WO2005122656A1 - フレックスリジッド配線板およびその製造方法 - Google Patents

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Yukinobu Mikado
Katsumi Sagisaka
Katsuo Kawaguchi
Tetsuya Muraki
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Ibiden Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a flex-rigid wiring board including a flexible portion that can be bent and a rigid portion made of a hard material, and a method of manufacturing the same.
  • flex-rigid multilayer wiring boards have been used in portable electronic devices such as foldable mobile phones. As shown in FIG. 22, such a wiring board connects the rigid portions 500 and 520 which are not flexible to the flexible portion 510 via the flexible substrate 544 and also has the rigidity.
  • the flexible board 544 and the pattern layers 504 and 506 on the surface of the rigid boards 500 and 520 are electrically connected through the conductor layer of the plated through hole 502 (for example, And JP-A-5-90756).
  • the flex-rigid multilayer wiring board according to the prior art described above includes a polyimide resin film or a polyester resin film between rigid substrates formed by forming a circuit on a hard base material such as a glass epoxy resin or a glass polyimide resin.
  • the flexible substrate formed by forming a circuit on a substrate with excellent bending performance is thermocompressed via a pre-preader or adhesive sheet, and then subjected to many processes such as drilling, through-hole plating, resist coating, and etching. Being manufactured.
  • the flexible substrate is required to be freely bent, paper or a reinforcing material such as glass fiber used in the rigid substrate is not used, and the flexible substrate is thin and has excellent flexibility as an insulating material.
  • a base film made of polyimide resin or polyester resin is used, and the base film is on the other hand, a material obtained by laminating a flexible copper foil is used as a substrate material.
  • the polyimide film used as the base film has a heat resistance of 400 ° G or more by itself, and is 250 when mounted on components. It is used overwhelmingly more than polyester film because it can withstand soldering temperatures higher than C and can exhibit stable performance against environmental changes after the device is actually assembled.
  • a polyimide film with an adhesive is used to protect the conductive circuit formed by etching the flexible copper foil attached to the base film in consideration of its flexibility. Often.
  • polyimide film which is used as an insulating base material for flexible substrates, has a high water absorption and a large dimensional change, so the size of the land diameter must be formed in advance. Due to restrictions, it was necessary to reduce the size of the work and manufacture it in order to improve the alignment accuracy. For this reason, there was a problem that excellent connection reliability could not be obtained, and a similar problem occurred in a reliability test such as a heat cycle.
  • the resin film such as polyimide used as the insulating base material of the flexible substrate is formed of a single film, and is not made by impregnating the core material with the resin.
  • undulations may be formed near the bent portion of the flexible board and in the vicinity of the rigid portion forming region, and when the undulations are formed, cracks are generated in the undulating portions of the base material. In some cases, the conductor circuit may be damaged.
  • the cover lay for protecting the conductor circuit provided on the flexible substrate is formed from a polyimide film with an adhesive, the connection reliability and insulation reliability of the through hole may be reduced. It was necessary to control the dawn, desmear, plating conditions, etc., and there was a problem that Ih, which is a combination with other materials, was restricted.
  • an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a flex-rigid wiring board that can maintain a sufficient degree of bending at a bent portion and that can maintain a constant strength at the bent portion. And its manufacturing method.
  • Another object of the present invention is to propose a flex-rigid wiring board excellent in connection reliability and capable of preventing deformation of a base material which is likely to occur near a bent portion of a flexible substrate, disconnection of a conductive circuit, formation of a lip, and a method of manufacturing the same. I do it.
  • the flexible substrate was not impregnated with a resin such as a resin film such as polyimide as in the prior art, but was impregnated with a glass cloth and dried.
  • a resin such as a resin film such as polyimide
  • the rigidity of the substrate can be increased and dimensional change can be reduced, If a conductor circuit is provided on one surface of such a base material and a dummy pattern is formed near the bent portion on the other surface, bending can be promoted, so that the degree of bending can be increased and the large bent state can be maintained. It was found that it could be maintained.
  • a conductor circuit is provided on one surface of a bendable composite base material obtained by impregnating and drying glass cloth with epoxy resin, and the part located at the bent part of the wiring pattern that constitutes the conductor circuit is the line width
  • the insulating base material of the flexible substrate is a bendable base material obtained by impregnating a glass cloth with a resin and drying the cloth.
  • a flex-rigid wiring board characterized in that a conductor circuit is formed on one surface of the flexible substrate and a dummy pattern is formed on the other surface near a bent portion. .
  • the “dummy pattern” in the invention described in the above (1) refers to a conductive layer or an insulating layer formed on the surface of the flexible substrate opposite to the surface on which the conductive circuit is formed and which does not make electrical connection. This means that it is mainly formed in the area around the bent portion (bent portion) of the flexible substrate.
  • the dummy pattern has a single or a plurality of types of openings in a conductive layer or an insulating layer, and the plurality of openings are formed at least in a conductive circuit. It is desirable to form them in a form that is regularly arranged in a direction that intersects the linear pattern (hereinafter referred to as a “lattice pattern”).
  • a lattice pattern examples include angular shapes such as triangles, squares, and pentagons or more, shapes with rounded corners (chamfered shapes), circular shapes, and elliptical shapes.
  • Such a curved shape or a combination of a square shape and a curved shape can be used, and a circular opening or a square is a more desirable form.
  • the openings forming the lattice pattern may be formed in the same shape and the same area, or may be formed in a different shape or a combination of different areas.
  • the distance (pitch) between the plurality of openings forming each of the above patterns may be constant or non-uniform, and the size and pitch of the opening shape change only near the bent portion. You may let it.
  • each opening forming each pattern is 1 0 0 0 0-2 0 0 0 0 0 ⁇ m 2 and it is Nozomarei. The reason is that if it is less than 1000 mm 2 , the flexible part itself becomes too strong, so that the bending of the bent part cannot be promoted. Even so, the generated stress can be easily transmitted, and the stress is not buffered, which may damage the substrate and the conductor circuit.
  • the ratio of the total area of the openings forming the respective patterns to the area of the remaining pattern portion is in the range of 1: 9 to 9: 1. The reason is that if the ratio is less than 1: 9, the flexible part itself will be too strong to support bending of the bent part, and the generated stress will be easily transmitted even in reliability tests such as heat cycle. , That response Since the force is not buffered, it may damage the substrate and the conductor circuit. On the other hand, when the ratio exceeds 9: 1, the lip of the base material is formed at the bent portion, so that it may be difficult to maintain the degree of curvature (radius of curvature) large and constant. .
  • the ratio of the sum of the areas of the openings forming the respective patterns to the area of the remaining pattern portions is in the range of 2: 8 to 8: 2. Within this range, even if the ratio between the total area of the opening area and the area of the remaining pattern part varies, the above-mentioned problem can be solved even in a reliability test such as a heat cycle. No bending is caused, and no lip of the bent portion is formed, so that the degree of bending (radius of curvature) can be kept large and constant.
  • the ratio of the sum of the areas of the openings forming the respective patterns to the area of the remaining pattern portions is in the range of 9:10 to 11:10. Within this range, even if the ratio between the total opening area and the area of the remaining pattern portion t varies, or even if the flexible substrate varies, the reliability test can be reliably withstood. In other words, the degree of curvature (radius of curvature) can be increased uniformly and kept constant. ,
  • the area of each opening is 100 000 to 1260 00 / im 2 , and the total area of each opening and the remaining pattern portion where no opening is formed are provided. More preferably, the ratio to the area is in the range of 1: 9 to 9: 1. Within this range, it is easy to keep the bending degree (curvature radius) of the bent portion relative to the flexible portion large and constant regardless of the shape that can be formed. In addition, electrical connection failure due to misalignment is reduced, and stress is buffered even in reliability tests such as heat cycle, so that there is no damage to the substrate-conductor circuit and reliability. Is greatly improved.
  • the area of each of the openings is 1 ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ to 1,600,000 m 2 , and the sum of the area of each of the openings and the remaining pattern portion where the openings are not formed Is more preferably in the range of 9:10 to 11:10. Within this range, there is no influence from factors such as variations in apertures and variations in materials, and reliability can be stabilized.
  • the dummy pattern is a pattern extending in a direction crossing the linear pattern of the conductor circuit.
  • the dummy pattern is disposed in the vicinity of the bent portion of the flexible substrate, and is composed of at least three or more linear patterns, and the line width is desirably 150 m or more. If the number is three or more, the degree of curvature (radius of curvature) at the bent part is large and easy to maintain constant. If the line width is less than 150 m, the true bending at the bent part (radius of curvature) May not be maintained at a constant level.
  • the linear pattern extending in the cross direction preferably has a distance between the lines of 30 m or more, whereby the linear pattern extending along the bent portion of the flexible substrate is preferably used. Can be juxtaposed. If the length is less than 30 im, the extended patterns may overlap with each other, thereby locally forming ridges, thereby breaking the linear pattern of the conductor circuit and reducing connection reliability. Sometimes.
  • the thickness of the linear pattern extending in the cross direction is equal to or greater than the thickness of the linear pattern of the conductor circuit. The reason is that when the thickness of the linear pattern is smaller than the thickness of the linear pattern of the conductor circuit, the radius of curvature of the flexible substrate at the time of bending may be small. Also, the frequent bending of the flexible substrate may break the wiring pattern of the conductor circuit.
  • the linear pattern extending in the cross direction has a cross section Desirably in shape.
  • the reason is that the linear pattern extending in the cross direction has a trapezoidal cross-section, and when the dummy pattern is bent, the pattern portions do not overlap. This is the force that prevents the linear pattern of the conductor circuit from being broken without forming a step.
  • the skirt angle of the trapezoidal portion be 45 to 90 °. This is because it becomes easy to juxtapose the patterns extended at the bent portion. '
  • the glass cloth forming the flexible substrate that forms the flexible substrate has a thickness of 30 m or less, and the thickness of the glass fiber constituting the glass cloth is 1.5 to 7.0 /. m is desirable. The reason is that if the thickness of the glass cloth exceeds 30 m, the flexible substrate cannot be bent. Also, if the thickness of the glass fiber is less than 1.5 jim, it may be difficult to increase the degree of bending (radius of curvature), while if it exceeds 7.0 m, the bending itself is hindered. It may be done.
  • an epoxy resin As the resin that is impregnated in the glass cloth and forms a bendable base material, an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a liquid crystal polymer, a pheno, a phenol resin, or the like is used. Epoxy resin is the most desirable.
  • the bendable base material has a thickness of 1 OO jW m or less. The reason is that if it exceeds 100 jum, the glass cloth may be too thick and the flexibility may be reduced. That is, it may be difficult to maintain the degree of curvature (radius of curvature) at the bent portion of the flexible substrate large and constant.
  • the coverlay that covers the conductive circuit formed on the flexible substrate that is bendable is made of a copper foil with a resin having flexibility, a solder resist layer having flexibility, or an epoxy resin on a glass cloth. Impregnated with resin, After drying, it is desirable to form from a pre-preda which is semi-cured. The reason for this is that insulation reliability and connection reliability are higher than when polyimide film (for example, polyimide with adhesive) is used.
  • the dummy pattern according to the present invention is desirably formed on the inner surface of the bent portion of the flexible substrate.
  • the bending degree (the radius of curvature of the part bent at the time of bending) is supported to be increased, and the occurrence of disconnection of the conductor circuit formed on the surface on the opposite side can be prevented.
  • it since it is formed on the inner surface, it has high resistance to repeated bending (folding resistance), and the dummy pattern can reduce damage to the substrate of the flexible substrate and the conductive circuit.
  • a flex-rigid wiring board comprising a rigid board and a flexible board having a conductive circuit covered with a coverlay on an insulating base material.
  • the flexible substrate is made of glass cloth in which an insulating base material is made to bend by impregnating a resin.
  • the conductor circuit is a flex-rigid wiring board, characterized in that the wiring pattern in the bent portion is wide or curved in the width direction.
  • the wide wiring pattern in the bent portion is a pattern expanded in a width direction (hereinafter, referred to as an “extended pattern”).
  • the maximum width of the extension pattern may be larger than the line width of the wiring pattern of the non-bent portion, and may be not more than twice the line width.
  • the expansion pattern may have a shape bulging to one side or both sides in the width direction.
  • the line width of the curved pattern (hereinafter referred to as “curved pattern J”) is larger than the line width of the wiring pattern of the non-bent portion, and is equal to or less than twice the line width. it can.
  • the curved pattern is an arc having a radius R of 2 to 1 Omm, and the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion is R 3 ⁇ It can be formed so that X ⁇ R.
  • a plate-like substrate having a thickness of 100 m or less can be used as the flexible substrate.
  • the glass cloth constituting the bendable base material has a thickness of 30 m or less, and the thickness of the glass fiber constituting the glass cloth is 1.57.0 ⁇ m. Can be used.
  • the coverlay for covering the conductor circuit is obtained by impregnating a flexible resin-coated copper foil, a flexible solder resist layer, or a glass cloth with an epoxy resin, drying the resin, and then semi-curing the resin. It can be formed from any one of the following prepregs.
  • the “bent portion” refers to a surface region that becomes a curved surface when the flexible substrate is bent, and is a portion located before and after the bending center in the width direction.
  • the “bent portion” is a surface area other than the bent portion.
  • the flexible substrate is formed from a bendable substrate obtained by impregnating a glass cloth with a resin and drying the glass cloth. And the dimensional change of the substrate is reduced. For this reason, there is no longer any restriction on the formation of the conductor circuit as in the prior art, and the disconnection of the conductor circuit due to the substrate material is easily prevented.
  • a dummy pattern is formed on the surface opposite to the conductive circuit formation surface, or at least one surface of the flexible substrate is By forming the expansion pattern or the curved pattern at the bent portion, the bending at the bent portion is promoted, so that the degree of curvature (curvature) of the bent portion can be made constant, and the variation can be suppressed.
  • the rigidity of the substrate can be further increased, and the dimensional change of the substrate can be further reduced.
  • the base material obtained by impregnating and drying the glass cloth with a resin is harder to bend and repeatedly bent than a flexible base material made of a resin film such as polyimide as in the prior art. Flexibility is poor, but a dummy pattern is formed on the surface of the flexible substrate opposite to the conductive circuit forming surface, or an expanded pattern or a curved pattern is formed on at least one side of the flexible substrate at the bent portion.
  • the tune against bending can stabilize the ri and improve the flexibility against repeated bending.
  • the insulating base material of the flexible substrate a glass cloth impregnated with a resin is used, and a bendable base material obtained by drying is used.
  • a method for manufacturing a flex-rigid wiring board characterized in that a conductor circuit is formed on one surface of the flexible substrate and a dummy pattern is formed on the other surface near a bent portion.
  • a flex-rigid wiring board comprising a hard rigid board and a bendable flexible board having a conductive circuit covered with a coverlay on an insulating base material
  • the flexible substrate uses a substrate made of a glass cloth in which an insulating substrate is bendable by impregnating with a resin,
  • a method for manufacturing a flex-rigid wiring board characterized in that the conductive circuit is formed so that the wiring pattern at the bent portion is wide or curved in the width direction.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a first embodiment of a flex-rigid wiring board according to the present invention. .
  • FIG. 2A is a schematic diagram showing a place where a dummy pattern is arranged
  • FIG. 2B is a schematic diagram showing a state where a flexible substrate is bent.
  • FIG. 3 (a) is a schematic diagram of a grid-like dummy pattern having a plurality of rectangular openings of the same size
  • Fig. 3 (b) is a schematic diagram and diagram of a grid-like dummy pattern having a plurality of circular openings of the same size
  • 3 (c) is a schematic view of a grid-like dummy pattern having a plurality of openings of the same size with chamfered corners of a rectangular opening
  • FIG. 3 (d) shows a staggered arrangement of circular openings of the same size.
  • FIG. 3 (e) is a schematic view of a grid-like dummy pattern having a plurality of openings having a shape obtained by combining large and small circular openings.
  • FIG. 4 is a schematic diagram of a linear dummy pattern.
  • FIG. 5 (a) is a schematic diagram showing an arrangement relationship between a linear dummy pattern having a rectangular cross section and a conductor circuit pattern
  • FIG. 5 (b) is a schematic diagram showing a state in which a flexible substrate is bent
  • Fig. 5 (G) is a schematic diagram showing an arrangement relationship between a linear dummy pattern having a trapezoidal cross section and a conductor circuit pattern
  • Fig. 5 (d) is a schematic diagram showing a state in which a flexible substrate is bent.
  • FIG. 5 (e) is a schematic diagram for explaining the skirt angle of a linear dummy pattern having a trapezoidal cross section.
  • FIG. 6 is a schematic view for explaining a flex-rigid wiring board according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a schematic diagram showing that a wiring pattern on which a curved pattern or an extended pattern is formed is formed on one surface of a flexible substrate.
  • FIG. 8 is a schematic diagram showing that a wiring pattern on which a curved pattern or an extended pattern is formed is formed on both sides of a flexible substrate.
  • FIG. 9 (a) is a schematic diagram showing one embodiment of the curved pattern
  • FIG. 9 (b) is a schematic diagram showing one embodiment of the expansion pattern
  • FIG. 9 (c) shows another embodiment of the expansion pattern
  • FIG. 9 (d) is a schematic diagram showing still another embodiment of the extended pattern.
  • FIGS. 10 (a) and 10 (b) are diagrams showing an arrangement relationship of a curved pattern or an extended pattern formed on the front surface and the back surface of the flexible substrate.
  • FIGS. 11 (a) to 11 (c) are views showing steps of manufacturing a flexible substrate of a flex-rigid wiring board according to Example 1 of the present invention.
  • FIGS. 12 (a) to 12 (f) are views showing steps of manufacturing a rigid board of the flex-rigid wiring board according to the first embodiment.
  • FIG. 13 also shows a flex-rigid wiring board according to the first embodiment.
  • FIG. 4 is a view showing a step of laminating a flexible substrate and a rigid substrate to be formed.
  • FIG. 14 is a diagram illustrating the flex-rigid wiring board according to the first embodiment of the present invention.
  • FIGS. 15 (a) to 15 (g) are diagrams showing steps of manufacturing a flex-rigid wiring board according to Example 35 of the present invention.
  • FIGS. 16 (a) to 16 (G) are diagrams showing steps for manufacturing a flexible substrate of a flex-rigid wiring board according to Example 89 of the present invention.
  • FIGS. 17 (a) to 17 (f) are views showing a process of manufacturing a rigid substrate having a flex-rigid arrangement according to Example 89.
  • FIG. 18 is a view showing a process of laminating a flexible substrate and a rigid substrate constituting a flex-rigid wiring board according to Example 89 in the same manner.
  • FIG. 19 is a diagram showing a flex-rigid wiring board according to Example 89 of the present invention.
  • FIGS. 20 (a) to 20 (g) are diagrams showing steps of manufacturing a flex-rigid wiring board according to Example 12 29 of the present invention.
  • FIGS. 21 (a) and 21 (b) are schematic views showing two examples of the electrical connection between the rigid board and the flexible board in the present invention.
  • FIG. 22 is a schematic view showing a cross-sectional structure of a conventional flex-rigid wiring board.
  • the flex-wiring board has a conventional structure as an insulating base material of a flexible board constituting a rigid portion and a flexible portion.
  • a resin film such as polyimide
  • a glass cloth is formed from a bendable substrate that is impregnated with resin and dried, and a conductive circuit is formed on one surface of the insulating substrate. And on the other surface That is, a dummy pattern was formed near the bent portion.
  • the glass opening constituting the flexible insulating base material has a thickness of 30 m or less, and the thickness of the glass fiber constituting the glass opening is 1.5 to 7.0 Oim. If the thickness of the glass cloth exceeds 30 m, bending of the flexible substrate will be hindered. Also, if the thickness of the glass fiber is less than 1.5 jum, the degree of bending (radius of curvature) cannot be increased, while if it exceeds 7.0 m, the bending itself is hindered. Sometimes.
  • an epoxy resin As the resin that is impregnated in the glass cloth and forms a flexible insulating substrate, an epoxy resin, a polyimide resin, an acryl resin, a liquid crystal polymer, a phenol resin, or the like can be used. Among them, it is desirable to have an epoxy resin.
  • the thickness of the flexible insulating substrate is preferably about 10 to 1 OOim. The reason for this is that if the thickness is less than 1 OjUm, the electrical insulation will decrease.On the other hand, if it exceeds 100 m, the glass cloth constituting the base material will be too thick and the flexibility will be poor. It is because it decreases.
  • a wiring pattern of a conductor circuit including a connection electrode pad is formed on one surface of the insulating substrate.
  • the wiring pattern is formed by plating on the surface of the insulating base material, or by attaching a metal foil to the surface of the insulating base material and etching the metal foil. Are formed as a part of the wiring pattern.
  • connection electrode pads formed on the flexible substrate are, for example, circular with a diameter of about 50 to 500 m, and 100 to 700 jw m It is preferable to arrange a plurality of the components at a pitch of the order. The reason is that if it is less than 50 jum, it may cause a decrease in connection reliability for high-density mounting.On the other hand, if it exceeds 500 // m, the wiring density for high-density mounting will decrease. This is because it is difficult to raise. As shown in FIGS. 1 and 2, the flexible substrate constituting the flex-rigid wiring board according to the present invention has an electrical connection near the bent portion thereof on the surface opposite to the surface on which the conductor circuit pattern is formed. A dummy pattern having no function of performing the above is formed.
  • this dummy pattern does not have a function of making an electrical connection, it need not necessarily be formed of the same material as the conductor circuit pattern, but may be formed of an insulating material such as resin or ceramic. From the viewpoints of workability, shape uniformity, and resistance to prayer bending (folding resistance), it is desirable to use a metal material.
  • the dummy pattern is preferably formed mainly around the bent portion of the flexible substrate, and is more preferably formed on the inner surface when the flexible substrate is bent.
  • the reason for this is that the degree of curvature (curvature radius) at the bent portion can be increased, so that disconnection of the conductor circuit and the like are hardly caused, and a decrease in connection reliability and reliability under heat cycle conditions can be prevented. is there.
  • the flexible substrate is formed from a bendable substrate obtained by impregnating a glass cloth with a resin (particularly, epoxy resin) and drying, and arranging a dummy pattern around the bent portion.
  • the flexible substrate made of the base material is given an appropriate rigidity (strength). [In addition to the elasticity, it is possible to add an appropriate flexibility at the bent portion. ) Can be increased, and the degree of bending can be kept constant.
  • the dummy pattern has single or plural types of openings in a conductor layer or an insulating layer, and the plurality of openings are arranged in at least one row in a regular grid pattern. It is desirable to be formed in a grid pattern.
  • the “lattice” means that a plurality of openings are arranged in a grid pattern. This is a concept that includes not only the state (see Figs. 3 (a) to 3 (c)) but also the state of being staggered (see Fig. 3 (d)).
  • the dummy pattern in the present invention includes a solid pattern without a plurality of openings.
  • the dummy pattern may be difficult to bend near a bent portion of the flexible substrate, and may be used in reliability tests such as a heat cycle. Even so, the generated stress may be transmitted without being buffered, which may damage the substrate and the conductor circuit. Therefore, dummy flutter
  • the holes are not solid but are formed in a lattice pattern having a plurality of openings regularly arranged in at least one line.
  • the shape of the opening forming the lattice pattern may be a triangle, a rectangle, a polygonal shape such as a pentagon or more, an R portion provided at those corners, that is, a shape with a chamfered corner, or a circle.
  • the shape may be a curved shape such as an ellipse or a combination of a square shape and a curved shape.
  • the openings forming the lattice pattern may have the same shape and the same area, or may have different shapes or different area combinations (see FIG. 3E).
  • the distance (pitch) between the plurality of openings forming each pattern may be constant or non-uniform, and the size and pitch of the opening shape change only near the bent portion. You may let it.
  • each opening forming each of the patterns is 100 000 to 200 000 m 2 .
  • the reason is that the 1 0 0 0 less than 0 mm 2, and the flexible portion itself got too strong, the inability to promote the bending of the bending portion, you can have contact reliability tests such as heat cycle, This is because the generated stress is easy to transmit, and the stress is not buffered, thus damaging the substrate / conductor circuit. If the thickness exceeds 0.000 mm 2 , a lip of the base material is formed at the bent portion, and the conductor circuit is displaced, and it is difficult to maintain the bent portion (bending radius) of the bent portion large and constant. Because.
  • the ratio of the sum of the areas of the openings forming the respective patterns to the area of the remaining pattern portion is in the range of 1: 9 to 9: 1.
  • the ratio is less than 1: 9, the flexible part itself becomes too strong, and the bending of the bent part cannot be promoted, and the generated stress is easily transmitted even in a reliability test such as a heat cycle. Since the stress is not buffered, the substrate-to-conductor circuit may be damaged.
  • the ratio exceeds 9: 1, the lip of the base material is formed at the bent portion, so that it is difficult to maintain the degree of bending (radius of curvature) large and constant.
  • the ratio of the sum of the areas of the openings forming the respective patterns to the area of the remaining pattern portions is in the range of 2: 8 to 8: 2.
  • the ratio between the total area of the opening area and the area of the remaining pattern part varies, the above-mentioned problem can be solved even in a reliability test such as a heat cycle. No bending is caused, and no lip of the bent portion is formed, so that the degree of bending (radius of curvature) can be kept large and constant.
  • the ratio of the sum of the areas of the openings forming the respective patterns to the area of the remaining pattern is in the range of 9:10 to 11:10. Within this range, even if there is a variation in the ratio of the total opening area to the area of the remaining pattern portion, or even if there is a variation in the flexible substrate, it is possible to reliably withstand a reliability test.
  • the degree of curvature (radius of curvature) can be increased uniformly and kept constant.
  • the ratio of the total area of each opening to the area of the remaining pattern portion where no opening is formed is more preferably in the range of 1: 9 to 9: 1. Within this range, it is easy to keep the bending degree (curvature radius) of the bent portion with respect to the flexible portion large and constant, regardless of the shape to be formed. In addition, it reduces electrical connection failures due to misalignment and reduces the stress in reliability tests such as the heat cycle, so that there is no damage to the substrate / conductor circuit and reliability. Is greatly improved.
  • the area of each opening is 100 000 to 126 000 / m 2 , and the sum of the area of each opening and the area of the remaining pattern portion where no opening is formed More preferably, the ratio is in the range of 9:10 to 11:10. Within this range, there is no influence from factors such as variations in apertures and variations in materials, and reliability can be stabilized.
  • the dummy pattern is preferably a pattern extending in a direction intersecting the wiring pattern of the conductor circuit.
  • the dummy pattern is preferably a pattern extending in a direction intersecting the wiring pattern of the conductor circuit.
  • the dummy pattern is arranged near the bent portion of the flexible substrate, and is composed of at least three or more linear patterns, and the line width is desirably 150 m or more. . If the number is three or more, the bending degree (curvature radius) at the bending part is large and easy to maintain constant, and if the line width is less than 150 jum, the bending degree at the bending part (curvature) Radius) cannot be kept constant.
  • the distance between the linear patterns is 3 OjUm or more, whereby the linear patterns extending along the bent portion of the flexible substrate can be juxtaposed. . If the distance is less than 30 j ⁇ m, the extended patterns may overlap each other, thereby causing local undulations. As a result, the wiring pattern of the conductor circuit is broken, and the connection reliability is reduced. sex May be reduced.
  • the thickness of the linear pattern is equal to or greater than the thickness of the wiring pattern of the conductor circuit. The reason is that if the thickness of the linear pattern is smaller than the thickness of the wiring pattern of the conductor circuit, the degree of bending (the radius of curvature) of the flexible substrate at the time of bending becomes small. Also, the frequent bending of the flexible substrate may break the wiring pattern of the conductor circuit.
  • the cross-sectional shape of the linear pattern is a trapezoid, as shown in FIG.
  • the reason is that when the cross-sectional shape is trapezoidal, when the dummy pattern is bent, the pattern portions do not overlap, so that no step is formed at the bent portion, and the wiring pattern of the conductor circuit is not formed. This prevents wire breakage (see Fig. 5 (d)).
  • the skirt angle of the trapezoidal portion of the dummy pattern having a trapezoidal cross section as shown in FIG. 5 (e) is 45 to 90 °. This is because it becomes easy to juxtapose the extended patterns at the bent portion. If the hem angle of the trapezoid is less than 45 °, the extended pattern will not easily overlap when bent. That is, a gap between adjacent extended patterns is likely to be formed, so that it may be difficult to keep the bending rate constant. If the angle exceeds 90 °, it may be difficult to keep the bending rate constant because the adjacent extended patterns are likely to overlap.
  • linear pattern includes only a continuous linear pattern provided in a direction that intersects with the wiring pattern of the conductor circuit, in other words, in a direction along the bending curve of the bent portion of the flexible substrate.
  • small patterns such as squares, circles, ellipses, etc. are arranged at predetermined intervals in the direction along the bending line of the bent portion of the flexible substrate, and It includes a dot pattern that performs the same function as.
  • the coverlay for covering the conductive circuit formed on the flexible substrate that can be bent is made of a copper foil with a resin having flexibility, a solder resist layer having flexibility, or an epoxy resin on a glass cloth. It is desirable that the pre-preda is formed by impregnating the resin, drying, and semi-curing. The reason for this is that insulation reliability and connection reliability are improved compared to the case where polyimide film (for example, polyimide with adhesive) is used. '
  • the resin-containing copper foil having flexibility has a thickness of about 50 jUm of the resin itself. The reason is to ensure insulation reliability.
  • the flexible solder resist layer is mainly made of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a resin having photosensitivity, a resin having a (meth) acrylic group as a part of the thermosetting resin, or the like.
  • the thickness of the solder-resist layer is desirably 20 to 50 jim. The reason is to ensure insulation reliability.
  • the prepreg obtained by impregnating the glass cloth with an epoxy resin, drying and semi-curing has a thickness of 20 to 50 m. The reason is to ensure insulation reliability.
  • the rigid substrate that constitutes the present invention is an inflexible substrate, as opposed to a flexible substrate that is flexible, and is rigid and does not easily deform regardless of its form, number of layers, forming method, and the like. Substrate.
  • the insulating resin base material forming the substrate includes a glass cloth epoxy resin base material, a glass cloth bismaleimid triazine resin base material, a glass cloth polyf: c-diene ether resin base material, and an aramide nonwoven fabric. It is preferable to use a hard base material selected from an epoxy resin base material and an aramide non-woven fabric and a polyimide resin base material, and a glass cloth epoxy resin base material is more preferable. Yes.
  • the thickness of the insulating resin substrate is about 20 to 600 jum. The reason is that if the thickness is less than 20 m, the strength decreases and handling becomes difficult, and the reliability of electrical insulation becomes low. If the thickness exceeds 600 jum, the via becomes fine. This is because the formation and filling of the conductive material become difficult, and the substrate itself becomes thick.
  • a copper foil is attached to one or both surfaces of the insulating resin base material, and the thickness thereof is about 5 ⁇ 18 jum.
  • the reason for this is that when forming an opening for forming a via in an insulating resin substrate using a laser beam, as described later, if it is too thin, it will penetrate. This is because it is difficult to form a conductor circuit pattern having a fine line width.
  • the rigid board composed of the insulating resin base material and the copper foil is preferably prepared by laminating a copper foil with a prepreg in which glass resin is impregnated with an epoxy resin to form a B stage, and hot pressing.
  • a single-sided copper-clad laminated board can be used.
  • Such a rigid board can be used without any displacement of the wiring pattern and via position during the handling after the copper foil is etched. Excellent positioning accuracy.
  • the conductor circuit formed on one or both sides of the rigid substrate is formed by heating and pressing a copper foil having a thickness of about 5 to 18 m via a resin adhesive layer maintained in a semi-cured state. After that, those formed by performing an appropriate etching treatment are preferable.
  • the conductor circuit is formed by attaching an etching protection film to a copper foil attached to the surface of a base material, covering the copper foil with a mask having a predetermined circuit pattern, performing an etching process, and then forming an electrode pad ( Via land) is preferable.
  • a photosensitive dry film resist is attached to the surface of a copper foil, and then exposed along a predetermined circuit pattern.
  • a developing process is performed to form an etching resist, and the metal layer in a portion where no etching resist is formed is etched to form a conductor circuit pattern including an electrode pad.
  • aqueous solution selected from aqueous solutions of sulfuric acid and hydrogen peroxide, persulfate, cupric chloride, and ferric chloride can be used.
  • the entire surface of the copper foil is etched in advance to a thickness of 1 to 1 OjUm.
  • the thickness can be reduced to about 2 to 8 m.
  • connection electrode pads formed on the jid substrate are not particularly limited.
  • the connection electrode pads may have a circular shape with a diameter of about 50 to 500 ⁇ m. It is desirable to arrange a plurality of them at a pitch of about 700 m. The reason for this is that if it is less than 500 / im, there is concern about connection reliability, and if it exceeds 500 m, it is disadvantageous for high-density mounting.
  • An opening for forming a via hole (hereinafter, referred to as “via opening”) is provided in the insulating resin base material. This via opening can be formed by laser irradiation.
  • a transparent protective film such as a PET film
  • the carbon dioxide laser irradiation is performed from above the PET film.
  • An opening is formed to reach the copper foil.
  • the via opening diameter under such processing conditions is desirably about 50 to 250 j ⁇ m.
  • Desmearing is performed to remove resin residue remaining on the side and bottom surfaces of the via openings formed by laser irradiation.
  • This desmear treatment is performed by oxygen plasma discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet laser treatment, excimer laser treatment, or the like.
  • the desmear treatment may be a wet method using an acid, an oxidizing agent, or the like.
