KR20160057421A - 본드 소자 및 순응성 재료 층을 갖는 마이크로전자 소자 - Google Patents
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- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/13124—Aluminium [Al] as principal constituent
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- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13144—Gold [Au] as principal constituent
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- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13147—Copper [Cu] as principal constituent
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- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13155—Nickel [Ni] as principal constituent
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- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/1354—Coating
- H01L2224/1357—Single coating layer
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- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/1354—Coating
- H01L2224/13599—Material
- H01L2224/136—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13617—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/13624—Aluminium [Al] as principal constituent
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- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
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- H01L2224/13638—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/13655—Nickel [Ni] as principal constituent
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- H01L2224/14—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of a plurality of bump connectors
- H01L2224/1405—Shape
- H01L2224/14051—Bump connectors having different shapes
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- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16104—Disposition relative to the bonding area, e.g. bond pad
- H01L2224/16105—Disposition relative to the bonding area, e.g. bond pad the bump connector connecting bonding areas being not aligned with respect to each other
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- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16108—Disposition the bump connector not being orthogonal to the surface
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- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
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- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/8119—Arrangement of the bump connectors prior to mounting
- H01L2224/81191—Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed only on the semiconductor or solid-state body
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- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/8119—Arrangement of the bump connectors prior to mounting
- H01L2224/81193—Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed on both the semiconductor or solid-state body and another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
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- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
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- H01L2224/81801—Soldering or alloying
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- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
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- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/921—Connecting a surface with connectors of different types
- H01L2224/9212—Sequential connecting processes
- H01L2224/92142—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
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- H01L2224/92142—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92143—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a bump connector
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- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
- H01L23/3128—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
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Abstract
마이크로전자 구조체는 제1 표면에 전도성 소자들을 갖는 반도체를 포함한다. 와이어 본드들은 전도성 소자들에 연결된 베이스들 및 베이스들로부터 원격에 있는 자유 단부들을 갖고, 자유 단부들은 기판 및 베이스들로부터 원격에 있고 단부 표면들을 포함한다. 와이어 본드들은 그의 베이스들과 단부 표면들 사이에서 에지 표면들을 형성한다. 순응성 재료 층은 와이어 본드들의 베이스들에 적어도 인접한 와이어 본드들의 제1 부분들 내의 에지 표면들을 따라서 연장되고 와이어 본드들의 제1 부분들 사이의 공간들을 충전하여 와이어 본드들의 제1 부분들이 순응성 재료 층에 의해 서로 분리되게 한다. 순응성 층의 제3 표면으로부터 연장된 단부 표면들에 인접한 에지 표면들의 일부들 및 단부 표면들에 의해 와이어 본드들의 제2 부분들이 형성된다.
Description
본 출원의 주제는 순응성 접속 구조체들을 포함하는 외부 마이크로전자 구성요소들과 조립되는 경우 향상된 신뢰성을 달성하기 위한 구조체들을 갖는 반도체 칩을 포함하는 마이크로전자 소자, 및 마이크로전자 소자의 제조 방법에 관한 것이다.
반도체 칩은 칩의 내부 전기 회로에 접속된 전방 표면 상에 접점이 배치된 평탄체(flat body)이다. 칩은 전형적으로 패키징되어 칩 접점들에 전기 접속된 단자들을 갖는 마이크로전자 패키지를 형성한다. 이어서, 패키지의 단자들은 회로 패널과 같은 외부 마이크로전자 구성요소에 접속될 수 있다.
반도체 칩들과 같은 마이크로전자 디바이스들은 전형적으로 다른 전자 구성요소들에 대한 많은 입력 및 출력 접속부들을 필요로 한다. 반도체 칩 또는 다른 유사한 디바이스의 입력 및 출력 접점들은 일반적으로, 디바이스의 표면을 실질적으로 덮는 그리드-유사 패턴(grid-like pattern)(흔히 "에어리어 어레이(area array)"로 지칭됨)으로 또는 디바이스의 전방 표면의 각각의 에지(edge)에 인접하여 평행하게 연장될 수 있는 기다란 행(row)들로, 또는 전방 표면의 중심에 배치된다. 전형적으로, 칩들과 같은 디바이스들은 인쇄 회로 기판과 같은 기판 상에 물리적으로 실장되어야 하고, 디바이스의 접점들은 회로 기판의 전기 전도성 특징부들에 전기 접속되어야 한다.
반도체 칩들은 흔히 제조 동안에 그리고 칩을 회로 기판 또는 다른 회로 패널과 같은 외부 기판 상에 실장하는 동안에 칩의 취급을 용이하게 하는 패키지들로 제공된다. 예를 들어, 많은 반도체 칩들은 표면 실장에 적합한 패키지들로 제공된다. 이러한 일반적인 유형의 많은 패키지들이 다양한 응용들을 위해 제안되었다. 가장 흔하게는, 그러한 패키지들은 흔히 "칩 캐리어(chip carrier)"로 지칭되는 유전체 요소를 포함하는데, 이때 단자들이 유전체 상에 도금된 또는 에칭된 금속 구조체들로서 형성된다. 이들 단자는 전형적으로 칩 캐리어 자체를 따라 연장되는 폭좁은 트레이스들과 같은 특징부들에 의해 그리고 칩의 접점들과 단자들 또는 트레이스들 사이에서 연장되는 미세한 리드 또는 와이어에 의해 칩 자체의 접점들에 접속된다. 표면 실장 작업에서, 패키지는 패키지 상의 각각의 단자가 회로 기판 상의 대응하는 접촉 패드와 정렬되도록 회로 기판 상에 배치된다. 땜납 또는 다른 본딩 재료가 단자들과 접촉 패드들 사이에 제공된다. 패키지는 조립체를 가열하여 땜납을 용융 또는 "재유동(reflow)"시키거나 달리 본딩 재료를 활성화시킴으로써 영구적으로 제위치에 본딩될 수 있다.
많은 패키지들이 패키지의 단자들에 부착된 전형적으로 직경이 약 0.1 mm 및 약 0.8 mm (5 및 30 밀(mil))인 땜납 볼 형태의 땜납 질량체를 포함한다. 땜납 볼들의 어레이가 저부 표면으로부터 돌출되는 패키지는 흔히 볼 그리드 어레이(ball grid array) 또는 "BGA" 패키지로 지칭된다.랜드 그리드 어레이(land grid array) 또는 "LGA" 패키지로 지칭되는 다른 패키지들은 땜납으로부터 형성되는 얇은 층들 또는 랜드들에 의해 기판에 고정된다.이러한 유형의 패키지들은 상당히 소형일 수 있다. 흔히 "칩 스케일 패키지(chip scale package)"로 지칭되는 소정 패키지들은 패키지 내에 포함된 디바이스의 면적과 동일하거나 이보다 단지 약간 큰 회로 기판의 면적을 차지한다. 이는 조립체의 전체 크기를 감소시키고 기판 상의 다양한 디바이스들 사이의 짧은 상호접속부들의 사용을 허용한다는 점에서 유리하며, 이는 이어서 디바이스들 사이의 신호 전파 시간을 제한하여서 고속으로의 조립체의 동작을 용이하게 한다.
그러한 패키지 내의 구성요소들의 열팽창 계수("CTE")들 사이의 불일치 또는 차이는 그들의 신뢰성 및 성능에 나쁜 영향을 줄 수 있다. 일례에서, 반도체 칩은 그가 실장되는 기판 또는 인쇄 회로 기판의 CTE보다 더 낮은 CTE를 가질 수 있다. 칩이 그의 사용 사이클로 인해 가열 및 냉각을 겪음에 따라, 구성요소들은 그들의 상이한 CTE들에 따라서 팽창 및 수축할 것이다. 본 예에서, 기판은 반도체 다이보다 더 많이 그리고 더 높은 속도로 팽창할 것이다. 이는 반도체 다이 및 기판을 실장하는 것 그리고 전기적으로 접속시키는 것 둘 모두를 위하여 사용된 땜납 질량체들(또는 다른 구조체들)에 응력을 야기할 수 있다. 그러한 응력은 땜납 질량체가 반도체 다이 또는 기판 중 어느 하나 또는 둘 모두로부터 접속해제되게 할 수 있어서, 그렇지 않으면 가능하게 하는 신호 전송을 차단할 수 있다. CTE의 그러한 변동을 보완하기 위하여 다양한 구조체들이 사용되어 왔지만, 마이크로전자 패키지들에서 점점 더 활용되고 있는 미세 피치 어레이들에 적합한 스케일에 대한 유의한 양의 보완을 제공하지 못하고 있는 경우가 많다.
본 발명의 일 태양은 마이크로전자 구조체에 관한 것으로, 마이크로전자 구조체는 서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 상기 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 갖는 제1 반도체 다이를 포함한다. 구조체는 또한 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들을 갖는 와이어 본드들을 포함한다. 와이어 본드들은 베이스들로부터 원격에 있는 자유 단부들을 추가로 갖고, 자유 단부들은 기판 및 베이스들로부터 원격에 있고 단부 표면들을 위에 포함한다. 와이어 본드들은 그의 베이스들과 단부 표면들 사이에서 연장된 에지 표면들을 형성한다. 순응성 재료 층이 와이어 본드들의 베이스들 외측에서 반도체 다이의 제1 표면 위에 놓이고 그로부터 연장된다. 순응성 재료 층은 와이어 본드들의 베이스들에 적어도 인접한 와이어 본드들의 에지 표면들의 제1 부분들을 따라서 추가로 연장되고 와이어 본드들의 제1 부분들 사이의 공간들을 충전하여 와이어 본드들의 제1 부분들이 순응성 재료 층에 의해 서로 분리되게 한다. 순응성 재료 층은 반도체 다이의 제1 표면으로부터 멀리 향하는 제3 표면을 추가로 갖는다. 제3 표면에 의해 덮이지 않고 그로부터 멀리 연장된 단부 표면들에 인접한 에지 표면들의 일부들 및 단부 표면들에 의해 와이어 본드들의 제2 부분들이 형성된다.
와이어 본드들의 제1 부분들은 순응성 재료에 의해 완전히 봉지될 수 있다. 추가로, 와이어 본드들의 제2 부분들은 그의 베이스들에 대해 이동가능할 수 있다. 일례에서, 순응성 재료 층은 영률이 2.5 GPa 이하일 수 있다.
와이어 본드들의 제2 부분들은 제3 표면에 대해 적어도 30도의 각으로 배치된 와이어 본드들의 축들을 따라서 연장될 수 있다. 와이어 본드들의 단부 표면들은 적어도 50 마이크로미터의 거리만큼 제3 표면 위에 위치될 수 있다. 더욱이, 와이어 본드들의 단부 표면들은 200 마이크로미터 미만의 거리로 제3 표면 위에 위치될 수 있다.
