JP7151711B2 - 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法に関する。
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示す表面層を基材の表面に形成できるため、表面処理剤に好適に用いられる。含フッ素エーテル化合物を含む表面処理剤は、表面層が指で繰り返し摩擦されても撥水撥油性が低下しにくい性能（耐摩擦性）および拭き取りによって表面層に付着した指紋を容易に除去できる性能（指紋汚れ除去性）が長期間維持されることが求められる用途、たとえば、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材、メガネレンズ、ウェアラブル端末のディスプレイの表面処理剤として用いられる。
耐摩擦性および指紋汚れ除去性に優れる表面層を基材の表面に形成できる含フッ素エーテル化合物としては、下記のものが提案されている。
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一方の末端に窒素原子による分岐を介して２個の加水分解性シリル基を導入した含フッ素エーテル化合物（特許文献１）。
ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖の一方の末端に窒素原子による分岐を介して２個の加水分解性シリル基を導入した含フッ素エーテル化合物（特許文献１）。
最近では、タッチパネルの指で触れる面を構成する部材等の表面層には、さらなる耐摩擦性、耐光性および耐薬品性の向上が求められることがある。そのため、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物が必要となることがある。
本発明は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル化合物を含む含フッ素エーテル組成物およびコーティング液、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品およびその製造方法の提供を目的とする。
また、本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。
また、本発明は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用な含フッ素エーテル化合物の提供を目的とする。
本発明は、下記［１］～［１５］の構成を有する含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、含フッ素エーテル化合物の他の態様を提供する。
［１］下式１で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１）ｂ 式１
ただし、
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、
Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または下式ｇ１で表される基であり、
Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環を除く。）を有する基であり、
Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｂは、２以上の整数であり、
ｂ個のＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
ただし、
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（ただし、フッ素原子を除く。）、または炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｃは、１～１０の整数であり、
ｃが２以上の場合、ｃ個の（ＣＲ２Ｒ３）は、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１）ｂ 式１
ただし、
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、
Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または下式ｇ１で表される基であり、
Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環を除く。）を有する基であり、
Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｂは、２以上の整数であり、
ｂ個のＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（ただし、フッ素原子を除く。）、または炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｃは、１～１０の整数であり、
ｃが２以上の場合、ｃ個の（ＣＲ２Ｒ３）は、同一であっても異なっていてもよい。
［２］前記Ｑ１における環が、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、およびこれらの環のうちの２つ以上からなる縮合環からなる群から選ばれる環である、［１］の含フッ素エーテル化合物。
［３］前記Ｚ１が、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または前記式ｇ１で表される基である、［１］または［２］の含フッ素エーテル化合物。
［４］前記Ｒ１が、下式ｇ２で表される基である、［１］～［３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ２［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ２
ただし、
Ｑ２は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
ｐは、１以上の整数であり、
ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
［３］前記Ｚ１が、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または前記式ｇ１で表される基である、［１］または［２］の含フッ素エーテル化合物。
［４］前記Ｒ１が、下式ｇ２で表される基である、［１］～［３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ２［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ２
ただし、
Ｑ２は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
ｐは、１以上の整数であり、
ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
［５］前記式ｇ２で表される基が、下式ｇ３で表される基または下式ｇ４で表される基である、［４］の含フッ素エーテル化合物。
ただし、
Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎであり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５Ｒ６）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ７は、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎであり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７は、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、
Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ３は、炭素数２～１０のアルキレン基であり、
Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
複数の－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎであり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５Ｒ６）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ７は、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎであり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７は、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、
Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ３は、炭素数２～１０のアルキレン基であり、
Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
複数の－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。
［６］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含むことを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
［７］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
［８］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有することを特徴とする物品。
［９］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
［１０］ウェットコーティング法によって［７］のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
［７］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物と、液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。
［８］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有することを特徴とする物品。
［９］前記［１］～［５］のいずれかの含フッ素エーテル化合物または［６］の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
［１０］ウェットコーティング法によって［７］のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
［１１］下式２で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１ａ）ｂ 式２
ただし、
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、
Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または下式ｇ１で表される基であり、
Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環を除く。）を有する基であり、
Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｂは、２以上の整数であり、
ｂ個のＲ１ａは、同一であっても異なっていてもよい。
ただし、
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（ただし、フッ素原子を除く。）、または炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｃは、１～１０の整数であり、
ｃが２以上の場合、ｃ個の（ＣＲ２Ｒ３）は、同一であっても異なっていてもよい。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１ａ）ｂ 式２
ただし、
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、
Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または下式ｇ１で表される基であり、
Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環を除く。）を有する基であり、
Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｂは、２以上の整数であり、
ｂ個のＲ１ａは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（ただし、フッ素原子を除く。）、または炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｃは、１～１０の整数であり、
ｃが２以上の場合、ｃ個の（ＣＲ２Ｒ３）は、同一であっても異なっていてもよい。
［１２］前記Ｑ１における環が、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、およびこれらの環のうちの２つ以上からなる縮合環からなる群から選ばれる環である、［１１］の含フッ素エーテル化合物。
［１３］前記Ｚ１が、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または前記式ｇ１で表される基である、［１１］または［１２］の含フッ素エーテル化合物。
［１４］前記Ｒ１ａが、下式ｇ５で表される基である、［１１］～［１３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ２ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ５
ただし、
Ｑ２ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｐは、１以上の整数である。
［１３］前記Ｚ１が、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または前記式ｇ１で表される基である、［１１］または［１２］の含フッ素エーテル化合物。
［１４］前記Ｒ１ａが、下式ｇ５で表される基である、［１１］～［１３］のいずれかの含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ２ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ５
ただし、
Ｑ２ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｐは、１以上の整数である。
［１５］前記式ｇ５で表される基が、下式ｇ６で表される基または下式ｇ７で表される基である、［１４］の含フッ素エーテル化合物。
ただし、
Ｒ５ａおよびＲ６ａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５ａＲ６ａ）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ７ａは、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７ａは、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７ａ）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、
Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ３ａは、単結合または炭素数１～８のアルキレン基であり、
複数のＱ３ａは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ５ａおよびＲ６ａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５ａＲ６ａ）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ７ａは、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７ａは、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７ａ）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、
Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ３ａは、単結合または炭素数１～８のアルキレン基であり、
複数のＱ３ａは、同一であっても異なっていてもよい。
本発明の含フッ素エーテル化合物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の含フッ素エーテル組成物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明のコーティング液によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の物品は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する。
