JP6741134B2 - 表面処理剤 - Google Patents

Description

本開示は、パーフルオロポリエーテル基含有化合物を含む表面処理剤に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素シラン化合物として、例えば、下記特許文献１及び２に記載される、イソシアヌル核に、パーフルオロポリエーテル基と、加水分解可能な基を有するＳｉ原子とを有する、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１及び２）。

国際公開第２０１８／０５６４１０号 国際公開第２０１８／０５６４１３号

引用文献１及び２に記載のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高いレベルでバランスよく摩擦耐久性、表面滑り性、耐ＵＶ性及び耐候性を有する表面処理層を与えることができる表面処理剤が求められている。

本開示は、以下の態様を含む。
［１］ （α）下記式（α１）又は式（α２）：


（式中：
Ｒ^１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ^１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ^１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ^１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
Ｘ^２は、独立に、一価の基を表す。）
で表される化合物；及び
（β）ＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物
を含んで成る表面処理剤。
［２］ Ｒ^１は、
Ｒ^３−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ^２）_ａは、ポリエーテル鎖であり、
Ｒ^３は、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり、
Ｌは、単結合又は二価の連結基である。）
で表される基であり、
Ｒ^１’は、
−Ｌ’−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ^２）_ａは、ポリエーテル鎖であり、
Ｌは、独立に、単結合又は二価の連結基であり、
Ｌ’は、独立に、単結合又は二価の連結基である。）
で表される基である、上記［１］に記載の表面処理剤。
［３］ （ＯＲ^２）_ａは、
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上である。各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される基である、上記［２］に記載の表面処理剤。
［４］ Ｌは、
−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｏ−（Ｌ^１）_ｐ−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑ−
（式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４は、独立に、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、−ＯＳｉ（ＯＲ^１２５）_３であり（ここに、３つのＲ^１２５は独立に炭素数１〜４のアルキル基である。）、
Ｌ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合）、
ｏは０〜１０の整数、
ｐは０又は１、
ｑは１〜１０の整数）
で表される基であり、
Ｌ’は、
−（ＣＸ^１２６Ｘ^１２７）_ｒ−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｏ−（Ｌ^１）_ｐ−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑ−
（式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４、Ｌ^１、ｏ、ｐ及びｑは、上記Ｌにおける規定と同意義であり、
Ｘ^１２６及びＸ^１２７は、独立に、Ｈ、Ｆ又はＣｌであり、
ｒは１〜６の整数である。）
で表される基である
る、上記［２］又は［３］に記載の表面処理剤。
［５］ Ｘ^１は、
式：−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ）_ｖ｝_ｎ
（式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基であり、
Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であり、
Ｒ^ｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合であり、
ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、
ｖは０〜３の整数であり、
ｎは、１〜２０の整数であり、
ｎが１である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは３であり、ｖは０であり、
ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり０〜２であり、ｖは、同一又は異なり０〜２であり、
ｖが１以上の整数である場合、少なくとも２個のＳｉはＲ^ｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合している。）
で表される基である、上記［１］〜［４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［６］ Ｘ^１は、−Ｌ^２−ＳｉＲ^５ _３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３、又は−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３
（各式中、Ｌ^２は、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−であり、
Ｒ^５は、ハロゲン原子であり、
Ｒ^６は、独立に炭素数１〜４のアルキル基である。）
で表される基である、上記［１］〜［５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［７］ Ｘ^１は、式：
−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ’）_ｖ｝_ｎ
（式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基であり、
Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であり、
Ｒ^ｄ’は、同一又は異なり、−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ１’ _ｐ’Ｒ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’
（式中、Ｚは、同一又は異なり、単結合又は二価の連結基であり、
Ｒ^ｄ１’は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ”であり、
Ｒ^ｄ”は、Ｒ^ｄ’と同意義であり、
Ｒ^ｄ’中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
Ｒ^ｄ２’は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ^ｄ３’は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｑ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｒ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。）
で表される基であり、
ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、
ｖは０〜３の整数であり、
ｎは、１〜２０の整数である。）
で表される含シラン反応性架橋基である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載の表面処理剤。
［８］ Ｘ^１は、式：
−Ｌ^６−｛Ｃ（Ｒ^ａ６）_ｓ６（Ｒ^ｂ６）_ｔ６（Ｒ^ｃ６）_ｕ６（Ｒ^ｄ６）_ｖ６｝_ｎ６
（式中、Ｌ^６は単結合又は二価の連結基であり、
Ｒ^ａ６、Ｒ^ｂ６及びＲ^ｃ６は、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、炭素数３〜１０のグリシジル基、ＯＣＯＲ^６７（式中、Ｒ^６７は、炭素数１〜６のアルキル基）、ＯＨ又は−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６であり、
Ｒ^ｄ６は、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、−Ｚ^６−ＣＲ^６１ _ｐ６Ｒ^６２ _ｑ６Ｒ^６３ _ｒ６であり、
Ｚ^６は、同一又は異なり、酸素原子又は２価の有機基であり、
式中、Ｒ^６１は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ６’を表し、
Ｒ^ｄ６’は、Ｒ^ｄ６と同意義であり、
Ｒ^ｄ６中、Ｚ^６基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり、
Ｒ^６２は、同一又は異なり、−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６であり、
Ｙ^６は、同一又は異なり、２価の有機基であり、
Ｒ^６５は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ^６６は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｊ６は、（−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６）単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
Ｒ^６３は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐ６は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｑ６は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｒ６は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｓ６、ｔ６及びｕ６は、同一又は異なり０又は１であり、ｖ６は０〜３の整数であり、ｎ６は、１〜２０の整数であり、
ただし、式中、少なくとも２つの（−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６）が存在する。）
で表される含シラン反応性架橋基である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載の表面処理剤。
［９］ （β）ＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）
［式中、
Ｒｆは、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり、
ＰＦＰＥは、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１−（ＯＣＦ_２）_ｆ１−
（式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり、
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基であり、
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子であり、
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｎは、（−ＳｉＲ^１４ _ｎＲ^１５ _３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）及び（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ^１５が存在し；
Ｘ^１０１は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
Ｘ^１０２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、１〜９の整数であり；
Ｘ^１０５は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、１〜９の整数であり；
Ｘ^１０７は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、１〜９の整数であり；
Ｒ^ａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒであり、
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’であり、
Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａ３と同意義であり、
Ｒ^ａ３中、Ｚ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、−Ｚ^３−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ毎において、ｐ、ｑ及びｒの和は３であり、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ^７２が存在し；
Ｒ^ｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ^ｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌ及びｍの和は３であり；
Ｘ^１０９は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、１〜９の整数である。
Ｒ^ｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３’−ＣＲ^８１ _ｐ’Ｒ^８２ _ｑ’Ｒ^８３ _ｒ’であり、
Ｚ^３’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
Ｒ^８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ３”であり、
Ｒ^ｄ３”は、Ｒ^ｄ３と同意義であり、
Ｒ^ｄ３中、Ｚ^３’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり、
Ｒ^８２は、−Ｙ^３−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊであり、
Ｙ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、
Ｒ^８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ^８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｊは、（−Ｙ^３−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
Ｒ^ｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ^３−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊであり、
Ｒ^ｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
ただし、式中、少なくとも１つのｑ’は２又は３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２又は３であり；
Ｇ^５は、−Ｒ^１７−Ｏ−、−Ｒ^１７−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−又は単結合であり、
Ｒ^１７は、アルキレン基であり、
Ｚ^５は、（ａ５＋ｂ５）価の炭化水素基、又は炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する、炭素数２以上で（ａ５＋ｂ５）価の基であり、
Ｒ^１６は、アルキレン基であり、
ａ５は、１以上の整数であり
ｂ５は、１以上の整数であり、
ただし、（ａ５＋ｂ５）は３以上であり、
ｃ５は０又は１である。］
で表される化合物である、上記［１］〜［８］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１０］ （β）ＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）又は（Ｃ２）で表される化合物である、上記［９］に記載の表面処理剤。
［１１］ ＰＦＰＥは、
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される基である、上記［９］又は［１０］に記載の表面処理剤。
［１２］ さらに溶媒を含む、上記［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１３］ 防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、上記［１］〜［１２］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１４］ 真空蒸着用である、上記［１］〜［１３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］ 上記［１］〜［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤を含有するペレット。
［１６］ 基材と、該基材の表面に、上記［１］〜［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１７］ 前記物品が光学部材である、上記［１６］に記載の物品。

本開示の表面処理剤を用いることにより、優れた撥水性に加え、優れた耐候性、表面滑り性、消しゴム耐久性、及びＳＷ摩擦耐久性をバランス良く有する表面処理層を形成することができる。

以下、本開示の表面処理剤について具体的に説明する。

本開示の表面処理剤は、
（α）式（α１）又は式（α２）で表されるイソシアヌル化合物と、
（β）ＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物
とを含んで成る。

（α）式（α１）又は式（α２）で表されるイソシアヌル化合物（以下、「化合物α」とも称する。）

上記化合物αは、式（α１）又は式（α２）：
（式中：
Ｒ^１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
Ｒ^１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
前記ポリエーテル鎖は、
式：−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ^１０は、独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖であり、
Ｘ^１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
Ｘ^２は、独立に、一価の基を表す。）
で表される化合物である。

Ｒ^１としては、ポリエーテル鎖を含む一価の有機基（但し、ウレタン結合を含むものを除く）が好ましい。

Ｒ^１’としては、ポリエーテル鎖を含む二価の有機基（但し、ウレタン結合を含むものを除く）が好ましい。

Ｘ^１０としては、Ｆが好ましい。

ｍ１１〜ｍ１６は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましく、０〜１００の整数であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、１０以上であることが更に好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、２００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましい。ｍ１１〜ｍ１６は、合計で、１０〜２００であることが好ましく、１０〜１００であることがより好ましい。

上記ポリエーテル鎖において、各繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。上記ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖又は−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｍ１４−（式中、ｍ１４は１〜２００の整数である）で表される鎖である。ｍ１４は、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。

別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−（式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖である。ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、１０以上であることが好ましい。上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１３−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−であることが好ましい。一の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−（式中、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である）で表される鎖であってもよい。ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、５〜２００の整数であることが好ましく、１０〜２００の整数であることがより好ましい。

さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（Ｒ^ｍ１−Ｒ^ｍ２）_ｍ１７−で表される基である。式中、Ｒ^ｍ１は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、好ましくはＯＣ_２Ｆ_４である。式中、Ｒ^ｍ２は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^ｍ１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、及び−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｍ１７は、２以上の整数であり、好ましくは３以上の整数であり、より好ましくは５以上の整数であり、１００以下の整数であり、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ポリエーテル鎖は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１７−又は−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１７−である。

さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−（式中、ｍ１５は、１以上２００以下の整数であり、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、及びｍ１６は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は少なくとも１であり、また、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５又はｍ１６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）で表される基である。ｍ１５は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

さらに別の態様において、上記ポリエーテル鎖は、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−（式中、ｍ１６は、１以上２００以下の整数であり、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、及びｍ１５は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は少なくとも１であり、また、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５又はｍ１６を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）で表される基である。ｍ１６は、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６の和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記ポリエーテル鎖において、ｍ１６に対するｍ１５の比（以下、「ｍ１５／ｍ１６比」という）は、０．１〜１０であり、好ましくは０．２〜５であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２〜１．５であり、さらにより好ましくは０．２〜０．８５である。ｍ１５／ｍ１６比を１０以下にすることにより、表面処理層の滑り性、摩擦耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｍ１５／ｍ１６比がより小さいほど、上記表面処理層の滑り性及び摩擦耐久性はより向上する。一方、ｍ１５／ｍ１６比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｍ１５／ｍ１６比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

上記ポリエーテル鎖は、下記式
式：−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＸ^１１ _２）_ｎ１１（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））_ｎ１２（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎ１３（ＯＣＦ_２）_ｎ１４（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｎ１５−
（式中、ｎ１１、ｎ１２、ｎ１３、ｎ１４及びｎ１５は、独立に、０又は１以上の整数であり、
Ｘ^１１は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
で表される鎖、及び、下記式
式：−（ＯＣＦ_２−Ｒ^１１）_ｆ−
（式中、Ｒ^１１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）
で表される鎖からなる群より選択される少なくとも１種の鎖であってもよい。

Ｘ^１１としては、Ｆが好ましい。

ｎ１１〜ｎ１５は、それぞれ、０〜２００の整数であることが好ましい。ｎ１１〜ｎ１５は、合計で、２以上であることが好ましく、５〜３００であることがより好ましく、１０〜２００であることが更に好ましく、１０〜１００であることが特に好ましい。

Ｒ^１１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、及び−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｆは、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^１１）_ｆ−は、好ましくは、式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｆ−又は式：−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｆ−である。

上記イソシアヌル化合物において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。

別の態様において、ポリエーテル鎖部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。

Ｒ^１としては、
式：Ｒ^３−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ^２）_ａは上記ポリエーテル鎖であり、
Ｒ^３は、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり、
Ｌは単結合又は二価の連結基である。）
で表される一価の有機基であることが好ましい。

Ｒ^１’としては、
式：−Ｌ’−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−
（式中、（ＯＲ^２）_ａは上記ポリエーテル鎖であり、
Ｌは、独立に、単結合又は二価の連結基であり、
Ｌ’は、独立に、単結合又は二価の連結基であり、
Ｌが式（α２）の右側のイソシアヌル環に結合し、Ｌ’が左側のイソシアヌル環に結合する。）
で表される一価の有機基であることが好ましい。

Ｒ^３の炭素数としては、１〜１６が好ましく、１〜８が好ましい。

Ｒ^３としては、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜１６のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが好ましく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜８のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることがより好ましく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが更に好ましく、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜３のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが更により好ましく、直鎖の炭素数１〜３のアルキル基又はフッ素化アルキル基であることが特に好ましい。

Ｒ^３は、炭素数１〜１６のフッ素化アルキル基であることが好ましく、ＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基又は炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であることがより好ましく、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であることが更に好ましい。

炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、又は−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

Ｌは、式（α１）のイソシアヌル環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌとしては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｌとしては、
式：−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｏ−（Ｌ^１）_ｐ−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑ−
（式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４は、独立に、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、−ＯＳｉ（ＯＲ^１２５）_３であり（ここに、３つのＲ^１２５は独立に炭素数１〜４のアルキル基である。）、
Ｌ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合）、
ｏは０〜１０の整数、
ｐは０又は１、
ｑは１〜１０の整数）
で表される基が更に好ましい。

Ｌ’としては、
−（ＣＸ^１２６Ｘ^１２７）_ｒ−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｏ−（Ｌ^１）_ｐ−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑ−
（式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４、Ｌ^１、ｏ、ｐ及びｑは、上記Ｌにおける規定と同意義であり、
Ｘ^１２６及びＸ^１２７は、独立に、Ｈ、Ｆ又はＣｌであり、好ましくはＦであり、
ｒは１〜６の整数であり、
−（ＣＸ^１２６Ｘ^１２７）_ｒ−が（ＯＲ^２）_ａに結合し、（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑがイソシアヌル環に結合する。）
で表される基が更に好ましい。

Ｌ^１としては、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−が好ましい。

Ｌとしては、
式：−（ＣＦ_２）_ｍ１１−（ＣＨ_２）_ｍ１２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ１３−
（式中、ｍ１１は１〜３の整数、ｍ１２は１〜３の整数、ｍ１３は１〜３の整数）
で表される基、
式：−（ＣＦ_２）_ｍ１４−（ＣＨ_２）_ｍ１５−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ_２）_ｍ１６−
（式中、ｍ１４は１〜３の整数、ｍ１５は１〜３の整数、ｍ１６は１〜３の整数）
で表される基、
式：−（ＣＦ_２）_ｍ１７−（ＣＨ_２）_ｍ１８−
（式中、ｍ１７は１〜３の整数、ｍ１８は１〜３の整数）
で表される基、又は、
式：−（ＣＦ_２）_ｍ１９−（ＣＨ_２）_ｍ２０−Ｏ−ＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）−（ＣＨ_２）_ｍ２１−
（式中、ｍ１９は１〜３の整数、ｍ２０は１〜３の整数、ｍ２１は１〜３の整数）
で表される基が特に好ましい。

Ｌとして、特に限定されないが、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ｎは０〜４の整数）、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−、−（ＣＦ_２）_ｎ−（ＣＨ_２）_ｍ−（ｎ、ｍは独立していずれも０〜４の整数）、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_３）ＣＨ_２−等が挙げられる。

Ｘ^１は、一価の含シラン反応性架橋基である。

上記含シラン反応性架橋基は、基材との接着性に寄与する。上記架橋性基は、上記基材の材料と化学的に反応してもよい。

一の態様において、上記含シラン反応性架橋基としては、
式：−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ）_ｖ｝_ｎ
（式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、
Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基である。
Ｒ^ｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合である。
ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、ｖは０〜３の整数であり、ｎは、１〜２０の整数である。ｎが１である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは３であり、ｖは０である。ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり０〜２であり、ｖは、同一又は異なり０〜２であり、ｖが１以上の整数である場合、少なくとも２個のＳｉはＲ^ｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合している。）
で表される基が好ましい。Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、Ｓｉに結合している１価の基である。Ｒ^ｄは、２個のＳｉに結合している２価の基である。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、少なくとも１つは、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、又は炭素数１〜１０のアミノ基であり、それ以外は炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であることが好ましく、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルコキシ基である。ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり、０〜２であり、ｖは０〜２であることが好ましい。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃにおいて、ハロゲンとしては、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｃｌがより好ましい。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃにおいて、アルコキシ基の炭素数は、１〜５であることが好ましい。上記アルコキシ基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピロキシ基、又はブトキシ基が好ましく、より好ましくは、メトキシ基、又はエトキシ基である。

Ｒ^ｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合である。Ｒ^ｄとしては、−Ｏ−、−ＮＨ−、又は、−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。Ｒ^ｄは、２個のＳｉに結合している２価の基であり、Ｒ^ｄによって２以上のケイ素原子がＲ^ｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合することができる。ｎが２以上の整数である場合、ケイ素原子同士で結合していてもよい。

一の態様において、Ｘ^１は、式：
−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ’）_ｖ｝_ｎ
（式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基であり、
Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であり、
Ｒ^ｄ’は、同一又は異なり、−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ１’ _ｐ’Ｒ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’
（式中、Ｚは、同一又は異なり、単結合又は二価の連結基であり、
Ｒ^ｄ１’は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ”であり、
Ｒ^ｄ”は、Ｒ^ｄ’と同意義であり、
Ｒ^ｄ’中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
Ｒ^ｄ２’は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基であり、
Ｒ^ｄ３’は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
ｐ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｑ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ｒ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。）
で表される基であり、
ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、
ｖは０〜３の整数であり、
ｎは、１〜２０の整数である。）
で表される含シラン反応性架橋基である。

式中、Ｚは、同一又は異なり、単結合又は二価の連結基を表す。

Ｚとして、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−等が挙げられる。

式中、Ｒ^ｄ１は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ”を表す。Ｒ^ｄ”は、Ｒ^ｄ’と同意義である。

Ｒ^ｄ’中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｄ’において、Ｒ^ｄ１’が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｄ’中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ｄ’中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ｄ’中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４及びＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４及び５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ｄ’中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）又は２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｄ’中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個又は２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^ｄ２’は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基を表す。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

好ましくは、Ｒ^ｄ２’は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^ｄ３’は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；ｑ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり；ｒ’は、同一又は異なり、０〜３の整数である。ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ中の末端のＲ^ｄ’（Ｒ^ｄ’が存在しない場合、Ｒ^ｄ）において、上記ｑ’は、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄは、末端部に、少なくとも１つの、−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’）_２又は−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’）_３を有し得る。式中、（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’）の単位は、好ましくは（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ｄの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’）_３ことが好ましく、より好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _３）_３であり得る。末端部の各Ｓｉに結合したＲ^ｄ２’を多くするほど、基材への密着性が高くなり、優れた耐久性を得ることができる。

好ましい態様において、式中、水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉ原子の数は、式（α１）においては、好ましくは１〜６個、より好ましくは２〜４個、さらに好ましくは３個であり得、式（α２）においては、好ましくは２〜１２個、より好ましくは４〜８個、さらに好ましくは６個であり得る。

好ましい態様において、ｖは３であり、Ｒ^ｄは、それぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’である。

Ｌ^２は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｌ^２として、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−等が挙げられる。

上記含シラン反応性架橋基としては、−Ｌ^２−ＳｉＲ^５ _３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３（各式中、Ｌ^２は上述のとおり、Ｒ^５はハロゲン原子、Ｒ^６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）が挙げられる。

