JP2021011568A - 表面処理剤 - Google Patents
表面処理剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021011568A JP2021011568A JP2020104183A JP2020104183A JP2021011568A JP 2021011568 A JP2021011568 A JP 2021011568A JP 2020104183 A JP2020104183 A JP 2020104183A JP 2020104183 A JP2020104183 A JP 2020104183A JP 2021011568 A JP2021011568 A JP 2021011568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- independently
- group
- integer
- appearance
- surface treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D171/02—Polyalkylene oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1656—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
- C09D5/1675—Polyorganosiloxane-containing compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/333—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen
- C08G65/33303—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing nitrogen containing amino group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
- C09D5/1637—Macromolecular compounds
- C09D5/165—Macromolecular compounds containing hydrolysable groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1681—Antifouling coatings characterised by surface structure, e.g. for roughness effect giving superhydrophobic coatings or Lotus effect
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/65—Additives macromolecular
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/76—Hydrophobic and oleophobic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/151—Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
- C08G2650/46—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen
- C08G2650/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen containing fluorine, e.g. perfluropolyethers
Abstract
Description
[1] 成分(A):下記式(1A)または(2A):
Rf1Aは、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
Rf2Aは、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RAは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(S1):
Rd1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2−CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2’−CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z2’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R32’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
q2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R35は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Re1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数である。)
で表される基であり;
少なくとも1つのRAは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
α1は、1〜9の整数であり;
β1は、1〜9の整数であり;
γ1は、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物;
成分(B):下記式(1B)または(2B):
Rf1Bは、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
Rf2Bは、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RBは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(S2):
R11は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R12は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n1は、(SiR11 n1R12 3−n1)単位毎にそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
X11は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基であり;
R13は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、2〜10の整数であり;
R14は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子である。)
で表される基であり;
少なくとも1つのRBは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XBは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
α2は、1〜9の整数であり;
β2は、1〜9の整数であり;
γ2は、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物、および
成分(C):1種またはそれ以上の含フッ素オイル
を含有する、表面処理剤。
[2] l2は2であり、m2は1であるか、あるいはl2は3である、上記[1]に記載の表面処理剤。
[3] l2は3である、上記[1]または[2]に記載の表面処理剤。
[4] RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3RFa 6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
[式中、RFaは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0〜200の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は1以上であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の表面処理剤。
[5] RFaは、フッ素原子である、上記[4]に記載の表面処理剤。
[6] RFは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)または(f5):
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは1〜200の整数である。]、
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1〜200の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10〜200の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]、
−(R6−R7)g− (f3)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
gは、2〜100の整数である。]、
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f4)
[式中、eは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]、
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f5)
[式中、fは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびeは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である、上記[1]〜[5]のいずれかに記載の表面処理剤。