  • the via opening is filled with a conductive material to form a filled via hole, and the conductive material is preferably a conductive paste or metal plating formed by electrolytic plating.
  • filling with a conductive paste is preferable, and in terms of connection reliability, it is formed by electrolytic plating.
  • Metal plating is preferred, and electrolytic copper plating is particularly preferred.
  • the conductive material can be filled not only in the via opening penetrating the insulating base material and reaching the conductor circuit, but also can be formed to protrude to a predetermined height outside the via opening, and the protruding height is A range of about 5 to 30 m is desirable. The reason is that if it is less than 5 jim, poor connection is likely to occur, and if it exceeds 30 / m, the resistance value will increase, and when it is thermally deformed in the heating press process, it will spread along the surface of the insulating substrate. This is because a fine pattern cannot be formed because it is too long.
  • the electrical connection between the rigid substrate and the flexible substrate can take various forms such as the following (1) to (7), and these connection forms can be arbitrarily combined.
  • the substrate material can be used effectively and a free wiring connection structure can be obtained.
  • connection electrode pad On the outermost layer of one side of the rigid board and connecting it to one side of the flexible board An electrode pad is formed, and the electrode pads of each substrate are connected to each other via a massive conductor or the like.
  • connection electrode pads formed on both outermost layers of the rigid board, and connecting each flexible board to the rigid board.
  • connection electrode pads formed on the outermost layers of both of them are connected to each other, and the connection electrode pads that are arranged facing each other are connected to each other via a massive conductor.
  • the connecting electrode pads are formed on both sides of the flexible board, and one of the connecting electrode pads is connected to the other.
  • Different rigid boards with connection electrode pads formed on the outermost layer surface are arranged so that the connection electrode pads on those boards face each other.
  • the pads are connected to each other via a massive conductor.
  • a plurality of rigid boards are electrically connected at a plurality of locations of the flexible board, and the number of the conductor layers and resin insulating layers constituting the plurality of rigid boards is arbitrary.
  • Rigid substrates and flexible substrate connection electrode pads that are formed in advance and are individually formed in such a manner as to face each other are arranged in opposition. The connection is made via a conductor.
  • interlayer connection is made by a via or a non-through hole or a filled via formed by filling a conductor with a conductor, and the connection between the rigid board and the flexible board is also made by a via or filled via.
  • a stacked via formed by stacking vias may be used (see Fig. 21 (a)).
  • (6) Form a through-hole that penetrates both the rigid board and the flexible board, and make an electrical connection through the through-hole.
  • rigid boards may be arranged on both sides of the flexible board, and through holes may be formed through all of the boards.
  • connection between the rigid board and the flexible board is made by combining the above connection methods (5) and (6), that is, by using both the plated through hole and the via (see Fig. 21 (b)) .
  • connection forms (1) to (7) particularly, the form in which the flexible substrate is connected on one outermost layer surface of the rigid substrate as described in (4) ,
  • a rigid substrate that is connected in advance to one or both surfaces is bonded (called one “rigid part”), and at one end of the flexible substrate,
  • one or both surfaces are bonded to another rigid substrate that is connected in advance between layers (the other is called a “rigid portion”).
  • the portion between both ends of the flexible substrate is a portion that does not come into contact with the rigid substrate (referred to as a “flexible portion”), and the flexible portion includes one rigid portion and the other.
  • a conductor circuit for electrically connecting the rigid part to the rigid part is provided, and such a conductor circuit is usually covered with an insulating layer called a force parlay.
  • connection electrode pads are formed in advance as a part of a conductor circuit in a predetermined region on one side of a flexible substrate constituting each rigid portion, for example, in a surface region along a short side of an elongated rectangular substrate.
  • a plurality of connections corresponding to the connection electrode pads provided on the flexible substrate are also provided in a predetermined area on the outer surface of the rigid substrate in which the conductor circuit and the insulating layer are formed in advance and the interlayer connection is made.
  • An electrode pad is formed in advance.
  • connection electrode pad pairs in each rigid portion are electrically connected by a massive conductor interposed between the rigid substrate and the flexible substrate, and are also electrically connected to a portion other than the connection electrode pads. In the surface region, they are integrally formed so as to be bonded by an adhesive.
  • connection electrode pad is used to form a conductor circuit on one or two of the circuit boards constituting the outermost layer of the rigid board by plating or etching. Although it can be formed as a part, it is formed solely on the insulating resin layer of the circuit board that constitutes the outermost layer. Alternatively, it may be formed as a via hole land that penetrates the insulating resin layer and electrically connects to a lower conductive circuit.
  • the formation region of the connection electrode pad formed on the rigid substrate does not necessarily need to be the entire region of the outermost insulating resin layer surface of the rigid substrate, and a sufficient connection strength can be obtained. Any arbitrary position is acceptable.
  • a peripheral surface area along a short side or a long side of a rectangular substrate or a surface area from the peripheral edge to the center of the substrate may be used.
  • connection electrode pad formation area can be located at any position, it can be used for designing the housing of electronic equipment and laying out other rigid boards and electronic components housed in the housing. Accordingly, the wiring can be drawn out in a desired direction, and a very advantageous wiring connection structure can be obtained. Further, the rigid substrate te and the flexible substrate are bonded to each other by an insulating adhesive layer adhered or applied to a surface region of the rigid substrate side or the flexible substrate side where the connection electrode pad is not formed. .
  • the position of the interlayer connection portion of the rigid board is matched with the standing of the interlayer connection portion of the flexible substrate, and these interlayer connection portions are overlapped with each other via the massive conductor to conduct.
  • Forming a stack structure is a more preferable embodiment. By adopting such a stack structure, the wiring length can be shortened, which is suitable for mounting electronic components requiring high power.
  • a flex-rigid wiring board can be provided.
  • the massive conductor that connects the connection electrode pads provided on the rigid substrate and the flexible substrate is configured to protrude above one of the connection electrode pads of the rigid substrate and the flexible substrate. Preferably it is. This is because when the rigid substrate and the flexible substrate are overlapped, the insulating adhesive layer is penetrated and rinsed.
  • the bulk conductor include metals such as copper, gold, silver, and tin, alloys thereof, and various solders, which are used for plating, printing, transfer, embedding, and electrodeposition.
  • bumps (posts), poles, or pins formed into smooth convex curved shapes such as spheres and hemispheres, pillars such as prisms and cylinders, or pyramids such as pyramids and cones are formed. These are typical, but not limited to these, and connect the connection electrode pads provided on the rigid board and the connection electrode pads provided on the flexible board with sufficient connection strength. And any means that can be electrically connected.
  • the bumps (posts) When the bumps (posts) are formed by plating, the bumps (posts) may be formed by plating with copper, and such a massive conductor may be formed with respect to a connection electrode pad provided on a flexible substrate. Therefore, it is preferable that the connection is made via a solder layer, so that excellent electrical connectivity can be obtained.
  • the solder for forming the bumps (posts) and poles includes S ⁇ / Pb, Sn / Sb, Sn / Ag, Sn / Ag / Cu Sn Sn Cu, Sn It can be formed from at least one kind of solder selected from / Zn and Sn / Ag / InCu.
  • it may be formed of one type selected from the metals or various solders, or may be used as a mixture of two or more types.
  • bumps using lead-free solder are preferred in response to social demands not to pollute the natural environment.
  • Such Handa e.g. from S n ZS b, S n / A g N S n / A g / C u, S n ZC u, S n / Z n, S n / A g / I n C u Solder.
  • Sn-37Pb solder with melting point of 18 ° C or Sn-35Ag with melting point of 21.7 ° C .7 Cu solder is more preferred.
  • the bumps formed by SnZAg soldering are excellent in malleability. This is more preferable because it is effective in relieving the stress generated in the cooling and heating cycle.
  • the solder bump preferably has a height of about 10 to 150 jUm, and can be formed by plating, printing, transfer, embedding (implant), electrodeposition, or the like.
  • a print mask metal mask having a circular opening is provided on a rigid substrate having a connection electrode pad or on a substrate corresponding to a connection electrode pad of a flexible substrate. Is placed, the solder paste is printed using the mask, and heat treatment is performed to form solder bumps.
  • a rigid board or a flexible board having connection electrode pads, a solder carrier, and a holding jig for a load are sequentially placed on a horizontal jig plate having a horizontal plane.
  • the board and the solder carrier are sandwiched between the horizontal jig plate and the holding jig, the two are held in parallel, and then the solder pattern of the solder carrier is transferred to the connection electrode pad by reflow. Then, by removing the solder carrier, a solder bump is formed on the connection electrode pad.
  • solder pole is formed of, for example, a copper ball having a diameter of about 100 to 800 jum and a solder layer having a thickness of 150 m or less covering the copper ball. You may.
  • the electrical and physical connection between the rigid board and the flexible board is performed by pressing and heating the connection electrode pad of the flexible board against the solder bump or the solder ball on the connection electrode pad of the rigid board. It is preferably performed by melting and solidifying the solder.
  • the resin forming the insulating adhesive layer through which the rigid substrate and the flexible substrate are bonded and fixed to each other, and through which the massive conductor penetrates for example, polyvinyl butyral resin; Knol resin, nitrile It is also possible to use rubber, polyimide resin, phenoxy resin, xylene resin or a mixture of two or more thereof, polycarbonate resin, polysulfone resin, polyetherimide resin, liquid crystal polymer, polyamide resin and the like. In addition, a resin (prepreg) in which glass mat, inorganic filler, glass cloth, or the like is blended with the resin may be used.
  • an insulating adhesive layer is formed by hot pressing with a prepreg or the like interposed between a rigid substrate and a flexible substrate.
  • the bump formed on the connection electrode pad is preferably a bump formed by molding a metal paste into a predetermined shape and then curing the metal paste.
  • a conical shape or a pyramid shape whose end can easily penetrate the insulating adhesive layer is preferable, but a hemispherical shape or a trapezoidal shape may be used.
  • the metal paste includes, for example, conductive powders such as silver, gold, copper, solder powder, and carbon powder, alloy powders or composite (mixed) metal powders thereof, and, for example, polycarbonate resin, polysulfone resin, polyester resin, and ferrite. It can be composed of a conductive composition prepared by mixing with a binder component such as a nonoxy resin, a melamine resin, a phenol resin, and a polyimide resin.
  • the metal bump can be formed as a conductive bump having a high aspect ratio by, for example, a printing method using a relatively thick metal mask, and the height of the bump is determined by the thickness of the insulating adhesive layer. 1.3 or more is preferable. For example, assuming that the thickness of the insulating adhesive layer is 50 m, the thickness is set to about 65 to 150 Um.
  • the electrical connection between the flexible substrate and the rigid substrate may be made by connecting the connection electrode pads provided on each substrate to each other via a massive conductor, as described above.
  • Rigid boards overlap A form in which a plated through hole penetrating the portion is formed, and an electrical connection is made through the plated through hole.
  • a multilayer printed wiring board having a plated through hole manufactured by a conventional manufacturing method may be used as the rigid board.
  • a wiring pattern of a conductive circuit is formed on one surface of an insulating substrate obtained by impregnating and drying an epoxy resin in a glass cloth, and the surface opposite to the wiring pattern forming surface is surrounded by a bent portion.
  • an insulating substrate obtained by impregnating and drying an epoxy resin in a glass cloth, and the surface opposite to the wiring pattern forming surface is surrounded by a bent portion.
  • a cover layer is formed to cover both sides of the board on which the wiring pattern and dummy pattern are formed, and a copper foil and a pre-preder with openings where necessary to be bent are laminated on both sides of the board. After that, the laminate is formed by hot pressing.
  • An opening for laser irradiation is formed in the copper foil on the surface of the laminate, and a laser irradiation is performed under predetermined irradiation conditions to form a through-hole penetrating the substrate. Then, copper is formed on the surface of the substrate including the inner wall of the through-hole. Form plating layer and form plated through hole.
  • a second feature of the flex-rigid wiring board according to the present invention is that a resin film such as polyimide as in the prior art is used alone as an insulating base material of a flexible substrate constituting a rigid portion and a flexible portion.
  • a glass circuit that is impregnated with a resin, dried and bendable without drying, and a conductive circuit having a wiring pattern extending in a longitudinal direction is formed on at least one surface of the insulating base material.
  • a part of the wiring pattern is formed in an expanded pattern or a curved pattern at the bent portion.
  • the “expansion pattern” refers to a part of a wiring pattern formed along a longitudinal direction of a conductor circuit provided on at least one surface of a flexible substrate, a line width is intentionally expanded, or It is a pattern having a swelling shape, and a “curved pattern” is a pattern formed continuously with a wiring pattern formed along the longitudinal direction and curved in the line width direction. .
  • the wiring pattern formed along the longitudinal direction is formed on the non-bent portion of the flexible portion and has only a function as a conductor layer for making electrical connection. In addition, it has a function not only as a conductor layer for making an electrical connection, but also as a function to actively promote the degree of bending of the flexible substrate, and is formed mainly at the bent portion of the flexible portion.
  • the angle between the tangents is ⁇ ⁇
  • the limit value d ⁇ ⁇ ds of A s ⁇ 0 of A OJ ZAS is the curvature at P
  • the reciprocal p is the radius of curvature.
  • the glass cloth constituting the bendable insulating base material has a thickness of 30 m or less, and the thickness of glass fibers constituting the cloth is 1.5 to 7.0 m. It is desirable to have a range of 3.5 to 7.OjUm. The reason is that if the thickness of the glass cloth exceeds 30 Um, the bending of the flexible substrate is hindered, and if the thickness of the glass fiber is less than 1.5 jum, the bending degree is reduced. It is difficult to increase the radius of curvature (radius of curvature). When the thickness of the glass fiber is in the range of 3.5 to 7.0 m, it is considered that the strength as the flexible portion is easily obtained, and the influence of the fiber thickness is hardly affected.
  • an epoxy resin As the resin that is impregnated with the glass cloth and forms a flexible insulating substrate, an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, a liquid crystal polymer, a phenol resin, or the like can be used. And epoxy resins are most desirable.
  • the thickness of the bendable insulating base material be about 10 to 1 OO jtm. The reason for this is that if the thickness is less than 10 m, the electrical insulation decreases, while if it exceeds 1 OO jlim, the glass cloth constituting the base material becomes too thick and the flexibility deteriorates. Because you do.
  • a wiring pattern of a conductor circuit including a connection electrode pad is formed on at least one surface of the insulating base material.
  • the wiring pattern is formed by plating on the surface of the insulating base material, or by attaching a metal foil to the surface of the insulating base material and etching the metal foil. Are formed as a part of the wiring pattern.
  • the thickness of the wiring pattern of the conductor circuit provided on the flexible substrate is about 3 to 75 m. The reason is that for thicknesses less than 3 j «m, the connection signal On the other hand, if it exceeds 75 mils, bending reliability decreases.
  • connection electrode pads formed on the flexible substrate are, for example, circular with a diameter of about 50 to 500 m, and about 100 to 700 m. It is preferable that a plurality of the components are arranged at the same pitch. The reason is that if it is less than 500 j ⁇ m, it may cause a decrease in connection reliability for high-density mounting. On the other hand, if it exceeds 500 jL ⁇ m, the wiring density for high-density mounting will be lower. This is because it is difficult to raise
  • connection electrode pad may be a via land of a type that penetrates the substrate and makes electrical connection with the other conductor circuit, and is connected to a flexible substrate and a rigid substrate as described later through such a via hole.
  • the electrical connection with the substrate may be made.
  • an extended pattern or a curved pattern in which a part of a wiring pattern constituting a conductive circuit has a locally expanded shape is formed as a pattern, which can prevent disconnection of the conductor circuit at the bent portion, enhances the strength as a flexible substrate, and increases the degree of bending (radius of curvature) of the bent portion. A large degree of bending can be kept constant.
  • a part of the wiring pattern provided on the inner surface or the outer surface (see FIG. 7) or both the inner surface and the outer surface (see FIG. 8) at the bent portion of the flexible substrate is bulged or curved.
  • the rate of elongation of the copper foil forming the wiring pattern can be reduced, so that disconnection of the conductor circuit can be prevented, and the degree of bending of the substrate is increased and the size is kept constant. It can be held at
  • the line width of the curved pattern as shown in FIG. It is desirable that the line width of the wiring pattern extending in the longitudinal direction in the portion is larger than the line width and is not more than twice the line width. The reason is that if the line width is less than the width of the wiring pattern at the non-bent portion, it is easy to break.If it exceeds twice the line width, it becomes harder and harder to bend and the wiring density decreases. O to do
  • the curved pattern is an arc having a radius R of 2 to 1 Omm, and the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern at the non-bent portion is RZ 3 ⁇ X It is desirable that ⁇ R. The reason is that if the radius R is less than 2 mm, there is no effect of bending the pattern, and if the radius R exceeds 10 mm, the wiring density decreases.
  • the maximum size of the extended pattern as shown in FIGS. 9B to 9D is larger than the line width of the wiring pattern extending in the longitudinal direction at the non-bent portion, and It is desirable that the width be less than twice the line width. The reason for this is that if the wiring width is less than the line width of the non-bent portion, the wire is likely to be broken and the resistance inside the wiring increases, resulting in a decrease in the electrical characteristics. Exceeding twice the line width hinders the increase in the density of wiring patterns and may also lead to lower electrical characteristics. Further, the degree of bending (radius of curvature) at the bent portion cannot be increased.
  • the extension pattern is formed on one side or both sides of a wiring pattern extending in a longitudinal direction. The reason is to make it harder to break.
  • the expansion pattern or the curved pattern is wired in a region in a bent portion separated from the outer edge of the substrate by 0.5 mm or more.
  • the reason is that the insulative base material of the flexible substrate can be prevented from being broken such as tearing from the end face of the substrate.
  • the base material may be torn near the end face of the substrate, which is a force that may break the wiring pattern.
  • a flex-rigid wiring board in which conductor circuits are provided on both sides of a flexible substrate, not only a part of the wiring pattern of the conductor circuit formed on the front surface is formed into an expanded pattern or a curved pattern, but also on the back surface. A part of the wiring pattern of the formed conductor circuit can also be formed in an expanded pattern or a curved pattern, thereby making it difficult to disconnect.
  • the form in which the expansion pattern or the curved pattern is provided on both sides of the flexible substrate the form in which the front and back patterns as shown in FIG. 10 (a) are provided at the same position, or the form as shown in FIG. 10 (b) It is preferable that the patterns are arranged in a staggered manner in which the patterns are shifted from each other.
  • the staggered arrangement is advantageous in that bending and shaking become difficult and disconnection becomes difficult.
  • the coverlay for insulatingly covering the conductive circuit provided on the flexible substrate is made of a copper foil with a resin having flexibility, a solder-resist layer having flexibility, or an epoxy resin in a glass cloth. It is desirable that the pre-preda is formed by impregnation, drying and semi-curing. The reason for this is that insulation reliability and connection reliability are higher than when polyimide film (for example, polyimide with adhesive) is used.
  • polyimide film for example, polyimide with adhesive
  • the resin-containing copper foil having flexibility has a thickness of about 5 O jum of the resin itself forming the copper foil. The reason is that if it is too thick, it will not bend easily, and if it is too thin, the insulation reliability will decrease.
  • the flexible solder resist layer is mainly formed by using a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a resin having photosensitivity, a resin having a (meth) acryl group in a part of the thermosetting resin, or the like.
  • the thickness of the solder-resist layer is preferably 20 to 50 ⁇ m. The reason is that insulation reliability is low at less than 20 m, while bending becomes difficult at more than 50 m.
  • the cured prepreg desirably has a thickness of 20 to 50 m. The reason is that if the thickness is less than 20 jtm, the insulation reliability is low, and if it exceeds 50 jl rh, it becomes difficult to bend.
  • the rigid substrate that constitutes the present invention is an inflexible substrate, as opposed to a flexible substrate that is flexible, and is rigid and does not easily deform regardless of its form, number of layers, forming method, and the like. Substrate.
  • the insulating resin base material forming the substrate includes a glass cloth epoxy resin base material, a glass cloth bismaleimid triazine resin base material, a glass cloth polyphenylene ether resin base material, and an aramide nonwoven fabric.
  • a hard base such as a xy-resin base or an aramide non-woven / polyimide resin base is used, and a glass cloth epoxy resin base is preferably used.
  • the thickness of the insulating resin substrate is about 20 to 600 jwm. The reason for this is that if the thickness is less than 2 O jtm, the strength will be reduced and handling will be difficult, and the reliability of the electrical insulation will be low. If it exceeds eoo jw m, fine vias will be formed. In addition, it becomes difficult to fill the conductive material, and the substrate itself becomes thick.
  • a copper foil is attached to one or both surfaces of the insulating resin base material, and the thickness thereof is about 5 to 18 jUm.
  • the reason for this is that when forming an opening for forming a via in an insulating resin substrate using a laser beam, as described later, if it is too thin, it will penetrate. This is because it is difficult to form a conductor circuit pattern having a fine line width.
  • the rigid board composed of the insulating resin base material and the copper foil is formed by laminating a copper foil with a prepreg in which a glass cloth is impregnated with an epoxy resin, and hot pressing. Single-sided copper clad product Laminated plates can be used. Such a rigid board has excellent positional accuracy without the wiring pattern and the peer position being shifted during handling after the copper foil is etched.
  • the conductor circuit formed on one or both surfaces of the rigid board is formed by heating a copper foil having a thickness of about 5 to 18 jum via a resin adhesive layer maintained in a semi-cured state. It is preferably formed by performing an appropriate etching treatment after pressing.
  • the conductor circuit is formed by attaching an etching protection film to the copper foil attached to the surface of the base material, covering it with a mask of a predetermined circuit pattern, etching it, and then etching it. (Via land) is preferable.
  • a photosensitive dry film resist is stuck on the surface of the copper foil, and then exposed and developed along a predetermined circuit pattern to form an etching resist.
  • the metal layer in the non-formed portion is etched to form a conductor circuit pattern including the electrode pad.
  • At least one aqueous solution selected from aqueous solutions of sulfuric acid and hydrogen peroxide, persulfate, cuprous chloride, and ferric chloride can be used.
  • the entire surface of the copper foil is etched in advance to a thickness of 1 to 1 O j «m, More preferably, the thickness can be reduced to about 2 to 8 im.
  • connection electrode pads formed on the rigid substrate are not particularly limited.
  • the connection electrode pads may have a circular shape with a diameter of about 50 to 500 ⁇ m, and a diameter of about 100 to 700 mm. It is desirable to arrange a plurality of them at a pitch of about m. The reason is that connection reliability is uneasy at less than 50 jum If the length exceeds 500 m, it is disadvantageous for high-density mounting.
  • An opening for forming a via hole (hereinafter, referred to as “via opening”) is provided in the insulating resin base material. This via opening can be formed by laser irradiation.
  • a transparent protective film such as a PET film
  • carbon dioxide laser irradiation is performed from above the PET film.
  • An opening reaching the copper foil is formed.
  • the via opening diameter under such processing conditions is desirably about 50 to 250 m.
  • Desmearing is performed to remove resin residue remaining on the side and bottom surfaces of the via openings formed by laser irradiation.
  • This desmear treatment is performed by oxygen plasma discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet laser treatment, excimer laser treatment, or the like. Further, wet desmear treatment using an acid or an oxidizing agent may be performed.
  • the via opening is filled with a conductive material to form a filled via hole.
  • the conductive material is preferably a conductive paste or metal plating formed by electrolytic plating.
  • filling with a conductive paste is preferable, and in terms of connection reliability, it is formed by electrolytic plating.
  • Metal plating is preferred, and electrolytic copper plating is particularly preferred.
  • the conductive material can be filled not only in the via opening penetrating the insulating base material and reaching the conductor circuit, but also can be formed to protrude to a predetermined height outside the via opening, and the protruding height is A range of about 5 to 30 m is desirable. The reason is that if it is less than 5 jum, poor connection is likely to occur, and if it exceeds 30 jUm, the resistance value increases, and when it is thermally deformed in the heating press process, it spreads along the surface of the insulating substrate. This is because a fine pattern cannot be formed because it is too long.
  • the electrical connection between the rigid board and the flexible board can take various forms, similarly to the invention described in the above (1). By arbitrarily combining the forms, the substrate material can be used effectively, and a free wiring connection structure can be obtained.
  • connection between the flexible substrate and the rigid substrate may be made by connecting the connection electrode pads provided on each substrate via a massive conductor as described above, or by connecting the flexible substrate and the rigid substrate. This may be performed by using a plated through hole provided to penetrate the overlapping portion.
  • the electrical connection between the flexible substrate and the rigid substrate is not limited to the above-described configuration in which the connection electrode pads provided on each substrate are connected to each other via a massive conductor, as described above.
  • a form may be used in which a plated through hole is formed penetrating the overlapping portion of the rigid substrate, and electrical connection is made through the plated through hole.
  • a wiring pattern of a conductor circuit extending in the longitudinal direction is formed on at least one surface of an insulating base material obtained by impregnating and drying a resin such as an epoxy resin in a glass cloth, and bending the wiring pattern.
  • a resin such as an epoxy resin in a glass cloth
  • the laminate is formed by hot pressing.
  • a laser irradiation opening is formed in the copper foil on the surface of the laminate, After laser irradiation is performed under irradiation conditions to form a penetrator L penetrating the substrate, a copper plating layer is formed on the surface of the substrate including the inner wall of the through hole, and a plated through hole is formed.
  • a wiring pattern is formed on at least one surface by performing external processing with a router, and a portion of the wiring pattern located at the bent portion is widened in the width direction.
  • a flex-rigid wiring board having a flexible portion formed in an expanded pattern or a curved pattern can be manufactured.
  • a thickness of 20 / im thickness of 30 m or less, A glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 m) is impregnated with epoxy resin and dried. Both sides of insulating substrate 11 have a thickness of 18 ju. A 50-jum-thick double-sided copper-clad laminate (Hitachi Chemical Co., Ltd., product name “E-67j”) was used (Fig. 11 (a)).
  • a conductor circuit pattern 13 of 0 ⁇ m and a connection electrode pad 16 of a diameter of 250 m are formed, and the surface of the conductor circuit opposite to the wiring pattern formation surface
  • solder resist (Japan Poritetsu click Ltd. Product name "NPR- 90" was applied by screen printing, after Drying with an exposure dose of 400 mj / cm 2 Exposure, followed by drying at 150 ° C for 1 hour, resulted in the formation of a 20 jt ni resin cover layer 14 that protected the wiring pattern 13 (see Figure 11 (c)). ).
  • the cover layer 14 is provided with an opening 15 having a diameter of 300 m which reaches the connection electrode pad 16. Through this opening 15, a connection electrode pad of a rigid substrate as described later is provided. The massive conductor provided on the connection electrode pad 16 is electrically connected to the connection electrode pad 16.
  • Substrate 21 made of glass epoxy resin, both sides of which are laminated with 12 m copper foil 22 0.1 mm thick double-sided copper-clad laminate (Matsushita Electric Works: R—1 7 6 6 (See Fig. 12 (a)).
  • An opening 24 for laser irradiation is formed on one surface of the substrate using an aqueous cupric chloride solution, and an opening for filling with copper with a diameter of 250 j! Im is formed using a carbon dioxide gas laser. (See Figures 12 (b) and (G)).
  • Both surfaces of the substrate filled with the copper plating 28 are etched using an aqueous cupric chloride solution to form patterns 32 and 34 on the front and back surfaces, respectively, and to form one of the patterns S4.
  • the portion was formed on the connection electrode pad 36.
  • the substrate was processed by a router (see Fig. 12 (e)).
  • a silver paste (manufactured by DU PONT, trade name: S0LAMET) is filled using a squeegee, and the silver paste is placed on the connection electrode pad 36.
  • Conical projections 40 ie, solder bumps, were formed. Further, this was heated and cured at 150 ° G for 1 hour to produce a rigid substrate 200A (see Fig. 12 (f)). .
  • a prepreg 42 (Hitachi Kasei: GIA—671N) was applied at a pressure of 10 kg / cm 2 to the conical projection 40 of the rigid substrate 200A manufactured in (B) above. It was pierced and penetrated (see Fig. 13).
  • a grid-like dummy pattern having a rectangular opening around the bent portion of the flexible substrate, where each opening area is 400 000 // m 2 , and the sum of the opening areas: the remaining pattern area 9: 10
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 18 was formed.
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was produced in the same manner as in Example 1 except that No. 8 was formed.
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured.
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the formation.
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the formation.
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the dummy pattern 18 was formed. (Example 16)
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the dummy pattern 18 was formed. (Example 17)
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a dummy pattern 18 having the same was formed.
  • a grid around the bent portion of the flexible substrate, with each opening area being 9 12 3 / im 2 and the sum of the opening areas: the remaining area of the pattern 1: 9 The corners have rounded openings
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the dummy pattern 18 was formed.
  • a grid around the bent portion of the flexible substrate, with each corner having an opening area of 90 12 23 m 2 and the sum of the opening areas: the remaining area of the pattern 2: 8
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the dummy pattern 18 was formed. (Example 20)
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the dummy pattern 18 was formed. (Example 21)
  • a grid with openings around the bent portion of the flexible substrate, each corner having an opening area of 90 123 m 2 and the sum of the opening areas: the remaining area of the pattern 9: 1
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the dummy pattern 18 was formed. (Example 22)
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the dummy pattern 18 was formed.
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • Circular openings having an opening area of 49 08 7 im 2 and circular openings having an opening area of 1 OOOO jU m 2 are arranged alternately around the bent portion of the flexible substrate, and the total of these opening areas: pattern A flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a dummy pattern 18 having a circular opening having a remaining area of 9: 1 was formed.
  • a flexible rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 5 mm ⁇ 15 mm) was formed.
  • a flex-rigid wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1 except that no dummy pattern was formed.
  • Example 2 Except for the formation of six linear dummy patterns with a rectangular cross-section and a line width of 150 m around the bend, with the distance between adjacent patterns being 30 jum, In the same manner as in Example 1, a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured.
  • Example 2 Except for the formation of six linear dummy patterns with a rectangular cross section and a line width of 200 ⁇ m around the bend, with the distance between adjacent patterns being 150 jw m, In the same manner as in Example 1, a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • Example 2 Except for six linear dummy patterns with a rectangular cross section and a line width of 200 m 1 m around the bend, with the distance between adjacent patterns being 100 jt / m In the same manner as in Example 1, a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • a flex-rigid wiring board 30OA was manufactured in the same manner as in Example 1 except that six linear dummy patterns were formed with the distance between adjacent patterns being 50 ⁇ m.
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the formation.
  • Example 2 Except for the formation of six dummy dummy patterns with a rectangular cross-section and a line width of 150 jwm around the bend, with the distance between adjacent patterns being 300 jum, In the same manner as in Example 1, a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • a flex-rigid wiring board 3G0A was manufactured in the same manner as in Example 1 except for the above.
  • a 20-m-thick glass cloth (average glass fiber thickness: 1.5 m) is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • a 50 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by heating and pressing a copper foil 12 with a thickness of 18 ⁇ and curing an epoxy resin, with a rectangular cross section around the bend
  • six linear dummy patterns having a line width of 100 ⁇ m were formed with a distance between adjacent patterns of 40 m, a flex-rigid pattern was formed.
  • a 300 A wiring board was manufactured.
  • a 20-um-thick glass cloth (average glass fiber thickness: 3.0 / m) is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 / m2 is used to harden the epoxy resin, using a 50-m-thick double-sided copper-clad laminate, with a rectangular cross section around the bend.
  • six linear dummy patterns having a line width of 100 m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 ⁇ m, A printed wiring board 30 OA was manufactured.
  • a 20-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber 4. 4. ⁇ m) is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • an epoxy resin e.g., a 50 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by heating and pressing an 18 m thick copper foil 12 and curing an epoxy resin, the cross-sectional shape Except for forming six linear dummy patterns each having a rectangular shape and a line width of 100 m, with the distance between adjacent patterns being 40 Um, the same procedure as in Example 1 was performed.
  • a printed wiring board 300, A was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 5.0 m) is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • 1 8 jum copper foil 1 2 is heated and pressed to cure epoxy resin.
  • the cross section is rectangular, wire around the bend. Flex-rigid in the same manner as in Example 1 except that six linear dummy patterns having a width of 100; Um were formed with the distance between adjacent patterns being 40 ⁇ m.
  • a 300 A wiring board was manufactured.
  • a 60-jum-thick glass cloth (average glass fiber thickness 5.0 um) is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • a hot-pressed 18 m thick copper foil 12 is used to cure the epoxy resin and use a 1 OO jt m double-sided copper-clad laminate with a cross-sectional shape around the bend.
  • Flex-rigid wiring was performed in the same manner as in Example 1, except that six linear dummy patterns each having a rectangular shape and a line width of 100 ⁇ m were formed at a distance between adjacent patterns of 40 jw m. Plate 300A was manufactured.
  • a glass cloth (average glass fiber thickness: 1.5 m) with a thickness of 20 / m is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • a hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 / m2 is used to harden the epoxy resin, using a 50-m-thick double-sided copper-clad laminate.
  • a trapezoid having an angle of 70 ° and a line-shaped dummy pattern having a line width of 100 m was formed in the same manner as in Example 1 except that the distance between adjacent patterns was set to 40 m, and six dummy patterns were formed. Flex Rigid, 30 OA of wiring board was manufactured.