一の態様において、上記含シラン反応性架橋基としては、
式：−Ｌ^６−｛Ｃ（Ｒ^ａ６）_ｓ６（Ｒ^ｂ６）_ｔ６（Ｒ^ｃ６）_ｕ６（Ｒ^ｄ６）_ｖ６｝_ｎ６
（式中、Ｌ^６は単結合又は二価の連結基、
Ｒ^ａ６、Ｒ^ｂ６及びＲ^ｃ６は、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、炭素数３〜１０のグリシジル基、ＯＣＯＲ^６７（式中、Ｒ^６７は、炭素数１〜６のアルキル基）、ＯＨ又は−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６である。
Ｒ^ｄ６は、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、−Ｚ^６−ＣＲ^６１ _ｐ６Ｒ^６２ _ｑ６Ｒ^６３ _ｒ６である。
Ｚ^６は、同一又は異なり、酸素原子又は２価の有機基である。
式中、Ｒ^６１は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ６’を表す。
Ｒ^ｄ６’は、Ｒ^ｄ６と同意義である。
Ｒ^ｄ６中、Ｚ^６基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。
Ｒ^６２は、同一又は異なり、−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６である。
Ｙ^６は、同一又は異なり、２価の有機基である。
Ｒ^６５は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基である。
Ｒ^６６は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基である。
ｊ６は、（−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６）単位毎に独立して、１〜３の整数である。
Ｒ^６３は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基である。
ｐ６は、同一又は異なり、０〜３の整数である。
ｑ６は、同一又は異なり、０〜３の整数である。
ｒ６は、同一又は異なり、０〜３の整数である。
ｓ６、ｔ６及びｕ６は、同一又は異なり０又は１であり、ｖ６は０〜３の整数であり、ｎ６は、１〜２０の整数である。
ただし、式中、少なくとも２つの（−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６）が存在する。）
で表される基が好ましい。

Ｌ^６は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^６としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｌ^６として、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−等が挙げられる。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、Ｒ^ａ６、Ｒ^ｂ６及びＲ^ｃ６において、ハロゲンとしては、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｃｌがより好ましい。

Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、Ｒ^ａ６、Ｒ^ｂ６及びＲ^ｃ６において、アルコキシ基の炭素数は、１〜５であることが好ましい。上記アルコキシ基は鎖状でも、環状でも、分岐していてもよい。また、水素原子がフッ素原子等に置換されていてもよい。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピロキシ基、又はブトキシ基が好ましく、より好ましくは、メトキシ基、又はエトキシ基である。

上記Ｚ^６は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、又は、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、及びＣ_２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^６１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ６’を表す。Ｒ^ｄ６’は、Ｒ^ｄ６と同意義である。

Ｒ^ｄ６中、Ｚ^６基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｄ６において、Ｒ^６１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｄ６中にＺ^６基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ６中のＺ^６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒ^ｄ６中において直鎖状に連結される−Ｚ^６−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｄ６中のＺ^６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）又は２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｄ６中のＺ^６基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個又は２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^６２は、−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６を表す。

Ｙ^６は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。

好ましい態様において、Ｙ^６は、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）又は、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、及びＣ_２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｙ^６は、Ｃ_１−６アルキレン基又は−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

上記Ｒ^６５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。上記「加水分解可能な基」としては、上記と同様のものが挙げられる。

好ましくは、Ｒ^６５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはエチル基又はメチル基、特にメチル基を表す）である。

上記Ｒ^６６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｊ６は、（−Ｙ−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

上記Ｒ^６３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ６は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ６は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ６は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ６、ｑ６及びｒ６の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ６中の末端のＲ^ｄ６’（Ｒ^ｄ６’が存在しない場合、Ｒ^ｄ６それ自体）において、上記ｑ６は、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。

一の態様において、Ｘ^１基は、式：
−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ）_ｖ｝_ｎ、又は
−Ｌ^６−｛Ｃ（Ｒ^ａ６）_ｓ６（Ｒ^ｂ６）_ｔ６（Ｒ^ｃ６）_ｕ６（Ｒ^ｄ６）_ｖ６｝_ｎ６
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
で表される基である。

一の態様において、Ｘ^２は、独立に、上記ポリエーテル鎖を含む一価の有機基であってよい。上記有機基の好適な基は、Ｒ^１と同じである。

別の態様において、Ｘ^２は、独立に、上記含シラン反応性架橋基であってもよい。

別の態様において、Ｘ^２は、独立に、シリコーン残基、シルセスキオキサン残基及びシラザン基からなる群より選択される少なくとも１種の基であってもよい。

上記シリコーン残基としては、次の基が挙げられる。

各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、ｎは１〜２０の整数、ｍは０〜１０の整数、Ｒ^３１は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ^３１のうち、少なくとも１つは反応性基である。

各基に含まれる複数のＲ^３１は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ^３１のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。

上記反応性基としては、Ｈ、ハロゲン原子又は−ＯＲ^３２（Ｒ^３２は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基）、−Ｌ^３−ＳｉＲ^５ _３（Ｌ^３は単結合又は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ^５はハロゲン原子）、−Ｌ^３−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３（Ｌ^３は上記のとおり、Ｒ^６は独立に炭素数１〜４のアルキル基）、−Ｌ^３−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３（Ｌ^３及びＲ^６は上記のとおり）、−Ｌ^３−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３（Ｌ^３及びＲ^６は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^２は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２として好適なものは、上述したとおりである。

上記シリコーン残基としては、また、次の基も挙げられる。

各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^３４は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ^３４のうち、少なくとも１つは反応性基である。

各基に含まれる複数のＲ^３４は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ^３４のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。

上記反応性基としては、−Ｈ、−ＯＲ^３５（Ｒ^３５は炭素数１〜４のアルキル基）、ハロゲン原子、−ＯＨ、−Ｏ−ＣＲ^３５＝ＣＨ_２（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＲ^３５（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＯＲ^ｊ（Ｒ^ｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＮＲ^３５ _２（Ｒ^３５は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^２は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２として好適なものは、上述したとおりである。

上記シルセスキオキサン残基としては、次の基が挙げられる。

各式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基、Ｒ^３７は、各々独立して、一価の基であり、各基が有するＲ^３７のうち、少なくとも１つは反応性基、ｐは独立して０〜５０００の整数である。

各基に含まれる複数のＲ^３７は、各々独立して、一価の基であり、上記反応性基であってもよいし、上記反応性基以外の基であってもよい。但し、各基に含まれる複数のＲ^３７のうち、少なくとも１つは、上記反応性基である。

上記反応性基としては、−Ｈ、−ＯＲ^３５（Ｒ^３５は炭素数１〜４のアルキル基）、ハロゲン原子、−ＯＨ、−Ｏ−ＣＲ^３５＝ＣＨ_２（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＲ^３５（Ｒ^３５は上記のとおり）、−ＯＣＯＯＲ^ｊ（Ｒ^ｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＮＲ^３５ _２（Ｒ^３５は上記のとおり）及びこれらの基のいずれかを含む基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^２は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^２として好適なものは、上述したとおりである。

Ｘ^２は、上述したポリエーテル鎖を含む一価の有機基、含シラン反応性架橋基、シリコーン残基、シルセスキオキサン残基及びシラザン基とは異なる基であってもよい。

すなわち、Ｘ^２は、独立に、Ｈ、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＯＣＯＯＲ^ｊ（Ｒ^ｊはアルキル基又はハロゲン化アルキル基）、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、ハロゲン化アリール基、シリコーン残基（但し反応性基を有するものを除く）及びシルセスキオキサン残基（但し反応性基を有するものを除く）からなる群より選択される少なくとも１種であってよい。

上記シリコーン残基（但し反応性基を有するものを除く）としては、次の基が挙げられる。なお、上記反応性基とは、Ｒ^３７を構成し得る反応性基として例示したものである。

各式中、Ｌ^４は単結合又は二価の連結基、Ｒ^４１は、各々独立して、一価の反応性基以外の基である。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^４は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^４としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｌ^４として、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−等が挙げられる。

上記シルセスキオキサン残基（但し反応性基を有するものを除く）としては、次の基が挙げられる。なお、上記反応性基とは、Ｒ^３７を構成し得る反応性基として例示したものである。

各式中、Ｌ^４は単結合又は二価の連結基、Ｒ^４１は、各々独立して、一価の反応性基以外の基、ｐは独立して０〜５０００の整数である。

上記反応性基以外の基としては、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、アルキルエーテル基、ハロゲン化アルキルエーテル基、アルキルアミド基、ハロゲン化アルキルアミド基、ウリル基、ハロゲン化ウリル基、ウレア基、ハロゲン化ウレア基、−ＣＯＮＲ^ｋＣＯＲ^ｌ（Ｒ^ｋ及びＲ^ｌは独立にＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基）、糖鎖を含む基、アルキレンポリエーテル基、アレーン基、ハロゲン化アレーン基、ヘテロ環を含む基、アリール基、及び、ハロゲン化アリール基からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。

Ｌ^４は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^４として好適なものは、上述したとおりである。

上記シラザン基としては、次の基が挙げられる。

各式中、Ｌ^５は単結合又は二価の連結基、ｍは２〜１００の整数、ｎは１００以下の整数、Ｒ^４２は、各々独立して、Ｈ、炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基、炭素数５〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、アルキルシリル基、アルキルシアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基である。

Ｌ^５は、式（α１）又は式（α２）の環に直接結合する単結合又は二価の連結基である。Ｌ^５としては、単結合、アルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む二価の基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、又は、エーテル結合及びエステル結合からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む炭素数１〜１０の二価の炭化水素基がより好ましい。

Ｌ^５として、具体的には、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−等が挙げられる。

上記シラザン基としては、具体的には、次の基が挙げられる。

上記化合物において、Ｒ^１の平均分子量は、特に限定されるものではないが、５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。

上記化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２〜１×１０^５の平均分子量を有し得る。なかでも、好ましくは２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００の平均分子量を有することが、耐ＵＶ性及び摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本開示において「平均分子量」は数平均分子量を言い、「平均分子量」は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

一の態様において、化合物αは、上記式（α１）で表される化合物である。

別の態様において、化合物αは、上記式（α１）で表される化合物と式（α２）で表される化合物の混合物であってもよい。当該混合物中、式（α１）で表される化合物は、式（α１）で表される化合物と式（α２）で表される化合物の合計に対して、好ましくは１ｍｏｌ％以上、より好ましくは１０ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは５０ｍｏｌ％以上、さらにより好ましくは８０ｍｏｌ％以上、例えば９０ｍｏｌ％以上、９５ｍｏｌ％以上又は９９ｍｏｌ％以上であり得、上限は特に限定されず、１００ｍｏｌ％未満、例えば、９９ｍｏｌ％以下、９５ｍｏｌ％以下、９０ｍｏｌ％以下、８５ｍｏｌ％以下又は８０ｍｏｌ％以下であり得る。

本開示の表面処理剤中、上記化合物αは、０．０１質量％〜９９．９質量％、好ましくは０．１質量％〜５０質量％、より好ましくは０．１質量％〜３０質量％、さらに好ましくは０．１質量％〜２０質量％、例えば１質量％〜３０質量％または５質量％〜２０質量％含まれ得る。また、本開示の表面処理剤中、上記化合物αは、溶剤を除いた成分（化合物αも含む）に対して、１００モル％（即ち、化合物αのみを含む）であってもよく、１モル％〜９９．９モル％、好ましくは１０モル％〜９９モル％、より好ましくは３０モル％〜９９モル％、さらに好ましくは５０モル％〜９８モル％、例えば６０モル％〜９５モル％、７０モル％〜９５モル％、または８０モル％〜９５モル％であってもよい。