本発明の物品の製造方法によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品を製造できる。
本発明の含フッ素エーテル化合物の他の態様は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本発明の含フッ素エーテル組成物によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明のコーティング液によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
本発明の物品は、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する。
本発明の物品の製造方法によれば、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を有する物品を製造できる。
本発明の含フッ素エーテル化合物の他の態様は、表面処理剤に好適に用いられる含フッ素エーテル化合物の中間体として有用である。
本明細書において、式１で表される化合物を化合物１と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
また、式ｇ１で表される基を基ｇ１と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素－炭素原子間においてエーテル結合（－Ｏ－）を形成する酸素原子を意味する。オキシフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）を形成し得る基を意味し、式ｇ２中のＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲおよび１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めて算出される。末端基は、たとえば式１中のＡまたは加水分解性シリル基である。
また、式ｇ１で表される基を基ｇ１と記す。他の式で表される基も同様に記す。
本明細書における以下の用語の意味は、以下の通りである。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素－炭素原子間においてエーテル結合（－Ｏ－）を形成する酸素原子を意味する。オキシフルオロアルキレン単位の化学式は、その酸素原子をフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応してシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）を形成し得る基を意味し、式ｇ２中のＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎである。
「表面層」とは、基材の表面に形成される層を意味する。
含フッ素エーテル化合物の「数平均分子量」は、１Ｈ－ＮＭＲおよび１９Ｆ－ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めて算出される。末端基は、たとえば式１中のＡまたは加水分解性シリル基である。
［含フッ素エーテル化合物］
本発明の含フッ素エーテル化合物は、化合物１である。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１）ｂ 式１
ただし、Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、ｍは、２～５００の整数であり、（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または基ｇ１であり、Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環を除く。）を有する基であり、Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、ｂは、２以上の整数であり、ｂ個のＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
本発明の含フッ素エーテル化合物は、化合物１である。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１）ｂ 式１
ただし、Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、ｍは、２～５００の整数であり、（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または基ｇ１であり、Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環を除く。）を有する基であり、Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、ｂは、２以上の整数であり、ｂ個のＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
ただし、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（ただし、フッ素原子を除く。）、または炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、ｃは、１～１０の整数であり、ｃが２以上の場合、ｃ個の（ＣＲ２Ｒ３）は、同一であっても異なっていてもよい。
Ａの炭素数は、化合物１によって形成される表面層の潤滑性および耐摩擦性がさらに優れる点から、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、１～３が特に好ましい。
Ｒｆ１の炭素数は、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、１～６が好ましい。
Ｒｆ１としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。ペルフルオロアルキレン基以外のＲｆ１としては、水素原子を１～４個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基が好ましく、水素原子を１または２個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基がより好ましい。
全Ｒｆ１のうちのペルフルオロアルキレン基の割合は、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、６０モル％以上が好ましく、８０モル％以上がより好ましく、１００モル％が特に好ましい。
Ｒｆ１としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。ペルフルオロアルキレン基以外のＲｆ１としては、水素原子を１～４個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基が好ましく、水素原子を１または２個とフッ素原子を２個以上とを有する炭素数２～６のポリフルオロアルキレン基がより好ましい。
全Ｒｆ１のうちのペルフルオロアルキレン基の割合は、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、６０モル％以上が好ましく、８０モル％以上がより好ましく、１００モル％が特に好ましい。
ｍは、２～２００の整数が好ましく、５～１５０の整数がより好ましく、１０～１００の整数が特に好ましい。ｍが前記範囲の下限値以上であれば、表面層の撥水撥油性がさらに優れる。ｍが前記範囲の上限値以下であれば、表面層の耐摩擦性がさらに優れる。すなわち、化合物１の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量あたりに存在する加水分解性シリル基の数が減少し、表面層の耐摩擦性が低下する。
（Ｒｆ１Ｏ）ｍにおいて、２種以上のＲｆ１Ｏが存在する場合、各Ｒｆ１Ｏの結合順序は限定されない。たとえば、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏが存在する場合、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏがランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
２種以上のＲｆ１Ｏが存在するとは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子数が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子の位置が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、および炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（側鎖の数や側鎖の炭素数等）が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在することをいう。
２種以上のＲｆ１Ｏの配置については、たとえば、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝で表される構造は、ｍ１個の（ＣＦ２Ｏ）とｍ２個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とがランダムに配置されていることを表す。また、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５で表される構造は、ｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とが交互に配置されていることを表す。
２種以上のＲｆ１Ｏが存在するとは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子数が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、水素原子の位置が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在すること、および炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類（側鎖の数や側鎖の炭素数等）が異なる２種以上のＲｆ１Ｏが存在することをいう。
２種以上のＲｆ１Ｏの配置については、たとえば、｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝で表される構造は、ｍ１個の（ＣＦ２Ｏ）とｍ２個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とがランダムに配置されていることを表す。また、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５で表される構造は、ｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とｍ５個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）とが交互に配置されていることを表す。
（Ｒｆ１Ｏ）ｍとしては、（Ｒｆ１Ｏ）ｍの少なくとも一部に下記の構造を有するものが好ましい。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ３
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
ただし、ｍ１は１以上の整数であり、ｍ２は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２は２～５００の整数であり、ｍ３およびｍ４は、それぞれ、２～５００の整数であり、ｍ５は、１～２５０の整数であり、ｍ６およびｍ７は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ６＋ｍ７は、２～５００の整数であり、ｍ８は、１～２５０の整数である。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ３
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ６（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ７
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８
ただし、ｍ１は１以上の整数であり、ｍ２は１以上の整数であり、ｍ１＋ｍ２は２～５００の整数であり、ｍ３およびｍ４は、それぞれ、２～５００の整数であり、ｍ５は、１～２５０の整数であり、ｍ６およびｍ７は、それぞれ１以上の整数であり、ｍ６＋ｍ７は、２～５００の整数であり、ｍ８は、１～２５０の整数である。
（Ｒｆ１Ｏ）ｍとしては、化合物１を製造しやすい点から、下記のものが好ましい。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－１ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８－１ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８－１ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
ただし、ｍ２－２、ｍ５－１およびｍ８－１が１以上の整数となるように、ｍ２、ｍ５およびｍ８の数は選択される。
｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２｝
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２｛（ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ２－２｝
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ４
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ５－１ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２Ｏ）ｍ８
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８－１ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ８－１ＣＦ２ＣＦ２Ｏ
ただし、ｍ２－２、ｍ５－１およびｍ８－１が１以上の整数となるように、ｍ２、ｍ５およびｍ８の数は選択される。
Ｒｆ２の炭素数は、表面層の耐摩擦性および指紋汚れ除去性がさらに優れる点から、１～８が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。
Ｒｆ２としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒｆ２の構造は、化合物１を製造する際の原料および合成方法に依存する。Ｒｆ２としては、原料を入手しやすい点から、－ＣＦ２ＣＦ２－が好ましい。
Ｒｆ２としては、表面層の耐摩擦性および潤滑性がさらに優れる点から、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。
Ｒｆ２の構造は、化合物１を製造する際の原料および合成方法に依存する。Ｒｆ２としては、原料を入手しやすい点から、－ＣＦ２ＣＦ２－が好ましい。
Ｚ１は、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－および－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－を除いて、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－を有しないことが好ましい。－Ｃ（Ｏ）Ｏ－は、光、薬品等によって切断されやすく、表面層の耐光性および耐薬品性を低下させる。Ｚ１としては、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または前記式ｇ１で表される基が好ましい。
基ｇ１のＲ２およびＲ３における１価の有機基としては、炭素数１～４の１価の有機基が特に好ましい。Ｒ２およびＲ３は、原料を入手しやすい点から、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
基ｇ１におけるｃは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１～６の整数が好ましい。
基ｇ１としては、アルキレン基が好ましい。
Ｚ１における２価の有機基の炭素数は、１～８が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。
Ｚ１としては、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、および、－Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２－が特に好ましい。
基ｇ１のＲ２およびＲ３における１価の有機基としては、炭素数１～４の１価の有機基が特に好ましい。Ｒ２およびＲ３は、原料を入手しやすい点から、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
基ｇ１におけるｃは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１～６の整数が好ましい。
基ｇ１としては、アルキレン基が好ましい。
