WO2021100827A1

WO2021100827A1 - フルオロポリエーテル基シラン含有化合物

Info

Publication number: WO2021100827A1
Application number: PCT/JP2020/043271
Authority: WO
Inventors: 元志松井; 秀幸池内; 内藤　真人; 香織小澤; 健前平; 孝史野村; 尚志三橋; 真也高野
Original assignee: ダイキン工業株式会社
Priority date: 2019-11-22
Filing date: 2020-11-19
Publication date: 2021-05-27
Also published as: JP7319242B2; CN114729117A; TWI811586B; TW202130697A; JP2021088551A

Abstract

式（１ａ）または式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。式中、各記号は、明細書の記載と同意義である。

Description

フルオロポリエーテル基シラン含有化合物

　本開示は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物に関する。

　ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

　そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解性基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１～２）。

特開２０１４－２１８６３９号公報特開２０１７－０８２１９４号公報

　上記のような表面処理剤として使用し得るフルオロポリエーテル基含有シラン化合物としては、さらに新たな構造が求められ得る。

　本開示は、以下の［１］～［２０］を提供するものである。
［１］　式（１ａ）または式（１ｂ）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　αは、１～９の整数であり；
　βは、１～９の整数であり；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
　Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上のアミド結合を有する２～１０価の有機基であり；
　Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［２］　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される、［１］または［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは１である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
［４］　Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、
　　　－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である、［１］～［３］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
　ｓ１１は、１～３の整数であり；
　Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
　Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
　ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
　ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。］
［５］　Ｘ^Ａは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、
　　　－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である、［１］～［４］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
　ｓ１１は、１～３の整数であり；
　Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
　ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
　ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。］
［６］　Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－Ｒ^２２１－、または、
　　－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－
である、［４］または［５］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　Ｒ^２２１およびＲ^２２２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基であり；
　前記Ｃ_１－１０アルキレン基の水素原子は、置換されていてもよく；
　Ｘ^３１は、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－であり；
　Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基であり；
　ｓ３１は、０または１であり；
　ｓ３２は、０または１である。］
［７］　α、βおよびγが、それぞれ１である、［１］～［６］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］　Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される、［１］～［７］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。］
［９］　ｎ１は、３である、［８］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］　ｋ１は、３であり、ｑ１は１～３の整数である、［８］または［９］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１１］　ｌ２は、３であり、ｎ２は１～３の整数である、［８］～［１０］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１２］　［１］～［１１］のいずれか１つに記載の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル化合物を含有する、表面処理剤。
［１３］　含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［１２］に記載の表面処理剤。
［１４］　さらに溶媒を含む、［１２］または［１３］に記載の表面処理剤。
［１５］　防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１２］～［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］　真空蒸着用である、［１２］～［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］　湿潤被覆処理用である、［１２］～［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１８］　［１２］～［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１９］　基材と、該基材の表面に、［１］～［１１］のいずれか１つに記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、または、［１２］～［１７］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［２０］　光学部材である、［１９］に記載の物品。

　本開示によると、表面処理剤として使用し得る新たなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が提供される。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。

　また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
　本実施形態のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、以下の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される。

　式（１ａ）において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　式（１ｂ）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

　上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

　上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

　上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

　Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
で表されるフルオロポリエーテル基である。
　上記式中：
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。また、－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは１である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。上記式（ｆ１）において－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－または－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－で表される基であり、より好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－で表される基である。

　上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、および－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－または－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

　上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－
である［式中、ｄは、１～２００の整数である］。

　上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、（人の）汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。ここで、ｆは１以上の整数である。

　一の態様において、ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９であり、より好ましくは０．２～０．８５であり、さらに好ましくは０．２～０．８である。

　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．９以上であり、より好ましくは０．９～１．５である。

　上記Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～９，０００であり得、例えば３，０００～８，０００であり得る。

　上記式（１ａ）において、αは１～９の整数であり、βは１～９の整数である。これらαおよびβは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。αおよびβの和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。

　上記式（１ｂ）において、γは１～９の整数である。γは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。

　上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｘ^Ａは、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓｉ）とを連結するリンカーと解される。なお、Ｘ^Ａとして記載している構造は、左側がＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２と、右側がＲ^Ｓｉとそれぞれ結合する。当該Ｘ^Ａは、式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物が安定に存在し得るものである。

　Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上のアミド結合を有する２～１０価の有機基である。該アミド結合において、窒素原子に結合する水素原子は、置換されていてもよい。言い換えると、アミド結合は、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－で表され、Ｒ^Ｎは、例えば、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子である。
　本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、このような構造を有することにより、摩擦耐久性（例えば皮膚摩擦耐久性、織布摩擦耐久性、消しゴム摩擦耐久性、スチールウール摩擦耐久性）、耐ケミカル性（例えば、溶剤に対する耐久性、人工汗に対する耐久性、酸やアルカリ性に対する耐久性）、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、防水性（例えば電子部品などへの水の浸水を防止する）、または表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）等の良好な硬化層（例えば、表面処理層）の形成に寄与し得る。これは、２以上のアミド結合を有することにより、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物と基材との親和性が高まり、より密で強固な結合が形成され得るためと考えられる。

　上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、２～１０価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｌ１）：
　　－（Ｘ^Ｎ）_ｓ１０－（Ｘ^２）_ｓ１２－　　　　　　（Ｌ１）
で表される。

　式（Ｌ１）において、Ｘ^Ｎは、アミド結合を表す。ここで、アミド結合は、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－で表される。Ｒ^Ｎは、例えば、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子である。

