２．４（ＣＦ_２Ｏ）_２１．６ＣＦ_２－ＣＯ－Ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_３）_２　（ｂ６）

　実施例１～２７
（表面処理剤の調製）
　表１に示すフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（成分Ａ）及びフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物（成分Ｂ）を、表１に示す割合となるように混合した。得られた混合物を、成分Ａと成分Ｂの合計の濃度が２０質量％となるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベック７２００）で希釈して、表面処理剤を調製した。

　比較例１～２
　成分Ｂを用いないこと以外は、上記実施例と同様にして、表面処理剤を調製した。

（表面処理層の形成）
　上記で調製した表面処理剤（実施例１～２７及び比較例１～２）を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^－３Ｐａとし、まず、化学強化ガラス表面に二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、表面処理剤４００ｍｇを蒸着し、表面処理層を形成した。

　（初期接触角の測定）
　上記の実施例１～２７及び比較例１～２の表面処理剤から得られた表面処理層について、水の静的接触角（度）を５点測定し、その平均値（度）をとり、初期接触角（度）の値とした（摩擦回数０回）。

（消しゴム（ＥＲ）摩擦耐久性試験）
　表面処理層を形成した基材を水平配置し、消しゴム（ｍｉｎｏａｎ製、型番：ＭＢ００６００４、直径０．６ｃｍ）を該表面処理層の表面に接触させ、その上に１０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させ、消しゴム摩擦耐久試験を実施した。往復回数１００回毎に、水の静的接触角（度）を５点測定し、その平均値（度）をとった。接触角の平均値（度）が１００度未満となった時点で試験を中止し、その前の接触角が１００度を超えていた時の往復回数を消しゴム摩擦耐久性の数値（回）として採用し、下記表に示す。

・スチールウール（ＳＷ）摩擦耐久性評価
　表面処理層を形成した基材について、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数１０００回毎に水の静的接触角（度）を測定し、接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、下記表に示す。（表中、記号「－」は測定せず）。なお、往復回数２００００回で試験を中止した。

　上記の結果から、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、及びフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物を含有する本開示の表面処理剤は、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成できることが確認された。

　本開示の物品は、種々多様な用途、例えばタッチパネル等の光学部材として好適に利用され得る。

Claims

　成分（Ｂ）：式（Ｂ１）又は（Ｂ２）：

［式中：
　Ｒ^ＦＢ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^ＦＢ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｐは、０又は１であり、
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり、
　Ｒ^Ｂ１は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基であり、
　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、水素原子、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基、又は１価の炭化水素基である、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｒ^Ｂ２は、それぞれ独立して、オキシアルキレン含有基である、請求項１又は２に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　前記オキシアルキレン含有基は、それぞれ独立して、下記式：
　　　－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２、又は
　　　－Ｘ^Ｅ（－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２）_ｒ２
［式中：
　Ｒ^６１は、それぞれ独立して、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　ｂ３は、それぞれ独立して、１～６の整数であり、
　Ｘ^Ｅは、３～１０価の基であり、
　ｒ２は、２～９の整数であり、Ｘ^Ｅの価数より１小さい。］
で表される基である、請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　前記オキシアルキレン含有基は、それぞれ独立して、下記式：
　　　－Ｒ^６１－（ＯＲ^６３）_ｂ３－Ｒ^６２
［式中：
　Ｒ^６１は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６２は、水素原子、Ｃ_１－６アルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６３は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　ｂ３は、１～６の整数である。］
で表される基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｒ^６３は、Ｃ_１－３アルキレン基である、請求項４又は５に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、又は、－（Ｒ^６７）_ｂ１－（Ｒ^６８）_ｂ２－
［式中：
　Ｒ^６７は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６８は、それぞれ独立して、酸素原子、硫黄原子、ＣＯ、ＮＲ^６９、ＣＯＮＲ^６９、ＮＲ^６９ＣＯ、又はＣ_６－１２アリーレン基であり、
　Ｒ^６９は、それぞれ独立して、水素原子、又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｂ１は、０～６の整数で有り、
　ｂ２は、０～６の整数で有り、
　ｂ１及びｂ２の合計は、１以上であり、
　ｂ１又はｂ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
である、請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－６アルキレン基、又は、－Ｒ^６４－Ｏ－Ｒ^６５－であり、
　Ｒ^６４は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基であり、
　Ｒ^６５は、単結合、又はＣ_１－６アルキレン基である、
請求項１～７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　Ｒ^Ｆａは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１～８のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｒｆ^１は、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１～９のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）、又は（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１～１０のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物。
　成分（Ａ）：フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、及び
　成分（Ｂ）：請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有オキシアルキレンアミド化合物
を含む、表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ａ１）又は（Ａ２）：