[7] 上記式(1A)および(2A)において、RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式(f2):
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1〜200の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10〜200の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表される基であり、
上記式(1B)および(2B)において、RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式(f1):
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは1〜200の整数である。]
で表される基である、上記[1]〜[6]のいずれかに記載の表面処理剤。
[8] α1、β1およびγ1は、1であり、α2、β2およびγ2は、1である、上記[1]〜[7]のいずれかに記載の表面処理剤。
[9] 前記含フッ素オイルは、下記式(C):
Rf5−(OC4F8)a’−(OC3F6)b’−(OC2F4)c’−(OCF2)d’−Rf6 ・・・(C)
[式中:
Rf5は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基を表し;
Rf6は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基、フッ素原子または水素原子を表し;
a’、b’、c’およびd’は、互いに独立して0以上300以下の整数であり、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1であり、添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物である、上記[1]〜[8]のいずれかに記載の表面処理剤。
[10] 表面処理剤中、成分(A)、成分(B)および成分(C)の合計に対して、成分(A)の含有量は、40〜90質量%である、上記[1]〜[9]のいずれかに記載の表面処理剤。
[11] 表面処理剤中、成分(A)、成分(B)および成分(C)の合計に対して、
成分(A)の含有量は、40〜80質量%であり、
成分(B)の含有量は、5〜20質量%であり、
成分(C)の含有量は、10〜30質量%である、
上記[1]〜[10]のいずれかに記載の表面処理剤。
[12] シリコーンオイル、および触媒から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記[1]〜[11]のいずれかに記載の表面処理剤。
[13] さらに溶媒を含む、上記[1]〜[12]のいずれかに記載の表面処理剤。
[14] 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、上記[1]〜[13]のいずれかに記載の表面処理剤。
[15] 真空蒸着用である、上記[1]〜[14]のいずれかに記載の表面処理剤。
[16] 上記[1]〜[15]のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
[17] 基材と、該基材上に、上記[1]〜[15]のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
成分(A):式(1A)または(2A)で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物、
成分(B):式(1B)または(2B)で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物、および
成分(C):1種またはそれ以上の含フッ素オイル
を含む。
上記フルオロポリエーテル基含有化合物は、下記式(1A)または(2A):
Rf1Aは、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
Rf2Aは、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RAは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(S1):
Rd1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2−CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2’−CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z2’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R32’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
q2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R35は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Re1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数である。)
で表される基であり;
少なくとも1つのRAは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
α1は、1〜9の整数であり;
β1は、1〜9の整数であり;
γ1は、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である。
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3RFa 6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
[式中:
RFaは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0〜200の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は1以上である。a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である。
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは、1〜200の整数である。];
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、eおよびfは、それぞれ独立して1以上200以下の整数であり、
c、d、eおよびfの和は2以上であり、
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。];
−(R6−R7)g− (f3)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり、
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせであり、
gは、2〜100の整数である。];
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f4)
[式中、eは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f5)
[式中、fは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびeは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は少なくとも1であり、また、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
Rd1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2−CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2’−CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z2’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R32’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
q2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R35は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Re1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数である。)
で表される基である。
−(R51)p5−(X51)q5−
[式中:
R51は、単結合、−(CH2)s5−またはo−、m−もしくはp−フェニレン基を表し、好ましくは−(CH2)s5−であり、
s5は、1〜20の整数、好ましくは1〜6の整数、より好ましくは1〜3の整数、さらにより好ましくは1または2であり、
X51は、−(X52)l5−を表し、
X52は、各出現においてそれぞれ独立して、−O−、−S−、o−、m−もしくはp−フェニレン基、−C(O)O−、−Si(R53)2−、−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、−CONR54−、−O−CONR54−、−NR54−および−(CH2)n5−からなる群から選択される基を表し、
R53は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、C1−6アルキル基またはC1−6アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはC1−6アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
R54は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、