　式（Ｌ１）において、Ｘ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価以上の有機基である。Ｘ^２の価数は、上記式（Ｌ１）で表される基の価数に応じて変化し得る。例えば、式（Ｌ１）で表される基が２価の場合、すべてのＸ^２は２価の有機基であり、式（Ｌ１）で表される基が３価の場合、いずれか１つのＸ^２が３価の有機基であり、それ以外のＸ^２は２価の有機基である。

　式（Ｌ１）において、ｓ１０は、２～４の整数であり、好ましくは２または３である。一の態様において、ｓ１０は２である。

　式（Ｌ１）において、ｓ１２は、１～７の整数であり、１～５の整数であってもよく、１～３の整数であってもよい。

　ただし、式（Ｌ１）において、添字ｓ１０、またはｒ１２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｌ２）：
　　－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｌ２）
で表される基である。
　式中：
　Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
　ｓ１１は、１～３の整数であり；
　Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
　Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
　ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
　ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。

　上記式（Ｌ２）の－（Ｘ^２１）_ｓ２１－、－（Ｘ^２２）－、および（Ｘ^２１）_ｓ２２－で表される部分が、式（Ｌ１）の－（Ｘ^２）_ｓ１２－で表される部分に相当する。すなわち、ｓ２１、ｓ１１およびｓ２２の和が、ｓ１２に相当し、Ｘ^２１およびＸ^２２の構造は、Ｘ^２の構造に相当する。式（Ｌ２）のｓ１１に１を足した値が、式（Ｌ１）のｓ１０となる。

　式（Ｌ２）において、Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^２１は、２価の有機基である。本態様においては、Ｘ^２１は、後述するＸ^２２において２価の有機基として記載する構造と同意義であってもよい。

　一の態様において、Ｘ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－Ｒ^２１１－、または、
　　－（Ｒ^２１１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２１２）_ｓ３２－
である。一の態様において、Ｘ^２１は－Ｒ^２１１－である。一の態様において、Ｘ^２１は－（Ｒ^２１１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２１２）_ｓ３２－である。

　上記Ｒ^２１１およびＲ^２１２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基、好ましくは、Ｃ_１－５アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基であり、例えばＣ_１－２アルキレン基である。これらのアルキレン基の水素原子は、置換されていてもよい。
　該アルキレン基の水素原子が置換されている場合、置換基としては、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子である。

　例えば、Ｒ^２１１およびＲ^２１２は、それぞれ独立して、－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２－、または－ＣＦ_２ＣＦ_２－であってもよい。

　本態様において、Ｘ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－である。ここで、Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子である。

　本態様において、ｓ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３１は０である。一の態様において、ｓ３１は１である。

　本態様において、ｓ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３２は１である。

　本態様において、好ましくは、ｓ３１およびｓ３２の和は１以上である。

　本態様において、例えば、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は１であり、一の態様において、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３１は０、かつ、ｓ３２は１である。

　一の態様において、Ｘ^２１として、下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^２５、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して２～６価の有機基である。］

　一の態様において、上記Ｒ^２５は、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、Ｃ_５－２０アリーレン基、－Ｒ^５７－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、または－Ｒ^５７－Ｘ^５８－である。上記、Ｒ^５７およびＲ^５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、またはＣ_５－２０アリーレン基である。上記Ｘ^５８は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－または－ＣＯＯ－である。

　一の態様において、上記Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して、炭化水素、または炭化水素の端または主鎖中にＮ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－Ｒ^３６－Ｒ^３７－Ｒ^３６－、－Ｒ^３６－ＣＨＲ^３８ _２－などが挙げられる。ここに、Ｒ^３６は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１～６のアルキレン基、好ましくは炭素数１～６のアルキレン基である。Ｒ^３７は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＮまたはＯである。Ｒ^３８は、－Ｒ^４５－Ｒ^４６－Ｒ^４５－、－Ｒ^４６－Ｒ^４５－または－Ｒ^４５－Ｒ^４６－である。ここに、Ｒ^４５は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ^４６は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＯである。

　この態様において、Ｘ^２１は、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。

　式（Ｌ２）において、Ｘ^Ｎは、アミド結合を表す。ここで、アミド結合は、－ＮＲ^ＮＣ（＝Ｏ）－、または－Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^Ｎ－で表される。Ｒ^Ｎは、例えば、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、好ましくは水素原子である。

　式（Ｌ２）において、Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^２２としては、例えば、下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
　ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－を表し、
　Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＮＲ^５４－および－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基を表し、ただし、Ｘ^５２には、アミド結合は含まれず、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基またはＣ_１－６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
　ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ５は、０または１であり、
　ｑ５は、０または１であり、
　ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^２２（典型的にはＸ^２２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^２２は、これらの基により置換されていない。

　好ましい態様において、上記Ｘ^２２は、それぞれ独立して、
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－
である。
　Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－またはｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基を表し、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基およびＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５２は、これらの基により置換されていない。

　Ｘ^２２は、好ましくは、
　　－Ｒ^２２１－、または、
　　－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－
である。

　Ｒ^２２１およびＲ^２２２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基、好ましくは、Ｃ_１－７アルキレン基である。これらのアルキレン基の水素原子は、置換されていてもよい。
　該アルキレン基の水素原子が置換されている場合、置換基としては、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基および５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子である。例えば、該アルキレン基の水素原子がすべて置換されていてもよく、好ましくは該アルキレン基の水素原子がすべてフッ素原子により置換されていてもよい。

