WO2022224987A1

WO2022224987A1 - 表面処理剤

Info

Publication number: WO2022224987A1
Application number: PCT/JP2022/018281
Authority: WO
Inventors: 裕介渡邊; 香織小澤; 尚志三橋; 恒雄山下; 章広後藤; 大貴久保田
Original assignee: ダイキン工業株式会社
Priority date: 2021-04-20
Filing date: 2022-04-20
Publication date: 2022-10-27
Also published as: US20240052180A1; CN117396578A; EP4321590A1; JP2022165943A; TW202307075A; KR20230170779A; JP7265212B2

Abstract

本発明は、下記式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、及び下記式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を含む、表面処理剤を提供する［式中、各記号は、明細書の記載の通りである。］。

Description

表面処理剤

　本開示は、表面処理剤に関する。

　ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、衛生用品、建築資材など種々多様な基材に施されている（特許文献１）。

特開２０１４－２１８６３９号公報

　特許文献１に記載の含フッ素シラン化合物は、優れた機能を有する表面処理層を与えることができるが、より高い摩耗耐久性を有する表面処理層が求められている。

　本開示は、摩耗耐久性がより高い表面処理層を形成することができる表面処理剤を提供することを目的とする。

　本開示は、以下の態様を含む。
［１］　下記式（１）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^ＦＡ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、分岐構造を有するフルオロポリエーテル基であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
　αは、１～９の整数であり；
　βは、１～９の整数である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、及び
　下記式（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^ＦＢ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、直鎖のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）
を含む、表面処理剤。
［２］　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｘ^Ｆ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
　Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。］
で表される基であって、少なくとも１つの分岐構造を有する基であり、
　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｘ^Ｆ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
　Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。］
で表される基であって、直鎖の基である
上記［１］に記載の表面処理剤。
［３］　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基であって、少なくとも１つの分岐構造を有する基である、上記［１］又は［２］に記載の表面処理剤。
［４］　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）または（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基であって、直鎖の基である、上記［１］～［３］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［５］　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１ａ）：
　　－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））_ｅ－　　　（ｆ１ａ）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
で表される基である、上記［１］～［４］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［６］　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ２ｂ）：
　　－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２ｂ）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、上記［１］～［５］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［７］　Ｒ^Ｓ１及びＲ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は二価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１、ｑ１、及びｒ１の合計は、ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１単位において、３であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１’、ｑ１’、及びｒ１’の合計は、ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’単位において、３であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１”及びｒ１”の合計は、ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”単位において、３であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１単位において、３であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ２、ｑ２、及びｒ２の合計は、ＳｉＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２単位において、３であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２’、及びｒ２’の合計は、ＳｉＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’単位において、３であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２単位において、３であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、上記［１］～［６］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［８］　Ｒ^Ｓ１及びＲ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は二価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１、ｑ１、及びｒ１の合計は、ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１単位において、３であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１’、ｑ１’、及びｒ１’の合計は、ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’単位において、３であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１”及びｒ１”の合計は、ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”単位において、３であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１単位において、３であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ２、ｑ２、及びｒ２の合計は、ＳｉＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２単位において、３であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２’、及びｒ２’の合計は、ＳｉＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’単位において、３であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２単位において、３であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。］
で表される基である、上記［１］～［７］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［９］　α、β、及びγは、１である、上記［１］～［８］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１０］　Ｘ^Ａ及びＸ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
　Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、一価の有機基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は一価の有機基であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される基である、上記［１］～［９］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１１］　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）の合計に対して、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）の含有量は、５０ｍｏｌ％以上である、上記［１］～［１０］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１２］　防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、上記［１］～［１１］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１３］　湿潤被覆用である、上記［１］～［１２］のいずれか１項に記載の表面処理剤。
［１４］　基材と、該基材上に、上記［１］～［１３］のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１５］　光学部材である、上記［１４］に記載の物品。

　本開示によれば、より高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる表面処理剤が提供される。

　本明細書において用いられる場合、「一価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２～１０価の有機基」とは、炭素を含有する２～１０価の基を意味する。かかる２～１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１～９個の水素原子を脱離させた２～１０価の基が挙げられる。例えば、二価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた二価の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１－２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

　本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、Ｃ_２－６アルキニル基、Ｃ_３－１０シクロアルキル基、Ｃ_３－１０不飽和シクロアルキル基、５～１０員のヘテロシクリル基、５～１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６－１０アリール基及び５～１０員のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。

　本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）などが挙げられる。

　本開示の表面処理剤は、分岐構造を有するフルオロポリエーテル基を含有するシラン化合物（Ａ）、及び直鎖のフルオロポリエーテル基を含有するシラン化合物（Ｂ）を含む。

［フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）］
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、下記式（１）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^ＦＡ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、分岐構造を有するフルオロポリエーテル基であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
　αは、１～９の整数であり；
　βは、１～９の整数である。］
で表される。

　Ｒ^Ｆ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^ＦＡ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基である。

　上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基における「Ｃ_１－１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６アルキル基、特にＣ_１－３アルキル基である。

　Ｒｆ^１は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ－Ｃ_１－１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である。

　上記Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_３、－ＣＦ_２ＣＦ_３、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　上記式において、Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、分岐構造を有するフルオロポリエーテル基である。

　本明細書において、フルオロポリエーテル基は、典型的には、下記式（ｆ０）：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｘ^Ｆ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ０）
［式中、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
　Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。］
で表される。

　式（ｆ０）において、Ｘ^Ｆは、好ましくは、水素原子又はフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

　式（ｆ０）において、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０～１００の整数であってもよい。

　式（ｆ０）において、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下又は３０以下であってもよい。

　式（ｆ０）において、上記繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよく、環構造を含んでいてもよい。例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等であってもよい。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－は、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－のいずれであってもよい。

　上記環構造は、下記三員環、四員環、五員環、又は六員環であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

　上記環構造は、好ましくは四員環、五員環、又は六員環、より好ましくは四員環、又は六員環であり得る。

　環構造を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記の単位であり得る。

［式中、＊は、結合位置を示す。］

　一の態様において、式（ｆ０）は、下記式（ｆ１）～（ｆ６）のいずれかで表される。
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは、１～２００の整数であり、ｅは、０又は１、好ましくは１である。］
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅ及びｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は２以上であり、
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数である。］；
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～１００、さらに好ましくは１５～５０、例えば２５～３５の整数である。一の態様において、ｅは０である。別の態様において、ｅは１である。

　上記式（ｆ２）において、ｅ及びｆは、それぞれ独立して、好ましくは５～２００、より好ましくは１０～２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上又は２０以上であってもよい。

　上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６及びＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６－、－ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４－、及び－ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４－等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖又は分枝鎖のいずれであってもよい。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ－又は－（ＯＣ_２Ｆ_４－ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ－である。

