WO2022138333A1

WO2022138333A1 - 表面処理剤

Info

Publication number: WO2022138333A1
Application number: PCT/JP2021/046080
Authority: WO
Inventors: 恒雄山下; 健前平; 尚志三橋
Original assignee: ダイキン工業株式会社
Priority date: 2020-12-23
Filing date: 2021-12-14
Publication date: 2022-06-30
Also published as: TW202239813A; EP4269468A1; KR20230108323A; US20230332012A1; CN116635494A; JP2022100264A; JP7104359B2

Abstract

本発明は、下記式（１）又は（２）で表される化合物を提供する。

Description

表面処理剤

　本開示は、新規フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及びかかる化合物を含む表面処理剤に関する。

　ある種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている（特許文献１）。

特開２０１４－２１８６３９号公報

　特許文献１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い耐久性を有する表面処理層が求められている。

　本開示は、耐久性、特に摩擦耐久性及びケミカル耐性がより高い表面処理層を与えることができるフルオロポリエーテル基含有化合物を提供することを目的とする。

　本開示は、以下の態様を含む。
［１］　下記式（１）又は（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^１は、それぞれ独立して、－Ｒ^３－（ＯＲ^２）_ｍ－Ｏ_ｎ－Ｒ^４－Ｒ^５であり；
　Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり；
　ｍは、２～１０の整数であり；
　ｎは、０又は１であり；
　Ｒ^３は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^４は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^５は、水素原子又はＲ^Ｓｉであり；
　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^５１）_ｐ５－
（式中：
　Ｘ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｐ５は、１～１０の整数である。）
で表される基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^６１）_ｐ６－
（式中：
　Ｘ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^６３）_２Ｏ）_ｍ６－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^６４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ６－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ６は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ６は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｐ６は、１～１０の整数である。）
で表される基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［２］　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基である、
上記［１］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［３］　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、上記［１］又は［２］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［４］　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、上記［３］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［５］　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）又は（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［６］　Ｒ^５は、水素原子である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［７］　Ｒ^５は、Ｒ^Ｓｉである、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［８］　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１、ｑ１及びｒ１の合計は３であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１’、ｑ１’及びｒ１’の合計は３であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１”及びｒ１”の合計は３であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は３であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は３であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２’及びｒ２’の合計は３であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は３であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［９］　Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である、上記［８］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１０］　Ｒ^１におけるＲ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である、上記［８］又は［９］に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１１］　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１’）_ｐ５’－（Ｘ^５１’）_ｑ５’－（Ｒ^５１’）_ｐ５”－
（式中：
　Ｒ^５１’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｘ^５１’は、Ｏであり、
　ｐ５’は、０又は１であり、
　ｐ５”は、０又は１であり、
　ｑ５’は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５’及びｐ５”の少なくとも一方は１である。）
で表される基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^６１’）_ｐ６’－（Ｘ^６１’）_ｑ６’－（Ｒ^６１’）_ｐ６”－
（式中：
　Ｒ^６１’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｘ^６１’は、Ｏであり、
　ｐ６’は、０又は１であり、
　ｐ６”は、０又は１であり、
　ｑ６’は、０又は１であり、
　ここに、ｐ６’及びｐ６”の少なくとも一方は１である。）
で表される基である、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１２］　Ｘ^Ａは、単結合であり、Ｘ^Ｂは、Ｃ_１－６アルキレン基である、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
［１３］　上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
［１４］　含フッ素オイル、シリコーンオイル、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分をさらに含有する、上記［１３］に記載の表面処理剤。
［１５］　さらに溶媒を含む、上記［１３］又は［１４］に記載の表面処理剤。
［１６］　防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、上記［１３］～［１５］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１７］　基材と、該基材の表面に、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物又は上記［１３］～［１６］のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１８］　光学部材である、上記［１７］に記載の物品。

