JP7225329B2 - 薄厚熱強化及び化学強化ガラス系物品 - Google Patents
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Description
ガラスの軟化点の非常に近く又は軟化点を超える730℃のSLGシートの開始温度で0.20cal/s・cm2・℃(又は約8370W/m2K)の熱伝達率によって達成される追加の強化性能のいくつかを示している。従って、CSの著しい改善、ひいてはガラスシートの強度向上は、タイトなガス支持体におけるシートの平坦性及び形状の良好な取り扱い及び制御によって可能になる、特に高い熱伝達率と高い初期温度の使用との組み合わせによって達成され、厚さ2mm以下における向上が特に著しい。
以下の実施例によって、様々な実施形態が更に明らかになるであろう。以下の実施例において、特定の厚さtのガラス系基体を、所望の熱伝達率hで、所望の初期温度T0から熱強化した。
図39は、実施例8B-2(390℃で2時間化学強化)、8B-5、8C-2(390℃で2時間化学強化)、及び8C-5の測定DOLのみを示す図である。
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する、金属酸化物の濃度を有する第1の圧縮応力(CS)領域と、
前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、前記第1の表面から測定したとき、約0.17・t以上の圧縮深さ(DOC)まで延びる領域と、
を有する物品。
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
前記第1の表面からDOCに延びる熱強化領域であって、前記第1の表面から層深さ(DOL)まで延びる化学強化領域を含む領域と、
を有し、
前記DOCが、前記DOLより大きく、前記DOCが約0.17t以上である、物品。
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する第1の金属酸化物の濃度、及び第2の金属酸化物を含む第1の圧縮応力(CS)領域と、
前記第1のCS領域の前記第2の金属酸化物を含み、前記第1の金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、前記第1の表面から測定したとき、約0.17・t以上の圧縮深さ(DOC)まで延びる第2のCS領域と、
を有する、物品。
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
熱強化領域と、
を有し、
前記第1の表面が、該表面の任意の50mm以下の輪郭に沿って、100μmまでの芯振れ精度(TIR)で平坦であり、
℃単位の軟化温度Tsoft、℃単位のアニーリング温度Tanneal、及びTfsで示される、前記ガラスシートの前記第1の表面で測定される表面仮想温度であって、℃単位及び(Tfs-Tanneal)/Tsoft-Tanneal)で与えられる無次元の表面仮想温度パラメータθSで表された場合の仮想温度を有するガラスを含み、前記パラメータθSが0.20~0.9である、物品。
転移温度を有するガラスシートを、固体又は液体物質を含まない間隙を横断する伝導によって、前記ガラスシートを離れる20%を超える熱エネルギーが、間隙を横断してヒートシンクに受け取られるように、前記ガラスシートからヒートシンクに熱エネルギーを移動させ、前記転移温度より高い温度から前記転移温度より低い温度に冷却して、熱強化ガラス物品を形成するステップと、
前記熱強化ガラス物品を化学強化するステップと、
を備えた方法。
前面、背面、及び側面を有するハウジングと、
少なくとも部分的に、前記ハウジングの内部に設けられた電気部品であって、少なくともコントローラ、メモリ、及び前記ハウジングの前記前面又は該前面に隣接して設けられたディスプレイを含む電気部品と、
前記ディスプレイ上に設けられるように、前記ハウジングの前記前面又はその上方に設けられたカバー物品であって、前記カバーガラス系物品が、熱強化及び化学強化され、第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面、非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する金属酸化物の濃度を有する第1のCS領域、前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、約0.17・t以上のDOCまで延びるCS領域を有するカバー物品と、
を備え、
携帯電話、ポータブルメディアプレイヤー、ノート型コンピュータ、又はタブレットコンピュータである、電子製品。
前面、背面、及び側面を有するハウジングと、
少なくとも部分的に前記ハウジングの内部に設けられた電気部品であって、少なくともコントローラ、メモリ、及び前記ハウジングの前記前面又は該前面に隣接して設けられたディスプレイを含む電気部品と、