　一の態様において、Ｒ^２２１およびＲ^２２２におけるアルキレン基の水素原子は、少なくとも一部が置換されている。

　一の態様において、Ｒ^２２１およびＲ^２２２におけるアルキレン基の水素原子は、非置換である。

　Ｘ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－である。ここで、Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子である。

　ｓ３１は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３１は０である。一の態様において、ｓ３１は１である。

　ｓ３２は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３２は１である。

　好ましくは、ｓ３１およびｓ３２の和は１以上である。

　一の態様において、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は１である。一の態様において、ｓ３１は１、かつ、ｓ３２は０である。一の態様において、ｓ３１は０、かつ、ｓ３２は１である。

　一の態様において、Ｘ^２２は、－Ｒ^２２１－で表される。

　一の態様において、Ｘ^２２は、－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－で表される。

　式（Ｌ２）において、ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ２１は１である。一の態様において、ｓ２１は０である。

　式（Ｌ２）において、ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｓ２２は１である。一の態様において、ｓ２２は０である。

　一の態様において、ｓ２１は１、ｓ２２は１である。

　一の態様において、ｓ２１は１、ｓ２２は０である。

　一の態様において、ｓ２１は０、ｓ２２は１である。

　一の態様において、ｓ２１は０、ｓ２２は０である。

　一の態様において、ｓ１１は、１～３の整数であり、好ましくは１または２である。一の態様において、ｓ１１は１である。一の態様において、ｓ１１は２である。

　一の態様において、Ｘ^２２は、－Ｒ^２２１－で表され、ｓ１１は２または３、好ましくは２である。即ち、本態様においては、複数の－Ｒ^２２１－が存在する。言い換えると、本態様においては、－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－で表される基が複数存在する。本態様において、－Ｒ^２２１－は、水素原子の一部が置換されたアルキレン基であってもよく；水素原子の一部が置換されたアルキレン基、および非置換のアルキレン基であってもよく；非置換のアルキレン基のみであってもよい。例えば、ｓ１１が２であり、－Ｒ^２２１－が２つ存在する場合には、２つの－Ｒ^２２１－は、双方とも水素原子の一部が置換されたアルキレン基であってもよく；一方が水素原子の一部が置換されたアルキレン基、他方が非置換のアルキレン基であってもよく；双方とも非置換のアルキレン基であってもよい。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、
　　　－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である。
　式中：
　Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
　ｓ１１は、１～３の整数であり；
　ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
　ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１であり；
　Ｘ^２１およびＸ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、具体的には、Ｘ^２１またはＸ^２２として上述した２価の有機基であり得る。

　本態様において、好ましくは、Ｘ^２１、またはＸ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－
で表され、より好ましくは
　　　－Ｒ^２２１－、または、
　　　－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－
で表される。Ｒ^５１、Ｘ^５１、Ｒ^５２、ｐ５、ｑ５、Ｒ^２２１、Ｒ^２２２、Ｘ^３１、ｓ３１およびｓ３２はそれぞれ上記と同意義である。

　一の態様において、例えば、
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－は単結合であり、かつ、－（Ｘ^２１）_ｓ２２－は－Ｒ^２２１－、または
－（Ｘ^２１）_ｓ２１－は－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－であり、かつ、－（Ｘ^２１）_ｓ２２－は－Ｒ^２２１－
であってもよい。

　式（Ｌ２）で表される場合、Ｘ^Ａは、例えば、
－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^２１－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^２１－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、
－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－、または
－Ｘ^２１－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２２－Ｘ^Ｎ－Ｘ^２１－
で表される基であり得る。

　Ｘ^Ａの具体的な構造としては、特に限定されないが、例えば、以下の基を挙げることができる。以下において、ｎ３１は、各出現において独立して、１～３の整数であり、ｎ３２は１～１０の整数（好ましくは１～７の整数）である。
－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－、
－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＣＨ_２）_ｎ３１－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３２－ＮＨＣＯ－（ＣＦ_２）_ｎ３２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_ｎ３１－

　一の態様において、αは１であり、βは２～５であり、Ｘ^Ａは３～６価の有機基である。

　一の態様において、γは２～５であり、Ｘ^Ａは３～６価の有機基である。

　一の態様において、αは１であり、βは２であり、Ｘ^Ａは、３価の有機基である。

　一の態様において、γは２であり、Ｘ^Ａは、３価の有機基である。

　一の態様において、αは１であり、βは１であり、Ｘ^Ａは２価の有機基である。

　Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

　ここで、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

　Ｒ^Ｓｉは、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。

　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。
　ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１）または（Ｓ２）で表される基である場合、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端のＲ^Ｓｉ部分（以下、単に式（１ａ）および式（１ｂ）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－（Ｏ）_ｘ－Ｒ^２９－である。式中、Ｒ^２８およびＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合またはＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０または１である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

　一の態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－または－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。

　好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合または直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合または直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。

　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。かかるＣ_１－２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

　好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子または直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子またはメチル基である。

　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。

　好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。

　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

　一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

　好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

　一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。

［式中、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、およびｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
　ｔ１およびｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数である。］

　好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１およびｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。以下、Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

　上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。Ｚ^１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

　上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

　上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１’は、０である。

　一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

　一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１は、０である。

　一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

　一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

　上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

　上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、または－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。なお、ここでｑ１とｒ１との合計は－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１単位毎に３であり；ｑ１’とｒ１’との合計は－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’単位毎に３であり；ｑ１”とｒ１”との合計は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”単位毎に３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２または３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２または３、好ましくは３である。

　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

　上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

　上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

　上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

　一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

　上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）または、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、およびＣ_２－６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基または－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

　ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２およびｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ２は、０である。

