JP2008039502A - 接触子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】バーンイン試験を繰り返しても形状がへたってしまうことを防止することができる接触子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の接触子は金属ばね膜の表面に形状記憶合金膜を積層させてなり、その形状は円錐らせん状である。その製造方法は、金属犠牲膜の製造工程、レジスト錐形成工程、レジスト膜パターンニング工程、形状記憶合金膜製造工程などを含む11の工程からなる。有機系レジスト材は耐熱性がないことから、予め金属犠牲膜を形成し、形状記憶合金膜のスパッタ前にレジスト除去を行ない、高温下で行なわれる形状記憶合金のスパッタおよび熱処理後に金属犠牲膜を除去して、余剰の形状記憶合金膜をリフトオフする。
【選択図】図3
【解決手段】本発明の接触子は金属ばね膜の表面に形状記憶合金膜を積層させてなり、その形状は円錐らせん状である。その製造方法は、金属犠牲膜の製造工程、レジスト錐形成工程、レジスト膜パターンニング工程、形状記憶合金膜製造工程などを含む11の工程からなる。有機系レジスト材は耐熱性がないことから、予め金属犠牲膜を形成し、形状記憶合金膜のスパッタ前にレジスト除去を行ない、高温下で行なわれる形状記憶合金のスパッタおよび熱処理後に金属犠牲膜を除去して、余剰の形状記憶合金膜をリフトオフする。
【選択図】図3
Description
本発明は、接触子およびその製造方法に係り、特に、球状やランド状に形成されたバンプ(突起電極)を有する半導体デバイスと電気的に接続を行うために好適に利用できる接触子およびその製造方法に関する。
一般的に、IC(Integrated Circuit:集積回路)やLSI(Large Scale Integration:素子の集積度が1000個〜10000個のIC)などの半導体デバイスの製造工程においては、製造された半導体デバイスをプローブカードと称される検査用配線板に接続させることによりその半導体デバイスに対する電気信号の入出力検査を行ない、半導体デバイスの不良品をパッケージに組み込んでしまうという無駄を低減させている。
ここで、BGA(Ball Grid Array:ボール状格子電極)方式の半導体デバイスやLGA(Land Grid Array:ランド状格子電極)方式の半導体デバイスを検査するプローブカードにおいては、電気信号を通電させる検査用配線がその基板に形成されているとともに、半導体デバイスに数十μmの狭ピッチで多数形成された数十μmの球状バンプ(突起電極)もしくは数十μm幅のランド状バンプと接触させるため、数十μmの狭ピッチで形成された検査用配線の接続端子に中央部を頂部とする数十μm外径の円錐らせん状接触子が接続されている。
この従来の接触子は、有機系レジスト材を用いて円錐らせん状の金属膜をパターンニングし、CuやAuなどの良好な通電性を有する金属をその金属膜の表面上にめっきすることにより形成されている(特許文献1を参照)。
しかしながら、半導体デバイスに対する電気信号の入出力検査は、半導体デバイスの通常使用温度よりも高い温度(120℃程度)およびその通常使用電圧よりも高い電圧を供給するバーンイン試験である。そのため、バーンイン試験を繰り返すと、永久変形の原因となるすべり変形が接触子に生じやすくなるため、バンプに対して適切な圧力が加わらない方向に接触子の形状がへたってしまうという問題があった。
ここで、形状回復特性および耐熱性に優れた形状記憶合金を接触子に用いれば良好な特性を示すのではないかということが考えられる。しかしながら、形状記憶合金をめっきにより形成することはできない。また、形状記憶合金をスパッタすることにより形状記憶合金膜を形成することはできるが、スパッタ後にエッチングで所望の形状を得ようとすれば、形状記憶合金のエッチング液に対して、接触子の材料のエッチング選択性が低いため、形状記憶合金のエッチング時に、接触子もエッチング除去されてしまうという欠点があった。また、レジストによるリフトオフを行なうとしても、形状記憶合金のスパッタおよびその熱処理は200℃〜500℃程度の高温環境下において行なう必要があるので、有機系レジスト材を用いてパターンニングを施したとしても、その有機系レジスト材がその高温環境下に耐えられず、所望の形状の接触子を得ることができない。
そこで、本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、バーンイン試験を繰り返すことによりその形状がへたってしまうことを防止することができる接触子を提供することをその目的としている。
また、本発明は、バーンイン試験を繰り返してもへたらない接触子を製造することができる接触子の製造方法を提供することを他の目的としている。
前述した目的を達成するため、本発明の接触子は、その第1の態様として、円錐らせん状もしくは多角錐らせん状に形成されている金属ばね膜と、金属ばね膜の表面上に形成されているとともに、マルテンサイト変態温度が室温よりも高温であってマルテンサイト逆変態温度がバーンイン試験の試験温度よりも低温となっている形状記憶合金膜とを備えていることを特徴としている。