前記ディスプレイ上に設けられるように、前記ハウジングの前記前面又はその上方に設けられたカバー物品であって、前記カバーガラス系物品が、実施形態1~60いずれか1つに記載のガラス系物品を含むカバー物品と
を含む、電子製品。
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面、非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する金属酸化物の濃度を有する第1のCS領域、前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、約0.17・t以上のDOCまで延びる領域を有する、ラミネート体。
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、実施形態1~60いずれか1つに記載のガラス系物品を含む、ラミネート体。
前記ラミネート体が、第1のガラス系シート、第2のガラス系シート、及び前記第1のガラス系シートと前記第2のガラス系シートとの間に配置された中間層を含み、
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面、非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する金属酸化物の濃度を有する第1のCS領域、前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、約0.17・t以上のDOCまで延びる領域を有する、車両。
前記第2のガラス系シートが複雑に湾曲し、前記ラミネート体の第3の表面を構成する少なくとも1つの凹面、及び前記第3の表面に対向し、前記ラミネート体の第4の表面を構成する少なくとも1つの凸面を含み、それらの間に厚さを有し、
前記第3及び第4の表面が、各々CS値を有し、前記第4の表面のCS値が、前記第3の表面のCS値より大きい、実施形態76又は実施形態77に記載の車両。
前記ラミネート体が、第1のガラス系シート、第2のガラス系シート、及び前記第1のガラス系シートと前記第2のガラス系シートとの間に配置された中間層を含み、
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、実施形態1~60いずれか1つに記載のガラス系物品を含む、車両。
前記第2のガラス系シートが複雑に湾曲し、前記ラミネート体の第3の表面を構成する少なくとも1つの凹面、及び前記第3の表面に対向する、前記ラミネート体の第4の表面を構成する少なくとも1つの凸面を含み、それらの間に厚さを有し、
前記第3及び第4の表面が、各々CS値を有し、前記第4の表面のCS値が、前記第3の表面のCS値より大きい、実施形態83又は実施形態84に記載の車両。
ガラス系物品であって、
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する、金属酸化物の濃度を有する第1の圧縮応力(CS)領域と、
前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、前記第1の表面から測定したとき、約0.17・t以上の圧縮深さ(DOC)まで延びる領域と、
を有する物品。
前記金属酸化物が、Na2O、K2O、Rb2O、及びCs2Oのいずれか1種を含む、実施形態1に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物がK2Oを含む、実施形態2に記載のガラス系物品。
前記金属酸化物がNa2Oを含む、実施形態2に記載のガラス系物品。
中央張力(CT)領域を更に有し、前記第2のCS領域と前記CT領域の少なくとも一部が、同じガラス組成を有する、実施形態1~4いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、約0・tを超え、約0.17・t未満の範囲の深さまで、前記厚さの前記一部に沿って変化する、実施形態1~5いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、約0.01・tを超え、約0.1・tの範囲の深さまで、前記厚さの前記一部に沿って変化する、実施形態1~6いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記厚さtが約2mm未満である、実施形態1~7いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記厚さtが約1.2mm未満である、実施形態8に記載のガラス系物品。
約400MPa以上の表面CSを更に有する、実施形態1~9いずれか1つに記載のガラス系物品。
約600MPa以上の表面CSを更に有する、実施形態10に記載のガラス系物品。
約8N以上のヌープ引掻き閾値を更に示す、実施形態1~11いずれか1つに記載のガラス系物品。
約120N以上のビッカース亀裂開始閾値を更に示す、実施形態1~12いずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品であって、