上記したイソシアヌル化合物は、特許文献１及び２に記載の方法により製造することができる。

（β）ＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（以下、「化合物β」とも称する。）

上記化合物βは、ＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基と、水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉとを有する。ただし、化合物βは、化合物αに該当するものを除く。

上記化合物βにおいて、パーフルオロポリエーテル基は、少なくとも１つの、好ましくは５以上、より好ましくは１０以上のＯＣＦ_２ユニットを有する。

一の態様において、上記パーフルオロポリエーテル基は、下記式
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ１−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ１−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ１−（ＯＣＦ_２）_ｆ１−
で表される基である。式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

好ましい態様において、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数であり、ｆ１は、１以上２００以下の整数である。好ましくは、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１及びｆ１の和は５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

パーフルオロポリエーテル基中の繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。また、−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

別の態様において、パーフルオロポリエーテル基は、それぞれ独立して、−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ２−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ２−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ２−（ＯＣＦ_２）_ｆ２−（式中、ｃ２及びｄ２は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ２及びｆ２は、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｃ２、ｄ２、ｅ２又はｆ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、パーフルオロポリエーテル基は、それぞれ独立して、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ２−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ２−（ＯＣＦ_２）_ｆ２−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ２−（ＯＣＦ_２）_ｆ２−（式中、ｅ２及びｆ２は、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅ２又はｆ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。

さらに別の態様において、パーフルオロポリエーテル基は、それぞれ独立して、−（Ｒ^１０６−Ｒ^１０７）_ｑ１−で表される基である。式中、Ｒ^１０６は、ＯＣＦ_２である。式中、Ｒ^１０７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ^１０７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせである。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、及び−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記ｑ１は、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、パーフルオロポリエーテル基は、好ましくは、それぞれ独立して、−（ＯＣＦ_２−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｑ１−又は−（ＯＣＦ_２−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｑ１−である。

水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉにおける「加水分解可能な基」とは、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ_２、−ＮＲ_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換又は非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

一の態様において、化合物（β）は、下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）で表される化合物であり得る。

上記式中、Ｒｆは、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。

上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。

上記Ｒｆは、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基又は炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。

該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、又は−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式中、ＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基を表す。パーフルオロポリエーテル基は、上記の通りである。

上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。

上記式中、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ_２、−ＮＲ_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換又は非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

上記式中、ｎは、（−ＳｉＲ^１４ _ｎＲ^１５ _３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは０〜２の整数であり、より好ましくは０である。ただし、式中、すべてのｎが同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ^１５が存在する。

上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。

上記式中、Ｘ^１０２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基を表す。Ｘ^１０２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ_２）_ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。

上記式中、Ｒ^ａ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表す。

上記Ｚ^３は、好ましくは、２価の有機基である。好ましい態様において、上記Ｚ^３は、式（Ｃ１）又は式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒ^ａ３が結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）又は、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基、特に好ましくはＣ_２−３アルキレン基、例えば−ＣＨ_２ＣＨ_２−である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、及びＣ_２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表す。Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａ３と同意義である。

Ｒ^ａ３中、Ｚ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ａ３において、Ｒ^７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ａ３中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ａ３中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ａ３中において直鎖状に連結される−Ｚ^３−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

一の態様において、「Ｒ^ａ３中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は１個（左式）又は２個（右式）、好ましくは１個である。換言すれば、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）中のＸ^１０７に結合するＳｉを含む−Ｓｉ−Ｒ^ａ３部分において、左式はＳｉが２個、右式はＳｉが３個連結している。

好ましい態様において、「Ｒ^ａ３中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個又は２個、好ましくは１個である。

好ましい態様において、ｋは３であり、「Ｒ^ａ３中のＺ^３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において１個である。

式中、Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。

好ましくは、Ｒ^７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ、ｑ及びｒの和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ３中の末端のＲ^ａ３’（Ｒ^ａ３’が存在しない場合、Ｒ^ａ３それ自体）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ３は、末端部に、少なくとも１つの、−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_２又は−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_３を有し得る。式中、（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）の単位は、好ましくは（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _３）である。さらに好ましい態様において、Ｒ^ａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒ）_３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ^３−ＳｉＲ^７２ _３）_３であり得る。

上記式（Ｃ１）及び（Ｃ２）においては、少なくとも１つのＲ^７２が存在する。

上記式中、Ｒ^ｂ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。

上記Ｒ^ｂ３は、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換又は非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒ^ｃは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記式中、Ｒ^ｃ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ、ｌ及びｍの和は、３である。

上記式中、Ｒ^ｄ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３’−ＣＲ^８１ _ｐ’Ｒ^８２ _ｑ’Ｒ^８３ _ｒ’を表す。

式中、Ｚ^３’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基を表す。

上記Ｚ^３’は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）、又は、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基、さらに好ましくはＣ_２−３アルキレン基であり、例えばＣＨ_２ＣＨ_２である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、及びＣ_２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ｄ３”を表す。Ｒ^ｄ３”は、Ｒ^ｄ３と同意義である。

Ｒ^ｄ３中、Ｚ^３’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ｄ３において、Ｒ^８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ｄ３中にＺ^３’基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ^３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ｄ３中のＺ^３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒ^ｄ３中において直鎖状に連結される−Ｚ^３’−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ｄ３中のＺ^３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）又は２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ｄ３中のＺ^３’基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個又は２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^８２は、−Ｙ^３−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊを表す。

Ｙ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。

好ましい態様において、Ｙ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）又は、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、及びＣ_２−６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、Ｙ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基又は−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ’−であり得る。Ｙ^３が上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

上記Ｒ^８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基を表す。上記「加水分解可能な基」としては、上記と同様のものが挙げられる。

好ましくは、Ｒ^８５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換又は非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはエチル基又はメチル基、特にメチル基を表す）である。

上記Ｒ^８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

ｊは、（−Ｙ^３−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊ）単位毎に独立して、１〜３の整数を表し、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

上記Ｒ^８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基を表す。Ｒ^８３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ｄ３中の末端のＲ^ｄ３”（Ｒ^ｄ３”が存在しない場合、Ｒ^ｄ３それ自体）において、上記ｑ’は、好ましくは２以上、例えば２又は３であり、より好ましくは３である。

上記式中、Ｒ^ｅ３は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ^３−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊを表す。ここに、Ｙ^３、Ｒ^８５、Ｒ^８６及びｊは、上記Ｒ^８２における記載と同意義である。

上記式中、Ｒ^ｆ３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基を表す。Ｒ^ｆ３は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ’、ｌ’及びｍ’の和は３である。

一の態様において、少なくとも１つのｋ’は２又は３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｋ’は２又は３であり、好ましくは３である。

一の態様において、ｌ’は２又は３であり、好ましくは３である。

上記式（Ｄ１）及び（Ｄ２）中、少なくとも１つのｑ’は２又は３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２又は３である。即ち、式中、少なくとも２つの−Ｙ^３−ＳｉＲ^８５ _ｊＲ^８６ _３−ｊ基が存在する。

上記式中、Ｇ^５は、−Ｒ^１７−Ｏ−、−Ｒ^１７−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−又は単結合である。Ｇ^５は、耐光性に優れる点からは、−Ｒ^１７−ＣＯＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−が好ましく、耐薬品性に優れる点からは、−Ｒ^１７−Ｏ−が好ましい。

上記Ｒ^１７は、アルキレン基である。Ｒ^１７は、製造のしやすさの点から、炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、−ＣＨ_２−が特に好ましい。

上記式中、Ｚ^５は、（ａ５＋ｂ５）価の炭化水素基、又は炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する、炭素数２以上で（ａ５＋ｂ５）価の基である。Ｚ^５は、Ｇ^５が−Ｒ^１７−Ｏ−であり、ｃ５が１である場合、（ａ５＋ｂ５）個の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基である。

一の態様において、Ｚ^５は、以下の基であり得る。

Ｚ^５は、水酸基の反応性に優れる点から、１級の水酸基を有する多価アルコールから水酸基を除いた残基が好ましい。Ｚ^５は、原料の入手容易性の点から、下記式（Ｚ−１）で表される基、下記式（Ｚ−２）で表される基、下記式（Ｚ−３）で表される基、下記式（Ｚ−４）で表される基又は下記式（Ｚ−５）で表される基が特に好ましい。ただし、Ｒ^４は、アルキル基であり、メチル基又はエチル基が好ましい。

上記式中、Ｒ^１６は、アルキレン基である。Ｒ^１６は、製造のしやすさの点から、炭素数４〜１４のアルキレン基が好ましい。さらに、製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基（−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２）の一部又は全部がインナーオレフィン（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ_３）に異性化した副生物が生成しにくい点から、炭素数４〜１０のアルキレン基が特に好ましい。

上記式中、ａ５は、１以上の整数である。ｂ５は、１以上の整数である。（ａ５＋ｂ５）は３以上である。ａ５が１のときｂ５は４以上であり、ａ５が２以上のときｂ５は１以上である。ａ５が２以上のときａ５個の［Ｒｆ−ＰＦＰＥ−Ｇ^５］は、同一であっても異なっていてもよい。ｂ５が２以上のときｂ５個の［（Ｏ−Ｒ^１６）_ｃ５−ＳｉＲ^１４ _ｎＲ^１５ _３−ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。ｃ５は０又は１である。

ａ５は、１〜１０が好ましく、１〜４が特に好ましい。ａ５が下限値以上であれば、表面処理層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性に優れる。ａ５が上限値以下であれば、表面処理層の外観に優れる。（ａ５＋ｂ５）は、３〜１５が好ましく、３〜１２が特に好ましい。

ａ５が１のときｂ５は４以上であり、４〜１０が好ましく、４〜５が特に好ましい。ａ５が１のときｂ５が４以上でなければ、表面処理層の耐摩擦性が不充分となり得る。ｂ５が上限値以下であれば、表面処理層の外観、化合物の安定性に優れる。

ａ５が２以上の整数のときｂ５は１以上の整数であり、１〜１０の整数が好ましく、１〜４の整数が特に好ましい。ａ５が２以上の整数であれば、表面処理層の潤滑性に優れるため、表面処理層に摩擦力が加わりにくい。そのため、ｂ５が１であっても、表面処理層の耐摩擦性に優れる。ｂ５が上限値以下であれば、表面処理層の外観、化合物の安定性に優れる。