第1の態様の接触子によれば、室温から試験温度の環境下において接触子に応力が印加され、その接触子が変形したとしても、その接触子の形状記憶合金膜が室温においてマルテンサイト相であって、バーンイン試験の試験温度においてオーステナイト相(母相)であるため、試験温度環境下において形状記憶合金膜が形状記憶効果および超弾性を発揮し、接触子の変形を回復させることができる。また、接触子の金属ばね膜が中央部を頂部とした錐体らせん状に形成されているので、バンプが接触したときに錐体らせん状に形成された接触子がらせん形を広げながらバンプの酸化膜を切削することができる。
本発明の第2の態様の接触子は、第1の態様の接触子において、金属ばね膜は、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)を用いて形成されていることを特徴としている。
第2の態様の接触子によれば、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)は大きな弾性力を発揮するので、他の金属を用いて形成された他の金属ばね膜と比較して、バンプの酸化膜に大きな圧力を加えることができる。
本発明の第3の態様の接触子は、第1または第2の態様の接触子において、形状記憶合金膜は、TiNi合金を用いて形成されていることを特徴としている。
第3の態様の接触子によれば、他の形状記憶合金と比較して、TiNi合金は安定した形状記憶効果および超弾性を発揮することができる。
本発明の第4の態様の接触子は、第3の態様の接触子において、TiNi合金におけるTiサイトの組成は50.0〜51.0mol%となっていることを特徴としている。
第4の態様の接触子によれば、Tiサイトの組成が50.0〜51.0mol%の場合、そのマルテンサイト変態温度を80℃程度にすることができるので、半導体デバイスの取付を行なう室温においては、形状記憶合金膜が良好な形状記憶効果を発揮することができる。また、そのマルテンサイト逆変態温度(オーステナイト変態温度)を100℃程度にすることができるので、バーンイン試験の試験環境下(120℃程度)においては、形状記憶合金膜が良好な超弾性を発揮することができる。
本発明の第5の態様の接触子は、第1から第4のいずれか1の態様の接触子において、金属ばね膜は、配線板に用いられる絶縁基板の表面上または配線板に形成された接続端子の表面上に積層されたシード膜の表面上に積層されており、そのシード膜はTi層もしくはCr層にCu層を積層させることにより形成されていることを特徴としている。
第5の態様の接触子によれば、Ti層およびCr層は絶縁基板および接続端子と良好な密着性を示し、また、Cu層は、下層のTi層もしくはCr層およびNi−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)などの金属ばね膜と良好な密着性を示すので、配線板から接触子が剥離することを防止することができる。
本発明の第6の態様の接触子は、第1から第5のいずれか1の態様の接触子において、形状記憶合金膜の表面上にNi−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)を積層させてなる通電補助膜と、通電補助膜の表面上にAuを積層させてなる通電膜とを備えていることを特徴としている。
第6の態様の接触子の接触子によれば、通電膜が高い電気伝導度を有しているので、接触子の導電性を高めることができる。また、通電膜の下地となる通電補助膜はNi−X合金を用いて形成されており、その弾性力が大きいので、金属ばね膜の補助膜としても用いることができる。
また、本発明の接触子の製造方法は、その第1の態様として、配線板に用いられる絶縁基板の表面上および配線板に形成された接続端子の表面上に金属犠牲膜を形成した後、金属犠牲膜に対して円輪形もしくは多角輪形状の溝をパターンニングすることにより、円輪形もしくは多角輪形状の溝から接続端子を表面に露出させる第1工程と、円輪形もしくは多角輪形状の溝の内側に形成された円形もしくは多角形状の金属犠牲膜に円錐状もしくは多角錐状のレジスト錐をパターンニングする第2工程と、レジスト錐のパターンニング後に金属をスパッタすることによりレジスト錐、円輪形もしくは多角輪形状の溝および円輪形もしくは多角輪形状の溝の外側に形成された金属犠牲膜の表面上にシード膜を形成する第3工程と、シード膜の表面上にレジスト膜を形成した後、レジスト錐の頂点を中心とし、かつ、円輪形もしくは多角輪形状の溝を底面の周とする円錐らせん状もしくは多角錐らせん状の溝をレジスト膜にパターンニングする第4工程と、円錐らせん状もしくは多角錐らせん状の溝の内部にあるシード膜を電気めっきすることにより円錐らせん状もしくは多角錐らせん状の溝に金属ばね膜を形成する第5工程と、金属ばね膜の形成後にレジスト膜を除去する第6工程と、レジスト膜の除去後に表面に露出しているシード膜を除去する第7工程と、シード膜の除去後にレジスト錐を除去する第8工程と、レジスト錐の除去後にマルテンサイト変態温度が室温よりも高温であってマルテンサイト逆変態温度がバーンイン試験の試験温度よりも低温となっている形状記憶合金をスパッタすることにより表面に露出している金属ばね膜および金属犠牲膜の表面上に形状記憶合金膜を形成する第9工程と、形状記憶合金膜に対して形状記憶処理のための熱処理を行なう第10A工程と、形状記憶合金膜の熱処理後に金属犠牲膜を除去することにより金属犠牲膜の表面に形成された形状記憶合金膜をも併せて除去する第11A工程とを備えていることを特徴としている。