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
前記第1の表面からDOCまで延びる熱強化領域であって、前記第1の表面から層深さ(DOL)まで延びる化学強化領域を含む領域と、
を有し、
前記DOCが、前記DOLより大きく、前記DOCが約0.17t以上である、物品。
前記厚さtが約2mm未満である、実施形態14に記載のガラス系物品。
前記厚さtが約1.2mm未満である、実施形態15に記載のガラス系物品。
約400MPa以上の表面CSを更に有する、実施形態14~16いずれか1つに記載のガラス系物品。
約25MPa以上の最大CTを更に有する、実施形態17に記載のガラス系物品。
約1GPa以上の表面CS、及び約75MPa以上の最大中央張力(CT)を有する、実施形態18に記載のガラス系物品。
前記最大CTが約80MPa以上である、実施形態19に記載のガラス系物品。
P2O5、Li2O、及びB2O3のいずれか1種以上を含む組成を有する、実施形態14~20いずれか1つに記載のガラス系物品。
P2O5、Li2O、及びB2O3のいずれか2種以上を含む組成を有する、実施形態14~21いずれか1つに記載のガラス系物品。
約6J/m2以上の蓄積張力エネルギーを有する、実施形態14~22いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記蓄積張力エネルギーが約10J/m2以上である、実施形態23に記載のガラス系物品。
前記DOLにおいて、約150MPa以上のCS値を更に有する、実施形態14~24いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記DOLが約10マイクロメートル以上である、実施形態14~25いずれか1つに記載のガラス系物品。
約8N以上のヌープ引掻き閾値を更に示す、実施形態14~26いずれか1つに記載のガラス系物品。
約120N以上のビッカース亀裂開始閾値を更に示す、実施形態14~27いずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラス系物品であって、
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する第1の金属酸化物の濃度、及び第2の金属酸化物を含む第1の圧縮応力(CS)領域と、
前記第1のCS領域の前記第2の金属酸化物を含み、前記第1の金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、前記第1の表面から測定したとき、約0.17・t以上の圧縮深さ(DOC)まで延びる第2のCS領域と、
を有する、物品。
前記第1の金属酸化物が、第1の直径を有する第1の金属イオンを含み、前記第2の金属酸化物が、第2の直径を有する第2の金属イオンを含み、前記第2の直径が、前記第1の直径より小さい、実施形態29に記載のガラス系物品。
前記第1の金属酸化物がK2Oを含み、前記第2の金属酸化物がNa2Oを含む、実施形態30に記載のガラス系物品。
中央張力(CT)領域を更に有し、前記第2のCS領域と前記CT領域の少なくとも一部が同じガラス組成を有する、実施形態29~31いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、約0・tを超え、約0.17・t未満の範囲の深さまで、前記厚さの一部に沿って変化する、実施形態29~32いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、約0.01・tを超え、約0.1・tの範囲の深さまで、前記厚さの一部に沿って変化する、実施形態29~33いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記厚さtが約2mm未満である、実施形態29~34いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記厚さtが約1.2mm未満である、実施形態35に記載のガラス系物品。
約400MPa以上の表面CSを更に有する、実施形態29~36いずれか1つに記載のガラス系物品。
約600MPa以上の表面CSを更に有する、実施形態37に記載のガラス系物品。
約8N以上のヌープ引掻き閾値を更に示す、実施形態29~38いずれか1つに記載のガラス系物品。
約120N以上のビッカース亀裂開始閾値を更に示す、実施形態29~39いずれか1つに記載のガラス系物品。
化学強化ガラス系物品であって、
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
熱強化領域と、
を有し、
前記第1の表面が、該表面の任意の50mm以下の輪郭に沿って、100μmまでの芯振れ精度(TIR)で平坦であり、
