JP2021055047A - 表面処理剤 - Google Patents

Abstract

【課題】より良好な摩擦耐久性を有する表面処理層の形成に寄与し得る表面処理剤の提供。【解決手段】式（１ａ）または（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物、および式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を含む表面処理剤。式中、各記号は、明細書中の記載と同意義である。【選択図】なし

Description

本開示は、表面処理剤に関する。

ある種の含フッ素シラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解性基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１、２）。

特開２０１４−２１８６３９号公報 特開２０１７−０８２１９４号公報

上記のような表面処理剤には、より良好な摩擦耐久性を有する表面処理層の形成に寄与し得ることが求められ得る。

本開示は、以下の［１］〜［１８］を提供するものである。
［１］
下記式（１ａ）または（１ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基に結合したＳｉ原子を有する１価の基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、
下記式（２）：

［式中：
Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、アミノ基を含有する１価の有機基であり；
Ｒ^８１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^８２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびアミノ基を含有せず；
ｓ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｓ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｓ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
で表されるアミノ基含有シラン化合物、および
下記式（３）：

［式中：
Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する１価の有機基であり；
Ｒ^９１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^９２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびエポキシ基を含有せず；
ｔ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｔ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｔ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
で表されるエポキシ基含有シラン化合物、
を含む表面処理剤。
［２］
下記式（１ａ）または（１ｂ）：

［式中：
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
ｐは、０または１であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基に結合したＳｉ原子を有する１価の基であり；
αは、１〜９の整数であり；
βは、１〜９の整数であり；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、
下記式（２）：

［式中：
Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、アミノ基を含有する１価の有機基であり；
Ｒ^８１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^８２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびアミノ基を含有せず；
ｓ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｓ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｓ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
で表されるアミノ基含有シラン化合物、および
下記式（３）：

［式中：
Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する１価の有機基であり；
Ｒ^９１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^９２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびエポキシ基を含有せず；
ｔ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｔ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｔ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
で表されるエポキシ基含有シラン化合物、
を混合して得られる表面処理剤。
［３］
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中、
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である、［１］または［２］に記載の表面処理剤。
［４］
ｆに対するｅの比が０．９未満である、［１］〜［３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［５］
Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される、［１］〜［４］のいずれか１つに記載の表面処理剤
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
［６］
Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：

［式中：
Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子であり；
Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基であり；
Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１’−ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１”−ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２’−ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。］
で表される基である、［１］〜［５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［７］
α、βおよびγは１であり、Ｘ^Ａは２価の有機基である、［１］〜［６］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［８］
Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、−Ｒ^Ｎ１−ＮＨＲ^Ｎ２（式中、Ｒ^Ｎ１は、２価の有機基であり、Ｒ^Ｎ２は、水素原子またはＣ_１−５のアルキル基である。）で表される［１］〜［７］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［９］
Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、−Ｒ^Ｅ１Ｘ^Ｅ（式中、Ｒ^Ｅ１は、２価の有機基であり、Ｘ^Ｅは、エポキシ基、または脂環式エポキシ基である。）で表される、［１］〜［８］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１０］
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部含む、［１］〜［９］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１１］
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部含む、［１］〜［１０］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１２］
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１ａ）で表される化合物である、［１］〜［１１］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１３］
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、［１］〜［１２］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１４］
さらに溶媒を含む、［１］〜［１３］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１５］
防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、［１］〜［１４］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１６］
湿潤被覆法用である、［１］〜［１５］のいずれか１つに記載の表面処理剤。
［１７］
基材と、該基材の表面に、［１］〜［１６］のいずれか１つに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
［１８］
光学部材である、［１７］に記載の物品。

本開示は、より良好な摩擦耐久性を有する表面処理層の形成に寄与し得る表面処理剤を提供することができる。

本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基またはその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、有機基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、Ｃ_１−２０炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において、「加水分解性基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。

（表面処理剤）
本開示の表面処理剤は、一の態様において、
下記式（１ａ）または（１ｂ）：

で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、
下記式（２）：

で表されるアミノ基含有シラン化合物、および
下記式（３）：

で表されるエポキシ基含有シラン化合物、
を含む。

（フルオロポリエーテル基含有シラン化合物）
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、下記式（１ａ）または（１ｂ）で表される。

上記式（１ａ）において、Ｒ^Ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式（１ｂ）において、Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−である。

上記式において、Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基における「Ｃ_１−１６アルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６アルキル基、特にＣ_１−３アルキル基である。

上記Ｒｆ^１は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−１６アルキル基であり、より好ましくはＣＦ_２Ｈ−Ｃ_１−１５フルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基である。

上記Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、特にＣ_１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_３、−ＣＦ_２ＣＦ_３、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３である。

上記式において、Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基である。

上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基における「Ｃ_１−６アルキレン基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３アルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３アルキレン基である。

上記Ｒｆ^２は、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されているＣ_１−６アルキレン基であり、より好ましくはＣ_１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキレン基である。

上記Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキレン基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−３パーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、または−ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−である。

上記式において、ｐは、０または１である。一の態様において、ｐは０である。別の態様においてｐは１である。

上記式において、ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１である。一の態様において、ｑは０である。別の態様においてｑは１である。

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、２価のフルオロポリエーテル基である。

Ｒ^Ｆは、好ましくは、式：
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
［式中：
Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
で表される基である。

Ｒ^Ｆａは、好ましくは、水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくは、フッ素原子である。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、好ましくは、それぞれ独立して、０〜１００の整数であってもよい。

ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは２００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは６０以下であり、例えば５０以下または３０以下であってもよい。

これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよい。例えば、上記繰り返し単位は、−（ＯＣ_６Ｆ_１２）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_５Ｆ_１０）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−等であってもよい。−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−（即ち、上記式中、Ｒ^Ｆａはフッ素原子である）は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよい。

一の態様において、上記繰り返し単位は直鎖状である。上記繰り返し単位を直鎖状とすることにより、表面処理層の表面滑り性、摩擦耐久性等を向上させることができる。

一の態様において、上記繰り返し単位は分枝鎖状である。上記繰り返し単位を分枝鎖状とすることにより、表面処理層の動摩擦係数を大きくすることができる。

一の態様において、Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）〜（ｆ５）のいずれかで表される基である。
−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］；
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］；
−（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
ｇは、２〜１００の整数である。］；
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］

上記式（ｆ１）において、ｄは、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０、例えば２５〜３５の整数である。上記式（ｆ１）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−または−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）_ｄ−で表される基であり、より好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−で表される基である。

上記式（ｆ２）において、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０〜２００の整数である。また、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上であり、例えば１５以上または２０以上であってもよい。一の態様において、上記式（ｆ２）は、好ましくは、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｄ−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基である。別の態様において、式（ｆ２）は、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよい。

上記式（ｆ３）において、Ｒ^６は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４である。上記（ｆ３）において、Ｒ^７は、好ましくは、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、より好ましくは、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から選択される基である。ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６およびＯＣ_４Ｆ_８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_３Ｆ_６−、−ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_３Ｆ_６ＯＣ_２Ｆ_４−、および−ＯＣ_４Ｆ_８ＯＣ_２Ｆ_４ＯＣ_２Ｆ_４−等が挙げられる。上記式（ｆ３）において、ｇは、好ましくは３以上、より好ましくは５以上の整数である。上記ｇは、好ましくは５０以下の整数である。上記式（ｆ３）において、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、上記式（ｆ３）は、好ましくは、−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_３Ｆ_６）_ｇ−または−（ＯＣ_２Ｆ_４−ＯＣ_４Ｆ_８）_ｇ−である。

上記式（ｆ４）において、ｅは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

上記式（ｆ５）において、ｆは、好ましくは、１以上１００以下、より好ましくは５以上１００以下の整数である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は、好ましくは５以上であり、より好ましくは１０以上、例えば１０以上１００以下である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ１）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ２）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ３）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ４）で表される基である。

一の態様において、上記Ｒ^Ｆは、上記式（ｆ５）で表される基である。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２〜２であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．９未満であり、特に好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる表面処理層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、表面処理層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。なお、この場合、ｆは１以上の整数である。

一の態様において、ｅ／ｆ比は、好ましくは、１．０以上、例えば１．１以上、１．３以上であってもよい。ｅ／ｆ比は、好ましくは１０．０以下、９．０以下、より好ましくは５．０以下、さらに好ましくは２．０以下、特に好ましくは１．５以下である。ｅ／ｆ比は、例えば、１．０〜１０．０、具体的には１．０〜５．０、より具体的には１．０〜２．０、さらに具体的には１．０〜１．５を挙げることができる。