第1の態様の接触子によれば、構造材となる金属ばね膜が電気めっきにより形成されているので、その膜厚を制御しやすく、また、形状記憶合金膜はスパッタにより形成されているので、その組成を制御しやすい。これにより、接触子がバンプと接触した際にバンプに所望の圧力を加えることができるとともに、接触子の形状記憶効果および超弾性を安定して発揮させることができる。また、第1の態様の接触子によれば、耐熱性に優れた金属犠牲膜がレジスト膜として形成されているので、耐熱性を有しない有機系レジスト材とは異なり、形状記憶合金膜の熱処理後においても、余分な形状記憶合金膜を金属犠牲膜とともに容易に剥離(リフトオフ)することができる。
本発明の第2の態様の接触子の製造方法は、第1の態様の接触子の製造方法において、金属ばね膜は、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)を用いて形成されていることを特徴としている。
第2の態様の接触子の製造方法によれば、Ni−X合金めっきにより金属ばね膜の膜厚を厚くすることが比較的容易にでき、また、Ni−X合金の弾性力は大きいので、他の金属を用いて形成された金属ばね膜と比較して、バンプおよびその酸化膜に大きな圧力を加えることができる。
本発明の第3の態様の接触子の製造方法は、第1または第2の態様の接触子の製造方法において、形状記憶合金膜は、TiNi合金を用いて形成されていることを特徴としている。
第3の態様の接触子の製造方法によれば、他の形状記憶合金と比較して、TiNi合金は安定した形状記憶効果および超弾性を発揮することができる。
本発明の第4の態様の接触子の製造方法は、第3の態様の接触子の製造方法において、TiNi合金におけるTiサイトの組成は50.0〜51.0mol%となっていることを特徴としている。
第4の態様の接触子の製造方法によれば、Tiサイトの組成が50.0〜51.0mol%の場合、そのマルテンサイト変態温度を80℃程度にすることができるので、半導体デバイスの取付を行なう室温においては、形状記憶合金膜が良好な形状記憶効果を発揮することができる。また、そのマルテンサイト逆変態温度(オーステナイト変態温度)を100℃程度にすることができるので、バーンイン試験の試験環境下(120℃程度)においては、形状記憶合金膜が良好な超弾性を発揮することができる。さらに、形状記憶合金は組成に対して敏感であるが、Tiサイトの組成が50.0〜51.0mol%であれば、スパッタにより組成がずれたとしても、その変態温度は変化しないので、同等の性質を有する形状記憶合金膜を反復形成することができる。
本発明の第5の態様の接触子の製造方法は、第1から第4のいずれか1の態様の接触子の製造方法において、シード膜は、Ti層もしくはCr層にCu層を積層させることにより形成されていることを特徴としている。
第5の態様の接触子の製造方法によれば、Ti層およびCr層は絶縁基板および接続端子と良好な密着性を示し、また、Cu層は、下層のTi層もしくはCr層およびNi−X合金などの金属ばね膜と良好な密着性を示すので、配線板から接触子が剥離することを防止することができる。
本発明の第6の態様の接触子の製造方法は、第1から第5のいずれか1の態様の接触子の製造方法において、金属犠牲膜は、Cr層にCu層を積層させることにより形成されていることを特徴としている。
第6の態様の接触子の製造方法によれば、Cr用エッチング液およびCu用エッチング液を用いることにより、Cr層およびCu層のエッチング率をシード膜、金属ばね膜および形状記憶合金膜のエッチング率よりも大きくすることができるので、シード膜、金属ばね膜および形状記憶合金膜に影響を与えることなく、金属犠牲膜をエッチングすることができる。
本発明の第7の態様の接触子の製造方法は、第1から第6のいずれか1の態様の接触子の製造方法において、レジスト錐に用いられるレジスト材の粘度は、レジスト膜に用いられるレジスト材の粘度よりも高いことを特徴としている。
第7の態様の接触子の製造方法によれば、レジスト錐は円錐状もしくは多角錐状に形成される立体形状であるため、レジスト膜よりも高い粘度を有することにより、レジスト錐のパターンニングを容易にすることができる。
本発明の第8の態様の接触子の製造方法は、第1から第7のいずれか1の態様の接触子の製造方法において、第10A工程後第11A工程前において、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)をスパッタすることにより、形状記憶合金膜の表面上に通電補助膜を形成する第10B工程と、第11A工程後において通電補助膜のNiをAuに置換することにより通電補助膜の表面に通電膜を形成する第11B工程とを備えていることを特徴としている。
第8の態様の接触子の接触子の製造方法によれば、金属犠牲膜の除去後において下地となる通電補助膜の表面上にAuの通電膜を置換形成しているので、Auを無駄に除去することなく、接触子の導電性を高めることができる。また、通電補助膜はNi−X合金を用いて形成されており、その弾性力が大きいので、金属ばね膜の補助膜としても用いることができる。
本発明の接触子によれば、マルテンサイト逆変態温度以上の加熱または接触子とバンプとの接触による荷重の除荷により接触子に生じた塑性変形(双晶変形)を回復させることができるので、バーンイン試験を繰り返すことにより接触子が永久変形を起こしてへたってしまうことを防止することができるという効果を奏する。