　本開示によれば、より高い摩耗耐久性を有する表面処理層を与えることができる表面処理剤を提供することができる。

　本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
　本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（１）又は（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^１は、それぞれ独立して、－Ｒ^３－（ＯＲ^２）_ｍ－Ｏ_ｎ－Ｒ^４－Ｒ^５であり；
　Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり；
　ｍは、２～１０の整数であり；
　ｎは、０又は１であり；
　Ｒ^３は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^４は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^５は、水素原子又はＲ^Ｓｉであり；
　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^５１）_ｐ５－
（式中：
　Ｘ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｐ５は、１～１０の整数である。）
で表される基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^６１）_ｐ６－
（式中：
　Ｘ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^６３）_２Ｏ）_ｍ６－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^６４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ６－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ６は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ６は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｐ６は、１～１０の整数である。）
で表される基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物である。

　上記式（１）において、Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式（２）において、Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

　上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

　上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

　上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

　上記式において、Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

　上記式において、ｑは、それぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

　Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中：
　Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である。

　Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

　これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

　一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩耗耐久性等を向上させることができる。

　一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）～（ｆ５）のいずれかで表される基である。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］；
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは、１である。別の態様において、ｅは０である。上記式（ｆ１）においてＯＣ_３Ｆ_６は、好ましくはＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２、ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）、又はＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２であり、より好ましくはＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２である。

　上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－で表される基であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及び－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－又は－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

　上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

　一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

　上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩耗耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩耗耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

　一の態様において、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは０．２～０．９５であり、より好ましくは０．２～０．９である。

　一の態様において、耐熱性の観点から、上記ｅ／ｆ比は、好ましくは１．０以上であり、より好ましくは１．０～２．０である。

　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００～３０，０００、好ましくは１，０００～２０，０００、より好ましくは２，０００～１５，０００、さらにより好ましくは２，０００～１０，０００、例えば３，０００～６，０００であり得る。

　別の態様において、Ｒ^Ｆ１及びＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、４，０００～３０，０００、好ましくは５，０００～１０，０００、より好ましくは６，０００～１０，０００であり得る。

　上記式（１）及び（２）において、Ｒ^１は、それぞれ独立して、－Ｒ^３－（ＯＲ^２）_ｍ－Ｏ_ｎ－Ｒ^４－Ｒ^５である。

　上記式において、Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基である。

　Ｒ^２において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

　上記Ｒ^２は、好ましくはＣ_１－４アルキレン基、より好ましくは好ましくはＣ_１－３アルキレン基、特に好ましくは－ＣＨ_２ＣＨ_２－である。Ｒ^２を上記のものとすることにより、摩擦耐久性がより向上し得る。

　上記式において、ｍは、２～１０の整数であり、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～４の整数である。ｍを上記の範囲にすることにより、摩擦耐久性がより向上し得る。

　上記式において、Ｒ^３は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基である。

　Ｒ^３において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

　上記Ｒ^３は、好ましくはＣ_１－６アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基、特に好ましくはメチレン基である。

　上記式において、Ｒ^４は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基である。

　Ｒ^４において、上記Ｃ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。

　上記Ｒ^４は、好ましくはＣ_１－６アルキレン基、より好ましくはＣ_１－３アルキレン基、特に好ましくはメチレン基である。

　上記式において、ｎは、０又は１である。

　一の態様において、ｎは０である。

　別の態様において、ｎは１である。

　上記式において、Ｒ^５は、水素原子又はＲ^Ｓｉである。かかるＲ^Ｓｉは、Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉと同じであってもよく、異なっていてもよい。

　一の態様において、上記Ｒ^１におけるＲ^Ｓｉは、Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉと同じである。

　別の態様において、上記Ｒ^１におけるＲ^Ｓｉは、Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉと異なる。

　一の態様において、上記Ｒ^５は、水素原子である。

　別の態様において、上記Ｒ^５は、Ｒ^Ｓｉである。

　上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基である。

　好ましい態様において、Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

で表される基である。

　上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

　上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１）又は（Ｓ２）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端のＲ^Ｓｉ部分（以下、単に式（１）及び式（２）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記式中、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

　一の態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－又は－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。

　好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。

　上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。かかるＣ_１－２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

　好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子又は直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子又はメチル基である。

　上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。

　好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。

　上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

　上記式中、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

　一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

　好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

　一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。

［式中、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
　ｔ１及びｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり；
　ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

　上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

　上記Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

　上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。Ｚ^１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