　上記式（ｆ４）において、Ｒ^６、Ｒ^７及びｇは、上記式（ｆ３）の記載と同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^６’、Ｒ^７’及びｇ’は、それぞれ、上記式（ｆ３）に記載のＲ^６、Ｒ^７及びｇと同意義であり、同様の態様を有する。Ｒ^ｒは、好ましくは、

［式中、＊は、結合位置を示す。］
であり、より好ましくは

［式中、＊は、結合位置を示す。］
である。

　上記式（ｆ５）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ６）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

　上記式（ｆ０）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）及び（ｆ６）において、ｆ及びｅが１以上である場合、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１～１０であり、好ましくは０．２～５であり、より好ましくは０．２～２であり、さらに好ましくは０．２～１．５であり、さらにより好ましくは０．２～０．８５である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩耗耐久性及び耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性及び摩耗耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。

　上記フルオロポリエーテル基の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００～３０，０００、好ましくは１，５００～３０，０００、より好ましくは２，０００～１０，０００である。本明細書において、フルオロポリエーテル基の数平均分子量は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　上記式（１）中、Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは式（ｆ０）で表される基であって、少なくとも１つの分岐構造を有する基である。

　一の態様において、Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、すべての繰り返し単位が分岐構造を有する式（ｆ０）で表される基である。

　上記分岐構造における分岐鎖としては、例えば、ＣＦ_３、ＣＦ_２ＣＦ_３、ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３等を挙げることができ、好ましくはＣＦ_３である。

　上記分岐構造を有する繰り返し単位としては、例えば、－（ＯＣ_６Ｆ_１２）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等を挙げることができる。－（ＯＣ_５Ｆ_１０）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－等を挙げることができる。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－を挙げることができる。－（ＯＣ_３Ｆ_６）－（即ち、上記式（ｆ０）中、Ｘ^Ｆはフッ素原子である）としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－および－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－を挙げることができる。－（ＯＣ_２Ｆ_４）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－を挙げることができる。

　Ｒ^ＦＡは、分岐構造を有する繰り返し単位に加え、直鎖状の繰り返し単位を含んでいてもよい。直鎖状の繰り返し単位としては、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）－が挙げられる。

　Ｒ^ＦＡにおいて分岐構造を有する繰り返し単位の数は、好ましくは少なくとも５、より好ましくは少なくとも１０、さらに好ましくは少なくとも２０である。

　Ｒ^ＦＡ中、繰り返し単位の合計数（例えば、上記ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和）１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は、好ましくは４０以上、より好ましくは６０以上、さらに好ましくは８０以上である。Ｒ^ＦＡ中、繰り返し単位数の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は、１００以下であってもよく、例えば９０以下であってもよい。

　Ｒ^ＦＡ中、繰り返し単位の合計数１００に対して、分岐構造を有する繰り返し単位の数は、好ましくは４０～１００、より好ましくは６０～１００、さらに好ましくは８０～１００である。

　好ましい態様において、Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、上記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）または（ｆ６）で表される基であって、少なくとも１つの分岐構造を有する基である。

　好ましい態様において、Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１ａ）：
　　－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））_ｅ－　　　（ｆ１ａ）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
で表される基である。

　Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基（以下、かかる基を単に「加水分解性シラン基」ともいう）である。

　Ｒ^Ｓ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は二価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である。

　上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ｓ１）においては、ｎ１が１～３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、式（Ｓ１）においてすべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（Ｓ１）において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記式中、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は二価の有機基である。かかる二価の有機基は、好ましくは－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。かかるＣ_１－２０アルキレン基は、好ましくはＣ_１－１０アルキレン基、より好ましくはＣ_１－６アルキレン基、さらに好ましくはＣ_１－３アルキレン基である。

　一の態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｃ_１－６アルキレン－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－又は－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン－である。

　好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は直鎖のＣ_１－６アルキレン基であり、好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－３アルキレン基、より好ましくは単結合又は直鎖のＣ_１－２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１－２アルキレン基である。

　上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基である。

　好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は直鎖のＣ_１－６アルキル基であり、好ましくは水素原子又は直鎖のＣ_１－３アルキル基、好ましくは水素原子又はメチル基である。

　上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数である。

　好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２～１０の整数、好ましくは２～６の整数である。

　上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子又はフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

　上記式中、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

　一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基である。

　好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

　一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ａ）である。

［式中、
　Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、及びｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
　ｔ１及びｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数、好ましくは１～１０の整数、より好ましくは２～１０の整数、例えば１～５の整数又は２～５の整数であり；
　ｔ１及びｔ２を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

　好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１－ｂ）である。

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１及びｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

　上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

　上記Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、二価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

　上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、二価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１’－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２’－（式中、ｚ１’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－（式中、ｚ３’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４’－である。Ｚ^１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

　上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、二価の有機基である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。好ましくは、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ－Ｚ^１”－Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

　上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２”－（式中、ｚ１”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－（式中、ｚ３”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ３”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４”－である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　上記Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

　上記ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ’、ｑ１’とｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１’は、０である。

　一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

　一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１とｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ１は、０である。

　一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

　一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　上記Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１とｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

　一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０～２の整数である。）、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０～２の整数である。）、又は－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０～２の整数である。）のいずれか１つを有する。Ｚ^１、Ｚ^１’、Ｚ^１”、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、Ｒ^２２”、及びＲ^２３”は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２又は３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２又は３、好ましくは３である。

　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、二価の有機基である。

　上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６－（式中、ｚ５は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－（式中、ｚ７は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８－である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

　上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５’－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６’－（式中、ｚ５’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－（式中、ｚ７’は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８’は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７’－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８’－である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。

　上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）に結合する。

　一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^３は二価の有機基である。

　上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

　Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、－ＯＲ^ｈ、－ＯＣＯＲ^ｈ、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、－ＮＲ^ｈ _２、－ＮＨＲ^ｈ、又はハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換又は非置換のＣ_１－４アルキル基を示す）であり、より好ましくは－ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

　上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

　上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数である。ただし、式（Ｓ４）の末端部分においては、ｎ２が１～３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（Ｓ４）の末端部分において、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

　ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’の合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

　ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１～３の整数であり、より好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２及びｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

　一の態様において、ｐ２は、０である。

　一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数、２～３の整数、又は３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２は、３である。

　一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、より好ましくは３である。

　一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１～３の整数であり、好ましくは２～３の整数、さらに好ましくは３である。

　上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２である。かかる－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

　上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

　上記Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１－２０アルキル基又は－（Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ１－（Ｏ－Ｃ_ｓＨ_２ｓ）_ｔ２（式中、ｓは、１～６の整数、好ましくは２～４の整数であり、ｔ１は１又は０、好ましくは０であり、ｔ２は、１～２０の整数、好ましくは２～１０の整数、より好ましくは２～６の整数である。）であり、より好ましくはＣ_１－２０アルキル基、さらに好ましくはＣ_１－６アルキル基、特に好ましくはメチル基である。