また、本発明の接触子の製造方法によれば、一定の膜厚を有する金属ばね膜の表面上に形状回復特性に優れた形状記憶合金膜を積層させることにより接触子が形成されており、その形状記憶合金膜が耐熱性に優れた金属犠牲膜により所定の形状にパターンニングされているので、バーンイン試験を繰り返してもへたらない接触子を製造することができるという効果を奏する。
以下、図1および図2を用いて、本発明の接触子の一実施形態を説明する。
図1は本実施形態の接触子1を示す斜視図であり、図2は本実施形態の接触子1を示す縦断面図である。本実施形態の接触子1は、図1に示すように、中央を頂部とした円錐らせん状に形成されており、プローブカード(検査用配線板)10の絶縁基板11に形成された接続端子12上に接続されている。この接触子1は、図2に示すように、金属ばね膜2および形状記憶合金膜3を積層させることにより形成されている。また、本実施形態の接触子1は、金属ばね膜2および形状記憶合金膜3の補助膜として、シード膜4、通電補助膜5および通電膜6をそれぞれ所定の位置に積層させることにより形成されている。
金属ばね膜2は中央を頂部とした円錐らせん状に形成されており、その直径が200μm程度、その高さが100μm程度になっている。この金属ばね膜2としては、永久変形の原因となるすべり変形が生じにくい金属であればいずれの金属を用いて形成されていても良い。本実施形態においては、大きな弾性力を発揮するNi−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)のうちの一種であるNi−P(ニッケル−リン)合金が用いられており、その膜厚が10〜30μm程度になるように形成されている。
形状記憶合金膜3は、マルテンサイト変態温度(Ms点)が室温(例えば25℃程度)よりも高温であってマルテンサイト逆変態温度(オーステナイト変態温度、Af点)がバーンイン試験の試験温度(例えば120℃程度)よりも低温に設定されている形状記憶合金を用いて、金属ばね膜2の表面上にスパッタ形成されている。本実施形態の形状記憶合金膜3においては、多種の形状記憶合金の中でも形状回復可能な双晶変形が最も安定して起こるTiNi合金(TiNi二元合金のほか、TiNiZr、TiNiCuなどのTiNi基合金も含む。本実施形態においてはTiNi二元合金)が用いられており、その膜厚が6μm程度になるように形成されている。このTiNi合金におけるTiサイトの組成(Tiの組成にTiと置換する元素の組成を合計した組成。本実施形態においてはTiの組成)は50.0〜51.0mol%に設定されており、TiリッチのTiNi合金となっている。そのため、そのマルテンサイト変態温度は80℃程度になっており、そのマルテンサイト逆変態温度、すなわちオーステナイト変態温度は100℃程度になっている。
シード膜4は、絶縁基板11または接続端子12と金属ばね膜2との間に積層されている。このシード膜4は、金属ばね膜2の形成の際に用いられるとともに、絶縁基板11または接続端子12と金属ばね膜2との接着膜としても用いられる。したがって、本実施形態のシード膜4においては、Ti層もしくはCr層を第一層とし、その第一層の表面に第二層となるCu層を積層させることにより形成されている。
通電補助膜5は、形状記憶合金膜3の表面上にNi−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)のうちの一種であるNi−P合金を膜厚2μm程度積層させることにより形成されている。また、通電膜6は、通電補助膜5の表面上にAuを膜厚0.3μm程度積層させることにより形成されている。
図3A〜図3Jは、本実施形態の接触子1の製造方法を縦断面図により示している。本実施形態の接触子1の製造方法は、図3A〜図3Jに示すように、第1工程から第11工程までの各工程を主な工程として備えている。
第1工程においては、図3Aに示すように、プローブカード10の絶縁基板11および接続端子12に金属犠牲膜21を形成する。本実施形態の金属犠牲膜21は、スパッタにより厚さ15nmのCr層を形成し、そのCr層の表面にスパッタにより厚さ1μmのCu層を積層させることにより形成されている。そして、この金属犠牲膜21に対して円輪形の溝21aをパターンニングする。このパターンニングとは、レジスト材を塗布し、レジスト材を残す部分もしくは残さない部分にマスクをかけてから露光を行った後、エッチング液により現像を行い、レジスト材をエッチングすることをいう。このパターンニングにより、円輪形の溝21aから接続端子12を表面に露出させている。
第2工程においては、図3Bに示すように、円輪形の溝21aの内側に形成された円形の金属犠牲膜21Aに円柱状のレジスト体を形成し、その円柱状レジスト体をレジストコートし、多重露光を行い、現像することにより、円錐状のレジスト錐22をパターンニングする。このレジスト錐22に用いられるレジスト材としては、薄膜形成に用いられるレジスト材(本実施形態においては、下記に示すレジスト膜23に用いられるレジスト材)の粘度よりも高い粘度を有するもの、具体的は高粘度のノボラック系レジスト材が選択されている。