  • Example 42 As a starting material for fabricating flexible substrates, a 20-jtm-thick glass cloth (average glass fiber thickness 3.0 urn) is impregnated with epoxy resin and dried. A hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 jum is used, and a 50 jUm thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used. Flexure was performed in the same manner as in Example 1 except that six linear dummy patterns having a trapezoidal angle of 70 ° and a line width of 100 m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 m. A 300 A rigid wiring board was manufactured. (Example 42)
  • a 20 Wm-thick glass cloth (average thickness of glass fiber: 4. O jum) is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a hot-pressed 18m thick copper foil 12 ' is used to harden the epoxy resin, and a 50m thick double-sided copper-clad laminate is used.
  • a trapezoid having an angle of 70 ° and a line-shaped dummy pattern having a line width of 100 m was formed in the same manner as in Example 1 except that the distance between adjacent patterns was set to 40 m, and six dummy patterns were formed.
  • a 300 A flex-rigid wiring board was manufactured.
  • a 30-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber: 5. Oim) is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • a hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18171 is used to cure the epoxy resin, using a 60-jim-thick double-sided copper-clad laminate.
  • a trapezoid with a skirt angle of 70 ° and a line-shaped dummy pattern with a line width of 100 m was formed in the same manner as in Example 1, except that the distance between adjacent patterns was 40 m.
  • 300A wiring board To manufacture a flex-rigid, 300A wiring board.
  • an insulating substrate 11 made by impregnating a 60-jum-thick glass cloth (average glass fiber thickness 5.0 um) with an epoxy resin and drying it Heat-press 18 / m thick copper foil 12 on both sides and use a 100 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing epoxy resin. Except for forming a trapezoidal shape with a skirt angle of 70 ° and a line-shaped dummy pattern with a line width of 100 jtim, and forming six linear dummy patterns with a distance between adjacent patterns of 40 m, the same as in Example 1 was performed. A 300 A flex-rigid wiring board was manufactured. (Reference example 3)
  • a 15-m-thick glass cloth (an average thickness of glass fiber of 4.0 um impregnated with epoxy resin and dried)
  • a copper foil 12 with a length of 18 m is heated and pressed, and a 50 jim double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • a flex-rigid wiring board was formed in the same manner as in Example 1 except that six linear dummy patterns having a line width of 100 OO jU m were formed with a distance between adjacent patterns of 40 ⁇ m. 300 A was manufactured.
  • a glass screen with a thickness of 1 OO jUm glass fiber with an average thickness of 7.0 um impregnated with epoxy resin and dried
  • a hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 im is used, and a 150 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • six linear dummy patterns having a line width of 100 ⁇ m were formed at a distance between adjacent patterns of 40 / m, a flex-rigid
  • the wiring board 30, 0 A was manufactured.
  • a glass cloth (average glass fiber thickness 4.0 m) with a thickness of 15 jtm is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 / m2 is used to harden the epoxy resin, using a 50-m-thick double-sided copper-clad laminate. Flex-rigging was performed in the same manner as in Example 1 except that six linear dummy patterns having a trapezoid angle of 70 ° and a line width of 100 m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 m.
  • the printed wiring board 300A was manufactured. (Reference example 6)
  • a glass cloth (average glass fiber thickness 7.0 m) with a thickness of 1 OO jUm is impregnated with epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 11
  • a hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 jum is used to harden the epoxy resin, and a 150-mm thick double-sided copper-clad laminate is used.
  • a trapezoidal shape with a skirt angle of 70 ° and six linear dummy patterns with a line width of 100 jUm and a distance between adjacent patterns of 40 jum, six linear dummy patterns were formed.
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • a glass cloth (thickness of 30 m or less) having a thickness of 20 m (thickness of 30 m or less) was used as a starting material for fabricating the flexible substrate 100B for providing the same.
  • Average thickness of glass fiber 4.0 u rn Impregnated with epoxy resin and dried Insulating substrate 52 The thickness of 18 ⁇ m copper foil laminated on both surfaces of both sides A 50 m double-sided copper-clad laminate (Hitachi Chemical: product name "E-67J”) was used.
  • a dry film resist was laminated on both sides of a double-sided copper-clad laminate with a thickness of 0.05 mm, a re-etching resist was formed by exposure and development, and an aqueous cupric chloride solution was used.
  • a wiring pattern 54 of a conductor circuit having a line width of 300 m is formed on one surface, and a grid-like shape is formed around the bent portion on the surface opposite to the wiring pattern forming surface.
  • a pre-predeer 0.60 (Matsushita Electric Works: R-1661) having openings (indicated by reference numeral 62) where necessary bends are made on both sides of the substrate on which the cover layer 58 is formed,
  • a copper foil 64 with a thickness of 1 2 j «m was laminated (see Fig. 15 (c)), and the laminate was hot-pressed at a pressure of 35 kg / Gin 2 and a temperature of 180 ° C (Fig. 15 (d)).
  • the surface of the laminate obtained in the above (4) is irradiated with carbon dioxide laser under a predetermined irradiation condition to form an opening 66 with a diameter of 100 jUm in the copper foil 64. Then, carbon dioxide laser irradiation with further changed irradiation conditions was performed from the opening 66 to form a penetrator 68 with a diameter of 300 ⁇ m penetrating the substrate (see Fig. 15 (e) feo).
  • a desmear treatment was performed using a permanganate solution to remove the resin residue (smear) remaining in the through hole 68.
  • Mouth-shell salt 4 5 g / litre
  • a dry film resist is laminated on the front and back surfaces of the substrate on which the copper-plated layer 70 is formed in (6), and a lithet resist is formed by exposure and development.
  • wiring patterns 72 and 74 were formed on the front and back surfaces of the substrate, respectively.
  • the roto-line patterns 72 and 74 are electrically connected to the wiring pattern 54 formed on the flexible substrate 52 via the plated through holes 76 (see FIG. 15 (g)).
  • the outer shape is processed by a router, and the flex-rigid wiring board 30 OB having the wiring pattern 54 on the front surface and the dummy pattern 56 on the back surface is formed. Manufactured.
  • a grid-like dummy pattern 5 having a rectangular opening around the bent portion of the flexible substrate, where each opening area is 400 000 jUm 2 , and the sum of the opening areas: the remaining pattern area 9: 10
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that 6 was formed.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45t except that 56 was formed.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that No. 8 was formed.
  • Each opening area is 4 9 0 8 7 fl m open around the bent part of the flexible substrate.
  • Total mouth area: pattern balance area 9: 1, except that the formation of the dummy pattern 5 6 having a circular opening such that 0, in the same manner as in Example 4 5, flex Riji' de wiring board 3 0 0 B was manufactured.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except that it was formed.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that No. 8 was formed.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except that it was formed.
  • a grid-like dummy pattern 18 having a circular opening around the bent portion of the flexible substrate, where each opening area is 1 256 0 ⁇ m 2 , and the sum of the opening areas: the remaining pattern area 8: 2
  • a flex-rigid wiring board 300B was produced in the same manner as in Example 45, except that a was formed.
  • each opening area of 1 2 5 6 0 0 m 2 , the sum of the opening areas: pattern balance area 9: grid-like dummy patterns 1 8 having a circular opening such that 1
  • pattern balance area 9: grid-like dummy patterns 1 8 having a circular opening such that 1
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that the pattern 56 was formed.
  • pattern balance area 1 1: 1 such that 0, opening the corners form a ⁇ Lumpur shape
  • a grid around the bent portion of the flexible board, with openings each having an area of 90 123 m 2 and the sum of the open areas: the remaining area of the pattern 1: 9 with rounded corners
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except that a dummy pattern 18 was formed.
  • a grid around the bent portion of the flexible substrate, with each corner having an opening of 90 12 23 m 2 and the sum of the opening areas: the remaining area of the pattern 2: 8
  • a flex-rigid wiring board 300 B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that the dummy pattern 18 was formed. It was.
  • a grid around the bent portion of the flexible substrate, with openings each having an area of 90 12 23 m 2 and the sum of the open areas: the remaining area of the pattern. 8: 2
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except that a dummy pattern 18 was formed.
  • a grid around the bent portion of the flexible substrate, with openings each having an area of 90 12 23 m 2 and the sum of the open areas: the remaining area of the pattern 9: 1
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that the dummy pattern 18 was formed.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that No. 8 was formed.
  • a dummy pattern 1 in which circular openings are arranged in a zigzag pattern around the curved part of the flexible substrate, each opening area being 49087 m 2 and the total of the opening areas: the remaining area of the pattern 9: 1
  • Example 4 5 except that 8 was formed In the same manner as in the above, a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a circular opening is an opening area of 1 OOOO JW m 2 are arranged alternately, their opening area Of the rigid-rigid wiring board 300 B in the same manner as in Example 45 except that a dummy pattern 56 having a circular opening such that the remaining area of the pattern is 10: 10 is formed.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except that 5 mm ⁇ 15 mm) was formed.
  • a flex-rigid wiring board was manufactured in the same manner as in Example 45 except that no dummy pattern was formed.
  • Example 73 Except for forming six linear dummy patterns having a rectangular cross-sectional shape and a line width of 150 jtm with a distance between adjacent patterns of 30 jw m around the bent portion. In the same manner as in 45, a flex-rigid wiring board 30 OB was produced.
  • Example 45 Except for the formation of six linear dummy patterns with a rectangular cross section and a line width of 200 ⁇ m around the bend, with the distance between adjacent patterns set to 150 m, In the same manner as in Example 45, a flex-rigid wiring board 300B was produced.
  • Example 45 Except for the formation of six linear dummy patterns with a rectangular cross-section and a line width of 200 Um around the bend, with the distance between adjacent patterns being 100 m.
  • a flex-rigid wiring board 300B was produced.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except for performing the above.
  • a linear dummy pattern with a trapezoidal cross section of 45 ° hem and a line width of 250 jw m is set at a distance of 50 m between adjacent patterns.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that six were formed.
  • Example 45 Except for the formation of six linear dummy patterns with a rectangular cross section and a line width of 150 jum around the bend, with the distance between adjacent patterns being 300 jUm, In the same manner as in Example 45, a flex-rigid wiring board 3 OOB was produced.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except that it was formed.
  • an insulating substrate 11 made by impregnating and drying a 20-jum-thick glass cloth (average glass fiber thickness: 1.5 m) with an epoxy resin is used.
  • six linear dummy patterns having a rectangular cross-sectional shape and a line width of 100 m were formed with a distance between adjacent patterns being 40 m.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • an insulating 'substrate 1 is made by impregnating a glass cloth with a thickness of 20 j «m (glass fiber thickness average 3.0 m) with an epoxy resin and drying. On both sides of 1) Heat-press copper foil 1 2 with a thickness of 18 «m, and use a 50 / m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin. In addition, the cross-sectional shape is rectangular and the line width is 100 0
  • the flex-rigid wiring board 300 B was formed in the same manner as in Example 45 except that six linear dummy patterns of m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 ⁇ m. Was manufactured.
  • a 20-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber: 4. ⁇ m) is impregnated with an epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 52.
  • a copper foil with a thickness of 18 / m is heated and pressed, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used. Except that six linear dummy patterns having a rectangular shape and a line width of 1 OO jt / m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 m, the same as in Example 45, Flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 5.0 jum) with a thickness of 30 jum is impregnated with epoxy resin and dried. Then, a copper foil with a thickness of 18 Um is heated and pressed, and a 60 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • a flex-rigid pattern was formed in the same manner as in Example 45 except that six linear dummy patterns having a line width of 100 / m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 m.
  • the wiring board 300B was manufactured.
  • a 60 / m-thick glass cloth (average glass fiber thickness 5.0 jum) is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • a copper foil with a thickness of 18 wm is heated and pressed, and a 100-jUm thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • Line width 1 OO jU m A flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that six linear dummy patterns were formed with the distance between adjacent patterns being 40 ⁇ m.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 1.5 / m) is impregnated with an epoxy resin and dried on an insulating substrate.
  • Heat-press copper foil 1 2 with a thickness of 18 ⁇ m and harden the epoxy resin.
  • the linear dummy pattern line width is 1 0 0 m, except for forming six distances between adjacent patterns as 4 0 m, in the same manner as in example 4 5, Flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth (average glass fiber thickness: 3.0 m) with a thickness of 20 jtm is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 ⁇ m is used to harden the epoxy resin, using a 50-m-thick double-sided copper-clad laminate.
  • the same as Example 45 except that six trapezoids with a skirt angle of 70 ° and a line width of 100 m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 m.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 m) with a thickness of 20 im is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a copper foil with a thickness of 18 jUm is heated and pressed, and a 50 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used. ° trapezoid, line width
  • the flex-rigid wiring board 3 was manufactured in the same manner as in Example 45 except that six linear dummy patterns each having a length of 100 m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 / m. 0 B was produced.
  • Example 45 Example 6 was repeated except that six linear dummy patterns each having a trapezoidal angle of 70 ° and a line width of 100 m were formed with the distance between adjacent patterns being 40 m. In the same manner as in the above, a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • Example 45 was the same as Example 45 except that a trapezoid having an angle of 70 ° and a linear dummy pattern having a line width of 100 / im were formed with the distance between adjacent patterns being 40 m. Similarly, flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a 15-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber 4.O jt m) is impregnated with epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 52.
  • a copper foil with a thickness of 18 jUm is heated and pressed, and a 50 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • the line width is 1 OO jU m
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that six linear dummy patterns were formed with the distance between adjacent patterns being 40.
  • a glass cloth having a thickness of 1 OO im an average thickness of glass fiber of 7.0 ⁇ m is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • a copper foil with a length of 18 m is heated and pressed, and a 150 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • the flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45 except that six linear dummy patterns each having a thickness of 100 Um were formed with the distance between adjacent patterns being 40 rn. Was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 um) with a thickness of 15 jw m is impregnated with an epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 52.
  • a copper foil with a thickness of 18 jtm is heated and pressed, and a 50 / m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • a linear dummy pattern having a trapezoidal shape of 70 ° and a line width of 100 jum was formed in the same manner as in Example 45 except that the distance between adjacent patterns was formed as 40 j (im: six).
  • Manufactured a flex-rigid wiring board 300B Manufactured a flex-rigid wiring board 300B.
  • a 100-m-thick glass cloth (average glass fiber thickness 7.0 m) is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • a copper foil with a thickness of 18 j «m is heated and pressed, and a 150 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin is used.
  • 70 ° trapezoid, wire A flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 45, except that six linear dummy patterns having a width of 100 m were formed at a distance of 40 m between adjacent patterns.
  • a 25 m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber 4.O jU m) impregnated with epoxy resin and dried
  • the insulating base material 11 is made of laminating copper foil 12 with a thickness of 18 jt m on both sides.
  • a double-sided copper-clad laminate (Hitachi Chemical: product name I-67) was used (see Fig. 16 (a)).
  • the copper foil 12 laminated on one side of the insulating film 11 is subjected to an etching treatment using an aqueous solution of cupric chloride, and has a line width 1 OO im extending in the longitudinal direction.
  • a wiring pattern 13 and a connection electrode pad 16 having a diameter of 250 ⁇ m, which is continuous with the wiring pattern 13 and have a diameter of 250 ⁇ m, for electrical connection with a rigid substrate described later were formed.
  • the wiring pattern 13 is formed on the surface of the substrate such that it becomes inside when the flexible substrate 100A is bent, and each wiring pattern in the bent portion is a region swelled in the width direction, that is, As shown in FIG.
  • the center-to-center distance (d) between the adjacent wide patterns 18 was set to be within four times the width of the wiring pattern 13 (325 jU m).
  • a solder resist (manufactured by Nippon Polytech Co., Ltd., product name “NPR-90”) is applied by screen printing to cover the wiring pattern 13, and after drying, an exposure amount of 40 Omj / Exposure at cm 2 and then 1 50 ° C / 1 hour By drying under the conditions described above, a resin coverlay .14 having a thickness of 25 Urn and having a thickness of 300 jum and an opening 15 for protecting the wiring pattern 13 was formed. (See Figure 16 (c)).
  • An opening 26 for filling with copper was prepared (see Figs. 17 (b) and (c)).
  • silver paste (DU P0NT, trade name: S0LAMET) is filled with a squeegee, and a projection is formed on the connection electrode pad 36. 0, that is, a solder bump was formed. This was further heated and cured at 150 ° G for 1 hour to produce a rigid substrate 200A (see Fig. 17 (f)).
  • a pre-predator 42 (manufactured by Hitachi Chemical: GIA-671N) was applied to the rigid substrate 20 OA manufactured in the above (B) at a rate of 10 kg / cm 2 with respect to the dome-shaped projection 40. It was pierced with pressure and penetrated (see Figure 18).
  • the distance (d) between the centers of adjacent extension turns was set to be within four times the width of the wiring pattern (285 jim).
  • a flexible rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89, except that it was formed as follows.
  • the center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (375 m).
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed.
  • the center-to-center distance (d) between adjacent expansion patterns was set to be in a range of 4 to 6 times (47'5 m) the width of the wiring pattern.
  • a flex-rigid and wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89 except for forming the expansion pattern.
  • center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (385 im).
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed.
  • the center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to a range of 4 to 6 times (575 m) the width of the wiring pattern. (Example 95)
  • «M) to form an expanded pattern bulging to one side so that the center wiring pattern has a maximum line width of 1.5 times (100 ⁇ 1.5 150 Um)
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89, except that the expansion pattern was formed so as to protrude to both sides.
  • the center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (385 m).
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89, except that the expansion pattern was formed so as to swell on both sides.
  • the center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to be less than four times the width of the wiring pattern (295 mm).
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the expansion pattern was formed so as to protrude to both sides as described above. Note that the center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (390 / m).
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89, except that it was formed as follows.
  • the center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to exceed six times the width of the wiring pattern (675 jUm).
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed.
  • center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to exceed six times the width of the wiring pattern (775 m).
  • a flex-rigid wiring board was manufactured in the same manner as in Example 89 except that each wiring pattern at the bent portion was not formed into a swelled expansion pattern, but was formed into a normal linear pattern. .
  • center-to-center distance (d) between adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (175 m). .
  • the distance (d) between the centers of adjacent extension patterns is the width of the wiring pattern. Within 4 times (17.5 im).
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm, and A flex-rigid wiring board 3 OOA was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R. .
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm, and A flex-rigid wiring board 300 A was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R / 2. Was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm and the maximum of the pattern.
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the curved portion to the wiring pattern of the non-bent portion was 3. .
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and The shortest distance X from the maximum curved part of the pattern to the wiring pattern of the non-bent part is X
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the formation was performed.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 300 A was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R / 2. Was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 300 A was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-flexing portion was R 3. Was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and
  • the flex-rigid wiring board 300 A was formed in the same manner as in Example 89 except that the shortest distance X from the maximum curved portion to the wiring pattern of the non-bent portion was R. Was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern that is curved in the width direction and has the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm and the maximum of the pattern.
  • the non-bending from the curved part A flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the shortest distance X to the wiring pattern of the curved portion was RZ2.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 300 A was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was RZ3. Manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1 Omm, and the pattern A flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the above to the wiring pattern of the non-bent portion was formed as R. did.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1 Omm, and the pattern A flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R / 2. OA was produced.
  • Each wiring pattern in the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern has a radius R of 1 O m
  • flex-rigid wiring board 300A was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 1.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm, and A flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. A was manufactured.
  • Each wiring pattern in the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 1.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2. 0 A was manufactured and manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 1.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 89 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. A manufactured '.
  • Each wiring pattern at the bent portion is curved in the width direction and has a line width of 1.5.
  • the curved pattern is an arc having a radius R of 10 mm, and the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion is formed.
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed as RZ2.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.0 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 30 OA was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. Manufactured.
  • Each wiring pattern in the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.0 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 30 OA was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2. Was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.0 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 10 mm,
  • a flex-rigid wiring was performed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2.
  • Plate 300A was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2. 0 A was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2. 0 A was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 10 mm,
  • a flex-rigid wiring board was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. 300 A was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a curved pattern having the same line width in the width direction, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1.5 mm, and A flex-rigid wiring board was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2. 300 A was produced. (Reference Example 19)
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 12 mm, and the pattern A flex-rigid wiring board 300A was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. Manufactured.
  • the wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1.5 mm, and A flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 4. OA was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of ⁇ , and the curved pattern is an arc having a radius R of 12 mm, and A flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 89 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 4. A was manufactured.
  • a 20 / m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber 4. O jum) is impregnated with epoxy resin and dried.
  • the same procedure as in Example 89 was carried out except that a copper foil 12 having a thickness of 18 m was heated and pressed, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used. Flex Rigi A 300 A printed wiring board was manufactured.
  • Example “I18" As a starting material for fabricating a flexible substrate, a 30- m- thick glass cloth (average thickness of glass fiber is 4.0 urn) is impregnated with an epoxy resin and dried. Heat-press a copper foil 12 with a thickness of 18 jum on both sides of an insulating base material 1 1 and harden the epoxy resin to form a 50-m thick double-sided copper-clad laminate. Except for using, a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured in the same manner as in Example 92.
  • Example 9 As a starting material for fabricating a flexible substrate, a 60- ⁇ m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 urn) is impregnated with epoxy resin and dried. Example 9 was repeated except that a copper foil 12 having a thickness of 18 im was heated and pressed to cure the epoxy resin, and a double-sided copper-clad laminate having a thickness of 100 jUm was used. In the same manner as in 5, a flexible rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber 5.0 mm) with a thickness of 20 jum is impregnated with an epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 11.
  • a copper foil 12 having a thickness of 18 jum was heated and pressed to cure an epoxy resin, and a double-sided copper-clad laminate with a thickness of 50 jUm was used.
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • a 30-jim-thick glass cloth (an average thickness of 5.0 m of glass fiber is impregnated with an epoxy resin and dried on one side of an insulating substrate 11) Heat-press copper foil 1 2 with a thickness of 18 / m2 and cure epoxy resin to obtain a 50 m-thick double-sided
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was produced in the same manner as in Example 105 except that a copper-clad laminate was used.
  • a 60 / m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber 5.0 m) is impregnated with epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 11 Example 10 except that a copper foil 12 having a thickness of 18 m was hot-pressed and a 100 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used.
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured.
  • both sides of an insulating base material '11' made by impregnating and drying a 20 / im glass cloth (average glass fiber thickness: 1.5 m) with an epoxy resin The same procedure as in Example 89 was carried out except that a copper foil 12 having a thickness of 18 jum was heated and pressed, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used. Similarly, flex-rigid wiring board 300A was manufactured.
  • Example 92 As a starting material for fabricating a flexible board, a 30-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber: 1.5 jum) is impregnated with epoxy resin and dried.
  • Example 92 a copper foil 12 having a thickness of 18 jw m was heated and pressed, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used.
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 1.5 m) with a thickness of e O jtm is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a flex-rigid wiring board 300 was manufactured in the same manner as in Example 95, except that a 100-m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by heating and curing an epoxy resin was used. A was manufactured.
  • Example 102 As a starting material for producing a flexible substrate, a glass cloth (average thickness of glass fiber: 7.0 im) with a thickness of 20 jt / m is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a copper foil 12 having a thickness of 18 m was heated and pressed, and an epoxy resin was cured to obtain a 50-im thick double-sided copper-clad laminate.
  • a flex-rigid wiring board 300A was manufactured.
  • a glass cloth with a thickness of 30 jw m (an average thickness of glass fiber of 7.0 mm is impregnated with an epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 11)
  • a copper foil 12 having a thickness of 18 ⁇ was hot-pressed and an epoxy resin was cured, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate was used.
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • a 60-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber 7.0 m) is impregnated with an epoxy resin, and dried on both sides of an insulating substrate 11.
  • Example 10 was repeated except that a copper foil 12 having a thickness of 18 / m was heated and pressed to cure an epoxy resin, and a double-sided copper-clad laminate having a thickness of 100 jum was used.
  • a flex-rigid wiring board 300 A was manufactured.
  • a 15-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber is 4.0 Um) impregnated with epoxy resin, Heat-press 18 mm thick copper foil 1 2 on both sides of dried insulating base material 1 1 to cure epoxy resin, 50 m thick double-sided copper-clad laminate
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as in Example 89 except that a board was used.
  • Example 9 As a starting material for fabricating a flexible substrate, an insulating substrate 11 made by impregnating a glass cloth with a thickness of 1 OOZ m (average thickness of glass fiber of 4.0 jim) with an epoxy resin and drying is used.
  • Example 9 Example 2 was repeated except that a copper foil 12 having a thickness of 18 was heated and pressed on both sides, and an epoxy resin was cured to obtain a copper-clad laminate having a thickness of 150 m.
  • flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured.
  • an insulating substrate made by impregnating and drying an epoxy resin in a glass cloth (average thickness of glass fiber 7. O jw m) with a thickness of 15 j «m
  • Example 10 except that a copper foil 12 having a thickness of 18 was heat-pressed on both sides of 1 and an epoxy resin was cured to obtain a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate.
  • a flex-rigid wiring board 3 OPA was manufactured.
  • a glass substrate (average thickness of glass fiber: 7.0 um) with a thickness of 1 OO jUm is impregnated with epoxy resin and dried.
  • Example 1 Except that a copper foil 12 with a thickness of 18 jum was heated and pressed on both sides, and a copper-clad laminate with a thickness of 150 m, which was obtained by curing an epoxy resin, was used.
  • a flex-rigid wiring board 30 OA was manufactured in the same manner as 108.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber 4.0 Urn) with a thickness of 20 jum (thickness of 30 im or less) was used.
  • the distance (d) between the centers of three adjacent extension patterns 56 or 57 is set to be within four times the width of the wiring pattern 53 or 54 (325 m).
  • a prepredder 60 (Matsushita Electric Works: R-1661) having openings (indicated by reference numeral 62) at the portions where bending is required on both sides of the substrate on which the cover layer 58 is formed, and a thickness 12 / laminating the copper foil 6 4 m (see FIG. 2 0 (c)), pressure 35 kg / cm 2 and the laminate was heat-pressed at a temperature of 180 ° C (see FIG. 2 0 (d)).
  • the surface of the laminate obtained in (4) above is irradiated with a carbon dioxide laser under predetermined irradiation conditions to form an opening 66 having a diameter of 100 m in the copper foil 64. Then, carbon dioxide laser irradiation was further performed from the opening 66 under different irradiation conditions to form a through-hole 68 having a diameter of 300 ⁇ m penetrating the substrate (see FIG. 20 (e)).
  • a desmear treatment was performed using a permanganate solution to remove the resin residue (smear) remaining in the through hole 68.
  • a dry film resist is laminated on the front and back surfaces of the substrate on which the copper-plated layer 70 is formed in (6), and exposed and developed.
  • an etching process using an aqueous cupric chloride solution was performed to form wiring patterns 72 and 74 on the front and back surfaces of the substrate, respectively.
  • the wiring patterns 72 and 74 are electrically connected to the wiring patterns 53 and 54 formed on the flexible substrate 52 through the plated through holes 76 (see FIG. 20 (g)).
  • the outer shape is processed by a router to produce a flex-rigid wiring board 30 OB having expansion patterns 56 and 57 near the bent portions 55 on the front and back surfaces of the substrate, respectively. did.
  • the center-to-center distance (d) between three adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (285 Tm).
  • the distance (d) between the centers of three adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (375 m).
  • the distance (d) between the centers of three adjacent extension patterns was set to a range (475 m) four to six times the width of the wiring pattern.
  • Each wiring pattern in the bent portion is expanded to a region swelled in the line width direction, that is, as shown in FIG.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 12 except that the expansion pattern was formed so as to protrude to both sides.
  • the center-to-center distance (d) between three adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (385 m).
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 12-29, except that the expansion pattern was formed so as to bulge to both sides as described above.
  • the distance (d) is set to be in a range of 4 to 6 times (575 m) the width of the wiring pattern.
  • the distance (d) between the centers of three adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (38.5 ⁇ ).
  • the distance (d) between the centers of three adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (295 m).
  • the distance (d) between the centers of three adjacent extension patterns was set to be within four times the width of the wiring pattern (390 // m).
  • the center-to-center distance (d) between three adjacent extension patterns was set to exceed six times the width of the wiring pattern (675 / m).
  • the center-to-center distance (d) between three adjacent extension patterns was set to exceed six times the width of the wiring pattern (775 jum).
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm, and A flex-rigid wiring board 300 B was formed in the same manner as in Example 12-29, except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R. Manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm, and Flex-rigid wiring board 300 B in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was formed to be RZ2. Was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm, and A flex-rigid wiring board 300 B was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was RZ3. Was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 3 OOB was manufactured in the same manner as in Example 12-29, except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R. .
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 12 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R / 2. B was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-flexing portion was R / 3. B was manufactured. (Example 1 4 4)
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 300 B was formed in the same manner as in Example 12-29, except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R. Manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 12 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum bending portion to the wiring pattern of the non-bending portion was R / 2. B was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and the pattern is
  • the flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 12-29, except that the shortest distance X from the maximum curved portion to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ3. B was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1 O mm, and A flex-rigid wiring board was formed in the same manner as in Example 12-29, except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern at the non-bent portion was R. 30 OBs were produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1 Omm, and the pattern A flex-rigid wiring board 300 was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the non-bent portion to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. B was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1 Omm, and the pattern
  • the flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the above to the wiring pattern of the unbent portion was R / 3. 0 B was produced.
  • Each wiring pattern in the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 1.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 2 mm,
  • a flex-rigid wiring board was formed in the same manner as in Example 12-29, except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. 300 B was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 1.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A pattern in which the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion is RZ2
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 1229 except that this was formed.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 1.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 3 was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. 0 B was produced.
  • Each wiring pattern in the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 1.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 10 mm,
  • a flex-rigid wiring board was formed in the same manner as in Example 12 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. 300 B was produced.
  • Each wiring pattern in the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.0 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board was formed in the same manner as in Example 12-29, except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2. 300 B was produced.
  • each wiring pattern in the bent portion into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.0 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm; and From the maximum curvature of the pattern A flex-rigid wiring board 300 ⁇ was manufactured in the same manner as in Example 12-29, except that the bending distance was formed such that the shortest distance X to the wiring pattern was RZ2.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.0 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 10 mm,
  • the flex-rigid wiring is performed in the same manner as in Example 12 29. Plate 300B was produced.
  • Each of the wiring patterns in the bending ⁇ is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 5 mm, and A flex-rigid wiring board 3 was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. 0 B was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.5 times, and the curved pattern is an arc having a radius R of 8 mm, and A flex-rigid wiring board 3 was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ2. 0 B was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having a line width of 2.5 times, and the curved pattern has a radius R of 10 mm, and the pattern was formed in the same manner as in Example 12-29 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was 2. As a result, a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1.5 mm, and Except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2, a flex-rigid wiring board 3 0 B was produced.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 12 mm, and the pattern
  • the flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 12 except that the shortest distance X from the maximum curved portion of the non-bent portion to the wiring pattern of the non-bent portion was R / 2. 0 B was built.
  • Each wiring pattern at the bent portion is formed into a pattern curved in the width direction and having the same line width, and the curved pattern is an arc having a radius R of 1.5 mm, and A flex-rigid wiring board 30 was formed in the same manner as in Example 12 except that the pattern was formed such that the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion was RZ4. 0 B was produced.
  • Each wiring pattern at the bent part is curved in the width direction, the line width is the same
  • the curved pattern is an arc having a radius R of 12 mm, and the shortest distance X from the maximum curved portion of the pattern to the wiring pattern of the non-bent portion is
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 12 except that the pattern was formed to have an R / 4 pattern.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 m) with a thickness of 20 j «m is impregnated with epoxy resin and dried.
  • the heat-pressing of the copper foil 12 with a thickness of 18 / m and the hardening of the epoxy resin was carried out, except that a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate was used.
  • a flex-rigged torihi 300B was manufactured.
  • a 30-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0; Wm) is impregnated with an epoxy-based resin and dried.
  • Example 1 was repeated except that a copper foil 12 having a thickness of 18 j m m was heated and pressed, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used.
  • a flex-rigid wiring board 30DB was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 m) is impregnated with epoxy resin and dried, and both sides of insulating substrate 11 are dried. Same as in Example 13 except that the copper foil 1 2 of 18 /! 7! was heated and pressed to cure the epoxy resin, and a 100 m thick double-sided copper-clad laminate was used. Thus, a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • Example 1 60 As a starting material for fabricating a flexible substrate, an insulating base material made by impregnating a 20-jum-thick glass cloth (average thickness of glass fiber 5. O jii m) with an epoxy resin and drying is used. Example 1 was repeated except that a copper foil 12 having a thickness of 18 Jiim was heated and pressed on both sides of the resin, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used. In the same manner as in 39, a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • Example 14 2 As a starting material for manufacturing a flexible substrate, a glass cloth (average thickness of glass fiber: 5.0 jum) with a thickness of 30 jw m is impregnated with epoxy resin and dried.
  • Example 14 2 except that a copper foil 12 having a thickness of 18 ⁇ m was hot-pressed and a 50-m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth having a thickness of 60 im (an average thickness of glass fiber of 5.0 fi m is impregnated with an epoxy resin and dried) is provided on both sides of an insulating base material 11.
  • Example 1 was repeated except that a copper foil 12 having a thickness of 18 jW m was heated and pressed to cure an X-poxy resin, and a double-sided copper-clad laminate having a thickness of 100 jU m was used.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • Example 1 29 As a starting material for manufacturing a flexible substrate, a glass cloth (average thickness of glass fiber: 1.5 jum) with a thickness of 20 im is impregnated with an epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate 11.
  • Example 1 29 except that a copper foil 12 having a thickness of 18 jum was heated and pressed, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured. (Example 1 6 4)
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 1.5 m) with a thickness of 30 jwm is impregnated with an epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate.