m5は、各出現において、それぞれ独立して、1〜100の整数、好ましくは1〜20の整数であり、
n5は、各出現において、それぞれ独立して、1〜20の整数、好ましくは1〜6の整数、より好ましくは1〜3の整数であり、
l5は、1〜10の整数、好ましくは1〜5の整数、より好ましくは1〜3の整数であり、
p5は、0または1であり、
q5は、0または1であり、
ここに、p5およびq5の少なくとも一方は1であり、p5またはq5を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である]
で表される2価の有機基が挙げられる。ここに、XA(典型的にはXAの水素原子)は、フッ素原子、C1−3アルキル基およびC1−3フルオロアルキル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、XAは、これらの基により置換されていない。
単結合、
−C1−20アルキレン基、
−R51−X53−R52−、または
−X54−R5−
[式中、R51およびR52は、上記と同意義であり、
X53は、
−O−、
−S−、
−C(O)O−、
−CONR54−、
−O−CONR54−、
−Si(R53)2−、
−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、
−O−(CH2)u5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、
−O−(CH2)u5−Si(R53)2−O−Si(R53)2−CH2CH2−Si(R53)2−O−Si(R53)2−、
−O−(CH2)u5−Si(OCH3)2OSi(OCH3)2−、
−CONR54−(CH2)u5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−、
−CONR54−(CH2)u5−N(R54)−、または
−CONR54−(o−、m−またはp−フェニレン)−Si(R53)2−
(式中、R53、R54およびm5は、上記と同意義であり、
u5は1〜20の整数、好ましくは2〜6の整数、より好ましくは2〜3の整数である。)を表し、
X54は、
−S−、
−C(O)O−、
−CONR54−、
−O−CONR54−、
−CONR54−(CH2)u5−(Si(R54)2O)m5−Si(R54)2−、
−CONR54−(CH2)u5−N(R54)−、または
−CONR54−(o−、m−またはp−フェニレン)−Si(R54)2−
(式中、各記号は、上記と同意義である。)
を表す。]
であり得る。
単結合、
−C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−X53−、
−(CH2)s5−X53−(CH2)t5−
−X54−、または
−X54−(CH2)t5−
[式中、X53、X54、s5およびt5は、上記と同意義である。]
である。
単結合、
−C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−X53−(CH2)t5−、または
−X54−(CH2)t5−
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
であり得る。
単結合
−C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−X53−、または
−(CH2)s5−X53−(CH2)t5−
[式中、
X53は、−O−、−CONR54−、または−O−CONR54−であり、
R54は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し、
s5は、1〜20の整数であり、
t5は、1〜20の整数である。]
であり得る。
−(CH2)s5−O−(CH2)t5−
−CONR54−(CH2)t5−
[式中、
R54は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1−6アルキル基を表し、
s5は、1〜20の整数であり、
t5は、1〜20の整数である。]
であり得る。
単結合、
−C1−20アルキレン基、
−(CH2)s5−O−(CH2)t5−、
−(CH2)s5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−(CH2)t5−、
−(CH2)s5−O−(CH2)u5−(Si(R53)2O)m5−Si(R53)2−(CH2)t5−、または
−(CH2)s5−O−(CH2)t5−Si(R53)2−(CH2)u5−Si(R53)2−(CvH2v)−
[式中、R53、m5、s5、t5およびu5は、上記と同意義であり、v5は1〜20の整数、好ましくは2〜6の整数、より好ましくは2〜3の整数である。]
である。
Dは、
−CH2O(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3−、
−CF2O(CH2)3−、
−(CH2)2−、
−(CH2)3−、
−(CH2)4−、
−CONH−(CH2)3−、
−CON(CH3)−(CH2)3−、
−CON(Ph)−(CH2)3−(式中、Phはフェニルを意味する)、および
から選択される基であり、
Eは、−(CH2)n−(nは2〜6の整数)であり、
Dは、分子主鎖のRf1AまたはRf2Aに結合し、Eは、RAに結合する。]
単結合、
−CH2OCH2−、
−CH2O(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3−、
−CH2O(CH2)4−、
−CH2O(CH2)5−、
−CH2O(CH2)6−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2−、
−CH2OCF2CHFOCF2−、
−CH2OCF2CHFOCF2CF2−、
−CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2−、
−CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2−、
−CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2−C(O)NH−CH2−、
−CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2−、
−CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2−、
−(CH2)2−Si(CH3)2−(CH2)2−、
−CH2−、
−(CH2)2−、
−(CH2)3−、
−(CH2)4−、
−(CH2)5−、
−(CH2)6−、
−CO−、
−CONH−、
−CONH−CH2−、
−CONH−(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3−、
−CONH−(CH2)4−、
−CONH−(CH2)5−、
−CONH−(CH2)6−、
−CON(CH3)−CH2−、
−CON(CH3)−(CH2)2−、
−CON(CH3)−(CH2)3−、
−CON(CH3)−(CH2)4−、
−CON(CH3)−(CH2)5−、
−CON(CH3)−(CH2)6−、
−CON(Ph)−CH2−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)2−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)3−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)4−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)5−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CON(Ph)−(CH2)6−(式中、Phはフェニルを意味する)、
−CONH−(CH2)2NH(CH2)3−、
−CONH−(CH2)6NH(CH2)3−、
−CH2O−CONH−(CH2)3−、
−CH2O−CONH−(CH2)6−、
−S−(CH2)3−、
−(CH2)2S(CH2)3−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2−、
−CONH−(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2−、
−C(O)O−(CH2)3−、
−C(O)O−(CH2)6−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−(CH2)2−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−CH(CH3)−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−(CH2)3−、
−CH2−O−(CH2)3−Si(CH3)2−(CH2)2−Si(CH3)2−CH(CH3)−CH2−、
−OCH2−、
−O(CH2)3−、
−OCFHCF2−、
などが挙げられる。
R41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数1〜6のアルキル基、またはC1−6アルコキシ基好ましくはメチル基であり;
各XA基において、Tのうち任意のいくつかは、分子主鎖のRf1AまたはRf2Aに結合する以下の基:
−CH2O(CH2)2−、
−CH2O(CH2)3−、
−(CH2)2−、
−(CH2)3−、
−(CH2)4−、
−CONH−(CH2)3−、
−CON(CH3)−(CH2)3−、
−CON(Ph)−(CH2)3−(式中、Phはフェニルを意味する)、または
であり、別のTのいくつかは、分子主鎖のRAに結合し、存在する場合、残りのTは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、C1−6アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。
R25は、少なくとも1つのRF1に結合し、R26およびR27は、それぞれ、少なくとも1つのRSiに結合する。]