ｃ５は、０又は１である。ｃ５は、化合物の耐光性に優れる点からは、０が好ましく、化合物の製造のしやすさの点からは、１が好ましい。

上記式中、Ｘ^１０１は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１０１は、式（Ａ１）及び（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１０１は、式（Ａ１）及び（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、αは１〜９の整数であり、α’は１〜９の整数である。これらα及びα’は、Ｘ^１０１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、α及びα’の和は、Ｘ^１０１の価数と同じである。例えば、Ｘ^１０１が１０価の有機基である場合、α及びα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、又はαが１かつα’が９となり得る。また、Ｘ^１０１が単結合または２価の有機基である場合、α及びα’は１である。式（Ａ２）においては、αはＸ^１０１の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^１０１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１０１は２〜４価の有機基であり、αは１〜３であり、α’は１である。

別の態様において、Ｘ^１０１は２価の有機基であり、αは１であり、α’は１である。この場合、式（Ａ１）及び（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）及び（Ａ２’）で表される。

上記式中、Ｘ^１０５は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１０５は、式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^１４ _ｎＲ^１５ _３−ｎ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１０５は、式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。

上記式中のβは、１〜９の整数であり、β’は、１〜９の整数である。これらβ及びβ’は、Ｘ^１０５の価数に応じて決定され、式（Ｂ１）において、β及びβ’の和は、Ｘ^１０５の価数と同じである。例えば、Ｘ^１０５が１０価の有機基である場合、β及びβ’の和は１０であり、例えばβが９かつβ’が１、βが５かつβ’が５、又はβが１かつβ’が９となり得る。また、Ｘ^１０５が単結合または２価の有機基である場合、β及びβ’は１である。式（Ｂ２）において、βはＸ^１０５の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^１０５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１０５は２〜４価の有機基であり、βは１〜３であり、β’は１である。

別の態様において、Ｘ^１０５は２価の有機基であり、βは１であり、β’は１である。この場合、式（Ｂ１）及び（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）及び（Ｂ２’）で表される。

上記式中、Ｘ^１０７は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１０７は、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ^ａ３ _ｋＲ^ｂ３ _ｌＲ^ｃ３ _ｍ基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１０７は、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、γは、１〜９の整数であり、γ’は、１〜９の整数である。これらγ及びγ’は、Ｘ^１０７の価数に応じて決定され、式（Ｃ１）において、γ及びγ’の和は、Ｘ^１０７の価数と同じである。例えば、Ｘ^１０７が１０価の有機基である場合、γ及びγ’の和は１０であり、例えばγが９かつγ’が１、γが５かつγ’が５、又はγが１かつγ’が９となり得る。また、Ｘ^１０７が単結合または２価の有機基である場合、γ及びγ’は１である。式（Ｃ２）において、γはＸ^１０７の価数の値から１を引いた値である。

上記Ｘ^１０７は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１０７は２〜４価の有機基であり、γは１〜３であり、γ’は１である。

別の態様において、Ｘ^１０７は２価の有機基であり、γは１であり、γ’は１である。この場合、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）及び（Ｃ２’）で表される。

上記式中、Ｘ^１０９は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ^１０９は、式（Ｄ１）及び（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部又は−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^１０９は、式（Ｄ１）及び（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であっても、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、δは１〜９の整数であり、δ’は１〜９の整数である。これらδ及びδ’は、Ｘ^１０９の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δ及びδ’の和は、Ｘ^１０９の価数と同じである。例えば、Ｘ^１０９が１０価の有機基である場合、δ及びδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、又はδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ^１０９が単結合または２価の有機基である場合、δ及びδ’は１である。式（Ｄ２）においては、δはＸ^１０９の価数から１を引いた値である。

上記Ｘ^１０９は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^１０９は２〜４価の有機基であり、δは１〜３であり、δ’は１である。

別の態様において、Ｘ^１０９は２価の有機基であり、δは１であり、δ’は１である。この場合、式（Ｄ１）及び（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）及び（Ｄ２’）で表される。

好ましい態様において、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３１）_ｐ１−（Ｘ^ａ）_ｑ１−
［式中：
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−又はｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−及び−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基又はＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基又はＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ”は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ１は、０又は１であり、
ｑ１は、０又は１であり、
ここに、ｐ１及びｑ１の少なくとも一方は１であり、ｐ１又はｑ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基であり得る。ここに、Ｒ^３１及びＸ^ａ（典型的にはＲ^３１及びＸ^ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基及びＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

一の態様において、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、
−（Ｒ^３１）_ｐ１−（Ｘ^ａ）_ｑ１−
［式中：
Ｒ^３１は、−（ＣＨ_２）_ｓ’−を表し、
ｓ’は、１〜２０の整数であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、及び−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１−６アルキル基を表し、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数であり、
ｐ１は、０又は１であり、
ｑ１は、０又は１であり、
ここに、ｐ１及びｑ１の少なくとも一方は１であり、ｐ１又はｑ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される２価の基であり得る。ここに、Ｒ^３１及びＸ^ａ（典型的にはＲ^３１及びＸ^ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基及びＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、−（Ｒ^３１）_ｐ１−（Ｘ^ａ）_ｑ１−Ｒ^３２−である。Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−又はｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^３２（典型的にはＲ^３２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基及びＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｘ^ｆ−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、又は
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３１及びＲ^３２は、上記と同意義であり、
Ｘ^ｆは、単結合または炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくは炭素原子数１〜２のパーフルオロアルキレン基、例えばジフルオロメチレン基である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、
単結合、
−Ｘ^ｆ−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−Ｘ^ｆ−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−、又は
−Ｘ^ｆ−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、Ｘ^ｆ、ｓ’及びｔ’は、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、又は
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−又はｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４及びｍ”は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、又は
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−又はｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

より好ましくは、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、又は
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

好ましい態様において、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、又は
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、
Ｘ^ｃは、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ^３４−、又は−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基又はＣ_１−６アルキル基を表し、
ｓ’は、１〜２０の整数であり、
ｔ’は、１〜２０の整数である。］
であり得る。

一の態様において、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ”−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、又は
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、Ｒ^３３、ｍ”、ｓ’、ｔ’及びｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９基は、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基及びＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

尚、上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、各式の左側がＰＦＰＥ基に結合する。

上記式中、Ｘ^ｆは、式（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）および（Ｄ１）については単結合が好ましく、式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）および（Ｄ２）については炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくは炭素原子数１〜２のパーフルオロアルキレン基、例えばジフルオロメチレン基である。

一の態様において、Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９基は、それぞれ独立して、−Ｏ−Ｃ_１−６アルキレン基以外であり得る。

別の態様において、Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９基としては、例えば下記の基が挙げられる：
［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、又はＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、及び
（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基又はＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］

上記Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９の具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＨ_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_５−、
−ＣＦ_２−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２ＣＯＮＨ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＦ_２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、


などが挙げられる。

さらに別の態様において、Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、式：−（Ｒ^１８）_ｘ−（ＣＦＲ^１７）_ｙ−（ＣＨ_２）_ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙ及びｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙ及びｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｒ^１８は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^２６−（式中、Ｒ^２６は、水素原子又は有機基を表す）又は２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１８は、酸素原子又は２価の極性基である。

上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^２７）−、及び−Ｃ（Ｏ）ＮＲ^２７−（これらの式中、Ｒ^２７は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

さらに別の態様において、Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９基の例として、下記の基が挙げられる：
［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、又はＣ_１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^１０１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、又は
［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基又はＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｄ１）及び（Ｄ２）においては炭素原子、また、下記する式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）及び（Ｃ２）においてはＳｉ原子、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、又はトリアジン類の残基が挙げられる。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換及び未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレート又はアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基又は紫外線吸収基としては、
が挙げられる。

この態様において、Ｘ^１０１、Ｘ^１０５、Ｘ^１０７、及びＸ^１０９は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。

本開示の表面処理剤中、式（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）、（Ｄ１）及び（Ｅ１）で表される化合物（以下、「（１）成分」ともいう）と、式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物（以下、「（２）成分」ともいう）との合計に対して、式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物が、０．１モル％以上３５モル％以下である。（２）成分に対する式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。（２）成分に対する式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％又は１０モル％であり得る。（２）成分に対する式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、及び（Ｄ２）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下又は５モル％以上１０モル％以下である。（２）成分をかかる範囲とすることにより、より摩擦耐久性を向上させることができる。

上記表面処理剤中、（１）成分と（２）成分の組み合わせは、好ましくは式（Ａ１）で表される化合物と式（Ａ２）で表される化合物の組み合わせ、式（Ｂ１）で表される化合物と式（Ｂ２）で表される化合物の組み合わせ、式（Ｃ１）で表される化合物と式（Ｃ２）で表される化合物の組み合わせ、式（Ｄ１）で表される化合物と式（Ｄ２）で表される化合物の組み合わせである。

式（Ａ１）及び式（Ａ２）で表される化合物は、好ましくはｔが２以上、より好ましくは２〜１０の整数、さらに好ましくは２〜６の整数である。ｔを２以上とすることにより、Ｒ^１５を有するＳｉ原子が複数存在することになり、より高い耐久性を得ることができる。

式（Ｃ１）及び式（Ｃ２）で表される化合物は、好ましくはｋが２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｃ１）及び式（Ｃ２）で表される化合物は、末端に、−Ｓｉ−（Ｚ−ＳｉＲ^７２ _３）_２又は−Ｓｉ−（Ｚ−ＳｉＲ^７２ _３）_３構造を有し、さらに好ましくは−Ｓｉ−（Ｚ−ＳｉＲ^７２ _３）_３構造を有する。末端をかかる構造とすることにより、より高い耐久性を得ることができる。

式（Ｄ１）及び式（Ｄ２）で表される化合物は、好ましくはｌ’が２又は３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｄ１）及び式（Ｄ２）で表される化合物は、末端に、−Ｃ−（Ｙ−ＳｉＲ^８５ _３）_２又は−Ｓｉ−（Ｙ−ＳｉＲ^８５）_３構造を有し、さらに好ましくは−Ｓｉ−（Ｙ−ＳｉＲ^８５）_３構造を有する。末端をかかる構造とすることにより、より高い耐久性を得ることができる。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）、（Ｄ１）、又は（Ｅ１）で表される化合物である。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ２）、（Ｂ２）、（Ｃ２）、又は（Ｄ２）で表される化合物である。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）で表される化合物である。これらの化合物は、末端に水酸基又は加水分解可能な基を有するＳｉを複数有し得るので、より高い摩擦耐久性を得ることができる。

一の態様において、化合物（β）は、上記（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）で表される化合物である。

一の態様において、化合物（β）は、上記（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、又は（Ｄ２）で表される化合物である。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ａ１）及び（Ａ２）で表される化合物である。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｂ１）及び（Ｂ２）で表される化合物である。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物である。化合物（β）として、上記式（Ｃ１）及び（Ｃ２）で表される化合物を用いることにより、摩擦耐久性及び表面滑り性が向上する。さらに上記化合物（α）のようなイソシアヌル骨格を含む化合物との混合性が向上する。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｄ１）及び（Ｄ２）で表される化合物である。