반도체 다이는 제1 표면과 제2 표면 사이에 연장된 에지 표면들을 추가로 형성하고, 순응성 재료 층은 반도체 다이의 에지 표면들과 실질적으로 동일평면이도록 순응성 재료 층의 제3 표면으로부터 반도체 다이의 제1 표면까지 연장된 에지 표면들을 추가로 포함할 수 있다. 와이어 본드들 중 적어도 하나는 와이어 본드가 그의 자유 단부와 베이스 사이에 축을 형성하도록 하는 그리고 와이어 본드가 평면을 형성하도록 하는 형상을 가질 수 있다. 그러한 예에서, 적어도 하나의 와이어 본드는 그의 만곡 부분이 평면 내에서 축으로부터 멀리 연장될 수 있다. 적어도 하나의 와이어 본드의 형상은 추가로 와이어 본드의 실질적으로 직선인 부분이 자유 단부와 만곡 부분 사이에서 축을 따라서 연장되도록 하는 형상일 수 있다.
마이크로전자 구조체는, 와이어 본드들의 제2 부분들과 연결되고 순응성 재료 층의 제3 표면과 접촉하는 전도성 금속 질량체들을 추가로 포함할 수 있다. 그러한 예에서, 전도성 금속 질량체들 중 적어도 하나는 와이어 본드들 각각의 제2 부분의 적어도 일부를 봉지한다. 전도성 금속 질량체들은 그의 재유동에 의해 와이어 본드들의 제2 부분들을 외부 전도성 특징부들과 연결시키도록 구성될 수 있다.
일례에서, 반도체 다이는 제1 영역 및 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 갖는 제1 반도체 다이일 수 있다. 제1 반도체 다이의 전기 전도성 소자들은 제2 영역 내에 있을 수 있다. 마이크로전자 구조체는, 그러한 예에서, 제1 영역 내의 제1 반도체 다이 상에 실장된 제2 반도체 다이를 추가로 포함할 수 있다. 제2 반도체 다이는 제1 반도체 다이의 전도성 소자들의 적어도 일부와 전기적으로 접속될 수 있다. 순응성 재료 층은 제2 반도체 다이를 덮을 수 있다.
다른 예에서, 반도체 다이는 제1 영역 및 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 갖는 제1 반도체 다이일 수 있다. 제1 반도체 다이의 전기 전도성 소자들은 제2 영역 내에 있을 수 있다. 마이크로전자 구조체는 제1 영역 내의 제1 반도체 다이 상에 실장된 제2 반도체 다이를 추가로 포함할 수 있다. 제2 반도체 다이는 서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 제1 반도체 다이의 제1 표면으로부터 멀리 향하는 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 가질 수 있다. 추가의 와이어 본드들이 제2 반도체 다이의 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들을 가질 수 있다. 추가 와이어 본드들은 베이스들로부터 원격에 있는 자유 단부들을 추가로 가질 수 있고, 자유 단부들은 베이스들 및 제2 반도체 다이의 제1 표면으로부터 원격에 있을 수 있고 단부 표면들을 위에 포함할 수 있다. 와이어 본드들은 그의 베이스들과 단부 표면들 사이에서 연장된 에지 표면들을 형성할 수 있다. 순응성 재료 층은 추가로 추가 와이어 본드들의 베이스들의 외측에서 제2 반도체 다이의 제1 표면 위에 놓이고 그로부터 연장되며, 순응성 재료 층은 추가 와이어 본드들의 에지 표면들의 제1 부분들을 따라서 추가로 연장될 수 있다. 추가 와이어 본드들의 제2 부분들은 제3 표면에서 순응성 재료 층에 의해 덮이지 않고 그로부터 멀리 연장된 단부 표면들로부터 연장된 에지 표면들의 일부들 및 단부 표면들에 의해 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 태양은 마이크로전자 패키지에 관한 것일 수 있는데, 마이크로전자 패키지는 서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 갖는 제1 반도체 다이를 갖는 마이크로전자 소자를 포함한다. 소자는 제1 표면에서 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들 및 기판과 베이스들로부터 원격에 있는 단부 표면들을 갖는 와이어 본드들을 추가로 가질 수 있다. 와이어 본드들의 각각은 베이스로부터 그의 단부 표면까지 연장된다. 순응성 재료 층이 기판의 제1 표면의 제1 부분 위에 놓이고 그로부터 연장되고, 와이어 본드들의 제1 부분들 사이의 공간들을 충전하여 와이어 본드들의 제1 부분들이 순응성 재료 층에 의해 서로 분리되게 한다. 순응성 재료 층은 기판의 제1 표면으로부터 멀리 향하는 제3 표면을 갖고, 와이어 본드들의 제2 부분들이 제3 표면에서 순응성 재료 층에 의해 덮이지 않는 와이어 본드들의 단부 표면들의 적어도 일부들에 의해 형성된다. 패키지는 제4 표면 및 제4 표면에서 노출된 복수의 단자들을 갖는 기판을 추가로 포함한다. 마이크로전자 소자는 제3 표면이 제4 표면을 향한 채로 기판 상에 실장되고, 와이어 본드들 중 적어도 일부는 그의 제2 부분들에서 단자들의 각각에 연결된다.
와이어 본드들의 제2 부분들은 전도성 금속 질량체들에 의해 단자들에 전기적으로 그리고 기계적으로 연결될 수 있다. 마이크로전자 패키지는 기판의 제4 표면의 적어도 일부 위에 형성되고 그로부터 멀리 연장되어 마이크로전자 소자의 적어도 일부를 따라서 연장되는 성형된 유전체 층을 추가로 포함할 수 있다. 성형된 유전체 층의 영률은 순응성 재료 층의 영률보다 더 클 수 있다. 순응성 재료 층은 영률이 2.5 GPa 미만일 수 있다.
와이어 본드들은 그의 베이스들과 단부 표면들 사이에서 연장된 에지 표면들을 추가로 형성할 수 있고, 순응성 재료 층은 와이어 본드들의 베이스들에 적어도 인접하게 그리고 와이어 본드들의 제1 부분들 내에서 와이어 본드들의 에지 표면들의 일부들을 따라서 연장될 수 있다. 와이어 본드들의 단부 표면들로부터 연장된 와이어 본드들의 에지 표면들의 일부들이 순응성 재료 층의 제3 표면에서 와이어 본드들의 전체 원주들 둘레에서 순응성 재료 층에 의해 덮이지 않을 수 있다.
본 발명의 다른 태양은 마이크로전자 구조체의 제조 방법에 관한 것이다. 본 방법은 서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 갖는 반도체 다이 상에 와이어 본드들을 형성하는 단계를 포함한다. 와이어 본드들은 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들을 갖고서 그리고 기판 및 베이스들로부터 원격에 있는 단부 표면들을 갖고서 형성된다. 와이어 본드들의 에지 표면들이 베이스들과 단부 표면들 사이에서 연장된다. 본 방법은 와이어 본드들의 베이스들 외측에서 반도체 다이의 제1 표면 위에 놓이고 그로부터 연장된 순응성 재료 층을 형성하는 단계를 추가로 포함한다. 순응성 재료는 와이어 본드들의 제1 부분들의 에지 표면들의 일부들을 따라서 연장되도록, 와이어 본드들의 제1 부분들 사이의 공간들을 충전하도록, 그리고 와이어 본드들의 제1 부분들을 서로 분리하도록 추가로 형성된다. 순응성 재료 층은 기판의 제1 표면으로부터 멀리 향하는 제3 표면을 갖도록 추가로 형성되는데, 적어도 단부 표면들 및 제3 표면으로부터 멀리 연장되도록 제3 표면에서 전도성 재료 층에 의해 덮이지 않은 와이어 본드들의 에지 표면들의 일부들에 의해 와이어 본드들의 제2 부분들이 형성된다.
본 방법은 제3 표면이 기판의 표면을 향한 채로 마이크로전자 패키지를 기판 상에 실장하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 기판의 표면은 그의 표면에서 단자들을 가질 수 있고, 실장하는 단계는 와이어 본드들의 제2 부분들의 적어도 일부를 단자들과 연결하는 단계를 포함할 수 있다. 와이어 본드들의 제2 부분들은 와이어 본드들의 제2 부분들과 연결된 전도성 금속 질량체들의 재유동을 포함하여 단자들과 연결될 수 있다. 전도성 금속 질량체들의 적어도 하나는 적어도 그의 재유동 이후에 와이어 본드들 각각의 제2 부분의 적어도 일부를 봉지할 수 있다. 대안적인 예에서, 와이어 본드들의 제2 부분들은 단자들과 연결된 전도성 금속 질량체들의 재유동을 포함하여 단자들과 연결될 수 있다.
본 방법은 성형된 유전체를 기판의 표면의 적어도 일부 위에 형성하는 단계, 및 그로부터 멀리 연장하여 순응성 재료 층의 적어도 일부를 따라서 그리고 반도체 다이의 적어도 일부를 따라서 연장되도록 하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
순응성 재료 층은 와이어 본드의 단부 표면들을 포함하여 와이어 본드들을 덮도록 반도체 다이 위에 침착될 수 있고, 순응성 재료 층을 형성하는 단계는 그의 일부를 제거하여 그의 제3 표면을 형성하고 와이어 본드들의 제2 부분들을 덮지 않도록 하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 대안적으로, 순응성 재료 층을 형성하는 단계는 그의 제3 표면을 형성하도록 순응성 재료를 반도체 다이 위에 성형하여 와이어 본드들의 제2 부분들이 그로부터 연장되게 하는 단계를 포함할 수 있다.
와이어 본드를 형성하는 단계는 베이스로부터 원격에 있는 와이어 본드의 단부 표면을 형성하도록 본딩 공구의 모세관을 이용하여, 적어도, 와이어 세그먼트를 2차 표면과 접촉 상태로 가압함으로써 전도성 소자들 중 하나와 연결된 와이어 세그먼트를 절단하는 단계를 포함할 수 있다.
도 1은 본 발명의 태양에 따른 마이크로전자 소자를 도시하는 단면도이다.
도 2는 도 1의 마이크로전자 소자를 포함하는 마이크로전자 패키지의 단면도이다.
도 3a 내지 도 3c는 도 1의 마이크로전자 소자에 사용될 수 있는 예시적인 와이어 본드들의 개략도이다.
도 4는 도 3a 내지 도 3c의 예시적인 와이어 본드들의 팁의 상세도이다.
도 5는 본 발명의 다른 예에 따른 대안적인 마이크로전자 소자의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 예에 따른 대안적인 마이크로전자 소자의 단면도이다.
도 7 내지 도 12는 본 발명의 다른 태양에 따른 마이크로전자 소자의 제조 방법의 단계들 동안의 인프로세스 유닛(in-process unit)의 다양한 단면도들을 도시한다.