　一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

　別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１－６アルキル基である。

　上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

　一の態様において、式（Ｓ４）において、ｎ２は１～３、好ましくは２又は３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２）単位は、式（Ｓ４）の各末端部分において、２個以上、例えば２～２７個、好ましくは２～９個、より好ましくは２～６個、さらに好ましくは２～３個、特に好ましくは３個存在する。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｎ２は、１～３の整数であり、好ましくは２又は３、より好ましくは３である。

　好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２又は３、好ましくは３であり、ｎ２は、２又は３、好ましくは３である。

　上記Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２である。ここに、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^ａ１、Ｒ^ｂ２、Ｒ^ｃ１、Ｒ^ｄ１、Ｒ^ｅ１、Ｒ^ｆ１、ｎ１、ｋ１、ｌ１、ｍ１、ｋ２、ｌ２、及びｍ２は、上記と同意義である。

　好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、それぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１である。

　上記Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基である。尚、以下Ｚ^４として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）に結合する。

　一の態様において、Ｚ^４は酸素原子である。

　一の態様において、Ｚ^４は二価の有機基である。

　上記Ｚ^４は、好ましくは、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）である。かかるＣ_１－６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１－６アルキル基、Ｃ_２－６アルケニル基、及びＣ_２－６アルキニル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

　好ましい態様において、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基又は－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－、好ましくは－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

　別の好ましい態様において、上記Ｚ^４は、Ｃ_１－３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。別の態様において、Ｚ^４は、－ＣＨ_２ＣＨ_２－であり得る。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子又はＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ１）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ１）は、式（Ｓ１－ｂ）で表される基である。好ましい態様において、式中、Ｒ^１３は、水素原子であり、Ｘ^１１は、単結合、又は－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ２）で表される基である。好ましい態様において、式中、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ３）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ３）は、－ＳｉＲ^ａ１ _２Ｒ^ｃ１、又は－ＳｉＲ^ａ１ _３であり、Ｒ^ａ１は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｑ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ４）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ４）は、－ＣＲ^ｅ１ _２Ｒ^ｆ１、又は－ＣＲ^ｅ１ _３であり、Ｒ^ｅ１は、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ２は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ５）で表される基である。好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｘ^Ａは、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^Ｆ１）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓ１）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

　上記式（１）において、αは１～９の整数であり、βは１～９の整数である。これらα及びβは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。α及びβの和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、α及びβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、又はαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが二価の有機基である場合、α及びβは１である。

　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；

　上記Ｘ^Ａにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは二価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合又は二価の有機基であり、αは１であり、βは１である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは３～６価の有機基であり、αは１であり、βは２～５である。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。

　Ｘ^Ａが、単結合又は二価の有機基である場合、式（１）は、下記式（１’）で表される。

　一の態様において、Ｘ^Ａは単結合である。

　別の態様において、Ｘ^Ａは二価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
　ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
　Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、一価の有機基であり、好ましくはフェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基、より好ましくはフェニル基又はＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は一価の有機基であり、好ましくは水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される二価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^Ａ（典型的にはＸ^Ａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ａは、これらの基により置換されていない。

　上記炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基は、－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン－を含む基であり、例えば、－Ｒ^５５－（－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン）_ｎ－Ｒ^５６（式中、Ｒ^５５は、単結合又は二価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎは任意の整数、好ましくは２～１０の整数であり、Ｒ^５６は、水素原子又は１価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。）である。上記アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－である。Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５６は、これらの基により置換されていない。

　好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－Ｒ^５１－Ｘ^５３－Ｒ^５２－、又は
［式中、Ｒ^５１及びＲ^５２は、上記と同意義であり、
　Ｘ^５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－ＣＯ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、
－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－Ｎ（Ｒ^５４）－、又は
－ＣＯＮＲ^５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－
（式中、Ｒ^５３、Ｒ^５４及びｍ５は、上記と同意義であり、
　ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）である。］
であり得る。

　より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、Ｘ^５３、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｘ^５３は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数であり、
　ｕ５は１～２０の整数である。］
であり得る。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数であり、
　ｕ５は１～２０の整数である。］
であり得る。

　上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

　尚、上記Ｘ^Ａは、各式の左側がＲ^Ｆ１に結合し、右側がＲ^Ｓ１に結合する。

　一の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン基、Ｃ_１－６アルキレン基－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン基以外であり得る。

　別の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
　Ｄは、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）₄－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、及び

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６のアルキル基又はＣ_１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
　Ｅは、－（ＣＨ_２）_ｎ－（ｎは２～６の整数）であり、
　Ｄは、分子主鎖のＲ^Ｆ１に結合し、Ｅは、Ｒ^Ｓ１に結合する。］

　上記Ｘ^Ａの具体的な例としては、例えば：
単結合、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_４－、
－（ＣＨ_２）_５－、
－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－ＣＨ_２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_４－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_５－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯ－、
－Ｓ－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、
－ＯＣＨ_２－、
－Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＯＣＦＨＣＦ_２－、

などが挙げられる。

　さらに別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、式：－（Ｒ^１６）_ｘ１－（ＣＦＲ^１７）_ｙ１－（ＣＨ_２）_ｚ１－で表される基である。式中、ｘ１、ｙ１及びｚ１は、それぞれ独立して、０～１０の整数であり、ｘ１、ｙ１及びｚ１の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

　上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、－ＮＲ^１８－（式中、Ｒ^１８は、水素原子又は有機基を表す）又は二価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１８は、酸素原子又は二価の極性基である。

　上記「二価の極性基」としては、特に限定されないが、－Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（＝ＮＲ^１９）－、及び－Ｃ（Ｏ）ＮＲ^１９－（これらの式中、Ｒ^１９は、水素原子又は低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１～６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ－プロピルであり、これらは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

　上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１～６、好ましくは炭素数１～３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１～３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

　さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
　Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１～６のアルキル基、又はＣ_１－６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
　各Ｘ^Ａ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲ^Ｆ１又はＲ^Ｆ２に結合する以下の基：
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）₄－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、又は

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１－６のアルキル基又はＣ_１－６のアルコキシ基、好ましくはメチル基又はメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲ^Ｓｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１－６アルコキシ基又はラジカル捕捉基又は紫外線吸収基である。

　ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、又はトリアジン類の残基が挙げられる。

　紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換及び未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレート又はアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

　好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基又は紫外線吸収基としては、

が挙げられる。

　この態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３～１０価の有機基であり得る。

［式中、Ｒ^２５、Ｒ^２６及びＲ^２７は、それぞれ独立して２～６価の有機基であり、
　Ｒ^２５は、少なくとも１つのＲ^Ｆ１に結合し、Ｒ^２６及びＲ^２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲ^Ｓｉに結合する。］