  • a copper foil 12 having a thickness of 18 m was heated and pressed to cure an epoxy resin, and a 50 m-thick double-sided copper-clad laminate was used.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • Example 1 As a starting material for manufacturing a flexible substrate, a 60-m-thick glass cloth (average thickness of glass fiber: 1.5 jt / m) is impregnated with an epoxy resin and dried. Example 1 was repeated except that a copper foil 12 having a thickness of 18 ⁇ m was heated and pressed, and a 100-m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used. In the same manner as in 35, a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 7. O jU m) of 20 jU m in thickness is impregnated with epoxy resin and dried.
  • a copper foil 12 having a thickness of 18 was hot-pressed and a 50 m-thick copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • an insulating substrate 11 made by impregnating and drying a 30 / m-thick glass cloth (average glass fiber thickness of 7. O jt / m) with an epoxy resin is used.
  • Example 14 A copper foil 12 having a thickness of 18 jum was hot-pressed on both sides and an epoxy resin was cured to obtain a 50-m-thick double-sided copper-clad laminate. Flex flex Jid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 7. OjUm) is impregnated with epoxy resin and dried. Is the same as in Example 14 except that a hot-pressed 18 jt m copper foil 12 and a 100 m thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin were used. As a result, a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 Um) with a thickness of 15 jW m is impregnated with epoxy resin and dried.
  • Example 12 except that a copper foil 12 having a thickness of 18 jUm was hot-pressed and a 50-m-thick double-sided copper-clad laminate obtained by curing an epoxy resin was used.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 4.0 / im) with a thickness of 1 OO jUm is impregnated with epoxy resin and dried.
  • Example 13 except that a copper foil 12 having a thickness of 18 jum was hot-pressed and a double-sided copper-clad laminate with a thickness of 15 obtained by curing an epoxy resin was used.
  • flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • a 15-m-thick glass cloth (average glass fiber thickness of 7. OjUm) is impregnated with an epoxy resin and dried on both sides of an insulating substrate.
  • the hot-pressed copper foil 12 with a thickness of 18 jum is used to harden the epoxy resin.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured in the same manner as in Example 135 except that a copper-clad laminate was used.
  • a glass cloth (average thickness of glass fiber: 7.0 m) having a thickness of 100 m is impregnated with an epoxy resin and dried.
  • Example 13 except that a copper foil 12 with a thickness of 18 iX m was heated and pressed to cure an epoxy resin, and a copper-clad laminate with a thickness of 150 jtim was used.
  • a flex-rigid wiring board 300B was manufactured.
  • the electrical connection between the flexible board and the rigid board is performed via the lump conductor in Examples 1 to 44, Reference Examples 1 to 6, Comparative Example 1, and the flexible board.
  • Examples 45 to 88, Reference Examples 7 to 12 and Comparative Example 2 in which the electrical connection with the rigid board is made through the through holes the following (1) continuity test and (2) reliability A sex evaluation test was performed.
  • the electrical connection between the flexible substrate and the rigid substrate is made via a lump-shaped conductor
  • the embodiments 89 to 128, Reference Examples 1.3 to 26, Comparative Examples 3 to 4, and Examples 1 to 29 and 168 of the embodiment in which the electrical connection with the rigid board is made through plated through holes, and Reference Examples 26 to 38 are as follows (1) continuity test, (2) reliability In addition to the performance evaluation test, the bending radius (mm) at the bending portion of each example was measured.
  • the number of bends before disconnection is 50 or more, it is set to ⁇ , if it is 30 or more, it is set to O, if it is 29 or less, it is set to ⁇ , and if it is 15 or less, it is set to And X.
  • Example 1 10000 10/10 0.25 ⁇ ⁇ Example 2 40000 9/10 0.25 ⁇ ⁇ Example 3 90000 11/10 0.25 ⁇ ⁇ Example 4 rectangle 90000 '1/9 0.25 OO Example 5 90000 2/8 0.25 O ⁇ ⁇ Example 6 90000 8/2 0.25 OO Example 7 90000 9/1 0.25 ⁇ ⁇ Example 8 7850 10/10 0.25 ⁇ ⁇ Example 9 49087 9/10 0.25 ⁇ ⁇ Example 1 0 125 600 11/10 0.25 O ⁇ Example 1 1 Circular 125 600 1/9 0.25 ⁇ ⁇ Example 1 2 125 600 2/8 0.25 O ⁇ Example 1 3 125 600 8/2 0.25 ⁇ o Example 1 125 600 9/1 0.25 ⁇ ⁇ Example 1 5 10025 10/10 0.25 O ⁇ Rectangular corner
  • Example 1 7 90 123 11/10 0.25 ⁇ o
  • Example 1 8 90 123 1/9 0.25 O o
  • Example 1 9 90 123 2/8 0.25 ⁇ ⁇ ⁇
  • Example 20 90 123 8/2 0.25 O o
  • Example 2 1 90 123 9 / 1 0.25 ⁇ ⁇
  • Example 20 Round 49087 10/10 0.25 ⁇ o
  • Example 23 Staggered 49087 1/9 0.25 O o
  • Example 24 49087 9/1 0.25 ⁇ ⁇
  • Example 25 49087 10/10 0.25 o ⁇
  • Example 4 20 / 4.0 50 0.10 ⁇
  • Reference example 4 100 / 7.0 150 0.20 XX Reference example 5 Type 15 / 4.0 50 0.10 ⁇ ⁇ Reference example 6 (hem angle 70 °) 100 / 7.0 150 0.20 XX (Table 4)
  • Example 45 10000 10/10 0.25 ⁇ ⁇ Example 46 40000 9/10 0.25 ⁇ ⁇ Example 47 90000 11/10 0.25 oo Example 48 rectangle 90000 1/9 0.25 oo Example 49 90000 2 / 8 0.25 o ⁇ Example 50 90000 8/2 0.25 o ⁇ Example 51 90000 9/1 0.25 o ⁇ ⁇ Example 52 7850 10/10 0.25 oo Example 53 49087 9/10 0.25 o ⁇ Example 54 125 600 11 / 10 0.25 ⁇ ⁇ Example 55 Circular 125 600 1/9 0.25 oo Example 56 125 600 2/8 0.25 oo Example 57 125 600 8/2 0.25 oo Example 58 125 600 9/1 0.25 o ⁇ Example 59 10025 10/10 0.25 o ⁇ Example 60 40090 9/10 0.25 o ⁇ Example 6 1 90 123 11/10 0.25 ⁇ ⁇ Rectangular corner
  • Example 6 3 90123 2/8 0.25 o o
  • Example 6 4 90123 8/2 0.25 o ⁇
  • Example 65 90 123 9/1 0.25 o ⁇
  • Example 6 8 49087 9/1 0.25 o ⁇
  • Example 6 9 49087 10/10 0.25 ⁇ ⁇
  • Example 7 Solid-0.25 o ⁇ pattern
  • Example 7 9 20 / 1.5 50 0.10 ⁇ ⁇ Example 80 20 / 3.0 50 0.10 o ⁇ Example 8 1 Rectangular 20 / 4.0 50 0.10 ⁇ ⁇ Example 8 2 30 /5.0 60 0.10 ⁇ ⁇ Example 83 60 / 5.0 100 0.10 o ⁇ ⁇ Example 8 4 20 / 1.5 50 0.10 o ⁇ ⁇ Example 85 20 / 3.0 50 0.10 o ⁇ Trapezoid
  • Example 8 7 30 / 5.0 60 0.10 o ⁇ Example 8 8 60 / 5.0 100 0.10 ⁇ ⁇ Reference example 9 15 / 4.0 50 0.10 ⁇ ⁇ Rectangular
  • Reference example 1 0 100/7, .0 150.0.20 XX Reference example 1 1 trapezoid 15 / 4.0 50 0.10 ⁇ ⁇ Reference example 1 2 (hem angle 70 °) 100 / 7.0 150 0.20 XX (Table 7)
  • Example 93 Expansion 1.05 O 0.050 o ⁇ ⁇ Example 94 2.00 ⁇ 0.050 o ⁇ Example 95 One-sided expansion 1.50 O 0.050 o ⁇ Example. 96 * Extension and both 1.05 O 0.050 ⁇ o Example 97 side expansion 2.00 O, 0.050 ⁇ ® Reference Example 1 3 Both sides 2.50 X 0.053 o ⁇ Reference Example 1 4 Expansion 3.00 X 0.055 o ⁇ Comparative Example 3 No line width expansion 1.00 ⁇ 0.060 o X Comparative Example 4 Line width reduction 0.50 ⁇ 0.062 o X
  • Example 98 2 R 1.0 0.050 ⁇ o Example 99 R / 2 1.0 0.050 ⁇ ⁇ Example 1 00 R / 3 1.0 0.050 o ⁇ Example 1 0 1 5 R 1.0 0.050 ⁇ ⁇ Example 102 R / 2 1.0 0.050 o ⁇ Example 1 03 R / 3 1.0 0.050
  • Example 1 30 1.05 ⁇ 0.050 o ⁇
  • Example 1 31 2.00 ⁇ 0.050 o ⁇
  • Example 1 1.50 mm 0.050 ⁇
  • Example 1 34 2.00 ⁇ 0.050 ⁇
  • Example 1 5 7 20/4 50 0.050 o ⁇
  • Example 1 5 8 30/4 50 0.050 ⁇ ⁇
  • Example 1 5 9 60/4 100 0 050 ⁇ o
  • Example 1 6 1 30/5 50 0.
  • Example 1 6 2 60/5 100 0.050 ⁇ ⁇ Example 1 6 3 20/1 .5 50 0.050 ⁇ ⁇ ⁇ Example 1 6 4 30/1 .5 50 0.050 o ⁇ Example 1 6 5 60 / 1.5 100 0.050 oo Example 1 6 6 20 / 7 50 0.050 o ⁇ Example 1 6 7 30/7 50 0.050 ⁇ ⁇ ⁇ Example 1 6 8 60/7 100 0.050 oo Reference example 3 5 15/4 50 0.052 ⁇ ⁇ Reference example 3 6 100/4 150 0.051 o ⁇ Reference example 3 7 15/7 50 0.051 o 05 Reference example 3 8 100/7 150 0.052 o ⁇
  • Examples 1 to 28 were applied to a flexible printed wiring board in which a conductor circuit was formed on one surface of a flexible substrate and a dummy pattern was formed near the bent portion on the other surface.
  • a grid-like dummy pattern having a total opening area Z pattern area of 1 Z9 to 9/1 is excellent in electrical connectivity and flexibility (folding resistance).
  • the line width was 150 to 250 m.
  • a linear dummy pattern with a line-to-line distance of 30 ⁇ m or more has excellent electrical connectivity and bendability (folding resistance), especially a line width of 200 / m or more. Dummy patterns with a line distance of 1 OO / m or less are better, and dummy patterns with a line width of 200 m and a line distance of 50 im are better. The best.
  • the dummy pattern having a skirt angle of 45 ° or more has excellent electrical connectivity and bendability (folding resistance).
  • the pattern with an angle of 75 ° was found to be the best.
  • the thickness of the insulating substrate of the flexible substrate is 1
  • a dummy pattern is provided on a flexible substrate whose glass cloth is less than OO im and the thickness of glass cloth is 30 im or less, it has excellent electrical connectivity and flexibility (folding resistance), especially A dummy pattern provided on a flexible substrate in which the thickness of the insulating base material is 50 m and the thickness of the glass cloth is 20 m is most excellent.
  • the flex-rigid wiring boards according to Examples 1 to 88 and Reference Examples 1 to 12 show that the bending degree at the bending portion of the flexible substrate is half the curvature. In terms of diameter, it is in the range of 0.1 to 0.25 mm, which is much larger than the flex-rigid wiring board according to Comparative Example 1 (curvature radius: 0.05 mm) where no dummy pattern is formed. It can be seen that the degree of bending can be increased.
  • the bending radius is also in the range of 0.050 to 0.055 mm, so that it can be determined that the bending degree is large and constant.
  • the wiring density at the bent part if the width of the extended pattern is less than twice the width of the wiring pattern at the non-bent part, it does not affect the wiring density. It was also found that the wiring density was reduced because the clearance between the patterns could not be secured.
  • Example 11 17 ⁇ "! 28 (Example 1 57 ⁇ 16 8) and Reference Examples 22 to 25 (Reference Examples 35 to 38) indicate that the thinner the glass cloth and the thickness of the base material, the more difficult the disconnection. And excellent in folding resistance.
  • the bending radius is in the range of 0.050 to 0.052 mm, it can be determined that the bending degree is large and constant.
  • the flex-rigid wiring board according to the present invention is suitably used for a portable electronic device such as a folding mobile phone.

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Abstract

絶縁性基板上に導体回路を設けてなる硬質のリジッド基板と、絶縁性基材上に導体回路を設け、その導体回路を被覆するようにカバーレイを設けてなる屈曲可能なフレキシブル基板とが接続されてなるフレックスリジッド配線板において、フレキシブル基板の絶縁性基材として、ガラスクロスに樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能な基材を採用し、フレキシブル基板の一方の表面に導体回路を形成し、他方の表面に屈曲部付近でダミーパターンを形成することによって、屈曲部付近で生じやすい基材の変形や、導体回路の断線、ウネリ形成等を防止できる接続信頼性に優れるフレックスリジット配線板とその製造方法を提案する。フレキシブル基板上の導体回路の配線パターンを屈曲部で広幅とするかあるいは幅方向に湾曲させることによって、同様の効果を得ることができる。

Description

明細書 フレックスリジッ ド配線板およびその製造方法 技術分野
本発明は、 折り曲げ可能な可撓性を有するフレックス部と硬質材料か らなるリジッ ド部とからなるフレックスリジッ ド配線板とその製造方 法に関する。
発明の背景
近年、 折りたたみ式の携帯電話等の携帯用電子機器には、フレックス リジッ ド多層配線板が使用されている。 このような配線板は、 図 2 2に 示すように柔軟性がないリジッ ド部 500、 520 と、 柔軟性のあるフレキ シブル部 51 0とをフレキシブル基板 544を介して連結するとともに、 リ ジッ ド部 500においては、 ¾層するフレキシブル基板 544およびリジッ ド基板 500、 520表面のパターン層 504、 506を、 めっきスルーホール 502 の導体層を介して電気的に接続するものが一般的である (例えば、 特開 平 5— 90756号公報参照)。
前記従来技術にかかるフレックスリジッ ド多層配線板は、 ガラスェポ キシ樹脂 、 ガラスポリイミ ド樹脂等の硬質基材上に回路形成されてな るリジッ ド基板の間に、ポリィミ ド樹脂フィルムやポリエステル樹脂フ ィルム等の屈曲性能に優れた基材上に回路形成されてなるフレキシブ ル基板をプリプレダあるいは接着シート等を介して熱圧着し、その後、 穴あけ、 スルーホールメツキ、 レジスト塗布、 エッチングといった多く の工程を経て製造されている。
前記フレキシブル基板は、自由に折り曲げられることが要求されるた め、 リジッ ト基板で使用されているような紙や、 ガラス繊維等の強化材 は使用されず、 絶縁材として屈曲性に優れた薄いポリイミ ド樹脂やポリ エステル樹脂などのべ一スフィルムが採用され、そのべ一スフイルムに 対して柔軟な銅箔を貼り合せたものが基板材料として使用されている。 このベースフィルムと して用いられるポリイミ ドフィルムは、フィル ム単体では 400°G以上の耐熱性があり、 部品実装時の 250。C以上の半田 付け温度にも十分耐える上、 実際に機器組み込み後の環境変化に対して も安定した性能が発揮できるため、ポリエステルフイルムよりも圧倒的 に多く使用されている。
また、 ベースフィルム上に貼付された柔軟な銅箔をエッチングして形 成される導体回路を保護するための力パーレイは、屈曲性を考慮して、 接着剤付きのポリイミ ドフィルムが使用されることが多い。
ところで、携帯用電子機器の高機能化および高密度化という社会的要 請に応じて、実装部品のより一層の小型化が図られると共に、 それに伴 なって、 実装される基板の配線幅の一層の微細化が求められているのが 現状である。
とくに、折リ曲げ可能なフレックスリジッ ド配線板においても、それ を構成するフレキシブル基板に形成される配線パターンの微細化およ び高密度化 (単位面積辺りの配線の本数を増やす) が求められている。
しかしながら、フレキシブル基板の絶縁性基材として用いられている ポリイミ ドフイルムは、吸水性が高く、 しかも寸法変化が大きいため、ラ ンド径のサイズを予め大きく形成しなければならない等の設計デザィ ン的な制約を受け、更に、合せ精度を向上させるためにワークサーズを 小さく して製造ずる必要があった。 そのため、優れた接続信頼性を得る ことができないという問題があり、また、 ヒートサイクル等の信頼性試 験においても同様の問題があった。
また、 フレキシブル基板の絶縁性基材として用いられるポリイミ ド等 の樹脂フィルムは、フィルム単体で形成されたもので、芯材に樹脂含浸 させたものではないため、(1 )十分な強度を確保できない、 (2)屈曲部の 曲率を一定に保持できない、 (3)前記(1 )、(2)の故に、屈曲部付近でフレ キシブル基材が変形し リ、導体回路が断線したりするという問題があ つた。特に、 フレキシブル基材の折り曲げを繰り返したリ、導体回路が微 細な配線パターン より形成されているとき場合には、 それらの問題が 顕著となる。
また、 フレキシブル ¾板の屈曲部分や、リジッ 卜部形成領域付近でゥ ネリ (波状) が形成されることがあり、このゥネリが形成されると、 基 材のうねリ形成部分に亀裂が生じたリ、導体回路が断線するというダメ ージを受けることがある。
さらに、フレキシブル基板に設けた導体回路を保護するためのカバー レイを、接着剤付きポリイミ ドフィルムから形成する場合に、スルーホ —ルの接続信頼性や絶縁信頼性が低下するおそれがあるので、穴明け、 デスミア、めっき条件等を特別に管理する必要があると共に、 他の材料 との組み合わせ構成をする Ihで制約を受けるという問題もあった。
そこで、 本発明の目的は、 従来技術が抱える上述した問題を解消し、 屈曲部での強度を十分に確保しつつ、 そこでの屈曲具合を大きく、 かつ 一定に保持できるようなフレックスリジッ ト配線板およびその製造方 法を提案することにある。
本発明の他の目的は、 フレキシブル基板の屈曲部付近で生じやすい基 材の変形や、導体回路の断線、ゥネリ形成等を防止できる接続信頼性に 優れるフレックスリジッ ト配線板およびその製造方法を提案すること める。
発明の開示
発明者らは、上記目的を実現するために鋭意研究を重ねた結果、 フレ キシブル基板を、従来技術のようなポリィミ ド等の樹脂フィルム単体で はなく、ガラスクロスに樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能な複合基 材、特に、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能 な複合基材から形成すれば、基板の剛性を高め、 寸法変化を小さくでき、 そのような基材の一方の表面に導体回路を設け、 他方の表面に屈曲部付 近にダミーパターンを形成すれば、屈曲を助成できるので屈曲具合を大 きくでき、 しかもその大きな屈曲状態を一定に維持できることを知見し た。
また、 ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能 な複合基材の一方の表面に導体回路を設け、'その導体回路を構成する配 線パターンの屈曲部に位置する部分を線幅を局所的に膨らませて広幅 にしたりあるいは湾曲させることで、 屈曲を助成できるので屈曲具合を 大きくでき、 しかもその大きな屈曲状態を一定に維持できることを知見 した。
すなわち、本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、
( 1 ) . 絶縁性基板上に導体回路を設けてなる硬質のリジッ ド基板と、 絶縁性基材上に導体回路を'設け、その導体回路を被覆するようにカバ一 レイを設けてなる屈曲可能なフレキシブル基板とが接続されてなるフ レックスリジッ ド配線板において、
前記フレキシブル基板の絶縁性基材は、ガラスクロスに樹脂を含浸、 乾燥させてなる屈曲可能な基材であり、
前記フレキシブル基板の一方の表面には導体回路を形成し、他方の表 面には、屈曲部付近にダミーパターンを形成したことを特徴とするフレ ックスリジッ ド配線板である。 .
上記 ( 1 ) に記載の発明における 「ダミーパターン」 とは、 フレキシ ブル基板の導体回路が形成された表面と反対側の表面に形成される電 気的な接続を行わない導体層または絶縁層を意味しており、 主としてフ レキシブル基板の折り曲げ部分 (屈曲部) を中心とした領域に形成され る。
上記ダミーパターンは、導体層または絶縁層中に、単一あるいは複数 種類の形状の開口を有し、それらの複数の開口が少なくとも導体回路の 線状パターンに交差するような方向に、規則正しく配置された形態 (以 下、 「格子状パターン」 という) に形成されていることが望ましい。 上記格子状パターンをなす開口の形状としては、三角形、 四角形、 五 角形以上の多角形等の角形状、 それらの角部に R部を設けた形状 (面取 リ形状) 、あるいは円形、 楕円形等の曲線形状、もしくは角形状と曲線形 状との組合せ形状を用いることができ、円形の開口や四角形がよリ望ま しい形態である。
また、上記格子状パターンをなす開口は、同一形状および同一面積に 形成してもよいし、 異なる形状もしくは異なる面積の組み合わせにより 形成してもよい。
また、 上記各パターンを形成する複数の開口間の距離 (ピッチ) は、 一定であってもよいし、 不均一であってもよく、さらに、 屈曲部付近だ け開口形状の大きさやピッ を変化させてもよい。
上記各パターンを形成する各開口の面積は、 1 0 0 0 0〜 2 0 0 0 0 0〃 m 2であることが望まレぃ。その理由は、 1 0 0 0 0 m m 2未満では、 フレキシブル部自体が強固になりすぎてしまって、 屈曲部の折り曲げを 助長することができないと共に、 1=一卜サイクルなどの信頼性試験にお いても、 発生した応力が伝達しやすくなリ、その応力が緩衝されないの で、 基材ゃ導体回路にダメージを与えることがあるからである。一方、 2 0 0 0 0 0 m m 2を超えると; 屈曲部において基材のゥネリが形成さ れるので、 導体回路の位置ズレを生じたり、 屈曲部分の屈曲具合 (曲率 半径) を大きく、かつ一定に維持しにく く ることがあるからである。 また、 上記各パターンを形成する各開口の面積の総和と、残りのバタ ーン部分の面積との比が、 1 : 9 ~ 9: 1の範囲であることが望ましい。 その理由は、 1 : 9未満では、 フレキシブル部自体が強固になりすぎ、 屈曲部の折り曲げを助長することができないと共に、 ヒートサイクルな どの信頼性試験においても、 発生した応力が伝達しやすくなリ、その応 力が緩衝されないので、 基材ゃ導体回路にダメージを与えてしまうこと がある。一方、 9 : 1 を越えると、 屈曲部に基材のゥネリが形成されるの で、 屈曲具合 (曲率半径) を大きく、かつ一定に維持しにく くなること がある。 .
上記各パターンを形成する各開口の面積の総和と、残りのパターン部 分の面積との比が、 2 : 8 ~ 8 : 2の範囲であることがより望ましし、。 その範囲であれば、部分的に開口面積の総和と残りのパターン部分の面 積との比にバラツキを生じたとしても、ヒー卜サイクルなどの信頼性試 験においても、前述のような問題を引き起こさないし、 屈曲部のゥネリ が形成されることがないので、 屈曲具合 (曲率半径) を大きく、かつ一 定に維持することができるのである。
また、上記各パターンを形成する各開口の面積の総和と、残りのパタ ーン部分の面積との比が、 '9 : 1 0〜 1 1 : 1 0の範囲であることがよ リ望ましい。 その範囲であれば、開口面積の総和と残リのパターン部分 tの面積との比にバラツキが生じたり、フレキシブル基板におけるバラッ キが生じたとしても、 確実に信頼性試験に耐えることができるので、屈 曲具合 (曲率半径) を一様に大きく し、かつ一定に維持することができ るのである。 、
上記各開口の面積は、 1 0 0 0 0〜 1 2 6 0 0 0 /i m 2であることが より望ましく、 かつ、 各開口の面積の総和と、 開口が形成されていない 残りのパターン部分の面積との比が、 1 : 9 ~ 9 : 1の範囲であること がより望ましい。 この範囲であれば、 形成きれる形状などに関わらず、 フレキシブル部に対する屈曲部の屈曲具合 (曲率半径) を大きく、かつ 一定に維持することが容易となる。また、位置ズレなどによる電気的な 接続不良を低減し、ヒ一トサイクルなどの信頼性試験においても、応力 が緩衝されるので、 基材ゃ導体回路にダメージを与えることがなく、信 頼性を大幅に向上させやすくなるからである。 また、上記各開口の面積は、 1 Ο Ο Ό Ο ~ 1 2 6 0 0 0 m 2であるこ とがより望ましく、 かつ、 各開口の面積の総和と、 開口が形成されてい ない残りのパターン部分の面積との比が、 9 : 1 0〜 1 1 : 1 0の範囲 であることがより望ましい。 この範囲であれば、開口などのバラツキや 材料のバラツキによる因子の影響を受けることがなく、信頼性などの面 でも安定させることができるからである。
本発明において、上記ダミーパターンは、導体回路の線状パターンに 対して交差するような方向に延設されたパターンであることが望まし い。そのダミーパターンは、 フレキシブル基板の屈曲部付近に配設され、 少なくとも 3本以上の線状パターンからなリ、その線幅は 1 5 0 m以 上であることが望ましい。 3本以上であると、 屈曲部での屈曲具合 (曲 率半径) を大きく、かつ一定に維持しやすく、線幅が 1 5 0 m未満であ ると、 屈曲部における屈曲真合 (曲率半径) が一定に維持できなくなる ことがある。
また、上記交差方向に延設された線状パターンは、 その線間距離が 3 0 m以上であることが望ましく、それによつて、 フレキシブル基板の 屈曲部に沿って延設された線状パターンを並置することができる。 3 0 i m未満では、 延設されたパターン同士が重なりあうことがあり、 それ によって、局所的にゥネリが形成されるので、導体回路の線状パターン が断線し、 接続信頼性を低下させてしまうことがある。
また、上記交差方向に延設された線状パターンは、厚みが導体回路の 線状パターンの厚みと同等、 あるいはそれよリも厚いことが望ましい.。 その理由は、線状パターンの厚みが導体回路の線状パターンの厚みよリ も薄い場合には、 フレキシブル基板の屈曲時の曲率半径が小さくなって しまうことがある。また、フレキシブル基板の頻繁な屈曲により、 導体回 路の配線パターンが破断することがあるからである。
また、上記交差方向に延設された線状パターンは、その断面形状が台 形であることが望ましい。その理由は、交差方向に延設された線状バタ ーンは、断面形状が台形であると、 ダミーパターンが折り曲げられた場 合に、 パターン部分が重なりあうことがないので、屈曲部において、 段 差が形成されることがなく、導体回路の線状パターンの断線が防止され る力、らである。
さらに <上記台形部分の裾角度は、 4 5 ~ 9 0 ° であることが望まし し、。 屈曲部において延設されたパターンを並置することが容易になるか らである。'
本発明において、フレキシブル基板を形成する屈曲可能な基材をなす ガラスクロスは、厚さが 3 0 m以下であり、それを構成するガラス繊 維の太さが、 1 . 5〜7 . 0 / mであることが望ましい。 その理由は、ガ ラスクロスの厚みが 3 0 mを越えると、 フレキシブル基板が屈曲でき なくなるからである。また、'ガラス繊維の太さが 1 . 5 ji m未満であると 屈曲具合(曲率半径) を大きくすることが困難になることがあり、 一方、 7 . 0 mを越えると、屈曲自体が阻害されてしまうことがある。
また、前記ガラスクロスに含浸されて、屈曲可能な基材をなす樹脂と しては、エポキシ系樹脂や、 ポリイミ ド系樹脂、 アクリル系樹脂、 液晶 ポリマー、 フエノ、ール系樹脂等を用いることができ、その中でもェポキ シ系樹脂がもっとも望ましい。
さらに、前記屈曲可能な基材は、板厚が 1 O O jW m以下であることが 望ましい。 その理由は、 1 0 0 ju m を超えると、ガラスクロスが厚くなり すぎ、屈曲性が低下してしまうことがある。すなわち、フレキシブル基板 の屈曲部での屈曲具合 (曲率半径) を大きく一定に維持することが難し くなることがある。
本発明において、屈曲可能なフレキシブル基板上に形成した導体回路 を被覆するカバーレイは、可撓性を有する樹脂付き銅箔、可撓性を有す るソルダーレジス 卜層、またはガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させた後、 半硬化させてなるプリプレダから形成されることが望ま しい。 その理由は、絶縁信頼性、接続信頼性がポリイミ ドフィルム (例え ば、接着剤付きポリィミ ド)を使用する場合よリも向上するからである。 なお、本発明におけるダミーパターンは、フレキシブル基板の屈曲部 における内側表面に形成されることが望ましい。それによリ、屈曲具合 (屈曲時に折り曲げられた部分の曲率半径) を大きくすることを支え、 その反対側の表面に形成されている導体回路の断線などの発生を防止 することができるからである。また、内側表面に形成されているので、繰 リ返しの折り曲げに対する耐性 (耐折性) が大きく、 ダミーパターンが フレキシブル基板の基材ゃ導体回路への損傷を低下させることができ るのである。
また、 本発明は、
( 2 ) 硬質のリジッ ド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆された 導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレックス リジッ ド配線板において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸せて屈曲可能とし たガラスクロスからなリ、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが広幅であること、ある いは幅方向に湾曲されていることを特徴とするフレックスリジッ ド配 線板である。
上記 (2 ) に記載された発明において、前記屈曲部にある広幅な配線 パターンは、幅方向に拡張されたパターン (以下、 「拡張パターン」 とい う) であることを特徴とする。
また、前記拡張パターンの最大幅は、 非屈曲部の配線パターンの線幅 よリ大きく、かつその線幅の 2倍以下とすることができる。
また、前記拡張パターンは、幅方向の片側あるいは両側に膨らんだ形 状とすることができる。 本発明における、前記湾曲されたパターン (以下、 「湾曲パターン J と いう) の線幅は、非屈曲部の配線パターンの線幅よリも大きく、かつその 線幅の 2倍以下とすることができる。
また、前記湾曲パターンは、 半径 R が 2 〜 1 O m mであるような円弧 であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パター ンまでの最短距離 Xが、 Rズ 3≤X≤ Rとなるように形成することがで きる。
また、本'発明において、屈曲可能な基材としては、厚さが 1 0 0 m以 下の板状基材を用いることができる。
さらに、前記屈曲可能な基材を構成するガラスクロスは、厚さが 3 0 m以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、 1 . 5 7 . 0 β mであるようなものを用いることができる。
本発明において、導体回路 被覆するカバーレイは、可撓性を有する 樹脂付き銅箔、可撓性を有するソルダーレジス 卜層、またはガラスクロ スにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させた後、 半硬化させてなるプリプレ グのいずれか 1から形成することができる。 . なお、本発明において、 「屈曲部」 とは、フレキシブル基板を折曲げた 時に、曲面となるような表面領域のことで、幅方向の折曲中心の前後に 位置する部分であり、 「非屈曲部」 とは、屈曲部以外の表面領域のことで ある。
上記( 1 )または(2 )に記載のフレックスリジヅ ド配線板によれば、 フレキシブル基板を、ガラスクロスに樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲 可能な基材から形成したので、 基材の剛性が高まり、 基板の寸法変化も 小さくなる。 そのため、従来技術のような導体回路形成における制約を 受けることがなくなるので、 基板材料に起因する導体回路の断線が阻止 されやすくなる。
また、 フレキシブル基板とリジッ 卜基板の接続部における寸法変化に よる配線の位置ズレも生じないので、 電気的接続性を低下させにく くす また、フレキシブル基板において、 導体回路形成面と反対側の表面に ダミーパターンを形成したり、 フレキシブル基板の少なくとも片面に、 拡張パターンまたは湾曲パターンを、屈曲部に形成することにより、 屈 曲部における曲げが助長されるので、屈曲部の曲がり具合 (曲率) を.一 定にすることができ、パラツキが抑えられる。
ガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能な基 材を用いることによ て、基材の剛性をよリ高めることができるので、 基板の寸法変化もよリ小さくすることができる。
すなわち、上記ガラスクロスに樹脂を含浸、乾燥させてなる基材は、従 来技術のようなポリイミ ド等の樹脂フィルム単体からなるフレキシブ ル基材に比べて、 曲げにくし、し、 繰り返しの曲げに対する柔軟性が劣つ ているが、フレキシブル基板の導体回路形成面と反対側の表面にダミー パターンを形成したり、 フレキシブル基板の少なくとも片面に拡張バタ ーンまたは湾曲パターンを、屈曲部に形成するよリ、 屈曲に対する曲が リ具合を安定化させ、繰り返し行なわれる曲げに対する柔軟性を向上さ せることができる-。
その結果、 折り曲げを起因とする導体回路の配線パターンの断線をな く して、接続信頼性の低下を阻止し、 ヒートサイクル条件下等の信頼性 試験においても、 従来よリも長時間にわたって良好な電気的接続性を維 持し、外形が損傷を受けることがなくなる。 また、 ゥネリが形成されな いので、 基材に亀裂が生じたリ、導体回路の配線パターンの断線等が発 生しにく くなる。
また、 本発明は、
( 3 ) 絶縁性基板上に導体回路を設けてなる硬質のリジッ ド基板と、 絶縁性基材上に導体回路を設け、その導体回路を被覆するようにカバ一 レイを設けてなる屈曲可能なフレキシブル基板とが接続されてなるフ レックスリジッ ド配線板の製造方法において、
前記フレキシブル基板の絶縁性基材は、ガラスクロスに樹脂を含浸、 乾燥させてなる屈曲可能な基材を用い、
前記フレキシブル基板の一方の表面には導体回路を形成し、他方の 面には、屈曲部付近にダミーパターンを形成することを特徴とするフレ ックスリジッ ド配線板の製造方法である。
さらに、' 本発明は、
( 4 ) 硬質のリジッ ド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆された 導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレックス リジッ ド配線板の製造方法において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸せて屈曲可能とし たガラスクロスからなる基材を用い、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが広幅であるように、あ るいは幅方向に湾曲されたように形成することを特徴とするフレック スリジッ ド配線板の製造方法である。 図面の簡単な説明、
図 1 は、 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板の第 1の実施形態 を説明するための概略図である。.