　一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２’は、３である。

　一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２およびｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１～３、好ましくは２または３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（１ａ）および式（１ｂ）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２または３、好ましくは３であり、ｎ２は、２または３、好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子またはＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

（組成物）
　以下、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）について説明する。

　本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１ａ）または式（１ｂ）で表される少なくとも１つのフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する。

　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含み得る。

　一の態様において、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に含まれる、式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に対する、式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の下限値は、好ましくは０．００１、より好ましくは０．００２、さらに好ましくは０．００５、さらにより好ましくは０．０１、特に好ましくは０．０２、特別には０．０５であり得る。式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に対する、式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）の上限値は、好ましくは０．３５、より好ましくは０．３０、さらに好ましくは０．２０、さらにより好ましくは０．１５または０．１０であり得る。式（１ａ）および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物に対する、式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の比（モル比）は、好ましくは０．００１以上０．３０以下、より好ましくは０．００１以上０．２０以下、さらに好ましくは０．００２以上０．２０以下、さらにより好ましくは０．００５以上０．２０以下、特に好ましくは０．０１以上０．２０以下、例えば０．０２以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）または０．０５以上０．２０以下（具体的には０．１５以下）である。上記範囲で含むことにより、本開示の組成物は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。

　本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、撥水性、撥油性、防汚性、表面滑り性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。

　本開示の組成物（例えば、表面処理剤）は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等をさらに含み得る。

　上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

　含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６　　　・・・（３）
　式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ａ）
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ｂ）
　これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

　上記含フッ素オイルは、５００～１０，０００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の組成物は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

　含フッ素オイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　本開示の組成物（例えば、表面処理剤）中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

　シリコーンオイルは、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

　触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の組成物（例えば、表面処理剤）により形成される層の形成を促進する。

　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

　本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。

　本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

（物品）
　以下、本開示の物品について説明する。

　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物またはフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本開示の表面処理剤」という）より形成された層（表面処理層）とを含む。

　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　基材の形状は特に限定されない。また、本開示の表面処理剤によって形成された層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

　またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

　次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。

　本開示の表面処理剤の層形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

　乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

　触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

　上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　すなわち本開示はさらに、本開示の表面処理剤に由来する層を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

　本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

　また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

　さらに、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車の内外装、例えばヘッドライトカバー、サイドミラー、サイドウインドウ、内装加飾フィルム、センターコンソール、メーターパネル、カメラレンズカバーなどであってもよい。

　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

　以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨及び範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。

　以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。また、ポリエーテル基を構成する繰り返し単位（ＯＣＦ_２）および（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）の存在順序は任意である。以下において、「Ｍｅ」はＣＨ_３を、「Ｂｏｃ」はｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基を、「ＢＯＰ」はベンゾトリアゾール－１－イルオキシ－トリスジメチルアミノホスホニウム塩を、「ｍＸＨＦ」はメタキシレンヘキサフロライドをそれぞれ表す。

（合成例１）
（合成例１－１）

　２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　１．５ｇをジクロロメタン　２０ｍＬに溶解した後、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＥＡ）　３．３ｍＬ、化合物１ａ　１．７５ｇ、ＢＯＰ　４．８２ｇを添加し、室温で一晩撹拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物２ａを２．９３ｇ得た。

化合物２ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.45 (s, 9H), 2.00-2.05 (m, 6H), 3.17 (d, 2H), 3.74 (d, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 6.36 (br s, 1H).

（合成例１－２）

　合成例１－１で得た化合物２ａ　１ｇをジクロロメタン　１０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）　３．５ｍＬを添加して２時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液を加え、水相を除去した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固した。シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物３ａを０．６９ｇ得た。

化合物３ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.46 (br s, 2H), 2.00-2.08 (m, 6H), 3.18 (d, 2H), 3.30-3.60 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 7.50 (br s, 1H).

（合成例１－３）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５）　２．４ｇに対して、合成例１－２で得た化合物３ａ　０．２６７ｇとｍＸＨＦ　２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、アセトン　１０ｍＬで洗浄し、濃縮乾固することで、化合物４ａを２．４３５ｇ得た。

化合物４ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.30-2.45 (m, 6H), 3.61 (d, 2H), 4.36 (d, 2H), 5.38-5.45 (m, 6H), 6.10-6.26 (m, 3H), 6.30-6.34 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例１－４）

　合成例１－３で得た化合物４ａ　１．３３ｇをｍＸＨＦ　１ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　２．６１μｌ、トリクロロシラン　０．２５２ｍｌ、カールシュテット触媒　３１．６μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、残渣にｍＸＨＦ　１ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　０．９２ｍＬ、およびメタノール　５１μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物５ａ（ｎ＝２５）を１．０９ｇ得た。

化合物５ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 4.37 (d, 2H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例２）
（合成例２－１）

　２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　１．５ｇをジクロロメタン　２０ｍＬに溶解した後、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン　３．３２ｍＬ、化合物１ｂ　１．７５ｇ、ＢＯＰ　４．８２ｇを添加し、室温で一晩撹拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物２ｂを２．８１ｇ得た。

化合物２ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.42 (s, 9H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.35-3.40 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 7H) , 5.65 (br s, 1H), 5.80-5.90 (m, 3H).

（合成例２－２）

　合成例２－１で得た化合物２ｂ　１．０９ｇをジクロロメタン　３ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸　３．０ｍＬを添加して４時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液を加え、水相を除去した後、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物３ｂを０．５９７ｇ得た。

化合物３ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.41 (br s, 2H), 1.95-2.08 (m, 6H), 2.30 (t, 2H), 3.00 (t, 2H), 3.15-3.20 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 7.42 (br s, 1H).