Ｚ１における２価の有機基の炭素数は、１～８が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が特に好ましい。
Ｚ１としては、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、単結合、－ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、および、－Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２－が特に好ましい。
Ｑ１は（ｂ＋１）価の環を有する基であり、Ｚ１およびＲ１は該環を構成する原子に直接結合している。ただし、該環はオルガノポリシロキサン環以外の環である。以下、特に言及しない限り、Ｑ１における環は、オルガノポリシロキサン環以外の環を意味する。
Ｑ１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環および集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環および６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環および６員環から選ばれる環の２または３個結合した縮合多環、および、５員環および６員環から選ばれる環の１または２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環または６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環および６員環から選ばれる環の２または３個が単結合、炭素原子の１～３個、または原子価が２または３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＺ１およびＲ１のいずれかが結合していることが好ましい。
上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子およびイオウ原子が好ましく、窒素原子および酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は異なっていてもよい。
Ｑ１における環は、単環、縮合多環、橋かけ環、スピロ環および集合多環のいずれであってもよく、環を構成する原子は、炭素原子のみからなる炭素環でもよく、２価以上の原子価を有するヘテロ原子と炭素原子とからなるヘテロ環でもよい。また、環を構成する原子間の結合は、単結合であってもよく、多重結合であってもよい。さらに、環は芳香族性の環であってもよく、非芳香族性の環であってもよい。
単環としては、４員環～８員環が好ましく、５員環および６員環がより好ましい。縮合多環としては、４員環～８員環の２以上が縮合した縮合多環が好ましく、５員環および６員環から選ばれる環の２または３個結合した縮合多環、および、５員環および６員環から選ばれる環の１または２個と４員環１個が結合した縮合多環がより好ましい。橋かけ環としては、５員環または６員環を最大の環とする橋かけ環が好ましく、スピロ環としては、４員環～６員環の２つからなるスピロ環が好ましい。集合多環としては、５員環および６員環から選ばれる環の２または３個が単結合、炭素原子の１～３個、または原子価が２または３のヘテロ原子１個を介して結合した集合多環が好ましい。なお、集合多環においては、各環にＺ１およびＲ１のいずれかが結合していることが好ましい。
上記環を構成するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子およびイオウ原子が好ましく、窒素原子および酸素原子がより好ましい。環を構成するヘテロ原子の数は３個以下が好ましい。また、環を構成するヘテロ原子の数が２個以上の場合、それらのヘテロ原子は異なっていてもよい。
Ｑ１における環としては、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、これらの環のうちの２または３個が縮合した縮合環、５員環または６員環を最大の環とする橋かけ環、および、これらの環のうちの２つ以上を有し、連結基が単結合、炭素数３以下のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子である集合多環からなるからなる群から選ばれる１種が好ましい。
好ましい環は、ベンゼン環、５員または６員の脂肪族環、窒素原子または酸素原子を有する５員または６員のヘテロ環、および、５員または６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合環である。
具体的な環としては、下式に挙げられる環が好ましい。なお、下記には、環に結合したオキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。
好ましい環は、ベンゼン環、５員または６員の脂肪族環、窒素原子または酸素原子を有する５員または６員のヘテロ環、および、５員または６員の炭素環と４～６員のヘテロ環との縮合環である。
具体的な環としては、下式に挙げられる環が好ましい。なお、下記には、環に結合したオキソ基（＝Ｏ）を有する環も示す。
Ｑ１における環を構成する原子の環を構成しない結合手は、Ｚ１とＲ１に結合する結合手であり、残余の結合手がある場合は水素原子や置換基に結合している。該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を含んでいてもよい。）、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基、アルコキシ基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
また、環を構成する炭素原子の１個がＺ１やＲ１に結合する結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原子にＺ１とＲ１とが結合していてもよく、２つのＲ１が結合していてもよい。Ｚ１とＲ１とは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｂ個のＲ１はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個のＲ１が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。
また、環を構成する炭素原子の１個がＺ１やＲ１に結合する結合手を２つ有する場合、その１個の炭素原子にＺ１とＲ１とが結合していてもよく、２つのＲ１が結合していてもよい。Ｚ１とＲ１とは別の環構成原子に結合していることが好ましい。ｂ個のＲ１はそれぞれ別個の環構成原子に結合してもよく、そのうちの２個は１個の環構成炭素原子に結合してもよく、さらに２個のＲ１が結合した環構成炭素原子は２個以上存在してもよい。
ｂは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、２～６が好ましく、２～４がより好ましく、２または３が特に好ましい。ｂが前記範囲の下限値以上であれば、化合物１が強固に基材の表面に結合し、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。ｂが前記範囲の上限値以下であれば、原料を入手しやすくなり、化合物１を製造しやすい。また、化合物１の加水分解性シリル基側の末端が嵩高くならないため、基材の表面における化合物１の密度が比較的高くなる。その結果、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
Ｒ１としては、本発明の効果が発揮されやすい点から、基ｇ２が好ましい。
－Ｑ２［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ２
ただし、Ｑ２は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｐは、１以上の整数であり、ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
－Ｑ２［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ２
ただし、Ｑ２は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、ｐは、１以上の整数であり、ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。
ｐは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１～３が好ましく、１または２がより好ましく、１が特に好ましい。
Ｑ２における有機基としては、表面層の耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、飽和炭化水素基もしくは芳香族炭化水素基、またはこれらの組み合わせが好ましい。Ｑ２の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２が特に好ましい。
Ｑ２における有機基としては、表面層の耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、飽和炭化水素基もしくは芳香族炭化水素基、またはこれらの組み合わせが好ましい。Ｑ２の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２が特に好ましい。
ＳｉＲ４
ｎＬ３－ｎは、加水分解性シリル基である。
化合物１は、末端に加水分解性シリル基を２個以上有する。末端に加水分解性シリル基を２個以上有する化合物１は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、化合物１は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する。一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する化合物１は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
化合物１は、末端に加水分解性シリル基を２個以上有する。末端に加水分解性シリル基を２個以上有する化合物１は基材と強固に化学結合するため、表面層は耐摩擦性に優れる。
また、化合物１は、一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する。一方の末端のみに加水分解性シリル基を有する化合物１は凝集しにくいため、表面層は外観に優れる。
Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応によって水酸基となる基である。すなわち、化合物１の末端のＳｉ－Ｌは、加水分解反応によってシラノール基（Ｓｉ－ＯＨ）となる。シラノール基は、さらに分子間で反応してＳｉ－Ｏ－Ｓｉ結合を形成する。また、シラノール基は、基材の表面の水酸基（基材－ＯＨ）と脱水縮合反応して、化学結合（基材－Ｏ－Ｓｉ）を形成する。
Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が特に好ましい。
Ｌとしては、化合物１の製造をしやすい点から、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物１の保存安定性に優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、化合物１の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Ｌとしては、化合物１の製造をしやすい点から、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。Ｌとしては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物１の保存安定性に優れる点から、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、化合物１の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリル基等が挙げられる。
Ｒ４としては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。Ｒ４の炭素数がこの範囲であると、化合物１を製造しやすい。
Ｒ４としては、１価の炭化水素基が好ましく、１価の飽和炭化水素基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は、１～６が好ましく、１～３がより好ましく、１～２が特に好ましい。Ｒ４の炭素数がこの範囲であると、化合物１を製造しやすい。
ｎは、０または１が好ましく、０が特に好ましい。１個の加水分解性シリル基にＬが複数存在することによって、基材との密着性がより強固になる。
ＳｉＲ４
ｎＬ３－ｎとしては、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＳｉＣｌ３、Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、Ｓｉ（ＮＣＯ）３が好ましい。工業的な製造における取扱いやすさの点から、Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
化合物１中の２個以上のＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。化合物１を製造しやすい点から、同一の基であることが好ましい。
化合物１中の２個以上のＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。化合物１を製造しやすい点から、同一の基であることが好ましい。
基ｇ２としては、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、基ｇ３または基ｇ４が好ましい。
ただし、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３－ＳｉＲ４
ｎＬ３－ｎであり、ｑは、０～１０の整数であり、ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５Ｒ６）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｒ７は、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３－ＳｉＲ４
ｎＬ３－ｎであり、ｒは、０～４の整数であり、ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７は、同一であっても異なっていてもよく、ｓは、１または２であり、ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ３は、炭素数２～１０のアルキレン基であり、Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、Ｌは、加水分解性基であり、ｎは、０～２の整数であり、複数の－Ｑ３－ＳｉＲ４
ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ５およびＲ６における１価の有機基としては、炭素数１～４の１価の有機基が特に好ましい。
－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ５およびＲ６は、原料を入手しやすい点から、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
ｑは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましい。
－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ５およびＲ６は、原料を入手しやすい点から、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１～４のアルキル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基であることが特に好ましい。
ｑは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましい。
Ｒ７における１価の有機基としては、炭素数１～４の１価の有機基が特に好ましい。
－Ｚ２－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ７としては、原料を入手しやすい点から、炭素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
ｒは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０が特に好ましい。
ｓは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１が好ましい。
－Ｚ２－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎでない場合のＲ７としては、原料を入手しやすい点から、炭素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
ｒは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、０～２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０が特に好ましい。
ｓは、化合物１を製造しやすい点および表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、１が好ましい。