　上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、又は－（ＣＨ_２）_ｙ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｙ２－（式中、ｙ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｙ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。Ｃ_１－２０アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

　上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、又は－（ＣＨ_２）_ｙ３－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｙ４－（式中、ｙ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｙ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。Ｃ_１－２０アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１’は、０である。

　一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

　一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、又は－（ＣＨ_２）_ｙ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｙ６－（式中、ｙ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｙ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。Ｃ_１－２０アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１は、０である。

　一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

　一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

　上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、又は－（ＣＨ_２）_ｙ７－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｙ８－（式中、ｙ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｙ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。Ｃ_１－２０アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

　上記式（１）及び（２）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ^１、Ｚ^１’、Ｚ^１”、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、Ｒ^２２”、及びＲ^２３”は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。

　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

　上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

　上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

　上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

　一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

　上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｊ、－ＯＣＯＲ^ｊ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｊ _２、－ＮＲ^ｊ _２、－ＮＨＲ^ｊ、－ＮＣＯ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｊは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｊ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｊとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｊは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｊは、エチル基である。

　上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基、又は－（ＣＨ_２）_ｙ９－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｙ１０－（式中、ｙ９は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｙ１０は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。Ｃ_１－２０アルキル基は、好ましくはＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１）及び式（２）の末端部分において、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１）及び式（２）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

　ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ２は、０である。

　一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。

　一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（１）及び式（２）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。

　上記Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２である。ここに、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｃ１、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。

　上記Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基である。尚、以下Ｚ^４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）に結合する。

　一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^４は２価の有機基である。

　上記Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^４は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い表面滑り性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に複数の加水分解性基を有することから、基材に強く密着し、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子又はＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ５）で表される基である。

　好ましい態様において、Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。

　特に好ましい態様において、Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^１におけるＲ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

　好ましい態様において、Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基、好ましくは式（Ｓ４）で表される基であり、Ｒ^１におけるＲ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

　上記式（１）及び（２）において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^５１）_ｐ５－
［式中：
　Ｘ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、好ましくはフェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数である。］
で表される基である。なお、Ｘ^Ａの説明において、各基の左側が式中のＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合し、右側がＣＯＮＲ^１の炭素原子に結合する。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－）を含まない。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合である。

　別の態様において、Ｘ^Ａは、－（Ｘ^５１）_ｐ５－である。

　好ましい態様において、Ｘ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基である。

　より好ましい態様において、Ｘ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基である。

　さらに好ましい態様において、Ｘ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基である。

　別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１’）_ｐ５’－（Ｘ^５１’）_ｑ５’－（Ｒ^５１’）_ｐ５”－
（式中：
　Ｒ^５１’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｘ^５１’は、Ｏであり、
　ｐ５’は、０又は１であり、
　ｐ５”は、０又は１であり、
　ｑ５’は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５’及びｐ５”の少なくとも一方は１である。）
で表される基である。

　別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基である。

　上記式（１）及び（２）において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^６１）_ｐ６－
［式中：
　Ｘ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^６３）_２Ｏ）_ｍ６－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^６４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ６－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、好ましくはフェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ^６４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）であり、
　ｍ６は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ６は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ６は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数である。］
で表される基である。なお、Ｘ^Ｂの説明において、各基の左側が式中のＣＯＮＲ^１の窒素原子に結合し、右側がＲ^Ｓｉに結合する。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－）を含まない。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、単結合である。

　別の態様において、Ｘ^Ｂは、－（Ｘ^６１）_ｐ６－である。

　好ましい態様において、Ｘ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^６４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ６－からなる群から選択される基である。

　より好ましい態様において、Ｘ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－、及び－（ＣＨ_２）_ｎ６－からなる群から選択される基である。

　さらに好ましい態様において、Ｘ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、及び－（ＣＨ_２）_ｎ６－からなる群から選択される基である。

　別の態様において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^６１’）_ｐ６’－（Ｘ^６１’）_ｑ６’－（Ｒ^６１’）_ｐ６”－
（式中：
　Ｒ^６１’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｘ^６１’は、Ｏであり、
　ｐ６’は、０又は１であり、
　ｐ６”は、０又は１であり、
　ｑ６’は、０又は１であり、
　ここに、ｐ６’及びｐ６”の少なくとも一方は１である。）
で表される基である。