一の態様において、化合物（β）は、上記式（Ｅ１）で表される化合物である。

好ましい化合物（Ｅ１）としては、たとえば、下式の化合物（１−１）〜（１−８）が挙げられる。該化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面処理層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、外観にさらに優れる点から好ましい。

本開示で用いられる化合物（β）の数平均分子量は、好ましくは１，０００〜３０，０００、より好ましくは１，５００〜３０，０００、さらに好ましくは２，０００〜１０，０００である。

本開示の表面処理剤中、化合物（α）と化合物（β）の重量比は、好ましくは１：９９〜９９：１であり、より好ましくは５：９５〜９０：１０であり、さらに好ましくは３０：７０〜９０：１０であり、さらにより好ましくは３０：７０〜７０：３０であり得る。化合物（α）と化合物（β）の重量比をかかる範囲内とすることにより、優れた紫外線耐久性と表面滑り性、摩耗耐久性、例えば消しゴム耐久性、スチールウール耐久性等を両立することができる。

一の態様において、化合物（α）の数平均分子量と化合物（β）の数平均分子量の比は、好ましくは９：１〜１：９、より好ましくは７：３〜３：７、さらに好ましくは６：４〜４：６であり得る。

一の態様において、化合物（α）の数平均分子量は、化合物（β）の数平均分子量よりも大きい。化合物（α）の数平均分子量が化合物（β）の数平均分子量よりも大きい場合、好ましくは数平均分子量比が７：３〜６：４（化合物（α）：化合物（β））の関係にある場合、動摩擦係数が低下して表面滑り性を向上させることができる。

別の態様において、化合物（α）の数平均分子量は、化合物（β）の数平均分子量以下である。化合物（α）の数平均分子量が化合物（β）の数平均分子量以下である場合、好ましくは数平均分子量比が５：５〜２：８（化合物（α）：化合物（β））の場合、動摩擦係数が低下して表面滑り性を向上させることができることに加え、耐摩耗性を向上させることができる。

上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、及び（Ｅ１）で表される化合物は、公知の方法により製造することができる。

本開示の表面処理剤には、化合物（α）及び化合物（β）以外に、他のシラン化合物を含み得る。

他のシラン化合物としては、式（α１）で表される化合物及び式（α２）で表される化合物のイソシアヌル環が開環した、式（α１’）で表される化合物及び式（α２’）

（式中、各記号は、式（α１）及び式（α２）と同意義である。）
で表される化合物、並びに、
パーフルオロポリエーテル基がＯＣＦ_２ユニットを有しない以外は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）及び（Ｅ１）と同様の構造を有するシラン化合物が挙げられる。

上記ＯＣＦ_２ユニットを有しないパーフルオロポリエーテル基は、例えば、
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−
（式中、各記号は、上記ポリエーテル鎖と同意義である。）
で表される化合物が挙げられる。

上記ポＯＣＦ_２ユニットを有しないパーフルオロポリエーテル基は、下記式：
−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−
（式中、ｍ１４及びＸ^１１は、上記と同意義であり、好ましくはＸ^１１はＦである）
で表される基
及び、下記式：
−（ＯＣ_２Ｆ_４−Ｒ^１１）_ｆ−
（式中、Ｒ^１１は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であり、ｆは、２〜１００の整数である）
で表される基であってもよい。

−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−は、好ましくは−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−であり、より好ましくは−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｍ１４−又は−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−であり、特に好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｍ１４−である。

これらの他のシラン化合物は、表面処理剤中、含まれていても含まれていなくてもよく、含まれる場合には、化合物（α）の合計１００ｍｏｌ部に対して、好ましくは０．０１〜２０ｍｏｌ部、より好ましくは０．１〜１５ｍｏｌ部、例えば、１〜１０ｍｏｌ部又は３〜５ｍｏｌ部であり得る。

また、本開示の表面処理剤は、上記化合物（α）及び化合物（β）に加え、その化合物の合成に由来する化合物、例えば、Ｒ^１−ＯＳＯ_２ＣＦ_３又はＣＦ_３ＳＯ_２Ｏ−Ｒ^１’−ＯＳＯ_２ＣＦ_３で表される化合物を含んでいてもよい。

本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）を含んでいてもよい。かかる含フッ素オイルを含む場合、表面処理剤を用いて形成される表面処理層の表面滑り性をより向上させることができる。

上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロポリエーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^１−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^２ ・・・（３）
式中、Ｒｆ^１は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロポリエーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−及び−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（３）で表されるパーフルオロポリエーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）及び（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−Ｒｆ^２ ・・・（３ａ）
Ｒｆ^１−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ’’−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ’’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’’−Ｒｆ^２ ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’及びｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下、例えば１以上３０以下の整数であり、ｃ’’及びｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の数平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。

本開示の表面処理剤中、含フッ素オイルは、含まれていても含まれていなくてもよく、含まれる場合、上記パーフルオロポリエーテル基含有化合物の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０．１〜５００質量部、好ましくは１〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。

一般式（３ａ）で示される化合物及び一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた表面処理層を得ることができる。

一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種又はそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中のフルオロ（ポリ）エーテル基含有化合物の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１０：１〜１：１０が好ましく、４：１〜１：４がより好ましい。

一の態様において、式（３ａ）で表される化合物の平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。

一の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、８，０００〜３０，０００であることが好ましい。

別の態様において、式（３ｂ）で表される化合物の平均分子量は、３，０００〜８，０００であることが好ましい。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、化合物（α）の平均分子量及び化合物（β）の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３−Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ^３−Ｆで表される化合物及びクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、末端がＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である上記分子末端に炭素−炭素不飽和結合を有する含フッ素化合物で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

本開示の表面処理剤が、上記（ｄ）シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）を含む場合、表面処理剤を用いて形成される表面処理層の表面滑り性をより向上させることができる。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、化合物（α）の平均分子量及び化合物（β）の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。

本開示の表面処理剤は、上記したように触媒、溶媒、アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などを含んでいてもよい。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、上記シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、被覆層の形成を促進する。

上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。

上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、窒素原子、酸素原子、リン原子及び硫黄原子からなる群より選ばれる少なくとも１つの原子を含むことが好ましく、硫黄原子、又は窒素原子を含むことがより好ましい。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、分子構造内に、アミノ基、アミド基、スルフィニル基、Ｐ＝Ｏ基、Ｓ＝Ｏ基及びスルホニル基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことが好ましく、Ｐ＝Ｏ基及びＳ＝Ｏ基からなる群より選ばれる少なくとも１つの官能基を含むことがより好ましい。

上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物は、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン化合物、リン酸アミド化合物、アミド化合物、尿素化合物及びスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが好ましく、脂肪族アミン化合物、芳香族アミン類、リン酸アミド、尿素化合物及びスルホキシド化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることがより好ましく、スルホキシド化合物、脂肪族アミン化合物及び芳香族アミン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１つの化合物であることが特に好ましく、スルホキシド化合物であることがさらに好ましい。

上記脂肪族アミン化合物としては、例えば、ジエチルアミン、トリエチルアミン等を挙げることができる。上記芳香族アミン化合物としては、例えば、アニリン、ピリジン等を挙げることができる。上記リン酸アミド化合物としては、例えば、ヘキサメチルホスホルアミド等を挙げることができる。上記アミド化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。上記尿素化合物としては、テトラメチル尿素等を挙げることができる。上記スルホキシド化合物としては、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げることができる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、又はテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。

上記アルコールとしては、例えば、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。

上記溶媒としては、例えば、以下の溶媒が使用される：Ｃ_５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン及びパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基及びアルキル基は直鎖又は分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、又は、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本開示の表面処理剤において、上記化合物（α）及び化合物（β）の濃度は、合計で、０．００１〜１質量％が好ましく、０．００５〜０．５質量％がより好ましく、０．０１〜０．２質量％が更に好ましい。

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

本開示は、本開示の表面処理剤により形成される表面処理層を有する物品も提供する。

本開示の物品は、基材、及び、該基材の表面に、上記の表面処理剤より形成された層（表面処理層、例えば防汚性被覆層）を含む。

上記基材は、例えばガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、チタン、ジルコニウム等の金属単体又は合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

上記ガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

上記樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。

一の態様において、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３、ＳｉＮなどが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

次に、かかる基材の表面に表面処理層を形成する方法について説明する。表面処理層を形成する方法は、基材の表面に、上記表面処理剤を供給して、基材表面に表面処理層を形成する工程を含む。より具体的には、表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から表面処理層を形成する。

表面処理剤の膜の形成方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

乾燥被覆法を使用する場合、表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、又は、上記湿潤被覆法に関して例示した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。例えば、表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体又はセラミック多孔体に、表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

好ましい態様において、表面処理剤の膜の形成に、蒸着法を用い、より好ましくは、ＣＶＤ、及び高周波加熱（特に、抵抗加熱、電子ビーム）の少なくとも一方を用い、特に好ましくは、電子ビームを用いる。

上記後処理としては、例えば、熱処理が挙げられる。熱処理の温度は、特に限定されないが、例えば、６０〜２５０℃、好ましくは１００℃〜１８０℃であってもよい。熱処理の時間は、特に限定されないが、例えば３０分〜５時間、好ましくは１〜３時間であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性及び防汚性の点から好ましい。

上記のようにして、基材の表面に、表面処理剤を用いて表面処理層が形成される。

一の態様において、本開示の物品は、表面処理層を最外層に有する光学材料である。

光学材料としては、ディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイもしくはそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

上記表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、上記表面処理層を有する物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。

以上、本開示の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本開示の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本開示を実施例により説明するが、本開示はかかる実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示し、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２Ｏ）等）の存在順序は任意である。

合成例１
特許文献１に記載の方法に準じて、以下の化合物（Ａ）を合成した。当該合成により得られた生成物（Ａ）中には、以下に示す化合物（Ｂ）〜（Ｉ）を含んでいた。

化合物（Ａ）

化合物（Ｂ）

化合物（Ｃ）

化合物（Ｄ）

化合物（Ｅ）

化合物（Ｆ）

化合物（Ｇ）

化合物（Ｈ）

化合物（Ｉ）

生成物（Ａ）の組成(モル比)は、化合物（Ａ）が６１％、化合物（Ｂ）が２％、化合物（Ｄ）が２％、化合物（Ｅ）が２％、化合物（Ｆ）が２０％、化合物（Ｉ）が１３％であった。

合成例１で得た生成物（Ａ）を、生成物（Ａ）の濃度が２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ａ）とした。