Ｚ２は、表面層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、単結合が好ましい。
Ｒ８としては、化合物１を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。アルキル基である場合のＲ８の炭素数は、１～３が好ましく、１が特に好ましい。
Ｑ３の炭素数は、２～６が好ましく、２～４が特に好ましい。
基ｇ２としては、たとえば、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が挙げられる。
Ｒ８としては、化合物１を製造しやすい点から、水素原子が好ましい。アルキル基である場合のＲ８の炭素数は、１～３が好ましく、１が特に好ましい。
Ｑ３の炭素数は、２～６が好ましく、２～４が特に好ましい。
基ｇ２としては、たとえば、－ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が挙げられる。
化合物１としては、たとえば、化合物１－１～１－１２が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、表面層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、潤滑性、耐薬品性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から好ましい。
ただし、Ｇはポリフルオロポリエーテル鎖、すなわちＡ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－である。Ｇの好ましい形態は、上述した好ましいＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２を組み合わせたものとなる。
（化合物１の製造方法）
化合物１は、化合物２とＨＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎとをヒドロシリル化反応させる方法によって製造できる。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１ａ）ｂ 式２
ただし、Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、ｂ個のＲ１ａは、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ１ａは、ヒドロシリル化後に化合物１におけるＲ１となる。
Ａ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍ、Ｒｆ２、Ｚ１、Ｑ１およびｂは、化合物１で説明したＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍ、Ｒｆ２、Ｚ１、Ｑ１およびｂと同じであり、好ましい形態も同様である。
化合物１は、化合物２とＨＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎとをヒドロシリル化反応させる方法によって製造できる。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１ａ）ｂ 式２
ただし、Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、ｂ個のＲ１ａは、同一であっても異なっていてもよい。Ｒ１ａは、ヒドロシリル化後に化合物１におけるＲ１となる。
Ａ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍ、Ｒｆ２、Ｚ１、Ｑ１およびｂは、化合物１で説明したＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍ、Ｒｆ２、Ｚ１、Ｑ１およびｂと同じであり、好ましい形態も同様である。
Ｒ１ａにおける少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基としては、好ましい化合物１が得られる点から、基ｇ５が好ましい。
－Ｑ２ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ５
ただし、Ｑ２ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。基ｇ５は、ヒドロシリル化後に基ｇ２におけるＱ２となる。
ｐは、基ｇ２で説明したｐと同じであり、好ましい形態も同様である。
－Ｑ２ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ５
ただし、Ｑ２ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）である。基ｇ５は、ヒドロシリル化後に基ｇ２におけるＱ２となる。
ｐは、基ｇ２で説明したｐと同じであり、好ましい形態も同様である。
基ｇ５としては、好ましい化合物１が得られる点から、基ｇ６または基ｇ７が好ましい。
ただし、Ｒ５ａおよびＲ６ａは、それぞれ水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｑは、０～１０の整数であり、ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５ａＲ６ａ）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｒ７ａは、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｒは、０～４の整数であり、ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７ａは、同一であっても異なっていてもよく、ｓは、１または２であり、ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７ａ）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、Ｑ３ａは、単結合または炭素数１～８のアルキレン基であり、複数のＱ３ａは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ５ａ、Ｒ６ａおよびＲ７ａは、ヒドロシリル化後に基ｇ３または基ｇ４におけるＲ５、Ｒ６およびＲ７となる。－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２は、ヒドロシリル化後に基ｇ３または基ｇ４におけるＱ３となる。
ｑ、ｒ、ｓおよびＺ２は、基ｇ３または基ｇ４で説明したｑ、ｒ、ｓおよびＺ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
Ｒ５ａ、Ｒ６ａおよびＲ７ａは、ヒドロシリル化後に基ｇ３または基ｇ４におけるＲ５、Ｒ６およびＲ７となる。－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２は、ヒドロシリル化後に基ｇ３または基ｇ４におけるＱ３となる。
ｑ、ｒ、ｓおよびＺ２は、基ｇ３または基ｇ４で説明したｑ、ｒ、ｓおよびＺ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
（化合物２の製造方法）
化合物２は、たとえば、化合物３～５の末端に、環構造を介して炭素－炭素不飽和二重結合を導入して製造できる。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｃ（Ｏ）ＯＲ９ 式３
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－ＣＦ２ＯＣ（Ｏ）Ｒｆ３ 式４
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｉ 式５
ただし、Ｒ９は、水素原子または１価の有機基であり、Ｒｆ３は、ペルフルオロアルキル基または炭素数２以上のペルフルオロアルキル基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。Ａ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物１で説明したＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
Ｒ９としては、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１が特に好ましい。
化合物２は、たとえば、化合物３～５の末端に、環構造を介して炭素－炭素不飽和二重結合を導入して製造できる。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｃ（Ｏ）ＯＲ９ 式３
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－ＣＦ２ＯＣ（Ｏ）Ｒｆ３ 式４
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｉ 式５
ただし、Ｒ９は、水素原子または１価の有機基であり、Ｒｆ３は、ペルフルオロアルキル基または炭素数２以上のペルフルオロアルキル基の炭素－炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する基である。Ａ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２は、化合物１で説明したＡ、（Ｒｆ１Ｏ）ｍおよびＲｆ２と同じであり、好ましい形態も同様である。
Ｒ９としては、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１が特に好ましい。
化合物３および４は、国際公開第２００９／００８３８０号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８６号、国際公開第２０１５／０８７９０２号、国際公開第２０１７／０３８８３０号、国際公開第２０１７／０３８８３２号等に記載の方法によって製造できる。
化合物５は、国際公開第２００９／００８３８０号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８６号等に記載の方法によって製造できる。
化合物５は、国際公開第２００９／００８３８０号、国際公開第２０１３／１２１９８４号、国際公開第２０１３／１２１９８６号等に記載の方法によって製造できる。
以下、化合物２の合成ルートを例示する。式中、Ｇはポリフルオロポリエーテル鎖、すなわちＡ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－であり、［ｒａｄ］はラジカル重合開始剤であり、ｂａｓｅは塩基性化合物であり、ＬＤＡはリチウムジイソプロピルアミドであり、Ｒはアルキル基であり、Ｂｏｃ２Ｏは、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジカーボネートである。
化合物１－２の前駆体である化合物２－２の合成ルートは下式のとおりである。
化合物１－３の前駆体である化合物２－３の合成ルートは下式のとおりである。
化合物１－５の前駆体である化合物２－５の合成ルートは下式のとおりである。
化合物１－６の前駆体である化合物２－６の合成ルートは下式のとおりである。
化合物１－７の前駆体である化合物２－７の合成ルートは下式のとおりである。
化合物１－８の前駆体である化合物２－８の合成ルートは下式の３通りである。
化合物１－９の前駆体である化合物２－９の合成ルートは下式のとおりである。
化合物１－１０の前駆体である化合物２－１０の合成ルートは下式のとおりである。
化合物１－１１の前駆体である化合物２－１１の合成ルートは下式のとおりである。
以上説明した化合物１にあっては、下記の理由から、初期の撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
化合物１は、Ａが末端にＣＦ３－を有するため、化合物１の一方の末端がＣＦ３－となり、他方の末端が加水分解性シリル基となる。一方の末端がＣＦ３－であり、他方の末端が加水分解性シリル基である化合物１によれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、表面層は潤滑性および耐摩擦性に優れる。一方、両末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物では、表面層の潤滑性および耐摩擦性が不充分である。
化合物１は、（Ｒｆ１Ｏ）ｍを有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、化合物１は、初期撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。また、Ｒｆ１が直鎖のフルオロアルキレン基であるため、（Ｒｆ１Ｏ）ｍが直鎖構造となる。（Ｒｆ１Ｏ）ｍが直鎖構造の化合物１によれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。一方、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が分岐を有する含フッ素エーテル化合物では、表面層の耐摩擦性および潤滑性がやや劣る。
化合物１は、Ｒｆ２も直鎖のフルオロアルキレン基であるため、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。
化合物１は、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間に環構造が導入されているため、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間の結合が摩擦、光、薬品等によって完全に切断されにくい。具体的には、たとえば、化合物１－１において芳香族環の１か所が切断されても加水分解性シリル基の２つがポリフルオロポリエーテル鎖と引き続き繋がっている。そのため、化合物１は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
化合物１は、Ａが末端にＣＦ３－を有するため、化合物１の一方の末端がＣＦ３－となり、他方の末端が加水分解性シリル基となる。一方の末端がＣＦ３－であり、他方の末端が加水分解性シリル基である化合物１によれば、低表面エネルギーの表面層を形成できるため、表面層は潤滑性および耐摩擦性に優れる。一方、両末端に加水分解性シリル基を有する含フッ素エーテル化合物では、表面層の潤滑性および耐摩擦性が不充分である。
化合物１は、（Ｒｆ１Ｏ）ｍを有するため、フッ素原子の含有量が多い。そのため、化合物１は、初期撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性に優れる表面層を形成できる。また、Ｒｆ１が直鎖のフルオロアルキレン基であるため、（Ｒｆ１Ｏ）ｍが直鎖構造となる。（Ｒｆ１Ｏ）ｍが直鎖構造の化合物１によれば、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。一方、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖が分岐を有する含フッ素エーテル化合物では、表面層の耐摩擦性および潤滑性がやや劣る。
化合物１は、Ｒｆ２も直鎖のフルオロアルキレン基であるため、表面層の耐摩擦性および潤滑性に優れる。
化合物１は、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間に環構造が導入されているため、ポリフルオロポリエーテル鎖と加水分解性シリル基との間の結合が摩擦、光、薬品等によって完全に切断されにくい。具体的には、たとえば、化合物１－１において芳香族環の１か所が切断されても加水分解性シリル基の２つがポリフルオロポリエーテル鎖と引き続き繋がっている。そのため、化合物１は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に優れる表面層を形成できる。
［含フッ素エーテル組成物］
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、「本組成物」とも記す。）は、化合物１の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む。
本発明の含フッ素エーテル組成物（以下、「本組成物」とも記す。）は、化合物１の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含む。
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物１の製造工程で副生する含フッ素エーテル化合物（以下、「副生含フッ素エーテル化合物」とも記す。）、化合物１と同様の用途に用いられる公知の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物１の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物としては、化合物１の特性を低下させるおそれが少ない化合物が好ましい。
副生含フッ素エーテル化合物としては、未反応の化合物２～化合物５や、化合物１の製造におけるヒドロシリル化の際に、アリル基の一部がインナーオレフィンに異性化した含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。
公知の含フッ素エーテル化合物としては、市販の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。本組成物が公知の含フッ素エーテル化合物を含む場合、化合物１の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。