도 13은 도 7 내지 도 12에 도시된 방법의 변형예에 사용될 수 있는 방법 단계를 도시한다.
도 14 및 도 15는 도 7 내지 도 12에 도시된 방법 및 도 13의 단계를 포함하는 변형예에 포함될 수 있는 와이어 본드의 제조 방법에서의 연속적인 단계들의 개략도를 도시한다.
도 2는 도 1의 마이크로전자 소자를 포함하는 마이크로전자 패키지의 단면도이다.
도 3a 내지 도 3c는 도 1의 마이크로전자 소자에 사용될 수 있는 예시적인 와이어 본드들의 개략도이다.
도 4는 도 3a 내지 도 3c의 예시적인 와이어 본드들의 팁의 상세도이다.
도 5는 본 발명의 다른 예에 따른 대안적인 마이크로전자 소자의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 예에 따른 대안적인 마이크로전자 소자의 단면도이다.
도 7 내지 도 12는 본 발명의 다른 태양에 따른 마이크로전자 소자의 제조 방법의 단계들 동안의 인프로세스 유닛(in-process unit)의 다양한 단면도들을 도시한다.
도 13은 도 7 내지 도 12에 도시된 방법의 변형예에 사용될 수 있는 방법 단계를 도시한다.
도 14 및 도 15는 도 7 내지 도 12에 도시된 방법 및 도 13의 단계를 포함하는 변형예에 포함될 수 있는 와이어 본드의 제조 방법에서의 연속적인 단계들의 개략도를 도시한다.
이제 유사한 도면 부호들이 유사한 특징부들을 나타내는 데 사용되는 도면으로 가면, 본 발명의 실시예에 따른 마이크로전자 소자 형태일 수 있는 마이크로전자 구조체(10)가 도 1에 도시되어 있다. 도 1의 실시예는 복수의 와이어 본드들(32)이 그의 접점들(28)로부터 그의 연장 부분들(40) - 이들은 반도체 다이(12)에 인접한 부분들을 비롯한 와이어 본드들(32)의 나머지 부분들을 덮고 이 부분들을 서로 분리하는 순응성 재료 층(42) 위로 연장됨 - 까지 연장된 반도체 다이(12)(또한 반도체 칩으로도 지칭됨)의 형태인 마이크로전자 소자이다. 이어서 구조체(10)는 단독으로 또는 추가 구성요소들과 조립하여 컴퓨터 또는 다른 전자 응용예에서 사용될 수 있다.
도 1의 마이크로전자 소자(10)는 제1 표면(14) 및 제2 표면(16)을 갖는 반도체 다이(12)를 포함한다. 이러한 논의를 위하여, 제1 표면(14)은 제2 표면(16)에 반대편에 또는 그로부터 원격에 위치된 것으로서 설명될 수 있다. 그러한 설명, 및 그러한 소자들의 수직 또는 수평 위치를 나타내는 본 명세서에서 사용되는 소자들의 상대 위치의 임의의 다른 설명은 단지 도면 내의 소자들의 위치와 부합하는 예시를 목적으로 하는 것으로, 제한하는 것이 아니다.
전도성 소자들(28)은 반도체 다이(12)의 제1 표면(14)에 있다. 본 발명의 설명에서 사용되는 바와 같이, 전기 전도성 소자가 유전체 구조체를 갖는 다른 소자의 표면"에" 있는 것으로 설명되면, 이는 전기 전도성 구조체가 유전체 구조체 외측으로부터 유전체 구조체의 표면을 향하여 유전체 구조체의 표면에 직각인 방향으로 이동하는 이론적인 점과의 접촉에 이용가능하다는 것을 나타낸다. 따라서, 유전체 구조체의 표면에 있는 단자 또는 다른 전도성 구조체는 그러한 표면으로부터 돌출될 수 있거나, 그러한 표면과 높이가 동일할 수 있거나, 또는 그러한 표면에 대해 리세스(recess)되고 유전체 내의 구멍 또는 함몰부를 통하여 노출될 수 있다. 전도성 소자들(28)은 구리, 금, 니켈, 또는 구리, 금, 니켈 또는 이들의 조합 중 하나 이상을 포함하는 다양한 합금을 포함하여 그러한 응용에 대해 용인되는 다른 재료들과 같은 고체 금속 재료의 평탄하고 얇은 소자들일 수 있다. 일례에서, 전도성 소자들(28)은 실질적으로 원형일 수 있다.
마이크로전자 소자(10)는 전도성 소자들(28)의 적어도 일부에 연결된 복수의 와이어 본드들(32)을 추가로 포함한다. 와이어 본드들(32)은 그의 베이스(34)에서 전도성 소자들(28)에 연결되고, 베이스(34)로부터 그리고 반도체 다이(12)의 제1 표면(14)으로부터 원격에 있는 대응하는 자유 단부(36)로 연장되는데, 자유 단부들(36)은 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40) 내에 있다. 와이어 본드들(32)의 단부들(36)은, 이들이 반도체 다이(12) 또는 마이크로전자 소자(10) 내에 있고 이어서 반도체 다이(12)에 접속되는 임의의 다른 전도성 특징부들에 접속 또는 그렇지 않다면 연결되지 않는다는 점에서, 자유 단부인 것으로 특징지어진다. 다시 말하면, 자유 단부들(36)은, 예를 들어, 전도성 접점들 또는 단자들이 있는 인쇄 회로 기판("PCB") 또는 다른 기판과 같은 마이크로전자 소자(10)의 외부에 있는 구성요소의 전도성 특징부에, 직접적으로 또는 본 명세서에서 논의되는 땜납 볼 또는 다른 특징부들을 통해서와 같이 간접적으로, 전자 접속하는 것에 이용가능하다. 단부들(36)이, 예를 들어, 순응성 재료 층(42)(아래에서 추가로 설명되는 바와 같음)에 의해 미리결정된 중립 위치에 유지되거나 그와 달리 다른 외부 구성요소에 연결 또는 전기적으로 접속된다는 사실이 단부들이 "자유"롭지 않다는 것을 의미하는 것은 아니다. 역으로, 베이스(34)는, 본 명세서에서 설명되는 바와 같이, 반도체 다이(12)에 직접 또는 간접적으로 전기 접속되기 때문에 자유롭지 않다. 도 1에 도시된 바와 같이, 베이스(34)는, 베이스(34)와 단부(36) 사이에 형성된 와이어 본드(32)의 에지 표면(37)(예를 들어, 도 3a 내지 도 3c에 도시된 바와 같음)으로부터 외향으로 연장되는, 형상이 실질적으로 둥글 수 있다.
베이스(34)의 특정 크기 및 형상은 와이어 본드(32)를 형성하는 데 사용되는 재료의 유형, 와이어 본드(32)와 전도성 소자(28) 사이의 접속부의 원하는 강도, 또는 와이어 본드(32)를 형성하는 데 사용되는 특정 프로세스에 따라 가변될 수 있다. 와이어 본드들(32)을 제조하기 위한 예시적인 방법은 오트렘바(Otremba)의 미국 특허 제7,391,121호 및 미국 특허 출원 공개 제2012/0280386호("'386 공개") 및 제2005/0095835호("'835 공개", 이는 와이어 본딩의 형태로 간주될 수 있는 웨지-본딩(wedge bonding) 과정을 설명함)에서 설명되어 있으며, 이들 문헌의 개시 내용은 전체적으로 본 명세서에서 참고로 포함된다.
와이어 본드들(32)은 구리, 금, 니켈, 땜납, 알루미늄 등과 같은 전도성 재료로 제조될 수 있다. 게다가, 와이어 본드들(32)은 재료들의 조합으로, 예컨대, 구리 또는 알루미늄과 같은 전도성 재료의 코어와, 예를 들어, 코어 위에 도포된 코팅으로 제조될 수 있다. 코팅은 알루미늄, 니켈 등과 같은 제2 전도성 재료일 수 있다. 대안적으로, 코팅은 절연 재킷과 같은 절연 재료일 수 있다. 일례에서, 와이어 본드들(32)을 형성하는 데 사용되는 와이어는 두께가, 즉, 와이어의 길이에 대해 횡방향인 치수가, 약 15 pm 내지 150 pm일 수 있다. 다른 예에서, 웨지 본딩이 사용되는 것들을 포함하여, 와이어 본드들(32)은 두께가 최대 약 500 pm일 수 있다. 대체적으로, 와이어 본드는 전문화된 장비를 사용하여 접점 부분(30) 내의 전도성 소자(28)와 같은 전도성 소자 상에 형성된다.
아래에서 추가로 설명되는 바와 같이, 본 명세서에서 도시되고 설명된 유형의 와이어 본드의 형성 동안, 와이어 세그먼트의 선단부는 와이어 세그먼트가 본딩되는 수용 표면에 대해 가열 및 가압되어, 전형적으로 전도성 소자(28)의 표면에 연결된 볼(ball) 또는 볼 형상의 베이스(34)를 형성한다. 와이어 본드를 형성하기 위한 원하는 길이의 와이어 세그먼트가 본딩 공구의 외부로 인출되고, 이어서 본딩 공구는 와이어 본드를 원하는 길이로 절단할 수 있다. 알루미늄의 와이어 본드들을 형성하는 데 사용될 수 있는 웨지 본딩은, 예를 들어, 와이어의 가열된 부분이 표면에 대체적으로 평행하게 놓인 웨지를 형성하도록 수용 표면을 가로질러 드래그(drag)되는 프로세스이다. 이어서, 필요하다면, 웨지-본딩된 와이어 본드는 상향으로 만곡될 수 있고, 절단 전에 원하는 길이 또는 위치로 연장될 수 있다. 특정 실시예에서, 와이어 본드를 형성하는 데 사용되는 와이어는 단면이 원통형일 수 있다. 그와 달리, 와이어 본드 또는 웨지-본딩된 와이어 본드를 형성하기 위하여 공구로부터 공급된 와이어는, 예를 들어, 직사각형 또는 사다리꼴과 같은 다각형 단면을 가질 수 있다.
와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40)은 복수의 와이어 본드들(32)의 각각의 연장 부분들(40)에 의해 형성된 접속 특징부의 적어도 일부를 어레이로 형성할 수 있다. 그러한 어레이는 에어리어 어레이 구성으로 형성될 수 있고, 그의 변형예가 본 명세서에서 설명된 구조체를 이용하여 구현될 수 있다. 그러한 어레이는 마이크로전자 소자(10)를 다른 마이크로전자 구조체에, 예컨대, 인쇄 회로 기판("PCB"), (도 2에 예가 도시되어 있는 마이크로전자 소자(10)에 대한 패키징된 구성의) 기판, 또는 다른 외부 구성요소들 또는 구조체들에 전기적으로 그리고 기계적으로 접속시키는 데 사용될 수 있다. 땜납 질량체들(66)(도 2)은 와이어 본드들(32)을 그러한 구성요소들 또는 구조체들의 전도성 특징부들에, 예컨대, 자유 단부들(36) 및 대응하는 단부 표면들(38)(도 3a 내지 도 3c)을 포함하는 와이어 본드들의 연장 부분들(40)을 전도성 특징부들에 전자적으로 그리고 기계적으로 부착시킴으로써, 접속시키는 데 사용될 수 있다.