一の態様において、ｅ／ｆ比は、１．０〜１．２の範囲にあってもよい。

ｅ／ｆ比が低くなり過ぎると、本開示の表面処理剤を用いて形成される表面処理層（即ち、硬化層）の加水分解性が高くなり、該表面処理層の耐久性が低くなることがある。ｅ／ｆ比が高くなりすぎると、本開示の表面処理剤を用いて形成される表面処理層の動摩擦係数が高くなり、十分な摩擦耐久性を有する表面処理層が得られないことがある。

上記Ｒ^Ｆにおいて、ｅ／ｆ比は、０．９未満、好ましくは０．８以下、０．７以下であり、０．６５以下であってもよい。ｅ／ｆ比は、例えば０．２以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、０．５５以上である。ｅ／ｆ比としては、例えば、０．２以上０．９未満、具体的には０．４以上０．８以下、より具体的には０．５以上０．８以下を挙げることができる。上記のようなｅ／ｆ比を有することにより、本開示の表面処理剤は、より良好な滑り性を有する表面処理層を形成し得る。

一の態様において、ｅ／ｆ比は、０．４以上０．７以下であってもよく、０．５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．７以下であってもよく、０．５５以上０．６５以下であってもよい。

上記フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。本明細書において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２の数平均分子量は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。

別の態様において、Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基に結合したＳｉ原子を有する１価の基である。

好ましい態様において、Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：

で表される基である。

上記式中、Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^１１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記式中、Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^１２において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ１）または（Ｓ２）で表される基である場合、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端のＲ^Ｓｉ部分（以下、単に式（１ａ）および式（１ｂ）の「末端部分」ともいう）において、ｎ１が１〜３である（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

上記式中、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基である。かかる２価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキレン基である。かかるＣ_１−２０アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または直鎖のＣ_１−６アルキレン基であり、好ましくは単結合または直鎖のＣ_１−３アルキレン基、より好ましくは単結合または直鎖のＣ_１−２アルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖のＣ_１−２アルキレン基である。

上記式中、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基である。かかるＣ_１−２０アルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。

好ましい態様において、Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または直鎖のＣ_１−６アルキル基であり、好ましくは水素原子または直鎖のＣ_１−３アルキル基、好ましくは水素原子またはメチル基である。

上記式中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数である。

好ましい態様において、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜６の整数である。

上記式中、Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子である。かかるハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。好ましい態様において、Ｒ^１４は、水素原子である。

上記式中、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基である。

一の態様において、Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基である。

好ましい態様において、Ｒ^１５は、単結合である。

一の態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１−ａ）である。

［式中、
Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、およびｎ１は、上記式（Ｓ１）の記載と同意義であり；
ｔ１およびｔ２は、各出現においてそれぞれ独立して、１以上の整数である。］

好ましい態様において、式（Ｓ１）は、下記式（Ｓ１−ｂ）である。

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｘ^１１、ｎ１およびｔは、上記式（Ｓ１）の記載と同意義である］

上記式中、Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１である。

上記Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｚ^１が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ^１−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ１−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ２−（式中、ｚ１は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ３−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−（式中、ｚ３は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である。）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ３−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４−である。Ｚ^１がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^１は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１’−ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’である。

上記Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１’として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｚ^１’が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ^１’−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１’は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ１’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ２’−（式中、ｚ１’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である、好ましくは、ｚ１’とｚ２’の合計が１以上）または、−（ＣＨ_２）_ｚ３’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４’−（式中、ｚ３’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である好ましくは、ｚ３’とｚ４’の合計が１以上）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１’は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ３’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４’−である。Ｚ^１’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。好ましくは、ｚ３’は、０〜６の整数であり、ｚ４’は１〜６の整数である。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１’は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^１’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１”−ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”である。

上記Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^１”として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、２価の有機基である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｚ^１”が結合しているＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。即ち、式（Ｓ３）において、（Ｓｉ−Ｚ^１”−Ｓｉ）は、シロキサン結合を含まない。

上記Ｚ^１”は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ１”−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ２”−（式中、ｚ１”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ２”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ３”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４”−（式中、ｚ３”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ４”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^１”は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ３”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ４”−である。Ｚ^１”がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^１”は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^１”は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^１”は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２２”は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３”において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ１”とｒ１”の合計は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位において、３である。

ｑ１”は、（ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２２’は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ１’、ｑ１’およびｒ１’の合計は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１’は、０である。

一の態様において、ｐ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１’は、３である。

一の態様において、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１’は０であり、ｑ１’は、（ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^２２は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^２３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ１、ｑ１およびｒ１の合計は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位において、３である。

一の態様において、ｐ１は、０である。

一の態様において、ｐ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ１は、３である。

一の態様において、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ１は０であり、ｑ１は、（ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。

上記式中、Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^ｂ１は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記式中、Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^ｃ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｋ１、ｌ１およびｍ１の合計は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位において、３である。

一の態様において、ｋ１は、（ＳｉＲ^ａ１ _ｋ１Ｒ^ｂ１ _ｌ１Ｒ^ｃ１ _ｍ１）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。好ましい態様において、ｋ１は、３である。

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ３）で表される基である場合、好ましくは、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも２つ存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ３）で表される基は、−Ｚ^１−ＳｉＲ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１（式中、ｑ１は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１は、０〜２の整数である。）、−Ｚ^１’−ＳｉＲ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’（式中、ｑ１’は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１’は、０〜２の整数である。）、または−Ｚ^１”−ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”（式中、ｑ１”は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３であり、ｒ１”は、０〜２の整数である。）のいずれか１つを有する。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１’において、ｑ１”は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^２１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^２１において、ｐ１’は、０であり、ｑ１’は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、Ｒ^ａ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ａ１において、ｐ１は、０であり、ｑ１は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ３）において、ｋ１は２または３、好ましくは３であり、ｐ１は０であり、ｑ１は２または３、好ましくは３である。

Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２である。

Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）に結合する。

好ましい態様において、Ｚ^２は、２価の有機基である。

上記Ｚ^２は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６−（式中、ｚ５は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ７−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−（式中、ｚ７は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８−である。Ｚ^２がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^２は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２’−ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’である。

Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^２’として記載する構造は、右側が（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）に結合する。

上記Ｚ^２’は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６’−（式中、ｚ５’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−（式中、ｚ７’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^２’は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７’−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８’−である。Ｚ^２’がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^２’は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^２’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^２’は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２である。

上記Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基である。尚、以下Ｚ^３として記載する構造は、右側が（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）に結合する。

一の態様において、Ｚ^３は酸素原子である。

一の態様において、Ｚ^３は２価の有機基である。

上記Ｚ^３は、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｚ５”−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｚ６”−（式中、ｚ５”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ６”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−（ＣＨ_２）_ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−（式中、ｚ７”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｚ８”は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）である。かかるＣ_１−６アルキレン基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよいが、好ましくは直鎖である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいが、好ましくは非置換である。

好ましい態様において、Ｚ^３は、Ｃ_１−６アルキレン基または−（ＣＨ_２）_ｚ７”−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−、好ましくは−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｚ８”−である。Ｚ^３がかかる基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。

別の好ましい態様において、上記Ｚ^３は、Ｃ_１−３アルキレン基である。一の態様において、Ｚ^３は、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。別の態様において、Ｚ^３は、−ＣＨ_２ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基である。

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、加水分解性基である。

Ｒ^３４は、好ましくは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、またはハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲ^ｈ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ^ｈとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が挙げられる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。一の態様において、Ｒ^ｈは、メチル基であり、別の態様において、Ｒ^ｈは、エチル基である。

上記Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^３５において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

上記式中、ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、ｎ２が１〜３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位が少なくとも１つ存在する。即ち、かかる末端部分において、すべてのｎ２が同時に０になることはない。換言すれば、式（１ａ）および式（１ｂ）の末端部分において、水酸基または加水分解性基が結合したＳｉ原子が少なくとも１つ存在する。

ｎ２は、（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^３３’において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３’は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３’は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、上記ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｑ２’とｒ２’との合計は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位において、３である。

ｑ２’は、（ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’）単位毎にそれぞれ独立して、好ましくは１〜３の整数であり、より好ましくは２〜３、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２である。かかる−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^３３において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^３３は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^３３は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｐ２、ｑ２およびｒ２の合計は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位において、３である。

一の態様において、ｐ２は、０である。

一の態様において、ｐ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数、２〜３の整数、または３であってもよい。好ましい態様において、ｐ２’は、３である。

一の態様において、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、より好ましくは３である。

一の態様において、ｐ２は０であり、ｑ２は、（ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２）単位毎にそれぞれ独立して、１〜３の整数であり、好ましくは２〜３の整数、さらに好ましくは３である。

上記Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２である。かかる−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２は、上記Ｒ^３２’における記載と同意義である。

上記Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基である。かかる１価の有機基は、上記加水分解性基を除く１価の有機基である。