公知の含フッ素エーテル化合物としては、市販の含フッ素エーテル化合物等が挙げられる。本組成物が公知の含フッ素エーテル化合物を含む場合、化合物１の特性を補う等の新たな作用効果が発揮される場合がある。
化合物１の含有量は、本組成物のうち、６０質量％以上１００質量％未満が好ましく、７０質量％以上１００質量％未満がより好ましく、８０質量％以上１００質量％未満が特に好ましい。
他の含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物のうち、０質量％超４０質量％以下が好ましく、０質量％超３０質量％以下がより好ましく、０質量％超２０質量％以下が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量の合計は、本組成物のうち、８０～１００質量％が好ましく、８５～１００質量％が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
他の含フッ素エーテル化合物の含有量は、本組成物のうち、０質量％超４０質量％以下が好ましく、０質量％超３０質量％以下がより好ましく、０質量％超２０質量％以下が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量の合計は、本組成物のうち、８０～１００質量％が好ましく、８５～１００質量％が特に好ましい。
化合物１の含有量および他の含フッ素エーテル化合物の含有量が前記範囲内であれば、表面層の初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる。
本組成物は、本発明の効果を損なわない範囲において、化合物１および他の含フッ素エーテル化合物以外の成分を含んでいてもよい。
他の成分としては、化合物１や公知の含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物（ただし、副生含フッ素エーテル化合物を除く。）、未反応の原料等の製造上不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
他の成分の含有量は、本組成物のうち、０～１０質量％が好ましく、０～１質量％が特に好ましい。
他の成分としては、化合物１や公知の含フッ素エーテル化合物の製造工程で生成した副生物（ただし、副生含フッ素エーテル化合物を除く。）、未反応の原料等の製造上不可避の化合物が挙げられる。
また、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の添加剤が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、燐酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
他の成分の含有量は、本組成物のうち、０～１０質量％が好ましく、０～１質量％が特に好ましい。
［コーティング液］
本発明のコーティング液（以下、「本コーティング液」とも記す。）は、化合物１または本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、溶液であっても分散液であってもよい。
本発明のコーティング液（以下、「本コーティング液」とも記す。）は、化合物１または本組成物と液状媒体とを含む。本コーティング液は、溶液であっても分散液であってもよい。
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、含フッ素有機溶媒でも非フッ素有機溶媒でもよく、両溶媒を含んでもよい。
含フッ素有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
非フッ素有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素、アルコール、ケトン、エーテル、エステルが挙げられる。
液状媒体は、２種以上を混合した混合媒体であってもよい。
含フッ素有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、Ｃ６Ｆ１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
非フッ素有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素、アルコール、ケトン、エーテル、エステルが挙げられる。
液状媒体は、２種以上を混合した混合媒体であってもよい。
化合物１または本組成物の含有量は、本コーティング液のうち、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％が特に好ましい。
液状媒体の含有量は、本コーティング液のうち、９０～９９．９９９質量％が好ましく、９９～９９．９９質量％が特に好ましい。
液状媒体の含有量は、本コーティング液のうち、９０～９９．９９９質量％が好ましく、９９～９９．９９質量％が特に好ましい。
［物品］
本発明の物品（以下、「本物品」とも記す。）は、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。
表面層は、化合物１を、化合物１の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応し、かつ脱水縮合反応した状態で含む。
本発明の物品（以下、「本物品」とも記す。）は、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に有する。
表面層は、化合物１を、化合物１の加水分解性シリル基の一部または全部が加水分解反応し、かつ脱水縮合反応した状態で含む。
表面層の厚さは、１～１００ｎｍが好ましく、１～５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面処理による効果が充分に得られやすい。表面層の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、利用効率が高い。表面層の厚さは、薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ－Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、干渉パターンの振動周期から算出できる。
基材としては、撥水撥油性の付与が求められている基材が挙げられる。基材の材料としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。基材の表面にはＳｉＯ２膜等の下地膜が形成されていてもよい。
基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
基材としては、タッチパネル用基材、ディスプレイ用基材、メガネレンズが好適であり、タッチパネル用基材が特に好適である。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスまたは透明樹脂が好ましい。
［物品の製造方法］
本物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物１または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
本物品は、たとえば、下記の方法で製造できる。
・化合物１または本組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
・ウェットコーティング法によって本コーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、化合物１または本組成物から形成された表面層を基材の表面に形成する方法。
ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。化合物１の分解を抑える点、および装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着時には、鉄、鋼等の金属多孔体に化合物１または本組成物を含浸させたペレット状物質を用いてもよい。本コーティング液を鉄、鋼等の金属多孔体に含浸させ、液状媒体を乾燥させて、化合物１または本組成物が含浸したペレット状物質を用いてもよい。
ウェットコーティング法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法等が挙げられる。
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１～４、７～１０は実施例であり、例５、６、１１、１２は比較例である。
［例１］
（例１－１）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例の例１１－１～１１－３に記載の方法にしたがって化合物４－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＦ２ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３ 式４－１
単位数ｘの平均値：１３、化合物４－１の数平均分子量：５，０５０。
なお、以下、化合物４－１におけるＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－をＧ１－で表す。
（例１－１）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例の例１１－１～１１－３に記載の方法にしたがって化合物４－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＦ２ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３ 式４－１
単位数ｘの平均値：１３、化合物４－１の数平均分子量：５，０５０。
なお、以下、化合物４－１におけるＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－をＧ１－で表す。
（例１－２）
５０ｍＬの３つ口フラスコに、例１－１で得た化合物４－１の１０．０ｇ、２，２－ジアリルピロリジン（アルドリッチ社製）の１．５０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１０ｇを入れ、２５℃で８時間撹拌した。反応粗液をエバポレータで濃縮し、粗生成物の１０．４ｇを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して、化合物２－９の９．５ｇ（収率９９％）を分取した。
５０ｍＬの３つ口フラスコに、例１－１で得た化合物４－１の１０．０ｇ、２，２－ジアリルピロリジン（アルドリッチ社製）の１．５０ｇ、１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１０ｇを入れ、２５℃で８時間撹拌した。反応粗液をエバポレータで濃縮し、粗生成物の１０．４ｇを得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して、化合物２－９の９．５ｇ（収率９９％）を分取した。
化合物２－９のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、４．９（４Ｈ）、３．８（２Ｈ）、２．５（４Ｈ）、２．３－１．４（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）
単位数ｘの平均値：１３。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、４．９（４Ｈ）、３．８（２Ｈ）、２．５（４Ｈ）、２．３－１．４（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）
単位数ｘの平均値：１３。
（例１－３）
１００ｍＬのテトラフルオロエチレン－ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体製ナスフラスコに、例１－２で得た化合物２－９の５．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０３ｇ、トリメトキシシラン（東京化成工業社製）の０．３６ｇ、アニリンの０．０１ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、２５℃で８時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物１－９の５．２ｇ（純度９９％以上、収率９９％）を得た。
１００ｍＬのテトラフルオロエチレン－ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体製ナスフラスコに、例１－２で得た化合物２－９の５．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液（白金含有量：２％）の０．０３ｇ、トリメトキシシラン（東京化成工業社製）の０．３６ｇ、アニリンの０．０１ｇおよび１，３－ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの２．０ｇを入れ、２５℃で８時間撹拌した。溶媒等を減圧留去し、孔径０．５μｍのメンブランフィルタでろ過し、化合物１－９の５．２ｇ（純度９９％以上、収率９９％）を得た。
化合物１－９のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９－３．５（２０Ｈ）、２．３－１．４（１２Ｈ）、１．０－０．５（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－９の数平均分子量：４，４００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．９－３．５（２０Ｈ）、２．３－１．４（１２Ｈ）、１．０－０．５（４Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－９の数平均分子量：４，４００。
［例２］
（例２－１）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例の例２－３に記載の方法にしたがって化合物３－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３ 式３－１
単位数ｘの平均値：１３、化合物３－１の数平均分子量：４，９００。
なお、以下、化合物３－１におけるＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－をＧ２－で表す。
（例２－１）
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例の例２－３に記載の方法にしたがって化合物３－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３ 式３－１
単位数ｘの平均値：１３、化合物３－１の数平均分子量：４，９００。
なお、以下、化合物３－１におけるＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－をＧ２－で表す。
（例２－２）
２００ｍＬのナスフラスコに、化合物６－１の５．０２ｇ、トリエチルアミンの６．１６ｇ、ジメチルアミノピリジンの０．０８０ｇ、テトラヒドロフランの１００ｍＬを入れ、氷浴中で撹拌した。次いで、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジカーボネートの１０．９ｇを入れ、反応系を２５℃に上げ、１時間撹拌した。酢酸エチルおよび水を用いて分液し、有機溶媒層を濃縮した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物６－２の７．９０ｇ（収率８７％）を得た。
２００ｍＬのナスフラスコに、化合物６－１の５．０２ｇ、トリエチルアミンの６．１６ｇ、ジメチルアミノピリジンの０．０８０ｇ、テトラヒドロフランの１００ｍＬを入れ、氷浴中で撹拌した。次いで、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジカーボネートの１０．９ｇを入れ、反応系を２５℃に上げ、１時間撹拌した。酢酸エチルおよび水を用いて分液し、有機溶媒層を濃縮した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物６－２の７．９０ｇ（収率８７％）を得た。
化合物６－２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．１（１Ｈ）、５．９（１Ｈ）、４．５（１Ｈ）、３．２－２．５（５Ｈ）、２．２（１Ｈ）、１．８（１Ｈ）、１．４（９Ｈ）、１．２（１Ｈ）、０．５（１Ｈ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．１（１Ｈ）、５．９（１Ｈ）、４．５（１Ｈ）、３．２－２．５（５Ｈ）、２．２（１Ｈ）、１．８（１Ｈ）、１．４（９Ｈ）、１．２（１Ｈ）、０．５（１Ｈ）。
（例２－３）
１Ｌのオートクレーブに、例２－２で得た化合物６－２の７．１７ｇ、トルエンの８００ｍＬを入れ、凍結脱気し、エチレンの１６ｇをオートクレーブの圧力ゲージが０．４ＭＰａ［ｇａｕｇｅ］になるまで入れた。ベンジリデン｛１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン｝ジクロロ（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（Ｇｒｕｂｂｓ第二世代触媒）の０．４０ｇをトルエンの５ｍＬに溶解した溶液を圧入し、２５℃で２２時間撹拌した。シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物６－３の１．１ｇ（収率１５％）を得た。