　一の態様において、上記Ｒ^２５は、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、Ｃ_５－２０アリーレン基、－Ｒ^５７－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、－Ｘ^５８－Ｒ^５９－、又は－Ｒ^５７－Ｘ^５８－である。上記、Ｒ^５７及びＲ^５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１－２０アルキレン基、Ｃ_３－２０シクロアルキレン基、又はＣ_５－２０アリーレン基である。上記Ｘ^５８は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－又は－ＣＯＯ－である。

　一の態様において、上記Ｒ^２６及びＲ^２７は、それぞれ独立して、炭化水素、又は炭化水素の端又は主鎖中にＮ、Ｏ及びＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ_１－６アルキル基、－Ｒ^３６－Ｒ^３７－Ｒ^３６－、－Ｒ^３６－ＣＨＲ^３８ _２－などが挙げられる。ここに、Ｒ^３６は、それぞれ独立して、単結合又は炭素数１～６のアルキル基、好ましくは炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ^３７は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＮ又はＯである。Ｒ^３８は、－Ｒ^４５－Ｒ^４６－Ｒ^４５－、－Ｒ^４６－Ｒ^４５－又は－Ｒ^４５－Ｒ^４６－である。ここに、Ｒ^４５は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基である。Ｒ^４６は、Ｎ、Ｏ又はＳであり、好ましくはＯである。

　上記式（１）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、１，０００～３０，０００、より好ましくは１，５００～１０，０００の数平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「数平均分子量」は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）は、公知の方法により合成することができる。

［フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）］
　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、下記式（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^ＦＢ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、直鎖のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表される

　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^ＦＢ－Ｏ_ｑ－である。

　上記式において、Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基である。

　上記１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基における「Ｃ_１－６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３アルキレン基である。

　上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１－６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１－６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１－３パーフルオロアルキレン基である。

　上記Ｃ_１－６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖又は分枝鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１－３パーフルオロアルキル基、具体的には－ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、又は－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－である。

　上記式において、ｐは、０又は１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

　上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

　上記式において、Ｒ^ＦＢは、直鎖のフルオロポリエーテル基である。

　上記フルオロポリエーテル基は、典型的には、上記式（ｆ０）で表される基である。

　上記式（２）中、Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、好ましくは、式（ｆ０）で表される基であって、すべての繰り返し単位が直鎖である基である。

　好ましい態様において、Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、上記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）または（ｆ６）で表される基であって、直鎖の基である。

　好ましい態様において、Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ２ｂ）：
　　－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　（ｆ２ｂ）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である。

　Ｒ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基である。Ｒ^Ｓ２は、上記Ｒ^Ｓ１について記載した基と同意義であり得、同様の態様を含む。

　好ましい態様において、Ｒ^Ｓ２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、上記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。これらの化合物は、高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ３）又は（Ｓ４）で表される基である。これらの化合物は、一の末端に、一のＳｉ原子又はＣ原子から分岐した複数の加水分解性基を有し得ることから、さらに高い摩耗耐久性を有する表面処理層を形成することができる。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ１）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ１）は、式（Ｓ１－ｂ）で表される基である。好ましい態様において、式中、Ｒ^１３は、水素原子であり、Ｘ^１１は、単結合、又は－Ｒ^２８－Ｏ_ｘ－Ｒ^２９－（式中、Ｒ^２８及びＲ^２９は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又はＣ_１－２０アルキレン基であり、ｘは０又は１である。）であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ２）で表される基である。好ましい態様において、式中、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ３）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ３）は、－ＳｉＲ^ａ１ _２Ｒ^ｃ１、又は－ＳｉＲ^ａ１ _３であり、Ｒ^ａ１は、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり、Ｚ^１は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ１－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ２－（式中、ｚ１は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ２は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、又は、－（ＣＨ_２）_ｚ３－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ４－（式中、ｚ３は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ４は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｑ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ４）で表される基である。好ましい態様において、式（Ｓ４）は、－ＣＲ^ｅ１ _２Ｒ^ｆ１、又は－ＣＲ^ｅ１ _３であり、Ｒ^ｅ１は、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり、Ｚ^３は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ２は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　一の態様において、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ５）で表される基である。好ましい態様において、Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり、Ｚ^４は、Ｃ_１－６アルキレン基、－（ＣＨ_２）_ｚ５”－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｚ６”－（式中、ｚ５”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ６”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）又は、－（ＣＨ_２）_ｚ７”－フェニレン－（ＣＨ_２）_ｚ８”－（式中、ｚ７”は、０～６の整数、例えば１～６の整数であり、ｚ８”は、０～６の整数、例えば１～６の整数である）、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎ１は１～３、好ましくは２～３、さらに好ましくは３である。

　Ｘ^Ｂは、主に撥水性及び表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^Ｆ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓ２）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ｂは、式（２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

　上記式（２）において、γは１～９の整数である。γは、Ｘ^Ｂの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ｂの価数から１を引いた値である。

　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基である。

　上記Ｘ^Ｂにおける２～１０価の有機基は、好ましくは２～８価の有機基である。一の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは２～４価の有機基であり、より好ましくは二価の有機基である。別の態様において、かかる２～１０価の有機基は、好ましくは３～８価の有機基、より好ましくは３～６価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、単結合又は二価の有機基であり、αは１であり、βは１である。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、単結合又は二価の有機基であり、γは１である。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは３～６価の有機基であり、γは２～５である。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、３価の有機基であり、γは２である。

　Ｘ^Ｂが、単結合又は二価の有機基である場合、式（２）は、下記式（２’）で表される。

　Ｘ^Ｂは、Ｘ^Ａについて上記した基と同意義であり得、同様の態様を含む。なお、Ｘ^Ｂとして記載される各基は、左側が式（２）のＲ^Ｆ２に結合し、右側が式（２）のＲ^Ｓ２に結合する。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは単結合である。

　別の態様において、Ｘ^Ｂは二価の有機基である。

　一の態様において、Ｘ^Ｂとしては、例えば、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｓ５－であり、
　ｓ５は、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数、さらにより好ましくは１又は２であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
　Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、一価の有機基であり、好ましくはフェニル基、Ｃ_１－６アルキル基又はＣ_１－６アルコキシ基、より好ましくはフェニル基又はＣ_１－６アルキル基、より好ましくはメチル基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は一価の有機基であり、好ましくは水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数、好ましくは１～２０の整数であり、
　ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数、好ましくは１～６の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数、好ましくは１～５の整数、より好ましくは１～３の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される二価の有機基が挙げられる。ここに、Ｘ^Ｂ（典型的にはＸ^Ｂの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｘ^Ｂは、これらの基により置換されていない。