第3工程においては、図3Cに示すように、レジスト錐22のパターンニング後、電気伝導度に優れた金属をスパッタすることにより、第2工程後において露出している各表面、すなわちレジスト錐22、円輪形の溝21aおよび円輪形の溝21aの外側に形成された金属犠牲膜21Bの各表面にシード膜4を形成する。このシード膜4は、膜厚15nm程度のTi層もしくはCr層を第一層とし、その第一層に第二層となる膜厚0.1μm程度のCu層を積層させることにより形成されている。
第4工程においては、図3Dに示すように、シード膜4にレジスト膜23を形成し、円錐らせん状の溝23aをレジスト膜23にパターンニングする。この円錐らせん状の溝23aは、レジスト錐22の頂点を中心とし、かつ、円輪形の溝21aを底面の周としており、その底面の周(円輪形の溝21a)から接続端子12に形成されたシード膜4が表面に露出している。また、レジスト膜23のレジスト材はノボラック系レジスト材であり、前述したように、その粘度はレジスト錐22に用いられるレジスト材の粘度よりも低い。
第5工程においては、図3Eに示すように、シード膜4を電気めっきすることにより、円錐らせん状の溝23aに金属ばね膜2を形成する。この金属ばね膜2としては、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)のうちの一種であるNi−P合金が用いられ、その膜厚は10〜30μmとなっている。
第6工程においては、図3Fに示すように、金属ばね膜2の形成後にレジスト膜23を除去する。レジスト除去剤としては、N−メチル−2−ピロリドン(分子式:C5H9NO、商品名:NMP)が用いられる。
第7工程においては、図3Gに示すように、レジスト膜23の除去後に表面に露出しているシード膜4を除去する。シード膜4の除去はイオンミリングにより行なわれる。
第8工程においては、図3Hに示すように、シード膜4の除去後にそのシード膜4の除去部分からレジスト除去剤を供給し、レジスト錐22を除去する。レジスト除去剤としては、レジスト膜23の除去に用いるレジスト除去剤と同様、N−メチル−2−ピロリドンが用いられる。
第9工程においては、図3Iに示すように、レジスト錐22の除去後において、マルテンサイト変態温度が室温よりも高温であってマルテンサイト逆変態温度がバーンイン試験の試験温度よりも低温となっている形状記憶合金をスパッタすることにより、表面に露出している金属ばね膜2および金属犠牲膜21の表面上に形状記憶合金膜3を形成する。スパッタする形状記憶合金は、TiNi合金であり、TiNi合金におけるTiサイトの組成は50.0〜51.0mol%となっている。スパッタ処理条件としては、加熱温度230℃、Arガス圧0.46Paであり、成膜された形状記憶合金膜3の膜厚は6μmである。
第10A工程においては、図3Iに示された形状記憶合金膜3に熱処理を行なう。この熱処理は形状記憶合金膜3に対する形状記憶処理であり、その条件は420℃、30分の焼鈍である。
第11A工程においては、図3Jに示すように、形状記憶合金膜3の熱処理後、金属犠牲膜21を除去(リフトオフ)することにより、金属犠牲膜21の表面に形成された形状記憶合金膜3をも併せて除去する。本実施形態の金属犠牲膜21はCr層にCu層を積層させてなるため、Cu層のリフトオフ後にCr層をリフトオフする。Cuリフトオフ剤としては、硫酸鉄(III)(別名:硫酸第二鉄、組成式:Fe2(SO4)3)水溶液に硫酸を加えて得た水溶液が用いられており、Crリフトオフ剤としては、フェリシアン化カリウム(分子式:K3Fe(CN)6)水溶液が用いられている。
また、本実施形態の接触子1は、図2に示すように、通電補助膜5および通電膜6を備えているので、本実施形態の接触子1の製造方法においては、上記工程のほかに、図4Aおよび図4Bに示すように、第10B工程および第11B工程を備えている。
第10B工程においては、図4Aに示すように、第10A工程後第11A工程前、すなわち形状記憶合金膜3の熱処理後金属犠牲膜21の除去前において、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)のうちの一種であるNi−P合金をスパッタすることにより、形状記憶合金膜3に通電補助膜5を形成する。この通電補助膜5は、後に行なうNi置換Auめっきの下地膜となる。スパッタ処理条件としては、0.1〜10Pa、RF800Wであり、成膜された通電補助膜5の膜厚は2μmである。
また、第11B工程においては、図4Bに示すように、第11A工程後、すなわち金属犠牲膜21の除去後において、通電補助膜5のNiをAuに置換することにより、通電補助膜5の表面に通電膜6を形成する。この通電膜6の形成は、無電解めっきにより行なわれ、そのめっき液はエピタス(商品名)である。また、成膜された通電膜6の膜厚は0.3μmである。
次に、図1から図8を用いて、本実施形態の接触子1およびその製造方法の作用を説明する。ここで、図5はマルテンサイト変態温度以下の温度における形状記憶合金膜3の応力−ひずみ線図を示し、図6は、マルテンサイト逆変態温度以上の温度における形状記憶合金膜3の応力−ひずみ線図を示している。また、図7および図8は、本実施形態の接触子1がボール状バンプ15Aまたはランド状バンプ15Bに接触して下方に圧力が生じた状態を示している。
本実施形態の接触子1においては、円錐らせん状の金属ばね膜2の表面上に形状記憶合金膜3が積層されている。そして、この形状記憶合金膜3のマルテンサイト逆変態温度は、バーンイン試験の試験温度(例えば120℃程度)よりも低温であって室温よりも高温に設定されている。