１Ｌのオートクレーブに、例２－２で得た化合物６－２の７．１７ｇ、トルエンの８００ｍＬを入れ、凍結脱気し、エチレンの１６ｇをオートクレーブの圧力ゲージが０．４ＭＰａ［ｇａｕｇｅ］になるまで入れた。ベンジリデン｛１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン｝ジクロロ（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（Ｇｒｕｂｂｓ第二世代触媒）の０．４０ｇをトルエンの５ｍＬに溶解した溶液を圧入し、２５℃で２２時間撹拌した。シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物６－３の１．１ｇ（収率１５％）を得た。
化合物６－３のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、４．９（４Ｈ）、３．１（２Ｈ）、２．７（１Ｈ）、２．５（１Ｈ）、２．２（１Ｈ）、２．０（２Ｈ）、１．５－１．０（１１Ｈ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、４．９（４Ｈ）、３．１（２Ｈ）、２．７（１Ｈ）、２．５（１Ｈ）、２．２（１Ｈ）、２．０（２Ｈ）、１．５－１．０（１１Ｈ）。
（例２－４）
２００ｍＬのナスフラスコに、例２－３で得た化合物６－３の１．１ｇ、塩化メチレンの５０ｍＬを入れ、氷浴中で撹拌した。次いで、トリフルオロ酢酸の１．６ｇを入れ、２５℃で１時間撹拌した。次いで、１０％の水酸化ナトリウム水溶液の５０ｍＬを入れ、撹拌した。分液操作した後、有機層を硫酸マグネシウムで脱水して、硫酸マグネシウムをろ別した。有機層を濃縮し、化合物６－４の０．５８ｇ（収率８７％）を得た。
２００ｍＬのナスフラスコに、例２－３で得た化合物６－３の１．１ｇ、塩化メチレンの５０ｍＬを入れ、氷浴中で撹拌した。次いで、トリフルオロ酢酸の１．６ｇを入れ、２５℃で１時間撹拌した。次いで、１０％の水酸化ナトリウム水溶液の５０ｍＬを入れ、撹拌した。分液操作した後、有機層を硫酸マグネシウムで脱水して、硫酸マグネシウムをろ別した。有機層を濃縮し、化合物６－４の０．５８ｇ（収率８７％）を得た。
化合物６－４のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、３．６（２Ｈ）、３．７（２Ｈ），３．５（２Ｈ）、２．２－１．９（３Ｈ）、１．４－１．０（２Ｈ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、３．６（２Ｈ）、３．７（２Ｈ），３．５（２Ｈ）、２．２－１．９（３Ｈ）、１．４－１．０（２Ｈ）。
（例２－５）
１００ｍＬのナスフラスコに、例２－４で得た化合物６－４の０．２９ｇ、例２－１で得た化合物３－１の５．０ｇ、ＡＣ－６０００の５．１ｇを入れ、６０℃で２日間撹拌した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物２－１１の４．３０ｇ（収率８９％）を得た。
１００ｍＬのナスフラスコに、例２－４で得た化合物６－４の０．２９ｇ、例２－１で得た化合物３－１の５．０ｇ、ＡＣ－６０００の５．１ｇを入れ、６０℃で２日間撹拌した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物２－１１の４．３０ｇ（収率８９％）を得た。
化合物２－１１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．７（２Ｈ）、４．９（４Ｈ）、３．４（１Ｈ）、３．２（１Ｈ）、２．７（１Ｈ）、２．５（１Ｈ）、２．２（１Ｈ）、１．９（２Ｈ）、１．４－１．０（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．７（２Ｈ）、４．９（４Ｈ）、３．４（１Ｈ）、３．２（１Ｈ）、２．７（１Ｈ）、２．５（１Ｈ）、２．２（１Ｈ）、１．９（２Ｈ）、１．４－１．０（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）。
（例２－６）
５０ｍＬのナスフラスコに、例２－５で得た化合物２－１１の１．１ｇ、トリメトキシシランの０．０７３ｇ、アニリンの０．０００１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。溶媒等を減圧留去し、化合物１－１１の１．１ｇ（収率１００％）を得た。
５０ｍＬのナスフラスコに、例２－５で得た化合物２－１１の１．１ｇ、トリメトキシシランの０．０７３ｇ、アニリンの０．０００１ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。溶媒等を減圧留去し、化合物１－１１の１．１ｇ（収率１００％）を得た。
化合物１－１１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．６－３．２（２０Ｈ）、２．３－１．４（５Ｈ）、１．２－０．５（１０Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－１１の数平均分子量：４，５００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．６－３．２（２０Ｈ）、２．３－１．４（５Ｈ）、１．２－０．５（１０Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５６（３Ｆ）、－８３（５８Ｆ）、－８８（５８Ｆ）、－９１（２Ｆ）－１２０（２Ｆ）、－１２６（５８Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－１１の数平均分子量：４，５００。
［例３］
（例３－１）
１Ｌのオートクレーブに、化合物７－１の５．１ｇ、トルエンの７８５ｍＬを入れ、凍結脱気し、エチレンの１５ｇをオートクレーブの圧力ゲージが０．４ＭＰａ［ｇａｕｇｅ］になるまで入れた。ベンジリデン｛１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン｝ジクロロ（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（Ｇｒｕｂｂｓ第二世代触媒）の０．０９０ｇをトルエンの３ｍＬに溶解した溶液を圧入し、２５℃で２４時間撹拌した。シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物７－２の４．７ｇ（収率８０％）を得た。
（例３－１）
１Ｌのオートクレーブに、化合物７－１の５．１ｇ、トルエンの７８５ｍＬを入れ、凍結脱気し、エチレンの１５ｇをオートクレーブの圧力ゲージが０．４ＭＰａ［ｇａｕｇｅ］になるまで入れた。ベンジリデン｛１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン｝ジクロロ（トリシクロヘキシルホスフィン）ルテニウム（Ｇｒｕｂｂｓ第二世代触媒）の０．０９０ｇをトルエンの３ｍＬに溶解した溶液を圧入し、２５℃で２４時間撹拌した。シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物７－２の４．７ｇ（収率８０％）を得た。
化合物７－２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）５．９（２Ｈ）、５．２（４Ｈ）、３．５（２Ｈ）、３．０（２Ｈ）、２．０（１Ｈ）、１．４（１Ｈ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）５．９（２Ｈ）、５．２（４Ｈ）、３．５（２Ｈ）、３．０（２Ｈ）、２．０（１Ｈ）、１．４（１Ｈ）。
（例３－２）
１００ｍＬの耐圧反応器に、例２－１で得た化合物３－１の１５ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ－２２５）の５０ｇ、２．０ｍｏｌ／Ｌのアンモニア－メタノール溶液の７．５ｇを入れ、２５℃で６時間撹拌した。溶媒を留去し、化合物８－１の１４．８ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２ 式８－１
１００ｍＬの耐圧反応器に、例２－１で得た化合物３－１の１５ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（旭硝子社製、ＡＫ－２２５）の５０ｇ、２．０ｍｏｌ／Ｌのアンモニア－メタノール溶液の７．５ｇを入れ、２５℃で６時間撹拌した。溶媒を留去し、化合物８－１の１４．８ｇ（収率９９％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ２ 式８－１
化合物８－１のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５３Ｆ）、－８７（５３Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１９（２Ｆ）、－１２３～－１２８（５５Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５３Ｆ）、－８７（５３Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１９（２Ｆ）、－１２３～－１２８（５５Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
（例３－３）
２００ｍＬのナスフラスコに、例３－２で得た化合物８－１の１０ｇ、ＡＫ－２２５の５０ｇ、ジエチルエーテルの２０ｇを入れ、氷浴下で撹拌した。次いで、水素化リチウムアルミニウムの０．１９４ｇをゆっくり入れ、２５℃で２０時間撹拌した。硫酸ナトリウム飽和水溶液の０．２ｍＬを入れ、析出した固体をセライトろ過で取り除いた。ろ液を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物９－１の４．４８ｇ（収率４５％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＨ２ＮＨ２ 式９－１
２００ｍＬのナスフラスコに、例３－２で得た化合物８－１の１０ｇ、ＡＫ－２２５の５０ｇ、ジエチルエーテルの２０ｇを入れ、氷浴下で撹拌した。次いで、水素化リチウムアルミニウムの０．１９４ｇをゆっくり入れ、２５℃で２０時間撹拌した。硫酸ナトリウム飽和水溶液の０．２ｍＬを入れ、析出した固体をセライトろ過で取り除いた。ろ液を濃縮した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物９－１の４．４８ｇ（収率４５％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＨ２ＮＨ２ 式９－１
化合物９－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．２（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５９Ｆ）、－８７（５９Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１２２（２Ｆ）、－１２３～－１２８（６１Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：３．２（２Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５９Ｆ）、－８７（５９Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１２２（２Ｆ）、－１２３～－１２８（６１Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
（例３－４）
２００ｍＬのナスフラスコに、例３－３で得た化合物９－１の２．７０ｇ、Ｎ－エチル－Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルアミンの０．２６ｇ、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼンの２００ｍＬを入れ、撹拌した。次いで、例３－１で得た化合物７－２の０．２９ｇを入れ、モレキュラーシーブス４Ａの１５ｇを入れ、還流撹拌した。７２時間撹拌した後、溶媒等を留去し、粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物２－５の１．２９ｇ（収率４６％）を得た。
２００ｍＬのナスフラスコに、例３－３で得た化合物９－１の２．７０ｇ、Ｎ－エチル－Ｎ，Ｎ－ジイソプロピルアミンの０．２６ｇ、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼンの２００ｍＬを入れ、撹拌した。次いで、例３－１で得た化合物７－２の０．２９ｇを入れ、モレキュラーシーブス４Ａの１５ｇを入れ、還流撹拌した。７２時間撹拌した後、溶媒等を留去し、粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物２－５の１．２９ｇ（収率４６％）を得た。
化合物２－５のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、４．２（２Ｈ）、３．２（２Ｈ）、２．９（２Ｈ）、１．９（１Ｈ）、１．４（１Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５９Ｆ）、－８７（５９Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２３～－１２８（６１Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：６．０（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、４．２（２Ｈ）、３．２（２Ｈ）、２．９（２Ｈ）、１．９（１Ｈ）、１．４（１Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５９Ｆ）、－８７（５９Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２３～－１２８（６１Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
（例３－５）
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－４で得た化合物２－５の１ｇ、トリメトキシシランの０．０９ｇ、アニリンの０．０００９ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。溶媒等を減圧留去し、化合物１－５の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
５０ｍＬのナスフラスコに、例３－４で得た化合物２－５の１ｇ、トリメトキシシランの０．０９ｇ、アニリンの０．０００９ｇ、ＡＣ－６０００の１．０ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００３３ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。溶媒等を減圧留去し、化合物１－５の１．０ｇ（収率１００％）を得た。
化合物１－５のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．４（２Ｈ）、３．８（１８Ｈ）、３．４（２Ｈ）、２．４～３．８（７Ｈ）、１．３～０．９（５Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５９Ｆ）、－８７（５９Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１９（２Ｆ）、－１２３～－１２８（６１Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－１１の数平均分子量：３，７００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．４（２Ｈ）、３．８（１８Ｈ）、３．４（２Ｈ）、２．４～３．８（７Ｈ）、１．３～０．９（５Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８２（５９Ｆ）、－８７（５９Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１９（２Ｆ）、－１２３～－１２８（６１Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－１１の数平均分子量：３，７００。
［例４］
（例４－１）
５００ｍＬのナスフラスコに、イソシアヌル酸の２０ｇ、水の８０ｇ、４８％水酸化ナトリウム水溶液の３９ｇを入れ、７０℃で４時間撹拌した。次いで、水を留去し、得られた結晶をメタノールで洗浄した。結晶を一晩１００℃で真空乾燥し、水を完全に除去し、白色固体の２９．８ｇを得た。得られた固体のうちの２２．０ｇを３００ｍＬのナスフラスコに入れ、さらにＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドの５５ｇ、４－ブロモ－１－ブテンの５０．２ｇを入れ、９５℃で一晩撹拌した。２５℃で固体をろ別した後、ろ液を留去し、得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物１０－１の４．３ｇを得た。
（例４－１）