마이크로전자 소자(10)는 영률이 약 2.5 GPa 미만인 유전체 재료로 형성된 순응성 재료 층(42)을 추가로 포함한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 순응성 재료 층(42)은 와이어 본드들(32)의 베이스들(34)에 의해 달리 덮이지 않거나 또는 그들이 차지하지 않는 반도체 다이(12)의 제1 표면(14)의 일부들 위에 연장된다. 유사하게, 순응성 재료 층(42)은 와이어 본드들(32)의 베이스들(34)에 의해 달리 덮이지 않는 전도성 소자들(28)의 일부들 위에 연장된다. 순응성 재료 층(42)은 또한 베이스들(34) 및 그의 에지 표면들(37)의 적어도 일부를 포함하여 와이어 본드들(32)을 부분적으로 덮을 수 있다. 와이어 본드들(32)의 연장 부분(40)은 순응성 재료 층(42)에 의해 덮이지 않은 채 남아 있어서, 앞서 논의된 바와 같이, 와이어 본드들(32)이 순응성 재료 층(42)의 외측에 위치된 특징부 또는 소자에 대한 전기 접속에 이용가능하게 한다. 도면에 도시된 예에서, 순응성 재료 층(42)의 주 표면(44)과 같은 표면은, 예를 들어, 그에 대한 일정 수준의 기계적 지지를 제공하고 와이어 본드들(32)을 서로 분리하고 전기적으로 절연하도록 와이어 본드들(32)의 베이스들(34) 및 에지 표면들(37)의 일부들을 덮기에 충분히 큰 거리로 반도체(12)의 제1 표면(14)으로부터 이격될 수 있다. 순응성 재료 층(42)을 위한 다른 구성이 가능하다. 예를 들어, 순응성 재료 층은 다양한 높이들을 갖는 다수의 표면들을 가질 수 있다.
도 1에 도시되고 도 3a 및 도 4에 더 상세히 도시된 와이어 본드들(32)의 예는 2차 표면을 활용하는 와이어 본드들(32)을 제조하는 프로세스에 의해 와이어 본드들(32) 상에 부여될 수 있는 특정 만곡된 형상을 형성한다. 그러한 방법은 도 7 내지 도 13과 관련하여 아래에서 더 설명되고 있다. 와이어 본드들(32)의 형상은 단부 표면들(38)이 베이스(34)에 바로 인접한 와이어 본드(32)의 베이스 단부(35)와 축(50)을 따라 정렬되도록 이루어질 수 있다. 도 3a에 도시된 와이어 본드(32)의 예에서, 축은 단부 표면(38)이 베이스 단부(35)의 바로 위에 위치되도록 전도성 소자(28)에 대체로 직각이다. 그러한 구성은 어레이 형태의 복수의 와이어 본드들(32)에 유용할 수 있는데, 순응성 재료 층(42)의 주 표면(44) 상의 접속부들의 어레이는 와이어 본드들(32)이 각각 연결되는 전도성 소자들(28)의 피치와 대체적으로 매칭하는 피치를 갖기 위해 의도된다. 그러한 구성에서, 축(50)은 또한 단부 표면(38)이 베이스 단부(35)로부터 약간 오프셋되지만 여전히 베이스(34) 위에 위치되도록 접점 부분(30)에 대해 기울어져 있을 수 있다. 그러한 예에서, 축(50)은 접점 부분(30)에 대해 85° 내지 90°의 각으로 있을 수 있다.
와이어 본드(32)는 단부 표면(38)이 위에 형성되는 그의 제1 부분(52)이 대체로 축(50)의 일부를 따라서 연장되도록 구성될 수 있다. 제1 부분(52)은 (예를 들어, 축(50)의 길이에 의해 형성되는 바와 같이) 와이어 본드(32)의 전체 길이의 약 10% 내지 50%인 길이를 가질 수 있다. 와이어 본드(32)의 제2 부분(54)은 제1 부분(52)에 인접한 위치로부터 축(50)으로부터 이격된 정점(56)까지 축으로부터 멀리 연장되도록 만곡 또는 절곡될 수 있다. 제2 부분(54)은 베이스 단부(35)의 또는 그 근처의 위치에서 축(50)을 따라서 위치되도록 그리고 또한 베이스 단부(35)의 측부로부터 정점(56)까지 축(50)으로부터 멀리 연장되도록 추가로 만곡된다. 제1 부분(52)은 직선일 필요가 없거나 정확히 축(50)을 따를 필요가 없다는 것에 그리고 그에서 어느 정도의 곡률 또는 변동이 있을 수 있다는 것에 유의하여야 한다. 자체가 만곡될 수 있는 제1 부분(52)과 제2 부분(54) 사이에는 급격하거나 매끄러운 전이부(transition)들이 있을 수 있다는 것에 또한 유의하여야 한다. 그러나, 제2 부분(54)을 포함하여 도 1 및 도 3a에 도시된 와이어 본드들(32)은 축(50)이 또한 위에 놓일 수 있는 단일 평면 상에 놓이도록 추가로 구성된다는 것에 유의하여야 한다.
게다가, 와이어 본드(32)의 제1 부분(52) 및 제2 부분(54) 둘 모두는 축(50)과 교차하지 않는 그의 임의의 부분들이 모두 축(50)의 동일한 단 한쪽 편에 있도록 구성될 수 있다. 즉, 제1 및 제2 부분들(52, 54)의 일부는, 예를 들어, 제2 부분(54)에 의해 형성되는 만곡된 형상의 정점(56)에 반대편인 축(50)의 한쪽 편에 있을 수 있지만, 임의의 그러한 부분들은 축(50)이 적어도 부분적으로 교차하는 와이어 본드(32)의 영역들에 있을 것이다. 다시 말하면, 와이어 본드(32)의 제1 및 제2 부분들(52, 54)은 이들 부분 내의 에지 표면(37)이 축(50)의 단 한쪽 편에서 축(50)으로부터 단지 이격되도록 축(50)을 완전히 가로지르지 않게 구성될 수 있다. 도 3a의 예에서, 평면은 와이어 본드(32)의 예시가 나타나 있는 페이지를 따라서 있을 수 있다.
도 3b 및 도 3c는 단부들(36)이 각각의 베이스들(34) 바로 위에 위치되지 않은 와이어 본드들(32)의 예를 도시한다. 즉, 반도체 다이(12)의 제1 표면(14)이 2개의 측방향으로 연장된 것으로 생각하면, 실질적으로 평면을 형성하기 위하여, 와이어 본드들(32) 중 하나의 와이어 본드의 단부(36)는 베이스(34)의 대응하는 측방향 위치로부터 이들 측방향 중 적어도 하나의 방향으로 변위될 수 있다. 도 3b 및 도 3c에 도시된 바와 같이, 와이어 본드들(32)은 도 3a의 와이어 본드들과 동일한 대체적인 형상을 가질 수 있고 축(50)을 정의하기 위하여 와이어 본드의 베이스(34)에 바로 인접한 와이어 본드(32)의 일부와 정렬되는 단부(36)를 가질 수 있다. 유사하게, 와이어 본드들(32)은 대체로 축(50)을 따라서 연장된 제1 부분(52) 및 축(50)을 따라서 연장되는 평면을 형성하도록 축의 단 한쪽 편에 축(50)으로부터 이격된 정점(56)을 형성하도록 만곡된 제2 부분(54)을 포함할 수 있다. 그러나, 도 3b 및 도 3c의 와이어 본드들(32)은 전술된 바와 같이 정의된 축(50)이 접점 부분(30)에 대해, 예를 들어, 85° 미만의 각으로 기울어지도록 구성될 수 있다. 다른 예에서, 각(58)은 약 30° 내지 75°일 수 있다.
와이어 본드(32)는 와이어 본드의 제2 부분(54) 내에 형성된 정점(56)이 도 3b에 도시된 바와 같이 각(58)의 외부에 또는 도 3c에 도시된 바와 같이 그의 내부에 있을 수 있도록 하는 것일 수 있다. 더욱이, 축(50)은 와이어 본드(32)의 단부 표면(38)이 다수의 측방향으로 접점 부분(30)에 대해 측방향으로 변위되도록 접점 부분(30)에 대해 기울어져 있을 수 있다. 그러한 예에서, 제2 부분(54) 및 축(50)에 의해 형성된 평면은 자체가 전도성 소자(28) 및/또는 제1 표면(14)에 대해 기울어져 있을 수 있다. 그러한 각은 실질적으로 각(58)과 동일하거나 또는 상이할 수 있다. 즉, 베이스(34)에 대한 단부(36)는 2개의 측방향으로 변위될 수 있고 이들의 각각의 방향으로 동일한 또는 상이한 거리만큼 변위될 수 있다.
일례에서, 와이어 본드들(32)의 다양한 것들이 마이크로전자 소자(10) 전체를 통하여 상이한 방향으로 그리고 상이한 양으로 변위될 수 있다. 그러한 배열은 마이크로전자 소자(10)가, 반도체 다이(12)의 제1 표면(14)의 높이에 비하여 표면(44)의 높이 상에 상이하게 구성되는 연장 부분들(40)의 어레이를 갖도록 한다. 예를 들어, 어레이는 반도체 다이(12)의 제1 표면(14)에서보다 표면(44) 상에서 더 작은 전체 면적을 덮을 수 있거나 또는 더 작은 피치를 가질 수 있다. 도 1의 마이크로전자 소자(10)의 변형예에서, 와이어 본드들(32)은 도 3b, 도 3c, 또는 그들의 조합으로 도시된 바와 같이 기울어져 있을 수 있다.
도 4에 도시된 바와 같이, 와이어 본드들 중 적어도 일부의 자유 단부들(36)은 와이어 본드들(32)의 팁들(62) 상에 형성된 그의 단부 표면들(38)이, 적어도 한 방향에서, 그의 인접 부분들보다 더 좁은 비대칭 구성을 가질 수 있다. 자유 단부(36)의 좁은 팁(62)은 그의 제조를 위해 사용되는 프로세스에 의해 와이어 본드(32) 상에 부여될 수 있는데, 그의 예는 아래에서 더 논의된다. 도시된 바와 같이, 좁은 팁(62)은 그의 중심을 통과하는 축(60)이 와이어 본드(32)의 인접 부분의 중심을 통하여 축(62)으로부터 오프셋되도록 오프셋될 수 있다. 더욱이, 단부 표면(38)의 도심(centroid)(64)은 그가 인접 와이어 본드 부분으로부터 오프셋되도록 축(60)을 따라서 있을 수 있다. 와이어 본드(32)의 팁(62)은 또한 도 11에 도시된 치수들에 직각인 방향으로 좁게 될 수 있거나, 또는 와이어 본드(32)의 인접 부분과 동일한 폭일 수 있거나, 또는 어느 정도 더 넓을 수 있다. 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40)은 그러한 팁들을 갖는 와이어 본드들의 팁들(62) 의 모두 또는 일부를 포함할 수 있거나 또는 전체 팁들(62) 및 팁들(62)을 지나서 연장되는 와이어 본드들의 일부들을 포함할 수 있다.