（合成例２－３）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５）　２．１２ｇに対して、合成例２－２で得た化合物３ｂ　０．２５ｇとｍＸＨＦ　２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄した後、濃縮乾固後することで、化合物４ｂを２．２３ｇ得た。

化合物４ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.30-2.50 (m, 8H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.55-3.65 (m, 2H), 5.38-5.50 (m, 6H), 6.10-6.28 (m, 3H), 6.30-6.40 (br s, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例２－４）

　合成例２－３で得た化合物４ｂ　１．５２ｇをｍＸＨＦ　１ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン　２．９８μｌ、トリクロロシラン　０．４７９ｍｌ、カールシュテット触媒　３６．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ　１ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　１．１０ｍＬ、およびメタノール　５８μｌ滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物５ｂ（ｎ＝２５）を１．２９ｇ得た。

化合物５ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 3.17-3.20 (m, 2H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例３）
（合成例３－１）

　２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　１．７９ｇをジクロロメタン　２０ｍＬに溶解した後、Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン　３．６８ｍＬ、化合物１ｃ　２．０ｇ、ＢＯＰ　５．２２ｇを添加し、室温で一晩撹拌した。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物２ｃを３．４５ｇ得た。

化合物２ｃ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.42 (s, 9H), 1.75-1.80 (m, 2H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.15-2.20 (m, 2H), 3.15-3.20 (m, 4H), 4.74 (br s, 1H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.80-5.90 (m, 3H), 6.33 (br s, 1H).

（合成例３－２）

　合成例３－１で得た化合物２ｃ　１．０７ｇをジクロロメタン　３ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸　４．０ｍＬを添加して４時間撹拌した。水酸化ナトリウム水溶液を加え、水相を除去した後、無水硫酸ナトリウム用いて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物３ｃを０．６２ｇ得た。

化合物３ｃ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.21 (br s, 2H), 1.70-1.78 (m, 2H), 1.95-2.05 (m, 6H), 2.20-2.30 (m, 2H), 2.65-2.80 (m, 2H), 3.15-3.25 (m, 2H), 5.05-5.30 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 4H).

（合成例３－３）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５）　２．２ｇに対して、合成例３－２で得た化合物３ｃ　０．２８ｇとｍＸＨＦ　３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、濃縮乾固することで、化合物４ｃを２．３２ｇ得た。

化合物４ｃ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 (m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例３－４）

　合成例３－３で得た化合物４ｃ　１．１０ｇをｍＸＨＦ　１ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン　２．１６μｌ、トリクロロシラン　０．３４７ｍｌ、カールシュテット触媒　３６．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ　１ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　０．７６ｍＬ、およびメタノール　４２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物５ｃ（ｎ＝２５）を０．９２２ｇ得た。

化合物５ｃ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 (m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例３－５）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝５０）　４．４ｇに対して、合成例３－２で得た化合物３ｃ　０．２８ｇとｍＸＨＦ　３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物４ｃ’を４．６ｇ得た。

化合物４ｃ’
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 (m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例３－６）

　合成例３－５で得た化合物４ｃ’　２．２０ｇをｍＸＨＦ　２ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン　２．１６μｌ、トリクロロシラン　０．３４７ｍｌ、カールシュテット触媒　３６．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ　１ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　０．７６ｍＬ、およびメタノール　４２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物５ｃ’（ｎ＝５０）を１．８２ｇ得た。

化合物５ｃ’
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 (m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例４）
（合成例４－１）

　ＢＯＰ　５．３３ｇをジクロロメタン　２０ｍＬに溶解し、化合物１ｄ　２．５７ｇおよびトリエチルアミン　１．７５ｍＬを添加し、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　２．１２ｍｌを加え、室温で一晩撹拌させた。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物２ｄを３．５２ｇ得た。

化合物２ｄ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.20-1.25 (m, 4H), 1.40-1.44 (m, 11H), 2.00-2.05 (m, 6H), 2.15-2.20 (m, 4H), 3.00-3.20 (m, 4H), 4.50 (br s, 1H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.56 (br s, 1H), 5.75-5.90 (m, 3H).

（合成例４－２）

　合成例４－１で得た化合物２ｄ　１．４０ｇをジクロロメタン　８ｍＬに溶解し、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸　８．０ｍＬを添加して４時間撹拌した。濃縮乾固し、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物３ｄを１．０４ｇ得た。

化合物３ｄ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.30-1.50 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 6H), 2.10-2.20 (m, 2H), 2.60-2.70 (m, 2H), 3.15-3.20 (m, 2H), 5.05-5.15 (m, 6H) , 5.51 (br s, 1H), 5.80-5.90 (m, 3H).

（合成例４－３）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５）　２．３６ｇに対して、合成例４－２で得た化合物３ｄ　０．３４５ｇとｍＸＨＦ　３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固後することで、化合物４ｄを２．４７ｇ得た。

化合物４ｄ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 1.60-1.80 (m, 4H), 1.90-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.35-2.39 (m, 6H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 5.30-5.45 (m, 6H), 5.90-5.95 (m, 1H), 6.15-6.35 (m, 3H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.1, -85.6, -86.5, -87.2, -125.2, -131.3, -132.4.