Ｒ^ｆ１において、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

一の態様において、Ｒ^ｆ１は、水酸基である。

別の態様において、Ｒ^ｆ１は、１価の有機基は、好ましくはＣ_１−２０アルキル基であり、より好ましくはＣ_１−６アルキル基である。

上記ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり、ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。尚、ｋ２、ｌ２およびｍ２の合計は、（ＣＲ^ｄ１ _ｋ２Ｒ^ｅ１ _ｌ２Ｒ^ｆ１ _ｍ２）単位において、３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉが式（Ｓ４）で表される基である場合、ｎ２が１〜３、好ましくは２または３、より好ましくは３である（ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２）単位は、式（１ａ）および式（１ｂ）の各末端部分において、２個以上、例えば２〜２７個、好ましくは２〜９個、より好ましくは２〜６個、さらに好ましくは２〜３個、特に好ましくは３個存在する。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２’が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２’において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^３２が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^３２において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、Ｒ^ｅ１が存在する場合、少なくとも１つの、好ましくは全てのＲ^ｅ１において、ｎ２は、１〜３の整数であり、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

好ましい態様において、式（Ｓ４）において、ｋ２は０であり、ｌ２は２または３、好ましくは３であり、ｎ２は、２または３、好ましくは３である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）または（Ｓ４）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ２）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表される基である。

一の態様において、Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表される基である。

上記式（１ａ）および（１ｂ）において、Ｘ^Ａは、主に撥水性および表面滑り性等を提供するフルオロポリエーテル部（Ｒ^Ｆ１およびＲ^Ｆ２）と基材との結合能を提供する部（Ｒ^Ｓｉ）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ^Ａは、式（１ａ）および（１ｂ）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、単結合であってもよく、いずれの基であってもよい。

上記式（１ａ）において、αは１〜９の整数であり、βは１〜９の整数である。これらαおよびβは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。αおよびβの和は、Ｘ^Ａの価数と同じである。例えば、Ｘ^Ａが１０価の有機基である場合、αおよびβの和は１０であり、例えばαが９かつβが１、αが５かつβが５、またはαが１かつβが９となり得る。また、Ｘ^Ａが２価の有機基である場合、αおよびβは１である。

上記式（１ｂ）において、γは１〜９の整数である。γは、Ｘ^Ａの価数に応じて変化し得る。即ち、γは、Ｘ^Ａの価数から１を引いた値である。

Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基である。

上記Ｘ^Ａにおける２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜８価の有機基である。一の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは２〜４価の有機基であり、より好ましくは２価の有機基である。別の態様において、かかる２〜１０価の有機基は、好ましくは３〜８価の有機基、より好ましくは３〜６価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合または２価の有機基であり、αは１であり、βは１である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、単結合または２価の有機基であり、γは１である。

一の態様において、Ｘ^Ａは３〜６価の有機基であり、αは１であり、βは２〜５である。

一の態様において、Ｘ^Ａは３〜６価の有機基であり、γは２〜５である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、αは１であり、βは２である。

一の態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、γは２である。

Ｘ^Ａが、単結合または２価の有機基である場合、式（１ａ）および（１ｂ）は、下記式（１ａ’）および（１ｂ’）で表される。

一の態様において、Ｘ^Ａは単結合である。

別の態様において、Ｘ^Ａは２価の有機基である。

一の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば、単結合または下記式：
−（Ｒ^５１）_ｐ５−（Ｘ^５１）_ｑ５−
［式中：
Ｒ^５１は、−（ＣＨ_２）_ｓ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ５−であり、
ｓ５は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^５１は、−（Ｘ^５２）_ｌ５−を表し、
Ｘ^５２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、−ＣＯＮＲ^５４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−、−ＮＲ^５４−および−（ＣＨ_２）_ｎ５−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^５３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ５は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ５は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ５は、０または１であり、
ｑ５は、０または１であり、
ここに、ｐ５およびｑ５の少なくとも一方は１であり、ｐ５またはｑ５を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の有機基が挙げられる。ここに、Ｒ^５１（典型的にはＲ^５１の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５１は、これらの基により置換されていない。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、−（Ｒ^５１）_ｐ５−（Ｘ^５１）_ｑ５−Ｒ^５２−である。Ｒ^５２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ５−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ５−である。ｔ５は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^５２（典型的にはＲ^５２の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。好ましい態様において、Ｒ^５２は、これらの基により置換されていない。

好ましくは、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^５１−Ｘ^５３−Ｒ^５２−、または
−Ｘ^５４−Ｒ^５２−
［式中、Ｒ^５１およびＲ^５２は、上記と同意義であり、
Ｘ^５３は、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−、
−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−Ｎ（Ｒ^５４）−、または
−ＣＯＮＲ^５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−
（式中、Ｒ^５３、Ｒ^５４およびｍ５は、上記と同意義であり、
ｕ５は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。）を表し、
Ｘ^５４は、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^５４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５４）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５４）_２−、
−ＣＯＮＲ^５４−（ＣＨ_２）_u５−Ｎ（Ｒ^５４）−、または
−ＣＯＮＲ^５４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^５４）_２−
（式中、各記号は、上記と同意義である。）
を表す。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−、
−Ｘ^５４−、または
−Ｘ^５４−（ＣＨ_２）_ｔ５−
［式中、Ｘ^５３、Ｘ^５４、ｓ５およびｔ５は、上記と同意義である。］
である。

より好ましくは、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−、または
−Ｘ^５４−（ＣＨ_２）_ｔ５−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

好ましい態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−
［式中、
Ｘ^５３は、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−であり、
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し、
ｓ５は、１〜２０の整数であり、
ｔ５は、１〜２０の整数である。］
であり得る。

一の態様において、上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、
単結合、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ５−、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ５−、
−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_u５−（Ｓｉ（Ｒ^５３）_２Ｏ）_ｍ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ５−、または
−Ｘ^ｆ５−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（ＣＨ_２）_u５−Ｓｉ（Ｒ^５３）_２−（Ｃ_ｖＨ_２ｖ）−
［式中、Ｒ^５３、ｍ５、ｓ５、ｔ５およびｕ５は、上記と同意義であり、ｖ５は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_ｖＨ_２ｖ）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、フッ素原子、Ｃ_１−３アルキル基およびＣ_１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。一の態様において、Ｘ^Ａは、非置換である。

尚、上記Ｘ^Ａは、各式の左側がＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合し、右側がＲ^Ｓｉに結合する。

一の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、−Ｏ−Ｃ_１−６アルキレン基以外であり得る。

別の態様において、Ｘ^Ａとしては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合し、Ｅは、Ｒ^Ｓｉに結合する。］

上記Ｘ^Ａの具体的な例としては、例えば：
単結合、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_５−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＯＮＨ−、
−ＯＣＯＮＨ−ＣＨ_２−、
−ＯＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＯＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＯＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＯＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＯＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＯＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、
−ＯＣＨ_２−、
−Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＯＣＦＨＣＦ_２−、

などが挙げられる。

さらに別の態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、式：−（Ｒ^１６）_ｘ１１−（ＣＦＲ^１７）_ｙ１１−（ＣＨ_２）_ｚ１１−で表される基である。式中、ｘ１１、ｙ１１およびｚ１１は、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ１１、ｙ１１およびｚ１１の和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

上記式中、Ｒ^１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ^１８−（式中、Ｒ^１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ^１８は、酸素原子または２価の極性基である。

上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ^１９）−、およびＣ（Ｏ）ＮＲ^１９−（これらの式中、Ｒ^１９は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。

上記式中、Ｒ^１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。

さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^Ａ基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＲ^Ｆ１またはＲ^Ｆ２に結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＲ^Ｓｉに結合し、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ_１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基または紫外線吸収基である。

ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。

紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。

好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、

が挙げられる。

この態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。

さらに別の態様において、Ｘ^Ａの例として、下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^２５、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して２〜６価の有機基であり、
Ｒ^２５は、少なくとも１つのＲ^Ｆ１に結合し、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲ^Ｓｉに結合する。］

一の態様において、上記Ｒ^２５は、単結合、Ｃ_１−２０アルキレン基、Ｃ_３−２０シクロアルキレン基、Ｃ_５−２０アリーレン基、−Ｒ^５７−Ｘ^５８−Ｒ^５９−、−Ｘ^５８−Ｒ^５９−、または−Ｒ^５７−Ｘ^５８−である。上記、Ｒ^５７およびＲ^５９は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ_１−２０アルキレン基、Ｃ_３−２０シクロアルキレン基、またはＣ_５−２０アリーレン基である。上記Ｘ^５８は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯＯ−である。