合成例２
次に、特許文献１に記載の方法に準じ、上記の化合物（Ａ）を合成し、精製を行って、生成物（Ｂ）を得た。当該合成により得られた生成物（Ｂ）の組成(モル比)は、化合物（Ａ）が９１％、化合物（Ｂ）が４％、化合物（Ｄ）が５％であった。

合成例２で得た生成物（Ｂ）を、生成物（Ｂ）の濃度が２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｂ）とした。

実施例１−（１）
下記化合物（Ｊ）（９１．０ｍｏｌ％）及び化合物（Ｋ）（９．０ｍｏｌ％）を含む混合物の濃度が２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｃ）とした。

化合物（Ｊ）
化合物（Ｋ）

薬液（Ａ）と薬液（Ｃ）をそれぞれ重量比で８：２で、十分に混合して、表面処理液（Ａ）を得た。その後、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０^−３Ｐａとし、まず、二酸化ケイ素を７ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成し、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤（Ａ）２ｍｇを蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、大気下、恒温槽内で１４０℃で３０分間加熱した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層を有する基材（１）を得た。

実施例１−（２）
薬液（Ａ）と薬液（Ｃ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（２）を得た。

実施例２−（１）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｃ）をそれぞれ重量比で９：１で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（３）を得た。

実施例２−（２）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｃ）をそれぞれ重量比で８：２で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（４）を得た。

実施例２−（３）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｃ）をそれぞれ重量比で７：３で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（５）を得た。

実施例２−（４）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｃ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（６）を得た。

実施例２−（５）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｃ）をそれぞれ重量比で３：７で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（７）を得た。

実施例３−（１）
下記化合物（Ｌ）（９１．０ｍｏｌ％）及び化合物（Ｍ）（９．０ｍｏｌ％）を含む混合物の濃度が２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｄ）とした。

化合物（Ｌ）
化合物（Ｍ）

薬液（Ｂ）と薬液（Ｄ）をそれぞれ重量比で８：２で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（８）を得た。

実施例３−（２）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｄ）をそれぞれ重量比で７：３で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（９）を得た。

実施例３−（３）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｄ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１０）を得た。

実施例４−（１）
化合物（Ｊ）、化合物（Ｋ）、及び化合物（Ｎ）の組成比（モル比）がそれぞれ８２％、８％、１０％の混合物の濃度が２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｅ）とした。

化合物（Ｎ）

薬液（Ｂ）と薬液（Ｅ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１１）を得た。

実施例４−（２）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｅ）をそれぞれ重量比で４：６で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１２）を得た。

実施例４−（３）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｅ）をそれぞれ重量比で３：７で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１３）を得た。

実施例４−（４）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｅ）をそれぞれ重量比で２：８で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１４）を得た。

比較例１−（１）
下記化合物（Ｏ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｆ）とした。

化合物（Ｏ）

薬液（Ａ）と薬液（Ｆ）をそれぞれ重量比で８：２で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１５）を得た。

比較例１−（２）
薬液（Ａ）と薬液（Ｆ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１６）を得た。

比較例２−（１）
下記化合物（Ｐ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｇ）とした。

化合物（Ｐ）

薬液（Ａ）と薬液（Ｇ）をそれぞれ重量比で８：２で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１７）を得た。

比較例２−（２）
薬液（Ａ）と薬液（Ｇ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１８）を得た。

比較例３−（１）
下記化合物（Ｑ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｈ）とした。

化合物（Ｑ）

薬液（Ｂ）と薬液（Ｈ）をそれぞれ重量比で８：２で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（１９）を得た。

比較例３−（２）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｈ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（２０）を得た。

比較例４−（１）
下記化合物（Ｒ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させ、薬液（Ｉ）とした。

化合物（Ｒ）

薬液（Ｂ）と薬液（Ｉ）をそれぞれ重量比で８：２で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（２１）を得た。

比較例４−（２）
薬液（Ｂ）と薬液（Ｉ）をそれぞれ重量比で５：５で、十分に混合した以外は、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（２２）を得た。

比較例５−（１）
薬液（Ｄ）のみを用いて、実施例１−（１）の基材（１）の作成と同様の方法で、基材（２３）を得た。

下記表１に、各実施例及び比較例で用いられた薬液とその重量比を示す。

（試験例１）
・水の静的接触角の測定方法
水の静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて次の方法で測定した。水平に置いた基材にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。水の静的接触角の測定値について、基材の表面処理層の異なる５点を測定し、その平均値を算出して用いた。基材（１）〜（２３）について、初期の値を測定した。結果を下記表２に示す。以下、試験例３〜５においても同様の方法で測定した。

（試験例２）
・表面滑り性評価（動摩擦係数（ＣＯＦ）の測定）
上記の基材（１）〜（２３）について、動摩擦係数を測定した。具体的には、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製 ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ Ｄ４９１７に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、摩擦紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状況で摩擦紙を５００ｍｍ／秒の速度で平衡移動させて動摩擦係数を測定した。結果を下記表２に示す。

（試験例３）
・摩擦耐久性評価 （消しゴム耐久性）
上記の基材（１）〜（２３）について、消しゴム摩擦耐久試験により、摩擦耐久性を評価した。具体的には、表面処理層を形成したサンプル物品を水平配置し、消しゴム（コクヨ株式会社製、ＫＥＳＨＩ−７０、平面寸法１ｃｍ×１．６ｃｍ）を表面処理層の表面に接触させ、その上に１０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態で消しゴムを２０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数５００回毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。最後に接触角が１００度を超えた時の往復回数を、下記表２に示す。

（試験例４）
・スチールウール（ＳＷ）摩擦耐久性評価
上記の基材（１）〜（２３）について、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を基材の表面処理層に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。往復回数２０００回毎に水の静的接触角（度）を測定し、接触角の測定値が１００度未満となった時点で評価を中止した。結果を下記表２に示す（表中、記号「−」は測定せず）。

（試験例５）
・促進耐候性試験評価
基材（１）〜（２３）について、促進耐候性試験を行った。促進耐候性試験では、下記の通りＵＶＢ照射を行った。ＵＶＢ照射は、ＵＶＢ−３１３ランプ（Ｑ−Ｌａｂ社製、３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、ランプと基材の表面処理層との距離を５ｃｍとし、基材を載せている板の温度は６３℃で行った。ＵＶＢ照射は連続的に行うが、水の静的接触角の測定時には、基材をいったん取り出し、所定の時間ＵＶＢを照射した後の表面処理層をキムワイプ（商品名、十條キンバリー社製）に純水を十分に染み込ませて５往復拭いた後、さらに別のキムワイプにエタノールを十分に染み込ませて５往復拭き、乾燥させた。その後すぐに水の静的接触角を測定した。評価は、ＵＶＢ照射開始から２４時間毎に、水の静的接触角が９０度を下回るまで行った。最後に接触角が９０度を超えた時までの累積のＵＶＢ照射時間を、下記表２に示す。

上記表２の結果から理解されるように、化合物（α）に相当する化合物（Ａ）と、化合物（β）に相当する−ＯＣＦ_２−を有する化合物（Ｊ）及び化合物（Ｌ）を含む本開示の表面処理剤（実施例１−（１）〜（２）、実施例２−（１）〜（５）、実施例３−（１）〜（３）、実施例４−（１）〜（４））を処理した基材（１）〜（１４）は、優れた耐摩耗性（消しゴム耐久性４０００回以上；ＳＷ摩擦耐久性８０００回以上）、優れた表面滑り性（動摩擦係数０．０５以下）、及び優れた耐ＵＶ性（促進耐候性３５０時間以上）を示すことが確認された。一方、−ＯＣＦ_２−を含まないパーフルオロポリエーテル基を有する化合物（Ｏ）、化合物（Ｐ）、化合物（Ｑ）又は化合物（Ｒ）を含む表面処理剤（比較例１−（１）〜（２）、比較例２−（１）〜（２）、比較例３−（１）〜（２）、比較例４−（１）〜（２））を処理した基材（１５）〜（２２）、また化合物（Ｌ）と化合物（Ｍ）の混合物のみを含む表面処理剤（比較例５−（１））を処理した基材（２３）は、少なくとも１つの試験において満足できる結果が得られなかった。このことから、本開示の表面処理剤は、従来品に比べ、化合物（α）と−ＯＣＦ_２−を含むパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を混合することにより、耐摩耗性、表面滑り性、及び耐ＵＶ性を高レベルでバランスよく発揮できることが確認された。

本開示は、種々多様な基材、特に光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (16)