図 2 (a)は、ダミーパターンの配置される個所を示す概略図、図 2 (b) は、フレキシブル基板が屈曲された状態を示す概略図である。
図 3 (a)は、同一サイズの矩形開口を複数有する格子状のダミーバタ ーンの概略図、 図 3 (b)は、同一サイズの円形開口を複数有する格子状の ダミーパターンの概略図、図 3 (c)は、同一サイズの矩形開口の角部を面 取り した形状の開口を複数有する格子状のダミーパターンの概略図、図 3 (d)は、同一サイズの円形開口が千鳥配列された形状の開口を複数有 する格子状のダミーパターンの概 図、図 3 (e)は、大小の円形開口を組 合せた形状の開口を複数有する格子状のダミーパターンの概略図であ る。
図 4は、 線状のダミーパターンの概略図である。
図 5 (a)は、断面矩形であるような線状のダミーパターンと導体回路 パターンとの配置関係を示す概略図、図 5 (b)は、フレキシブル基板が屈 曲された状態を示す概略図、 図 5 (G)は、断面台形であるような線状の ダミーパターンと導体回路パターンとの配置関係を示す概略図、図 5 (d)は、フレキシブル基板が屈曲された状態を示す概略図、図 5 ( e) は、 断面台形であるような線状のダミーパターンの裾角度を説明するため の概略図である。
図 6は、本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板の第 2の実施形態 を説明するための概略図である。
図 7は、 湾曲パターンまたは拡張パターンが形成される配線パターン がフレキシブル基板の片面に形成されることを示す概略図である。
図 8は、 湾曲パターンまたは拡張パターンが形成される配線パターン がフレキシブル基板の両面に形成されることを示す概略図である。
図 9 (a)は、湾曲パターンの一態様を示す概略図、 図 9 (b)は、拡張バタ 一ンのー態様を示す概略図、図 9 (c)は、拡張パターンの他の態様を示す 概略図、図 9 (d)は、拡張パターンの更に他の態様を示す概略図である。
図 1 0 (a)〜(b)は、 フレキシブル基板の表面および裏面に形成される 湾曲パターンあるいは拡張パターンの配置関係を示す図である。
図 1 1 (a)〜(c)ほ、 本発明の実施例 1 にかかるフレックスリジッ ド配 線板のフレキシブル基板を製造する工程を示す図である。
図 1 2 (a)〜(f)は、 同じく、 寒施例 1 にかかるフレックスリジッ ド配 線板のリジッ ド基板を製造する工程を示す図である。
図 1 3は、 同じく、 実施例 1 にかかるフレックスリジッ ド配線板を構 成するフレキシブル基板とリジッ ド基板とを積層する工程を示す図で ある。
図 1 4は、 本発明の実施例 1 にかかるフレックスリジッ ド配線板を示 す図である。
図 1 5 (a)〜(g)は、 本発明の実施例 3 5にかかるフレックスリジッ ド 配線板を製造する工程を示す図である。
. 図 1 6 (a)〜(G)は、 本発明の実施例 8 9にかかるフレックスリジッ ド 配線板のフレキシブル基板を製造する工程を示す図である。
図 1 7 (a)〜(f)は、 同じく、 実施例 8 9にかかるフレックスリジッ ド 配のリジッ ド基板を製造する工程を示す図である。
図 1 8は、 同じく、 実施例 8 9にかかるフレックスリジッ ド配線板を 構成するフレキシブル基板とリジッ ド基板とを積層する工程を示す図 である。
図 1 9は、 本発明の実施例 8 9にかかるフレックスリジッド配線基板 を示す図である。
図 2 0 (a)〜(g)は、 本発明の実施例 1 2 9にかかるフレックスリジッ ド配線板を製造する工程を示す図である。
図 2 1 (a) ~ (b)、は、 本発明におけるリジッ ド基板とフレキシブル基板 との間の電気的接続形態の 2つの例を示す概略図である。
図 2 2は、 従来のフレックスリジッ ド配線板の断面構造を示す概略図 である。
発明を実施するための最良の形態 ' 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板の第 1 の特徴は、リジッ ド 部おょぴフレキシブル部を構成するフレギシブル基板の絶縁性基材と して、従来技術のようなポリイミ ド等の樹脂フィルム単体を用いないで、 ガラスクロスに樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能な基材から形成し、 その絶縁性基材の一方の表面には導体回路を形成し、他方の表面には、 屈曲部付近にダミーパターンを形成したことである。
前記屈曲可能な絶縁性基材を構成するガラスク口 は、厚さが 3 0 m以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、 1 . 5 ~ 7 . O i m であることが望ましい。 ガラスクロスの厚みが 3 0 mを越えると、 フ レキシブル基板の折り曲げを阻害してしまうからである。 また、 ガラス 繊維の太さが 1 . 5 ju m未満であると、 屈曲具合 (曲率半径) を大きく することができないからであり、 一方、 7 . 0 mを越えると屈曲自体 を阻害してしまうことがある。
また、前記ガラスクロスに含浸されて、屈曲可能な絶縁性基材をなす 樹脂としては、エポキシ系樹脂や、ポリイミ ド系樹脂、ァクリル系樹脂、 液晶ポリマ一、 フエノール系樹脂等を用いることができ、その中でもェ ポキシ系樹脂がもつとも望ましい。
前記屈曲可能な絶縁性基材の厚さは、 1 0 ~ 1 O O i m程度とするこ とが好ましい。 その理由は、 1 O jU m未満の厚さでは、 電気的絶縁性が 低下するからであり、 一方、 1 0 0 mを超えると、 基材を構成するガ ラスクロスが厚くなりすぎ、屈曲性が低下するからである。
前記絶縁性基材の一方の表面には、接続用電極パッ ドを含んだ導体回 路の配線パターンが形成される。この配線パターンは、 絶縁性基材の表 面にめっき処理によって形成するか、 絶縁性基材の表面に金属箔を貼付 し、その金属箔をエッチング処理して形成され、 前記接続用電極パッ ド は、 配線パターンの一部として形成される。
前記フレキシブル基板に形成した接続用電極パッ ドは、 その形状、 大 きさ、 および個数は、 たとえば、 直径が 5 0〜 5 0 0 m程度の円形と し、 1 0 0〜 7 0 0 jw m程度のピッチで複数配設したものが好適である。 その理由は、 5 0 ju m未満では高密度実装に対して、接続信頼性を低 下させる要因となり得るからであり、 一方、 5 0 0 // mを越えると、 高 密度実装に対する配線密度を高めにく くなるからである。 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板を構成するフレキシブル 基板には、 図 1 および図 2に示すように、その屈曲部付近において、導体 回路パターンが形成された表面と反対側の表面に電気的接続を行う機 能を有しないダミーパターンが形成されている。
このダミーパターンは、 電気的な接続を行なう機能を有していないの で、必ずしも導体回路パターンと同様の材料から形成される必要がなく、 樹脂、 セラミック等の絶縁材料から形成してもよい。 加工性、形状の均 一性保持、祈り曲げに対する耐性 (耐折性) という観点から、金属からな る材料を用いることが望ましい。
前記ダミーパターンは、主として、フレキシブル基板の屈曲部を中心 としてその周辺に形成することが望ましく、フレキシブル基板を折り曲 げた際に、内側となるような表面に形成することがよリ望ましい。 その 理由は、屈曲部における屈曲具合 (曲率半径) を大きくすることができ、 導体回路の断線等を引き起こしにく く して、接続信頼性やヒートサイク ル条件下における信頼性低下を防止できるからである。
このように、 フレキシブル基板をガラスクロスに樹脂 (特に、 ェポキ シ系樹脂) を含浸、乾燥させてなる屈曲可能な基材から形成し、 その屈 曲部周辺にダミーパターンを配設することによって、 前記基材からなる フレキシブル基板に対して、適度な剛性(強度)を付与するだ【ナでなく、 屈曲部においては適度な柔軟性を付加することができるので、 屈曲部の 屈曲具合 (曲率半径) を大きくすることができる共に、 その屈曲具合を 一定に維持することができる。
前記ダミーパターンは、図 3に示すように、導体層または絶縁層中に、 単一あるいは複数種類の形状の開口を有し、それらの複数の開口が少な <とも一列に、規則正しく格子状に配置された格子状パターンに形成さ れていることが望ましい。
なお、ここでいう 「格子状」 とは、複数の開口が碁盤目状に配列されて いる状態 (図 3 (a) ~ (c)参照) だけでなく、千鳥状に配列されている状 態 (図 3 (d)参照) を含む概念である。
また、本発明におけるダミーパターンとしては、 複数の開口を有しな いべタパターンも含まれるが、 フレキシブル基板の屈曲部付近において 折り曲げ難くなることが有るし、 ヒートサイクルなどの信頼性試験にお いても、 発生した応力が緩衝されないまま伝達される場合があるので、 基材ゃ導体回路にダメージを与える場合がある。 そのため、ダミーバタ
—ンはベタではなく、少なくとも一列に規則正しく配列された複数の開 口を有する格子状パターンに形成されることが望ましいのである。
前記格子状パターンをなす開口の形状は、三角形、 四角形、 五角形以 上の多角形等の角形状、 それらの角部に R部を設けた、即ち、 角部を面 取りした形状、あるいは円形、 楕円形等の曲線形状、もしくは角形状と曲 線形状との組合せ形状とすることができる。
また、前記格子状パターンをなす開口は、同一形状および同一面積に 成してもよいし、 異なる形状もしくは異なる面積の組合せにより形成 してもよい (図 3 (e)参照)。
また、 各パターンを形成する複数の開口間の距離 (ピッチ) は、一定 であってもよいし、、 不均一であってもよく、さらに、 屈曲部付近だけ開 口形状の大きさやピッチを変化させてもよい。
図 3 (a)〜(e)に示すようなパターンにより形成することがより望ま しい。
前記各パターンを形成する各開口の面積は、 1 0 0 0 0 ~ 2 0 0 0 0 0 m 2であることが望ましい。その理由は、 1 0 0 0 0 m m 2未満では、 フレキシブル部自体が強固になりすぎてしまって、 屈曲部の折り曲げを 助長することができないと共に、 ヒートサイクルなどの信頼性試験にお いても、 発生した応力が伝達しやすくなリ、その応力が緩衝されないの で、 基材ゃ導体回路にダメージを与えてしまうからであり、一方、 2 0 0 0 0 0 mm2を超えると、 屈曲部において基材のゥネリが形成され、 導体回路が位置ズレしたり、屈曲部分の屈曲具合(曲率半径) を大きく、 かつ一定に維持しにく くなるからである。
また、 上記各パターンを形成する各開口の面積の総和と、残リのバタ ーン部分の面積との比が、 1 : 9〜 9: 1の範囲であることが望ましい。 その理由は、 1 : 9未満で 、 フレキシブル部自体が強固になりすぎ、 屈曲部の折り曲げを助長することができないと共に、 ヒー卜サイクルな どの信頼性試験においても、 発生した応力が伝達しやすくなリ、その応 力が緩衝されないので、 基材ゃ導体回路にダメージを与えてしまうこと がある。一方、 9 : 1 を越えると、 屈曲部に基材のゥネリが形成されるの で、 屈曲具合 (曲率半径) を大きく、かつ一定に維持しにく くなるから である。
上記各パターンを形成ずる各開口の面積の総和と、残りのパターン部 分の面積との比が、 2 : 8〜 8 : 2の範囲であることがより望ましい。 その範囲であれば、部分的に開口面積の総和と残りのパターン部分の面 積との比にバラツキを生じたとしても、ヒー卜サイクルなどの信頼性試 験においても、前述のような問題を引き起こさないし、 屈曲部のゥネリ が形成されることがないので、 屈曲具合 (曲率半径) を大きく、かつ一 定に維持することができるのである。
また、上記各パターンを形成する各開口の面積の総和と、残りのバタ ーン部分の面積との比が、 9 : 1 0〜 1 1 : 1 0の範囲であることがよ リ望ましい。 その範囲であれば、開口面積の総和と残りのパターン部分 の面積との比にパラツキが生じたり、フレキシブル基板におけるバラッ キが生じたとしても、 確実に信頼性試験に耐えることができるので、屈 曲具合 (曲率半径) を一様に大きく し、かつ一定に維持することができ るのである。
上記各開口の面積が、 1 0 0 0 0〜 1 2 6 0 0 0 jU m2であることが より望ましく、 かつ、 各開口の面積の総和と、 開口が形成されていない 残りのパターン部分の面積との比が、 1 : 9 ~ 9 : 1の範囲であること がより望ましい。 この範囲であれば、 形成される形状などに関わらず、 フレキシブル部に対する屈曲部の屈曲具合 (曲率半径) を大きく、かつ 一定に維持することが容易となる。また、位置ズレなどによる電気的な 接続不良を低減し、ヒー トサイクル'などの信頼性試験においても、応力 が緩衝されるので、 基材ゃ導体回路にダメージを与えることがなく、信 頼性を大幅に向上させることができるからである。
また、上記各開口の面積は、 1 0 0 0 0 ~ 1 2 6 0 0 0 / m 2であり、 かつ、 各開口の面積の総和と、 開口が形成されていない残りのパターン 部分の面積との比が、 9 : 1 0 ~ 1 1 : 1 0の範囲であることがより望 ましい。. この範囲であれば、開口などのバラツキや材料のバラツキによ る因子の影響を受けるこどがなく、信頼性などの面でも安定させること ができるからである。
本発明において、ダミーパターンは、図 4に示すように、導体回路の配 線パターンに対して交差するような方向に延設されたパターンである ことが望ましく、そのダミーパターンは、 図 5 (a)および(b)に示すよう に、フレキシブル基板の屈曲部付近に配設され、 少なくとも 3本以上の 線状パターンからなリ、その線幅は 1 5 0 m以上であることが望まし し、。 3本以上であると、 屈曲部での屈曲具合 (曲率半径) を大きく、か つ一定に維持しやすく、線幅が 1 5 0 ju m未満であると、 屈曲部におけ る屈曲具合 (曲率半径) が一定に維持できなぐなるからである。
また、前記線状パターンは、 その線間距離が 3 O jU m以上であること が望ましく、それによつて、 フレキシブル基板の屈曲部に沿って延設さ れた線状パターンを並置することができる。 3 0 j« m未満では、 延設さ れたパターン同士が重なリあうことがあり、 それによつて、局所的にゥ ネリが形成されるので、導体回路の配線パターンが断線し、 接続信頼性 を低下させてしまうことがある。
また、前記線状パターンは、厚みが導体回路の配線パターンの厚みと 同等、 あるいはそれよりも厚いことが望ましい。 その理由は、線状パタ ーンの厚みが導体回路の配線パターンの厚みよリも薄い場合には、 フレ キシブル基板の屈曲時の屈曲具合 (曲率半径) が小さくなつてしまう。 また、フレキシブル基板の頻繁な屈曲によリ、 導体回路の配線パターン が破断することもあるからである。
また、前記線状パターンは、図 5 (c)に示すように、その断面形状が台 形であることが望ましし、。その理由は、断面形状が台形であると、 ダミー パターンが折り曲げられた場合に、 パターン部分が重なりあうことがな いので、屈曲部において、 段差が形成されることがなく、導体回路の配線 パターンの断線が防止されるからである (図 5 (d)参照)。
さらに、図 5 (e)に示すような断面台形であるダミーパターンの台形 部分の裾角度は、 4 5 ~ 9 0 ° であることが望ましい。 屈曲部において 延設されたパターンを並置することが容易になるからである。 台形部分 の裾角度 4 5 ° 未満の場合には、 折り曲げた際、 延設されたパターンが 重なりにく くなる。 つまり、 隣り合う延設されたパターンの隙間が形成 されやすくなるために、 屈曲率を一定にし難くなることがある。 9 0 ° を越えた場合には、 隣り合う延設されたパターンの重なりやすくなるた めに、 屈曲率を一定にし難くなることがある。 また、 それを回避するた めに、 配線同士の距離を大きくさせると、 延設されたパターンの隙間が 形成されやすくなるために、 屈曲率を一定にし難くなることがある。 なお、上記 「線状パターン」 の概念としては、導体回路の配線パターン と交差するような方向、言い換えれば、フレキシブル基板の屈曲部の屈 曲線に沿った方向に設けられた連続した線状パターンだけでなく、四角 形、円形、楕円形等の小パターンが所定の間隔をおいて、フレキシブル基 板の屈曲部の屈曲線に沿った方向に列設され、全体として線状パターン と同様の機能を果たすようなドッ トパターンを含んでいる。
本発明において、屈曲可能なフレキシブル基板上に形成した導体回路 を被覆するカバーレイは、可撓性を有する樹脂付き銅箔、可撓性を有す るソルダーレジス ト層、またはガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させた後、 半硬化させてなるプリプレダから形成されることが望ま しい。 その理由は、絶縁信頼性、 接続信頼性がポリイミ ドフィルム (例 えば、 接着剤付きポリイミ ド) を使用する場合よりも向上するからであ る。 '
前記可撓性を有する樹脂付き銅箔は、それを形成する樹脂自体の厚み が 5 0 jU m前後であることが望ましい。 その理由は、絶縁信頼性を確保 するためである。
また、前記可撓性を有するソルダーレジス ト層は、主として、 熱硬化性 樹脂、熱可塑性樹脂、感光性を有する樹脂、熱硬化性樹脂の一部分に(メ タ) アクリル基を有する樹脂などを用いて形成することができ、 ソルダ 一レジスト層の厚みは、 2 0〜 5 0 jii mであることが望ましい。 その理 由は、絶縁信頼性を確保するためである。
さらに、前記ガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させた後、 半 硬化させてなるプ-リプレグは、厚みが 2 0 ~ 5 0 mであることが望ま しい。 その理由は、絶縁信頼性を確保するためである。
本発明を構成するリジッ ト基板は、 柔軟性のあるフレキシブル基板と 反対に、 柔軟性のない基板であり、 その形態、 層数、 形成方法等には関 係なく、 硬質で容易に変形しないような基板である。
このリジッ ド基板において、 基板を形成する絶縁性樹脂基材としては、 ガラス布エポキシ樹脂基材、 ガラス布ビスマレイミ ド卜リアジン樹脂基 材、 ガラス布ポリフ: c二レンエーテル樹脂基材、 ァラミ ド不織布一ェポ キシ樹脂基材、 ァラミ ド不織布一ポリイミ ド樹脂基材から選ばれる硬質 基材が用いることが好ましく、 ガラス布エポキシ樹脂基材がよリ好まし い。
前記絶縁性樹脂基材の厚さは、 2 0〜 6 0 0 ju m程度とする。 その理 由は、 2 0 m未満の厚さでは、 強度が低下して取扱が難しくなるとと もに、 電気的絶縁性に対する信頼性が低くなリ、 6 0 0 ju mを超えると 微細なビア形成および導電性物質の充填が難しくなるとともに、 基板そ のものが厚くなるためである。
かかる絶縁性樹脂基材の片面または両面には銅箔が貼付され、その厚 さは、 5 ^ 1 8 ju m程度とする。 その理由は、 後述するようなレーザ加 ェを用いて、 絶縁性樹脂基材にビア形成用の開口を形成する際に、 薄す ぎると貫通してしまうからであり、 逆に厚すぎるとエッチングにより、 微細な線幅の導体回路パターンを形成し難いからである。
前記絶縁性樹脂基材および銅箔にて構成されるリジッ ド基板は、 特に、 エポキシ樹脂をガラスク スに含浸させて Bステージとしたプリプレ グと、 銅箔とを積層して加熱プレスすることによリ得られる片面銅張積 層板を用"ることができる。 このようなリジッ ド基板は、 銅箔がエッチ ングされた後の取扱中に、 配線パターンやビア位置がずれることがなく、 位置精度に優れている。
なお、このリジッ ド基板の片面または両面に形成される前記導体回路 は、 厚さが 5 ~ 1 8 m程度の銅箔を、 半硬化状態を保持された樹脂接 着剤層を介して加熱プレスした後、 適切なエッチング処理をすることに よって形成されたものが好ましい。
そして、その導体回路は、 基材表面に貼り付けられた銅箔上に、 エツ チング保護フィルムを貼付けて、 所定の回路パターンのマスクで被覆し た後、 エッチング処理を行って、 電極パッ ド (ビアランド) を含んで形 成されたものが好適である。
こうした導体回路形成工程においては、 先ず、 銅箔の表面に感光性ド ライフイルムレジス 卜を貼付した後、 所定の回路パターンに沿って露光、 現像処理してエッチングレジス卜を形成し、 エッチングレジス卜非形成 部分の金属層をエッチングして、 電極パッ ドを含んだ導体回路パターン とする。
前記処理工程において、エッチング液としては、 硫酸一過酸化水素、 過硫酸塩、 塩化第二銅、 塩化第二鉄の水溶液から選ばれる少なくとも 1 種の水溶液を用いることができる。
また、前記銅箔をエッチングして導体回路を形成する前処理として、 ファインパターンを形成しやすくするため、 あらかじめ、 銅箔の表面全 面をエッチングして厚さを 1 ~ 1 O jU m、 より好ましくは 2〜 8 m程 度まで薄くすることができる。
前記 ジッ ド基板に形成される接続用電極パッ ドは、 その形状、 大き さ、 および個数は、 特に限定されないが、 たとえば、 直径が 5 0〜 5 0 0 μ m程度の円形とし、 1 0 0〜 7 0 0 m程度のピッチで複数配設す ることが望ましい。 その il由は、 5 0 /i m未満では、 接続信頼性に不安 があり、 5 0 0 mを超えると、 高密度実装に不利であるからである。 前記絶縁性樹脂基材に、ビアホール形成用の開口 (以下、 「ビア開口」 という) を設ける。このビア開口は、レーザ照射によって形成することが できる。 特に、 絶凝性樹脂基材の表面に透明な保護フィルム、 たとえば PETフィルムを貼付し、 その PETフィルムの上方から炭酸ガスレーザ照 射を行ない、 PET フィルムを貫通して、 絶縁性樹脂基材の表面から銅箔 に達する開口を形成する。 このような加工条件によるビア開口径は、 5 0 ~ 2 5 0 j« m程度であることが望ましい。
なお、 レーザ照射によって形成されたビア開口の側面および底面に残 留する樹脂残滓を除去するために、 デスミア処理を行う。 このデスミア 処理は、 酸素プラズマ放電処理、 コロナ放電処理、 紫外線レーザ処理ま たはエキシマレーザ処理等によって行う。また、 デスミア処理は、 酸や 酸化剤等を用いた湿式でもよい。 前記ビア開口には導電性物質が充填されて、充填ビアホールが形成さ れるが、 その導電性物質としては、導電性ペース卜や電解めつき処理に よって形成される金属めつきが好ましい。
前記充填ビアホールの形成工程をシンプルにして、 製造コス卜を低減 させ、歩留まリを向上させる点では、導電性ペース卜の充填が好ましく、 接続信頼性の点では電解めつき処理によって形成される金属めつきが 好ましく、 とくに、 電解銅めつきが好適である。
前記導電性物質は、 絶縁性基材を貫通し導体回路に達するビア開口内 に充填されるだけでなく、 ビア開口の外側に所定の高さまで突出形成す ることもでき、 その突出高さは 5〜 3 0 m程度の範囲が望ましい。 その理由は、 5 ji m未満では、 接続不良を招きやすく、 3 0 / mを越 えると抵抗値が高くなると共に、 加熱プレス工程において熱変形した際 に、 絶縁性基板の表面に沿 て拡がりすぎるので、 ファインパターンが 形成できなくなるからである。
本発明において、 リジッ ド基板とフレキシブル基板との電気的接続は、 以下の(1 ) ~ (7)のような種々の形態を採用することができ、 これらの接 続形態を任意に組合せることによって、 基板材料を有効に使用すること ができると共に、 自由な配線接続構造とすることができる。
(1 ) リジッ ド基板の片面にフレキシブル基板を接続する場合、 すなわ ち、 リジッ ド基板の片方の最外層の表面に接続用電極パッ ドを形成する と共に、 フレキシブル基板の片方の表面にも接続用電極パッ ドを形成し、 各基板の電極パッ ド、同士を、 塊状導電体などを介して接続させる。
(2) リジッ ド基板の両面に、 異なるフレキシブル基板をそれぞれ接続 する場合、 すなわち、 リジッ ド基板の両方の最外層の表面に接続用電極 パッ ドをそれぞれ形成すると共に、 各フレキシブル基板をリジッ ド基板 の両方の最外層 形成した接続用電極パッ ドに対面して配置させ、 それ らの対面配置された接続用電極パッ ド同士を塊状導電体を介して接続 させる。
(3) フレキシブル基板の両面に、 異なるリジッ ド基板をそれぞれ接続 する場合、 すなわち、 フレキシプル基板の両面に接続用電極パッ ドを形 成すると共に、 それらの接続用電極パッ ドに対して、 片方の最外層の表 面に接続用電極パッ ドがそれぞれ形成された異なるリジッ ド基板を、そ れらの基板の各接続用電極パッ ドがそれぞれ対面するように配置させ、 対面配置された接続用電極パッ ド同士を塊状導電体を介して接続させ る。
(4) フレキシブル基板の複数箇所において、 リジッ ド基板の複数が電 気的接続される形態であり、 複数のリジッ ド基板は、 それらを構成する 導体層および樹脂絶縁層の餍数が任意であるように予め形成され、 それ らの個別に形成ざれたリジッ ド基板とフレキシブル基板の接続用電極 パッ ドを対向して配置し、 れらの対向配置された接続用電極パッ ド同 士を、 塊状導電体を介して接続させる。
(5) リジッ ド基板においては、 非貫通孔であるビアもしくは開口に導 体を充填してなるフィルドビアにより層間接続を行い、 リジッ ド基板と フレキシブル基板との接続もビアもしくはフィルドビアによリ接続さ せる。 また、 必要に応じて、 ビアを積層してなるスタックビアを用いて もよい (図 2 1 (a)参照)。
(6) リジッ ド基板とフレキシブル基板の両方を貫通するめつきスルー ホールを形成し、 そのめつきスルーホールを介して電気的な接続を行う。 また、 場合によっては、 フレキシブル基板の両面にリジッ ド基板を配置 させて、 そのすベてを貫通するめつきスルーホールを形成してもよい。
(7) 前記(5)と(6)の接続方法を組み合わせた形態、 即ち、 めっきスル 一ホールとビアの併用によってリジッ ド基板とフレキシブル基板との 接続を行う (図 2 1 (b)参照)。 ここで、前記(1 )〜(7)の種々の接続形態の中で、 特に、 (4)に記載され たような、 リジッ ド基板の片方の最外層表面においてフレキシブル基板 が接続される形態について、 |¾明する。
たとえば、 フレキシブル基板の一方の端部において、 その片面あるい は両面に対して予め層間接続されたリジッ ド基板が接合され (一方の 「リジッ ド部」 という)、 フレキシブル基板の片方の端部においても、 その片面あるいは両面に対して、 予め層間接続された他のリジッ ド基板 が接合されている (他方の 「リジッ ド部」 という) 形態が代表的である。
このような接続形態では、 フレキシブル基板の両端部間の部分は、 リ ジッ ド基板との接触がない部分 (「フレキシブル部」 という) であり、 このフレキシブル部には、 一方のリジッ ド部と他方のリジッ ド部とを電 気的接続する導体回路が設けられておリ、 このような導体回路は通常、 力パーレイと呼ばれる絶縁'層によって被覆されている。
各リジッ ド部を構成するフレキシブル基板の片面の所定領域、 たとえ ば、 細長い矩形状の基板の短辺に沿った表面領域には、 導体回路の一部 として複数の接続用電極パッ ドが予め形成されるとともに、 導体回路や 絶縁層が予め積層形成され、 かつ層間接続されたリジッ ド基板の外側表 面の所定領域にも、、 フレキシブル基板に設けた接続用電極パッ ドに対応 した複数の接続用電極パッ ドが予め形成される。
各リジッ ド部におけるこれらの複数の接続用電極パッ ド対は、 リジッ ド基板とフレキシブル基板との間に介在させた塊状導電体によって電 気的に接続されると共に、接続用電極パッ ド以外の表面領域においては、 接着剤によって接着されるように一体形成される。
前記接続用電極パッ ドは、 リジッ ド基板の最外層を構成する回路基板 の一つあるいは二つに対して、 めっき処理またはエッチング処理によつ て導体回路を形成する際に、 その導体回路の一部として形成されること ができるが、 最外層を構成する回路基板の絶縁樹脂層上に単独で形成さ れてもよいし、 その絶縁樹脂層を貫通して下層の導体回路との電気的接 続を行なうバイァホールランドとして形成することもできる。
本発明において、 前記リジッ ド基板に形成される接続用電極パッ ドの 形成領域は、 必ずしもリジッ ド基板の最外層の絶縁樹脂層表面の全域で ある必要はなく、 十分な接続強度が得られるような任意の位置であれば よい。
たとえば、 矩形状の基板の短辺あるいは長辺に沿った周縁の表面領域 や、 基板の周縁から中央に向う表面領域であってもよい。
このような接続用電極パッ ドの形成領域を任意の位置とすることが できるので、 電子機器筐体のデザインや、 その筐体内に収容される他の リジッ ド基板や電子部品等のレイアウ トに応じて、 所望の方向に配線の 引き出しが可能となリ、 極めて有利な配線接続構造を得ることができる。 さらに、 前記リジッ ド基 teとフレキシブル基板とは、 リジッ ド基板側 あるいはフレキシブル基板側の接続用電極パッ ドが形成されていない 表面領域に貼付または塗布形成された絶縁性接着剤層によって接着さ れる。
本発明において、リジッ ド基板の層間接続部の位置とフレキシブル基 板の層間接続部のィ立置とを一致させ、これらの層間接続部同士を塊状導 電体を介して重ね合わせて導通させたスタック構造部を形成すること が、よリ好ましい実施の形態であり、そのようなスタック構造の採用に よって、配線長の短縮化を実現して、 大電力が必要な電子部品の実装に 好適なフレックスリジッ ド配線板を提供することができる。
前記リジッ ド基板おょぴフレキシブル基板に設けた接続用電極パッ ド同士を接続する塊状導電体は、 リジッ ド基板もしくはフレキシブル基 板のいずれか一方の接続用電極パッ ド上に突設した形態であることが 好ましい。リジッ ド基板とフレキシブル基板とを重ね合わせる際に、絶 縁性接着剤層を貫通しゃすいからである。 前記塊状導電体としては、 銅、 金、 銀、 スズ等の金属、それらの合金、 あるいは種々の半田等を用いて、 めっきや、印刷法、 転写法、 埋め込み 法 (インプラン卜)、 電着等の手法によって、球状や半球状等の滑らかな 凸曲面形状、 角柱や円柱等の柱状、 あるいは角錐や円錐等の錐状に形成 されたバンプ (ポス ト) やポール、あるいはピン形状に形成されたもの が代表的であるが、 これらに限定されるべきものではなく、 リジッ ド基 板に設けた接続用電極パッ ドとフレキシブル基板に設けた接続用電極 パッ ドとを十分な接続強度で接続し、 かつ電気的接続できる手段であれ ばよい。