一の態様において、上記Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して、炭化水素、または炭化水素の端または主鎖中にＮ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１つの原子を有する基であり、好ましくは、Ｃ_１−６アルキル基、−Ｒ^３６−Ｒ^３７−Ｒ^３６−、−Ｒ^３６−ＣＨＲ^３８ _２−などが挙げられる。ここに、Ｒ^３６は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキル基、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ^３７は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＮまたはＯである。Ｒ^３８は、−Ｒ^４５−Ｒ^４６−Ｒ^４５−、−Ｒ^４６−Ｒ^４５−または−Ｒ^４５−Ｒ^４６−である。ここに、Ｒ^４５は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルキル基である。Ｒ^４６は、Ｎ、ＯまたはＳであり、好ましくはＯである。

この態様において、Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。

一の態様において、Ｒ^２５、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して２価の有機基であり、Ｒ^２５は、Ｒ^Ｆ１に結合し、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ、Ｒ^Ｓｉに結合する。本態様において、Ｘ^Ａは、３価の有機基であり、即ち、本態様において、式（１ａ）においてαは１、βは２、式（１ｂ）において、γは２である。各記号は、それぞれ上記と同意義である。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（化合物（１−ａ）と称することがある）は、
式（１ａ）で表される化合物であり；
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−で表され；
Ｒｆ^１は、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、好ましくは直鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、より好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキル基であり、例えばＣＦ_３ＣＦ_２基であり；
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式（ｆ２）、（ｆ４）、または（ｆ５）で表される基であり、好ましくは式（ｆ５）で表される基であり、例えば、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよく；
ｅ／ｆ比が、１．０〜２．０、好ましくは１．０〜１．５であり、より好ましくは１．０〜１．２であり；
ｐは、０または１であり；
Ｘ^Ａが、以下の基：

［式中、Ｒ^２５は、少なくとも１つのＲ^Ｆ１に結合し、Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ、少なくとも１つのＲ^Ｓｉに結合する。］
で表され；
Ｒ^２５は、−Ｒ^５７−Ｘ^５８−Ｒ^５９−、−Ｘ^５８−Ｒ^５９−、または−Ｒ^５７−Ｘ^５８−であり、好ましくは、−Ｒ^５７−Ｘ^５８−であり；
Ｒ^５７およびＲ^５９は、それぞれ独立して、−Ｒ^５６−、または−Ｒ^５６−Ｏ−Ｒ^５６−であり、好ましくは−Ｒ^５６−Ｏ−Ｒ^５６−であり；
Ｒ^５６は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｃ_１−３アルキレン基、例えば、メチレン基であり；
Ｘ^５８は、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−または−ＣＯＯ−であり、好ましくは−ＣＯ−であり；
上記Ｒ^２６およびＲ^２７は、それぞれ独立して、Ｃ_１−６アルキレン基であり、例えば、Ｃ_３アルキレン基であり；
Ｒ^Ｓｉが、式（Ｓ２）：

で表され；
式（Ｓ２）において、Ｒ^１１、Ｒ^１２およびｎ１は上記と同意義であり；
ｎ１は好ましくは３である。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（化合物（１−ｂ）と称することがある）は、
式（１ａ）または（１ｂ）、好ましくは（１ａ）で表される化合物であり；
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−で表され；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−で表され；
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり、好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキル基であり；
Ｒｆ^２は、Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式（ｆ２）、（ｆ４）、または（ｆ５）で表される基であり、好ましくは式（ｆ５）で表される基であり、例えば、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよく；
ｅ／ｆ比は、０．２以上０．９未満であり、０．４以上０．８以下であることが好ましく、例えば、０．５以上０．７以下、０．５５以上０．７以下、０．５５以上０．６５以下であってもよく；
ｐは、０または１であり、ｑは０または１であり；
Ｘ^Ａは、Ｃ_１−２０アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−、または−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−で表され；
Ｘ^５３は、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−であり、好ましくは−ＣＯＮＲ^５４−であり；
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｓ５は、１〜２０の整数であり；
ｔ５は、１〜２０の整数であり；
Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ３）で表され；
式（Ｓ３）においては、好ましくはｋ１が２または３、より好ましくは３；ｐ１は０；ｑ１は好ましくは２または３、より好ましくは３である。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（化合物（１−ｃ）と称することがある）は、
式（１ａ）または（１ｂ）、好ましくは（１ａ）で表される化合物であり；
Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−で表され；
Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−で表され；
Ｒｆ^１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり、好ましくはＣ_１−１６パーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖のＣ_１−６パーフルオロアルキル基、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキル基であり；
Ｒｆ^２は、Ｃ_１−６パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくはＣ_１−３パーフルオロアルキレン基であり；
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式（ｆ２）、（ｆ４）、または（ｆ５）で表される基であり、好ましくは式（ｆ５）で表される基であり、例えば、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよく；
ｅ／ｆ比は、０．２以上０．９未満であり、０．４以上０．８以下であることが好ましく、例えば、０．５以上０．７以下、０．５５以上０．７以下、０．５５以上０．６５以下であってもよく；
ｐは、０または１であり、ｑは０または１であり；
Ｘ^Ａは、Ｃ_１−２０アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−、または−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−で表され；
Ｘ^５３は、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−であり、好ましくは−ＣＯＮＲ^５４−であり；
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｓ５は、１〜２０の整数であり；
ｔ５は、１〜２０の整数であり；
Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ４）で表され；
式（Ｓ４）においては、ｋ２は０；ｌ２は好ましくは２または３、より好ましくは３；ｎ２は、好ましくは２または３、より好ましくは３である。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１ａ）で表される化合物である。

一の態様において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１ｂ）で表される化合物である。

一の態様において、本開示の表面処理剤中、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１ａ）で表される化合物および式（１ｂ）で表される化合物である。

本開示の表面処理剤中、式（１ａ）で表される化合物と式（１ｂ）で表される化合物との合計に対して、式（１ｂ）で表される化合物が、好ましくは０．１モル％以上３５モル％以下である。式（１ａ）で表される化合物と式（１ｂ）で表される化合物との合計に対する式（１ｂ）で表される化合物の含有量の下限は、好ましくは０．１モル％、より好ましくは０．２モル％、さらに好ましくは０．５モル％、さらにより好ましくは１モル％、特に好ましくは２モル％、特別には５モル％であり得る。式（１ａ）で表される化合物と式（１ｂ）で表される化合物との合計に対する式（１ｂ）で表される化合物の含有量の上限は、好ましくは３５モル％、より好ましくは３０モル％、さらに好ましくは２０モル％、さらにより好ましくは１５モル％または１０モル％であり得る。式（１ａ）で表される化合物と式（１ｂ）で表される化合物との合計に対する式（１ｂ）で表される化合物は、好ましくは０．１モル％以上３０モル％以下、より好ましくは０．１モル％以上２０モル％以下、さらに好ましくは０．２モル％以上１０モル％以下、さらにより好ましくは０．５モル％以上１０モル％以下、特に好ましくは１モル％以上１０モル％以下、例えば２モル％以上１０モル％以下または５モル％以上１０モル％以下である。式（１ｂ）で表される化合物をかかる範囲とすることにより、形成される表面処理層の摩擦耐久性をより向上させることができる。

上記の式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物は、例えば、上記特許文献１、特許文献２等に記載の方法により得ることができる。

（アミノ基含有シラン化合物）
アミノ基含有シラン化合物は、少なくとも１つのアミノ基を含有するシラン化合物であり、式（２）で表される。

上記Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、アミノ基を含有する１価の有機基である。上記Ｒ^Ｎは、少なくとも１つのアミノ基（例えば、１〜３のアミノ基）を有し得、例えば、１つのアミノ基を含有する。

Ｒ^Ｎにおいて、アミノ基は、少なくともＲ^Ｎの末端部分に存在することが好ましい。例えば、Ｒ^Ｎは、アミノ基を１つのみ有し、該アミノ基は、Ｒ^Ｎの末端部分のみに存在してもよい。ここで、末端部分とは、Ｒ^Ｎにおいて、Ｓｉ原子と結合する部分から最も離れた部分を示す。

即ち、Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、−Ｒ^Ｎ１−ＮＨＲ^Ｎ２で表されることが好ましい。

上記Ｒ^Ｎ１は、２価の有機基である。

Ｒ^Ｎ１は、直鎖状であってもよく、分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよい。

一の態様において、Ｒ^Ｎ１は、直鎖状である。

Ｒ^Ｎ１において、２価の有機基は、好ましくは−（Ｒ^Ｎ１１）_ｓ１１−（Ｘ^Ｎ１１）_ｓ１２−で表される。式中、Ｒ^Ｎ１１は、それぞれ独立して、Ｃ_１−５のアルキレン基であり；Ｘ^Ｎ１１は、それぞれ独立して、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｓ−であり；ｓ１１は０〜４の整数であり、ｓ１２は０〜４の整数であり；ｓ１１およびｓ１２の合計は１以上である。ここで、ｓ１１およびｓ１２を付して括弧でくくられた繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。