　上記炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基は、－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン－を含む基であり、例えば、－Ｒ^５５－（－Ｏ－Ｃ_１－１０アルキレン）_ｎ－Ｒ^５６（式中、Ｒ^５５は、単結合又は二価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキレン基であり、ｎは任意の整数、好ましくは２～１０の整数であり、Ｒ^５６は、１価の有機基、好ましくはＣ_１－６アルキル基である。）である。上記アルキレン基は、直鎖であっても分岐鎖であってもよい。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－Ｒ^５２－である。Ｒ^５２は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｔ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、好ましくは－（ＣＨ_２）_ｔ５－である。ｔ５は、１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５６は、これらの基により置換されていない。

　好ましくは、上記Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－Ｒ^５１－Ｘ^５３－Ｒ^５２－、又は
［式中、Ｒ^５１及びＲ^５２は、上記と同意義であり、
　Ｘ^５３は、
－Ｏ－、
－Ｓ－、
－ＣＯ－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、
－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、
－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－ＣＨ_２ＣＨ_２－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_u５－Ｎ（Ｒ^５４）－、又は
－ＣＯＮＲ^５４－（ｏ－、ｍ－又はｐ－フェニレン）－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－
（式中、Ｒ^５３、Ｒ^５４及びｍ５は、上記と同意義であり、
　ｕ５は１～２０の整数、好ましくは２～６の整数、より好ましくは２～３の整数である。）である。］
であり得る。

　より好ましくは、上記Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、Ｘ^５３、ｓ５及びｔ５は、上記と同意義である。］
である。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１－２０アルキレン基、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－、
－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｘ^５３－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｘ^５３は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－、又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、
であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数であり、
　ｕ５は１～２０の整数である。］
であり得る。

　好ましい態様において、上記Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－、
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯ－、又は
－（ＣＨ_２）_ｓ５－Ｏ－（ＣＨ_２）_u５－ＣＯＮＲ^５４－（ＣＨ_２）_ｔ５－
［式中、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基、Ｃ_１－６アルキル基（好ましくはメチル基）又は炭素数１～１０のオキシアルキレン含有基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　ｔ５は、１～２０の整数であり、
　ｕ５は１～２０の整数である。］
であり得る。

　上記Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１－３アルキル基及びＣ_１－３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基）から選択される１個又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ｂは、非置換である。

　尚、上記Ｘ^Ｂは、各式の左側がＲ^Ｆ１に結合し、右側がＲ^Ｓ１に結合する。

　一の態様において、Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン基、Ｃ_１－６アルキレン基－Ｏ－Ｃ_１－６アルキレン基以外であり得る。

　上記Ｘ^Ｂの具体的な例としては、例えば：
単結合、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－Ｃ（Ｏ）ＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－、
－（ＣＨ_２）_２－、
－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_４－、
－（ＣＨ_２）_５－、
－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯ－、
－ＣＯＮＨ－、
－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＯＮ（ＣＨ_３）－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－ＣＨ_２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_２－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_３－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_４－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_５－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮ（Ｐｈ）－（ＣＨ_２）_６－（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２Ｏ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－ＣＨ_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_４－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_５－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２ＯＣＨ_２－ＣＯ－、
－Ｓ－（ＣＨ_２）_３－、
－（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＯＮＨ－（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_３－、
－Ｃ（Ｏ）Ｏ－（ＣＨ_２）_６－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_３－、
－ＣＨ_２－Ｏ－（ＣＨ_２）_３－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－（ＣＨ_２）_２－Ｓｉ（ＣＨ_３）_２－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、
－ＯＣＨ_２－、
－Ｏ（ＣＨ_２）_３－、
－ＯＣＦＨＣＦ_２－、

などが挙げられる。

　上記式（２）で表されるフルオロポリエーテル基含有化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０^２～１×１０^５の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、１，０００～３０，０００、より好ましくは１，５００～１０，０００の数平均分子量を有することが、摩耗耐久性の観点から好ましい。なお、かかる「数平均分子量」は、^１９Ｆ－ＮＭＲにより測定される値とする。

　上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）は、公知の方法により合成することができる。

　好ましい態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^ＦＡは式（ｆ１ａ）で表される基であり、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^ＦＢは式（ｆ２ｂ）で表される基である。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）及びフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）が、上記のフルオロポリエーテル基を有することにより、形成される表面処理層の摩耗耐久性と紫外線耐性が高くなる。

　より好ましい態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）において、Ｒ^ＦＡは式（ｆ１ａ）で表される基であり、Ｒ^Ｓ１は、式（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基であり、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）において、Ｒ^ＦＢは式（ｆ２ｂ）で表される基であり、Ｒ^Ｓ２は、式（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）で表される基である。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）及びフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）が、上記のフルオロポリエーテル基及び加水分解性シラン基を有することにより、形成される表面処理層の摩耗耐久性と紫外線耐性が高くなる。

　本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）の合計に対して、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）の含有量は、好ましくは５０ｍｏｌ％以上、より好ましくは６０ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは７０ｍｏｌ％以上である。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）の含有量を５０ｍｏｌ％以上とすることにより、形成される表面処理層の紫外線耐性が高くなる。

　本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）の合計に対して、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）の含有量は、好ましくは９５ｍｏｌ％以下、より好ましくは９０ｍｏｌ％以下、例えば８０ｍｏｌ％以上である。フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）の含有量の上限を上記の範囲とすることにより、形成される表面処理層の摩耗耐久性が高くなる。

　好ましい態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）とフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）の合計に対して、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）の含有量は、好ましくは５０～９５ｍｏｌ％、より好ましくは６０～９０ｍｏｌ％、さらに好ましくは７０～９０ｍｏｌ％である。

　上記表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）及びフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）（以下、まとめて「本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物」ともいう）に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。

　上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（１）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’－Ｒｆ^６　　　・・・（１）
　式中、Ｒｆ^５は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１～１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１－１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子又は水素原子を表し、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１－３パーフルオロアルキル基である。
　ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’及びｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１～３００、より好ましくは２０～３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’又はｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。上記繰り返し単位中に少なくとも１の分岐構造を有する。すなわち、上記繰り返し単位は、少なくとも１のＣＦ_３末端（具体的には、－ＣＦ_３、－Ｃ_２Ｆ_５等、より具体的には－ＣＦ_３）を有する。分岐構造を有する繰り返し単位としては、－（ＯＣ_４Ｆ_８）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）－、－（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）－、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））－、－（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））－；－（ＯＣ_３Ｆ_６）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）－及び－（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））－；－（ＯＣ_２Ｆ_４）－としては、－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））－を挙げることができる。