上記フルオロポリエーテル基含有化合物は、下記式(1B)または(2B):
Rf1Bは、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
Rf2Bは、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RBは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(S2):
R11は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R12は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n1は、(SiR11 n1R12 3−n1)単位毎にそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
X11は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基であり;
R13は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、2〜10の整数であり;
R14は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子である。)
で表される基であり;
少なくとも1つのRBは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XBは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
α2は、1〜9の整数であり;
β2は、1〜9の整数であり;
γ2は、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物である。
R11は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R12は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n1は、(SiR11 n1R12 3−n1)単位毎にそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
X11は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基であり;
R13は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、2〜10の整数であり;
R14は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子である。)
で表される基である。
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、好ましくは、以下の一般式(C)で表される化合物(パーフルオロ(ポリ)エーテル化合物)が挙げられる。
Rf5−(OC4F8)a’−(OC3F6)b’−(OC2F4)c’−(OCF2)d’−Rf6 ・・・(C)
Rf5−(OCF2CF2CF2)b”−Rf6 ・・・(Ca)
Rf5−(OCF2CF2CF2CF2)a”−(OCF2CF2CF2)b”−(OCF2CF2)c”−(OCF2)d”−Rf6 ・・・(Cb)
これら式中、Rf5およびRf6は上記の通りであり;式(Ca)において、b”は1以上100以下の整数であり;式(Cb)において、a”およびb”は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c”およびd”はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a”、b”、c”、d”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
成分(A)の含有量は、40〜80質量%、好ましくは50〜80質量%、より好ましくは50〜75質量%、さらに好ましくは65〜75質量%であり、
成分(B)の含有量は、5〜20質量%、好ましくは10〜15質量%であり、
成分(C)の含有量は、10〜30質量%、好ましくは15〜20質量%である。
成分(A)、成分(B)および成分(C)の含有量をかかる範囲とすることにより、得られる表面処理層の摩擦耐久性がより向上する。
化合物(A):
(なお、平均組成としては、(CF2CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が0.27個および(CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が0.42個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−C(CH2CH2CH2Si(OCH3)3)を有する化合物が3.2%含まれていたが、微量のため省略した。)
(なお、平均組成としては、(CF2CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が0.17個および(CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が0.18個含まれていたが、微量のため省略した。また、両末端に−Si(CH2CH2CH2Si(OCH3)3)を有する化合物が2.2%含まれていたが、微量のため省略した。)
(m≒22、n≒21)
上記で調製した表面処理剤1〜8を、それぞれ化学強化ガラス(コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ0.7mm)上に真空蒸着した。真空蒸着法の条件は、抵抗加熱式蒸着機(シンクロン製)、チャンバーサイズ1,900mmφ、真空度5.0E−05、電流値240A、電圧10V、基材温度40℃であった。次に、蒸着した化学強化ガラスを、温度150℃の雰囲気下で30分静置し、その後室温まで放冷させ、ガラス基材上に表面処理層を形成した。
得られた表面処理層の特性を以下のように評価した。結果を下記表2に示す。
(初期評価)
まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。
ラビングテスター(新東科学社製)を用いて、下記条件で2500回擦る毎に耐水接触角を測定し、10000回もしくは100°未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は25℃、湿度40%RHであった。
消しゴム:Raber Eraser(Minoan社製)
接地面積:6mmφ
移動距離(片道):30mm
移動速度:3,600mm/分
荷重:1kg/6mmφ
Claims (17)
- 成分(A):下記式(1A)または(2A):
Rf1Aは、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
Rf2Aは、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RAは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(S1):
Rd1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2−CR31 p2R32 q2R33 r2であり;
Z2は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R31は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z2’−CR32’ q2’R33’ r2’であり;
R32は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
p2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
q2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z2’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R32’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
R33’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
q2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
r2’は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Z3は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または2価の有機基であり;
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R35は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
Re1は、各出現においてそれぞれ独立して、−Z3−SiR34 n2R35 3−n2であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または1価の有機基であり;
k2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
l2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
m2は、各出現においてそれぞれ独立して、0〜3の整数である。)
で表される基であり;
少なくとも1つのRAは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XAは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
α1は、1〜9の整数であり;
β1は、1〜9の整数であり;
γ1は、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物;
成分(B):下記式(1B)または(2B):