図5に示すように、形状記憶合金は、マルテンサイト変態温度(MS点)以下の環境下においてマルテンサイト相であり、その環境下(例えば室温)おける変形に対し、マルテンサイト逆変態温度(Af点)以上の加熱により、形状記憶効果を発揮する。また、図6に示すように、形状記憶合金は、マルテンサイト逆変態温度以上の環境下においてオーステナイト相であり、その環境下(例えばバーンイン試験の試験温度)おける変形に対し、除荷のみによりその変形を回復させるという超弾性を示す。いずれも形状記憶合金の双晶変形によるものであり、永久変形の原因となるすべり変形は生じない。
したがって、本実施形態の接触子1においては、室温において検査対象の半導体デバイスをプローブカード10に取付ける際、図7および図8に示すように、その半導体デバイスのバンプ15A、15Bによりプローブカード10に取付けられた接触子1がそのらせん形状を外側に拡大させる方向に変形したとしても、バーンイン試験の試験環境下において、その変形を形状記憶効果により回復させることができる。また、バーンイン試験の試験環境下において、その接触子1が変形したとしても、変形応力の除去後にその変形を超弾性により回復させることができる。
つまり、本実施形態の接触子1においては、永久変形の原因となるすべり変形が生じるのではなく、加熱もしくは除荷により形状回復可能な双晶変形が生じるので、従来の接触子1のように、バーンイン試験の繰り返しにより接触子1がすべり変形を起こし、その形状を変化させてしまうことがない。
特に、本実施形態の形状記憶合金膜3においては、TiNi合金が用いられているため、Cu系形状記憶合金や鉄系形状記憶合金などの他の形状記憶合金と比較して、安定した形状記憶効果および超弾性を発揮することができる。また、このTiNi合金は、そのTiサイトの組成が50.0〜51.0mol%となっているので、そのマルテンサイト変態温度が80℃程度となり、半導体デバイスの取付を行なう室温においては良好な形状記憶効果を発揮することができる。また、そのマルテンサイト逆変態温度(オーステナイト変態温度)が100℃程度となるので、バーンイン試験の試験環境下(120℃程度)においては良好な超弾性を示すことができる。
また、本実施形態の接触子1においては、図1および図2に示すように、その金属ばね膜2が円錐らせん状に形成されており、図7および図8に示すように、バンプ15A、15Bと接触したときに円錐らせん状の接触子1が外側に広がりながらバンプ15A、15Bに圧力を加える。そのため、バンプ15A、15Bの表面に酸化膜が形成されていたとしても、接触子1がその酸化膜を切削しながらバンプ15A、15Bの表面に接触することができ、バンプ15A、15Bと接触子1とを確実に導通させることができる。
この円錐らせん状の接触子1は、その中央部が円錐の頂部を形成しているので、バンプ15A、15Bに対して平面らせん状の接触子1よりも大きな圧力を加えることができる。さらに、この金属ばね膜2は、弾性力が大きいNi−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)のうちの一種であるNi−P合金を用いて形成されているので、全てのバンプ15A、15Bに対して大きな圧力を加えられることができる。
バンプ15A、15Bに大きな圧力が加わると、接触子1に対しても大きな圧力が加わるので、その変形の原因となるばかりでなく、接触子1とプローブカード10との剥離の原因ともなる。そこで、プローブカード10と接触子1との中間層においては、シード膜4が積層されている。
本実施形態のシード膜4においては、第一層としてTi層もしくはCr層が形成されており、第二層としてCu層が形成されているので、第一層がプローブカード10およびその接続端子12と良好な密着性を示すとともに、第二層が第一層および金属ばね膜2と良好な密着性を示す。そのため、本来、シード膜4とは金属ばね膜2をめっき成膜させるためのものであるが、本実施形態のシード膜4はプローブカード10と金属ばね膜2との接着膜ともなるので、バンプ15A、15Bから接触子1に大きな圧力が加わっても、プローブカード10から接触子1が剥離することを防止することができる。
さらに、本実施形態の接触子1においては、図2に示すように、Ni−P合金の通電補助膜5の表面上にAuの通電膜6が形成されており、その通電膜6が高い電気伝導度を有しているので、接触子1の導電性を高めることができる。
この接触子1は、第1工程から第11工程を経て製造されている。ここで、第5工程によれば、構造材となる金属ばね膜2が電気めっきにより形成されているので、その膜厚を厚くする制御を行いやすい。また、第9工程によれば、形状記憶合金膜3はスパッタにより形成されているので、その組成を制御しやすい。これにより、接触子1がバンプ15A、15Bと接触した際に、バンプ15A、15Bに所望の圧力を加えることができるとともに、製造した全ての接触子1に対してその形状記憶効果および超弾性を安定して発揮させることができる。