　上記一般式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（１ａ）及び（１ｂ）のいずれかで示される化合物（１種又は２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
　Ｒｆ^５－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｂ’’－Ｒｆ^６　　　　　　　　　・・・（１ａ）
　Ｒｆ^５－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’’－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’’－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））_ｃ’’－（ＯＣＦ_２）_ｄ’’－Ｒｆ^６　　　　　　　・・・（１ｂ）
　これら式中、Ｒｆ^５及びＲｆ^６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’及びｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’及びｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。－（ＯＣ_４Ｆ_８）－_、－（ＯＣ_３Ｆ_６）－は分岐構造を有する。

　上記含フッ素オイルは、１，０００～３０，０００の数平均分子量を有していてよい。特に、式（１ａ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００～８，０００であることが好ましい。かかる数平均分子量を有することにより、良好な摩擦耐久性を得ることができる。一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、３，０００～８，０００である。別の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、８，０００～３０，０００である。

　上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、例えば０～５００質量部、好ましくは０～１００質量部、より好ましくは１～５０質量部、さらに好ましくは１～５質量部で含まれ得る。

　上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び含フッ素オイルの合計量に対して、例えば０～３０モル％、好ましくは０～２０モル％、より好ましくは０～１０モル％で含まれ得る。

　また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’－Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ_５－１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’－Ｆで表される化合物及びクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ_１－１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。

　含フッ素オイルは、表面処理層の摩耗耐久性を向上させるのに寄与する。

　上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状又は環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイル及び変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

　上記表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０～５０質量部、好ましくは０～５質量部で含まれ得る。

　シリコーンオイルは、表面処理層の摩耗耐久性を向上させるのに寄与する。

　上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

　触媒は、上記含フッ素シラン化合物の加水分解及び脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

　上記他の成分としての低級アルコールとしては、炭素数１～６のアルコール化合物が挙げられる。

　上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。

　上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。

　上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物しては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げられる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、又はテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。

　他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

　一の態様において、上記表面処理剤は、上記他の成分である含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物を含まない。

　本態様の組成物（例えば、表面処理剤）は、摩擦耐久性の良好な硬化層の形成に寄与し得る。さらに、本態様の組成物を用いて形成される硬化層の摩擦耐久性が良好になり、硬化層の表面における滑り性が良好になる。また、本態様の組成物では、Ｒ^Ｆ部分の二次構造がらせん構造をとりやすく、単位面積当たりのポリマー密度やシランカップリング剤の架橋密度が大きくなるため、硬化層の強度が高くなると考えられる。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、及び含フッ素オイルを含む。

　一の態様において、本開示の表面処理剤は、本開示のフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含み、上記他の成分である、含フッ素オイルを含まない（例えば、含フッ素オイルの含有量が、表面処理剤１００質量部に対して、１質量部以下であり、より具体的には、０質量部である）。

　本開示の表面処理剤には、必要に応じて、さらに、加水分解縮合触媒、例えば、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ－ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸、フッ素変性カルボン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸など）を添加してもよい。これらの中では、特に酢酸、テトラｎ－ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫、フッ素変性カルボン酸などが望ましい。

　上記加水分解縮合触媒の添加量は触媒量であり、通常、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物及び／又はその部分（加水分解）縮合物１００質量部に対して０．０１～５質量部、特に０．１～１質量部である。

　本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

　本開示の表面処理剤は、防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される。

　上記コーティング剤（以下、「本開示のコーティング剤」ともいう）は、本開示の組成物と液状媒体とを含む。本開示のコーティング剤は、液状であればよく、溶液であってもよく、分散液であってもよい。

　本開示のコーティング剤は、本開示の組成物を含んでいればよく、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）等の製造工程で生成した副生成物等の不純物を含んでもよい。

　本開示の組成物の濃度は、本開示のコーティング剤中、０．００１～５０質量％が好ましく、０．０５～３０質量％がより好ましく、０．０５～１０質量％がさらに好ましく、０．１～１質量％が特に好ましい。

　液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を含んでもよい。

　フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。

　フッ素化アルカンとしては、炭素数４～８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ_６Ｆ_１３Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－２０００）、Ｃ_６Ｆ_１３Ｃ_２Ｈ_５（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＣ－６０００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＨＦＣＨＦＣＦ_３（ケマーズ社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。

　フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。

　フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４～１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｈ（旭硝子社製、アサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７１００）、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７２００）、Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）７３００）等が挙げられる。

　フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。

　フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３－テトラフルオロプロパノール、２，２，２－トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。

　非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。

　本開示のコーティング剤は、液状媒体を５０～９９．９９９質量％含むことが好ましく、７０～９９．５質量％含むことがより好ましく、９０～９９．５質量％含むことがさらに好ましく、９９～９９．９質量％含むことが特に好ましい。

　本開示のコーティング剤は、本開示の組成物および媒体の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分を含んでいてもよい。

　その他の成分としては、たとえば、加水分解性シリル基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒等の公知の添加剤が挙げられる。

　本開示のコーティング剤における、その他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。

　本開示のコーティング剤の固形分濃度は、０．００１～５０質量％が好ましく、０．０５～３０質量％がより好ましく、０．０５～１０質量％がさらに好ましく、０．０１～１質量％が特に好ましい。

　コーティング剤の固形分濃度は、加熱前のコーティング剤の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。

　本開示の組成物の濃度は、固形分濃度と、本開示の組成物および溶媒等の仕込み量とから算出可能である。

　本開示の表面処理剤は、特に、タッチパネル等の表示入力装置のコート；透明なガラス製または透明なプラスチック製部材の表面保護コート、キッチン用防汚コート；電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿コートや防汚コート；トイレタリー用防汚コート；導通しながら撥液が必要な部材へのコート；熱交換機の撥水・防水・滑水コート；振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話（例えば、スマートフォン）、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器のコート（例えば、表示部等に使用するガラスまたはフィルムに対するコート、ならびに、表示部以外の外装部分に使用するガラス、フィルムまたは金属に対するコート）、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材のコート、配線板用防水コーティング、熱交換機の撥水・防水・滑水コート、太陽電池の撥水コート、プリント配線板の防水・撥水コート、電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水コート、送電線の絶縁性向上コート、各種フィルタの防水・撥水コート、電波吸収材や吸音材の防水性コート、風呂、厨房機器、トイレタリー用防汚コート、振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦コート、機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車等の輸送機器用部品、工具等の表面保護コートなどが挙げられる。

　以下、本開示の物品について説明する。

　本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

　本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然又は合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、衛生用品、任意の適切な材料で構成され得る。

　例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラス又は透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（又は膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層及び多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｔａ_３Ｏ_５，Ｎｂ_２Ｏ_５、ＨｆＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２及び／又はＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ－ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、及び液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