前記バンプ (ポス ト) をめつきによって形成する場合には、銅めつき により形成したものであってもよく、そのような塊状導電体は、フレキ シブル基板に設けた接続用電極パッ ドに対して半田層を介して接続さ れることが好ましく、それ ί よって優れた電気的接続性が得られる。
また、前記バンプ (ポスト) やポールを形成する半田としては、 S η / P b、 S n /S b、 S n /A g、 S n / A g/C u S nノ C u、 S n /Z n、 S n /A g/ I n C uから選ばれる少なくとも一種の半田 から形成することができる。
すなわち、 前記金属あるいは各種半田の中から選ばれる 1種類で形成 してもよいし、 2種類以上を混合して用いてもよい。
特に、 自然環境を汚染しないという社会的要請に応じて、 鉛を含有し ない、 いわゆる鉛フリー半田を用いたバンプが好ましい。 そのような半 田として、 たとえば S n ZS b、 S n /A gN S n /A g/C u , S n ZC u、 S n /Z n、 S n / A g / I n C uからなる半田が挙げられ る。 リジッ ド基板やフレキシブル基板の材料を考慮して、 融点が 1 8 3°Cである S n— 3 7 P b半田や、 融点が 2 1 7°Cである S n - 3 5 A g - 0. 7 C u半田が、 より好ましい。
さらに、 S n ZA g半田めつきによって形成したバンプは、展性に優. れて冷熱サイクルで発生する応力を緩和するのに有効であるため、より 好ましい。
前記半田バンプは、 その高さが 1 0〜 1 5 0 jU m程度であることが好 ましく、 めっき、 印刷法、 転写法、 埋め込み法 (インプラント) 、電着 等によって形成することができる。
たとえば、 印刷法による場合には、 接続用電極パッ ドを有するリジッ ド基板またはフレキシブル基板の接続用電極パッ ドに相当する基板上 の箇所に、'円形の開口を設けた印刷マスク (メタルマスク) を載置し、 そのマスクを用いて半田ペース卜を印刷し、 加熱処理することによって 半田バンプを形成する。
また、 転写法による場合には、 たとえば、 水平面を有する水平治具板 の当該水平面上に、 接続用電極パッ ドを有するリジッド基板またはフレ キシブル基板、 半田キヤリ および荷重用の押さえ治具を順次載置して、 水平治具板と押さえ治具とにより基板および半田キャリアを挟持し、 両 者を平行に保持し、 その後、 リフローにより半田キャリアの半田パター ンを接続用電極パッ ド上に転写し、 その後、 半田キャリアを取り除くこ とで、 接続用電極パッ ド上に半田バンプを形成する。
さらに、 前記半田ポールは、 た-とえば、 直径が 1 0 0〜 8 0 0 ju m程 度の銅球と、 その銅球を被覆する厚み 1 5 0 m以下の半田層とから形 成してもよい。
前記リジッ ド基板とフレキシブル基板との電気的および物理的接続 は、 フレキシブル基板の接続用電極パッ ドをリジッ ド基板の接続用電極 パッ ド上の半田バンプあるいは半田ボールに対して加圧、 加熱して半田 を溶融■固化させることによって行なわれることが好ましい。
本発明において、 リジッ ド基板とフレキシブル基板とを相互に接着、 固定し、 かつ前記塊状導電体が貫揷する絶縁性接着剤層をなす樹脂とし ては、 例えば、ポリビニルプチラール樹脂、 フ: tノール樹脂、 二トリル ラバー、 ポリイミ ド樹脂、 フエノキシ樹脂、 キシレン樹脂もしくはこれ らの 2種以上の混合物、 ポリカーボネート樹脂、 ポリスルホン樹脂、 ポ リエ一テルイミ ド樹脂、 液晶ポリマー、 ポリアミ ド樹脂なども使用する ことが可能である。 また、 前記樹脂にガラスマツ 卜、 無機充填剤、 ガラ スクロスなどを配合したもの (プリプレグ) でもよい。
例えば、 プリプレダを用いる場合には、 リジッ ド基板とフレキシブル 基板との間にプリプレグ等を介在させた状態で、 熱プレスすることによ つて絶縁性接着剤層を形成する。
前記プリプレダを用いる場合には、 接続用電極パッ ド上に形成するバ ンプとしては、 金属ペース トを所定の形状に成形した後、 硬化して形成 したバンプであることが好ましく、 所定の位置に精度よく貫通型の導体 路を形成するために、 その先端部が絶縁性接着剤層を容易に貫挿し得る ような円錐型、 角錐型など^ましいが、 半球状、 台形などでもよい。 前記金属ペース トは、 たとえば銀、 金、 銅、 半田粉、 炭素粉などの導 電性粉末、 これらの合金粉末もしくは複合 (混合) 金属粉末と、 たとえ ばポリカーボネート樹脂、 ポリスルホン樹脂、 ポリエステル樹脂、 フエ ノキシ樹脂、 メラミン樹脂、 フエノール樹脂、 ポリイミ ド樹脂などのバ インダー成分とを混合して調製された導電性組成物で構成することが できる。
そして、 前記金属バンプは、 例えば、 比較的厚いメタルマスクを用い た印刷法により、 アスペク ト比の高い導電性バンプとして形成でき、 そ のバンプの高さは、 絶縁性接着剤層の厚さの 1 . 3倍程度以上が好まし し、。例えば、 絶縁性接着剤層の厚さを 5 0 mとすると、 6 5〜 1 5 0 U m 程度に設定される。
なお、フレキシブル基板と リジッ 卜基板との電気的な接続は、上述し たような、各基板に設けた接続用電極パッ ド同士を塊状導電体を介して 接続させる形態以外にも、フレキシブル基板とリジッ ト基板の重ね合う 部分を貫通しためっきスルーホールを形成し、そのめつきスルーホール を介して電気的な接続を行なうような形態でもよい。また、 従来の製造 方法により製造された、 例えば、 めっきスルーホールを有する多層プリ ント配線板をリジッ ド基板として用いてもよい。
フレキシブル基板と リジッ ト基板との電気的接続をめつきスルーホ —ルを介して行う形式のフレックスリジッ ド配線板を製造する方法の 一例を、以下に説明する。
まず、ガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性 基材の一方の表面に導体回路の配線パターンを形成し、 その配線パター ン形成面と反対側の表面には、 屈曲部周辺にダミーパターンを形成して なるフレキシブル基板を用意する。
次に、. 配線パターンおよびダミーパターンが形成された基板の両面を 被覆するカバー層を形成し、 その基板の両面に対して、屈曲が必要な箇 所を開口したプリプレダと、銅箔とを積層した後、加熱プレスすること によって積層体を形成する。
その積層体表面の銅箔にレーザ照射用開口を形成すると共に、 所定の 照射条件でレーザ照射を行って、 基板を貫通する貫通孔を形成した後、 貫通孔の内壁を含んだ基板表面に銅めつき層を形成し、めっきスルーホ —ルを形成する。
次いで、銅めつき層を形成した基板の表面および裏面に、エッチング 処理によリ配線パターンを形成すると、めっきスルーホールを介してフ レキシブル基板に形成された配線パターンに電気的に接続されること になる。
さらに、ソルダーレジス ト層を形成した後、 ル一ターによる外形加工 を行なうことによって、一方の表面に配線パターンが形成され、 他方の 表面にダミーパターンが形成されてなるフレキシブル部を有するフレ ックスリジッ ド配線板を製造することができる。 さらに、 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板の第 2の特徴は、 リジッ ド部およびフレキシブル部を構成するフレキシブル基板の絶縁 性基材として、従来技術のようなポリイミ ド等の樹脂フィルム単体を用 いることなく、樹脂を含浸させ、乾燥させて屈曲可能としたガラスクロ スを用い、 その絶縁性基材の少なくとも一方の表面には、長手方向に延 設された配線パターンを有する導体回路を形成すると共に、その配線パ ターンの一部を、屈曲部において拡張パターンまたは湾曲パターンの形 態に形成じたことにある。
上記発明における 「拡張パターン」 とは、 フレキシブル基板の少なく とも一方の表面に設けた導体回路のうち、長手方向に沿って形成された 配線パターンの一部が意図的に線幅が拡張され、または膨らんだ形状を 有するパターンのことであり、また、 「湾曲パターン」 とは、長手方向に 沿って形成された配線パターンに連続して形成され、線幅方向に湾曲さ れたパターンのことである。
前記長手方向に沿って形成された配線パターンは、フレキシブル部の 非屈曲部に形成され、かつ電気的な接続を行なう導体層としての機能だ けを有しているが、拡張パターンおよび湾曲パターンは、電気的な接続 を行なう導体層と ての機能だけでなく、 フレキシブル基板の屈曲の具 合を積極的に助成する機能を兼ねておリ、 主としてフレキシブル部の屈 曲部に形成される。
このような拡張パターンあるいは湾曲パターン」 を、屈曲部に形成す ることにより、 フレキシブル基板の屈曲部における曲げを助け、屈曲具 合 (曲率半径) を大きくすることができると共に、その大きな屈曲具合 を一定に保持ずることができるのである。
なお、 「曲率半径」 とは、理化学辞典に 「曲線上の 2点 P ( s) 、P ' (s
+ A s)での接線の間の角度を△ ωとして、 A OJ Z A S の A s→0の極限値 d ω Ζ d sを Pでの曲率、その逆数 pを曲率半径という。」 と記載されて いるように、曲線や曲面の曲がり程度を円周の一部と見なして、 その円 の半径で表したものを意味する。
本発明において、前記屈曲可能な絶縁性基材を構成するガラスクロス は、厚さが 3 0 m以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、 1 . 5 ~ 7 . 0 mであることが望ましく、 3 . 5〜 7 . O jU mの範囲がも つとも望ましい。 その理由は、ガラスクロスの厚みが 3 0 U mを越える と、 フレキシブル基板の折り曲げを阻害してしまうからであり、また、 ガラス繊維の太さが 1 . 5 ju m未満であると、 屈曲具合 (曲率半径) を 大きくすることが難しく、 一方、 7 . ひ / mを越えると屈曲自体を阻害 してしまうからである。 前記ガラス繊維の太さが、 3 . 5 ~ 7 . 0 m の範囲である場合には、フレキシブル部としての強度が得やすく、繊維 太さのバラツキの影響が出にくいと考えられるからである。
また、前記ガラスクロス ίヒ含浸されて、屈曲可能な絶縁性基材をなす 樹脂としては、エポキシ系樹脂、ポリイミ ド系樹脂、 アクリル系樹脂、 液 晶ポリマー、 フエノール系樹脂等を用いることができ、エポキシ系樹脂 がもっとも望ましい。
前記屈曲可能な絶縁性基材の厚さは、 1 0 ~ 1 O O jt m程度とするこ とが望ましい。 その理由は、 1 0 m未満の厚さでは、 電気的絶縁性が 低下するからであり、 一方、 1 O O jli mを超えると、 基材を構成するガ ラスクロスが厚くなりすぎ、屈曲性が低下するからである。
前記絶縁性基材の少なくとも一方の表面には、接続用電極パッ ドを含 んだ導体回路の配線パターンが形成される。この配線パターンは、 絶縁 性基材の表面にめっき処理によって形成するか、 絶縁性基材の表面に金 属箔を貼付し、その金属箔をエッチング処理して形成され、 前記接続用 電極パッ ドは、 配線パターンの一部として形成される。
前記フレキシブル基板上に設ける導体回路の配線パターンの厚みは、 3 ~ 7 5 m程度とする。 その理由は、 3 j« m未満の厚さでは、 接続信 頼性に欠けるからであり、 一方、 7 5 Milを超えると、 屈曲信頼性が低下 するカゝらである。
前記フレキシブル基板に形成した接続用電極パッ ドは、 その形状、 大 きさ、 および個数は、 たとえば、 直径が 5 0 ~ 5 0 0 m程度の円形と し、 1 0 0〜 7 0 0 m程度のピッチで複数配設したものが好適である。 その理由は、 5 0 j« m未満では高密度実装に対して、接続信頼性を低 下させる要因となり得るからであり、 一方、 5 0 0 jL< mを越えると、 高 密度実装に対する配線密度を高めにく くなるからである。
かかる接続用電極パッ ドは、 基板を貫通して他方の導体回路との電気 的接続を行なう形式のビアランドであってもよく、 このようなビアホー ルを介して後述するようなフレキシブル基板とリジッ ド基板との電気 的接続を図るようにしてもよい。
本発明にかかるフレック リジッ ド配線板においては、 図 6に示すよ うなフレキシブル基板の屈曲部において、導体回路を構成する配線バタ ーンの一部が局所的に膨らんだ形状を有する拡張パターンまたは湾曲 パターンとして形成され、それによつて、 屈曲部における導体回路の断 線等を防止することができると共に、 フレキシブル基板としての強度を 高めて、屈曲部の屈曲具合 (曲率半径) を大きく し、しかもその大きな屈 曲具合を一定に保持することができる。
すなわち、 フレキシブル基板の屈曲部における内側表面あるいは外側 表面 (図 7参照) もしくは内側表面および外側表面の両方の面 (図 8参 照) に設けた配線パターンの一部を、膨らみを付け、あるいは湾曲させる ことによって、配線パターンを形成する銅箔の伸びる割合を低下させる ことができるので、 導体回路の断線等を防止することができ、しかも基 材の屈曲具合を大きく し、かつその大きさを一定に保持することができ るのである。
本発明において、図 9 (a)に示すような湾曲パターンの線幅は、非屈曲 部にある長手方向に延設された配線パターンの線幅よリも大きく、かつ その線幅の 2倍以下であることが望ましし、。その理由は、非屈曲部の配 線パターンの線幅以下だと、断線しやすくなリ、一方、 その線幅の 2倍を 超えると、硬くなつて曲りにく くなる共に、配線密度が低下するためで ある o
また、前記湾曲パターンは、 半径 R が 2〜 1 O m mであるような円弧 であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から非屈曲部にある配線パター ンまでの最短距離 Xが、 R Z 3≤ X≤ Rであることが望ましい。 その理 由は、半径 R が 2 m m未満であると、パターンを湾曲させる効果がなく、 1 0 m mを超えると配線密度が小さくなるためである。
また、本発明において、図 9 (b)〜(d)に示すような拡張パターンの最 大幅は、.非屈曲部にある長手方向に延設された配線パターンの線幅よリ 大きく、かつその線幅の 2倍以下であることが望ましい。その理由は、非 屈曲部の配線パターンの線幅以下だと、断線しやすくなると共に、配線 内部で抵抗が増加するので電気特性が低下するからであり、一方、 非屈 曲部の配線パターンの線幅の 2倍を超えると、 配線パターンの高密度化 が阻害されると共に、 電気特性の低下を招くことがある。さらに、屈曲部 における曲げ具合(曲率半径)を大きくすることができないからである。
さらに、前記拡張パターンは、長手方向に延設された配線パターンの 片側あるいは両側に形成されていることが望ましい。 その理由は、より 断線しにく くするためである。
前記拡張パターンまたは湾曲パターンは、基板外形端から 0 . 5 m m 以上離れた屈曲部内の領域に配線されることが望ましい。 その理由は、 フレキシブル基板の絶縁性基材が、基板端面から裂けるなどめ不具合を 防止することができるからである。 一方、 0 . 5 m m未満では、 基板端 面付近で基材が裂けることがあリ、 配線パターンが断線するおそれがあ る力、らである。 また、フレキシブル基板の両面に導体回路を設けたフレックスリジッ ド配線板においては、表面に形成された導体回路の配線パターンの一部 を拡張パターンあるいは湾曲パターンに形成するだけでなく、裏面に形 成された導体回路の配線パターンの一部も拡張パターンまたは湾曲パ ターンに形成することもでき、それによつて、断線しにく くなる。
前記拡張パターンあるいは湾曲パターンをフレキシブル基板の両面 に設ける形態としては、図 1 0 (a)に示すような表裏のパターンを同一 位置に設ける形態、または、図 1 0 (b)に示すような表裏のパターンを互 いにずれた位置に設ける千鳥配置の形態が望ましい。特に、千鳥配置の 形態では、屈曲しゃすくなると共に、断線しにく くなるという点で有利 である。 ,
本発明において、フレキシブル基板上に設けた導体回路を絶縁被覆す るカバーレイは、可撓性を する樹脂付き銅箔、可撓性を有するソルダ —レジス ト層、またはガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させ た後、 半硬化させてなるプリプレダから形成されることが望ましい。 そ の理由は、絶縁信頼性、 接続信頼性がポリイミ ドフィルム (例えば、 接 着剤付きポリイミ ド) を使用する場合よリも向上するからである。
前記可撓性を有する樹脂付き銅箔は、それを形成する樹脂自体の厚み が 5 O ju m前後であることが望ましい。 その理由は、厚すぎると屈曲し にく くなリ、 薄すぎると絶縁信頼性が低下するためである。
また、前記可撓性を有するソルダーレジスト層は、主として、 熱硬化性 樹脂、熱可塑性樹脂、感光性を有する樹脂、熱硬化性樹脂の一部分に(メ タ) アクリル基を有する樹脂などを用いて形成することができ、 ソルダ 一レジスト層の厚みは、 2 0〜5 0〃 mであることが望ましい。 その理 由は、 2 0 m未満では絶縁信頼性が低くなリ、一方、 5 0 mを超える と屈曲しにく くなるためである。
さらに、前記ガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させた後、 半 硬化させてなるプリプレグは、厚みが 2 0 ~ 5 0 mであることが望ま しい。 その理由は、厚みが 2 0 jt m未満では絶縁信頼性が低くなリ、 5 0 jl rhを超えると曲りにく くなるためである。
また、カバーレイの厚みを表裏で変えることが望ましい。 厚みを変え ることで、反る方向に屈曲させる構造にすることができるからである。 それ故に、 曲率半径を大きぐ一定に保持することができる。
本発明を構成するリジッ ト基板は、 柔軟性のあるフレキシブル基板と 反対に、 柔軟性のない基板であり、 その形態、 層数、 形成方法等には関 係なく、 硬質で容易に変形しないような基板である。
このリジッ ド基板において、 基板を形成する絶縁性樹脂基材としては、 ガラス布エポキシ樹脂基材、 ガラス布ビスマレイミ ドトリアジン樹脂基 材、 ガラス布ポリフエ二レンエーテル樹脂基材、 ァラミ ド不織布一ェポ キシ樹脂基材、 ァラミ ド不綠布一ポリイミ ド樹脂基材等の硬質基材が用 いられ、 ガラス布エポキシ樹脂基材が好適に用いられる。
前記絶縁性樹脂基材の厚さは、 2 0〜6 0 0 jw m程度とする。 その理 由は、 2 O jt m未満の厚さでは、 強度が低下して取扱が難しくなるとと もに、 電気的絶縁性に対する信頼性が低くなリ、 e o o jw mを超えると 微細なビア形成および導電性物質の充填が難しくなるとともに、 基板そ のものが厚くなるためである。
かかる絶縁性樹脂基材の片面または両面には銅箔が貼付され、その厚 さは、 5 ~ 1 8 jU m程度とする。 その理由は、 後述するようなレーザ加 ェを用いて、 絶縁性樹脂基材にビア形成用の開口を形成する際に、 薄す ぎると貫通してしまうからであり、 逆に厚すぎるとエッチングにより、 微細な線幅の導体回路パターンを形成し難いからである。
前記絶縁性樹脂基材および銅箔にて構成されるリジッ ド基板は、 特に、 エポキシ樹脂をガラスクロスに含浸させて Bステージとしたプリプレ グと、 銅箔とを積層して加熱プレスすることによリ得られる片面銅張積 層板を用いることができる。 このようなリジッ ド基板は、 銅箔がエッチ ングされた後の取扱中に、 配線パターンやピア位置がずれることがなく、 位置精度に優れている。
なお、このリジッ ド基板の片面または両面に形成される前記導体回路 は、 厚さが 5〜 1 8 ju m程度の銅箔を、 半硬化状態を保持された樹脂接 着剤層を介して加熱プレスした後、 適切なエッチング処理をすることに よって形成されたものが好ましい。
そして、'その導体回路は、 基材表面に貼り付けられた銅箔上に、 エツ チング保護フィルムを貼付けて、 所定の回路パターンのマスクで披覆し た後、 エッチング処理を行って、 電極パッ ド (ビアランド) を含んで形 成されたものが好適である。
こうした導体回路形成工程においては、 先ず、 銅箔の表面に感光性ド ライフイルムレジストを貼 ΐί寸した後、 所定の回路パターンに沿って露光、 現像処理してエッチングレジス卜を形成し、 エッチングレジスト非形成 部分の金属層をエッチングして、 電極パッ ドを含んだ導体回路パターン とする。
前記処理工程において、エッチング液としては、 硫酸一過酸化水素、 過硫酸塩、 塩化第こ銅、 塩化第二鉄の水溶液から選ばれる少なくとも 1 種の水溶液を用いることができる。
また、前記銅箔をエッチングして導体回路を形成する前処理として、 ファインパターンを形成しやすくするため、 あらかじめ、 銅箔の表面全 面をエッチングして厚さを 1~ 1 O j« m、 より好ましくは 2 ~ 8 i m程 度まで薄くすることができる。
前記リジッ ド基板に形成される接続用電極パッ ドは、 その形状、 大き さ、 および個数は、 特に限定されないが、 たとえば、 直径が 50〜 50 0 μ m程度の円形とし、 1 00〜 700〃 m程度のピッチで複数配設す ることが望ましい。 その理由は、 50 ju m未満では、 接続信頼性に不安 があり、 5 0 0 mを超えると、 高密度実装に不利であるからである。 前記絶縁性樹脂基材に、ビアホール形成用の開口 (以下、 「ビア開口」 という) を設ける。このビア開口は、レーザ照射によって形成することが できる。 特に、 絶縁性樹脂基材の表面に透明な保護フィルム、 たとえば PETフィルムを貼付し、 その PETフィルムの上方から炭酸ガスレーザ照 射を行ない、 PET フィルムを貫通して、 絶縁性樹脂基材の表面から銅箔 に達する開口を形成する。 このような加工条件によるビア開口径は、 5 0〜 2 5 0 m程度であることが望ましい。
なお、 レーザ照射によって形成されたビア開口の側面および底面に残 留する樹脂残滓を除去するために、 デスミア処理を行う。 このデスミア 処理は、 酸素プラズマ放電処理、 コロナ放電処理、 紫外線レーザ処理ま たはエキシマレーザ処理等によって行う。また、 酸や酸化剤を用いた湿 式のデスミァ処理を行ってもよい。
前記ビア開口には導電性物質が充填されて、充填ビアホールが形成さ れるが、 その導電性物質としては、導電性ペース トや電解めつき処理に よって形成される金属めつきが好ましい。
前記充填ビアホールの形成工程をシンプルにして、 製造コストを低減 させ、歩留まリを向上させる点では、導電性ペース卜の充填が好ましく、 接続信頼性の点では電解めつき処理によって形成される金属めつきが 好ましく、 とくに、 電解銅めつきが好適である。
前記導電性物質は、 絶縁性基材を貫通し導体回路に達するビア開口内 に充填されるだけでなく、 ビア開口の外側に所定の高さまで突出形成す ることもでき、 その突出高さは 5〜 3 0 m程度の範囲が望ましい。 その理由は、 5 ju m未満では、 接続不良を招きやすく、 3 0 jU mを越 えると抵抗値が高くなると共に、 加熱プレス工程において熱変形した際 に、 絶縁性基板の表面に沿って拡がりすぎるので、 ファインパターンが 形成できなくなるからである。 上記 (2 ) に記載された発明において、 リジッ ド基板とフレキシブル 基板との電気的接続は、 上記 ( 1 ) に記載された発明と同様に、 種々の 形態を採用することができ、 これらの接続形態を任意に組合せることに よって、 基板材料を有効に使用することができると共に、 自由な配線接 続構造とする;;とができる。
なお、フレキシブル基板とリジッ 卜基板との接続は、上述したような、 各基板に設けた接続用電極パッ ド同士を塊状導電体を介して接続させ る以外にも、フレキシブル基板とリジッ 卜基板の重ね合う部分に貫通し て設けためっきスルーホールを用いて行ってもよい。
なお、フレキシブル基板と リジッ ト基板との電気的な接続は、上述し たような、各基板に設けた接続用電極パッ ド同士を塊状導電体を介して 接続させる形態以外にも、フレキシブル基板とリジッ ト基板の重ね合う 部分を貫通しためっきスルーホールを形成し、そのめつきスルーホール を介して電気的な接続を行なうような形態でもよい。フレキシブル基板 とリジッ ト基板との電気的接続をめつきスルーホールを介して行う形 式のフレックスリジッ ド配線板を製造する方法の一例を、以下に説明す る。
まず、ガラスクロスにエポキシ系樹脂等の樹脂を含浸、乾燥させてな る絶縁性基材の少なく とも一方の表面に、長手方向に延びる導体回路の 配線パターンを形成し、 その配線パターンのうち屈曲部に位置する部分 を、拡張パターンあるいは湾曲パターンに形成したようなフレキシブル 基板を用意する。
次に、 少なくとも拡張パターンまたは湾曲パターンが形成された表面 を被覆するカバーレイを形成し、 その基板の両面に対して、屈曲が必要 な箇所を開口したプリプレダと、銅箔とを積層した後、加熱プレスする ことによって積層体を形成する。
その積層体表面の銅箔にレーザ照射用開口を形成すると共に、 所定の 照射条件でレーザ照射を行って、 基板を貫通する貫通子 Lを形成した後、 貫通孔の内壁を含んだ基板表面に銅めつき層を形成し、めっきスルーホ ールを形成する。
次いで、銅めつき層を形成した基板の表面および裏面に、ェツチング 処理によリ配線パターンを形成すると、めっきスルーホールを介してフ レキシブル基板に形成された配線パターンに電気的に接続されること になる。
さらに、'ソルダーレジスト層を形成した後、 ルーターによる外形加工 を行なうことによって、少なくとも一方の表面に配線パターンが形成さ れ、 その配線パターンのうち屈曲部に位置する部分を、幅方向に広幅な 拡張パターンあるいは湾曲パターンに形成してなるフレキシブル部を 有するフレックスリジッ ド配線板を製造することができる。
以下、 本発明のフレックスリジッ ド配線板について、実施例に基づい てさらに詳細に説明する。
(実施例 1 )
( A ) フレキシブル基板の製造工程
(1 ) 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板を製造するに当たって、 それを構成するフ、レキシブル基板 1 0 0 Aを作製する出発材料として、 厚さ 2 0 /i m (厚さ 3 0 m 以下のものを用いることができる) のガラ スクロス (ガラス繊維の太さ平均.4 . 0 m ) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2が ラミネ一卜された厚さ 5 0 ju mである両面銅張積層板 (日立化成:製品 名 「E— 6 7 j ) を用いた(図 1 1 (a) )。
(2) 前記絶縁性基材 1 1 の両面にラミネー卜された銅箔 1 2に対して、 塩化第二銅水溶液を用いてエッチング処理を施して、片面に線幅が 3 0
0 μ mの導体回路パターン 1 3および直径 2 5 0 mの接続用電極パ ッ ド 1 6を形成し、 その導体回路の配線パターン形成面と反対側の表面 には、 屈曲部周辺に、格子状のダミーパターン 1 8 (開口形状が矩形、各 開口面積が 1 0 000 m2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 1 0 : 1 0) を形成した(図 1 1 (b)参照)。
(3) 前記配線パターン 1 3を覆って、ソルダーレジスト(日本ポリテツ ク社製: 製品名 「N P R— 90」 )をスクリーン印刷により塗布し、 乾 燥させた後、 露光量 400 m j / c m2で露光し、さらに 1 50°C/ 1時 間の条件で乾燥させることによって、 配線パターン 1 3を保護する厚さ 20 jt niの樹脂製カバー層 1 4を形成した(図 1 1 (c)参照)。
なお、このカバー層 1 4には、 接続用電極パッ ド 1 6に達する直径 3 00 m の開口 1 5が設けられ、 この開口 1 5を介して後述するような リジッ ド基板の接続用電極パッ ドに設けた塊状導電体が、接続用電極パ ッ ド 1 6に電気的に接続されるようになっている。
(B) リジッ ド基板の製造土程
(1) ガラスエポキシ樹脂からなる基板 2 1 の両面に、 1 2 mの銅箔 22がラミネートされた厚さ 0. 1 1 mmの両面銅張積層板 (松下電工 製: R— 1 7 6 6、 図 1 2 (a)参照) の片面に塩化第二銅水溶液を用い て、 レーザ照射用開口 24を形成し、 さらに炭酸ガスレーザを用いて直 径 250 j!i mの銅めつき充填用開口 26を設けた(図 1 2 (b)、 (G)参照)。
(2) さらに、 貫通孔 26の内壁に Pd触媒を付与し、 以下のような組成 および条件のもとで無電解銅めつき処理を施した後、 さらに電解銅めつ き処理を施すことによって、開口 26の内部を銅めつき 2 8で充填した
(図 1 2 (d)参照)。
(無電解銅めつき溶液)
硫酸銅 1 0 gノリ 卜ツル
H C H O 8 g /リツ 卜ル
N a O H 5 g /リッ トル
ロッシエル塩 45 g /リッ トル 温度 30°C
(電解銅めつき溶液)
硫酸 1 80 g/リッ トル
硫酸銅 80 g/リッ トル
ア トテックジャパン製 商品名 カバラシド G L
1 m I ノリッ トル
(めっき条件)
電流密度' 2 A/d m2 - 時間 30分
温度 25。G
(3) 前記銅めつき 2 8で充填した基板の両面を塩化第二銅水溶液を用 いてエッチングして、表面おょぴ裏面にそれぞれパターン 3 2、 34を 形成すると共に、パターン S 4の一部を接続用電極パッ ド 36に形成し た。 さらに、 基板をルーターで加工した (図 1 2 (e)参照)。
(4) 次いで、 円錐形状の開口を設けたメタルマスクを用いて、 銀べ一 ス ト (DU PONT 社製 : 商品名 S0LAMET) をスキージを用いて充填し、 接 続用電極パッ ド 36上に円錐形状の突起 40、 すなわち半田バンプを形 成した。 さらに、、これを 1 50°Gで 1 時間加熱して硬化させ、 リジッ ド 基板 200 Aを製造した (図 1 2 (f)参照)。 .