一の態様において、Ｒ^Ｎ１は、−Ｒ^Ｎ１１−で表される。ここで、Ｒ^Ｎ１は、Ｃ_１−５のアルキレン基であり、より好ましくはＣ_１−３のアルキレン基であり、例えばプロピレン基（より具体的には、ｎ−プロピレン基）である。

一の態様において、Ｒ^Ｎ１は、−Ｒ^Ｎ１１−Ｘ^Ｎ１１−Ｒ^Ｎ１１−で表される。Ｒ^Ｎ１１、およびＸ^Ｎ１１は上記と同意義であり、好ましくは、Ｘ^Ｎ１１は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−Ｓ−である。

上記Ｒ^Ｎ２は、水素原子またはＣ_１−５のアルキル基であり、好ましくは、水素原子またはＣ_１−４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。

上記Ｒ^８１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、好ましくは加水分解性基である。加水分解性基としては、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。

上記Ｒ^８２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。ただし、Ｒ^８２は、加水分解性基およびアミノ基を含有しない。

一の態様において、Ｒ^８２は、水素原子である。

一の態様において、Ｒ^８２は、１価の有機基である。

Ｒ^８２は、直鎖状であってもよく、分岐構造を有していてもよく、環状構造を有していてもよいが、好ましくは直鎖状である。Ｒ^８２は、好ましくは、Ｃ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

Ｒ^８２において、１価の有機基、具体的には、炭素原子に結合した水素原子は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。ここで、ハロゲン原子は、即ち、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、好ましくは、フッ素原子または塩素原子である。

一の態様においては、Ｒ^８２において、１価の有機基は、ハロゲン原子によって置換されていない。

ｓ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｓ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｓ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、ｓ１、ｓ２およびｓ３の合計は４である。

好ましくは、ｓ１は、１または２であり；ｓ２は、２または３であり；ｓ３は、０または１である。

一の態様において、ｓ１は、１であり；ｓ２は、２であり；ｓ３は、１である。

一の態様において、ｓ１は、１であり；ｓ２は、３であり；ｓ３は、０である。

一の態様において、式（２）で表される化合物は、分子構造中にフルオロポリエーテル基、具体的には、Ｒ^Ｆで表される基を含まない。

一の態様において、式（２）で表される化合物は、分子構造中にフッ素原子を含まない。

好ましくは、式（２）で表される化合物は、分子構造中にＳｉ原子を１つのみ有する。

式（２）で表される化合物としては、特に限定されないが、例えば以下の化合物を挙げることができる。
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
３−アミノプロピルトリエトキシシラン、
３−アミノプロピルジメトキシメチルシラン、
３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン。

（エポキシ基含有シラン化合物）
エポキシ基含有シラン化合物は、少なくとも１つのエポキシ基を含有するシラン化合物であり、式（３）で表される。

上記Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する１価の有機基である。上記Ｒ^Ｅは、少なくとも１つのエポキシ基（例えば、１〜２のエポキシ基）を有し得、好ましくは、１つのエポキシ基を含有する。

Ｒ^Ｅにおいて、１価の有機基は、上記と同意義である。

Ｒ^Ｅにおいて、エポキシ基は、少なくともＲ^Ｅの末端部分に存在することが好ましく、Ｒ^Ｅの末端部分のみに存在することがより好ましい。ここで、末端部分とは、Ｒ^Ｅにおいて、Ｓｉ原子と結合する部分から最も離れた部分を示す。

即ち、Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、−Ｒ^Ｅ１Ｘ^Ｅで表されることが好ましい。

上記Ｘ^Ｅは、エポキシ基、または脂環式エポキシ基である。

上記脂環式エポキシ基とは、３員環であるエポキシ基と、該３員環とは別の環構造とを有する。即ち、脂環式エポキシ基は、酸素原子および２つの炭素原子が３員の環構造（即ちエポキシ基）を構成し、３員環および該３員環とは別の環構造は、上記の３員環に含まれる２つの炭素原子を共有して結合する。該別の環構造としては、例えば、５〜１０員の環構造、５〜７員の環構造等を挙げることができる。

脂環式エポキシ基としては、例えば、エポキシシクロヘキシル基を挙げることができる。

Ｘ^Ｅは、好ましくは、エポキシ基である。

上記Ｒ^Ｅ１は、２価の有機基である。２価の有機基は、上記と同意義である。

Ｒ^Ｅ１は、直鎖状であってもよく、分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよい。

一の態様において、Ｒ^Ｅ１は、直鎖状である。

上記Ｒ^Ｅ１において、２価の有機基は、好ましくは−（Ｒ^Ｅ１１）_ｔ１１−（Ｘ^Ｅ１１）_ｔ１２−で表される。式中、Ｒ^Ｅ１１は、それぞれ独立して、Ｃ_１−５のアルキレン基であり；Ｘ^Ｅ１１は、それぞれ独立して、−ＮＨ−、−Ｏ−、または−Ｃ（＝Ｏ）−であり；ｔ１１は０〜４の整数であり、ｔ１２は０〜４の整数であり；ｔ１１およびｔ１２の合計は１以上である。ここで、ｔ１１およびｔ１２を付して括弧でくくられた繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。なお、本明細書において、Ｒ^Ｅ１として記載している構造は、左側がＳｉ原子に、右側がエポキシ基にそれぞれ結合する。

一の態様において、Ｒ^Ｅ１は、−Ｒ^Ｅ１１−Ｘ^Ｅ１１−Ｒ^Ｅ１１−で表される。Ｒ^Ｅ１１、およびＸ^Ｅ１１は、それぞれ上記と同意義である。

本態様において、好ましくは、Ｘ^Ｅ１１は−Ｏ−であり、Ｒ^Ｅ１１はそれぞれ独立して、Ｃ_１−３アルキレン基である。例えば、Ｒ^Ｅ１は、−（ＣＨ_２）_３−Ｏ−（ＣＨ_２）−である。

上記Ｒ^９１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり、好ましくは加水分解性基である。加水分解性基としては、−ＯＲ^ｈ、−ＯＣＯＲ^ｈ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ^ｈ _２、−ＮＲ^ｈ _２、−ＮＨＲ^ｈ、ハロゲン（これら式中、Ｒ^ｈは、置換または非置換のＣ_１−４アルキル基を示す）などが挙げられる。

上記Ｒ^９２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基である。ただし、Ｒ^９２は、加水分解性基およびエポキシ基を含有しない。

一の態様において、Ｒ^９２は、水素原子である。

一の態様において、Ｒ^９２は、１価の有機基である。

Ｒ^９２において、１価の有機基として、例えば、Ｃ_１−４アルキル基を挙げることができる。これらの構造は、直鎖状であってもよく、分岐構造を有していてもよく、環状構造を有していてもよいが、好ましくは直鎖状である。Ｒ^９２は、好ましくは、Ｃ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基である。

Ｒ^９２において、１価の有機基、具体的には、炭素原子に結合した水素原子は、ハロゲン原子により置換されていてもよい。ここで、ハロゲン原子は、即ち、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であり、好ましくは、フッ素原子または塩素原子である。

一の態様においては、Ｒ^９２において、１価の有機基は、ハロゲン原子によって置換されていない。

ｔ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｔ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｔ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、ｔ１、ｔ２およびｔ３の合計は４である。

好ましくは、ｔ１は、１または２であり；ｔ２は、２または３であり；ｔ３は、０または１である。

一態様において、ｔ１は、１であり；ｔ２は、３であり；ｔ３は、０である。

一態様において、ｔ１は、１であり；ｔ２は、２であり；ｔ３は、１である。

一の態様において、式（３）で表される化合物は、分子構造中にフルオロポリエーテル基、具体的には、Ｒ^Ｆで表される基を含まない。

一の態様において、式（３）で表される化合物は、分子構造中にフッ素原子を含まない。

好ましくは、式（３）で表される化合物は、分子構造中にＳｉ原子を１つのみ有する。

式（３）で表される化合物としては、特に限定されないが、例えば以下の化合物を挙げることができる。

上記のように、本開示の表面処理剤は、式（１ａ）または（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物とともに、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物、および式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を含むことを特徴とする。本開示の表面処理剤は、例えば、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、摩擦耐久性等の良好な表面処理層の形成に寄与し得る。