　上記基材の形状は、特に限定されず、例えば、板状、フィルム、その他の形態であってよい。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途及び具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

　一の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜又は熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入又は増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素－炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

　別の態様において、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ－Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

　好ましい態様において、上記基材はガラスである。かかるガラスとしては、サファイアガラス、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、及び化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。

　本開示の物品は、上記基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成することにより製造することができる。

　本開示の表面処理剤の層形成は、上記表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法及び乾燥被覆法を使用でき、好ましくは湿潤被覆法が使用される。

　湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング及び類似の方法が挙げられる。

　乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビーム及び類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ－ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤ及び類似の方法が挙げられる。

　更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

　表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解及び脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

　触媒には、任意の適切な酸又は塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

　本開示の表面処理剤を用いて形成された表面処理層は、本開示の表面処理剤に含まれるフルオロポリエーテル基含有化合物を実質的に含有しない。

　従って、本開示は、基材と、該基材上に形成された表面処理層とを含む物品であって、前記表面処理層は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物から形成され、フルオロポリエーテル基含有化合物を実質的に含有しない、物品を提供する。

　本開示の物品に含まれる表面処理層は、高い摩耗耐久性を有する。また、上記表面処理層は、高い摩耗耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（又は潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、耐薬品性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

　従って、本開示はさらに、上記表面処理層を最外層に有する光学材料にも関する。

　光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；ＦｉｅｌｄＥｍｉｓｓｉｏｎＤｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、又はそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

　本開示の物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ－ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ－Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

　また、本開示の物品は、医療機器又は医療材料であってもよい。

　上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１～５０ｎｍ、１～３０ｎｍ、好ましくは１～１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、摩耗耐久性及び防汚性の点から好ましい。

　以上、本開示の物品及びその製造方法について詳述した。なお、本開示の物品及び物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

　以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。また、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位の存在順序は任意である。

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）として、下記化合物（ａ１）及び（ａ２）を準備した。
・化合物（ａ１）及び（ａ２）
　ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ[ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ]_ｎＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３
（化合物（ａ１）：ｎ＝１２；化合物（ａ２）：ｎ＝２４）

　フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）として、下記化合物（ｂ１）～（ｂ４）を準備した。
・化合物（ｂ１）
　［（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２］_３ＣＣＨ_２ＮＨＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３
（ｍ＝１８、ｎ＝２９）
・化合物（ｂ２）
　［（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２］_２ＮＣＯＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＯＮ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２
（ｍ＝１８、ｎ＝２９）
・化合物（ｂ３）
　［（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２］_２ＮＣＯＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＯＮ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_２
（ｍ＝１８、ｎ＝２９）
・化合物（ｂ４）
　［（ＣＨ_３Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２］_３ＣＣＨ_２ＮＨＣＯＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＯＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３
（ｍ＝１８、ｎ＝２９）

　さらに、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）として、下記化合物（ｂ５）を合成した。

　（合成例１）
　ＨＯＯＣＣＦ_２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ－ＣＦ_２ＣＯＯＨ（ｍ≒２０、ｎ≒３３）を２．０ｇ、トルエンを１５ｇ、ｍ－ヘキサフルオロキシレンを１５ｇ、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを０．２３ｍＬ、それぞれ加えた後、塩化チオニル０．６５ｍＬを仕込み、６０℃に加熱し５時間攪拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、ヨウ化リチウム４．０ｇを加え、２２０℃に加熱し１２時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のポリエーテル基含有化合物（ｂ５’）１０．５ｇを得た。

　ポリエーテル基含有化合物（ｂ５’）

（ｍ≒２０、ｎ≒３３）

（合成例２）
　合成例１で得られたポリエーテル基含有化合物（ｂ５’）ＩＣＦ_２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｎ－ＣＦ_２Ｉ（ｍ≒２０、ｎ≒３３）を５．０ｇ、ｍ－ヘキサフルオロキシレンを５．０ｇ、トリクロロビニルシランを１．３ｍＬ、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシドを０．４０ｍＬ、それぞれ加えた後、１３０℃に加熱し１０時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、亜鉛０．８ｇ及びテトラデカフルオロヘキサン５．０ｇを加え、氷浴で冷却し、メタノール６．３ｍＬを加えた後、４５℃で８時間攪拌した。その後、精製を行うことにより、下記のポリエーテル基含有化合物（ｂ５）３．６ｇを得た。

ポリエーテル基含有化合物（ｂ５）

（ｍ≒２０、ｎ≒３３、ｋ≒３）

　対照化合物として、下記化合物（ｃ１）を準備した。
・化合物（ｃ１）
　ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｍ（ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＯＮＨＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３］_３
（ｍ＝１８、ｎ＝２９）

［表面処理層の形成］
　上記化合物を組み合わせ、ノベック７２００（スリーエム社製）に溶解させて、合計濃度２０ｗｔ％になるように、表面処理剤を調製した。調製した表面処理剤を、化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着法の条件は、抵抗加熱式蒸着機（シンクロン製）、チャンバーサイズ１，９００ｍｍφ、真空度５．０Ｅ－０５、電流値２４０Ａ、電圧１０Ｖ、基材温度４０℃であった。次に、蒸着した化学強化ガラスを、温度１５０℃の雰囲気下で３０分静置し、その後室温まで放冷させ、ガラス基材上に表面処理層を形成した。化合物の組み合わせとその組成は、下記表に示す。なお、化合物（ａ１）と（ｂ２）、化合物（ａ２）と（ｂ２）、化合物（ａ１）と（ｂ１）、化合物（ａ１）と（ｂ３）、化合物（ａ１）と（ｂ４）、及び化合物（ａ１）と（ｂ５）の組み合わせは実施例であり、化合物（ｃ１）と（ｂ２）の組み合わせは比較例である。

［評価］
（静的接触角の測定）
　静的接触角は、水平に置いた基板にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。測定は、全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いて行った。

（初期評価）
　まず、初期評価として、表面処理層を形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。

（消しゴム耐久性試験）
　上記で形成された表面処理層について、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で往復回数１０００回後に水の静的接触角を測定した。
　消しゴム：Ｒａｂｅｒ　Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
　接地面積：６ｍｍφ
　移動距離（片道）：４０ｍｍ
　移動速度：３，６００ｍｍ／分
　荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ
　温度：２５℃
　湿度：４０％ＲＨ

（ＵＶ耐久性試験）
　上記で形成された表面処理層について、４８時間ＵＶ照射後の水の静的接触角を測定した。ＵＶ照射は、ＵＶＢ－３１３ランプ（Ｑ－Ｌａｂ社製、３１０ｎｍにおいて放射照度０．６３Ｗ／ｍ^２）を用い、基材のブラックパネル温度は、６３度で、ランプと表面処理層との距離を５ｃｍとして行った。