（合成例４－４）

　合成例４－３で得た化合物４ｄ　１．６３ｇをｍＸＨＦ　１ｍＬに溶解後、室温下、トリアセトキシメチルシラン　３．２０μｌ、トリクロロシラン　０．５１４ｍｌ、カールシュテット触媒　３８．７μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ　１ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　１．１ｍＬおよびメタノール　６２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物５ｄ（ｎ＝２５）を１．４２ｇ得た。

化合物５ｄ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.88 (m, 14H), 1.91-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 5.90-5.95 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（合成例５－１）

　ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）　４．０７ｇに対して、合成例１－２で得た化合物３ａ　０．２４５ｇとｍＸＨＦ　３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固することで、化合物６ａを３．７５ｇ得た。

化合物６ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.30-2.45 (m, 6H), 3.61 (d, 2H), 4.36 (d, 2H), 5.38-5.45 (m, 6H), 6.10-6.26 (m, 3H), 6.30-6.34 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例５－２）

　合成例５－１で得た化合物６ａ　３．７５ｇをｍＸＨＦ　３ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　７．３５μｌ、トリクロロシラン　１．１８ｍｌ、カールシュテット触媒　８９．１μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ　３ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　２．６ｍＬ、およびメタノール　１４０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物７ａ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）を３．５４ｇ得た。

化合物７ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 3.62 (d, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 4.37 (d, 2H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例６－１）

　ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）　２．０ｇに対して、合成例３－２で得た化合物３ｃ　０．１４７ｇをとｍＸＨＦ　２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物６ｃを１．６８ｇ得た。

化合物６ｃ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.25-2.28 (m, 6H), 2.36-2.80 (m, 6H), 3.50-3.60 (m, 2H), 3.75-3.85 (m, 2H), 5.39-5.45 (m, 6H), 6.05-6.10 (m, 1H), 6.13-6.30 (m, 3H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例６－２）

　合成例６－１で得た化合物６ｃ　１．６８ｇをｍＸＨＦ　１ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　２．８２μｌ、トリクロロシラン　０．４５４ｍｌ、カールシュテット触媒　３４．２μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ　１ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　０．９９ｍＬ、およびメタノール　５５μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物７ｃ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）を１．６４ｇ得た。

化合物７ｃ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.65 (m, 6H), 1.77-1.90 (m, 6H), 2.30-2.40 (m, 2H), 2.76-2.78 (m, 2H), 3.53-3.55 (m, 2H), 3.84-3.86 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 6.75-6.78 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例７－１）

　ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）　３．５０ｇに対して、合成例４－２で得た化合物３ｄ　０．２７７ｇとｍＸＨＦ　３ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　２０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固することで、化合物６ｄを３．３７ｇ得た。

化合物６ｄ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 1.60-1.80 (m, 4H), 1.90-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.35-2.39 (m, 6H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 5.30-5.45 (m, 6H), 5.90-5.95 (m, 1H), 6.15-6.35 (m, 3H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例７－２）

　合成例７－１で得た化合物６ｄ　３．３７ｇをｍＸＨＦ　３ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　５．６６μｌ、トリクロロシラン　０．９１１ｍｌ、カールシュテット触媒　６８．７μｌを添加し、６０℃で３時間撹拌した。濃縮乾固した後、その残渣にｍＸＨＦ　３ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　２．００ｍＬ、およびメタノール　１１０μｌを滴下、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、ろ液を濃縮乾固することで、化合物７ｄ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）を２．７７ｇ得た。

化合物７ｄ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.05 (m, 6H), 1.55-1.88 (m, 14H), 1.91-1.95 (m, 2H), 2.00-2.10 (m, 2H), 2.50-2.57 (m, 6H), 3.50-3.61 (m, 2H), 3.72-3.75 (m, 2H), 3.85-4.10 (m, 27H), 5.90-5.95 (m, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（合成例８）
（合成例８－１）

　化合物８ａ　５ｇをジクロロメタン　１０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　４．５５ｇを滴下した後、室温で一晩撹拌させた。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物９ａを４．４６ｇ得た。

化合物９ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.00-2.20 (m, 6H), 3.20-3.31 (m, 2H), 3.94 (s, 3H), 5.05-5.20 (m, 6H), 5.80-5.70 (m, 3H), 6.61 (br s, 0.5H), 6.84 (br s, 0.5H).

（合成例８－２）

　合成例８－１で得た化合物９ａ　１．５４ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）　６ｍＬに溶解した後、Ｎ－Ｂｏｃ－エチレンジアミン　１．７３ｍＬを滴下し、室温で３日間撹拌させた。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物１０ａを２．１ｇ得た。

化合物１０ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.43 (s, 9H), 2.00-2.16 (m, 6H), 3.22 (d, 2H), 3.25-3.50 (m, 4H), 5.00-5.18 (m, 6H), 5.80-5.90 (m, 3H), 6.87 (br s, 1H), 7.50 (br s, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: -119.56, -119.64, -120.08, -120.11.

（合成例８－３）

　合成例８－２で得た化合物１０ａ　１．１ｇをジクロロメタン　１０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、トリフルオロ酢酸　１０ｍＬを添加して５時間撹拌した。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムにて精製することで、化合物１１ａを０．８７ｇ得た。

化合物１１ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.01-2.07 (m, 6H), 2.85-2.90 (m, 2H), 3.24-3.28 (m, 2H), 3.36-3.40 (m, 2H), 5.09-5.18 (m, 6H), 5.80-5.89 (m, 3H), 6.85 (br s, 1H), 7.12 (br s, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: -119.33, -119.55.