５００ｍＬのナスフラスコに、イソシアヌル酸の２０ｇ、水の８０ｇ、４８％水酸化ナトリウム水溶液の３９ｇを入れ、７０℃で４時間撹拌した。次いで、水を留去し、得られた結晶をメタノールで洗浄した。結晶を一晩１００℃で真空乾燥し、水を完全に除去し、白色固体の２９．８ｇを得た。得られた固体のうちの２２．０ｇを３００ｍＬのナスフラスコに入れ、さらにＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドの５５ｇ、４－ブロモ－１－ブテンの５０．２ｇを入れ、９５℃で一晩撹拌した。２５℃で固体をろ別した後、ろ液を留去し、得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物１０－１の４．３ｇを得た。
化合物１０－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．７（３Ｈ）、５．０（６Ｈ）、３．９（６Ｈ）、２．４（６Ｈ）。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．７（３Ｈ）、５．０（６Ｈ）、３．９（６Ｈ）、２．４（６Ｈ）。
（例４－２）
アルミホイルで遮光した５００ｍＬのナスフラスコに、ピリチオンナトリウムの５．８ｇ、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（商品名ＳＲ－ソルベント）の１００ｍＬを入れ、氷冷下で撹拌した。次いで、例１－１で得た化合物４－１の５０．０ｇをゆっくり入れ、氷冷のまま２時間撹拌した。次いで、ヨウ素の１２．０ｇ、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）（商品名Ｖ－５９）の１．８ｇを入れ、遮光していたアルミホイルを取り除き、８５℃で一晩撹拌した。温度を２５℃に戻し、メタノールを入れて充分撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れて２層分離し、下層を回収し留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物５－１の３９．８ｇ（収率８４％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｉ 式５－１
アルミホイルで遮光した５００ｍＬのナスフラスコに、ピリチオンナトリウムの５．８ｇ、１，３－ビストリフルオロメチルベンゼン（商品名ＳＲ－ソルベント）の１００ｍＬを入れ、氷冷下で撹拌した。次いで、例１－１で得た化合物４－１の５０．０ｇをゆっくり入れ、氷冷のまま２時間撹拌した。次いで、ヨウ素の１２．０ｇ、２，２－アゾビス（２－メチルブチロニトリル）（商品名Ｖ－５９）の１．８ｇを入れ、遮光していたアルミホイルを取り除き、８５℃で一晩撹拌した。温度を２５℃に戻し、メタノールを入れて充分撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れて２層分離し、下層を回収し留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物５－１の３９．８ｇ（収率８４％）を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｉ 式５－１
化合物５－１のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－５８（２Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－５８（２Ｆ）、－８３（５０Ｆ）、－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１６（２Ｆ）、－１２５（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
（例４－３）
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－２で得た化合物５－１の４．０ｇ、例４－１で得た化合物１０－１の２．３ｇ、ＳＲ－ソルベントの１２．５ｍＬ、Ｖ－５９の３０ｍｇを入れ、８５℃で２日間撹拌した。その間Ｖ－５９の６０ｍｇを２回に分けて入れた。反応温度を２５℃に戻し、メタノールを入れて充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れて２層分離し、下層を回収し溶媒を留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物１１－１の１．５８ｇ（収率３７％）を得た。
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－２で得た化合物５－１の４．０ｇ、例４－１で得た化合物１０－１の２．３ｇ、ＳＲ－ソルベントの１２．５ｍＬ、Ｖ－５９の３０ｍｇを入れ、８５℃で２日間撹拌した。その間Ｖ－５９の６０ｍｇを２回に分けて入れた。反応温度を２５℃に戻し、メタノールを入れて充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れて２層分離し、下層を回収し溶媒を留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物１１－１の１．５８ｇ（収率３７％）を得た。
化合物１１－１のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、４．４～３．９（７Ｈ）、３．２～２．８（２Ｈ）、２．４～２．４（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８１～－８３（５０Ｆ）－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１０～－１１５（２Ｆ）、－１２５～－１２７（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．８（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、４．４～３．９（７Ｈ）、３．２～２．８（２Ｈ）、２．４～２．４（６Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８１～－８３（５０Ｆ）－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１０～－１１５（２Ｆ）、－１２５～－１２７（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
（例４－４）
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－３で得た化合物１１－１の０．８５ｇ、トリストリメチルシリルシランの８１ｍｇ、ＳＲ－ソルベントの３．０ｍＬ、Ｖ－５９の２３ｍｇを入れ、８５℃で５時間撹拌した。反応温度を２５℃に戻し、メタノールを入れて充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れて２層分離し、下層を回収し溶媒を留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物２－１２の０．３４ｇ（収率４０％）を得た。
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－３で得た化合物１１－１の０．８５ｇ、トリストリメチルシリルシランの８１ｍｇ、ＳＲ－ソルベントの３．０ｍＬ、Ｖ－５９の２３ｍｇを入れ、８５℃で５時間撹拌した。反応温度を２５℃に戻し、メタノールを入れて充分に撹拌した後、ＡＣ－６０００を入れて２層分離し、下層を回収し溶媒を留去した。得られた粗体をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、化合物２－１２の０．３４ｇ（収率４０％）を得た。
化合物２－１２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．７（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、４．２～３．９（８Ｈ）、２．５～１．６（８Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８１～－８３（５０Ｆ）－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１３（２Ｆ）、－１２５～－１２７（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：５．７（２Ｈ）、５．０（４Ｈ）、４．２～３．９（８Ｈ）、２．５～１．６（８Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８１～－８３（５０Ｆ）－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１３（２Ｆ）、－１２５～－１２７（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３。
（例４－５）
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－４で得た化合物２－１２の０．３３ｇ、トリメトキシシランの０．０２５ｇ、アニリンの０．０００２ｇ、ＡＣ－６０００の０．３３ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００１１ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。溶媒等を減圧留去し、化合物１－１２の０．３３ｇ（収率１００％）を得た。
５０ｍＬのナスフラスコに、例４－４で得た化合物２－１２の０．３３ｇ、トリメトキシシランの０．０２５ｇ、アニリンの０．０００２ｇ、ＡＣ－６０００の０．３３ｇ、白金／１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体の０．００１１ｇを入れ、２５℃で一晩撹拌した。溶媒等を減圧留去し、化合物１－１２の０．３３ｇ（収率１００％）を得た。
化合物１－１２のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．４～３．８（８Ｈ）、３．６（１８Ｈ）、２．８～１．９（６Ｈ）１．８～１．４（１０Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８１～－８３（５０Ｆ）－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１３（２Ｆ）、－１２５～－１２７（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－１２の数平均分子量：４，０００。
１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ） δ（ｐｐｍ）：４．４～３．８（８Ｈ）、３．６（１８Ｈ）、２．８～１．９（６Ｈ）１．８～１．４（１０Ｈ）。
１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３） δ（ｐｐｍ）：－５５（３Ｆ）、－８１～－８３（５０Ｆ）－８８（５２Ｆ）、－９０（２Ｆ）、－１１３（２Ｆ）、－１２５～－１２７（５２Ｆ）。
単位数ｘの平均値：１３、化合物１－１２の数平均分子量：４，０００。
［例５］
国際公開第２０１７／０３８８３２号の実施例の例３に記載の方法にしたがって化合物１２－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＨ２－Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１２－１
単位数ｘの平均値：１３。
国際公開第２０１７／０３８８３２号の実施例の例３に記載の方法にしたがって化合物１２－１を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－ＣＨ２－Ｎ［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２ 式１２－１
単位数ｘの平均値：１３。
［例６］
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例６に記載の方法にしたがって化合物１２－２を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 式１２－２
単位数ｘの平均値：１３。
国際公開第２０１３／１２１９８４号の実施例６に記載の方法にしたがって化合物１２－２を得た。
ＣＦ３－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｘＣＦ２ＣＦ２Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 式１２－２
単位数ｘの平均値：１３。
［例７～１２：物品の製造および評価］
例１～６で得た各化合物を用いて基材を表面処理し、例７～１２の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法およびウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。
例１～６で得た各化合物を用いて基材を表面処理し、例７～１２の物品を得た。表面処理方法として、各例について下記のドライコーティング法およびウェットコーティング法をそれぞれ用いた。基材としては化学強化ガラスを用いた。得られた物品について、下記の方法で評価した。結果を表１に示す。
（ドライコーティング法）
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ４５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１～６で得た各化合物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
ドライコーティングは、真空蒸着装置（ＵＬＶＡＣ社製、ＶＴＲ４５０Ｍ）を用いて行った（真空蒸着法）。例１～６で得た各化合物の０．５ｇを真空蒸着装置内のモリブデン製ボートに充填し、真空蒸着装置内を１×１０－３Ｐａ以下に排気した。化合物を配置したボートを昇温速度１０℃／分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が１ｎｍ／秒を超えた時点でシャッターを開けて基材の表面への製膜を開始させた。膜厚が約５０ｎｍとなった時点でシャッターを閉じて基材の表面への製膜を終了させた。化合物が堆積された基材を、２００℃で３０分間加熱処理し、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
（ウェットコーティング法）
例１～５で得た各化合物と、媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
例１～５で得た各化合物と、媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。コーティング液に基材をディッピングし、３０分間放置後、基材を引き上げた（ディップコート法）。塗膜を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ－２２５にて洗浄して基材の表面に表面層を有する物品を得た。
（評価方法）
＜接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜接触角の測定方法＞
表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ－ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置（協和界面科学社製、ＤＭ－５００）を用いて測定した。表面層の表面における異なる５箇所で測定し、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
＜初期接触角＞
表面層について、初期水接触角および初期ｎ－ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
初期水接触角：
◎（優） ：１１５度以上。
○（良） ：１１０度以上１１５度未満。
△（可） ：１００度以上１１０度未満。
×（不可）：１００度未満。
初期ｎ－ヘキサデカン接触角：
◎（優） ：６６度以上。
○（良） ：６５度以上６６度未満。
△（可） ：６３度以上６５度未満。
×（不可）：６３度未満。
表面層について、初期水接触角および初期ｎ－ヘキサデカン接触角を前記測定方法で測定した。評価基準は下記のとおりである。
初期水接触角：
◎（優） ：１１５度以上。
○（良） ：１１０度以上１１５度未満。
△（可） ：１００度以上１１０度未満。
×（不可）：１００度未満。
初期ｎ－ヘキサデカン接触角：
◎（優） ：６６度以上。
○（良） ：６５度以上６６度未満。
△（可） ：６３度以上６５度未満。
×（不可）：６３度未満。
＜耐光性＞
表面層に対し、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（東洋精機社製、ＳＵＮＴＥＳＴ ＸＬＳ＋）を用いて、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ２、３００～７００ｎｍ）を１，０００時間照射した後、水接触角を測定した。促進耐光試験後の水接触角の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：促進耐光試験後の水接触角の変化が１０度超。