1. （α）下記式（α１）又は式（α２）：
   （式中：
   Ｒ^１はポリエーテル鎖を含む一価の有機基であり、
   Ｒ^１’はポリエーテル鎖を含む二価の有機基であり、
   前記ポリエーテル鎖は、
   式：−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ｍ１１−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｍ１２−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｘ^１０ _６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
   （式中、ｍ１１、ｍ１２、ｍ１３、ｍ１４、ｍ１５及びｍ１６は、独立に、０又は１以上の整数であり、
   Ｘ^１０は独立にＨ、Ｆ又はＣｌであり、
   各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
   で表される鎖であり、
   Ｘ^１は、独立に、含シラン反応性架橋基であり、
   Ｘ^２は、独立に、一価の基を表す。）
   で表される化合物；及び
   （β）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、又は（Ｅ１）
   ［式中、
   Ｒｆは、それぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基であり、
   ＰＦＰＥは、
   −（ＯＣ _６ Ｆ _１２ ） _ａ１ −（ＯＣ _５ Ｆ _１０ ） _ｂ１ −（ＯＣ _４ Ｆ _８ ） _ｃ１ −（ＯＣ _３ Ｆ _６ ） _ｄ１ −（ＯＣ _２ Ｆ _４ ） _ｅ１ −（ＯＣＦ _２ ） _ｆ１ −
   （式中、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１及びｅ１は、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ｆ１は、１以上２００以下の整数であり、ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１、ｅ１又はｆ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
   で表される基であり、
   Ｒ ^１４ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２２のアルキル基であり、
   Ｒ ^１５ は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
   Ｒ ^１３ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又はハロゲン原子であり、
   Ｒ ^１２ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
   ｎは、（−ＳｉＲ ^１４ _ｎ Ｒ ^１５ _３−ｎ ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、
   ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）及び（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ ^１５ が存在し；
   Ｘ ^１０１ は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
   Ｘ ^１０２ は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は２価の有機基であり、
   ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、
   αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   α’は、１〜９の整数であり；
   Ｘ ^１０５ は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
   βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   β’は、１〜９の整数であり；
   Ｘ ^１０７ は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
   γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   γ’は、１〜９の整数であり；
   Ｒ ^ａ３ は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^３ −ＳｉＲ ^７１ _ｐ Ｒ ^７２ _ｑ Ｒ ^７３ _ｒ であり、
   Ｚ ^３ は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
   Ｒ ^７１ は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ ^ａ’ であり、
   Ｒ ^ａ’ は、Ｒ ^ａ３ と同意義であり、
   Ｒ ^ａ３ 中、Ｚ ^３ 基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
   Ｒ ^７２ は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
   Ｒ ^７３ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
   ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ただし、−Ｚ ^３ −ＳｉＲ ^７１ _ｐ Ｒ ^７２ _ｑ Ｒ ^７３ _ｒ 毎において、ｐ、ｑ及びｒの和は３であり、式（Ｃ１）及び（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ ^７２ が存在し；
   Ｒ ^ｂ３ は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
   Ｒ ^ｃ３ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
   ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
   ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
   ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌ及びｍの和は３であり；
   Ｘ ^１０９ は、それぞれ独立して、単結合又は２〜１０価の有機基であり；
   δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   δ’は、１〜９の整数である。
   Ｒ ^ｄ３ は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ ^３ ’−ＣＲ ^８１ _ｐ’ Ｒ ^８２ _ｑ’ Ｒ ^８３ _ｒ’ であり、
   Ｚ ^３ ’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は２価の有機基であり、
   Ｒ ^８１ は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ ^ｄ３” であり、
   Ｒ ^ｄ３” は、Ｒ ^ｄ３ と同意義であり、
   Ｒ ^ｄ３ 中、Ｚ ^３ ’基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり、
   Ｒ ^８２ は、−Ｙ ^３ −ＳｉＲ ^８５ _ｊ Ｒ ^８６ _３−ｊ であり、
   Ｙ ^３ は、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基であり、
   Ｒ ^８５ は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解可能な基であり、
   Ｒ ^８６ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は低級アルキル基であり、
   ｊは、（−Ｙ ^３ −ＳｉＲ ^８５ _ｊ Ｒ ^８６ _３−ｊ ）単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
   Ｒ ^８３ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
   ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   Ｒ ^ｅ３ は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ ^３ −ＳｉＲ ^８５ _ｊ Ｒ ^８６ _３−ｊ であり、
   Ｒ ^ｆ３ は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は低級アルキル基であり、
   ｋ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ｌ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ｍ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、
   ただし、式中、少なくとも１つのｑ’は２又は３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ’は２又は３であり；
   Ｇ ^５ は、−Ｒ ^１７ −Ｏ−、−Ｒ ^１７ −ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨ−又は単結合であり、
   Ｒ ^１７ は、アルキレン基であり、
   Ｚ ^５ は、（ａ５＋ｂ５）価の炭化水素基、又は炭化水素基の炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子を１つ以上有する、炭素数２以上で（ａ５＋ｂ５）価の基であり、
   Ｒ ^１６ は、アルキレン基であり、
   ａ５は、１以上の整数であり
   ｂ５は、１以上の整数であり、
   ただし、（ａ５＋ｂ５）は３以上であり、
   ｃ５は０又は１であり、
   Ｘ ^１０１ 、Ｘ ^１０５ 、Ｘ ^１０７ 、Ｘ ^１０９ 、およびＺ ^５ は、イソシアヌル環を有しない。］
   で表されるＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物
   を含んで成る表面処理剤。
2. Ｒ^１は、
   Ｒ^３−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−
   （式中、（ＯＲ^２）_ａは、ポリエーテル鎖であり、
   Ｒ^３は、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり、
   Ｌは、単結合又は二価の連結基である。）
   で表される基であり、
   Ｒ^１’は、
   −Ｌ’−（ＯＲ^２）_ａ−Ｌ−
   （式中、（ＯＲ^２）_ａは、ポリエーテル鎖であり、
   Ｌは、独立に、単結合又は二価の連結基であり、
   Ｌ’は、独立に、単結合又は二価の連結基である。）
   で表される基である、請求項１に記載の表面処理剤。
3. （ＯＲ^２）_ａは、
   −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
   （式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。ｍ１３〜ｍ１６は、合計で、５以上である。各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
   で表される基である、請求項２に記載の表面処理剤。
4. Ｌは、
   −（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｏ−（Ｌ^１）_ｐ−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑ−
   （式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４は、独立に、Ｈ、Ｆ、ＯＨ、又は、−ＯＳｉ（ＯＲ^１２５）_３であり（ここに、３つのＲ^１２５は独立に炭素数１〜４のアルキル基である。）、
   Ｌ^１は、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、又は、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（各結合の左側がＣＸ^１２１Ｘ^１２２に結合）、
   ｏは０〜１０の整数、
   ｐは０又は１、
   ｑは１〜１０の整数）
   で表される基であり、
   Ｌ’は、
   −（ＣＸ^１２６Ｘ^１２７）_ｒ−（ＣＸ^１２１Ｘ^１２２）_ｏ−（Ｌ^１）_ｐ−（ＣＸ^１２３Ｘ^１２４）_ｑ−
   （式中、Ｘ^１２１〜Ｘ^１２４、Ｌ^１、ｏ、ｐ及びｑは、上記Ｌにおける規定と同意義であり、
   Ｘ^１２６及びＸ^１２７は、独立に、Ｈ、Ｆ又はＣｌであり、
   ｒは１〜６の整数である。）
   で表される基である
   る、請求項２又は３に記載の表面処理剤。
5. Ｘ^１は、
   式：−Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ）_ｖ｝_ｎ
   （式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基であり、
   Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であり、
   Ｒ^ｄは、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、シラン結合であり、
   ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、
   ｖは０〜３の整数であり、
   ｎは、１〜２０の整数であり、
   ｎが１である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは３であり、ｖは０であり、
   ｎが２〜２０である場合、ｓ＋ｔ＋ｕは、同一又は異なり０〜２であり、ｖは、同一又は異なり０〜２であり、
   ｖが１以上の整数である場合、少なくとも２個のＳｉはＲ^ｄを介して、直鎖、梯子型、環状、又は複環状に結合している。）
   で表される基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
6. Ｘ^１は、−Ｌ^２−ＳｉＲ^５ _３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＲ^６）_３、−Ｌ^２−Ｓｉ（ＮＲ^６ _２）_３、又は−Ｌ^２−Ｓｉ（ＯＣＯＲ^６）_３
   （各式中、Ｌ^２は、−Ｃ_２Ｈ_４−、−Ｃ_３Ｈ_６−、−Ｃ_４Ｈ_８−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−、−Ｃ_４Ｈ_８−であり、
   Ｒ^５は、ハロゲン原子であり、
   Ｒ^６は、独立に炭素数１〜４のアルキル基である。）
   で表される基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
7. Ｘ^１は、式：
   −Ｌ^２−｛Ｓｉ（Ｒ^ａ）_ｓ（Ｒ^ｂ）_ｔ（Ｒ^ｃ）_ｕ（Ｒ^ｄ’）_ｖ｝_ｎ
   （式中、Ｌ^２は単結合又は二価の連結基であり、
   Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ及びＲ^ｃは、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、又は炭素数３〜１０のグリシジル基であり、
   Ｒ^ｄ’は、同一又は異なり、−Ｚ−ＳｉＲ^ｄ１’ _ｐ’Ｒ^ｄ２’ _ｑ’Ｒ^ｄ３’ _ｒ’
   （式中、Ｚは、同一又は異なり、単結合又は二価の連結基であり、
   Ｒ^ｄ１’は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ”であり、
   Ｒ^ｄ”は、Ｒ^ｄ’と同意義であり、
   Ｒ^ｄ’中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり、
   Ｒ^ｄ２’は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基であり、
   Ｒ^ｄ３’は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
   ｐ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
   ｑ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
   ｒ’は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
   ただし、ｐ’、ｑ’及びｒ’の和は３である。）
   で表される基であり、
   ｓ、ｔ及びｕは、同一又は異なり０又は１であり、
   ｖは０〜３の整数であり、
   ｎは、１〜２０の整数である。）
   で表される含シラン反応性架橋基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
8. Ｘ^１は、式：
   −Ｌ^６−｛Ｃ（Ｒ^ａ６）_ｓ６（Ｒ^ｂ６）_ｔ６（Ｒ^ｃ６）_ｕ６（Ｒ^ｄ６）_ｖ６｝_ｎ６
   （式中、Ｌ^６は単結合又は二価の連結基であり、
   Ｒ^ａ６、Ｒ^ｂ６及びＲ^ｃ６は、同一又は異なり、水素、ハロゲン、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアミノ基、炭素数１〜１０のアセトキシ基、炭素数３〜１０のアリル基、炭素数３〜１０のグリシジル基、ＯＣＯＲ^６７（式中、Ｒ^６７は、炭素数１〜６のアルキル基）、ＯＨ又は−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６であり、
   Ｒ^ｄ６は、同一又は異なり、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、又は、−Ｚ^６−ＣＲ^６１ _ｐ６Ｒ^６２ _ｑ６Ｒ^６３ _ｒ６であり、
   Ｚ^６は、同一又は異なり、酸素原子又は２価の有機基であり、
   式中、Ｒ^６１は、同一又は異なり、Ｒ^ｄ６’を表し、
   Ｒ^ｄ６’は、Ｒ^ｄ６と同意義であり、
   Ｒ^ｄ６中、Ｚ^６基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個であり、
   Ｒ^６２は、同一又は異なり、−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６であり、
   Ｙ^６は、同一又は異なり、２価の有機基であり、
   Ｒ^６５は、同一又は異なり、水酸基又は加水分解可能な基であり、
   Ｒ^６６は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
   ｊ６は、（−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６）単位毎に独立して、１〜３の整数であり、
   Ｒ^６３は、同一又は異なり、水素原子又は低級アルキル基であり、
   ｐ６は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
   ｑ６は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
   ｒ６は、同一又は異なり、０〜３の整数であり、
   ｓ６、ｔ６及びｕ６は、同一又は異なり０又は１であり、ｖ６は０〜３の整数であり、ｎ６は、１〜２０の整数であり、
   ただし、式中、少なくとも２つの（−Ｙ^６−ＳｉＲ^６５ _ｊ６Ｒ^６６ _３−ｊ６）が存在する。）
   で表される含シラン反応性架橋基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
9. （β）ＯＣＦ_２ユニットを有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）又は（Ｃ２）で表される化合物である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
10. ＰＦＰＥは、
    −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｍ１３−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｍ１４−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｍ１５−（ＯＣＦ_２）_ｍ１６−
    （式中、ｍ１３及びｍ１４は、それぞれ、０〜３０の整数であり、ｍ１５及びｍ１６は、それぞれ、１〜２００の整数である。各繰り返し単位の存在順序は任意である。）
    で表される基である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
11. さらに溶媒を含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
12. 防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
13. 真空蒸着用である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
14. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
15. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
16. 前記物品が光学部材である、請求項１５に記載の物品。