℃単位の軟化温度Tsoft、℃単位のアニーリング温度Tanneal、及びTfsで示される、前記ガラスシートの前記第1の表面で測定される表面仮想温度であって、℃単位及び(Tfs-Tanneal)/Tsoft-Tanneal)で与えられる無次元の表面仮想温度パラメータθSで表された場合の仮想温度を有するガラスを含み、前記パラメータθSが0.20~0.9である、物品。
mmで示される長さl、及びmmで示される幅wを有するガラスシートを含み、tはl未満かつw未満であり、l及びwが、各々少なくとも10mmである、実施形態41に記載のガラス系物品。
l及びwのいずれか一方又は両方が、少なくとも40mmである、実施形態42に記載のガラス系物品。
比l/t及び比w/tの各々が、10/1以上である、実施形態41又は42に記載のガラス系物品
実施形態45
前記第1の表面が、10×10μmの領域にわたり、0.2~1.5nmのRa粗さを有する、実施形態41~44いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが2mm未満である、実施形態41~45いずれか1つに記載のガラス系物品。
tが約1.2mm以下である、実施形態41~46いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面で測定した前記表面仮想温度が、前記ガラスの転移温度より少なくとも50℃高い、実施形態41~47いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記第1の表面で測定した前記表面仮想温度が、前記ガラスの転移温度より少なくとも75℃高い、実施形態48に記載のガラス系物品。
前記第1の表面からDOLまで延びる化学強化領域を更に有し、前記熱強化領域が、前記第1の表面からDOCまで延び、前記DOCが前記DOLより大きく、前記DOCが約0.17t以上である、実施形態41~49いずれか1つに記載のガラス系物品。
約1GPa以上の表面CS、及び約75MPa以上の最大中央張力(CT)を更に有する、実施形態41~50いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記最大CTが約80MPa以上である、実施形態51に記載のガラス系物品。
P2O5を含む組成を有する、実施形態41~52いずれか1つに記載のガラス系物品。
Li2Oを含む組成を有する、実施形態41~53いずれか1つに記載のガラス系物品。
約6J/m2以上の蓄積張力エネルギーを有する、実施形態41~54いずれか1つに記載のガラス系物品。
約10J/m2以上の蓄積張力エネルギーを有する、実施形態55に記載のガラス系物品。
前記DOLにおいて、約150MPa以上のCS値を更に有する、実施形態41~56いずれか1つに記載のガラス系物品。
前記DOLが、約10マイクロメートル以上である、実施形態41~57いずれか1つに記載のガラス系物品
実施形態59
約8N以上のヌープ引掻き閾値を更に示す、実施形態41~58いずれか1つに記載のガラス系物品。
約120N以上のビッカース亀裂開始閾値を更に示す、実施形態41~59いずれか1つに記載のガラス系物品。
ガラスシートを強化する方法であって、
転移温度を有するガラスシートを、固体又は液体物質を含まない間隙を横断する伝導によって、前記ガラスシートを離れる20%を超える熱エネルギーが、間隙を横断してヒートシンクに受け取られるように、前記ガラスシートからヒートシンクに熱エネルギーを移動させ、前記転移温度より高い温度から前記転移温度より低い温度に冷却して、熱強化ガラス物品を形成するステップと、
前記熱強化ガラス物品を化学強化するステップと、
を備えた方法。
前記熱強化ガラス物品が、前記熱強化ガラスシートのいずれの部分も除去されずに化学強化される、実施形態61に記載の方法。
前記熱強化ガラス物品が、前記熱強化ガラスシートの厚さの3%以上除去されずに化学強化される、実施形態62に記載の方法。
前記ガラスシートを冷却するステップが、約-270℃/秒以上の速度で冷却するステップを含む、実施形態61~63いずれか1つに記載の方法。
前記熱強化ガラス物品が、厚さ及び該厚さの0.17倍以上のDOCを有する、実施形態61~64いずれか1つに記載の方法。
前記熱強化ガラスシートを化学強化するステップが、前記DOCを維持しつつ、約700MPa以上の表面CSを生成するステップを含む、実施形態61~65いずれか1つに記載の方法。
前記熱強化ガラス物品を化学強化するステップが、ガラス系層の第1の表面から、約10マイクロメートル以上であるDOLまで延びる、化学強化領域を生成するステップを含む、実施形態66に記載の方法。
前記熱強化ガラス物品を化学強化するステップが、前記熱強化ガラスシートを、KNO3、NaNO3、及びLiNO3のうちの任意の1種以上を含む、溶融塩浴に浸漬するステップを含む、実施形態61~66いずれか1つに記載の方法。
前記溶融塩浴が、KNO3とNaNO3とを含み、約380℃~約430℃の温度を有する、実施形態68に記載の方法。
消費者向け電子製品であって、
前面、背面、及び側面を有するハウジングと、