本開示の表面処理剤において、以下のように考えられる。なお、本開示は、以下の理論に拘束されるものではない。
本開示の表面処理剤に含まれる化合物の加水分解性基またはＯＨ部分が、架橋構造を形成し得る。また、上記の加水分解性基またはＯＨ部分は、基材と結合し得る。その結果、本開示の表面処理剤を用いることにより、表面処理層と基材との密着性が良好になるとともに、高密度の含フッ素表面処理層を形成でき、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性等の表面処理層の物性も良好になると考えられる。

一の態様において、
アミノ基含有シラン化合物において、
Ｒ^Ｎは、−Ｒ^Ｎ１−ＮＨ_２で表され；
Ｒ^Ｎ１は、Ｃ_１−３のアルキレン基、例えばｎ−プロピレン基であり；
ｓ１は１、ｓ２は２、ｓ３は１、または、ｓ１は１、ｓ２は３、ｓ３は０であり；
エポキシ基含有シラン化合物において、
Ｒ^Ｅは、−Ｒ^Ｅ１Ｘ^Ｅで表され；
Ｘ^Ｅは、エポキシ基であり；
Ｒ^Ｅ１は、−Ｒ^Ｅ１１−Ｘ^Ｅ１１−Ｒ^Ｅ１１−で表され；
Ｒ^Ｅ１１は、それぞれ独立してＣ_１−３アルキレン基であり；
Ｘ^Ｅ１１は、−Ｏ−であり；
好ましくは、Ｒ^Ｅ１は、−Ｃ_１−３アルキレン基−Ｏ−ＣＨ_２−であり；
ｔ１は１、ｔ２は３、ｔ３は０、または、ｔ１は１、ｔ２は２、ｔ３は１、好ましくは、ｔ１は１、ｔ２は３、ｔ３は０である。

一の態様において、
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、
該シラン化合物は、化合物（１−ａ）、化合物（１−ｂ）および化合物（１−ｃ）からなる群より選ばれる少なくとも１つであり；
アミノ基含有シラン化合物において、
Ｒ^Ｎは、−Ｒ^Ｎ１−ＮＨ_２で表され；
Ｒ^Ｎ１は、Ｃ_１−３のアルキレン基、例えばｎ−プロピレン基であり；
ｓ１は１、ｓ２は２、ｓ３は１、または、ｓ１は１、ｓ２は３、ｓ３は０であり；
エポキシ基含有シラン化合物において、
Ｒ^Ｅは、−Ｒ^Ｅ１Ｘ^Ｅで表され；
Ｘ^Ｅは、エポキシ基であり；
Ｒ^Ｅ１は、−Ｒ^Ｅ１１−Ｘ^Ｅ１１−Ｒ^Ｅ１１−で表され；
Ｒ^Ｅ１１は、それぞれ独立してＣ_１−３アルキレン基であり；
Ｘ^Ｅ１１は、−Ｏ−であり；
好ましくは、Ｒ^Ｅ１は、−Ｃ_１−３アルキレン基−Ｏ−ＣＨ_２−であり；
ｔ１は１、ｔ２は３、ｔ３は０、または、ｔ１は１、ｔ２は２、ｔ３は１であり、好ましくは、ｔ１は１、ｔ２は３、ｔ３は０である。本態様の表面処理剤に含まれるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、フルオロポリエーテル基がシュリンクした形状を有し得る。このようなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、アミノ基含有シラン化合物およびエポキシ基含有シラン化合物とともに用いることによって、フルオロポリエーテル基がより高密度に存在し得、形成される表面処理剤の物性がより良好になり得る。

一の態様において、
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物において、
該シラン化合物は、式（１ａ）または（１ｂ）で表される化合物、好ましくは（１ａ）で表される化合物であり；
Ｒ^Ｆは、それぞれ独立して、式（ｆ２）、（ｆ４）、または（ｆ５）で表される基であり、好ましくは式（ｆ５）で表される基であり、例えば、−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−で表される基であってもよく；
ｅ／ｆ比は、０．２以上０．９未満であり、０．４以上０．８以下であることが好ましく、例えば０．５以上０．７以下、０．５５以上０．７以下、０.５５以上０．６５以下であってもよく；
α、βおよびγは、１であり；
Ｘ^Ａは、Ｃ_１−２０アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−、または−（ＣＨ_２）_ｓ５−Ｘ^５３−（ＣＨ_２）_ｔ５−で表され；
Ｘ^５３は、−Ｏ−、−ＣＯＮＲ^５４−、または−Ｏ−ＣＯＮＲ^５４−であり、好ましくは−ＣＯＮＲ^５４−であり；
Ｒ^５４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基を表し；
ｓ５は、１〜２０の整数であり、ｔ５は、１〜２０の整数であり；
Ｒ^Ｓｉは、式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）または（Ｓ４）で表され、好ましくは、式（Ｓ３）または（Ｓ４）で表され；
式（Ｓ３）においては、好ましくはｋ１が２または３、より好ましくは３；ｐ１は０；ｑ１は好ましくは２または３、より好ましくは３であり；
式（Ｓ４）においては、ｋ１が０；ｌ２は好ましくは２または３、より好ましくは３；ｎ２は、好ましくは２または３、より好ましくは３であり；
アミノ基含有シラン化合物において、
Ｒ^Ｎは、−Ｒ^Ｎ１−ＮＨ_２で表され；
Ｒ^Ｎ１は、Ｃ_１−３のアルキレン基、例えばｎ−プロピレン基であり；
ｓ１は１、ｓ２は２、ｓ３は１、または、ｓ１は１、ｓ２は３、ｓ３は０であり；
エポキシ基含有シラン化合物において、
Ｒ^Ｅは、−Ｒ^Ｅ１Ｘ^Ｅで表され；
Ｘ^Ｅは、エポキシ基であり；
Ｒ^Ｅ１は、−Ｒ^Ｅ１１−Ｘ^Ｅ１１−Ｒ^Ｅ１１−で表され；
Ｒ^Ｅ１１は、それぞれ独立してＣ_１−３のアルキレン基であり；
Ｘ^Ｅ１１は、−Ｏ−であり；
好ましくは、Ｒ^Ｅ１は、−Ｃ_１−３のアルキレン基−Ｏ−ＣＨ_２−であり；
ｔ１は１、ｔ２は３、ｔ３は０、または、ｔ１は１、ｔ２は２、ｔ３は１であり、好ましくは、ｔ１は１、ｔ２は３、ｔ３は０である。本態様の表面処理剤に含まれるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、フルオロポリエーテル基がシュリンクした形状を有し得る。このようなフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、アミノ基含有シラン化合物およびエポキシ基含有シラン化合物とともに用いることによって、フルオロポリエーテル基がより高密度に存在し得、形成される表面処理剤の物性がより良好になり得る。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、固形分１００質量部に対して、式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、５０〜９９質量部含むことが好ましい。本開示の表面処理剤は、固形分１００質量部に対して、式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、より好ましくは、７０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上、特に好ましくは９０質量部以上含む。

なお、本明細書において、「固形分」は、式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物、および式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物である。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、固形分１００質量部に対して、式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、好ましくは８０〜９９質量部、より好ましくは９０〜９９質量部含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部含むことが好ましい。本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、より好ましくは１５質量部以下、さらに好ましくは５質量部以下含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、好ましくは０．５〜１５質量部、より好ましくは０．５〜５質量部含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部含むことが好ましい。本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、より好ましくは１５質量部以下、さらに好ましくは５質量部以下含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、好ましくは０．５〜１５質量部、より好ましくは０．５〜５質量部含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、
式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、５０〜９９質量部；
式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部；
式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部含むことが好ましく；
式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、７０〜９９質量部；
式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、０．５〜１５質量部；
式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、０．５〜１５質量部含むことがより好ましく；
式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を、９０〜９９質量部；
式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、０．５〜５質量部；
式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、０．５〜５質量部含むことがさらに好ましい。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、表面処理剤１００質量部に対して、固形分を、好ましくは６０質量部以下含み、より好ましくは４０質量部以下、より好ましくは２０質量部以下含み；例えば、０．０１質量部以上含んでいてもよく、０．１質量部以上含んでいてもよく、５質量部以上含み得る。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、表面処理剤１００質量部に対して、固形分を、好ましくは０．０１〜６０質量部、より好ましくは０．０１〜４０質量部、さらに好ましくは０．１〜２０質量部含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、表面処理剤１００質量部に対して、固形分を、好ましくは５〜６０質量部、より好ましくは５〜４０質量部、さらに好ましくは５〜２０質量部含む。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、５０質量部以上含み得、８０質量部以上含んでいてもよく、１００質量部以上含んでいてもよく、１５０質量部以上含んでいてもよく；例えば、１２５質量部以下含んでいてもよい。

一の態様において、本開示の表面処理剤は、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、５０〜１２５質量部含んでいてもよく、８０〜１２５質量部含んでいてもよく、１００〜１２５質量部含んでいてもよい。