（合成例８－４）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５）　１．７ｇに対して、合成例８－３で得た化合物１１ａ　０．３７ｇとｍＸＨＦ　２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、クロロホルムで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮乾固することで、化合物１２ａを１．６１ｇ得た。

化合物１２ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.36-2.51 (m, 6H), 3.18 (s, 2H), 3.36-3.40 (m, 4H), 5.41-5.45 (m, 6H), 6.13-6.20 (m, 3H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.14, -85.60 - -86.60, -87.00, -87.21 - -87.34, -123.22 - -123.40, -124.90 - -124.96, -125.78, -131.36 - -131.50, -132.41.

（合成例８－５）

　合成例８－４で得た化合物１２ａ　１．１２ｇをｍＸＨＦ　３ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　３μｌ、トリクロロシラン　０．２５２ｍｌ、カールシュテット触媒　３４μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ　３ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　０．９５ｍＬ、およびメタノール　６０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌した。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１３ａを１．２ｇ得た。

化合物１３ａ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.95-1.08 (m, 6H), 1.55-1.67 (m, 6H), 1.77-1.95 (m, 6H), 3.36-3.40 (m, 4H), 3.63 (s, 2H), 3.85-4.13 (m, 27H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.01 - -84.25, -84.50 - -86.00, -86.61, -87.12, -122.67, -124.79, -125.50, -131.20 - -131.73, -132.41.

（合成例９）
（合成例９－１）

　化合物８ｂ　６ｇをジクロロメタン　１０ｍＬに溶解した後、氷浴に浸け、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　２．８５ｇを滴下した後、室温で一晩撹拌させた。濃縮乾固後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物９ｂを２．４３ｇ得た。

化合物９ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.00-2.10 (m, 6H), 3.23-3.33 (m, 2H), 3.97 (s, 3H), 5.04-5.20 (m, 6H), 5.70-5.95 (m, 3H), 6.58 (br s, 1H).

（合成例９－２）

　合成例９－１で得た化合物９ｂ　２．９２ｇをＴＨＦ　１２ｍＬに溶解した後、Ｎ－Ｂｏｃ－エチレンジアミン　４ｍＬを滴下し、５０℃で一晩撹拌した。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物１０ｂを２．７４ｇ得た。

化合物１０ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 1.43 (s, 9H), 2.00-2.16 (m, 6H), 3.27 (d, 2H), 3.30-3.50 (m, 4H), 5.00 (br s, 1H), 5.10-5.20 (m, 6H) , 5.75-5.90 (m, 3H), 6.81 (br s, 1H), 7.69 (br s, 1H).

（合成例９－３）

　合成例９－２で得た化合物１０ｂ　１．２ｇをジクロロメタン　５ｍＬに溶解した後、氷浴に付け、トリフルオロ酢酸　５ｍＬを添加して５時間撹拌した。濃縮乾固した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィにて精製することで、化合物１１ｂを０．８５３ｇ得た。

化合物１１ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，４００ＭＨｚ） δ: 2.00-2.10 (m, 6H), 2.80-2.92 (m, 2H), 3.20-3.30 (m, 2H), 3.40-3.50 (m, 2H), 5.00-5.18 (m, 6H), 5.75-5.90 (m, 3H), 6.82 (br s, 1H).

（合成例９－４）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５）　２．０ｇに対して、合成例８－３で得た化合物１１ｂ　０．４２９ｇとｍＸＨＦ　２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、クロロホルムで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物１２ｂを２．２ｇ得た。

化合物１２ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.39-2.48 (m, 6H), 3.70 (d, 2H), 3.80-4.00 (m, 4H), 5.40-5.52 (m, 6H), 6.13-6.26 (m, 3H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.13 - -84.17, -85.60 - -86.60, -87.29, -87.33 - -87.36, -121.82, -122.50, -125.11 - -125.15, -129.46, -131.35 - -131.40, -132.41.

（合成例９－５）

　合成例９－４で得た化合物１２ｂ　１．２５ｇをｍＸＨＦ　１．５ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　３μｌ、トリクロロシラン　０．２５２ｍｌ、カールシュテット触媒　３４μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ　１．５ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　０．９５ｍＬ、およびメタノール　６０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌させた。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１３ｂを１．１ｇ得た。

化合物１３ｂ
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.90-1.10 (m, 6H), 1.60-1.70 (m, 6H), 1.75-1.95 (m, 6H), 3.68 (d, 2H), 3.90-4.10 (m, 31H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.13 - -84.27, -85.10 - -85.76, -86.78, -87.36, -120.78, -121.86, -124.90, -128.85, -131.35 - -131.50, -132.40.

（比較例１）
（比較例１－１）

　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｎ＝２５）　３．０ｇに対して、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　０．２０７ｇとｍＸＨＦ　２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物１４を２．８９ｇ得た。

化合物１４
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.39 (d, 6H), 3.66 (d, 2H), 5.42-5.46 (m, 6H), 6.15-6.25 (m, 3H), 7.02 (brs, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -125.4, -131.4, -132.4.

（比較例１－２）

　比較例１－１で得た化合物１４　２．８９ｇをｍＸＨＦ　１．５ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　５．６７μｌ、トリクロロシラン　０．９１１ｍｌ、カールシュテット触媒　６８．７μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ　１．５ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　２．０ｍＬ、およびメタノール　１１０μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌させた。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１５を２．５０ｇ得た。

化合物１５
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.96-1.02 (m, 6H), 1.58-1.67 (m, 6H),1.82-1.86 (m, 6H) 3.61 (d, 2H), 3.90-4.05 (m, 27H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -84.2, -85.5, -86.6, -124.4, -131.4, -132.4.