表面層に対し、卓上型キセノンアークランプ式促進耐光性試験機（東洋精機社製、ＳＵＮＴＥＳＴ ＸＬＳ＋）を用いて、ブラックパネル温度：６３℃にて、光線（６５０Ｗ／ｍ２、３００～７００ｎｍ）を１，０００時間照射した後、水接触角を測定した。促進耐光試験後の水接触角の低下が小さいほど光による性能の低下が小さく、耐光性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：促進耐光試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：促進耐光試験後の水接触角の変化が１０度超。
＜耐摩擦性（スチールウール）＞
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
表面層について、ＪＩＳ Ｌ０８４９：２０１３（ＩＳＯ １０５－Ｘ１２：２００１）に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、スチールウールボンスター（♯００００）を圧力：９８．０７ｋＰａ、速度：３２０ｃｍ／分で１万回往復させた後、水接触角を測定した。摩擦後の撥水性（水接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：１万回往復後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：１万回往復後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：１万回往復後の水接触角の変化が１０度超。
＜耐薬品性（耐アルカリ性）＞
物品を、１規定の水酸化ナトリウム水溶液（ｐＨ＝１４）に５時間浸漬した後、水洗、風乾し、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほどアルカリによる性能の低下が小さく、耐アルカリ性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度以下。
〇（良） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が１０度超。
物品を、１規定の水酸化ナトリウム水溶液（ｐＨ＝１４）に５時間浸漬した後、水洗、風乾し、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほどアルカリによる性能の低下が小さく、耐アルカリ性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度以下。
〇（良） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：耐アルカリ性試験後の水接触角の変化が１０度超。
＜耐薬品性（耐塩水性）＞
ＪＩＳ Ｈ８５０２に準拠して塩水噴霧試験を行った。すなわち、物品を、塩水噴霧試験機（スガ試験機社製）内で３００時間塩水雰囲気に暴露した後、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほど塩水による性能の低下が小さく、耐塩水性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が１０度超。
ＪＩＳ Ｈ８５０２に準拠して塩水噴霧試験を行った。すなわち、物品を、塩水噴霧試験機（スガ試験機社製）内で３００時間塩水雰囲気に暴露した後、水接触角を測定した。試験後における水接触角の低下が小さいほど塩水による性能の低下が小さく、耐塩水性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度以下。
○（良） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が２度超５度以下。
△（可） ：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が５度超１０度以下。
×（不可）：塩水噴霧試験後の水接触角の変化が１０度超。
＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（旭化成社製、ベンコット（登録商標）Ｍ－３）にて拭き取って、指紋のスタンプを準備した。指紋スタンプを表面層上に乗せ、荷重：９．８Ｎにて１０秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパーを取り付けた往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重：４．９Ｎにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から１０％以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋汚れ拭き取り性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：拭き取り回数が３回以下。
○（良） ：拭き取り回数が４～５回。
△（可） ：拭き取り回数が６～８回。
×（不可）：拭き取り回数が９回以上。
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（旭化成社製、ベンコット（登録商標）Ｍ－３）にて拭き取って、指紋のスタンプを準備した。指紋スタンプを表面層上に乗せ、荷重：９．８Ｎにて１０秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ティッシュペーパーを取り付けた往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重：４．９Ｎにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から１０％以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋汚れ拭き取り性に優れる。評価基準は下記のとおりである。
◎（優） ：拭き取り回数が３回以下。
○（良） ：拭き取り回数が４～５回。
△（可） ：拭き取り回数が６～８回。
×（不可）：拭き取り回数が９回以上。
化合物１を用いた例７～１０は、初期の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性、耐光性および耐薬品性に優れていることを確認した。
従来の含フッ素エーテル化合物を用いた例１１、１２は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に劣っていた。
従来の含フッ素エーテル化合物を用いた例１１、１２は、耐摩擦性、耐光性および耐薬品性に劣っていた。
本発明の含フッ素エーテル化合物は、潤滑性や撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえばタッチパネル等の表示入力装置、透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート、電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート、トイレタリー用防汚コート、導通しながら撥液が必要な部材へのコート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話、携帯情報端末等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等人の指あるいは手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材、配線板用防水コーティング熱交換機の撥水・防水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車部品、工具等の表面保護コートが挙げられる。
なお、２０１７年０８月２２日に出願された日本特許出願２０１７－１５９６９８号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
なお、２０１７年０８月２２日に出願された日本特許出願２０１７－１５９６９８号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (15)
- 下式１で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１）ｂ 式１
ただし、
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、
Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または下式ｇ１で表される基であり、
Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環、及びイソシアヌル骨格を除く。）を有する基であり、
Ｒ１は、少なくとも１個の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｂは、２以上の整数であり、
ｂ個のＲ１は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（ただし、フッ素原子を除く。）、または炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｃは、１～１０の整数であり、
ｃが２以上の場合、ｃ個の（ＣＲ２Ｒ３）は、同一であっても異なっていてもよい。 - 前記Ｑ１における環が、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、およびこれらの環のうちの２つ以上からなる縮合環からなる群から選ばれる環である、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。
- 前記Ｚ１が、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または前記式ｇ１で表される基である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
- 前記Ｒ１が、下式ｇ２で表される基である、請求項１～３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ２［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］ｐ 式ｇ２
ただし、
Ｑ２は、（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
ｐは、１以上の整数であり、
ｐが２以上の場合、ｐ個の［－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎ］は、同一であっても異なっていてもよい。 - 前記式ｇ２で表される基が、下式ｇ３で表される基または下式ｇ４で表される基である、請求項４に記載の含フッ素エーテル化合物。
Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎであり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５Ｒ６）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ７は、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎであり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７は、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、
Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ３は、炭素数２～１０のアルキレン基であり、
Ｒ４は、水素原子または１価の炭化水素基であり、
Ｌは、加水分解性基であり、
ｎは、０～２の整数であり、
複数の－Ｑ３－ＳｉＲ４ ｎＬ３－ｎは、同一であっても異なっていてもよい。 - 請求項１～５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物の１種以上と、他の含フッ素エーテル化合物とを含むことを特徴とする含フッ素エーテル組成物。
- 請求項１～５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項６に記載の含フッ素エーテル組成物と、
液状媒体とを含むことを特徴とするコーティング液。 - 請求項１～５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項６に記載の含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を基材の表面に有することを特徴とする物品。
- 請求項１～５のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物または請求項６に記載の含フッ素エーテル組成物を用いたドライコーティング法によって基材の表面を処理して、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
- ウェットコーティング法によって請求項７に記載のコーティング液を基材の表面に塗布し、乾燥させて、前記含フッ素エーテル化合物または前記含フッ素エーテル組成物から形成された表面層を前記基材の表面に形成することを特徴とする物品の製造方法。
- 下式２で表される化合物である、含フッ素エーテル化合物。
Ａ－Ｏ－（Ｒｆ１Ｏ）ｍ－Ｒｆ２－Ｚ１－Ｑ１（Ｒ１ａ）ｂ 式２
ただし、
Ａは、炭素数１～２０のペルフルオロアルキル基であり、
Ｒｆ１は、直鎖のフルオロアルキレン基であり、
ｍは、２～５００の整数であり、
（Ｒｆ１Ｏ）ｍは、炭素数の異なる２種以上のＲｆ１Ｏからなるものであってもよく、
Ｒｆ２は、直鎖のフルオロアルキレン基（ただし、Ｚ１側の末端の炭素原子には少なくとも１個のフッ素原子が結合する。）であり、
Ｚ１は、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－、－ＯＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）Ｏ－、－ＮＨＣ（Ｏ）ＮＨ－および－ＳＯ２ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、前記群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または下式ｇ１で表される基であり、
Ｑ１は、Ｚ１およびＲ１ａ が環を構成する原子に直接結合する（ｂ＋１）価の環（ただし、オルガノポリシロキサン環、及びイソシアヌル骨格を除く。）を有する基であり、
Ｒ１ａは、少なくとも１個のω－アルケニル基を有する１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｂは、２以上の整数であり、
ｂ個のＲ１ａは、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子（ただし、フッ素原子を除く。）、または炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｃは、１～１０の整数であり、
ｃが２以上の場合、ｃ個の（ＣＲ２Ｒ３）は、同一であっても異なっていてもよい。 - 前記Ｑ１における環が、３～８員環の脂肪族環、ベンゼン環、３～８員環のヘテロ環、およびこれらの環のうちの２つ以上からなる縮合環からなる群から選ばれる環である、請求項１１に記載の含フッ素エーテル化合物。
- 前記Ｚ１が、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合、－Ｃ（Ｏ）－および－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－からなる群から選ばれる結合を有する２価の有機基、単結合、または前記式ｇ１で表される基である、請求項１１または１２に記載の含フッ素エーテル化合物。
- 前記Ｒ１ａが、下式ｇ５で表される基である、請求項１１～１３のいずれか一項に記載の含フッ素エーテル化合物。
－Ｑ２ａ［－ＣＨ＝ＣＨ２］ｐ 式ｇ５
ただし、
Ｑ２ａは、単結合（ただし、ｐが１のときに限る。）または（ｐ＋１）価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）であり、
ｐは、１以上の整数である。 - 前記式ｇ５で表される基が、下式ｇ６で表される基または下式ｇ７で表される基である、請求項１４に記載の含フッ素エーテル化合物。
Ｒ５ａおよびＲ６ａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｑは、０～１０の整数であり、
ｑが２以上の場合、ｑ個の（ＣＲ５ａＲ６ａ）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｒ７ａは、炭素数１～６の１価の有機基（ただし、加水分解性シリル基を有するものを除く。）または－Ｚ２－Ｑ３ａ－ＣＨ＝ＣＨ２であり、
ｒは、０～４の整数であり、
ｒが２以上の場合、ｒ個のＲ７ａは、同一であっても異なっていてもよく、
ｓは、１または２であり、
ｓが２の場合、２個の（φ（Ｒ７ａ）ｒ）（ただし、φはベンゼン環である。）は、同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ２は、単結合または－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ８）－であり、
Ｒ８は、水素原子またはアルキル基であり、
Ｑ３ａは、単結合または炭素数１～８のアルキレン基であり、
複数のＱ３ａは、同一であっても異なっていてもよい。
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