本開示の表面処理剤により形成された表面処理層に含まれる原子、例えば、水素原子、炭素原子、フッ素原子、ケイ素原子等の含有量は、例えば、ＮＭＲ法、赤外分光分析法を用いて測定し得る。

一の態様において、本開示の表面処理剤において、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、アミノ基含有シラン化合物、およびエポキシ基含有シラン化合物は、これらの化合物間で少なくともその一部が反応していてもよい。例えば、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物と、アミノ基含有シラン化合物および／またはエポキシ基含有シラン化合物とが反応していてもよく；アミノ基含有シラン化合物と、エポキシ基含有シラン化合物とが反応していてもよく；フルオロポリエーテル基含有シラン化合物間、アミノ基含有シラン化合物間、またはエポキシ基含有シラン化合物間で反応していてもよい。
即ち、本態様において、表面処理剤は、式（１ａ）または（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物、および式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を含み、かつ、該フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、該アミノ基含有シラン化合物、および該エポキシ基含有シラン化合物からなる群より選ばれる化合物間の反応生成物を含み得る。

言い換えると、本開示の表面処理剤には、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、アミノ基含有シラン化合物、およびエポキシ基含有シラン化合物が反応して得られたものも含み得る。即ち、本開示の表面処理剤は、
下記式（１ａ）または（１ｂ）：

で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、
下記式（２）：

で表されるアミノ基含有シラン化合物、および
下記式（３）：

で表されるエポキシ基含有シラン化合物、
を混合して得られる表面処理剤であってもよい。

本開示の表面処理剤は、溶媒、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、まとめて「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、界面活性剤、重合禁止剤、増感剤等をさらに含み得る。

上記溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸セロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、酢酸カルビトール、ジエチルオキサレート、ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレート、エチルアセトアセテート、酢酸アミル、乳酸メチル、乳酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル、２−ヒドロキシイソ酪酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘキサノン、シクロヘキサノン、メチルアミノケトン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルセルソルブ、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル等のグリコールエーテル類；メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、３−ペンタノール、オクチルアルコール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール等のアルコール類；エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；メチルセロソルブ、セロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類；ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート；１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，２−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン、ジメチルスルホキシド、１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（ＨＣＦＣ２２５）、ゼオローラＨ、ＨＦＥ７１００、ＨＦＥ７２００、ＨＦＥ７３００等のフッ素含有溶媒等が挙げられる。あるいはこれらの２種以上の混合溶媒等が挙げられる。

含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（４）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ａ’−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｂ’−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｃ’−（ＯＣＦ_２）_ｄ’−Ｒｆ^６ ・・・（４）
式中、Ｒｆ^５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ^６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ_１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ_１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ_４Ｆ_８）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣ（ＣＦ_３）_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ（ＣＦ_３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５）ＣＦ_２）−および（ＯＣＦ_２ＣＦ（Ｃ_２Ｆ_５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_３Ｆ_６）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２）−および（ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）−である。−（ＯＣ_２Ｆ_４）−は、−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−および（ＯＣＦ（ＣＦ_３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）−である。

上記一般式（４）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（４ａ）および（４ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−Ｒｆ^６ ・・・（４ａ）
Ｒｆ^５−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ａ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｂ”−（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｃ”−（ＯＣＦ_２）_ｄ”−Ｒｆ^６ ・・・（４ｂ）
これら式中、Ｒｆ^５およびＲｆ^６は上記の通りであり；式（４ａ）において、ｂ”は１以上１００以下の整数であり；式（４ｂ）において、ａ”およびｂ”は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ”およびｄ”はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ”、ｂ”、ｃ”、ｄ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。

また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ^３−Ｆ（式中、Ｒｆ^３はＣ_５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。

上記含フッ素オイルは、５００〜１０，０００の平均分子量を有していてよい。含フッ素オイルの分子量は、ＧＰＣを用いて測定し得る。

含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤に対して、例えば０〜５０質量％、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜５質量％含まれ得る。一の態様において、本開示の表面処理剤は、含フッ素オイルを実質的に含まない。含フッ素オイルを実質的に含まないとは、含フッ素オイルを全く含まない、または極微量の含フッ素オイルを含んでいてもよいことを意味する。

含フッ素オイルは、本開示の表面処理剤によって形成された層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。

本開示の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは５０〜２００質量部で含まれ得る。

シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本開示の表面処理剤に含まれる加水分解性基の加水分解および脱水縮合を促進し、本開示の表面処理剤により形成される層の形成を促進する。

他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。

本開示の組成物は、基材の表面処理を行う表面処理剤として用いることができる。

本開示の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

（物品）
以下、本開示の物品について説明する。

本開示の物品は、基材と、該基材表面に本開示の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。

本開示において使用可能な基材は、例えば、ガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本開示の表面処理剤の層を形成し、この層を必要に応じて後処理し、これにより、本開示の表面処理剤から層を形成する。

本開示の表面処理剤の層形成は、上記の組成物を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本開示の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：炭素数５〜１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ_６Ｆ_１３ＣＨ_２ＣＨ_３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ_３Ｆ_７ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ_２Ｆ_５ＣＦ（ＯＣＨ_３）Ｃ_３Ｆ_７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ_３ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦ_２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。なかでも、ヒドロフルオロエーテルが好ましく、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３）および／またはパーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５）が特に好ましい。

乾燥被覆法を使用する場合、本開示の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

表面処理剤の層形成は、層中で本開示の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本開示の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本開示の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本開示の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本開示の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

一の態様において、表面処理剤の層形成は、湿潤被覆法により行う。例えば、表面処理剤として、式（１ａ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物および／または式（１ｂ）で表されるフルオロポリエーテル基含有シラン化合物であって、Ｒ^Ｆにおけるｆに対するｅの比が０．１〜１．０の化合物を含む表面処理剤を用いることができる。ここで、Ｒ^Ｆは以下の式（ｆ２）、（ｆ４）または（ｆ５）で表されることが好ましい。式（ｆ２）、（ｆ４）および（ｆ５）については、それぞれ上記と同意義である。
−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
−（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）

上記態様において、Ｒ^Ｆは、式（ｆ２）で表されてもよい。

上記態様において、Ｒ^Ｆは、式（ｆ４）で表されてもよい。

上記態様において、Ｒ^Ｆは、式（ｆ５）で表されてもよい。

上記態様において、湿潤被覆法としては、例えば、スピンコート法、刷毛塗り法、ディップ法、スプレー塗布法を用いることが好ましい。

上記のようにして、基材の表面に、本開示の表面処理剤に由来する層が形成され、本開示の物品が製造される。これにより得られる上記層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、上記層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

即ち本開示はさらに、本開示の表面処理剤から形成された硬化物を最外層に有する光学材料にも関する。

光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。

本開示によって得られる層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

また、本開示によって得られる層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

上記層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、上記層の厚さは、１〜５０ｎｍ、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨および範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。

以下、本開示について、実施例において説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）および（ＯＣＦ_２）の存在順序は任意である。

フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）および（Ｂ）として、それぞれ以下の化合物を用いた。

フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）：
ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ（ＯＣＦ_２）_ｆ−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ（（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３ （ｅ＝２２、ｆ＝３４）

フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）：
ＣＦ_３（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｅ（ＯＣＦ_２）_ｆ−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣＨ_２Ｃ（（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２）Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３）_３ （ｅ＝２６、ｆ＝２４）

（比較例１）
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）を、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、化合物（Ａ）を０．１ｗｔ％含む表面処理剤を調製した。

（比較例２、３）
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および３−アミノプロピルトリメトキシシラン（ＡＰＴＭＳ）を、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、化合物（Ａ）を０．１ｗｔ％含む表面処理剤を調製した。ＡＰＴＭＳの含有量は、それぞれ表１のとおりである。

（比較例４）
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、および３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、化合物（Ａ）を０．１ｗｔ％含む表面処理剤を調製した。３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランの含有量は表１のとおりである。

（実施例１）
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）、ＡＰＴＭＳおよび３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、化合物（Ａ）を０．１ｗｔ％含む表面処理剤を調製した。各化合物の含有量は表１のとおりである。

（実施例２〜４）
ＡＰＴＭＳの代わりに、３−アミノプロピルジメトキシメチルシラン（ＡＰＤＭＳ）、３−アミノプロピルトリエトキシシラン（ＡＰＴＥＳ）、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン（ＡＰＤＥＳ）をそれぞれ用いた以外は、実施例１と同様に行い、表面処理剤を調製した。

（実施例５）
フルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）、ＡＰＴＭＳおよび３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、化合物（Ｂ）を０．１ｗｔ％含む表面処理剤を調製した。各化合物の含有量は表１のとおりである。

