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박막 트랜지스터 및 그 제조방법
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박막 트랜지스터 및 그 제조 방법
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박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
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KR20080094300A
(ko)
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2007-04-19 |
2008-10-23 |
삼성전자주식회사 |
박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
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2007-04-20 |
2013-11-28 |
삼성전자주식회사 |
선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
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(en)
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2007-04-25 |
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Canon Kabushiki Kaisha |
Metal oxynitride semiconductor containing zinc
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キヤノン株式会社 |
インバータの作製方法及びインバータ
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ＺｎＯ 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
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2007-12-17 |
2012-06-19 |
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Process for producing oriented inorganic crystalline film, and semiconductor device using the oriented inorganic crystalline film
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2009-07-01 |
삼성전자주식회사 |
표시 기판, 이를 포함하는 표시 장치 및 표시 기판의 제조방법
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KR101490112B1
(ko)
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2008-03-28 |
2015-02-05 |
삼성전자주식회사 |
인버터 및 그를 포함하는 논리회로
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(zh)
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2008-07-31 |
2015-01-11 |
Semiconductor Energy Lab |
半導體裝置及其製造方法
|
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2008-09-18 |
2011-02-02 |
ソニー株式会社 |
薄膜トランジスタおよびその製造方法
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2008-10-01 |
2016-05-25 |
삼성전자주식회사 |
인버터 및 그의 동작방법과 인버터를 포함하는 논리회로
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2008-10-03 |
2014-05-14 |
株式会社半导体能源研究所 |
显示装置及其制造方法
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(en)
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2008-10-03 |
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Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Display device
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KR102133478B1
(ko)
|
2008-10-03 |
2020-07-13 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
표시장치
|
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JP5451280B2
(ja)
|
2008-10-09 |
2014-03-26 |
キヤノン株式会社 |
ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置
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2008-10-24 |
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(ko)
|
2008-10-24 |
2013-04-30 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체 장치
|
|
KR101631454B1
(ko)
|
2008-10-31 |
2016-06-17 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
논리회로
|
|
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(ko)
|
2008-11-10 |
2015-05-21 |
삼성전자주식회사 |
인버터 및 그를 포함하는 논리소자
|
|
KR101432764B1
(ko)
|
2008-11-13 |
2014-08-21 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체장치의 제조방법
|
|
KR102556313B1
(ko)
|
2008-11-21 |
2023-07-18 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
표시 장치
|