少なくとも部分的に、前記ハウジングの内部に設けられた電気部品であって、少なくともコントローラ、メモリ、及び前記ハウジングの前記前面又は該前面に隣接して設けられたディスプレイを含む電気部品と、
前記ディスプレイ上に設けられるように、前記ハウジングの前記前面又はその上方に設けられたカバー物品であって、前記カバーガラス系物品が、熱強化及び化学強化され、第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面、非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する金属酸化物の濃度を有する第1のCS領域、前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、約0.17・t以上のDOCまで延びるCS領域を有するカバー物品と、
を備え、
携帯電話、ポータブルメディアプレイヤー、ノート型コンピュータ、又はタブレットコンピュータである、電子製品。
消費者向け電子製品であって、
前面、背面、及び側面を有するハウジングと、
少なくとも部分的に前記ハウジングの内部に設けられた電気部品であって、少なくともコントローラ、メモリ、及び前記ハウジングの前記前面又は該前面に隣接して設けられたディスプレイを含む電気部品と、
前記ディスプレイ上に設けられるように、前記ハウジングの前記前面又はその上方に設けられたカバー物品であって、前記カバーガラス系物品が、実施形態1~60いずれか1つに記載のガラス系物品を含むカバー物品と
を含む、電子製品。
第1のガラス系シート、第2のガラス系シート、及び前記第1のガラス系シートと前記第2のガラス系シートとの間に配置された中間層を含むラミネート体であって、
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面、非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する金属酸化物の濃度を有する第1のCS領域、前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、約0.17・t以上のDOCまで延びる領域を有する、ラミネート体。
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方が、冷間形成されている、実施形態71に記載のラミネート体。
第1のガラス系シート、第2のガラス系シート、及び前記第1のガラス系シートと前記第2のガラス系シートとの間に配置された中間層を含むラミネート体であって、
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、実施形態1~60いずれか1つに記載のガラス系物品を含む、ラミネート体。
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方が、冷間形成されている、実施形態74に記載のラミネート体。
開口部及び該開口部に配置されたラミネート体を含む車両であって、
前記ラミネート体が、第1のガラス系シート、第2のガラス系シート、及び前記第1のガラス系シートと前記第2のガラス系シートとの間に配置された中間層を含み、
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面、非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する金属酸化物の濃度を有する第1のCS領域、前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、約0.17・t以上のDOCまで延びる領域を有する、車両。
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方が、冷間形成されている、実施形態76に記載の車両。
前記第1のガラス系シートが複雑に湾曲し、前記ラミネート体の第1の表面を構成する少なくとも1つの凹面、及び前記第1の表面に対向し、前記ラミネート体の第2の表面を構成する少なくとも1つの凸面を含み、それらの間に厚さを有し、
前記第2のガラス系シートが複雑に湾曲し、前記ラミネート体の第3の表面を構成する少なくとも1つの凹面、及び前記第3の表面に対向し、前記ラミネート体の第4の表面を構成する少なくとも1つの凸面を含み、それらの間に厚さを有し、
前記第3及び第4の表面が、各々CS値を有し、前記第4の表面のCS値が、前記第3の表面のCS値より大きい、実施形態76又は実施形態77に記載の車両。
前記第ガラス系基体又は第2のガラス系基体の一方が、約0.2mm~約0.7mmの厚さを有する、実施形態78に記載の車両。
前記ラミネート体の前記第4の表面が、該表面が平坦状態にあるときより大きいCSを有し、前記ラミネート体が光学的歪みを有さない、実施形態78~79いずれか1つに記載の車両。
前記第2のガラス系基体の周辺部分が、前記中間層に圧縮力を加え、前記第2のガラス系基体の中央部分が中間層に対し引張力を加える、実施形態80に記載の車両。