앞서 논의되는 바와 같이, 와이어 본드들(32)은 마이크로전자 소자(10)를 외부 구성요소와 접속시키는 데 사용될 수 있다. 도 2는 도 1과 관련하여 설명된 바와 같을 수 있는 또는 그와 관련하여 설명된 그의 임의의 변형예일 수 있는 마이크로전자 소자(10)의 조립체(24)의 예를 도시한다. 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40)은 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40)을 따라서 그리고 접점 패드들(48)을 따라서 연장된 땜납 질량체들(66)에 의해 기판(46)의 접점 패드들(48)과 연결된다. 기판(46)은 실질적으로 평탄한 유전체 소자의 형태일 수 있다. 유전체 소자는 시트 형상일 수 있고 얇을 수 있다. 특정 실시예에서, 유전체 소자는, 제한 없이, 폴리이미드, 폴리테트라플루오로-에틸렌("PTFE"), 에폭시, 에폭시-유리, FR-4, BT 수지, 열가소성, 또는 열경화성 플라스틱 재료들과 같은, 유기 유전체 재료 또는 복합 유전체 재료들의 하나 이상의 층을 포함할 수 있다. 기판(46)의 두께는 바람직하게는 원하는 응용에 대해 대체적으로 허용가능한 두께들의 범위 내에 있고, 일례에서, 약 25 내지 500 pm일 수 있다. 기판(46)은 접점 패드들(48)에 반대편인 단자들(49)을 동일한 또는 상이한 어레이 구성으로 추가로 포함할 수 있다. 단자들(49)은 기판(46) 내의 라우팅 회로(routing circuitry)(64)에 의해 접점 패드들(48)과 접속될 수 있다.
조립체(24)는, 예를 들어, 마이크로전자 소자(10)를 향하는 기판(46)의 표면 위에 성형될 수 있는 성형된 유전체 층(68)을 추가로 포함할 수 있다. 성형된 유전체 층(68)은, 예를 들어, 봉지재(encapsulant)일 수 있고, 땜납 질량체들(66) 사이의 공간들을 충전할 수 있고, 기판(46) 및 순응성 재료 층(42)의 제3 표면(44)과 그들 사이의 영역에서 접촉할 수 있다. 성형된 유전체(68)는 추가로 기판(46)을 따라서 외향으로 그리고 순응성 재료 층(42)의 그리고 반도체 다이(12)의 에지 표면들(45, 23)을 따라서 상향으로 각각 연장될 수 있고, 선택적으로 반도체 다이(12)의 제2 표면(16) 위로 연장됨으로써 마이크로전자 소자(10)를 덮을 수 있다. 기판(46)은 패키지 조립체(24)의 외부 구성요소와의 접속을 가능하게 하기 위하여 접점 패드들(48)의 반대편에 있는 패키지 단자들, 또는 다른 구조체들을 포함할 수 있다.
다른 예에서, 마이크로전자 소자는 유사하게 기판(46) 대신에 인쇄 회로 기판("PCB")과 직접 연결될 수 있다. 그러한 PCB는 마이크로전자 소자(10)와 PCB의 접속이 마이크로전자 소자(10)의 전자 디바이스와의 조립 시에 수행될 수 있도록 그러한 디바이스 내에 조립될 수 있다. 더욱이, 그러한 조립은 성형된 유전체를 포함하지 않고서 수행될 수 있다.
본 명세서에서 설명된 바와 같은 마이크로전자 소자(10)의 그러한 조립 또는 적용에서, 와이어 본드들(32)의 구조체는, 본 명세서에서 설명된 원리에 따른 순응성 재료 층(42)의 포함과 함께, 마이크로전자 소자(10)의 패키지 조립체 내의 기판과의 또는 PCB(또는 다른 구성요소)와의 부착의 신뢰성을 향상시키는 데 도움이 될 수 있다. 특히, 이들 사이의 접속 - 마이크로전자 소자(10)의 경우에, 접속된 구성요소의 대응하는 전도성 특징부들(예컨대, 접점 패드들(48))과 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40) 사이에서 이루어짐 - 의 신뢰성은, 예를 들어, 반도체 다이의 접점들과 기판의 단자들 사이의 직접 접속에 비해 향상될 수 있다. 이러한 향상은 반도체 다이(12)의 전도성 소자들(28)과 기판(46)(또는 PCB 또는 다른 유사한 구조체)의 접점 패드들(48) 사이의 상대 이동을 수용하도록 와이어 본드들(32)의 굴곡되거나 만곡되는 능력에 의해 달성될 수 있다. 그러한 이동은 구성요소들의 취급, 예컨대 마이크로전자 소자(10) 또는 그의 조립체가 사용되는, 디바이스의 이동, 또는 마이크로전자 소자(10) 또는 조립체(24)의 검사에 의해 야기될 수 있다. 더욱이, 그러한 상대 이동은 구성요소들의 사용 사이클 동안 구성요소들 및/또는 주변 구조체들에 의해 생성되는 열에 의해 야기되는 구성요소들의 팽창 및 대응하는 수축에 의해 야기될 수 있다. 그러한 열팽창은 구성요소들의 열팽창 계수("CTE")와 관련되고, 상이한 구조체들 내의 구성요소들 사이의 상대 이동은 다양한 구조체들 또는 그의 재료들의 CTE의 차이 또는 부정합에 의해 야기될 수 있다. 예를 들어, 반도체 다이는 CTE가 약 2 내지 5 ppm/℃일 수 있다. 동일한 조립체에서, PCB 또는 기판은 CTE가 15 ppm/℃ 이상일 수 있다.
어느 한 구성요소의 CTE는 완성된 구조체의 CTE로 지칭되는 "합성" CTE일 수 있는데, 이는 그러한 구조체를 구성하는 주 재료의 CTE와 근사할 수 있지만 그와 정확히 매칭하지 않을 수 있고 구조체의 구성 및 상이한 CTE를 갖는 다른 재료의 존재에 좌우될 수 있다. 일례에서, 반도체 다이의 CTE는 반도체 다이를 주로 구성하는 규소 또는 다른 반도체 재료와 비슷한 정도일 수 있다. 다른 예에서, 기판(46)은 기판(46)을 구성할 수 있는 PTFE 또는 다른 유전체 재료와 비슷한 정도의 CTE를 가질 수 있다.
따라서, 재료들 사이의 CTE 부정합은 반도체 다이(12) 및 기판(46)이 동일한 온도 변화에 응답하여 상이한 속도로 그리고 상이한 양으로 팽창하기 때문에 반도체 다이(12) 및 기판(46)이 그들의 조립체(24)의 열적 사이클 동안 팽창 및 수축함에 따라 반도체 다이(12)의 전도성 소자들(28)과 기판(46)(또는 다른 구조체, 예컨대, PCB 등)의 접점 패드들(48) 사이의 상대 이동을 야기할 수 있다. 이는, 특히 기판(46) 또는 반도체 다이(12)의 주연부 영역에서 (즉, 그들의 에지 표면들(23)을 향하여) 또는 구성요소들 및/또는 전도성 소자들(28) 및 접점 패드들(46)의 특정 구성들에 따른 다른 영역들에서, 전도성 소자들(28)에 대한 접점 패드들(48)의 변위를 야기할 수 있다.
와이어 본드들(32)의 그의 각각의 길이들을 따른 가요성은 그의 단부 표면들(38)이 탄성 방식으로 베이스들(34)에 대해 변위되도록 할 수 있다. 그러한 가요성은 와이어 본드들(32)이 사이에 접속되는 관련된 전도성 소자들(28)과 접점 패드들(46)의 상대 이동을 보상하는 데 사용될 수 있다. 그러나, 와이어 본드들(32)이 가요성이기 때문에, 이들은 자체가 기판(46) 또는 다른 구조체에 대해 반도체 다이(12)를 확실하게 지지하지 못할 수도 있다. 예를 들어, 지지되지 않은 와이어 본드들(32)의 굴곡은 인접 와이어 본드들(32)이 서로 접촉하게 할 수 있고, 이는 단락을 야기할 수 있거나 또는 그렇지 않으면 와이어 본드들(32) 또는 관련 구성요소들을 손상시킬 수 있다. 따라서, 순응성 재료 층(42)은, 전도성 소자들(28)에 대한 접점 패드들(46)의 변위를 보상하도록 와이어 본드들(32)의 원하는 굴곡을 허용하면서, 와이어 본드들(32)을 서로 분리하도록 그리고 그의 높이를 따라서 구조적 강성을 부가하도록 구성된다. 따라서, 순응성 재료 층(42)은 영률이 2.5 GPa 미만인 재료와 같은 탄성 변형가능 (즉 순응성) 조성물로 제조될 수 있다. 더욱이, 전술된 바와 같은 순응성 재료 층(42)은 와이어 본드들(32)을 추가의 코팅 등의 필요 없이 서로 전기적으로 절연시키기 위하여 유전체일 수 있다. 순응성 재료 층에 적합한 재료에는 실리콘, 벤조사이클로부텐("BCB"), 에폭시, 등이 포함된다.
그러한 구조체에서, (순응성 층(42)의 변형을 필요로 하는) 순응성 층(42) 내에서 와이어 본드들(32)의 굴곡을 야기하기에 충분한 강인성 접속부인 기판(12)과의 접속부를 형성할 수 있는 마이크로전자 소자(10)를 구성하는 것이 이익일 수 있다. 와이어 본드들(132)의 연장 부분들(40)은 그러한 접속부를 달성하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 연장 부분들(40)은, 순응성 재료 층(42)으로부터 물리적으로 분리되도록 순응성 재료 층(42)에 의해 덮이지 않게 함으로써, 전도성 금속 질량체들(66)이 연장 부분들(40)에서 와이어 본드들(32)의 에지 표면들(37)의 적어도 일부를 완전히 둘러싸게 하고, 예를 들어, 이는 일측을 따라서 단순히 연장된 질량체(66)에 의해 달성되는 것보다 더 강인한 접속부를 제공할 수 있다. 전도성 금속 질량체(66)가 연장 부분(40)을 둘러싸도록 적절한 액세스를 제공하기 위하여, 연장 부분들(40)은 연장 부분들(40)에서의 와이어 본드들(32)의 축들(50)이 표면(44)에 대해 약 30° 내지 90°의 각을 이루도록 순응성 재료 층(42)에 대해 배향될 수 있다. 더욱이, 본드의 강도는 연장 부분들의 표면(44) 위로의 높이가 200 pm 이하이도록 와이어 본드들(32) 및 순응성 재료 층(42)을 구조화함으로써 증가될 수 있다. 일례에서, 연장 부분들(40)은 높이가 50 내지 200 pm일 수 있다.