　上記の結果から、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）及びフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を組み合わせることにより、摩耗耐久性及びＵＶ耐久性が高い表面処理層を形成できることが確認された。

　本開示の表面処理剤は、種々多様な用途に好適に利用され得る。

Claims

　下記式（１）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１－Ｒ^ＦＡ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－１６アルキル基であり；
　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、分岐構造を有するフルオロポリエーテル基であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^Ｓ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基であり；
　Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
　αは、１～９の整数であり；
　βは、１～９の整数である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、及び
　下記式（２）：

［式中：
　Ｒ^Ｆ２は、－Ｒｆ^２ _ｐ－Ｒ^ＦＢ－Ｏ_ｑ－であり；
　Ｒｆ^２は、１個又はそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１－６アルキレン基であり；
　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、直鎖のフルオロポリエーテル基であり；
　ｐは、０又は１であり；
　ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０又は１であり；
　Ｒ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基を有するＳｉ原子を含む基であり；
　Ｘ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は２～１０価の有機基であり；
　γは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）
を含む、表面処理剤。
　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｘ^Ｆ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
　Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。］
で表される基であって、少なくとも１つの分岐構造を有する基であり、
　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式：
－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｘ^Ｆ _６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－
［式中、
　ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は少なくとも１であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、
　Ｘ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。］
で表される基であって、直鎖の基である
請求項１に記載の表面処理剤。
　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基であって、少なくとも１つの分岐構造を有する基である、請求項１又は２に記載の表面処理剤。
　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）、（ｆ５）又は（ｆ６）：
　　－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－　　　（ｆ１）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
　　－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－　　（ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり；
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から選択される２又は３つの基の組み合わせであり；
　ｇは、２～１００の整数である。］、
　　－（Ｒ^６－Ｒ^７）_ｇ－Ｒ^ｒ－（Ｒ^７’－Ｒ^６’）_ｇ’－　　　（ｆ４）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　Ｒ^６’は、ＯＣＦ_２又はＯＣ_２Ｆ_４であり、
　Ｒ^７’は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０及びＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２又は３つの基の組み合わせであり、
　ｇは、２～１００の整数であり、
　ｇ’は、２～１００の整数であり、
　Ｒ^ｒは、

（式中、＊は、結合位置を示す。）
である。］；
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ５）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
　－（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ－（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ－（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ－（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ－（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　　　（ｆ６）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基であって、直鎖の基である、請求項１～３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｒ^ＦＡは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１ａ）：
　　－（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ（ＣＦ_３））_ｅ－　　　（ｆ１ａ）
［式中、ｄは１～２００の整数であり、ｅは０又は１である。］、
で表される基である、請求項１～４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｒ^ＦＢは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ２ｂ）：
　　－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ－（ＯＣＦ_２）_ｆ－　（ｆ２ｂ）
［式中、ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～３０の整数であり；
　ｅ及びｆは、それぞれ独立して、１～２００の整数であり；
　ｃ、ｄ、ｅ及びｆの和は、１０～２００の整数であり；
　添字ｃ、ｄ、ｅ又はｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される基である、請求項１～５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｒ^Ｓ１及びＲ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は二価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１、ｑ１、及びｒ１の合計は、ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１単位において、３であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１’、ｑ１’、及びｒ１’の合計は、ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’単位において、３であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１”及びｒ１”の合計は、ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”単位において、３であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１単位において、３であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ２、ｑ２、及びｒ２の合計は、ＳｉＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２単位において、３であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２’、及びｒ２’の合計は、ＳｉＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’単位において、３であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２単位において、３であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。］
で表される基である、請求項１～６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｒ^Ｓ１及びＲ^Ｓ２は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）又は（Ｓ５）：

［式中：
　Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合又は二価の有機基であり；
　Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子又は－Ｘ^１１－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１であり；
　Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１～６のアルキレン基又は炭素数１～６のアルキレンオキシ基であり；
　ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２以上の整数であり；
　Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１－ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
　Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１’－ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
　Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１、ｑ１、及びｒ１の合計は、ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１単位において、３であり；
　Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^１”－ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
　Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ１’、ｑ１’、及びｒ１’の合計は、ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’単位において、３であり；
　Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ１”及びｒ１”の合計は、ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”単位において、３であり；
　Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ１、ｌ１及びｍ１の合計は、ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１単位において、３であり；
　Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２－ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
　Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^２’－ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
　Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｐ２、ｑ２、及びｒ２の合計は、ＳｉＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２単位において、３であり；
　Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｑ２’、及びｒ２’の合計は、ＳｉＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’単位において、３であり；
　Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基又は加水分解性基であり；
　Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子又は１価の有機基であり；
　ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^３－ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３－ｎ２であり；
　Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基又は１価の有機基であり；
　ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０～３の整数であり；
　ｋ２、ｌ２及びｍ２の合計は、ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２単位において、３であり；
　Ｒ^ｇ１及びＲ^ｈ１は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｚ^４－ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３－ｎ１、－Ｚ^４－ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１、又は－Ｚ^４－ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２であり；
　Ｚ^４は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子又は二価の有機基であり；
　ただし、式（Ｓ１）、（Ｓ３）、（Ｓ４）及び（Ｓ５）中、水酸基又は加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。］
で表される基である、請求項１～７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　α、β、及びγは、１である、請求項１～８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　Ｘ^Ａ及びＸ^Ｂは、それぞれ独立して、単結合又は下記式：
　　　－（Ｒ^５１）_ｐ５－（Ｘ^５１）_ｑ５－
［式中：
　Ｒ^５１は、単結合、－（ＣＨ_２）_ｓ５－又はｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基であり、
　ｓ５は、１～２０の整数であり、
　Ｘ^５１は、－（Ｘ^５２）_ｌ５－であり、
　Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、ｏ－、ｍ－もしくはｐ－フェニレン基、－ＣＯ－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５－Ｓｉ（Ｒ^５３）_２－、－ＣＯＮＲ^５４－、－Ｏ－ＣＯＮＲ^５４－、－ＮＲ^５４－及び－（ＣＨ_２）_ｎ５－からなる群から選択される基であり、
　Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、一価の有機基であり、
　Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、又は一価の有機基であり、
　ｍ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～１００の整数であり、
　ｎ５は、各出現においてそれぞれ独立して、１～２０の整数であり、
　ｌ５は、１～１０の整数であり、
　ｐ５は、０又は１であり、
　ｑ５は、０又は１であり、
　ここに、ｐ５及びｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５又はｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である。］
で表される基である、請求項１～９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）と前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）の合計に対して、前記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）の含有量は、５０ｍｏｌ％以上である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　防汚性コーティング剤又は防水性コーティング剤として使用される、請求項１～１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　湿潤被覆用である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
　基材と、該基材上に、請求項１～１３のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
　光学部材である、請求項１４に記載の物品。