［式中：
　Ｒ^ＦＡ１は、それぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^ＦＡ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり、
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり、
　ｐは、０又は１であり、
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり、
　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子又は１価の基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
　少なくとも１つのＲ^Ｓｉは、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の基であり、
　α１は、１～９の整数であり、
　β１は、１～９の整数であり、
　γ１は、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される化合物である、請求項１２に記載の表面処理剤。
　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　Ｒ^Ｆａは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１３に記載の表面処理剤。
　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒｆ^１は、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中:
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１３又は１４に記載の表面処理剤。
　式（Ａ１）及び（Ａ２）において、Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）、又は（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり、
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、
（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１３～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：
［式中：
　Ｒ^１１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^１２は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり、
　Ｘ^１１は、それぞれ独立して、単結合又は２価の基であり、
　Ｒ^１３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｔは、それぞれ独立して、２以上の整数であり、
　Ｒ^１４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、
　Ｒ^１５は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基、又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり、
　Ｒ^ａ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、それぞれ独立して、２価の基であり、
　Ｒ^２１は、それぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^２３は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｐ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｐ１、ｑ１及びｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３であり、
　Ｚ^１’は、それぞれ独立して、２価の基であり、
　Ｒ^２１’は、それぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^２３’は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｐ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ１’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｐ１’、ｑ１’及びｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３であり、
　Ｚ^１”は、それぞれ独立して、２価の基であり、
　Ｒ^２２”は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^２３”は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｑ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ１”は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ１”及びｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３であり、
　Ｒ^ｂ１は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^ｃ１は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｋ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｌ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｍ１は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３であり、
　Ｒ^ｄ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、それぞれ独立して、単結合、２価の基であり；
　Ｒ^３１は、それぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
　Ｒ^３３は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり、
　ｐ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３であり、
　Ｚ^２’は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり；
　Ｒ^３２’は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
　Ｒ^３３’は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり、
　ｑ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｒ２’は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｑ２’及びｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３であり、
　Ｚ^３は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり；
　Ｒ^３４は、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり、
　Ｒ^３５は、それぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり、
　ｎ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　Ｒ^ｅ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、
　Ｒ^ｆ１は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり、
　ｋ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｌ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｍ２は、それぞれ独立して、０～３の整数であり、
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３であり、
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり、
　Ｚ^４は、それぞれ独立して、単結合、又は２価の基であり、
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、請求項１３～１６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　α１、β１、及びγ１は、１であり、Ｘ^Ａは、単結合又は２価の基である、請求項１３～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｘ^Ａは、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
　Ｘ^５２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、それぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^５４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ５は、それぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ５は、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意であり、
　右側がＲ^Ｓｉに結合する。］
で表される２価の基である、請求項１３～１８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｘ^Ａは、下記式：

［式中、Ｘ^ａは、単結合又は２価の基である。］
で表される基である、請求項１３～１９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対して、１～７０質量％である、請求項１２～２０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対して、１～５０質量％である、請求項１２～２１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　含フッ素オイル、シリコーンオイル、アルコール、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１２～２２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　さらに溶媒を含む、請求項１２～２３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、請求項１２～２４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　請求項１２～２５のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
　基材と、該基材上に、請求項１２～２５のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
　前記基材は、ガラス基材である、請求項２７に記載の物品。
　光学部材である、請求項２７に記載の物品。