성형된 유전체(68)가 또한 마이크로전자 소자(10)를 갖는 조립체(24) 내에 포함된 일부 예에서, 성형된 유전체는 자체가 순응성일 수 있는데, 영률이 일례에서 순응성 재료 층(42)의 영률보다 클 수 있고 추가 예에서 반도체 다이(12) 또는 기판(46)의 영률보다 작을 수 있다.
도 5 및 도 6은 다수의 반도체 다이들을 적층된 배열로 포함하는 마이크로전자 소자들(110, 210)의 예를 도시한다. 도 5의 예에서, 반도체 다이(112)의 제1 표면(114)은 제1 영역(118) 및 제2 영역(120)으로 나뉘어지는 것으로 고려된다. 제1 영역(118)은 제2 영역(120) 내에 놓이고 제1 표면(114)의 중심 부분을 포함하고 그로부터 외향으로 연장된다. 제2 영역(120)은 제1 영역(118)을 실질적으로 둘러싸고 그로부터 반도체 다이(112)의 외부 에지들까지 외향으로 연장된다. 본 예에서, 이러한 2개의 영역들을 물리적으로 분리하는 반도체 다이(112)의 구체적인 특징은 없으나, 이 영역들은 처리들 또는 그에 적용되거나 그에 포함된 특징부들에 대한 본 명세서에서의 논의를 위하여 경계가 표시되어 있다. 와이어 본드들(132)은 제2 영역(120) 내의 표면(114)에서 전도성 소자들(128)과 접속된다.
제2 반도체 다이(122)는 제1 영역(118) 내에서 반도체 다이(112) 상에 실장된다. 도 5에 도시된 예에서, 반도체 다이(122)는 반도체 다이(112) 상에 아래를 향하여 실장되고, 예를 들어, 땜납 질량체들일 수 있는 전도성 금속 질량체들(66)에 의해 반도체 다이(112)와 전기적으로 그리고 기계적으로 연결된다. 그러한 구조체에서, 제1 표면(114)을 향하는 반도체 다이(122)의 표면에서의 전도성 소자들은 제1 영역(118) 내에서 연장된 반도체 다이(112)의 표면(114)에서 라우팅 회로와 접속될 수 있다. 그러한 라우팅 회로는, 예를 들어, 제2 영역(120) 내로 연장되어 제2 영역(120) 내의 표면(114)에서 전도성 소자들(128)의 일부와 접속하는 트레이스들을 포함할 수 있다. 다른 전도성 소자들(128)은 반도체 다이(112)의 내부 구성요소들에 접속된다. 그와 같이, 와이어 본드들(132)은 순응성 층(142)의 제3 표면(144)에서 반도체 다이(112) 및 반도체 다이(122) 둘 모두와의 접속을 가능하게 하는 데 사용될 수 있다. 그러한 구조체를 달성하기 위하여, 와이어 본드들(132) 및 순응성 층(142) 둘 모두는 와이어 본드들(132)의 연장 부분들(140)이 순응성 층(142)에 의해 덮일 수 있는 반도체 다이(122) 위에 위치되기에 충분한 높이를 가질 수 있다. 마이크로전자 소자(110)는 전술된 마이크로전자 소자(10)와 유사한 방식으로 기판, PCB, 또는 다른 구조체에 실장될 수 있고, 여기서 순응성 층(142) 내의 와이어 본드들(132)이 구성요소들 사이의 CTE 부정합을 유사한 방식으로 보상할 수 있다.
도 6의 예에서, 제2 반도체 다이(222)는 제1 영역(218)에서 반도체 다이(212) 상에 실장된다. 반도체 다이는 와이어 본드들(232a)이 접속된 반도체 다이(222)를 둘러싸는 제2 영역(220) 내에 배치된 전도성 소자들(228a)을 갖는다. 그러나, 본 예에서, 반도체 다이(222)는 그의 전도성 소자들(228b)이 반도체 다이(212)의 표면(214)으로부터 멀리 향하도록 반도체 다이(212) 상에 위를 향하여 실장된다. 이러한 구조체에서, 제2 와이어 본드들(232b)은 전도성 소자들(228b)과 접속되고 전도성 소자들(228b)로부터 원격에 있는 단부들(238)까지 연장된다. 순응성 재료 층(242)은 와이어 본드들(232a)의 외측 및 반도체 다이(222)의 외측 영역에서 반도체 다이(212)의 표면(214)을 덮는다. 순응성 재료 층은 순응성 재료 층(242)이 와이어 본드들(232a, 232b)의 에지 표면들(237) 사이에서 연장되고 분리되도록 반도체 다이(222)를 추가로 덮는다. 그와 같이, 마이크로전자 소자(210)는, 전술된 마이크로전자 소자(10)와 유사한 방식으로, 와이어 본드들(232a, 232b)의 연장 부분들(240)을 그러한 구조체의 특징부들과 접속시킴으로써, 기판, PCB, 또는 다른 구조체 상에 실장될 수 있다.
그러한 구조체에서, 전술된 바와 같이, 구성요소들 사이의 CTE 부정합을 보상하기에 충분한 높이로 와이어 본드들(232a, 232b)을 구성하는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 구조체에서, 와이어 본드들(232a, 232b)은 연장 부분들(240)에 대해 원하는 높이 및 CTE 부정합으로 인해 그들과 접속되는 특징부들의 변위에 대한 충분한 보상을 제공하기에 충분한 높이로 구성될 수 있다. 기판 상의 접점 패드들의, 예를 들어, 전도성 소자들(228a)에 대한, 변위는 변위가 그러한 구조체들의 주연부들을 향하여 더 크기 때문에 전도성 소자들(228b)에 대해서보다 더 클 수 있다. 따라서, 와이어 본드들(232b)은 높이들이 단 하나의 반도체 다이를 포함하는 유사한 크기의 마이크로전자 소자 내에 필요할 수 있는 것보다 작을 수 있다.
도 7 내지 도 12는 마이크로전자 소자(10)의 제조 방법의 다양한 단계들에 있는 마이크로전자 소자(10)를 도시한다. 도 7은 제1 표면(14)에 전도성 소자들(28)을 갖는 전술된 바와 같은 반도체 다이(12)로 이루어진 인프로세스 유닛(10')을 도시한다. 도 8에는, 와이어 본드들(32)이 반도체 다이(12)의 전도성 소자(28) 상에 형성된 인프로세스 유닛(10'')이 도시되어 있다. 그러한 와이어 본드들은 본딩 모세관을 통과하는 와이어의 선단부를 가열함으로써 조립체 내에 복수의 연속하는 와이어 본드들을 형성하도록 구성될 수 있는 특별히 조정된 장비를 사용하여 형성될 수 있다. 모세관은 전도성 소자들(28) 중 하나와 정렬되고, 따라서 이는 와이어의 선단부와 정렬된다. 이어서, 와이어 본드의 베이스(34)는 모세관의 적절한 이동에 의해 가열된 자유 단부를 전도성 소자에 대해 가압함으로써 전도성 소자(28)에 형성 및 연결된다.
원하는 길이의 와이어가 형성되는 와이어 본드의 높이를 위해 적절한 거리로 반도체 다이(12)의 제1 표면(14) 위로 연장되도록 모세관의 외부로 인출된 후에(이는 와이어의 자유 단부(36)에 대해 원하는 위치를 얻기 위한 와이어의 위치설정 및/또는 와이어 본드(32) 자체의 형상화를 또한 포함할 수 있음), 와이어는 모세관 내에 남아 있고 연속하는 와이어 본드의 형성에 사용되는 와이어의 일부로부터 단부 표면(38)에서의 와이어 본드(32)를 분리시키기 위하여 절단된다. 이러한 프로세스는 원하는 개수의 와이어 본드들이 형성될 때까지 반복된다. 전자 화염 절단(electronic flame-off)("EFO"), 다양한 형태의 절단 등을 포함하여 다양한 단계들 및 구조체들이 와이어 본드들(32)을 절단하는 데 사용될 수 있고, 그의 예들은 미국 특허 출원 제13/462,158호 및 제13/404,408호, 및 미국 특허 제8,372,741호에 제공되어 있다. 와이어 본드 절단의 추가 예는 도 14 및 도 15를 참조하여 아래에서 논의되어 있다. 전술된 와이어 본드 형성 단계들의 변형예에서, 와이어 본드들(32)은 특별히 조정된 장비를 사용하여 웨지 본딩 또는 스티치 본딩(stitch bonding)을 비롯한 에지 본딩 단계들에 의해 인프로세스 유닛(10'') 상에 형성될 수 있는데, 이는 미국 특허 출원 제13/404,408호에 설명된 바와 같다.
원하는 개수의 와이어 본드들(32)의 형성 후에, 순응성 재료 층(42)은 제위치에서 경화 또는 고형화되도록 하기 전에 도 9에 도시된 바와 같이 인프로세스 유닛(10'') 위에 원하는 재료를 유동가능 상태로 침착시킴으로써 형성될 수 있다. 이는 유닛(10')을 수용할 수 있는 순응성 재료 층(42)의 원하는 형상으로 공동을 갖는 적절히 구성된 몰드 내에 유닛(10')을 배치함으로써 수행될 수 있다. 그러한 몰드 및 그에 의해 순응성 재료 층을 형성하는 방법은 기판 상의 와이어 본드들 위에 봉지 층을 형성하기 위한 과정과 유사한 과정으로 수행될 수 있는데, 이는 개시 내용이 전체로서 본 명세서에 참고로 포함된 미국 특허 출원 공개 제2010/0232129호에 도시되고 설명되어 있다. 순응성 재료 층(42)은, 초기에 그의 표면(44)이 와이어 본드들(32)의 단부 표면들(38) 위에 이격되도록 형성될 수 있다. 단부 표면들(38)을 비롯한 연장 부분들(40)을 형성하기 위하여, 단부 표면들(38) 위에 있는 봉지 층(42)의 일부는 제거되어, 단부 표면들(38) 아래에 위치된 새로운 표면(44)을 생성할 수 있다. 대안적으로, 순응성 재료 층(42)은 표면(44)이 초기에 분리된 부분들(40)의 원하는 높이를 형성하기 위한 일정 거리로 단부 표면들(38) 아래에 있도록 형성될 수 있다. 필요한 경우 봉지 층(42)의 일부의 제거가 연삭, 건식 에칭, 레이저 에칭, 습식 에칭, 래핑(lapping), 등에 의해 달성될 수 있다. 원하는 경우, 와이어 본드들(32)의 자유 단부들(36)의 일부가 또한, 서로에 대해 실질적으로 평평한 사실상 평면인 단부 표면들(38)을 달성하기 위한 동일한 또는 추가의 단계에서 제거될 수 있다.