前記第2のガラス系基体が、前記第1のガラス系基体に適合し、前記仲介中間層によって埋められる、前記第2のガラス系基体の前記凸面と前記第1のガラス系基体の前記凹面との間に実質的に均一な距離をもたらす、実施形態81に記載の車両
実施形態83
開口部及び該開口部に配置されたラミネート体を含む車両であって、
前記ラミネート体が、第1のガラス系シート、第2のガラス系シート、及び前記第1のガラス系シートと前記第2のガラス系シートとの間に配置された中間層を含み、
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方又は両方が、実施形態1~60いずれか1つに記載のガラス系物品を含む、車両。
前記第1のガラス系シート及び前記第2のガラス系シートの一方が、冷間形成されている、実施形態83に記載の車両。
前記第1のガラス系シートが複雑に湾曲し、前記ラミネート体の第1の表面を構成する少なくとも1つの凹面、及び前記第1の表面に対向し、前記ラミネート体の第2の表面を構成する少なくとも1つの凸面を含み、それらの間に厚さを有し、
前記第2のガラス系シートが複雑に湾曲し、前記ラミネート体の第3の表面を構成する少なくとも1つの凹面、及び前記第3の表面に対向し、前記ラミネート体の第4の表面を構成する少なくとも1つの凸面を含み、それらの間に厚さを有し、
前記第3及び第4の表面が、各々CS値を有し、前記第4の表面のCS値が、前記第3の表面のCS値より大きい、実施形態83又は実施形態84に記載の車両。
前記第1のガラス系基体又は第2のガラス系基体の一方が、約0.2mm~約0.7mmの厚さを有する、実施形態85に記載の車両。
前記ラミネート体の前記第4の表面が、該表面が平坦状態にあるときより大きいCSを有し、前記ラミネート体が光学的歪みを有さない、実施形態83~86いずれか1つに記載の車両。
前記第2のガラス系基体の周辺部分が、前記中間層に圧縮力を加え、前記第2のガラス系基体の中央部分が中間層に対し引張力を加える、実施形態87に記載の車両。
前記第2のガラス系基体が、前記第1のガラス系基体に適合し、前記仲介中間層によって埋められる、前記第2のガラス系基体の前記凸面と前記第1のガラス系基体の前記凹面との間に実質的に均一な距離をもたらす、実施形態88に記載の車両。
前記ガラス系物品の表面で測定したとき、約8N以上のヌープ引掻き閾値を更に示す、実施形態83~89いずれか1つに記載の車両。
前記ガラス系物品の表面で測定したとき、約120N以上のビッカース亀裂開始閾値を更に示す、実施形態83~90いずれか1つに記載の車両。
14 中間層
301 第1の表面
304 第1のCS領域
306 第2のCS領域
308 CT領域
310 熱強化領域
312 DOC
320 化学強化領域
322、570 DOL
410 ガラス系物品
410a 表面
420 支持リング
430 ローディングリング
500、1310 ガラス系物品
510 第1の表面
520 第2の表面
550 内部部分
560 応力プロファイル
5100 電子装置
5102 ハウジング
5110 ディスプレイ
5112カバー基体
Claims (26)
- ガラス系物品であって、
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する、金属酸化物の濃度を有する第1の圧縮応力(CS)領域と、
前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、前記第1の表面から測定したとき、0.17・t以上の圧縮深さ(DOC)まで延びる領域を有し、
℃単位の軟化温度Tsoft、℃単位のアニーリング温度Tanneal、及びTfsで示される、ガラスシートの前記第1の表面で測定される表面仮想温度であって、℃単位及び(Tfs-Tanneal)/(Tsoft-Tanneal)で与えられる無次元の表面仮想温度パラメータθSで表された場合の仮想温度を有するガラスを含み、前記パラメータθSが0.20~0.9であり、
前記第1の表面が、10×10μmの領域にわたり、0.2~1.5nmのRa粗さを有する、物品。 - 前記金属酸化物が、Na2O、K2O、Rb2O、及びCs2Oのいずれか1種を含む、請求項1に記載のガラス系物品。
- 前記金属酸化物がK2Oを含む、請求項2に記載のガラス系物品。
- 前記金属酸化物がNa2Oを含む、請求項2に記載のガラス系物品。
- 中央張力(CT)領域を更に有し、前記第2のCS領域と前記CT領域の少なくとも一部が、同じガラス組成を有する、請求項1に記載のガラス系物品。
- 前記金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、0・tを超え、0.17・t未満の範囲の深さまで、前記厚さの前記一部に沿って変化する、請求項1に記載のガラス系物品。
- 前記金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、0.01・tを超え、0.1・tの範囲の深さまで、前記厚さの前記一部に沿って変化する、請求項1に記載のガラス系物品。