本実施形態の形状記憶合金膜3においては、Tiサイトの組成が50.0〜51.0mol%のTiNi合金が用いられている。前述の通り、その特性については安定した形状記憶効果および超弾性を発揮することができる。また、TiNi合金は、Niサイトの組成が50.0〜51.0mol%においてその変態温度が100℃も変化するほどに組成に対して敏感な合金であることも知られているが、Tiサイトの組成が50.0〜51.0mol%であれば、その変態温度は一定であることも知られている。すなわち、スパッタによりTiサイトの組成がわずかにずれたとしても、その組成が50.0〜51.0mol%の範囲内であれば、その変態温度は変化せずに同等の特性を有する形状記憶合金膜3を成膜することができる。
また、第1工程によれば、耐熱性に優れた金属犠牲膜21をレジスト膜23として形成しているので、耐熱性を有しない有機系レジスト材とは異なり、形状記憶合金膜3の熱処理後においても、余分な形状記憶合金膜3を金属犠牲膜21とともに容易に剥離(リフトオフ)することができる。本実施形態の金属犠牲膜21においては、Cr層にCu層を積層させることにより形成されているので、Cr用エッチング液およびCu用エッチング液を用いることにより、Cr層およびCu層のエッチング率をシード膜4、金属ばね膜2および形状記憶合金膜3のエッチング率よりも大きくすることができる。つまり、シード膜4、金属ばね膜2および形状記憶合金膜3に影響を与えることなく、金属犠牲膜21をエッチングすることができる。
この形状記憶合金膜3の下地となる金属ばね膜2は、弾性力が大きいNi−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)の一種であるNi−P合金を用いて形成されている。Ni−P合金めっきにより金属ばね膜2の膜厚を厚くすることが比較的容易にでき、また、Ni−P合金の弾性力は大きいので、他の金属を用いて形成された金属ばね膜2と比較して、バンプ15A、15Bおよびその酸化膜に大きな圧力を加えることができる。
プローブカード10の絶縁基板11および接続端子12と金属ばね膜2との中間層にはシード膜4が積層されている。このシード膜4は、その表面に良導体のCu層を有しているので、金属ばね膜2のめっき処理を効率よく行うことができる。また、前述したように、このシード膜4は、絶縁基板11および接続端子12ならびに金属ばね膜2と良好な密着性を示すので、プローブカード10から接触子1が剥離することを防止することができる。
また、本実施形態の接触子1の製造方法においては、第2工程および第4工程において、レジスト錐22およびレジスト膜23を形成するが、このレジスト錐22は円錐状に形成される立体形状であるため、レジスト膜23に用いられるレジスト材よりも高い粘度を有することにより、レジスト錐22のパターンニングを容易に行なうことができる。
さらに、本実施形態の形状記憶合金膜3においては、形状記憶合金膜3の熱処理(形状記憶処理)後においてNi−P合金の通電補助膜5を形状記憶合金膜3の表面にスパッタ形成し(第10B工程)、金属犠牲膜21の除去後においてその通電補助膜5のNiにAuを置換して通電膜6を形成している(第11B工程)。そのため、金属犠牲膜21の除去後に余分なNi−P合金を除去することができるとともに、除去せずに最後まで表面に残るNi−P合金のみにAuを置換することができ、Auを無駄に除去することを防止することができる。また、前述の通り、接触子1の表面に通電膜6を形成することにより、接触子1の導電性を高めることもできる。
すなわち、本実施形態の接触子1によれば、マルテンサイト逆変態温度以上の加熱または接触子1とバンプ15A、15Bとの接触による荷重の除荷により接触子1に生じた塑性変形(双晶変形)を回復させることができるので、バーンイン試験を繰り返すことにより接触子1が永久変形を起こしてへたってしまうことを防止することができるという効果を奏する。
また、本実施形態の接触子1の製造方法によれば、接触子1が一定の膜厚を有する金属ばね膜2の表面上に形状回復特性に優れた形状記憶合金膜3を積層させることにより形成されており、その形状記憶合金膜3が金属犠牲膜21により所定の形状にパターンニングされているので、バーンイン試験を繰り返してもへたらない接触子1を製造することができるという効果を奏する。
なお、本発明は、前述した実施形態などに限定されるものではなく、必要に応じて種々の変更が可能である。
例えば、本発明の接触子は円錐らせん状に限られず、中央部が突出したらせん状であればよいので、他の実施形態においては、図9に示すように、その接触子1Bが多角錐らせん状に形成されていても良い。その際には、その製造方法の第1工程において、多角輪形状の溝をパターンニングし、その第2工程において、多角錐状のレジスト錐をパターンニングし、その第3工程において、多角錐らせん状の溝をレジスト膜にパターンニングすることが好ましい。
1 接触子
2 金属ばね膜
3 形状記憶合金膜
4 シード膜
5 通電補助膜
6 通電膜
12 接続端子
21 金属犠牲膜
21a 円輪形の溝
22 レジスト錐
23 レジスト膜
23a 円錐らせん状の溝
2 金属ばね膜
3 形状記憶合金膜
4 シード膜
5 通電補助膜
6 通電膜
12 接続端子
21 金属犠牲膜
21a 円輪形の溝
22 レジスト錐
23 レジスト膜
23a 円錐らせん状の溝
Claims (14)
- 円錐らせん状もしくは多角錐らせん状に形成されている金属ばね膜と、
前記金属ばね膜の表面上に形成されているとともに、マルテンサイト変態温度が室温よりも高温であってマルテンサイト逆変態温度がバーンイン試験の試験温度よりも低温となっている形状記憶合金膜と