(C) 積層工程
(1) 前記 (B) で製造したリジッ ド基板 200 Aの円錐形突起 40に対 して、 プリプレグ 4 2 (日立化成製 : GIA— 6 7 1 N)を 1 0 k g/c m2 の圧力で突き刺して、 貫通させた (図 1 3参照)。
(2) つぎに、 前記 (A) で製造したフレキシブル基板 1 00 Aとリジ ッ ド基板 200 Aとを積層し、 1 80°C、 40 k g/c m 2で加熱プレス し、 半田バンプ 40によって接続されたフレックスリジッ ド配線板 30 0 Aを得た (図 1 4参照)。 (実施例 2 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 0 0 0 0 // m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 9 : 1 0であるような矩形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 3 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 1 1 : 1 0であるような矩形の開口 を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同 様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 4 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 1 : 9であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様に して、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 5 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 2 : 8であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様に して、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 6 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 == 8 : 2であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様に して、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 7 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 9 : 1 であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様に して、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 8 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 7 8 5 0 m 2、 開口 面積の総和:パターン残部面積 = 1 0 : 1 0であるような円形の開口を 有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 9 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 9 0 8 7 U m 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 1 0 : 9であるような円形の開口を 有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板' 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 m 2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 1 1 : 1 0であるような円形の開 口を有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様にし て、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 1 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 m 2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 1 : 9であるような円形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 2 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 U m 2 開口面積の総和:パターン残部面積 = 2 : 8であるような円形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 30 O Aを製造した。
(実施例 " I 3 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 25 6 00 jU m2、 開口面積の総和 : パターン残部面積 = 8 : 2であるような円形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。
(実施例 " I 4)
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 25 600 ;W m2、 開口面積の総和 : パターン残部面積 = 9 : 1 であるような円形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。
(実施例 1 5)
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 002 5 ju m2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 0 : 1 0であるような、角部がァ ール形状をなす開口を有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実 施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。 (実施例 1 6)
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4009 O.jW m2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 9 : 1 0であるような、角部がァー ル形状をなす開口を有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施 例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。 (実施例 1 7 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 90 1 23 jw m2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 1 : 1 0であるような、角部がァ ール形状をなす開口を有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実 施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 30 O Aを製造した。 (実施例 1 8) フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 /i m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 1 : 9であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。 (実施例 1 9 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 2 : 8であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 1 と同様にして、フレックスリジヅ ド配線板 3 0 O Aを製造した。 (実施例 2 0 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積 総和:パターン残部面積 = 8 : 2であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。 (実施例 2 1 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 9 : 1 であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。 (実施例 2 2 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 9 0 8 1 U m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 1 0 : 1 0であるような円形開口が 千鳥状に配列されてなるダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 2 3 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 9 0 8 7 m 2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 1 : 9であるような円形開口が千鳥 状に配列されてなるダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と 同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 00 Aを製造した。
(実施例 24)
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4908 7 m2、 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 9 : 1であるような円形開口が千鳥 状に配列されてなるダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と 同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 00 Aを製造した。
(実施例 25)
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口面積が 4 9 0 8 7 jt m2であ る円形開口と、開口面積が 1 0000 m 2である円形開口とが交互に 配列され、それらの開口面積の総和:パターン残部面積 = 1 0 : 1 0で あるような円形開口を有するダミ〜一パターン 1 8を形成した以外は、実 施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 30 O Aを製造した。 (実施例 26)
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口面積が 49 0 8 7 jU m2であ る円形開口と、開口面積が 1 0000 m 2である円形開口とが交互に 配列され、それらの開口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 : 9である ような円形開口を、有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 30 O Aを製造した。
(実施例 2 7 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口面積が 49 08 7 i m2であ る円形開口と、開口面積が 1 O O O O jU m2である円形開口とが交互に 配列され、それらの開口面積の総和 : パターン残部面積 = 9 : 1 である ような円形開口を有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 30 O Aを製造した。
(実施例 2 8)
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口を有しないベタパターン ( 1 5 mmx 1 5 mm) を形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレック スリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(比較例 1 )
ダミーパターンを形成しなかったこと以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板を製造した。
(実施例 2 9 )
屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 5 0 mである線状のダ ミーパタ^ンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 ju mと して 6本形成 した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 3 0 )
屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 2 0 0 μ mである線状のダ ミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 1 5 0 jw mとして 6本形 成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 3 1 )
屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 2 0 0 ]1 mである線状のダ ミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 1 0 0 jt/ mとして 6本形 成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 3 2 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 5 ° の台形で、 線幅が 1 5 0 m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 0 μ mとして 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 3 3 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 6 0° の台形で、 線幅が 2 5 0 j« m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 5 0 ^ m と して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 3 4 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 4 5 ° の台形で、 線幅が 2 5 0 m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 5 0 // m と して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(参考例 1 )
屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 5 0 jw mである線状のダ ミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 0 ju mとして 6本形 成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(参考例 2 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 5 ° の台形で、 線幅が 1 5 0 ju m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 0 μ mとして 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 G 0 Aを製造した。
(実施例 3 5 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 1 . 5 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚ざが 1 8 ^ の銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる、厚さ 5 0 mの両 面銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 0 0 u mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。 (実施例 3 6 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 u mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 3. 0 / m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 0 0 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 μ mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 3 7 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. Οβ m) にエポキシ系樹脂を含浸、乾 燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2を加 熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる、厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 0 0 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 U mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0、Aを製造した。
(実施例 3 8 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ のガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 5. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 6 0 / mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 0 0 ;U mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 μ mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。 (実施例 39)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 ju mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 5. 0 u m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 O O jt mの両 面銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 00 μ mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 40 jw mとして 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 300 Aを製造した。
(実施例 40)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 / mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 1 . 5 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0° の台形で、 線幅が 1 00 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 40 mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ、ド配線板 30 O Aを製造した。
(実施例 4 1 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 20 jt mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 3. 0 u rn) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚ざが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 jU mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0° の台形で、 線幅が 1 00 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 40 mとして 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。 (実施例 42)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 20 W mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. O ju m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2'を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0° の台形で、 線幅が 1 00 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 40 mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。
(実施例 43 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 mのガラス クロス .(ガラス繊維の太さ平均 5. O i m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材' 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 171の銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 6 0 ji mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0° の台形で、 線幅が 1 00 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 40〃 mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ、ド配線板 300 Aを製造した。
(実施例 44)
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 6 0 ju mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 5. 0 u m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 00 mの両 面銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 70° の台形で、 線幅が 1 00 jti mで る線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 40 mとして 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。 (参考例 3)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 5 mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. 0 u m にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 ji mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 O O jU mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 40 μ mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 300 Aを製造した。
(参考例 4)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 O O jU mのガラ スクロ (ガラス繊維の太さ平均 7. 0 u m にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材' 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 i mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 50 mの両 面銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 00 μ mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 40 / mと して 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 30、0 Aを製造した。
(参考例 5)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 5 jt mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0° の台形で、 線幅が 1 00 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 40 mとして 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。 (参考例 6 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 O O jU mのガラ スクロス (ガラス繊維の太さ平均 7. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 jumの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 5 0 ;U mの両 面銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 70° の台形で、 線幅が 1 00 jU mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 40 ju mとして 6本形成した以外は、実施例 1 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 30 O Aを製造した。
(実施例 45)
(1) 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板を製造するに当たって、 それを俸成するフレキシブル基板 1 00 Bを作製する出発材料として、 厚さ 20 m (厚さが 30 m 以下) のガラスクロス (ガラス繊維の太 さ平均 4. 0 u rn にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基 材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 β mの銅箔がラミネ一卜された厚さ 50 mである両面銅張積層板 (日立化成 : 製品名 「E— 6 7J) を用いた。
(2) まず、厚さ 0.05mm の両面銅張積層板の両面にドライフィルムレジ ス トをラミネート、し、 露光、 現像によリエッチングレジス トを形成した 後、 塩化第二銅水溶液を用いたエッチング処理によって、一方の表面に は、線幅が 3 00 mである導体回路の配線パターン 54を形成し、 そ の配線パターン形成面と反対側の表面には、 屈曲部周辺に、格子状のダ ミーパターン 56 (開口形状が矩形、各開口面積が 1 0000 / m2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 0 : 1 0) を形成した(図 1 5 (a) 参照)。
(3) 上記 (2) により'配線パターン 54およびダミーパターン 56を形 成した基板の両面に、スクリーン印刷によってソルダーレジス ト (日本 ポリテック製: NPR-90) を塗布し、 400mj/cm2の条件下で露光し、 150°C、 1 時間の条件下で乾燥させることによって、力パー層 5 8を形成した (図 1 5 (b)参照)。
(4) . 上記カバー層 5 8を形成した基板の両面に対して、屈曲が必要な 箇所を開口(符号 6 2で示す)したプリプレダ.6 0 (松下電工製: R-1 661 ) と、厚さ 1 2 j« mの銅箔 6 4とを積層し(図 1 5 (c)参照)、 その積層体を圧 力 35kg/Gin2 、温度 1 80°Cで加熱プレスした(図 1 5 (d)参照)。
(5) 上記(4)で得た積層体の表面に、所定の照射条件にて炭酸ガスレー ザ照射を行って、銅箔 6 4に直径 1 0 0 jU mの開口 6 6を形成すると共 に、 その開口 6 6から更に照射条件を変えた炭酸ガスレーザ照射を行つ て、基板を貫通する直径 3 0 0 β mの貫通子し 6 8を形成した(図 1 5 (e) 参 fe o
レーザ照射の後、 過マンガン酸溶液を用いて、貫通孔 6 8内に残存す る樹脂残さ (スミア) を除去するためにデスミア処理を行なった。
(6) 上記 (5) で形成した貫通孔 6 8の内壁に Pd 触媒を付与し、 以下 のような組成および条件のもとで無電解銅めつき処理を施した後、 さら に電解銅めつき処理を施すことによって、貫通孔 6 8の内壁を含んだ基 板全体に銅めつき層 7 0を形成した (図 1 5 (f)参照)。
これによつて、めっきスルーホール 7 6が形成された。
(無電解銅めつき溶液)
硫酸銅 1 0 g リ 卜ツル
H C H O 8 g Zリツ トル
N a O H 5 gノリツ トル
口ッシェル塩 4 5 g /リツ トル
/皿 fsz. 3 0 °C
(電解銅めつき溶液)
硫酸 1 8 0 g /リッ トル
硫酸銅 8 0 g /リッ トル ア トテックジャパン製 商品名 カバラシド Gし
1 m I / リツ 卜ゾレ
(めっき条件)
電流密度 2 A / d m 2
時間 3 0分
温度 2 5 °C
(7) 次いで、 上記 (6) にて銅めつき層 7 0を形成した基板の表面およ ぴ裏面に ドライフィルムレジス トをラミネートし、 露光、 現像によリエ ツチングレジス卜を形成した後、 塩化第二銅水溶液を用いたエッチング 処理を施して、基板の表面および裏面にそれぞれ配線パターン 7 2、 7 4を形成した。
前記酉己線パターン 7 2および 7 4は、めっきスルーホール 7 6を介し てフレキシブル基板 5 2上に形成された配線パターン 5 4に電気的に 接続される (図 1 5 (g)参照)。
(8)さらに、ソルダーレジス ト層を形成した後、 ルーターにて外形加工を 行って、表面に配線パターン 5 4が有し、 裏面にダミーパターン 5 6を 有するフレックスリジッ ド配線板 3 0 O Bを製造した。
(実施例 4 6 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 0 0 0 0 jU m 2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 9 : 1 0であるような矩形の開口を 有する格子状のダミーパターン 5 6を形成した以外は、実施例 4 5と同 様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 4 7 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 W m 2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 1 : 1 0であるような矩形の開口 を有する格子状のダミーパターン 5 6を形成した以外は、実施例 4 5 t 同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。 (実施例 4 8 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和 :パターン残部面積 = 1 : 9であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 4 9 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 2 : 8であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 0 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 jU m 2、 開 口面積の総和 :パターン残部面積 = 8 : 2であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 1 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 0 0 0 m 2、 開 口面積の総和 :パ、ターン残部面積 = 9 : 1 であるような矩形の開口を有 する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同様 にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 2 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 7 8 5 0 u m 開口 面積の総和 : パターン残部面積 = 1 0 : 1 0であるような円形の開口を 有するダミーパターン 5 6を形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、 フレックスリジッ ド E線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 3 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 9 0 8 7 fl m 開 口面積の総和:パターン残部面積 = 9 : 1 0であるような円形の開口を 有するダミーパターン 5 6を形成した以外は、実施例4 5と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 4 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 m2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 1 1 : 1 0であるような円形の開 口を有するダミーパターン 5 6を形成した以外は、実施例 4 5と同様に して、フレ クスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 5 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 m2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 1 : 9であるような円形の開口を 有する: ^子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同 様にして、フレックスリジッド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 6 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 m2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 2 : 8であるような円形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同 様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 7 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 ^ m2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 8 : 2であるような円形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同 様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 8 )
フレキシブル基板の'屈曲部周辺に、各開口面積が 1 2 5 6 0 0 m2、 開口面積の総和:パターン残部面積 = 9 : 1 であるような円形の開口を 有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同 様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 5 9 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 1 0 0 2 5 u m 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 0 : 1 0であるような、角部がァ —ル形状をなす開口を有するダミーパターン 5 6を形成した以外は、実 施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。 (実施例 6 0 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 0 0 9 0 u m 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 9 : 1 0であるような、角部がァー ル形状をなす開口を有するダミーパターン 5 6を形成した以外は、実施 例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 6 1 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 1 : 1 0であるような、角部がァ ール形状をなす開口を有するダミーパターン 5 6を形成した以外は、実 施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。 (実施例 6 2 )
フレキシブル ¾板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積の総和: パターン残部面積 = 1 : 9であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造し た。
(実施例 6 3 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積の総和: パターン残部面積 = 2 : 8であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造し た。
(実施例 6 4 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積の総和 :パターン残部面積. = 8 : 2であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造し た。
(実施例 6 5 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 9 0 1 2 3 m 2、 開 口面積の総和: パターン残部面積 = 9 : 1 であるような角部がアール形 状をなす開口を有する格子状のダミーパターン 1 8を形成した以外は、 実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造し た。
(実施例 6 6 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 9 0 8 7 m 2、 開 口面積の総和: パターン残部面積 = 1 0 : 1 0であるような円形開口が 千鳥状に配列されてなるダミーパターン 5 6を形成した以外は、実施例 4 5と同様にして sフレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。 (実施例 6 7 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、各開口面積が 4 9 0 8 7 m 2、 開 口面積の総和: パターン残部面積 = 1 : 9であるような円形開口が千鳥 状に配列されてなるダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 6 8 )
フレキシブル基板の 曲部周辺に、各開口面積が 4 9 0 8 7 m 2、 開 口面積の総和: パターン残部面積 = 9 : 1 であるような円形開口が千鳥 状に配列されてなるダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 6 9 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口面積が 4 9 0 8 7 ;W m2であ る円形開口と、開口面積が 1 O O O O jW m2である円形開口とが交互に 配列され、それらの開口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 0 : 1 0で あるような円形開口を有するダミーパターン 5 6を形成した以外は、実 施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。 (実施例 7 0 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口面積が 4 9 0 8 7 m2であ る円形開口と、開口面積が 1 0 0 0 0 jti m 2である円形開口とが交互に 配列され、それらの開口面積の総和 : パターン残部面積 = 1 : 9である ような円形開口を有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 7 1 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口面積が 4 9 0 8 7 jU m2であ る円形開口と、開口面積が 1 0 0 0 0 m2である円形開口とが交互に 配列され、それらの開口面積の総和 : パターン残部面積 = 9 : 1 である ような円形開口を有するダミーパターン 1 8を形成した以外は、実施例
4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 7 2 )
フレキシブル基板の屈曲部周辺に、開口を有しないベタパターン ( 1
5 mm X 1 5 mm) を形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレツ クスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(比較例 2 ) "
ダミーパターンを形成しなかったこと以外は、実施例 4 5と同様にし て、フレックスリジッ ド配線板を製造した。
(実施例 7 3 ) 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 5 0 jt mである線状のダ ミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 jw mとして 6本形成 した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Bを製造した。
(実施例 7 4)
屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 2 0 0 μ mである線状のダ ミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 1 5 0 mとして 6本形 成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 7 5 )
屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 2 0 0 U mである線状のダ ミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 1 0 0 mとして 6本形 成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 7 6 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 5 ° の台形で、 線幅が 1 5 0 jw m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 0 μ mとして 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 7 7 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 6 0 ° の台形で、 線幅が 2 5 0 ju m である線状のダミーパターンを、隣接するパ ーン間の距離を 5 0 として 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 7 8 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 4 5 ° の台形で、 線幅が 2 5 0 jw m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 5 0 m として 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 7 )
屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 5 0 ju mである線状のダ ミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 0 jU mとして 6本形 成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 O O Bを製造した。
(参考例 8 )
屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 5 ° の台形で、 線幅が 1 5 0 m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 3 0 0 μ mと して 6本形成した以外は、実施例 4 5 と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 7 9 )
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 2 0 ju mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 1 . 5 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 / の銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる、厚さ 5 0 ju mの両 面銅張積層板を甩ぃ、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 0 0 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 mとして 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 0 )
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 2 0 j« mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 3. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性'基材 1 1 の両面に、.厚さが 1 8 « mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 / mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 0 0〃 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 μ mと して 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 1 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. Ομ m) にエポキシ系樹脂を含浸、乾 燥させてなる絶縁性基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔を加熱プ レスして、.エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面銅張積 層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 O O jt/ mであ る線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 mと し て 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 2 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 ju mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 5. 0 ju m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 U mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 6 0 mの両面銅張 積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 0 0 / mで ある線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 mと して 6本形成した以外は、実施例 4 5 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 3 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 / mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 5. 0 ju m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁 基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 w mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 jU mの両面銅 張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 O O jU m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 4 0 u m として 6本形成した以外は、実施例 4 5 と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 4 )
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ のガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 1 . 5 / m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 μ mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 06 の台形で、 線幅が 1 0 0 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 4 0 mとして 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 5 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 jt mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 3. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 μ mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0° の台形で、 線幅が 1 0 0 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間 の距離を 4 0 mとして 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 6 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 i mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性 ¾材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 jU mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面銅張 積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0 ° の台形で、 線幅 が 1 0 0 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距 離を 4 0 / mとして 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フ レックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 7 )
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 3 0 ju mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 5. 0 u rn) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 6 0 mの両面銅張 積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0 ° の台形で、 線幅 が 1 0 0 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距 離を 4 0 mと して 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フ レックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 8 8 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 jw mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 5. 0 μ νη にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 mの両面銅 張積層板を用い、 、屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 7 0 ° の台形で、 線 幅が 1 0 0 /i mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の 距離を 4 0 mと して 6本形成した以外は、実施例 4 5 と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 9 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 5 mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. O jt m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 jU mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面銅張 積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 O O jU mで ある線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 40 と して 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 300 Bを製造した。
(参考例 1 0)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 O O i mのガラ スクロス (ガラス繊維の太さ平均 7. 0 u m にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 5 0 mの両面銅 張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が矩形で、 線幅が 1 00 U m である線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距離を 40 rn と して 6本形成した以外は、実施例 4 5と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 300 Bを製造した。
(参考例 1 1 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 5 jw mのガラス クロス (ガラス繊維の太さ平均 4. 0 u m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 jt mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 / mの両面銅張 積層板を用い、 屈 部周辺に、断面形状が裾角度 7 0° の台形で、 線幅 が 1 00 ju mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の距 離を 40 j(i mとして 6本形成した以外は、実施例 45と同様にして、フ レックスリジッ ド配線板 300 Bを製造した。
(参考例 "! 2)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 00 mのガラ スクロス (ガラス繊維の太さ平均 7. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性'基材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 j« mの銅箔を加熱 プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 50 mの両面銅 張積層板を用い、 屈曲部周辺に、断面形状が裾角度 70° の台形で、 線 幅が 1 00 mである線状のダミーパターンを、隣接するパターン間の 距離を 40 mとして 6本形成した以外は、実施例 45と同様にして、 フレックスリジッ ド配線板 300 Bを製造した。
(実施例 8 9 )
(A) フレキシブル基板の製造工程
(1) 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板を製造するに当たって、 それを構成するフレキシブル基板 1 00 Aを作製する出発材料として、 厚さ 25 mのガラスクロス (ガラス繊維の平均太さ 4. O jU m) にェ ポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 jt mの銅箔 1 2がラミネー トされた厚さ 5 0 j« mである両面銅張 積層板 (日立化成製:製品名 ΓΕ- 67」) を用いた(図 1 6 (a)参照)。
(2) 前記絶縁性フィルム 1 1 の片面にラミネー卜された銅箔 1 2を、 塩化第二銅水溶液を用いた'エッチング処理を施して、長手方向に延びる 線幅 1 O O im の 3本の配線パターン 1 3と、その配線パターン 1 3に 連続する、後述するリジッ ド基板との電気的接続のための直径 2 5 0 μ mの接続用電極パッ ド 1 6を形成した。なお、前記配線パターン 1 3は、 フレキシブル基板 1 0 0 Aが折り曲げられた際に内側となるような基 板表面に形成され、屈曲部における各配線パターンは、幅方向に膨らん だ領域、即ち、 図 9 (b)に示すように、配線パターンの延設方向に対して ほぼ直角な一方向に膨出し、その線幅が 1 . 5倍 ( 1 0 0 X 1 . 5 = 1 5 0 m) に拡張されたような形状の広幅なパターン 1 8に形成した (図 1 6 (b)参照)。
なお、隣接する広幅パターン 1 8の中心間距離 (d ) が、配線パターン 1 3の幅の 4倍以内 (325 jU m) となるようにした。
(3) 前記配線パターン 1 3を覆って、ソルダーレジス卜(日本ポリテツ ク社製:製品名 「N P R— 9 0」 )をスクリーン印刷により塗布し、 乾 燥させた後、 露光量 40 Om j / c m2で露光し、さらに 1 50°C/ 1時 間の条件で乾燥させることによって、 直径 3 0 0 jum の大きさの開口 1 5を持つ、 配線パターン 1 3を保護する厚さ 2 5 U rn の樹脂製カバーレ ィ .1 4を形成した。 (図 1 6 (c)参照)。
(B) リジッ ド基板の製造工程
(1) ガラスエポキシ樹脂からなる基板 2 1 の両面に、 1 2 mの銅箔 2 2がラミネ一卜された厚さ 0. 1 1 mmの両面銅張積層板 (松下電工 製: 製品名 「R— 1 7 6 6」、 図 1 7 (a)参照) の片面に塩化第二銅水溶 液を用いて、 レーザ照射用開口 2 4を形成し、 さらに炭酸ガスレーザを 用いて直径 2 5 0 mの銅めつき充填用開口 2 6を設けた (図 1 7 (b)、 (c)参照)。
(2) さらに、 貫通孔 2 6の内壁に Pd触媒を付与し、 以下のような組成 および条件のもとで無電解銅めつき処理を施した後、 さらに電解銅めつ き処理を施すことによつで、開口 2 6の内部を銅めつき 2 8で充填した (図 1 7 (d)参照)。
(無電解銅めつき溶液)
硫酸銅 1 0 g/リ トツル
H C H O 8 gノリツ トル
N a O H 5 g /リツ トル
ロッシェル塩 4 5 g /リツ 卜ル
皿 IX. 3 0 。C
(電解銅めつき溶液)
硫酸 1 8 0 g/リッ トル
硫酸銅 8 0 g /リッ トル
ア トテックジャパン製 商品名 カバラシド G L
1 m I /リッ トル
(めっき条件)
電流密度 2 A/d m2 時間 3 0分
J皿 Jb¾
(3) . 前記銅めつき 2 8で充填した基板の両面を塩化第二銅水溶液を用 いてエッチングして、表面および裏面にそれぞれパターン 3 2、 3 4を 形成すると共に、パターン 3 4の一部を接続用電極パッ ド 3 6に形成し た。 さらに、 基板をルーターで加工した (図 1 7 (e)参照)。
(4) 次いで、 円形の開口を設けたメタルマスクを用いて、 銀ペース ト (DU P0NT,社製 : 商品名 S0LAMET) をスキージを用いて充填し、 接続用 電極パッ ド 3 6上に突起 4 0、すなわち半田バンプを形成した。 さらに、 これを 1 5 0 °Gで 1 時間加熱して硬化させ、 リジッ ド基板 2 0 0 Aを製 造した (図 1 7 (f)参照)。
( C) 積層工程
(1) 前記 (B) で製造したリジッ ド基板 2 0 O Aのドーム状の突起 4 0 に対して、 プリプレダ 4 2 (日立化成製 : GIA— 6 7 1 N)を 1 0 k g / c m2の圧力で突き刺して貫通させた (図 1 8参照)。
(2) つぎに、 前記 (A ) で製造したフレキシブル基板 1 0 O Aとリジ ッ ド基板 2 0 0 Aとを積層し、 1 8 0 °G、 4 0 k g / c m 2で加熱プレス し、 半田バンプ 4、0によって接続されたフレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを得た (図 1 9参照)。
(実施例 9 0 )
屈曲部における配線パターンを、線幅が最大 1 . 0 5倍( 1 0 0 X 1 , 0 5 = 1 0 5 M m) になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに 形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
なお、隣接する拡張 ターンの中心間距離 (d ) が、配線パターンの幅 の 4倍以内 (2 8 5 ji m) となるようにした。
(実施例 9 1 ) 屈曲部における配線パターンを、図 9 (b)に示すように、線幅が最大 2 · 0倍 ( 1 00 x 2. 0 = 200〃 m) になるように片側に膨出した形状 の拡張パターンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレック スリジッ ド配線板 300 Aを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パターンの幅 の 4倍以内 (37 5 m) となるようにした。
(実施例 92)
屈曲部における各配線パターンを、図 9 (G)に示すように、線幅が最大 1 . 5倍 ( 1 00 x 1 . 5 = 1 50 m) になるように両側に膨出した 形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレ ックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パターンの幅 の 4倍〜 6倍の範囲 (47 '5〃 m) となるようにした。
(実施例 93)
屈曲部における各配線パターンを、図 9 (G)に示すように、線幅が最大 1 . 05倍 ( 1 00 x 1 . 05 = 1 05 jU m) になるように両側に膨出 した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、 フレックスリジッ、ド配線板 300 Aを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パターンの幅 の 4倍以内 (38 5 i m) となるようにした。
(実施例 94)
屈曲部における各配線パターンを、図 9 (c)に示すように、線幅が最大 2. 0倍 ( 1 00 X 2. 0 = 200〃 m) になるように両側に膨出した 形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレ ックスリジッ ド配線板 3 00 Aを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d) が、配線パターンの幅 の 4倍〜 6倍の範囲 (5 7 5〃 m) となるようにした。 (実施例 95)
屈曲部における 3本の配線パターンのうち、図 9 (d)に示すように、両 側に位置する配線パターンを、線幅が最大 1 . 5倍 ( 1 0 0 X 1 . 5 = 1 50 j« m) になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成し、 中央の配線パターンを、線幅が最大 1 . 5倍 ( 1 0 0 X 1 . 5 = 1 5 0 U m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外 は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 00 Aを製 造した。 なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍以内 ( 3 85 m) となるようにした。
(実施例 96)
屈曲部における 3本の配線パターンのうち、図 9 (d)に示すように、左 右両側に位置する配線パターンを、線幅が最大 1 . 05倍( 1 00 x 1 . 05 = 1 05 / m) になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに 形成し、中央の配線パターンを、線幅が最大 1 . 05倍 ( 1 00 x 1 . 0 5 = 1 05 m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形 成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 00 Aを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パターンの幅 の 4倍以内 (2 95〃 m) となるようにした。
(実施例 9 7 )
屈曲部における 3本の配線パターンのうち、図 9 (d)に示すように、左 右両側に位置する配線パターンを、線幅が最大.2. 0倍 ( 1 0 0 X 2. 0 = 200 ^ m) になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形 成し、中央の配線パターンを、線幅が最大 2. 0倍 ( 1 00 x 2. 0 = 2 O O jU m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した 以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 A を製造した。 なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パターンの幅 の 4倍以内 (390 / m) となるようにした。
(参考例 1 3 )
屈曲部における各配線パターンを、図 9 (c)に示すように、線幅が最大 2. 5倍 ( 1 00 x 2. 5 = 250 m) になるように両側に膨出した 形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレ ックスリジッ ド配線板 300 Aを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パターンの幅 の 6倍を超える (6 7 5 jU m) ようにした。
(参考例 1 4)
屈曲部における各配線パターンを、図 9 (c)に示すように、線幅が最大 3. 0倍 ( 1 00 X 3. 0 = 300 jU m) になるように両側に膨出した 形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレ ックスリジッ ド配線板 30 O Aを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 ( d ) が、配線パターンの幅 の 6倍を超える ( 7 7 5 m) ようにした。
(比較例 3)
屈曲部における、各配線パターンを、膨出させた拡張パターンに形成し ないで、通常の直線状パターンに形成した以外は、実施例 8 9と同様に して、フレックスリジッ ド配線板を製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 ( d) が、配線パターンの幅 の 4倍以内 ( 1 7 5〃 m) となるようにした。 .
(比較例 4)
屈曲部における各配線パターンを、最小線幅が 1 2となる ( 1 00 jU mx O. 5 = 5 0 ju m) 拡張パターンに形成した以外は、実施例 8 9 と同様にして、フレックスリジッ ド配線板を製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離 ( d ) が、配線パターンの幅 の 4倍以内 (1 7 5 i m ) となるようにした。
(実施例 9 8 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに形 成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 O O Aを製造した。
(実施例 9 9 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 0 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターン 形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが 3であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 1 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形!^し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに形 成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 2 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 3 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rノ 3であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 4 )
屈曲部における、各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに形 成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 5 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 6 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 3であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 7 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 O m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに 形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 0 8 ) ,
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 O m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 1 0 9 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 O m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 3であるようなバタ一 ンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 1 0 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 1 1 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 · 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造、した。
(実施例 1 1 2 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した'。
(実施例 1 1 3 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 0 mmであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが RZ 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 300 Aを製造した。
(実施例 1 1 4)
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2. 0 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが RZ 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 30 O Aを製造した。
(実施例 1 1 5)
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2. 0 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R/ 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 30 O Aを製造した。
(実施例 1 1 6)
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2. 0 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 0 mmであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R/ 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 300 Aを製造した。
(参考例 "! 5) 屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(参考例 1 6 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Aを製造した。
(参考例 1 7 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 0 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Aを製造した。
(参考例 1 8 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に.湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 . 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなバタ ーンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 3 0 0 Aを製造した。 (参考例 1 9)
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 2 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが RZ 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 300 Aを製造した。
(参考例 20)
屈曲部における备配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 . 5 mmであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 4であるようなパタ ーンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 30 O Aを製造した。
(参考例 2 1 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が词ー であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 2 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R/ 4であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 300 Aを製造した。
(実施例 1 1 7)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 20 / mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. O ju m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 " I 1 8 ) ' フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 3 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 u rn) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 9 2と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 1 9 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 U mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 u rn) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 i mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 jU mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 9 5と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 1 2 0)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 ju mのガラス クロス (ガラス鲺維の平均太さ 5. 0 ) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 jU mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 1 2 1 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 ji mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 5. 0 m にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の片面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 5と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 1 2 2 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 / mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 5. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 8と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 2 3 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 /i mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 1 . 5 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材' 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 2 4)
フレキシブル ¾板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 1 . 5 ju m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 jw mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 9 2と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 1 2 5 )
フレキシブル基板^作製する出発材料として、厚さ e O jt mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 1 . 5 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ji mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 9 5と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 2 6 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 jt/ mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. 0 i m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 i mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(実施例 1 2 7 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 jw mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. 0 M m にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ^ の銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 5と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 1 2 8) 、
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 ju mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 8と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 0 Aを製造した。
(参考例 2 2 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 5 mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 U m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 8 9と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(参考例 2 3 )
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 1 O O Z mのガラ スクロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 ji m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 の銅箔 1 2を 加熱プレスレて、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 5 0 mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 9 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(参考例 2 4 )
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 1 5 j« mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. O jw m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 の銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 O P Aを製造した。
(参考例 2 5 ) .
フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 1 O O jU mのガラ スクロス (ガラス繊維の平均太さ 7. 0 u m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 5 0 mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 0 8と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 O Aを製造した。
(実施例 1 2 9 )
(1) 本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板を製造するに当たって、 それを構成するフレキシブル基板 1 0 0 Bを作製する出発材料として、 厚さ 2 0 ju m (厚さが 3 0 im 以下) のガラスクロス (ガラス繊維の平 均太さ 4. 0 U rn) にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基 材 5 2の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔がラミネ一卜された厚さ 5 0 mである両面銅張積層板 (日立化成: 製品名 「E— 6 7」) を用いた。
(2) まず、厚さ 0.05画 の両面銅張積層板の両面にドライフィルムレジ ス トをラミネートし、 露光、 現像によリエツチングレジス トを形成した 後、 塩化第二銅水溶液を用いたエッチング処理を施して、長手方向に延 びる線幅 1 0 0 m の 3本の配線パターン 5 3 , 5 をそれぞれ表裏面 に形成した。前記長手方向に延びる配線パターン 5 3、 5 4は、屈曲部 5 5付近において、その一部が幅方向に膨らんだ領域、即ち、 図 9 (b)に示 すように、線幅が最大 1 . 5倍 ( 1 0 0 x 1 . 5 = 1 5 0 / m) になる ように片側に膨出した形状の拡張パターン 5 6、 5 7に形成された(図 2 0 (a)参照)。
なお、 3本の隣接する拡張パターン 5 6または 5 7の中心間距離 (d ) が、配線パターン 5 3または 5 4の幅の 4倍以内 (3 2 5 m) となる ようにした。
(3) 上記(2) により拡張パターン 5 6、 5 7を形成した基板の両面に、 スクリーン印刷によってソルダーレジス ト(日本ポリテック製: NPR- 90) を塗布し、 400mj/cm2の条件下で露光し、 150°G、 1 時間の条件下で乾燥 させることによって、カバー層 5 8を形成した(図 2 0 (b)参照)。
(4) 上記カバー層 5 8を形成した基板の両面に対して、屈曲が必要な 箇所を開口(符号 6 2で示す)したプリプレダ 6 0 (松下電工製: R- 1661) と、厚さ 12/ mの銅箔 6 4とを積層し(図 2 0 (c)参照)、 その積層体を圧 力 35kg/cm2 、温度 180°Cで加熱プレスした(図 2 0 (d)参照)。
(5) 上記(4)で得た積層体の表面に、所定の照射条件にて炭酸ガスレー ザ照射を行って、銅箔 6 4に直径 1 0 0 mの開口 6 6を形成すると共 に、 その開口 6 6から更に照射条件を変えた炭酸ガスレーザ照射を行つ て、基板を貫通する直径 3 0 0 μ mの貫通孔 6 8を形成した(図 2 0 (e) 参照)。
レーザ照射の後、 過マンガン酸溶液を用いて、貫通孔 6 8内に残存す る樹脂残さ (スミア) を除去するためにデスミア処理を行なった。
(6) 上記 (5 ) で形成した貫通孔 6 8の内壁に Pd 触媒を付与し、 以下 のような組成および条件のもとで無電解銅めつき処理を施した後、 さら に電解銅めつき処理を施すことによって、貫通孔 6 8の内壁を含んだ基 板全体に銅めつき層 7 0を形成した (図 2 0 (f)参照)。
これによつて、めっきスルーホール 7 6が形成された。
(無電解銅めつき溶液)
硫酸銅 · 1 0 gノリ 卜ツル
H C H O 8 g Zリ ッ トル
N a O H 5 g /リッ トル
ロッシェル塩 4 5 g リッ トル
;皿 /ス 3 0 。c
(電解銅めつき溶液)
硫酸 、 1 8 0 g /リッ トル
硫酸銅 8 0 リッ トル
アトテックジャパン製 商品名 カバラシド G L
1 m I /リッ トル
(めっき条件)
電流密度 2 A Z d m 2
時間 3 0分
温度 2 5 °C
(7) 次いで、 上記 (6) にて銅めつき層 7 0を形成した基板の表面およ び裏面にドライフィルムレジストをラミネートし、 露光、 現像によリエ ツチングレジス卜を形成した後、 塩化第二銅水溶液を用いたエッチング 処理を施して、基板の表面および裏面にそれぞれ配線パターン 7 2、 7 4を形成した。
前記配線パターン 7 2および 7 4は、めっきスルーホール 7 6を介し てフレキシブル基板 52上に形成された配線パターン 53、 54に電気 的に接続される (図 20 (g)参照)。
(8)さらに、ソルダーレジスト層を形成した後、 ルータにて外形加工を行 つて、基板表裏面の屈曲部 5 5付近にそれぞれ拡張パターン 56、 5 7 を有するフレックスリジッ ド配線板 30 OBを製造した。
(実施例 1 30)
屈曲部における配線パターンの一部を、線幅が最大 1 . 0 5倍 ( 1 0 0 x 1 . 05 = 1 05 ^ m) となるように片側に膨出した形状の拡張パ ターンに形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 300 Bを製造した。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍以内 (28 5 Tm) となるようにした。
(実施例 1 3 1 )
屈曲部における配線パターン 53、 54の一部を、線幅が最大 2. 0倍 ( 1 00 x 2. 0 = 200〃 m) になるように片側に膨出した形状の拡 張パターン 56、 5 7に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フ レックスリジッ ド配線板 300 Bを製造した。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍以内 (3 7 5 m) となるようにした。
(実施例 1 32)
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、 図 9 (c)に示すように、線幅が最大 1 . 5倍( 1 00 X 1 . 5 = 1 50 jW m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実 施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 30 0 Bを製造し た。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍〜 6倍の範囲 (47 5 m) となるようにした。
(実施例 1 3 3)
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、 図 9 (c)に示すように、線幅が最大 1 . 05倍 ( 1 00 x 1 . 05 = 1 05 β m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外 は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを 製造した。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍以内 (385〃 m) となるようにした。
(実施例 1 34)
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、 図 9 (G)に示すように、線幅が最大 2. 0倍( 1 00 x 2. 0 = 200 ju m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実 施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 300 Bを製造し なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍〜 6倍の範囲 ( 57 5〃 m) となるようにした。
(実施例 1 3 5)
屈曲部における 3本の配線パターンのうち、図 9 (d)に示すように、両 側に位置する配線パターンの一部を、線幅が最大 1 . 5倍( 1 00 X 1 . 5 = 1 5 O jU m) になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形 成し、中央の配線パターンの一部を、線幅が最大 1 . 5倍 ( 1 0 0 X 1 . 5 = 1 50 jt/ m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形 成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍以内 (3 8 5〃 ιη) となるようにした。
(実施例 1 3 6 )
屈曲部における 3本の配線パターンのうち、図 9 (d)に示すように、両 側に位置する配線パターンの一部を、線幅が最大 1 . 0 5倍 ( 1 0 0 X 1 . 0 5 = 1 0 5 u m) になるように片側に膨出した形状の拡張パター ンに形成し、中央の配線パターンの一部を、線幅が最大 1 . 0 5倍 ( 1 0 0 X 1 . 0 5 = 1 0 5 ^ m) になるように両側に膨出した形状の拡張パ ターンに形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジ ッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍以内 (2 9 5〃 m) となるようにした。
(実施例 1 3 7 )
屈曲部における 3本の配線パターンのうち、図 9 (d)に示すように、両 側に位置する配線パターンの一部を、線幅が最大 2. 0倍( 1 0 0 X 2. 0 = 2 0 0 m) になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形 成し、中央の配線 /5ターンの一部を、線幅が最大 2. 0倍 ( 1 0 0 X 2. 0 = 2 0 0 m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形 成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 (d ) が、配線パター ンの幅の 4倍以内 (3 9 0 // m) となるようにした。
(参考例 2 6 )
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、 図 9 (c)に示すように、線幅が最大 2. 5倍( 1 0 0 x 2. 5 = 2 5 0 < m) になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実 施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造し た。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 ( d ) が、配線パター ンの幅の 6倍を超える (6 7 5 / m) ようにした。
(参考例 2 7 )
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、 線 幅方向に膨らんだ領域、即ち、 図 9 (c)に示すように、線幅が最大 3. 0 倍 ( 1 0 0 x 3. 0 = 3 0 0 // m) になるように両側に膨出した形状の 拡張パターンに形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレック スリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
なお、 3本の隣接する拡張パターンの中心間距離 ( d ) が、配線パター ンの幅の 6倍を超える (7 7 5 ju m) ようにした。
(実施例 1 3 8 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 mm であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに形成 した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 3 9 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 mm であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが RZ 2であるようなパターンに 形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 40) 屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 3であるようなパターンに 形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 4 1 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに形成 した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 O O Bを製造した。
(実施例 1 4 2 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターンに 形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 4 3 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 3であるようなパターンに 形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Bを製造した。 (実施例 1 4 4 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに形成 した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 4 5 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m m であるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターンに 形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 4 6 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m m であるような円弧、であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈 曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 3であるようなパターンに 形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線 板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 4 7 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 O m mであるような円弧で 'あり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが Rであるようなパターンに形 成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配線板 3 0 O Bを製造した。
(実施例 1 4 8 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 O m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 4 9 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 O m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 3であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 5 0 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 . 5 倍であるパターン、に形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 2 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 5 1 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 5 2 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 5 3 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 1 . 5 倍であ パターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 0 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパター ンに形成 た以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 5 4 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 0 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 5 5 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 0 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ 配 線板 3 0 0 Βを製造した。
(実施例 1 5 6 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 0 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 0 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 2 8 )
屈曲鄣における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 2 9 ) 、
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 8 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 3 0 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が 2 . 5 倍であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 0 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 3 1 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 . 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 3 2 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 2 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R / 2であるようなパターン に形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 3 0 0 Bを ϋ造した。
(参考例 3 3 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半径 Rが 1 . 5 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記 非屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R Z 4であるようなパター ンに形成した以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド 配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 3 4 )
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一 であるパターンに形成し、 その湾曲されたパターンが、半怪 Rが 1 2 m mであるような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非 屈曲部の配線パターンまでの最短距離 Xが R/ 4であるようなパターン に形成した以^は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリジッ ド配 線板 300 Bを製造した。
(実施例 1 57 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 20 j« mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 / mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリ ジッ ド酉己線板 300 Bを製造した。
(実施例 1 58)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 ;W m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 j« mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用い、た以外は、実施例 1 3 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 30 D Bを製造した。
(実施例 1 59)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ のガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 / !7!の銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 00 mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 5と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 300 Bを製造した。
(実施例 1 60) フレキシブル基板を作製する出発材料と して、厚さ 2 0 ju mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 5. O jii m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 Jii mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 9と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 6 1 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 jw mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 5. 0 ju m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 μ mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 4 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 6 2 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 i mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 5. 0 fi m にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 jW mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、 Xポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 jU mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 5と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 6 3 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 i mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 1 . 5 ju m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリ' ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。 (実施例 1 6 4)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 jw mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 1 . 5 m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1. 6 5 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 6 0 mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 1 . 5 jt/ m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 μ mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 5と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 6 6 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 2 0 jU mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. O jU m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 の銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 9と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 6 7 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 3 0 / mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. O jt/ m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 4 2と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(実施例 1 6 8 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ のガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. O jU m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 jt mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 0 0 mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 4 5と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 3 5 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 5 jW mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 U m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 jU mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 2 9と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 3 6 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 O O jU mのガラ スクロス (ガラス繊維の平均太さ 4. 0 /i m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の片面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 5 の両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 2と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 3 0 0 Bを製造した。
(参考例 3 7 )
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 5 mのガラス クロス (ガラス繊維の平均太さ 7. O jU m) にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1 の両面に、 厚さが 1 8 ju mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 5 0 mの両面 銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 5と同様にして、フレックスリ ジッ ド配線板 300 Bを製造した。
(参考例 3 8)
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ 1 00 mのガラ スクロス (ガラス繊維の平均太さ 7. 0 m)にエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させてなる絶縁性基材 1 1の両面に、 厚さが 1 8 iX mの銅箔 1 2を 加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ 1 5 0 jti mの両 面銅張積層板を用いた以外は、実施例 1 3 9と同様にして、フレックス リジッ ド配線板 300 Bを製造した。 以上説明したように、フレキシブル基板とリジッ ド基板との電気的接 続が塊状導電体を介して行われる形態の実施例 1 〜44、 参考例 1 ~6、 比較例 1 およぴフレキシブル基板とリジッ ド基板との電気的接続がめ つきスルーホールを介して行われる形態の実施例 45 ~ 88、 参考例 7 〜 1 2、 比較例 2について、それぞれ以下の ( 1 ) 導通試験および (2) 信頼性評価試験を行った。
さらに、 フレキシブル基板とリジッ ド基板との電気的接続が塊状導電 体を介して行われ,る形態の実施例 89〜 1 2 8、 参考例 1.3〜 26、 比 較例 3〜 4およびフレキシブル基板とリジッ ド基板との電気的接続が めっきスルーホールを介して行われる形態の実施例 1 29〜 1 6 8、 参 考例 26 - 3 8について、それぞれ以下の ( 1 ) 導通試験、 (2) 信頼性 評価試験を行なうと共に、 各例の屈曲部における屈曲半径 (mm) を測 定した。
( 1 ) 導通試験
フレキシブル基板の '折り曲げを 3回繰り返した後に、 フレキシブル基 板の導体回路の配線パターンの電気的導通の有無を調べた。それらの導 通試験の結果を、表 1 〜 6および表 7〜 1 2に示す。 なお、 電気的導通が有れば〇とし、 無ければ Xとした。
(2) 信頼性 (耐折性) 評価試験
JIS G5016に準拠する MIT testを実施した。この試験は、フレキシブル 基板の折リ曲げを繰リ返し行い、 フレキシブル基板の導体回路の配線パ ターンが断線するまでの回数を測定したもので、それらの試験結果を、 表"!〜 6および表 7〜 "! 2に示す。
なお、断線までの折り曲げ回数が 50以上である場合には、 ©とし、 3 0以上である場合には、 Oとし、 2 9以下である場合には、△とし、 1 5 以下の場合には、 Xとした。
(表 1 )
実施例 開口 開口 開口総面積 曲率 導通 信頼性 断面形状 面積 /パターン 半径 SS験
卤貴 (mm) 結果 結果 実施例 1 10000 10/10 0.25 〇 〇 実施例 2 40000 9/10 0.25 〇 〇 実施例 3 90000 11/10 0.25 〇 〇 実施例 4 矩形 90000 ' 1/9 0.25 O O 実施例 5 90000 2/8 0.25 O 〇 実施例 6 90000 8/2 0.25 O O 実施例 7 90000 9/1 0.25 〇 〇 実施例 8 7850 10/10 0.25 〇 〇 実施例 9 49087 9/10 0.25 〇 〇 実施例 1 0 125600 11/10 0.25 O ◎ 実施例 1 1 円形 125600 1/9 0.25 〇 〇 実施例 1 2 125600 2/8 0.25 O 〇 実施例 1 3 125600 8/2 0.25 〇 o 実施例 ·1 125600 9/1 0.25 〇 〇 実施例 1 5 10025 10/10 0.25 O 〇 矩形角部
実施例 1 6 40090 9/10 0.25 O o
を R形状
実施例 1 7 90123 11/10 0.25 〇 o 実施例 1 8 90123 1/9 0.25 O o 実施例 1 9 90123 2/8 0.25 〇 〇 実施例 20 90123 8/2 0.25 O o 実施例 2 1 90123 9/1 0.25 〇 〇 実施例 20 円形 49087 10/10 0.25 〇 o 実施例 23 千鳥状 49087 1/9 0.25 O o 実施例 24 49087 9/1 0.25 〇 〇 実施例 25 49087 10/10 0.25 o ◎
10000
実施例 26 円形 49087 1/9 0.25 o o
組合せ 10000
実施例 27 49087 9/1 0.25 o o
10000
実施例 28 ベタ 一 一 0.25 〇 厶
パターン
比較例 1 ダミーパ 一 0.05 X X
ターン無 (表 2)
Figure imgf000107_0001
(表 3) パターン ガラス布厚さ 基材 曲率 導通 信頼性
断面形状 Z繊維太さ 厚さ 半径 試験
( U m) (U m) (mm) 結果 結果 実施例 3 5 20/1.5 50 0.10 〇 ο 実施例 3 6 20/3.0 50 0.10 ο ο 実施例 3 7 • 矩形 20/4.0 50 0.10 〇 ◎ 実施例 3 8 30/5.0 60 0.10 〇 ◎ 実施例 3 9 60/5.0 100 0.10 ο 〇 実施例 40 20/1.5 50 0.10 〇 ο 実施例 41 20/3.0 50 0.10 ο 〇 台形
実施例 4 2 20/4.0 50 0.10 〇
(裾角度 70° ) ◎ 実施例 43 30/5.0 60 0.10 〇 ◎ 実施例 44 60/5.0 100 0.10 ο 〇 参考例 3 15/4.0 50 0.10 ο ο
矩形
参考例 4 100/7.0 150 0.20 X X 参考例 5 ム形 15/4.0 50 0.10 ο 〇 参考例 6 (裾角度 70° ) 100/7.0 150 0.20 X X (表 4)
実施例 開口 開口 開口総面積 曲率 導通 信頼性 断面形状 面責 /パターン 半径 試験
面積 (mm) 結果 糸 実施例 45 10000 10/10 0.25 〇 〇 実施例 46 40000 9/10 0.25 〇 〇 実施例 47 90000 11/10 0.25 o o 実施例 48 矩形 90000 1/9 0.25 o o 実施例 49 90000 2/8 0.25 o 〇 実施例 50 90000 8/2 0.25 o 〇 実施例 51 90000 9/1 0.25 o 〇 実施例 52 7850 10/10 0.25 o o 実施例 53 49087 9/10 0.25 o 〇 実施例 54 125600 11/10 0.25 〇 ◎ 実施例 55 円形 125600 1/9 0.25 o o 実施例 56 125600 2/8 0.25 o o 実施例 57 125600 8/2 0.25 o o 実施例 58 125600 9/1 0.25 o 〇 実施例 59 10025 10/10 0.25 o 〇 実施例 60 40090 9/10 0.25 o 〇 実施例 6 1 90123 11/10 0.25 〇 〇 矩形角部
実施例 6 2 90123 1/9 0.25 〇 〇 を R形状
実施例 6 3 90123 2/8 0.25 o o 実施例 6 4 90123 8/2 0.25 o 〇 実施例 65 90123 9/1 0.25 o 〇 実施例 66 49087 10/10 0.25 o o
円形
実施例 67 49087 1/9 0.25 o o
千鳥状
実施例 6 8 49087 9/1 0.25 o 〇 実施例 6 9 49087 10/10 0.25 〇 ◎
10000
実施例 70 円形 49087 1/9 0.25 o 〇 組合せ 10000
実施例 7 1 49087 9/1 0.25 o 〇
10000
実施例 7 2 ベタ ― 0.25 o Δ パターン
比較例 2 ダミーパ 一 0.05 X X
ターン無 (表 5 )
Figure imgf000109_0001
(表 6 ) パターン ガラス布厚さ 基材 曲率 導通 信頼性 断面形状 /繊維太さ 厚さ 半径 試験
( β m) ( m) (mm) 結果 結果 実施例 7 9 20/1.5 50 0.10 〇 Ο 実施例 80 20/3.0 50 0.10 o 〇 実施例 8 1 矩形 20/4.0 50 0.10 〇 ◎ 実施例 8 2 30/5.0 60 0.10 〇 ◎ 実施例 83 60/5.0 100 0.10 o 〇 実施例 8 4 20/1.5 50 0.10 o 〇 実施例 85 20/3.0 50 0.10 o 〇 台形
実施例 86 20/4.0 50 0.10 o
(裾角度 70° ) ◎ 実施例 8 7 30/5.0 60 0.10 o ◎ 実施例 8 8 60/5.0 100 0.10 〇 〇 参考例 9 15/4.0 50 0.10 〇 〇 矩形
参考例 1 0 100/7,.0 150. 0.20 X X 参考例 1 1 台形 15/4.0 50 0.10 〇 〇 参考例 1 2 (裾角度 70° ) 100/7.0 150 0.20 X X (表 7 )
分類 形状 拡張バタ 屈曲部の 屈曲半径 導通 信頼性 ーン幅/ 配線密度 (曲率半径) 試験 5 験 配線幅 (d) (mm) 結果 実施例 89 広幅 片側 1.50 〇 0.050 o 〇 実施例 90 拡張 拡張 1.05 O 0.050 〇 厶 実施例 91 2.00 o 0.050 〇 ◎ 実施例 92 両側 1.50 Δ 0.050 〇
実施例 93 拡張 1.05 O 0.050 o 〇 実施例 94 2.00 Δ 0.050 o ◎ 実施例 95 片側拡 1.50 O 0.050 o © 実施例.96* 張と両 1.05 O 0.050 〇 o 実施例 97 側拡張 2.00 O , 0.050 〇 ® 参考例 1 3 両側 2.50 X 0.053 o ◎ 参考例 1 4 拡張 3.00 X 0.055 o ◎ 比較例 3 線幅拡張なし 1.00 〇 0.060 o X 比較例 4 線幅縮小 0.50 〇 0.062 o X
(表 8)
湾曲バタ 湾曲パ 湾曲バタ 屈曲半径 導通 信頼性 ーン曲率 ターン ーン幅/ (曲率半径)
半径(闘) 膨み 配線幅 (mm) 糸口果 結
X (mm)
実施例 98 2 R 1.0 0.050 〇 o 実施例 99 R/2 1.0 0.050 〇 Δ 実施例 1 00 R/3 1.0 0.050 o △ 実施例 1 0 1 5 R 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 02 R/2 1.0 0.050 o ◎ 実施例 1 03 R/3 1.0 0.050
湾曲 o 〇 実施例 1 0'4 8 R 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 05 R/2 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 06 R/3 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 07 10 R 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 08 R/2 1.0 0.050 o ◎ 実施例 1 09 R/3 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 1 0 2 R/2 1.5 0.050 o o 実施例 1 1 1 5 R/2 1.5 0.050 〇 ◎ 実施例 1 1 2 8 R/2 1.5 0.050 o ◎ 実施例 1 1 3 10 R/2 1.5 0.050 o ◎ 実施例 1 1 4 5 R/2 2.0 0.050 o ◎ 実施例 1 1 5 8 R/2 2.0 0.050 o ◎ 実施例 1 1 6 10 R/2 2.0 0.050 〇 ◎ 参考例 1 5 5 R/2 2.5 0.053 〇 〇 参考例 1 6 8 R/2 2.5 0.052 o o 参考例 1 7 10 R/2 2.5 0.053 〇 o 参考例 1 8 1.5 R/2 1.0 0.053 〇 Δ 参考例 1 9 12 R/2 1.0 0.052 o 〇 参考例 20 1.5 R/4 1.0 0.053 o 〇 参考例 2 1 12 R/4 1.0 0.053 〇 〇
(表 9 )
Figure imgf000112_0001
(表 1 0)
分類 形状 拡張バタ 屈曲部の 屈曲半径 導通 信頼性 ーン幅/ 配線密度 (曲率半径) 試験 S式 配線幅 (d ) (mm) 結果 実施例 1 29 1.50 〇 0.050 O o
、片側
実施例 1 30 1.05 〇 0.050 o Δ
拡張
実施例 1 31 2.00 〇 0.050 o ◎ 実施例 1 32 1.50 厶 0.050 〇
両側 ◎ 実施例 1 33 1.05 o 0.050 o 〇 広幅 拡張
実施例 1 34 2.00 Δ 0.050 〇
拡張 ◎ 実施例 1 35 片側拡 1.50 〇 0.050 〇 ◎ 実施例 1 36 張と両 1.05 〇 0.050 〇 〇 実施例 1 37 側拡張 2.00 〇 0.050 〇 ◎ 参考例 26 両側 2.50 X 0.053 〇 ◎ 参考例 27 拡張 3.00 X 0.055 〇 ◎ (表 1 1 )
実施例 分類 湾曲 PT 湾曲 PT 湾曲 PT幅 屈曲具合 導通 信頼性 曲率 膨らみ Z配線幅 (曲率半径) 試験 半径 X (mm) (mm) 結果 結果
(mm)
実施例 1 3 8 2 R 1.0 0.050 o o 実施例 1 39 R/2 1.0 0.050 O 厶 実施例 1 40 R/3 1.0 0.050 O 厶 実施例 1 4 1 5 R 1.0 0.050 O ◎ 実施例 1 42 R/2 1.0 0.050 O ◎ 実施例 1 43 R/3 1.0 0.050 〇 〇 実施例 1 4'4 8 R 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 45 R/2 1.0 0.050 O ◎ 実施例 1 46 R/3 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 47 10 R 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 48 f¾曲 R/2 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 49 R/3 1.0 0.050 〇 ◎ 実施例 1 50 2 R/2 1.5 0.050 〇 〇 実施例 1 5 1 5 , R/2 1.5 0.050 O ◎ 実施例 1 52 8 R/2 1.5 0.050 〇 ◎ 実施例 1 53 10 R/2 1.5 0.050 〇 ◎ 実施例 1 54 5 R/2 2.0 0.050 O ◎ 実施例 1 55 8 R/2" 2.0 0.050 O ◎ 実施例 1 56 10 R/2 2.0 0.050 〇 ◎ 参考例 28 5 R/2 2.5 0.052 〇 〇 参考例 29 8 R/2 2.5 0.052 〇 〇 参考例 30 - 10 R/2 2.5 0.052 o 〇 参考例 3 1 1.5 R/2 1.0 0.053 o Δ 参考例 32 12 R/2 1.0 0.052 o o 参考例 33 1.5 R/2 1.0 0.053 〇 〇 参考例 34 12 R/2 1.0 0.054 o o
(表 1 2 ) ガラス布厚さ 基材 屈曲半径 導通 信頼性 繊維太さ 厚さ (曲率半径) ρΐ\»験 n 験
( H m) ( m) (mm) . 結果 実施例 1 5 7 20/4 50 0. 050 o ◎ 実施例 1 5 8 30/4 50 0. 050 〇 ◎ 実施例 1 5 9 60/4 100 0. 050 〇 o 実施例 1 6 0 .20/5 50 0. 050 〇 ◎ 実施例 1 6 1 30/5 50 0. 050 o ◎ 実施例 1 6 2 60/5 100 0. 050 〇 〇 実施例 1 6 3 20/1 . 5 50 0. 050 〇 〇 実施例 1 6 4 30/1 . 5 50 0. 050 o 〇 実施例 1 6 5 60/1. 5 100 0. 050 o o 実施例 1 6 6 20/7 50 0. 050 o 〇 実施例 1 6 7 30/7 50 0. 050 〇 〇 実施例 1 6 8 60/7 100 0. 050 o o 参考例 3 5 15/4 50 0. 052 〇 〇 参考例 3 6 100/4 150 0. 051 o Δ 參考例 3 7 15/7 50 0. 051 o 〇 参考例 3 8 100/7 150 0. 052 o Δ
以上の試験結果から、フレキシブル基板の一方の表面に導体回路を形 成し、他方の表面に屈曲部付近にダミーパターンを形成してなるフレツ ク リジッ ド配線板については、 実施例 1 〜 2 8 (実施例 4 5 ~ 7 2 ) では、開口総面積 Zパターン面積が 1 Z9〜 9/1 であるような格子状 のダミーパターンが、電気的接続性および屈曲性 (耐折性) に優れてお リ、特に、 開口パターンが円形で開口総面積/パターン面積が 1 1 / Λ 0であるようなダミーパターンや、大小の円形からなる組合せパターン からなリ、開口総面積/パターン面積が 1 0 / 1 0であるようなダミー パターンが優れているということがわかった。
また、実施例 2 9 - 3 4 (実施例 7 3 - 7 8 ) および参考例 1, 2 (参 考例 7、 8 ) の結果からわかるように、線幅が 1 5 0〜 2 5 0 m、線間 距離が 3 0 μ m以上である線状のダミーパターンが、電気的接続性およ び屈曲性 (耐折性) に優れておリ、特に、線幅が 2 0 0 / m以上、 線間距 離が 1 O O / m 以下であるようなダミーパターンがより優れておリ、さ らに、 線幅が 2 0 0 m、 線間距離が 5 0 i mであるようなダミーパタ ーンが最も優れている。
また、線状のダミーパターンの断面形状が台形である場合には、その 裾角度が 4 5 ° 以上であるダミーパターンが、電気的接続性および屈曲 性 (耐折性) に優れ、特に、裾角度 7 5 ° であるようなパターンが最も優 れていることがわかつた。
さらに、実施例 3 5〜 4 4 (実施例 7 9 ~ 8 8 ) および参考例 3〜 6 (参考例 9 ~ 1 2 ) からわかるように、フレキシブル基板の絶縁性基材 の厚さが、 1 O O i m以下であり、ガラスクロスの厚さが 3 0 i m 以下 であるようなフレキシブル基板にダミーパターンを設けた場合に、電気 的接続性および屈曲性 (耐折性) に優れておリ、特に、絶縁性基材の厚さ が 5 0〃 mであり、ガラスクロスの厚さが 2 0 m であるようなフレキ シブル基板に設けたダミーパターンが最も優れている。
また、 各実施例 1 〜 8 8および参考例 1 ~ 1 2に係るフレックスリジ ッ ド配線板は、フレキシブル基板の屈曲部における屈曲具合が、曲率半 径で表すとき、 0. 1 〜 0. 25mmの範囲内であり、ダミーパターンを 形成しない比較例 1 (曲率半径: 0. 05 mm) にかかるフレックスリ ジッ ド配線板に比して、大幅にその屈曲具合を大きくすることができる ことがわかる。
さらに、 フレキシブル基板上の導体回路の配線パターン力 屈曲部で 広幅であり、あるいは幅方向に湾曲されてなるフレックスリジッ ド配線 板については、 実施例 8 9〜 9 7 (実施例 1 29〜 1 37) および参考 例 " I 3、 1 4 (参考例 26 , 27 ) の試験結果からわかるように、広幅 の拡張パ^ーンほど導通試験および信頼性試験の結果が良好で、断線が しにく く、耐折性に優れている。
また、屈曲半径についても、 0. 050~ 0. 05 5 mmの範囲内であ るため、屈曲具合も大きく、一定になっていると判断することができる。 また、屈曲部の配線密度について、拡張パターンの幅が、非屈曲部の配 線パターンの幅の 2倍以下である場合には、配線密度に影響を与えない が、 2倍を超えると、拡張パターン同士のクリアランスを確保できない ので配線密度を低下させてしまうこともわかった。
これに対して、 線幅を拡張しない比較例 3や、線幅を縮小した比較例 4では、屈曲半径が 0. 06 0〜 0. 06 2 mmと比較的に大きく、導通 試験の結果も良好であるが、信頼性 (耐折性) が低いということがわか つた。
また、実施例 98〜 1 1 6 (実施例 1 3 8 ~ 1 5 6 ) および参考例 1 5 - 2 1 (参考例 2 8 -34) の試験結果からわかることは、 湾曲バタ ーンの湾曲度 (曲率半径) が大きい (まど、また湾曲パターンの膨らみが 大きいほど、断線がしにく く、耐折性に優れているということである。 また、屈曲半径についても、 0. 05 0~0. 05 3 mmの範囲内であ るため、屈曲具合も大きく、一定になっていると判断することができる。 さらに、実施例 1 1 7〜 "! 28 (実施例 1 57〜 1 6 8 ) および参考 例 2 2〜 25 (参考例 3 5〜 3 8 ) の試験結果からわかることは、ガラ スクロスの厚さが薄いほど、また基材の厚さが薄いほど、断線がしにく く、耐折性に優れているということであった。
また、屈曲半径についても、 0. 050〜0. 052mmの範囲内であ るため、屈曲具合も大きく、一定になっていると判断することができる。 産業上の利用可能性
以上のように、本発明にかかるフレックスリジッ ド配線板は、折リた たみ式の携帯電話等の携帯用電子機器に好適に用いられる。

Claims

請求の範囲
1 .. 絶縁性基板上に導体回路を設けてなる硬質のリジッ ド基板と、絶 縁性基材上に導体回路を設け、その導体回路を被覆するように力バーレ ィを設けてなる屈曲可能なフレキシブル基板とが接続されてなるフレ ックスリジッ ド配線板において、
前記フレキシブル基板の絶縁性基材は、ガラスクロスに樹脂を含浸、 乾燥させてなる屈曲可能な基材であり、
前記フレキシブル基板の一方の表面には導体回路を形成し、他方の表 面には、屈曲部付近にダミーパターンを形成したことを特徴とするフレ ックスリジッ ド配線板。
2 . 前記ダミーパターンは、複数の開口が少なくとも一列に配列され てなる格子状パターンであることを特徴とする請求項 1 に記載のフレ ックスリジッ ド配線板。
3 . 前記格子状パターンを形成する複数の開口の面積の総和と、残り のパターン部分の面積との比率は、 1 : 9〜 9 : 1の範囲であることを 特徴とする請求項 2に記載のフレックスリジッ ド配線板。
4 . 前記ダミーパターンは、前記導体回路の配線パターンに対して交 差するような方向に延設されていることを特徴とする請求項 1 に記載 のフレックスリジッ ド配線板。
5 . 前記交差方向に延設されたダミーパターンは、 屈曲部付近に配設 された少なくとも 3本以上の線状パターンからなリ、 その線状パターン の線幅が 1 5 0 m以上であることを特徴とする請求項 4に記載のフ レックスリジッド配線板。
6 . 前記ダミーパターンを形成する線状パターンは、隣接する線状パ ターン間の距離が 3 0 U m以上、 厚みが前記導体回路の厚みと同等、あ るいはそれよりも厚いことを特徴とする請求項 4または 5に記載のフ レックスリジッ ド配線板。
7 . 前記ダミーパターンは、断面形状が台形であるようなパターンで あることを特徴とする請求項 4に記載のフレックスリジッ ド配線板。
8 . 前記ダミーパターンは、 屈曲部付近に配設された少なくとも 3本 以上の線状パターンからなり、 その線状パターンの線幅が 1 5 0 以 上であることを特徴とする請求項 7に記載のフレックスリジッ ド配線 板。
9 . 前記ダミーパターンを形成する線状パターンは、 隣接する線状パ ターン間の距離が 3 0 m以上、 厚みが前記導体回路の厚みと同等、あ るいはそれよりも厚いことを特徴とする請求項 8に記載のフレックス リジッ ド配線板。
1 0 . 前記ダミーパターンは、裾角度が 4 5 ° 〜 9 0 ° であるような台 形断面を有していることを特徴とする請求項 7 ~ 9のいずれか 1項に 記載のフレックスリジッ ド配線板。
1 1 . 前記屈曲可能な基材は、厚さが 1 0 0 m以下の板状基材であ ることを特徴とする請求項 1 〜 1 0のいずれか 1項に記載のフレック スリジッ ド配線板。
1 2 . 前記屈曲可能な基材を構成するガラスクロスは、厚さが 3 0 m以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、 1 . 5〜 7 . 0 m であることを特徴とする請求項 1 〜 1 1のいずれか 1 項に記載のフレ ックスリジッ ド配線板。
1 3 . 前記カバーレイは、可撓性を有する樹脂付き銅箔、可撓性を有す るソルダーレジス ト層、またはガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させた後、 半硬化させてなるプリプレダのいずれか 1から形成され ることを特徴とする請求項 1 ~ 1 2のいずれか 1項に記載のフレック スリジッ ド配線板。
1 4 . 前記ダミーパターンは、フレキシブル基板を折り曲げたときに 内側となる表面に形成されること特徴とする請求項 1 ~ 1 3のいずれ か 1項に記載のフレックスリジッ ド配線板。
1 5 . .硬質のリジッ ド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆され た導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレック スリジッ ド配線板において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸させて屈曲可能と したガラスクロスからなり、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが広幅であることを特徴 とするフレックスリジッ ド配線板。
1 6 . 前記屈曲部にある配線パターンは、幅方向に拡張されているこ とを特徴とする請求項 1 5に記載のフレックスリジッ ド配線板。
1 7 . 前記屈曲部にある配線パターンの最大幅は、 非屈曲部の配線パ ターンの線幅よリ大きく、かつその線幅の 2倍以下であることを特徴と する請求項 1 5または 1 6に記載のフレックスリジッ ド配線板。
1 8 . 前記屈曲部にある配線パターンは、幅方向の片側あるいは両側 に膨らんだ形状を有することを特徴とする請求項 1 5〜 1 7のいずれ か 1項に記載のフレックスリジッ ド配線板。
1 9. 硬質のリジッ ド基板と、絶縁性基材上にカバ一レイで被覆され た導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレック スリジッ ド配線板において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸させて屈曲可能と したガラスクロスからなリ、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが、幅方向に湾曲されて いることを特徴とするフレックスリジッ ド配線板。
2 0. 前記屈曲部にある配線パターンの線幅は、非屈曲部の配線バタ 一ンの線幅よリも大きく、かつその線幅の 2倍以下であることを特徴と する請求項 1 9に記載のフレックスリジッ ド配線板。
2 1. 前記屈曲部にある配線パターンは、 半径 Rが 2 ~ 1 O mmであ るような円弧であり、 かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部 の配線パターンまでの最短距離 Xが、 R/ 3≤ X≤ Rであることを特徴 とする請求項 1 9または 2 0に記載のフレックスリジッ ド配線板。
2 2. 前記屈曲可能な基材は、厚さが 1 0 0 U m以下の板状基材であ ることを特徴とする請求項 1 9〜 2 1 のいずれか 1項に記載のフレツ クスリジッ ド配線板。
2 3. 前記屈曲可能な基材を構成するガラスクロスは、厚さが 3 0 IX m以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、 1 . 5〜 7. 0 m であることを特徴とする請求項 1 5〜 2 2のいずれか 1 項に記載のフ レックスリジッ ド配線板。
2 4. 前記力パーレイは、可撓性を有する樹脂付き銅箔、可撓性を有す るソルダーレジス ト層、またはガラスクロスにェポキシ系樹脂を含浸、 乾燥させた後、 半硬化させてなるプリプレダのいずれか 1から形成され る^とを特徵とする請求項 1 5〜 2 3のいずれか 1項に記載のフレツ クスリジッ ド配線板。
2 5 . 絶縁性基板上に導体回路を設けてなる硬質のリジッ ド基板と、 絶縁性基材上に導体回路を設け、その導体回路を被覆するように力パー レイを設けてなる屈曲可能なフレキシブル基板とが接続されてなるフ レックスリジッ ド配線板の製造方法において、
前記フレキシブル基板の絶縁性基材は、ガラスクロスに樹脂を含浸、 乾燥させてなる屈曲可能な基材を用い、
前記フレキシブル基板の一方の表面には導体回路を形成し、他方の表 面には、屈曲部付近にダミーパターンを形成したことを特徴とするフレ ックスリジッ ド配線板の製造方法。
2 6 . 硬質のリジッ ド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆された 導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレックス リジッ ド配線板の製造方法において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸させて屈曲可能と したガラスクロスからなる基材を用い、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが広幅に形成することを 特徴とするフレックスリジッ ド酉 5線板の製造方法。
2 7 . 硬質のリジッ ド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆され た導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレック スリジッ ド配線板の製造方法において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸させて屈曲可能と したガラスクロスからなる基材を用い、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが、幅方向に湾曲される ように形成することを特徴とするフレックスリジッ ド配線板の製造方 法。
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