- 前記厚さtが1.2mm未満である、請求項1に記載のガラス系物品。
- 400MPa以上の表面CSを更に有する、請求項1に記載のガラス系物品。
- 8N以上のヌープ引掻き閾値を更に示す、請求項1に記載のガラス系物品。
- 120N以上のビッカース亀裂開始閾値を更に示す、請求項1に記載のガラス系物品。
- 前記第1の表面で測定した前記表面仮想温度が、前記ガラスの転移温度より少なくとも50℃高い、請求項1に記載のガラス系物品。
- DOLにおいて、150MPa以上のCS値を更に有する、請求項1に記載のガラス系物品。
- ガラス系物品であって、
第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面と、
非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する第1の金属酸化物の濃度、及び第2の金属酸化物を含む第1の圧縮応力(CS)領域と、
前記第1のCS領域の前記第2の金属酸化物を含み、前記第1の金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、前記第1の表面から測定したとき、0.17・t以上の圧縮深さ(DOC)まで延びる第2のCS領域を有し、
℃単位の軟化温度Tsoft、℃単位のアニーリング温度Tanneal、及びTfsで示される、ガラスシートの前記第1の表面で測定される表面仮想温度であって、℃単位及び(Tfs-Tanneal)/(Tsoft-Tanneal)で与えられる無次元の表面仮想温度パラメータθSで表された場合の仮想温度を有するガラスを含み、前記パラメータθSが0.20~0.9であり、
前記第1の表面が、10×10μmの領域にわたり、0.2~1.5nmのRa粗さを有する、物品。 - 前記第1の金属酸化物が、第1の直径を有する第1の金属イオンを含み、前記第2の金属酸化物が、第2の直径を有する第2の金属イオンを含み、前記第2の直径が、前記第1の直径より小さい、請求項14に記載のガラス系物品。
- 前記第1の金属酸化物がK2Oを含み、前記第2の金属酸化物がNa2Oを含む、請求項15に記載のガラス系物品。
- 中央張力(CT)領域を更に有し、前記第2のCS領域と前記CT領域の少なくとも一部が同じガラス組成を有する、請求項14に記載のガラス系物品。
- 前記第1の金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、0・tを超え、0.17・t未満の範囲の深さまで、前記厚さの一部に沿って変化する、請求項14に記載のガラス系物品。
- 前記第1の金属酸化物の濃度が、非ゼロかつ前記第1の表面から、0.01・tを超え、0.1・tの範囲の深さまで、前記厚さの一部に沿って変化する、請求項14に記載のガラス系物品。
- 前記厚さtが2mm未満である、請求項14に記載のガラス系物品。
- 600MPa以上の表面CSを更に有する、請求項14に記載のガラス系物品。
- 8N以上のヌープ引掻き閾値を更に示す、請求項14に記載のガラス系物品。
- 120N以上のビッカース亀裂開始閾値を更に示す、請求項14に記載のガラス系物品。
- 前記第1の表面で測定した前記表面仮想温度が、前記ガラスの転移温度より少なくとも50℃高い、請求項14に記載のガラス系物品。
- DOLにおいて、150MPa以上のCS値を更に有する、請求項14に記載のガラス系物品。
- 消費者向け電子製品であって、
前面、背面、及び側面を有するハウジングと、
少なくとも部分的に、前記ハウジングの内部に設けられた電気部品であって、少なくともコントローラ、メモリ、及び前記ハウジングの前記前面又は該前面に隣接して設けられたディスプレイを含む電気部品と、
前記ディスプレイ上に設けられるように、前記ハウジングの前記前面又はその上方に設けられたカバー物品であって、前記カバー物品が、熱強化及び化学強化され、第1の表面及び該表面に対向して厚さ(t)を画成する第2の表面、非ゼロかつ前記厚さの一部に沿って変化する金属酸化物の濃度を有する第1のCS領域、前記第1のCS領域の前記金属酸化物を実質的に含まない第2のCS領域であって、前記第1のCS領域から、約0.17・t以上のDOCまで延びるCS領域を有する前記カバー物品を備え、
℃単位の軟化温度Tsoft、℃単位のアニーリング温度Tanneal、及びTfsで示される、ガラスシートの前記第1の表面で測定される表面仮想温度であって、℃単位及び(Tfs-Tanneal)/(Tsoft-Tanneal)で与えられる無次元の表面仮想温度パラメータθSで表された場合の仮想温度を有するガラスを含み、前記パラメータθSが0.20~0.9であり、
前記第1の表面が、10×10μmの領域にわたり、0.2~1.5nmのRa粗さを有し、
携帯電話、ポータブルメディアプレイヤー、ノート型コンピュータ、又はタブレットコンピュータである、電子製品。
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