（比較例２）
（比較例２－１）

　ＣＦ_３（ＯＣＦ_２）_ｍ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＯＣＦ_２ＣＯ_２Ｍｅ（ｍ＝４０，ｎ＝２４）　２．０ｇに対して、２，２－ジアリル－４－ペンテニルアミン　０．１５８ｇとｍＸＨＦ　２ｍＬを入れ、室温で一晩撹拌した。パーフルオロヘキサン　１０ｍＬを入れ、アセトンで洗浄し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した後、濃縮乾固することで、化合物１６を１．９１ｇ得た。

化合物１６
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 2.39 (d, 6H), 3.66 (d, 2H), 5.42-5.46 (m, 6H), 6.15-6.25 (m, 3H), 7.02 (brs, 1H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（比較例２－２）

　比較例２－１で得た化合物１６　１．９１ｇをｍＸＨＦ　１．５ｍＬに溶解後、トリアセトキシメチルシラン　３．２１μｌ、トリクロロシラン　０．５１６ｍｌ、カールシュテット触媒　３８．９μｌを添加し、４時間撹拌した。濃縮乾固した後、ｍＸＨＦ　１．５ｍＬ、オルトギ酸トリメチル　１．１ｍＬ、およびメタノール　６２μｌを滴下し、６０℃で３時間撹拌させた。この液を濾過した後、濃縮乾固することで、化合物１７を１．７７ｇ得た。

化合物１７
^１Ｈ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: 0.96-1.02 (m, 6H), 1.58-1.67 (m, 6H),1.82-1.86 (m, 6H) 3.61 (d, 2H), 3.90-4.05 (m, 27H);
^１９Ｆ　ＮＭＲ（ｍＸＨＦ，４００ＭＨｚ） δ: -131.7, -127.9, -127.4, -117.7, -92.6, -91.0, -87.4, -87.3, -85.8, －85.6, -83.2, -81.6, -79.9, -74.5, -59.9, -58.2, -57.4, -55.6, -54.0.

（表面処理剤の調製）
　合成例１－４、４－４、５－２、７－２、および比較例１、２で得られたフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（５ａ、５ｄ、７ａ、７ｄ、１５、１７）を、それぞれ、固形分濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエムジャパン株式会社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤を調製した。

（表面処理層の形成）
　表面処理剤を、スピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。
　スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。
　塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、表面処理層を形成した。

（表面処理層の特性評価）
　得られた表面処理層の特性を以下のように評価した。

＜静的接触角＞
（初期評価）
　まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。

＜耐消しゴム摩耗性試験＞
　表面処理層の形成されたガラスを水平配置し、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で荷重をかけた消しゴムを表面処理層の表面にて往復させた。往復回数（摩擦回数）２５００回毎に水の接触角を測定し、水の接触角が１００°未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。

　消しゴム：Ｒａｂｅｒ　Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
　接地面積：６ｍｍφ
　移動距離（片道）：３０ｍｍ
　移動速度：３，６００ｍｍ／分
　荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ

　結果を下表に示す。以下の表において「－」は測定していないことを示す。

　本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims

　式（１ａ）または式（１ｂ）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０または１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
　αは、１～９の整数であり；
　βは、１～９の整数であり；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数であり；
　Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上のアミド結合を有する２～１０価の有機基であり；
　Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、加水分解性基、水素原子または１価の有機基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される、請求項１または２に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、１である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　Ｘ^Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、
　　　－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である、請求項１～３のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
　ｓ１１は、１～３の整数であり；
　Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基であり；
　Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
　ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
　ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。］
　Ｘ^Ａは、２価の有機基であり、各出現においてそれぞれ独立して、
　　　－（Ｘ^２１）_ｓ２１－［（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２２）］_ｓ１１－（Ｘ^Ｎ）－（Ｘ^２１）_ｓ２２－
で表される基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　Ｘ^Ｎは、アミド結合を表し；
　ｓ１１は、１～３の整数であり；
　Ｘ^２１は、それぞれ独立して、２価の有機基であり；
　Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり；
　ｓ２１は、それぞれ独立して、０または１であり；
　ｓ２２は、それぞれ独立して、０または１である。］
　Ｘ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、
　　－Ｒ^２２１－、または、
　　－（Ｒ^２２１）_ｓ３１－Ｘ^３１－（Ｒ^２２２）_ｓ３２－
である、請求項４または５に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［式中：
　Ｒ^２２１およびＲ^２２２は、それぞれ独立して、Ｃ_１－１０アルキレン基であり；
　　前記Ｃ_１－１０アルキレン基の水素原子は、置換されていてもよく；
　Ｘ^３１は、－Ｏ－、または－ＮＲ^５４－であり；
　　Ｒ^５４は、水素原子、フェニル基またはＣ_１－６アルキル基であり；
　ｓ３１は、０または１であり；
　ｓ３２は、０または１である。］
　α、βおよびγが、それぞれ１である、請求項１～６のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される、請求項１～７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子または－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基または炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。］
　ｎ１は、３である、請求項８に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　ｋ１は、３であり、ｑ１は１～３の整数である、請求項８または９に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　ｌ２は、３であり、ｎ２は１～３の整数である、請求項８～１０のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　請求項１～１１のいずれか１項に記載の式（１ａ）または式（１ｂ）で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル化合物を含有する、表面処理剤。
　含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１２に記載の表面処理剤。
　さらに溶媒を含む、請求項１２または１３に記載の表面処理剤。
　防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１２～１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　真空蒸着用である、請求項１２～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　湿潤被覆処理用である、請求項１２～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　請求項１２～１６のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
　基材と、該基材の表面に、請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、または、請求項１２～１７のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
　光学部材である、請求項１９に記載の物品。