앞서 논의된 바와 같이, 상기 단계들 또는 그의 변형예로부터 생성된 마이크로전자 소자(10)는 기판 상에서 패키징될 수 있거나 또는 PCB 상에 실장될 수 있다. 이러한 이후 단계들 중 어느 것도 유사한 방식으로 수행될 수 있다. 도 10에 도시된 예에서, 마이크로전자 소자(10)는 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40) 위의 땜납 등일 수 있는 전도성 금속 질량체들(66)을 침착함으로써 외부 구성요소와의 본딩을 위해 준비될 수 있다. 질량체들(66)은 질량체들(66)이 각각의 연장 부분들(40) 상의 위치들에 적어도 일시적으로 고정된 채로 남아 있도록 냉각 및 고형화되게 할 수 있다. 도 11에 도시된 바와 같이, 도 10으로부터의 마이크로전자 소자(10)는 질량체들(66) 및 그에 따라 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40)이 PCB(90)의 접점 패드들(92)과 정렬된 채로 PCB와 정렬될 수 있다. 이어서, 질량체들(66)은 패드들(92)과 접촉되고, 가열되어 전도성 재료를 재유동시켜 이를 패드들(92)과 연결시키고 마이크로전자 소자(10)를 PCB(90)에 고정시킬 수 있는 데, 이는 도 12에 도시된 바와 같다.
도 10 내지 도 12의 실장 단계들의 변형예에서, 전도성 금속 질량체들(66)은 접점 패드들(92) 상에 침착될 수 있는 데, 이는 마이크로전자 소자 실장을 위한 준비 상태인 도 13에 도시된 바와 같다. 이어서, 마이크로전자 소자(10)는 와이어 본드들(32)의 연장 부분들(40)이 질량체들(66)과 (그리고, 따라서, 접점 패드들(92)과) 정렬된 채로 PCB(90) 위에 위치될 수 있다. 질량체들(66)은 가열되어 재유동을 야기할 수 있고, 마이크로전자 소자(10)는 연장 부분들(40)이 질량체들(66) - 이는 이후에 냉각되어 연장 부분들(40)과 연결될 수 있게 됨 - 내에 위치되도록 PCB(90)를 향하여 이동될 수 있다.
(도 10 내지 도 12 및 도 13으로부터의) 앞서 논의된 단계들 중 어느 것도 또한, 도 2를 참조하여 전술된 바와 같이, 전술된 바와 같이 형성된 마이크로전자 소자(10)를 패키지 조립체(24) 내의 기판(46)에 연결하는 데 사용될 수 있다. 그러한 패키지(24)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 성형된 유전체(68)를 위에 침착하기 위해 추가로 프로세싱될 수 있고, 이는 마이크로전자 패키징 내의 성형된 유전체 형성을 위해 성형 또는 다른 곳에서 사용된 다른 방법들을 이용하여 수행될 수 있다. 대안적으로, 전도성 금속 질량체들(66)을 둘러싸는 기판(46)과 마이크로전자 소자(10) 사이의 영역에 언더필(underfill)이 침착될 수 있다.
전술된 방법 단계들의 변형예가 또한 도 5 및 도 6에 도시된 다중 다이 배열체를 형성하고 패키징하거나 또는 실장하기 위해 사용될 수 있다. 그러한 변형예에서, (본 명세서에서 논의된 임의의 방법에 의해 수행될 수 있는) 와이어 본드 형성 전에 또는 후에 제2 다이(22)가 다이(12) 상에 실장될 수 있다. 도 6의 예에서, 와이어 본드 형성 전에 다이(222)를 다이(212) 상에 실장함으로써, 연속되는 단계들 대신에, 와이어 본드들(232)이 한 번에 모두 형성되는 결과를 가져올 수 있다. 다이 실장 및 와이어 본드 형성 후에, 순응성 층들(242, 342)은 앞서 논의된 바와 같이 침착될 수 있고, 패키지들은, 이전에 논의된 바와 같이 그리고 단일 다이 마이크로전자 디바이스(10)와 동일한 방식으로, 실장될 수 있다.
도 14 및 도 15는 와이어 본드 형성에 사용될 수 있는 특정 방법 단계들 동안의 인프로세스 유닛(10')을 도시한다. 도 14에 도시된 바와 같이, 와이어 본딩 공구의 모세관(70)이 기판(12)의 제1 표면(14)에 근접하게 있다. 도 4에 개략적으로 도시된 모세관(70)은, 그와 관련된 본딩 공구(미도시)와 함께, 대체로 전술된 유형의 것일 수 있고 와이어 본드들(32)의 베이스들(34)을 반도체 다이(12)의 전도성 소자들(28)에 연결시킬 수 있다.
이러한 특정 세트의 방법 단계들에서, 원하는 길이의 와이어(74)가 형성되는 와이어 본드의 원하는 높이를 위해 모세관(70)의 외부로 인출된 후에, 와이어(77)는 모세관(70)의 면(76) 및 2차 표면(80)을 이용하여 절단되고 적절히 위치설정된다.도 14에 도시된 바와 같이, 절단 및 위치설정은 도 14에서 소자의 표면으로 개략적으로 도시된 2차 표면(80) 위의 위치로 모세관(70)을 이동시킴으로써 시작된다. 다양한 응용예에서, 2차 표면(80)은 금속 등과 같이 아래에서 설명되는 절단 응용을 위한 충분한 경도의 소자 상에 있을 수 있다. 그러한 소자는 일정 위치에서 본딩 공구에 부착되어 모세관(70)이 와이어 본딩 프로세스 동안 이동됨에 따라서 모세관(70)을 따라갈 수 있다. 다른 예에서, 소자는 반도체 다이(12)의 영역 내에서 본딩 공구에 상대적으로 고정될 수 있다.
도 14에 도시된 예에서, 모세관(70)은 2차 표면(80) 위에 위치될 수 있다. 모세관(70)이 적절히 위치된 후에, 이는, 와이어(74)의 일부가 2차 표면(80)과 와이어(74)로부터 외향으로 연장된 모세관(70)의 면(76) 사이에 있는 상태에서, 2차 표면(80)을 향하여 가압된다. 이어서, 압력이 와이어에 인가되어 면(76)을 2차 표면(80)을 향하여 이동시켜서, 이들 사이에 와이어(74)를 가압하여, 와이어(74)의 소성 변형, 예컨대, 영역(78)에서 와이어의 평탄화 또는 협착을 야기한다. 그러한 변형을 통하여, 와이어(74)의 영역(78)은 그의 어느 일 측 상에서 와이어(74)의 나머지 부분들보다 어느 정도 더 약하게 되고 베이스(34)와 접점 부분(30) 사이의 연결부보다 약하게 된다. 예를 들어, 영역(78)은 와이어(74)의 그의 어느 일 측 상의 다른 부분들에 비해 어느 정도 평탄해질 수 있거나, 수축될 수 있거나, 또는 비틀어질 수 있다.
와이어(74)의 영역(78)의 변형 후에, 이어서, 모세관(70)은 형성되는 와이어 본드(32)의 자유 단부(36)에 대한 최종 원하는 위치를 향하여 뒤로 이동된다. 이러한 위치는 베이스(43) 바로 위에 있을 수 있거나 또는 그로부터 측방향으로 변위될 수 있는데, 이는 도 3b 및 도 3c의 예를 참조하여 앞서 논의된 바와 같다. 모세관(70)의 위치는 대체적으로 자유 단부(36)의 원하는 측방향 영역에 있을 수 있고 원하는 최종 위치보다 제1 표면(14)에 단지 어느 정도 더 가까울 수 있다. 더욱이, 와이어는, 제1 부분(52) 및 제2 부분(54)을 포함하여 위에서 논의된 완성된 와이어 본드들(32)의 형상과 유사한 형상을 포함하여, 부분적으로 만곡된 채로 남아 있을 수 있다.
이어서, 모세관(70)은 모세관(70)과 베이스(34) 사이의 (모세관(70) 내에 클램핑(clamping)되거나 또는 그렇지 않으면 고정될 수 있는) 와이어(74)의 세그먼트에 장력을 인가하도록 표면(14)으로부터 멀리 이동될 수 있다. 이러한 장력은, 도 15에 도시된 바와 같이, 와이어(74)가 영역(78)에서 파단되게 하고, 이는 와이어 본드(32)를 와이어(74)의 나머지 부분으로부터 분리하여 영역(78)의 일부가 단부 표면(38)이 위에 형성된 자유 단부(36)의 팁(62)을 형성하게 한다. 영역(78)의 나머지 부분은 와이어(74)의 새로운 선단부(72') 상에 남아 있다. 이들 단계들은 와이어 본드들(32)의 어레이를 원하는 패턴으로 형성하기 위하여 반도체 다이(12)의 표면(14)에서 다른 전도성 소자들(28)에 대해 반복될 수 있다.
본 명세서의 발명이 특정 실시예들을 참고로 하여 설명되었지만, 이들 실시예들은 본 발명의 원리 및 응용에 대한 예시에 불과하다는 것을 이해해야 한다. 따라서, 많은 변형이 예시적인 실시예들에 대해 이루어질 수 있고 다른 배열이 첨부된 청구범위에 의해 한정되는 바와 같은 본 발명의 사상 및 범주로부터 벗어남이 없이 안출될 수 있다는 것을 이해하여야 한다.
Claims (21)
- 마이크로전자 구조체로서,
서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 상기 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 갖는 반도체 다이;
상기 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들을 갖고, 상기 베이스들로부터 원격에 있고 상기 기판 및 상기 베이스들로부터 원격에 있고 단부 표면들을 위에 포함하는 자유 단부들을 추가로 갖고, 상기 베이스들과 단부 표면들 사이에서 연장된 에지 표면들을 형성하는 와이어 본드들; 및
상기 와이어 본드들의 상기 베이스들 외측에서 상기 반도체 다이의 상기 제1 표면 위에 놓이고 그로부터 연장된 순응성 재료 층으로서, 상기 순응성 재료 층은 상기 와이어 본드들의 상기 베이스들에 적어도 인접한 상기 와이어 본드들의 상기 에지 표면들의 제1 부분들을 따라서 추가로 연장되고 상기 와이어 본드들의 상기 제1 부분들 사이의 공간들을 충전하여 상기 와이어 본드들의 상기 제1 부분들이 상기 순응성 재료 층에 의해 서로 분리되게 하고, 상기 순응성 재료 층은 상기 반도체 다이의 상기 제1 표면으로부터 멀리 향하는 제3 표면을 추가로 갖고, 상기 와이어 본드들의 제2 부분들이 상기 제3 표면으로부터 멀리 연장되고, 상기 제2 부분들은 상기 와이어 본드들의 상기 자유 단부들을 포함하는, 상기 순응성 재료 층을 포함하는, 마이크로전자 구조체. - 제1항에 있어서, 상기 와이어 본드들의 상기 제1 부분들은 상기 순응성 재료에 의해 완전히 봉지되고, 상기 와이어 본드들의 상기 제2 부분들은 그의 상기 베이스들에 대해 이동가능한, 마이크로전자 구조체.