Rf1Bは、各出現においてそれぞれ独立して、Rf1−RF−Oq−であり;
Rf2Bは、−Rf2 p−RF−Oq−であり;
Rf1は、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−16アルキル基であり;
Rf2は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1−6アルキレン基であり;
RFは、各出現においてそれぞれ独立して、2価のフルオロポリエーテル基であり;
pは、0または1であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0または1であり;
RBは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(S2):
R11は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり;
R12は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
n1は、(SiR11 n1R12 3−n1)単位毎にそれぞれ独立して、0〜3の整数であり;
X11は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または2価の有機基であり;
R13は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または1価の有機基であり;
tは、各出現においてそれぞれ独立して、2〜10の整数であり;
R14は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子である。)
で表される基であり;
少なくとも1つのRBは、水酸基または加水分解性基が結合したSi原子を含む1価の基であり;
XBは、それぞれ独立して、単結合または2〜10価の有機基であり;
α2は、1〜9の整数であり;
β2は、1〜9の整数であり;
γ2は、それぞれ独立して、1〜9の整数である。]
で表される少なくとも1種のフルオロポリエーテル基含有化合物、および
成分(C):1種またはそれ以上の含フッ素オイル
を含有する、表面処理剤。 - l2は2であり、m2は1であるか、あるいはl2は3である、請求項1に記載の表面処理剤。
- l2は3である、請求項1または2に記載の表面処理剤。
- RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3RFa 6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f−
[式中、RFaは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
a、b、c、d、eおよびfは、それぞれ独立して、0〜200の整数であって、a、b、c、d、eおよびfの和は1以上であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - RFaは、フッ素原子である、請求項4に記載の表面処理剤。
- RFは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)または(f5):
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは1〜200の整数である。]、
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1〜200の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10〜200の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]、
−(R6−R7)g− (f3)
[式中、R6は、OCF2またはOC2F4であり;
R7は、OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10およびOC6F12から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される2または3つの基の組み合わせであり;
gは、2〜100の整数である。]、
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f4)
[式中、eは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびfは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]、
−(OC6F12)a−(OC5F10)b−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f5)
[式中、fは、1以上200以下の整数であり、a、b、c、dおよびeは、それぞれ独立して0以上200以下の整数であり、a、b、c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。]
で表される基である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - 上記式(1A)および(2A)において、RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式(f2):
−(OC4F8)c−(OC3F6)d−(OC2F4)e−(OCF2)f− (f2)
[式中、cおよびdは、それぞれ独立して、0〜30の整数であり;
eおよびfは、それぞれ独立して、1〜200の整数であり;
c、d、eおよびfの和は、10〜200の整数であり;
添字c、d、eまたはfを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表される基であり、
上記式(1B)および(2B)において、RFは、各出現においてそれぞれ独立して、式(f1):
−(OC3F6)d− (f1)
[式中、dは1〜200の整数である。]
で表される基である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - α1、β1およびγ1は、1であり、α2、β2およびγ2は、1である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 前記含フッ素オイルは、下記式(C):
Rf5−(OC4F8)a’−(OC3F6)b’−(OC2F4)c’−(OCF2)d’−Rf6 ・・・(C)
[式中:
Rf5は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基を表し;
Rf6は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1〜16アルキル基、フッ素原子または水素原子を表し;
a’、b’、c’およびd’は、互いに独立して0以上300以下の整数であり、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1であり、添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル化合物である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - 表面処理剤中、成分(A)、成分(B)および成分(C)の合計に対して、成分(A)の含有量は、40〜90質量%である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 表面処理剤中、成分(A)、成分(B)および成分(C)の合計に対して、
成分(A)の含有量は、40〜80質量%であり、
成分(B)の含有量は、5〜20質量%であり、
成分(C)の含有量は、10〜30質量%である、
請求項1〜10のいずれか1項に記載の表面処理剤。 - シリコーンオイル、および触媒から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項1〜11のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- さらに溶媒を含む、請求項1〜12のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項1〜13のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 真空蒸着用である、請求項1〜14のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 請求項1〜15のいずれか1項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
- 基材と、該基材上に、請求項1〜15のいずれか1項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019126387 | 2019-07-05 | ||
JP2019126387 | 2019-07-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021011568A true JP2021011568A (ja) | 2021-02-04 |
JP6908166B2 JP6908166B2 (ja) | 2021-07-21 |
Family
ID=74114828
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020104183A Active JP6908166B2 (ja) | 2019-07-05 | 2020-06-17 | 表面処理剤 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220119592A1 (ja) |
EP (1) | EP3995554A4 (ja) |
JP (1) | JP6908166B2 (ja) |
KR (1) | KR20220016216A (ja) |
CN (1) | CN114072475B (ja) |
TW (1) | TWI796576B (ja) |