を備えていることを特徴とする接触子。 - 前記金属ばね膜は、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)を用いて形成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の接触子。 - 前記形状記憶合金膜は、TiNi合金を用いて形成されている
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の接触子。 - 前記TiNi合金におけるTiサイトの組成は50.0〜51.0mol%となっている
ことを特徴とする請求項3に記載の接触子。 - 前記金属ばね膜は、配線板に用いられる絶縁基板の表面上または前記配線板に形成された接続端子の表面上に積層されたシード膜の表面上に積層されており、
前記シード膜は、Ti層もしくはCr層にCu層を積層させることにより形成されている
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の接触子。 - 前記形状記憶合金膜の表面上にNi−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)を積層させてなる通電補助膜と、
前記通電補助膜の表面上にAuを積層させてなる通電膜と
を備えていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の接触子。 - 配線板に用いられる絶縁基板の表面上および前記配線板に形成された接続端子の表面上に金属犠牲膜を形成した後、前記金属犠牲膜に円輪形もしくは多角輪形状の溝をパターンニングすることにより、前記円輪形もしくは多角輪形状の溝から前記接続端子を表面に露出させる第1工程と、
前記円輪形もしくは多角輪形状の溝の内側に形成された円形もしくは多角形状の前記金属犠牲膜の表面上に円錐状もしくは多角錐状のレジスト錐をパターンニングする第2工程と、
前記レジスト錐のパターンニング後に金属をスパッタすることにより前記レジスト錐、前記円輪形もしくは多角輪形状の溝および前記円輪形もしくは多角輪形状の溝の外側に形成された前記金属犠牲膜の表面上にシード膜を形成する第3工程と、
前記シード膜の表面上にレジスト膜を形成した後、前記レジスト錐の頂点を中心とし、かつ、前記円輪形もしくは多角輪形状の溝を底面の周とする円錐らせん状もしくは多角錐らせん状の溝を前記レジスト膜にパターンニングする第4工程と、
前記円錐らせん状もしくは多角錐らせん状の溝の内部にある前記シード膜を電気めっきすることにより前記円錐らせん状もしくは多角錐らせん状の溝に金属ばね膜を形成する第5工程と、
前記金属ばね膜の形成後に前記レジスト膜を除去する第6工程と、
前記レジスト膜の除去後に表面に露出している前記シード膜を除去する第7工程と、
前記シード膜の除去後に前記レジスト錐を除去する第8工程と、
前記レジスト錐の除去後にマルテンサイト変態温度が室温よりも高温であってマルテンサイト逆変態温度がバーンイン試験の試験温度よりも低温となっている形状記憶合金をスパッタすることにより表面に露出している前記金属ばね膜および前記金属犠牲膜の表面上に形状記憶合金膜を形成する第9工程と、
前記形状記憶合金膜に対して形状記憶処理のための熱処理を行なう第10A工程と、
前記形状記憶合金膜の熱処理後に前記金属犠牲膜を除去することにより、前記金属犠牲膜の表面に形成された形状記憶合金膜をも併せて除去する第11A工程と
を備えていることを特徴とする接触子の製造方法。 - 前記金属ばね膜は、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)を用いて形成されている
ことを特徴とする請求項7に記載の接触子の製造方法。 - 前記形状記憶合金膜は、TiNi合金を用いて形成されている
ことを特徴とする請求項7または請求項8に記載の接触子の製造方法。 - 前記TiNi合金におけるTiサイトの組成は、50.0〜51.0mol%となっている
ことを特徴とする請求項9に記載の接触子の製造方法。 - 前記シード膜は、Ti層もしくはCr層にCu層を積層させることにより形成されている
ことを特徴とする請求項7から請求項10のいずれか1項に記載の接触子の製造方法。 - 前記金属犠牲膜は、Cr層にCu層を積層させることにより形成されている
ことを特徴とする請求項7から請求項11のいずれか1項に記載の接触子の製造方法。 - 前記レジスト錐に用いられるレジスト材の粘度は、前記レジスト膜に用いられるレジスト材の粘度よりも高い
ことを特徴とする請求項7から請求項12のいずれか1項に記載の接触子の製造方法。 - 前記第10A工程後第11A工程前において、Ni−X合金(Xは、P、W、Mn、Ti、Beのうちのいずれか1元素である。)をスパッタすることにより、前記形状記憶合金膜の表面上に通電補助膜を形成する第10B工程と、
前記第11A工程後において前記通電補助膜のNiをAuに置換することにより前記通電補助膜の表面に通電膜を形成する第11B工程と
を備えていることを特徴とする請求項7から請求項13のいずれか1項に記載の接触子の製造方法。
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