（表面処理層の形成）
以下のように基材の表面に表面処理層を形成した。
基材ガラスを、その表面における水の接触角が１０°以下になるまでプラズマ洗浄した後、２流体ノズルで６０ｇ／ｍ^２の塗布量でガラス上に、実施例または比較例で得られた表面処理剤を塗布した。塗布後、１５０℃で３０分間エージング処理を行い、表面処理層を形成した。

（水の静的接触角の測定方法）
静的接触角は全自動接触角計ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ７００（協和界面科学社製）を用いた。形成された表面処理層を有する基材を水平に静置し、その表面にマイクロシリンジから水を２μＬ滴下し、滴下１秒後の静止画をビデオマイクロスコープで撮影することにより求めた。

（初期評価）
まず、初期評価として、表面処理層の形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した。

（消しゴム耐久性評価）
形成された表面処理層に対して、ラビングテスター（新東科学社製）を用いて、下記条件で２５００回擦る毎に水の静的接触角を測定し、１００°未満となるまで試験を続けた。試験環境条件は２５℃、湿度４０％ＲＨであった。結果を表２に示す。
消しゴム：Ｒａｂｅｒ Ｅｒａｓｅｒ（Ｍｉｎｏａｎ社製）
接地面積：６ｍｍφ
移動距離（片道）：４０ｍｍ
移動速度：３，６００ｍｍ／分
荷重：１ｋｇ／６ｍｍφ

表１において「−」は、添加していないことを意味する。表１において、アミノ基含有シラン化合物、およびエポキシ基含有化合物の含有量は、それぞれ、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対する値を示す。

本開示の表面処理剤は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (18)

1. 下記式（１ａ）または（１ｂ）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
   Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
   Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
   Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
   Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
   ｐは、０または１であり；
   ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
   Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基に結合したＳｉ原子を有する１価の基であり；
   αは、１〜９の整数であり；
   βは、１〜９の整数であり；
   γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
   で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、
   下記式（２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、アミノ基を含有する１価の有機基であり；
   Ｒ^８１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^８２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびアミノ基を含有せず；
   ｓ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｓ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｓ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
   で表されるアミノ基含有シラン化合物、および
   下記式（３）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する１価の有機基であり；
   Ｒ^９１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^９２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびエポキシ基を含有せず；
   ｔ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｔ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｔ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
   で表されるエポキシ基含有シラン化合物、
   を含む表面処理剤。
2. 下記式（１ａ）または（１ｂ）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｆ１は、Ｒｆ^１−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
   Ｒ^Ｆ２は、−Ｒｆ^２ _ｐ−Ｒ^Ｆ−Ｏ_ｑ−であり；
   Ｒｆ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−１６アルキル基であり；
   Ｒｆ^２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ_１−６アルキレン基であり；
   Ｒ^Ｆは、２価のフルオロポリエーテル基であり；
   ｐは、０または１であり；
   ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
   Ｘ^Ａは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基であり；
   Ｒ^Ｓｉは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基に結合したＳｉ原子を有する１価の基であり；
   αは、１〜９の整数であり；
   βは、１〜９の整数であり；
   γは、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
   で表される、フルオロポリエーテル基含有シラン化合物、
   下記式（２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、アミノ基を含有する１価の有機基であり；
   Ｒ^８１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^８２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびアミノ基を含有せず；
   ｓ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｓ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｓ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
   で表されるアミノ基含有シラン化合物、および
   下記式（３）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、エポキシ基を含有する１価の有機基であり；
   Ｒ^９１は、それぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^９２は、それぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり、ただし、加水分解性基およびエポキシ基を含有せず；
   ｔ１は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｔ２は、それぞれ独立して、１〜３の整数であり；
   ｔ３は、それぞれ独立して、０〜２の整数である］
   で表されるエポキシ基含有シラン化合物、
   を混合して得られる表面処理剤。
3. Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｒ^Ｆａ _６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ−
   ［式中、
   Ｒ^Ｆａは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり；
   ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は１以上であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   で表される基である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
4. ｆに対するｅの比が０．９未満である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
5. Ｒ^Ｆは、各出現においてそれぞれ独立して、下記式（ｆ１）、（ｆ２）、（ｆ３）、（ｆ４）または（ｆ５）で表される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤
   −（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ− （ｆ１）
   ［式中、ｄは、１〜２００の整数である。］
   −（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ２）
   ［式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下の整数であり、
   ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２以上であり、
   添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
   −（Ｒ^６−Ｒ^７）_ｇ− （ｆ３）
   ［式中、Ｒ^６は、ＯＣＦ_２またはＯＣ_２Ｆ_４であり、
   Ｒ^７は、ＯＣ_２Ｆ_４、ＯＣ_３Ｆ_６、ＯＣ_４Ｆ_８、ＯＣ_５Ｆ_１０およびＯＣ_６Ｆ_１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせであり、
   ｇは、２〜１００の整数である。］
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ４）
   ［式中、ｅは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
   −（ＯＣ_６Ｆ_１２）_ａ−（ＯＣ_５Ｆ_１０）_ｂ−（ＯＣ_４Ｆ_８）_ｃ−（ＯＣ_３Ｆ_６）_ｄ−（ＯＣ_２Ｆ_４）_ｅ−（ＯＣＦ_２）_ｆ− （ｆ５）
   ［式中、ｆは、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１であり、また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。］
6. Ｒ^Ｓｉは、下記式（Ｓ１）、（Ｓ２）、（Ｓ３）、または（Ｓ４）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
   ｎ１は、（ＳｉＲ^１１ _ｎ１Ｒ^１２ _３−ｎ１）単位毎にそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｘ^１１は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基であり；
   Ｒ^１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
   ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
   Ｒ^１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子であり；
   Ｒ^１５は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子、炭素数１〜６のアルキレン基または炭素数１〜６のアルキレンオキシ基であり；
   Ｒ^ａ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１−ＳｉＲ^２１ _ｐ１Ｒ^２２ _ｑ１Ｒ^２３ _ｒ１であり；
   Ｚ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
   Ｒ^２１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１’−ＳｉＲ^２１’ _ｐ１’Ｒ^２２’ _ｑ１’Ｒ^２３’ _ｒ１’であり；
   Ｒ^２２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^２３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
   ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｚ^１’は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
   Ｒ^２１’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^１”−ＳｉＲ^２２” _ｑ１”Ｒ^２３” _ｒ１”であり；
   Ｒ^２２’は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^２３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
   ｐ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ１’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｚ^１”は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基であり；
   Ｒ^２２”は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^２３”は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
   ｑ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ１”は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｒ^ｂ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^ｃ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
   ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｒ^ｄ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２−ＣＲ^３１ _ｐ２Ｒ^３２ _ｑ２Ｒ^３３ _ｒ２であり；
   Ｚ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
   Ｒ^３１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^２’−ＣＲ^３２’ _ｑ２’Ｒ^３３’ _ｒ２’であり；
   Ｒ^３２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
   Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
   ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｚ^２’は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
   Ｒ^３２’は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
   Ｒ^３３’は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
   ｑ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒ２’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｚ^３は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基であり；
   Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解性基であり；
   Ｒ^３５は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または１価の有機基であり；
   ｎ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   Ｒ^ｅ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ^３−ＳｉＲ^３４ _ｎ２Ｒ^３５ _３−ｎ２であり；
   Ｒ^ｆ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または１価の有機基であり；
   ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。］
   で表される基である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
7. α、βおよびγは１であり、Ｘ^Ａは２価の有機基である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
8. Ｒ^Ｎは、それぞれ独立して、−Ｒ^Ｎ１−ＮＨＲ^Ｎ２（式中、Ｒ^Ｎ１は、２価の有機基であり、Ｒ^Ｎ２は、水素原子またはＣ_１−５のアルキル基である。）で表される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
9. Ｒ^Ｅは、それぞれ独立して、−Ｒ^Ｅ１Ｘ^Ｅ（式中、Ｒ^Ｅ１は、２価の有機基であり、Ｘ^Ｅは、エポキシ基、または脂環式エポキシ基である。）で表される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
10. フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（２）で表されるアミノ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤。
11. フルオロポリエーテル基含有シラン化合物１００質量部に対して、式（３）で表されるエポキシ基含有シラン化合物を、０．５〜２５質量部含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
12. フルオロポリエーテル基含有シラン化合物は、式（１ａ）で表される化合物である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤。
13. 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の表面処理剤。
14. さらに溶媒を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の表面処理剤。
15. 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
16. 湿潤被覆法用である、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
17. 基材と、該基材の表面に、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
18. 光学部材である、請求項１７に記載の物品。