WO (1) | WO2021005981A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023210651A1 (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-02 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004359804A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Kao Corp | フッ素オイル組成物 |
JP2014015609A (ja) * | 2012-06-13 | 2014-01-30 | Daikin Ind Ltd | パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および表面処理剤 |
JP2014218639A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-11-20 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2015511174A (ja) * | 2012-02-28 | 2015-04-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素シラン系膜を有する物品の製造方法 |
JP2016017176A (ja) * | 2014-07-11 | 2016-02-01 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
WO2017130973A1 (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-03 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
WO2018047686A1 (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-15 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5718752B2 (ja) * | 2011-07-15 | 2015-05-13 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属表面処理剤及びその処理剤で処理してなる金属材料 |
CN103289461B (zh) * | 2013-07-01 | 2016-05-04 | 厦门大学 | 喜树碱及其衍生物作为防污剂的应用 |
KR101972244B1 (ko) * | 2015-01-29 | 2019-04-24 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리제 |
KR101992582B1 (ko) | 2015-07-31 | 2019-06-24 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 퍼플루오로(폴리)에테르기 함유 실란 화합물 |
CN109016719A (zh) * | 2017-06-08 | 2018-12-18 | 大金工业株式会社 | 表面处理剂 |
-
2020
- 2020-06-17 KR KR1020217043263A patent/KR20220016216A/ko active Search and Examination
- 2020-06-17 CN CN202080048003.6A patent/CN114072475B/zh active Active
- 2020-06-17 WO PCT/JP2020/023737 patent/WO2021005981A1/ja unknown
- 2020-06-17 EP EP20836496.8A patent/EP3995554A4/en active Pending
- 2020-06-17 JP JP2020104183A patent/JP6908166B2/ja active Active
- 2020-06-29 TW TW109121884A patent/TWI796576B/zh active
-
2022
- 2022-01-03 US US17/567,384 patent/US20220119592A1/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004359804A (ja) * | 2003-06-04 | 2004-12-24 | Kao Corp | フッ素オイル組成物 |
JP2015511174A (ja) * | 2012-02-28 | 2015-04-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素シラン系膜を有する物品の製造方法 |
JP2014015609A (ja) * | 2012-06-13 | 2014-01-30 | Daikin Ind Ltd | パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および表面処理剤 |
JP2014218639A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-11-20 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2016017176A (ja) * | 2014-07-11 | 2016-02-01 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
WO2017130973A1 (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-03 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
WO2018047686A1 (ja) * | 2016-09-08 | 2018-03-15 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル変性アミドシラン化合物を含む組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2023210651A1 (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-02 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
JP2023163157A (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-09 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN114072475A (zh) | 2022-02-18 |
EP3995554A1 (en) | 2022-05-11 |
TW202108669A (zh) | 2021-03-01 |
TWI796576B (zh) | 2023-03-21 |
CN114072475B (zh) | 2022-06-17 |
KR20220016216A (ko) | 2022-02-08 |
US20220119592A1 (en) | 2022-04-21 |
EP3995554A4 (en) | 2023-07-26 |
WO2021005981A1 (ja) | 2021-01-14 |
JP6908166B2 (ja) | 2021-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6908171B2 (ja) | 表面処理剤 | |
JP6801804B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有化合物 | |
JP6844728B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有化合物 | |
JP6897834B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有化合物 | |
US20220153929A1 (en) | Surface-treating agent | |
JP6911963B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有化合物 | |
JP6828841B2 (ja) | 表面処理剤 | |
JP6908166B2 (ja) | 表面処理剤 | |
JP6838671B2 (ja) | フルオロポリエーテル基含有化合物 | |
JP6927373B2 (ja) | 表面処理剤 | |
WO2022097568A1 (ja) | 表面処理剤 | |
JP7252500B2 (ja) | 表面処理剤 | |
WO2023210651A1 (ja) | 表面処理剤 | |
WO2023210653A1 (ja) | 表面処理剤 | |
TW202328278A (zh) | 表面處理劑 | |
JP2022115807A (ja) | フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200617 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200901 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20201102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210601 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210614 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6908166 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |