JPWO2019142516A1 - コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品 - Google Patents
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Abstract
下式（１）で表されるオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種以上（Ａ）と、下式（２）で表されるシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種以上（Ｂ）を、５０：５０〜９０：１０の質量比で含むコーティング剤組成物を有する表面処理剤は、指紋低視認性に優れた硬化被膜を形成し得る。（Ａは−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ12、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、又は−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2、Ｒ1はＨ、アルキル基、アリール基又はアラルキル基、Ｙは２価有機基、Ｒはアルキル基又はフェニル基、Ｘは水酸基又は加水分解性基、ｎは１〜３。）（Ｒｆはパーフルオロアルキレン基又は２価のパーフルオロポリエーテル基。）
Description
本発明は、指紋低視認性に優れるコーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品に関する。
近年、携帯電話をはじめ、ディスプレイのタッチパネル化が加速している。これらは指で触れて操作をするため、指紋等の汚れが付着し、見苦しいことが問題となっている。そこで、外観や視認性を良くするためにディスプレイの表面に指紋を付きにくくする技術や、指紋を目立たなくする技術の要求が年々高まってきており、これらの要求に応えることのできる材料の開発が望まれている。
一般に、ガラスや布などの基材の表面改質剤として、シランカップリング剤が良く知られており、各種基材表面のコーティング剤として幅広く利用されている。シランカップリング剤は、１分子中に有機官能基と反応性シリル基（一般にはアルコキシシリル基等の加水分解性シリル基）を有し、この加水分解性シリル基が、空気中の水分などによって自己縮合反応を起こして被膜を形成する。該被膜は、加水分解性シリル基がガラスや金属などの表面と化学的・物理的に結合することにより耐久性を有する強固な被膜となる。
そこで、フルオロポリエーテル基含有化合物に加水分解性シリル基を導入したフルオロポリエーテル基含有ポリマーを用いることによって、基材表面に、撥水撥油性、防汚性等を有する被膜を形成しうる組成物が数多く開示されている（特許文献１〜６：特表２００８−５３４６９６号公報、特表２００８−５３７５５７号公報、特開２０１２−０７２２７２号公報、特開２０１２−１５７８５６号公報、特開２０１３−１３６８３３号公報、特開２０１５−１９９９０６号公報）。
しかし、従来のフルオロポリエーテル基含有ポリマーを用いて作製した被膜層は、その高い撥水撥油性から汚れ拭取り性に優れるものの、指紋に含有する皮脂が表面に弾かれることで微小な油滴を形成し、光が散乱するために指紋が目立ちやすいという問題点があった。
また、親油性化合物に加水分解性シリル基を導入したシラン化合物を用いることによって、基材表面に密着し、且つ基材表面に、親油性を有する被膜を形成しうる組成物も開示されている（特許文献７：特開２００１−３５３８０８号公報）。
しかし、特許文献７に記載のシラン化合物は、指紋が見えづらくなるまでに数日の時間を要するため、実用上満足できる指紋低視認性を有するものではない。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、加水分解性シリル基を導入したシラン化合物を主成分とする、指紋低視認性に優れたコーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を解決すべく鋭意検討した結果、上記指紋低視認性コーティング剤組成物において、後述する一般式（１）で表される水酸基もしくは加水分解性基と親油性基とを含有するオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びそれらの部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ａ）と、後述する一般式（２）で表される水酸基もしくは加水分解性基と含フッ素有機基とを含有するシランもしくはシロキサン化合物、及びそれらの部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ｂ）を、（Ａ）：（Ｂ）＝５０：５０〜９０：１０の質量比率で含有するコーティング剤組成物が、指紋低視認性に優れた硬化被膜を形成し得ることを見出し、本発明をなすに至った。
従って、本発明は、下記コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品を提供する。
１．
下記一般式（１）で表されるオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ａ）と、下記一般式（２）で表されるシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ｂ）を、５０：５０〜９０：１０（（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計は１００である。）の質量比率で含有することを特徴とするコーティング剤組成物。
（式中、Ａは−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ1 2、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2のいずれかであり、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、Ｙは独立にオルガノポリシロキサン残基を有してもよい２価の有機基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に水酸基又は加水分解性基であり、ｎは１〜３の整数である。）
（式中、Ｒｆはパーフルオロアルキレン基又は２価のパーフルオロポリエーテル基であり、Ｙ、Ｒ、Ｘ、ｎは上記と同じである。）
２．
前記式（１）、（２）において、Ｙがそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０のアルキレン基である１に記載のコーティング剤組成物。
３．
前記式（１）、（２）において、Ｘがそれぞれ独立に、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれるものである１又は２に記載のコーティング剤組成物。
４．
前記式（２）において、Ｒｆが炭素数３〜１２のパーフルオロアルキレン基又は下記式（３）で表される２価のパーフルオロポリエーテル基である１〜３のいずれかに記載のコーティング剤組成物。
（式中、Ｊは下記構造式（ａ）〜（ｅ）
で示されるパーフルオロアルキレン基から選ばれる少なくとも１種であり、式（３）中の全てのＪが同一構造のものであってもよいし、また、複数種の構造がランダムに又はブロック状に存在していてもよい。また、ｂは繰り返し単位を表す３以上６以下の数である。）
５．
１〜４のいずれかに記載のコーティング剤組成物を含有する表面処理剤。
６．
更に、溶剤を含むものである５に記載の表面処理剤。
７．
更に、加水分解縮合触媒を含むものである５又は６に記載の表面処理剤。
８．
２５℃、相対湿度４０％におけるオレイン酸接触角が３０°以下の硬化被膜を与えるものである５〜７のいずれかに記載の表面処理剤。
９．
硬化した被膜に１ｋｇ荷重で皮脂を付着させた際のヘーズが１０以下となるものである５〜８のいずれかに記載の表面処理剤。
１０．
５〜９のいずれかに記載の表面処理剤の硬化被膜を表面に有する物品。
１．
下記一般式（１）で表されるオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ａ）と、下記一般式（２）で表されるシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ｂ）を、５０：５０〜９０：１０（（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計は１００である。）の質量比率で含有することを特徴とするコーティング剤組成物。
２．
前記式（１）、（２）において、Ｙがそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０のアルキレン基である１に記載のコーティング剤組成物。
３．
前記式（１）、（２）において、Ｘがそれぞれ独立に、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれるものである１又は２に記載のコーティング剤組成物。
４．
前記式（２）において、Ｒｆが炭素数３〜１２のパーフルオロアルキレン基又は下記式（３）で表される２価のパーフルオロポリエーテル基である１〜３のいずれかに記載のコーティング剤組成物。
５．
１〜４のいずれかに記載のコーティング剤組成物を含有する表面処理剤。
６．
更に、溶剤を含むものである５に記載の表面処理剤。
７．
更に、加水分解縮合触媒を含むものである５又は６に記載の表面処理剤。
８．
２５℃、相対湿度４０％におけるオレイン酸接触角が３０°以下の硬化被膜を与えるものである５〜７のいずれかに記載の表面処理剤。
９．
硬化した被膜に１ｋｇ荷重で皮脂を付着させた際のヘーズが１０以下となるものである５〜８のいずれかに記載の表面処理剤。
１０．
５〜９のいずれかに記載の表面処理剤の硬化被膜を表面に有する物品。
本発明のコーティング剤組成物は、親油性分子と撥油性分子を適度なバランスで共存させた混合物からなり、指紋が付着した際に指紋が含有する皮脂を基材上に濡れ広げることができ、更に指紋も付きづらい。これにより該コーティング剤組成物を含有する表面処理剤にて表面処理された物品は、指紋低視認性に優れる。
本発明のコーティング剤組成物は、水酸基もしくは加水分解性基と親油性基とを含有するオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（以下、（Ａ）成分という。）と、水酸基もしくは加水分解性基と含フッ素有機基（具体的には、パーフルオロアルキル基又は１価のパーフルオロポリエーテル基）とを含有するオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（以下、（Ｂ）成分という。）を、（Ａ）：（Ｂ）＝５０：５０〜９０：１０の質量比率で含有することを特徴とするものである。
（Ａ）成分は、下記一般式（１）で表されるオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びそれらの部分（加水分解）縮合物から選ばれるものであり、１種又は２種以上の混合物でもよい。
（式中、Ａは−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ1 2、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2のいずれかであり、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、Ｙは独立にオルガノポリシロキサン残基を有してもよい２価の有機基であり、Ｒは独立に炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基であり、Ｘは独立に水酸基又は加水分解性基であり、ｎは１〜３の整数である。）
上記式（１）において、Ａは−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ1で示されるエステル又はカルボン酸、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ1 2で示されるアミド、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＲ1で示されるチオエステル又はチオ酸、及び−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ1）2で示されるホスホン酸エステル又はホスホン酸のいずれかである。
ここで、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基又は炭素数７〜３０のアラルキル基であり、アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、またこれらの組み合わせでもよい。
Ｒ1として、具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ1として、好ましくはメチル基、エチル基、ブチル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基である。
Ｒ1として、具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ1として、好ましくはメチル基、エチル基、ブチル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基である。
Ａとしては、例えば、下記に示すものを例示することができる。
上記式（１）において、Ｘは互いに異なっていてよい水酸基又は加水分解性基である。このようなＸとしては、水酸基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基などの炭素数１〜１０のアルコキシ基、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基などの炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、アセトキシ基などの炭素数１〜１０のアシロキシ基、イソプロペノキシ基などの炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、シアネート基などが挙げられる。中でもメトキシ基、エトキシ基、イソプロペノキシ基、塩素原子が好適である。
上記式（１）において、Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基であり、中でもメチル基が好適である。ｎは１〜３の整数、好ましくは２又は３であり、反応性、基材に対する密着性の観点から３がより好ましい。
上記式（１）において、Ｙは独立にオルガノポリシロキサン残基を有してもよい２価の有機基で、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは上記と同じ）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０、特に炭素数２〜２０のアルキレン基であることが好ましく、より好ましくは下記式（４）で表される２価の基である。
−Ｒ3−Ｚ−（Ｒ3）a− （４）
−Ｒ3−Ｚ−（Ｒ3）a− （４）
上記式（４）において、Ｒ3は独立に２価の炭化水素基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜３０のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６〜２０のアリーレン基を含む炭素数７〜３０のアルキレン基が挙げられ、好ましくは炭素数１〜２０のアルキレン基である。
上記式（４）において、Ｚは単結合、又は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは上記と同じ）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基であり、Ｒは上記と同じである。
ここで、シルアルキレン基、シルアリーレン基としては、下記に示すものが例示できる。
（式中、Ｒ4はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基等の炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｒ4は同一でも異なっていてもよい。Ｒ5はメチレン基、エチレン基、プロピレン基（トリメチレン基、メチルエチレン基）等の炭素数１〜４のアルキレン基、フェニレン基等の炭素数６〜１０のアリーレン基である。）
また、ケイ素原子数２〜１０個、好ましくは２〜５個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記に示すものが例示できる。
（式中、Ｒ4は上記と同じである。ｇは１〜９、好ましくは１〜４の整数であり、ｈは１〜８、好ましくは１〜３の整数である。）
上記式（４）において、ａは０又は１である。
Ｙの具体例としては、例えば、下記の基が挙げられる。
上記式（１）で表されるオルガノシラン又はシロキサン化合物としては、下記式で表されるものが例示できる。
（Ａ）成分のオルガノシラン又はシロキサン化合物として、更に好ましくは下記一般式（５）で表される親油性基含有オルガノシラン化合物である。
（式中、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアラルキル基であり、ｍはそれぞれ独立に２〜２０、好ましくは３〜１０の整数であり、Ｘは上記と同じである。）
ここで、Ｒ2は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基又は炭素数７〜２０のアラルキル基である。
Ｒ2として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ2として、好ましくはエチル基、オクチル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基である。
Ｒ2として、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ネオペンチル基、テキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロヘキシルメチル基、ノルボルニル基、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基などが挙げられる。Ｒ2として、好ましくはエチル基、オクチル基、シクロヘキシルメチル基、ベンジル基である。
上記式（５）で表される親油性基含有オルガノシラン化合物としては、下記式で表されるものが例示できる。
上記式（１）で表されるオルガノシランもしくはシロキサン化合物は、特願２０１７−２０６９８６に記載の方法により調製することができる。例えば、式（１）においてＹがそれぞれ独立に炭素数２〜３０のアルキレン基であり、Ｒがメチル基であるオルガノシラン化合物の調製方法としては、例えば、下記のような方法が挙げられる。
分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとフェニルジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン化合物（例えば、ケイ素原子に結合する置換基として上記式（１）におけるＡとジメチルハイドロジェンシリルフェニル基とを有するジメチルシラン）を４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物を滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
ここで、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとフェニルジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン化合物としては、下記一般式（６ａ）、（６ｂ）、（６ｃ）及び（６ｄ）で表されるシラン化合物が例示できる。
（式中、Ｒ2、ｍは上記と同じである。）
式（６ａ）で表されるシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
式（６ｂ）で表されるシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
式（６ｃ）で表されるシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
式（６ｄ）で表されるシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
上記式（６ａ）、（６ｂ）、（６ｃ）及び（６ｄ）で表されるシラン化合物の調製方法としては、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンを４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物を、ゆっくり時間をかけて滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
ここで、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物として、具体的には、下記に示すものが挙げられる。
分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の使用量は、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン１当量に対して０．０５〜０．５当量、より好ましくは０．１〜０．４当量用いることができる。
上記式（６ａ）、（６ｂ）、（６ｃ）及び（６ｄ）で表されるシラン化合物の調製において、ヒドロシリル化反応触媒としては、白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン、アセチレンアルコール類等との錯体等、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の白金族金属系触媒が挙げられる。好ましくはビニルシロキサン配位化合物等の白金系化合物である。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンと分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンと分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
上記式（６ａ）、（６ｂ）、（６ｃ）及び（６ｄ）で表されるシラン化合物の調製には有機溶剤を用いてもよい。用いられる有機溶剤としては、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）を例示することができる。これらの中では特にトルエンが好ましい。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとオレフィン部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
続いて、反応を停止し、溶剤を留去することで、上記式（６ａ）、（６ｂ）、（６ｃ）又は（６ｄ）で表されるシラン化合物が得られる。
上記式（１）で表されるオルガノシランあるいはシロキサン化合物の調製において、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の使用量は、上記分子鎖末端に上記式（１）におけるＡとフェニルジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン化合物１当量に対して１〜５当量、より好ましくは１．１〜２．５当量用いることができる。
上記式（１）で表されるオルガノシランあるいはシロキサン化合物の調製において、ヒドロシリル化反応触媒としては、白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン、アセチレンアルコール類等との錯体等、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の白金族金属系触媒が挙げられる。好ましくはビニルシロキサン配位化合物等の白金系化合物である。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、上記分子鎖末端に上記Ａを含む部位とフェニルジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン化合物と分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、上記分子鎖末端に上記Ａを含む部位とフェニルジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン化合物と分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
上記式（１）で表されるオルガノシランあるいはシロキサン化合物の調製には有機溶剤を用いてもよい。用いられる有機溶剤としては、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）を例示することができる。これらの中では特にトルエンが好ましい。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端にエステル部位とフェニルジメチルシリル部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部用いることができる。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端にエステル部位とフェニルジメチルシリル部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部用いることができる。
続いて、反応を停止し、溶剤及び未反応成分を留去することで、上記式（１）で表されるオルガノシランあるいはシロキサン化合物が得られる。
（Ａ）成分は、上記式（１）で表されるオルガノシランあるいはシロキサン化合物の水酸基、又は該シランあるいはシロキサン化合物の末端加水分解性基を予め公知の方法により部分的に加水分解した水酸基を縮合させて得られる部分（加水分解）縮合物を含んでいてもよい。
（Ｂ）成分は、下記一般式（２）で表されるオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれるものであり、１種又は２種以上の混合物でもよい。
（式中、Ｒｆはパーフルオロアルキレン基又は２価のパーフルオロポリエーテル基であり、Ｙ、Ｒ、Ｘ、ｎは上記と同じである。）
上記式（２）において、Ｒｆはパーフルオロアルキレン基又は２価のパーフルオロポリエーテル基である。パーフルオロアルキレン基の具体例としては、炭素数３〜１２のパーフルオロアルキレン基が挙げられる。具体的には、下記に示すものが例示できる。
２価のパーフルオロポリエーテル基の具体例として、更に炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基と酸素原子が交互に連結した構造（１種又は２種以上のパーフルオロオキシアルキレン単位からなる繰り返し構造）を有するものが挙げられる。炭素数１〜３のパーフルオロアルキレン基は、１種類であってもよいし複数種の混合であってもよく、２価のパーフルオロポリエーテル基として具体的には、下記一般式（３）で表されるものが挙げられる。
上記式（２）で表されるオルガノシラン又はシロキサン化合物としては、下記式で表されるものが例示できる。
上記式（２）で表されるオルガノシラン又はシロキサン化合物、特に式（２）においてＹが炭素数２〜２０のアルキレン基、シルアルキレン基、シルアリーレン基を含んでいるオルガノシラン又はシロキサン化合物の調製方法としては、例えば、下記のような方法が挙げられる。
分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物を４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物を滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物を４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物を滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは約８０℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
ここで、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物としては、下記一般式（７ａ）、（７ｂ）で表されるシラン又はシロキサン化合物が例示できる。
（式中、ｍは上記と同じである。）
式（７ａ）で表されるシラン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
式（７ｂ）で表されるシロキサン化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
上記式（７ａ）、（７ｂ）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製方法としては、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン又はビス（ジメチルシリル）エーテルを４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃の温度で加熱撹拌し、ヒドロシリル化反応触媒、例えば塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液を添加する。続いて分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物を、ゆっくり時間をかけて滴下し、４０〜１２０℃、好ましくは６０〜１００℃の温度で、１０分〜１２時間、好ましくは１〜６時間熟成させる。また、反応を行う際、有機溶剤で希釈してもよい。
ここで、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物として、具体的には、下記に示すものが挙げられる。
分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の使用量は、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン又はビス（ジメチルシリル）エーテル１当量に対して０．０５〜０．５当量、より好ましくは０．１〜０．４当量用いることができる。
上記式（７ａ）、（７ｂ）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製において、ヒドロシリル化反応触媒としては、白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン、アセチレンアルコール類等との錯体等、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の白金族金属系触媒が挙げられる。好ましくはビニルシロキサン配位化合物等の白金系化合物である。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン又はビス（ジメチルシリル）エーテル、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン又はビス（ジメチルシリル）エーテル、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
上記式（７ａ）、（７ｂ）で表されるシラン又はシロキサン化合物の調製には有機溶剤を用いてもよい。用いられる有機溶剤としては、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）を例示することができる。これらの中では特にトルエンが好ましい。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部用いることができる。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部用いることができる。
続いて、反応を停止し、溶剤を留去することで、上記式（７ａ）、（７ｂ）で表されるシラン又はシロキサン化合物が得られる。
式（２）で表されるオルガノシラン又はシロキサン化合物の調製において、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位（例えば、アルケニル基）をそれぞれ有する化合物として、具体的には、下記に示すものが例示できる。
分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の使用量は、上記分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物１当量に対して１〜５当量、より好ましくは１〜２当量用いることができる。
上記式（２）で表されるオルガノシラン又はシロキサン化合物の調製において、ヒドロシリル化反応触媒としては、白金黒、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化白金酸とオレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン、アセチレンアルコール類等との錯体等、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム等の白金族金属系触媒が挙げられる。好ましくはビニルシロキサン配位化合物等の白金系化合物である。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物と分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
ヒドロシリル化反応触媒の使用量は、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物と分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物の合計質量に対して、遷移金属換算（質量）で０．１〜１００ｐｐｍ、より好ましくは０．２〜５０ｐｐｍとなる量で使用する。
上記式（２）で表されるオルガノシラン又はシロキサン化合物の調製には有機溶剤を用いてもよい。用いられる有機溶剤としては、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）を例示することができる。これらの中では特にトルエンが好ましい。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
溶剤を用いる場合の使用量は、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシラン又はシロキサン化合物１００質量部に対して、１０〜３００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部、更に好ましくは約１００質量部用いることができる。
続いて、反応を停止し、溶剤及び未反応成分を留去することで、上記式（２）で表されるオルガノシラン又はシロキサン化合物が得られる。
例えば、分子鎖末端に上記式（２）におけるＦ−Ｒｆ部位とジメチルシリル部位をそれぞれ有するシロキサン化合物として、下記式で表される化合物
を使用し、分子鎖末端に加水分解性シリル基とオレフィン部位をそれぞれ有する化合物として、下記式で表される化合物
を使用した場合には、下記式で表されるシロキサン化合物が得られる。
（Ｂ）成分は、上記式（２）で表されるオルガノシランあるいはシロキサン化合物の水酸基、又は該シランあるいはシロキサン化合物の末端加水分解性基を予め公知の方法により部分的に加水分解した水酸基を縮合させて得られる部分（加水分解）縮合物を含んでいてもよい。
本発明のコーティング剤組成物は、上記加水分解性基及び親油性基を含有するオルガノシランもしくはシロキサン化合物及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（（Ａ）成分）と、上記加水分解性基及び含フッ素有機基（パーフルオロアルキル基又はパーフルオロポリエーテル基）を含有するオルガノシランもしくはシロキサン化合物及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（（Ｂ）成分）を所定の配合割合、即ち、（Ａ）成分と（Ｂ）成分を５０：５０〜９０：１０、特には６０：４０〜８０：２０（（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計は１００）の質量比率で含有するものである。（Ａ）成分が少なすぎる（（Ｂ）成分が多すぎる）と撥油性を示すために指紋に含有する皮脂が表面に弾かれて指紋が目立ってしまい、（Ａ）成分が多すぎる（（Ｂ）成分が少なすぎる）と高い親油性により多くの皮脂が付着して指紋が目立ってしまう。
本発明は、更に上記コーティング剤組成物を含有する表面処理剤を提供する。
該表面処理剤は、適当な溶剤を含んでもよい。このような溶剤としては、アルコール系溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテル、ブタノール、イソプロパノールなど）、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）を例示することができる。これらの中では、溶解性、濡れ性などの点で、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤が望ましく、特には、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジブチルエーテルが好ましい。
該表面処理剤は、適当な溶剤を含んでもよい。このような溶剤としては、アルコール系溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテル、ブタノール、イソプロパノールなど）、エーテル系溶剤（ジブチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなど）、炭化水素系溶剤（石油ベンジン、トルエン、キシレンなど）、ケトン系溶剤（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど）を例示することができる。これらの中では、溶解性、濡れ性などの点で、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤が望ましく、特には、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジブチルエーテルが好ましい。
上記溶剤は、その２種以上を混合してもよく、上記（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを均一に溶解させることが好ましい。なお、溶剤に溶解させる（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の最適濃度は、処理方法により異なり、秤量しやすい量であればよいが、直接塗工する場合は、溶剤及び（Ａ）、（Ｂ）成分の混合物（コーティング剤組成物）の合計１００質量部に対して０．０１〜１０質量部、特に０．０５〜５質量部であることが好ましく、蒸着処理をする場合は、溶剤及び（Ａ）、（Ｂ）成分の混合物（コーティング剤組成物）の合計１００質量部に対して１〜１００質量部、特に３〜３０質量部であることが好ましく、ウェット処理する場合は、溶剤及び（Ａ）、（Ｂ）成分の混合物（コーティング剤組成物）の合計１００質量部に対して０．０１〜１０質量部、特に０．０５〜１質量部であることが好ましい。
表面処理剤には、加水分解縮合触媒、例えば、有機錫化合物（ジブチル錫ジメトキシド、ジラウリン酸ジブチル錫など）、有機チタン化合物（テトラｎ−ブチルチタネートなど）、有機酸（酢酸、メタンスルホン酸など）、無機酸（塩酸、硫酸、リン酸など）を添加してもよい。これらの中では、特に酢酸、テトラｎ−ブチルチタネート、ジラウリン酸ジブチル錫などが望ましい。
加水分解縮合触媒の添加量は、（Ａ）、（Ｂ）成分の混合物（コーティング剤組成物）１００質量部に対して０．１〜１５０質量部であることが好ましく、特に２５〜１２５質量部であることが好ましく、更に５０〜１１０質量部であることが好ましい。
加水分解縮合触媒の添加量は、（Ａ）、（Ｂ）成分の混合物（コーティング剤組成物）１００質量部に対して０．１〜１５０質量部であることが好ましく、特に２５〜１２５質量部であることが好ましく、更に５０〜１１０質量部であることが好ましい。
本発明の表面処理剤は、刷毛塗り、ディッピング、スプレー、蒸着処理、ウェット処理など公知の方法で基材に施与することができる。蒸着処理時の加熱方法は、抵抗加熱方式でも、電子ビーム加熱方式のどちらでもよく、特に限定されるものではない。また、硬化温度は、硬化方法によって異なるが、例えば、直接塗工（刷毛塗り、ディッピング、スプレー等）の場合は、２５〜２００℃、特に２５〜１５０℃にて１５分〜３６時間、特に３０分〜２４時間とすることが好ましい。加湿下（５０〜９０％ＲＨ）で硬化させてもよい。また、蒸着処理で施与する場合は、２０〜２００℃の範囲が望ましい。加湿下（５０〜９０％ＲＨ）で硬化させてもよい。更にウェット処理で施与する場合は、室温（２５℃±１０℃）にて１〜２４時間とすることが望ましいが、更に短時間で硬化させるために３０〜２００℃で１分〜１時間加熱してもよい。また、加湿下（５０〜９０％ＲＨ）で硬化させてもよい。
硬化被膜の膜厚は、基材の種類により適宜選定されるが、通常０．１〜１００ｎｍ、特に１〜２０ｎｍである。また、例えばスプレー塗工では予め水分を添加した有機溶剤に希釈し、加水分解、つまりＳｉ−ＯＨを生成させた後にスプレー塗工すると塗工後の硬化が速い。
硬化被膜の膜厚は、基材の種類により適宜選定されるが、通常０．１〜１００ｎｍ、特に１〜２０ｎｍである。また、例えばスプレー塗工では予め水分を添加した有機溶剤に希釈し、加水分解、つまりＳｉ−ＯＨを生成させた後にスプレー塗工すると塗工後の硬化が速い。
本発明の表面処理剤は、特に（Ａ）成分の親油性分子と（Ｂ）成分の撥油性分子を適度なバランスで均一に混合することにより、接触角計Ｄｒｏｐ Ｍａｓｔｅｒ（協和界面科学社製）を用いて測定した、２５℃、相対湿度４０％におけるオレイン酸に対する接触角が、好ましくは３０°以下、より好ましくは２５°以下である硬化被膜を形成することができる。従って、皮脂が付着した場合、接触角が小さく、視認性が低くなり、指紋が目立たない。
本発明の表面処理剤は、特に（Ａ）成分の親油性分子と（Ｂ）成分の撥油性分子を適度なバランスで均一に混合することにより、１ｋｇ荷重で皮脂を付着させた際の、ヘーズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を用いて測定したヘーズが１０以下、より好ましくは７以下である硬化被膜を形成することができる。従って、皮脂が付着した場合、ヘーズが小さく、視認性が低くなり、指紋が目立たない。
本発明の表面処理剤で処理される基材は特に制限されず、紙、布、金属及びその酸化物、ガラス、プラスチック、セラミック、石英など各種材質のものであってよい。本発明の表面処理剤は、前記基材に撥水撥油性を付与することができる。特に、ＳｉＯ2処理されたガラスやフイルムの表面処理剤として好適に使用することができる。
本発明の表面処理剤で処理される物品としては、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、ＰＤＡ、ポータブルオーディオプレーヤー、カーオーディオ、ゲーム機器、眼鏡レンズ、カメラレンズ、レンズフィルター、サングラス、胃カメラ等の医療用器機、複写機、ＰＣ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ、タッチパネルディスプレイ、保護フイルム、反射防止フイルムなどの光学物品が挙げられる。本発明の表面処理剤は、前記物品に指紋及び皮脂が付着しても視認しづらく、特にタッチパネルディスプレイ、反射防止フイルムなどの親油層として有用である。
以下、合成例、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記実施例によって限定されるものではない。
〔（Ａ）成分（親油性基含有シラン）の調製〕
［合成例１］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン４５．７ｇ（２．３５×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸エチル１０．０ｇ（４．７１×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ａ）
で示される化合物を１８．０ｇ得た。
［合成例１］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン４５．７ｇ（２．３５×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸エチル１０．０ｇ（４．７１×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ａ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ 3 ）１７Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ 2 ＣＨ3）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ 3 ）１７Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ 2 ＣＨ3）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ａ）
で表される化合物１０．０ｇ（２．４６×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン８．００ｇ（４．９２×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｂ）
で示される化合物（１）を１３．１ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ 3 ）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ 2 ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ 3 ）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ 2 ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
［合成例２］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン３５．４ｇ（１．８２×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸ベンジル１０．０ｇ（３．６４×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｃ）
で示される化合物を１４．４ｇ得た。
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン３５．４ｇ（１．８２×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸ベンジル１０．０ｇ（３．６４×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｃ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−）１４Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ５．１（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ5）２Ｈ
δ７．３（−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 5 ）５Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−）１４Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ５．１（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ5）２Ｈ
δ７．３（−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 5 ）５Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｃ）
で表される化合物１０．０ｇ（２．１３×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン４．９ｇ（２．９９×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｄ）
で示される化合物（２）を９．９ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ 2 ）7−）１４Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ５．１（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ5）２Ｈ
δ７．３（−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 5 ）５Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ 2 ）7−）１４Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ５．１（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ5）２Ｈ
δ７．３（−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 5 ）５Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
［合成例３］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン３４．７ｇ（１．７８×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸シクロヘキシルメチル１０．０ｇ（３．５７×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｅ）
で示される化合物を１３．１ｇ得た。
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン３４．７ｇ（１．７８×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ウンデセン酸シクロヘキシルメチル１０．０ｇ（３．５７×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｅ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 11 ）２５Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ11）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 11 ）２５Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ11）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｅ）
で表される化合物８．０ｇ（１．６８×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン３．８ｇ（２．３６×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｆ）
で示される化合物（３）を６．９ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 11 ）２５Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ11）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．５（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2−Ｃ6 Ｈ 11 ）２５Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 −Ｃ6Ｈ11）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
［合成例４］
反応容器に入れた、合成例１で得られた下記式（Ａ）
で表される化合物１０．０ｇ（２．４６×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、７−オクテニルトリメトキシシラン８．０ｇ（３．４４×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｇ）
で示される化合物（４）を１３．４ｇ得た。
反応容器に入れた、合成例１で得られた下記式（Ａ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 （ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ 3 ）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ 2 ）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ 2 ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）7ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−ＳｉＣＨ 2 （ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ０．８（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ１．２−１．４（−（ＣＨ 2 ）7−，−ＯＣＨ2ＣＨ 3 ）１７Ｈ
δ１．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ 2 ）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）１２Ｈ
δ１．６（−ＯＯＣ−ＣＨ2ＣＨ 2 （ＣＨ2）7ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．３（−ＯＯＣ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．５（−ＳｉＣＨ2（ＣＨ2）6ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ４．１（−ＯＣＨ 2 ＣＨ3）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
〔（Ｂ）成分（炭化フッ素基含有シラン又はシロキサン）の調製〕
［合成例５］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン１８．６ｇ（９．５８×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2１０．０ｇ（１．９２×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｈ）
で示される化合物を８．０ｇ得た。
［合成例５］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン１８．６ｇ（９．５８×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3ＣＦ2ＣＦ2−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2１０．０ｇ（１．９２×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｈ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｏ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 ＣＦ2）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｏ−ＣＨ 2 −）２Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 ＣＦ2）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｈ）
で表される化合物７．０ｇ（９．７７×１０-3ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン２．２ｇ（１．３７×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｉ）
で示される化合物（６）を７．７ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ０．８（−Ｓｉ−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ１．６（−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−，−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3，−Ｏ−ＣＨ 2 −）１１Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 ＣＦ2）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．１（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ０．８（−Ｓｉ−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ１．６（−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−，−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3，−Ｏ−ＣＨ 2 −）１１Ｈ
δ３．９（−ＯＣＨ 2 ＣＦ2）２Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
［合成例６］
反応容器に入れたビス（ジメチルシリル）エーテル７７．５ｇ（５．７７×１０-1ｍｏｌ）を６０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を３０．０ｇ（１．１５×１０-1ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｊ）
で示される化合物を４０．１ｇ得た。
反応容器に入れたビス（ジメチルシリル）エーテル７７．５ｇ（５．７７×１０-1ｍｏｌ）を６０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を３０．０ｇ（１．１５×１０-1ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｊ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｊ）
で表される化合物３０．０ｇ（７．６１×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ビニルトリメトキシシラン１５．８ｇ（１．０６×１０-1ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｋ）
で示される化合物（７）を３５．５ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０−０．１（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−Ｓｉ−ＣＨ 2 −ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ０−０．１（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−Ｓｉ−ＣＨ 2 −ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
［合成例７］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン１８６．９ｇ（９．６１×１０-1ｍｏｌ）を７０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を５０．０ｇ（１．９２×１０-1ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｌ）
で示される化合物を７６．１ｇ得た。
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン１８６．９ｇ（９．６１×１０-1ｍｏｌ）を７０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液５．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として１．５×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）3ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を５０．０ｇ（１．９２×１０-1ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｌ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｌ）
で表される化合物１０．０ｇ（２．２０×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液１．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．３×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン５．０ｇ（３．０９×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｍ）
で示される化合物（８）を１１．８ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ０．８（−Ｓｉ−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ１．４（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ０．８（−Ｓｉ−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ１．４（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
［合成例８］
反応容器に入れたビス（ジメチルシリル）エーテル５６．０ｇ（４．１７×１０-1ｍｏｌ）を６０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を３０．０ｇ（８．３３×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｎ）
で示される化合物を３８．３ｇ得た。
反応容器に入れたビス（ジメチルシリル）エーテル５６．０ｇ（４．１７×１０-1ｍｏｌ）を６０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を３０．０ｇ（８．３３×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｎ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ０．１−０．２（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．７（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｎ）
で表される化合物３０．０ｇ（６．０７×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ビニルトリメトキシシラン１２．６ｇ（８．４９×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｏ）
で示される化合物（９）を３２．７ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０−０．１（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−Ｓｉ−ＣＨ 2 −ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ０−０．１（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−，−Ｓｉ−ＣＨ 2 −ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−ＣＨ2−ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）６Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
［合成例９］
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン８１．０ｇ（４．１７×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を３０．０ｇ（８．３３×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｐ）
で示される化合物を３６．１ｇ得た。
反応容器に入れた１，４−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン８１．０ｇ（４．１７×１０-1ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ＝ＣＨ2を３０．０ｇ（８．３３×１０-2ｍｏｌ）を３時間かけて滴下し、１時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｐ）
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
δ０．２−０．４（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ４．４（−Ｓｉ−Ｈ）１Ｈ
反応容器に入れた、上記で得られた下記式（Ｐ）
で表される化合物３０．０ｇ（５．４２×１０-2ｍｏｌ）を８０℃まで加熱した。続いて、塩化白金酸／ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液３．０×１０-2ｇ（Ｐｔ単体として０．９×１０-6ｍｏｌを含有）を添加した後、アリルトリメトキシシラン１２．０ｇ（７．４１×１０-2ｍｏｌ）を滴下し、３時間加熱撹拌した。その後、溶剤及び未反応物を減圧留去することで、下記式（Ｑ）
で示される化合物（１０）を３３．７ｇ得た。
1Ｈ−ＮＭＲ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ０．８（−Ｓｉ−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ１．４（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
δ０．２−０．３（−Ｓｉ−ＣＨ 3 ）１２Ｈ
δ０．７（−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ−）２Ｈ
δ０．８（−Ｓｉ−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，−Ｓｉ−（ＣＨ2）2ＣＨ 2 −Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）４Ｈ
δ１．４（ＣＦ2−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ１．６（−Ｓｉ−ＣＨ2ＣＨ 2 ＣＨ2−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）２Ｈ
δ２．１（ＣＦ2−ＣＨ 2 （ＣＨ2）2−Ｓｉ−）２Ｈ
δ３．５（−Ｓｉ（ＣＨ2）3−Ｓｉ（ＯＣＨ 3 ）3）９Ｈ
δ７．５（−Ｓｉ−Ｃ6 Ｈ 4 −Ｓｉ−）４Ｈ
［実施例１〜１１］
親油性基含有シラン（（Ａ）成分）として、化合物（１）、炭化フッ素基含有シラン又はシロキサン（（Ｂ）成分）として、ＫＢＭ−７６０３（ＣＦ3−（ＣＦ2）5−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、信越化学工業社製）、下記式（Ｒ）
で表される化合物（５）、又は合成例で示した化合物（６）〜（１０）を、表１、２に示す比率で混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて０．１質量％溶液を調製し、更に酢酸を濃度０．１質量％になるよう添加して表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスにスプレー塗工し、８０℃、１２時間硬化させ、厚さ約２ｎｍの硬化被膜を作製した。
親油性基含有シラン（（Ａ）成分）として、化合物（１）、炭化フッ素基含有シラン又はシロキサン（（Ｂ）成分）として、ＫＢＭ−７６０３（ＣＦ3−（ＣＦ2）5−Ｃ2Ｈ4−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、信越化学工業社製）、下記式（Ｒ）
［実施例１２〜１４］
親油性基含有シラン（（Ａ）成分）として化合物（２）〜（４）、炭化フッ素基含有シラン（（Ｂ）成分）として化合物（５）を、表２に示す比率で混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて０．１質量％溶液を調製し、更に酢酸を濃度０．１質量％になるよう添加して表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスにスプレー塗工し、８０℃、１２時間硬化させ、厚さ約２ｎｍの硬化被膜を作製した。
親油性基含有シラン（（Ａ）成分）として化合物（２）〜（４）、炭化フッ素基含有シラン（（Ｂ）成分）として化合物（５）を、表２に示す比率で混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて０．１質量％溶液を調製し、更に酢酸を濃度０．１質量％になるよう添加して表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスにスプレー塗工し、８０℃、１２時間硬化させ、厚さ約２ｎｍの硬化被膜を作製した。
［比較例１］
化合物（５）をプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて０．１質量％溶液を調製し、更に酢酸を濃度０．１質量％になるよう添加して表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスにスプレー塗工し、８０℃、１２時間硬化させ、厚さ約２ｎｍの硬化被膜を作製した。
化合物（５）をプロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて０．１質量％溶液を調製し、更に酢酸を濃度０．１質量％になるよう添加して表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスにスプレー塗工し、８０℃、１２時間硬化させ、厚さ約２ｎｍの硬化被膜を作製した。
［比較例２］
親油性基含有シラン（（Ａ）成分）として化合物（１）、炭化フッ素基含有シラン（（Ｂ）成分）として化合物（５）を、表２に示す比率で混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて０．１質量％溶液を調製し、更に酢酸を濃度０．１質量％になるよう添加して表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスにスプレー塗工し、８０℃、１２時間硬化させ、厚さ約２ｎｍの硬化被膜を作製した。
親油性基含有シラン（（Ａ）成分）として化合物（１）、炭化フッ素基含有シラン（（Ｂ）成分）として化合物（５）を、表２に示す比率で混合し、プロピレングリコールモノメチルエーテルに溶解させて０．１質量％溶液を調製し、更に酢酸を濃度０．１質量％になるよう添加して表面処理剤を調製した。その後、コーニング社製Ｇｏｒｉｌｌａガラスにスプレー塗工し、８０℃、１２時間硬化させ、厚さ約２ｎｍの硬化被膜を作製した。
［指紋視認性の評価］
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに１ｋｇ荷重で皮脂を付着させ、その視認性について以下４段階にて目視による官能評価を行った。結果を表１、２に示す。
４：指紋がほとんど見えない
３：指紋がわずかに見える
２：指紋が薄いがはっきり見える
１：指紋がはっきり見える
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに１ｋｇ荷重で皮脂を付着させ、その視認性について以下４段階にて目視による官能評価を行った。結果を表１、２に示す。
４：指紋がほとんど見えない
３：指紋がわずかに見える
２：指紋が薄いがはっきり見える
１：指紋がはっきり見える
［ヘーズの評価］
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに１ｋｇ荷重で皮脂を付着させ、ヘーズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を用いてヘーズ（ＨＡＺＥ）を測定した。結果を表１、２に示す。
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスに１ｋｇ荷重で皮脂を付着させ、ヘーズメーターＮＤＨ５０００（日本電色工業社製）を用いてヘーズ（ＨＡＺＥ）を測定した。結果を表１、２に示す。
［ぬれ性の評価］
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスについて、接触角計Ｄｒｏｐ Ｍａｓｔｅｒ（協和界面科学社製）を用いて、硬化被膜の水及びオレイン酸に対する接触角を測定した（液滴：２μｌ、温度：２５℃、湿度（ＲＨ）：４０％、測定時間：４０秒）。結果（水接触角及びオレイン酸接触角）を表１、２に示す。
上記にて作製した硬化被膜を形成したガラスについて、接触角計Ｄｒｏｐ Ｍａｓｔｅｒ（協和界面科学社製）を用いて、硬化被膜の水及びオレイン酸に対する接触角を測定した（液滴：２μｌ、温度：２５℃、湿度（ＲＨ）：４０％、測定時間：４０秒）。結果（水接触角及びオレイン酸接触角）を表１、２に示す。
指紋視認性の評価において、実施例は、いずれにおいても指紋が全く見えなかった。一方、炭化フッ素基含有シランのみを含有する比較例１は、親油性基を有さないため、指紋がはっきり見えた。炭化フッ素基含有シランの割合が親油性基含有シランに対して極端に多い比較例２では、指紋が目視できた。
ヘーズメーターによるヘーズの測定においても、実施例はいずれもヘーズの値が低く、官能評価の結果と良い相関となった。
ぬれ性の評価において、実施例は良好な親油性を示した。
ヘーズメーターによるヘーズの測定においても、実施例はいずれもヘーズの値が低く、官能評価の結果と良い相関となった。
ぬれ性の評価において、実施例は良好な親油性を示した。
Claims (10)
- 下記一般式（１）で表されるオルガノシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ａ）と、下記一般式（２）で表されるシランもしくはシロキサン化合物、及びその部分（加水分解）縮合物から選ばれる１種又は２種以上（Ｂ）を、５０：５０〜９０：１０（（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計は１００である。）の質量比率で含有することを特徴とするコーティング剤組成物。
- 前記式（１）、（２）において、Ｙがそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基である）、シルアルキレン基、シルアリーレン基、及びケイ素原子数２〜１０個の直鎖状、分岐状又は環状の２価のオルガノポリシロキサン残基から選ばれる２価の基を含んでいてもよく、また炭素数６〜２０のアリーレン基を含んでいてもよい炭素数２〜３０のアルキレン基である請求項１に記載のコーティング剤組成物。
- 前記式（１）、（２）において、Ｘがそれぞれ独立に、水酸基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシ置換アルコキシ基、炭素数１〜１０のアシロキシ基、炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基、ハロゲン原子、オキシム基、イソシアネート基、及びシアネート基からなる群より選ばれるものである請求項１又は２に記載のコーティング剤組成物。
- 前記式（２）において、Ｒｆが炭素数３〜１２のパーフルオロアルキレン基又は下記式（３）で表される２価のパーフルオロポリエーテル基である請求項１〜３のいずれか１項に記載のコーティング剤組成物。
- 請求項１〜４のいずれか１項に記載のコーティング剤組成物を含有する表面処理剤。
- 更に、溶剤を含むものである請求項５に記載の表面処理剤。
- 更に、加水分解縮合触媒を含むものである請求項５又は６に記載の表面処理剤。
- ２５℃、相対湿度４０％におけるオレイン酸接触角が３０°以下の硬化被膜を与えるものである請求項５〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
- 硬化した被膜に１ｋｇ荷重で皮脂を付着させた際のヘーズが１０以下となるものである請求項５〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
- 請求項５〜９のいずれか１項に記載の表面処理剤の硬化被膜を表面に有する物品。
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