　別の態様において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合であり、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基である。

　一の態様において、式（１）又は式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、シロキサン結合（－Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ－）を含まない。

　上記式（１）又は式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００～３２，０００、より好ましくは２，５００～１２，０００の平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「平均分子量」は、数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　上記式（１）及び（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、例えば、下記の方法により製造することができる。

　式（１ａ）又は（２ａ）：

［式中、ＰＦＰＥは、フルオロポリエーテル基である。］
で表される化合物と、式（５）：

［式中：
　Ｒ^１は、式（１）及び（２）の記載と同意義であり；
　Ｒ^２５は、Ｃ又はＳｉであり；
　Ｘ^Ｂ’は、単結合、又は２価の有機基である。］
で表される化合物を反応させて、式（１ｂ）又は（２ｂ）：

［式中、ＰＦＰＥ、Ｒ^１、Ｒ^２５、及びＸ^Ｂ’は、上記と同意義である。］
で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アリル化合物を得る。

　次に、式（１ｂ）又は（２ｂ）で表される化合物を、式（６）：
　　ＨＳｉＲ^２６ _３　　　　（６）
［式中、Ｒ^２６は、それぞれ独立して、水素原子、１価の有機基、水酸基、加水分解性基、又はハロゲン原子である。］
で表される化合物と反応させ、適宜、Ｓｉ原子に加水分解性基を導入することにより、式（１）又は（２）で表される化合物を得ることができる。

　上記の反応の各工程の反応条件は、当業者は適宜設定することができる。

　次に、本発明の表面処理剤について説明する。

　本開示の表面処理剤は、式（１）又は（２）で表される少なくとも１種のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する。

　一の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（２）で表される化合物である。

　別の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１）で表される化合物及び式（２）で表される化合物である。

　本開示の表面処理剤中、式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対して、式（２）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。式（１）で表される化合物と式（２）で表される化合物との合計に対する式（２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。式（２）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、より摩耗耐久性を向上させることができる。

　上記の式（１）又は（２）で表される化合物の含有量は、表面処理剤全体に対して、好ましくは０．１～５０．０質量％、より好ましくは１．０～３０．０質量％、さらに好ましくは５．０～２５．０質量％、特に好ましくは１０．０～２０．０質量％であり得る。上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の含有量を上記の範囲にすることにより、より高い撥水撥油性及び摩擦耐久性を得ることができる。

　本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、アルコール類、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等を含み得る。

　上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル－２－ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、２－ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ｓｅｃ－ブタノール、３－ペンタノール、オクチルアルコール、３－メチル－３－メトキシブタノール、ｔｅｒｔ－アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２－トリクロロ－１，２，２－トリフルオロエタン、１，２－ジクロロ－１，１，２，２－テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１－ジクロロ－１，２，２，３，３－ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨ等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

　含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６　　　・・・（３）
　式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよく、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－である。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよいが、好ましくは－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－である。

　上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ａ）
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”－（ＯＣＦ_２）_ｄ”－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（３ｂ）
　これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ”及びｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”及びｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３－Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

　上記含フッ素オイルは、５００～１００００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

　含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０～５０質量％、好ましくは０～３０質量％、より好ましくは０～５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、又は極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、特に真空蒸着法により表面処理層を形成する場合において、より優れた摩耗耐久性と表面滑り性を得ることができる。

　一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を小さくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、かかる化合物から得られる表面処理層の透明性の低下を抑制しつつ、高い摩耗耐久性及び高い表面滑り性を有する硬化物を形成できる。

　含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～３００質量部、好ましくは５０～２００質量部で含まれ得る。

　シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

　上記アルコール類としては、例えば１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～６のアルコール、例えば、メタノール、エタノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、ＣＦ_３ＣＨ_２ＯＨ、ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ、（ＣＦ_３）_２ＣＨＯＨが挙げられる。これらのアルコール類を表面処理剤に添加することにより、表面処理剤の安定性を向上させ、また、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物と溶媒の相溶性を改善させる。

　上記アルコールは、好ましくは２，２，３，３，３－ペンタフルオロ－１－プロパノール又は２，２，２－トリフルオロエタノールである。

　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

　触媒は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。

　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

　本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

　本開示の表面処理剤は、上記した成分に加え、不純物として、例えばＰｔ、Ｒｈ、Ｒｕ、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、トリフェニルホスフィン、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、シランの縮合物などを微量含み得る。

　以下、本開示の物品について説明する。

　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

　別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

　好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

　本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

　本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。

　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

　湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の組成物の安定性及び溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５～１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ－１，３－ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、１，１，２，２，３，３，４－ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００））など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）及び／又はパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

　乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

　触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

　本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性の双方を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

　本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

　また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。また、本開示によって得られる層を有する物品は、自動車内外装部材であってもよい。外装材の例には、次のものが挙げられる：ウィンドウ、ライトカバー、社外カメラカバー。内装材の例には、次のものが挙げられる：インパネカバー、ナビゲーションシステムタッチパネル、加飾内装材。

　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。

　以上、本開示の物品について詳述した。なお、本開示の物品及び物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

　以下、本開示の物品について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、フルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意であり、以下に示される化学式は平均組成を示す。

（合成例１）
　ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２１、ｎ≒３５）とＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２１、ｎ≒３５）の混合物４．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨの含有量は１１ｍｏｌ％）を、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６．０ｇに溶解し氷冷した。該溶液にチオニルクロライド３．０ｇを滴下した後、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド０．３ｍｇをさらに加え６０℃で２時間撹拌した。この反応液からチオニルクロライドを留去した後、氷冷下、Ｎ－（３，６－ジオキサヘプチル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミン０．６ｇ及びＮ，Ｎ－ジイソプロピルエチルアミン１．０ｇを加え室温で３時間撹拌した。反応の終点は^１９Ｆ－ＮＭＲによってＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨのカルボニル基α位の－ＣＦ_２－のケミカルシフトが低磁場にシフトしたこと、及び^１Ｈ－ＮＭＲによって、ジアリルアミンのアミノ基α位のメチレンプロトンが低磁場にシフトしたことにより確認した。反応液に１Ｎ－塩酸を加え分液した下相を水洗し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥、濃縮した。得られた濃縮物をパーフルオロヘキサンに溶解しアセトンで３回洗浄することによりポリエーテル基含有化合物（Ａ）及びポリエーテル基含有化合物（Ａ’）を含む混合物４．０ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ａ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ａ’）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）
（なお、パーフルオロポリエーテル基において、平均組成としては（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）単位及び（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）単位が微量含まれていたが省略した。）

（合成例２）
　合成例１で得られた混合物４．０ｇを、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン５ｍｌに溶解し、トリアセトキシメチルシラン０．０１ｇ、及び１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンのＰｔ錯体２％を含むキシレン溶液０．０６ｍｌを加えた後、トリクロロシラン１．５ｇを仕込み、６０℃に加熱し、４時間撹拌した。その後、得られた溶液から減圧下で揮発分を留去した後、メタノール０．１ｇ及びオルトギ酸トリメチル３．０ｇの混合溶液を加えた後、６０℃に加熱し、３時間撹拌した。その後、精製を行うことにより、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のポリエーテル基含有化合物（Ｂ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｂ’）を含む混合物３．９ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｂ’）の含有量は１１ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｂ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｂ’）：

（合成例３）
　ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）及びＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）を含む混合物４．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨの含有量は７ｍｏｌ％）を用いた以外は合成例１～２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｃ’）を含む混合物３．９ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｃ’）の含有量は７ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｃ）：

（ｍ≒２８、ｎ≒２６）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｃ’）：

（ｍ≒２８、ｎ≒２６）
（なお、パーフルオロポリエーテル基において、平均組成としては（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）単位及び（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）単位が微量含まれていたが省略した。）

（合成例４）
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ―ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）及びＨＯＣＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）を含む混合物４．２ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＨの含有量は５ｍｏｌ％）を用いた以外は、合成例１～２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）を含む混合物４．２ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）の含有量は５ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）：

（ｍ≒２５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）：

（ｍ≒２５）

（合成例５）
　Ｎ－（３，６－ジオキサヘプチル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンの代わりに、Ｎ－（３，６－ジオキサヘプチル）－２－（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンを用いた以外は、合成例１～２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｅ’）を含む混合物３．８ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｅ’）の含有量は１１ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｅ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｅ’）：

（合成例６）
　ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）及びＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）を含む混合物４．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨの含有量は７ｍｏｌ％）を用いた以外は合成例４と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ’）を含む混合物４．０ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｆ’）の含有量は７ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｆ）：

（ｍ≒２８、ｎ≒２６）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｆ’）：

　（合成例７）
　Ｎ－（３，６－ジオキサヘプチル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンの代わりに、Ｎ－（３，６，９－トリオキサデシル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンを用いた以外は、合成例１～２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｇ’）を含む混合物３．９ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｇ’）の含有量は１１ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｇ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｇ’）：

（合成例８）
　ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）及びＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）を含む混合物４．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨの含有量は７ｍｏｌ％）を用いた以外は合成例７と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ’）を含む混合物３．７ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｈ’）の含有量は７ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｈ）：

（ｍ≒２８、ｎ≒２６）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｈ’）：

（合成例９）
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ―ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）及びＨＯＣＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）を含む混合物４．２ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＯＯＨの含有量は５ｍｏｌ％）を用いた以外は、合成例８と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｉ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｉ’）を含む混合物４．１ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｉ’）の含有量は５ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｉ）：

（ｍ≒２５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｉ’）：

（ｍ≒２５）

（合成例１０）
　Ｎ－（３，６－ジオキサヘプチル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンの代わりに、Ｎ－（３，６，９，１１－テトラオキサトリデシル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンを用いた以外は合成例１～２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｊ’）を含む混合物３．６ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｊ’）の含有量は１１ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｊ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｊ’）：

（合成例１１）
　ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）及びＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）を含む混合物４．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨの含有量は７ｍｏｌ％）を用いた以外は、合成例１０と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｋ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｋ’）を含む混合物３．９ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｋ’）の含有量は７ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｋ）：

（ｍ≒２８、ｎ≒２６）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｋ’）：

（合成例１２）
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ―ＯＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）及びＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）を含む混合物４．２ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＯＯＨの含有量は５ｍｏｌ％）を用いた以外は、合成例１１と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｌ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｌ’）を含む混合物４．０ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｌ’）の含有量は５ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｌ）：

（ｍ≒２５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｌ’）：

（ｍ≒２５）

（合成例１３）
　Ｎ－（３，６－ジオキサヘプチル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンの代わりに、Ｎ－（３－オキサヘキセ－５－イル）－２，２－ジ（２－プロペニル）－４－ペンチルアミンを用いた以外は、合成例１～２と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｍ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｍ’）を含む混合物３．５ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｍ’）の含有量は１１ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｍ）：

（ｍ≒２１、ｎ≒３５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｍ’）：

（合成例１４）
　ＣＦ_３－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）及びＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨ（ｍ≒２８、ｎ≒２６）を含む混合物４．０ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－（ＯＣＦ_２）_ｎ－ＣＯＯＨの含有量は７ｍｏｌ％）を用いた以外は、合成例１３と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｎ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｎ’）を含む混合物３．８ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｎ’）の含有量は７ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｎ）：

（ｍ≒２８、ｎ≒２６）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｎ’）：

（合成例１５）
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ―ＯＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）及びＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２５）を含む混合物４．２ｇ（ただし、ＨＯＣＯＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ－ＯＣＦ_２ＣＯＯＨの含有量は５ｍｏｌ％）を用いた以外は、合成例１３と同様の操作を行い、ポリエーテル基含有化合物（Ｏ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｏ’）を含む混合物４．２ｇ（ただし、ポリエーテル基含有化合物（Ｏ’）の含有量は５ｍｏｌ％）を得た。

　ポリエーテル基含有化合物（Ｏ）：

（ｍ≒２５）

　ポリエーテル基含有化合物（Ｏ’）：

（ｍ≒２５）

（実施例１）
　上記合成例２で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｂ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｂ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（１）を調製した。

（実施例２）
　上記合成例３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｃ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｃ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（２）を調製した。

（実施例３）
　上記合成例４で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｄ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（３）を調製した。

（実施例４）
　上記合成例５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｅ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｅ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（４）を調製した。

（実施例５）
　上記合成例６で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｆ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｆ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（５）を調製した。

（実施例６）
　上記合成例７で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｇ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｇ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（６）を調製した。

（実施例７）
　上記合成例８で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｈ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｈ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（７）を調製した。

（実施例８）
　上記合成例９で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｉ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｉ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（８）を調製した。

（実施例９）
　上記合成例１０で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｊ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｊ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（９）を調製した。

（実施例１０）
　上記合成例１１で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｋ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｋ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（１０）を調製した。

（実施例１１）
　上記合成例１２で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｌ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｌ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（１１）を調製した。

（実施例１２）
　上記合成例１３で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｍ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｍ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（１２）を調製した。

（実施例１３）
　上記合成例１４で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｎ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｎ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（１３）を調製した。

（実施例１４）
　上記合成例１５で得られたポリエーテル基含有化合物（Ｏ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｏ’）を含む混合物を、濃度０．１質量％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ－７２００）に溶解させて、表面処理剤（１４）を調製した。

（比較例１及び２）
　ポリエーテル基含有化合物（Ｄ）及びポリエーテル基含有化合物（Ｄ’）を含む混合物の代わりに、それぞれ、下記対照化合物（１）及び（２）を用いた以外は実施例２と同様に行い、比較表面処理剤（１）及び（２）を調製した。

　対照化合物（１）

　対照化合物（２）

（静的接触角）
　静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。

＜静的接触角の測定方法＞
　静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。

（硬化膜の形成）
　表面処理剤（１）～（１４）及び比較表面処理剤（１）～（２）を、それぞれスピンコーターを用いて、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に塗布した。スピンコートの条件は、３００回転／分で３秒間、２０００回転／分で３０秒であった。塗布後のガラスを、大気下、恒温槽内で１５０℃３０分間加熱し、硬化膜を形成した。

［硬化膜の特性評価］
　得られた硬化膜の特性を以下のように評価した。

＜静的接触角＞
（初期評価）
　まず、初期評価として、硬化膜形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。
（エタノール拭き後の評価）
　次に、上記硬化膜を、エタノールを十分に染み込ませたキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）を用いて５往復拭いた後、乾燥させた。乾燥後の硬化膜の水の静的接触角を測定した。

＜指紋付着性及び拭き取り性＞
（指紋付着性）
　表面処理剤又は比較表面処理剤を用いて形成された硬化膜に指を押し付け、指紋の付きやすさを目視で判定した。評価は、次の基準に基づいて判断した。
　Ａ：指紋が付きにくいか、付いても指紋が目立たなかった。
　Ｂ：指紋の付着が少ないが、その指紋を充分に確認できた。
　Ｃ：未処理のガラス基板と同程度に明確に指紋が付着した。

（指紋拭き取り性）
　上記の指紋付着性試験後、付着した指紋をキムワイプ（商品名。十條キンバリー（株）製）で５往復拭き取り、付着した指紋の拭き取りやすさを目視で判定した。評価は次の基準に基づいて判断した。
　Ａ：指紋を完全に拭き取ることができた。
　Ｂ：指紋の拭取り跡が残った。
　Ｃ：指紋の拭取り跡が拡がり、除去することが困難であった。

　上記の評価結果を下記表１に示す。

　上記の結果に示されるように、表面処理剤（１）～（１４）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭いた場合であっても低下しなかった。一方で、比較表面処理剤（１）及び（２）を用いて形成された硬化膜の接触角は、エタノールを用いて拭くことによって低下した。これは、比較表面処理剤（１）又は（２）で形成された硬化膜では、耐ケミカル性（即ち、溶剤に対する耐久性）が悪いためと考えられる。

［硬化膜の耐摩擦性評価］
　得られた硬化膜の耐摩擦性を以下のように評価した。

＜耐消しゴム摩擦性試験＞
　ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で２５００回擦る毎に耐水接触角を測定し、１００００回もしくは１００度未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。
　消しゴム：Ｒａｂｅｒ　Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
　接地面積：６ｍｍφ
　移動距離（片道）：３０ｍｍ
　移動速度：３，６００ｍｍ／分
　荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ

　　上記の評価結果を下記表２に示す。表中「－」は測定していないことを意味する。

　本開示のフルオロポリエーテル基含有化合物は、種々多様な基材、特に摩擦耐久性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims

　下記式（１）又は（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^Ｆ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、それぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^１は、それぞれ独立して、－Ｒ^３－（ＯＲ^２）_ｍ－Ｏ_ｎ－Ｒ^４－Ｒ^５であり；
　Ｒ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり；
　ｍは、２～１０の整数であり；
　ｎは、０又は１であり；
　Ｒ^３は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^４は、単結合又はＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^５は、水素原子又はＲ^Ｓｉであり；
　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^５１）_ｐ５－
（式中：
　Ｘ^５１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｐ５は、１～１０の整数である。）
で表される基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｘ^６１）_ｐ６－
（式中：
　Ｘ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^６３）_２Ｏ）_ｍ６－Ｓｉ（Ｒ^６３）_２－、－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^６４－、－ＮＲ^６４ＣＯ－Ｏ－、－ＮＲ^６４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ６－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基であり、
　Ｒ^６４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１－６アルキル基であり、
　ｍ６は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ６は、各出現において、それぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｐ６は、１～１０の整数である。）
で表される基である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基であり、
　Ｒｆ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基である、
請求項１に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
　　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、０～２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、ただし、すべてのＲ^Ｆａが水素原子又は塩素原子である場合、ａ、ｂ、ｃ、ｅ及びｆの少なくとも１つは、１以上である。］
で表される基である、請求項１又は２に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^Ｆａは、フッ素原子である、請求項３に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）又は（ｆ５）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、請求項１～４のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^５は、水素原子である、請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^５は、Ｒ^Ｓｉである、請求項１～５のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^Ｓｉは、それぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１、ｑ１及びｒ１の合計は３であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１’、ｑ１’及びｒ１’の合計は３であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１”及びｒ１”の合計は３であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、１～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は３であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は３であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２’及びｒ２’の合計は３であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は３であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は２価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、請求項１～７のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｘ^Ｂに結合するＲ^Ｓｉは、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である、請求項８に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｒ^１におけるＲ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である、請求項８又は９に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１’）_ｐ５’－（Ｘ^５１’）_ｑ５’－（Ｒ^５１’）_ｐ５”－
（式中：
　Ｒ^５１’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｘ^５１’は、Ｏであり、
　ｐ５’は、０又は１であり、
　ｐ５”は、０又は１であり、
　ｑ５’は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５’及びｐ５”の少なくとも一方は１である。）
で表される基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^６１’）_ｐ６’－（Ｘ^６１’）_ｑ６’－（Ｒ^６１’）_ｐ６”－
（式中：
　Ｒ^６１’は、それぞれ独立して、Ｃ_１－６アルキレン基であり、
　Ｘ^６１’は、Ｏであり、
　ｐ６’は、０又は１であり、
　ｐ６”は、０又は１であり、
　ｑ６’は、０又は１であり、
　ここに、ｐ６’及びｐ６”の少なくとも一方は１である。）
で表される基である、請求項１～１０のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　Ｘ^Ａは、単結合であり、Ｘ^Ｂは、Ｃ_１－６アルキレン基である、請求項１～１１のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物。
　請求項１～１２のいずれか１項に記載のフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
　含フッ素オイル、シリコーンオイル、及び触媒から選択される１種又はそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１３に記載の表面処理剤。
　さらに溶媒を含む、請求項１３又は１４に記載の表面処理剤。
　防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、請求項１３～１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　基材と、該基材の表面に、請求項１～１２のいずれか１項に記載のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物又は請求項１３～１６のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
　光学部材である、請求項１７に記載の物品。