- 제1항에 있어서, 상기 순응성 재료 층은 영률이 2.5 GPa 이하인, 마이크로전자 구조체.
- 제1항에 있어서, 상기 와이어 본드들의 상기 제2 부분들은 상기 제3 표면에 대해 적어도 30도의 각으로 배치된 상기 와이어 본드들의 축들을 따라서 연장된, 마이크로전자 구조체.
- 제1항에 있어서, 상기 와이어 본드들의 상기 단부 표면들은 적어도 50 마이크로미터의 거리만큼 상기 제3 표면 위에 위치되는, 마이크로전자 구조체.
- 제1항에 있어서, 상기 반도체 다이는 상기 제1 표면과 상기 제2 표면 사이에 연장된 에지 표면들을 추가로 형성하고, 상기 순응성 재료 층은 상기 반도체 다이의 상기 에지 표면들과 실질적으로 동일평면이도록 상기 순응성 재료 층의 상기 제3 표면으로부터 상기 반도체 다이의 상기 제1 표면까지 연장된 에지 표면들을 추가로 포함하는, 마이크로전자 구조체.
- 제1항에 있어서, 상기 와이어 본드들 중 적어도 하나는 상기 와이어 본드가 그의 상기 자유 단부와 상기 베이스 사이에 축을 형성하도록 하는 그리고 상기 와이어 본드가 평면을 형성하도록 하는 형상을 갖고, 상기 적어도 하나의 와이어 본드는 그의 만곡 부분이 상기 평면 내에서 상기 축으로부터 멀리 연장되는, 마이크로전자 구조체.
- 제7항에 있어서, 상기 적어도 하나의 와이어 본드의 상기 형상은 추가로 상기 와이어 본드의 실질적으로 직선인 부분이 상기 자유 단부와 상기 만곡 부분 사이에서 상기 축을 따라서 연장되도록 하는 형상인, 마이크로전자 구조체.
- 제1항에 있어서, 상기 와이어 본드들의 상기 제2 부분들과 연결되고 상기 순응성 재료 층의 상기 제3 표면과 접촉하는 전도성 금속 질량체들을 추가로 포함하는, 마이크로전자 구조체.
- 제9항에 있어서, 상기 전도성 금속 질량체들 중 적어도 하나는 상기 와이어 본드들 중 하나의 상기 제2 부분의 적어도 일부를 봉지하는, 마이크로전자 구조체.
- 제9항에 있어서, 상기 전도성 금속 질량체들은 그의 재유동에 의해 상기 와이어 본드들의 상기 제2 부분들을 외부 전도성 특징부들과 연결시키도록 구성된, 마이크로전자 구조체.
- 제1항에 있어서, 상기 반도체 다이는
제1 영역 및 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 갖는 제1 반도체 다이이고;
상기 제1 반도체 다이의 상기 전기 전도성 소자들은 상기 제2 영역 내에 있고;
상기 마이크로전자 구조체는 상기 제1 영역 내의 상기 제1 반도체 다이 상에 실장된 제2 반도체 다이를 추가로 포함하고, 상기 제2 반도체 다이는 상기 제1 반도체 다이의 상기 전도성 소자들의 적어도 일부와 전기적으로 접속되고;
상기 순응성 재료 층은 상기 제2 반도체 다이를 덮는, 마이크로전자 구조체. - 제1항에 있어서,
상기 반도체 다이는 제1 영역 및 상기 제1 영역을 둘러싸는 제2 영역을 갖는 제1 반도체 다이이고;
상기 제1 반도체 다이의 상기 전기 전도성 소자들은 상기 제2 영역 내에 있고;
상기 마이크로전자 구조체는 상기 제1 영역 내의 상기 제1 반도체 다이 상에 실장된 제2 반도체 다이를 추가로 포함하고, 상기 제2 반도체 다이는 서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 상기 제1 반도체 다이의 상기 제1 표면으로부터 멀리 향하는 상기 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 갖고, 추가의 와이어 본드들이 상기 제2 반도체 다이의 상기 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들을 갖고, 상기 추가 와이어 본드들은 상기 베이스들로부터 원격에 있는 자유 단부들을 추가로 갖고, 상기 자유 단부들은 상기 베이스들 및 상기 제2 반도체 다이의 상기 제1 표면으로부터 원격에 있고 상기 단부 표면들을 위에 포함하고, 상기 와이어 본드들은 그의 상기 베이스들과 단부 표면들 사이에서 연장된 에지 표면들을 형성하고;
상기 순응성 재료 층은 추가로 상기 추가 와이어 본드들의 상기 베이스들의 외측에서 상기 제2 반도체 다이의 상기 제1 표면 위에 놓이고 그로부터 연장되며, 상기 순응성 재료 층은 상기 추가 와이어 본드들의 상기 에지 표면들의 제1 부분들을 따라서 추가로 연장되고, 상기 추가 와이어 본드들의 제2 부분들은 상기 제3 표면에서 상기 순응성 재료 층에 의해 덮이지 않고 그로부터 멀리 연장된 상기 단부 표면들로부터 연장된 상기 에지 표면들의 일부들 및 상기 단부 표면들에 의해 형성되는, 마이크로전자 구조체. - 마이크로전자 패키지로서,
서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 상기 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 갖는 제1 반도체 다이;
상기 제1 표면에서 상기 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들 및 상기 기판 및 상기 베이스들로부터 원격에 있는 단부 표면들을 갖고, 각각이 상기 베이스로부터 상기 단부 표면까지 연장된 와이어 본드들; 및
상기 기판의 상기 제1 표면의 제1 부분 위에 놓이고 그로부터 연장된 순응성 재료 층으로서, 상기 순응성 재료 층은 상기 와이어 본드들의 제1 부분들 사이의 공간들을 충전하여 상기 와이어 본드들의 상기 제1 부분들이 상기 순응성 재료 층에 의해 서로 분리되게 하고, 상기 순응성 재료 층은 상기 기판의 상기 제1 표면으로부터 멀리 향하는 제3 표면을 갖고, 상기 와이어 본드들의 제2 부분들이 상기 제3 표면으로부터 멀리 연장되고, 상기 제2 부분들은 상기 와이어 본드들의 상기 자유 단부들을 포함하는, 상기 순응성 재료 층을 포함하는, 마이크로전자 소자; 및
제4 표면 및 상기 제4 표면에서 노출된 복수의 단자들을 갖는 기판을 포함하고,
상기 마이크로전자 소자는 상기 제3 표면이 상기 제4 표면을 향한 채로 상기 기판 상에 실장되고, 상기 와이어 본드들 중 적어도 일부는 그의 상기 제2 부분들에서 상기 단자들의 각각에 연결되는, 마이크로전자 패키지. - 제14항에 있어서, 상기 와이어 본드들의 상기 제2 부분들은 전도성 금속 질량체들에 의해 상기 단자들에 전기적으로 그리고 기계적으로 연결되는, 마이크로전자 패키지.
- 제14항에 있어서, 상기 기판의 상기 제4 표면의 적어도 일부 위에 형성되고 그로부터 멀리 연장되어 상기 마이크로전자 소자의 적어도 일부를 따라서 연장되는 성형된 유전체 층을 추가로 포함하는, 마이크로전자 패키지.
- 제16항에 있어서, 상기 성형된 유전체 층의 영률은 상기 순응성 재료 층의 영률보다 더 큰, 마이크로전자 패키지.
- 제14항에 있어서, 상기 순응성 재료 층은 영률이 2.5 GPa 미만인, 마이크로전자 패키지.
- 제14항에 있어서, 상기 와이어 본드들은 그의 상기 베이스들과 단부 표면들 사이에서 연장된 에지 표면들을 추가로 형성하고, 상기 순응성 재료 층은 상기 와이어 본드들의 상기 베이스들에 적어도 인접하게 그리고 상기 와이어 본드들의 상기 제1 부분들에서 상기 와이어 본드들의 상기 에지 표면들의 일부들을 따라서 연장되는, 마이크로전자 패키지.
- 제19항에 있어서, 상기 와이어 본드들의 상기 단부 표면들로부터 연장된 상기 와이어 본드들의 상기 에지 표면들의 일부들이 상기 순응성 재료 층의 상기 제3 표면에서 상기 와이어 본드들의 전체 원주들 둘레에서 상기 순응성 재료 층에 의해 덮이지 않는, 마이크로전자 패키지.
- 마이크로전자 구조체의 제조 방법으로서,
서로 반대편으로 향하는 제1 및 제2 표면들 및 상기 제1 표면에 있는 복수의 전기 전도성 소자들을 갖는 반도체 다이 상에 와이어 본드들을 형성하는 단계로서, 상기 와이어 본드들은 상기 전도성 소자들의 각각에 연결된 베이스들을 갖고서 그리고 상기 기판 및 상기 베이스들로부터 원격에 있는 단부 표면들을 갖고서 형성되며, 상기 와이어 본드들의 에지 표면들이 상기 베이스들과 상기 단부 표면들 사이에서 연장되는, 상기 와이어 본드들을 형성하는 단계; 및
상기 와이어 본드들의 상기 베이스들 외측에서 상기 반도체 다이의 상기 제1 표면 위에 놓이고 그로부터 연장된 순응성 재료 층을 형성하는 단계로서, 상기 순응성 재료는 상기 와이어 본드들의 제1 부분들의 상기 에지 표면들의 일부들을 따라서 연장되도록, 상기 와이어 본드들의 상기 제1 부분들 사이의 공간들을 충전하도록, 그리고 상기 와이어 본드들의 상기 제1 부분들을 서로 분리하도록 추가로 형성되고, 상기 순응성 재료 층은 상기 기판의 상기 제1 표면으로부터 멀리 향하는 제3 표면을 갖되 상기 와이어 본드들의 제2 부분들이 상기 제3 표면으로부터 멀리 연장된 채로 추가로 형성되고, 상기 제2 부분들은 상기 와이어 본드들의 상기 자유 단부들을 포함하는, 상기 순응성 재료 층을 형성하는 단계를 포함하는, 방법.
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