JP2000172202A

JP2000172202A - 平板型画像表示装置およびその製造方法

Info

Publication number: JP2000172202A
Application number: JP36604198A
Authority: JP
Inventors: Tomokazu Ando; 友和安藤
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1998-12-09
Filing date: 1998-12-09
Publication date: 2000-06-23

Abstract

(57)【要約】【課題】薄くて軽い平板型画像表示装置を簡便にかつ
低コストで提供する。【解決手段】ガラス材からなる前面基板２０１と背面
基板２０２を対向させてそれらの間に密閉空間を形成す
ることにより製造される密閉容器２０６を有する平板型
画像表示装置またはその製造方法において、前面基板ま
たは背面基板に機械的強度を強化した強化領域２１８を
設ける。強化領域は前面基板または背面基板の外表面あ
るいは前面基板または／および背面基板の外表面の全面
または一部分であり、強化は風冷強化または化学強化に
より行なう。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、テレビジョン受像
機あるいはコンピュータ等のディスプレイ、メッセージ
ボード等のような文字または画像の表示装置として使用
される平板型画像表示装置およびその製造方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】平板型画像表示装置は、室内等に設置し
たときにかさばらず、外観的な体裁がよいことや、各種
機器類に組み込むにもコンパクトで収容効率がよいこと
等の利点があり、テレビジョン受像機あるいはコンピュ
ータ等のディスプレイ、メッセージボード等のような文
字または画像の表示装置として利用され、設置自由度の
高さより、壁掛けや天井へのはめ込み等が行なわれてい
る。

【０００３】近年、平板型画像表示装置として、フィラ
メントからの熱電子放出を用いた蛍光表示管（以下ＶＦ
Ｄと呼称する）をはじめとし、電界電子放出を利用した
電界放出型ディスプレイ（以下ＦＥＤと呼称する）、表
面伝導型電子放出素子を利用した表面伝導型電子放出デ
ィスプレイ（以下ＳＥＤと呼称する）等の電子放出を利
用した平板型画像表示装置、ガス放電型素子を用いたプ
ラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと呼称する）等
が生産され、利用されている。

【０００４】図１６は、上述した平板型画像表示装置の
中の１つであるＳＥＤの従来例を説明するための図であ
る。図１６は、密閉された容器である真空容器の断面図
であり、図１７のＡ−Ａ断面図でもある。図中、１０１
は蛍光体１０４を搭載した前面基板、１０２は前面基板
１０１に対向して配置され、表面伝導型電子放出素子と
呼ばれる電子源１０５を搭載した背面基板、１０３は前
面基板１０１と背面基板１０２の間に配置された外枠、
１０７は前面基板１０１、背面基板１０２および外枠１
０３と共に気密な真空容器を形成する封止部材の役割を
果たすフリットガラス、１０６は前面基板１０１、背面
基板１０２、外枠１０３およびフリットガラス１０７で
構成される真空容器である。真空容器１０６の内部の圧
力は１×１０^-6Ｔｏｒｒ以下の高真空であり、不図示の
ゲッタによって高真空が維持されている。上述の平面型
画像表示装置や真空容器に関する具体的技術は、特開平
７−２３５２５５号公報等に開示されている。

【０００５】真空容器１０６において、容器内部の圧力
と容器外部の差圧がほぼ大気圧と同じ１００［ｋＰａ］
であるために、真空容器１０６の外表面には０．１［Ｍ
Ｐａ］の圧力が一様に印加されることとなり、真空容器
が変形する。そして、特に前面基板１０１と背面基板１
０２においては引っ張り応力が発生する。

【０００６】図１７は、前面基板１０１の外表面に発生
する引っ張り応力の分布を示す。図中、１０８は最も引
っ張り応力が大きい領域であり、外枠１０３の各辺中央
部上に位置する。構造的に真空容器１０６に発生する引
っ張り応力が大きくなると、装置の利用者が誤って物を
ぶつけてしまった等による加傷により基板にクラックが
入りやすくなる。クラックの発生によって真空がリーク
することにより画像表示装置として機能しなくなる。

【０００７】前面基板１０１と背面基板１０２の真空部
分の一辺の長さが例えば５０［ｍｍ］程度の比較的小型
の真空容器の場合には、３［ｍｍ］程度の厚さのガラス
基板を前面基板１０１および背面基板１０２に用いて
も、それぞれの基板に発生する引っ張り応力の最大値は
９［ＭＰａ］である。一方、基板ガラスの平均破壊応力
の５０［ＭＰａ］に対して安全率を５としたときの許容
応力は１０［ＭＰａ］であるので、真空容器１０６は安
全である。また、画面サイズ３インチ（対角）程度の真
空容器は、３［ｍｍ］厚さの基板を用いた際のほぼ最大
の真空容器である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
画面サイズ５インチ（対角）以上の真空容器を製造しよ
うとする場合には、前面基板１０１と背面基板１０２に
発生する引っ張り応力が大きくなることにより、クラッ
クの発生を回避するために、前面基板１０１と背面基板
１０２の基板厚さを数十［ｍｍ］とする必要性が生じ
る。厚い基板を利用することで真空容器の重量は増加
し、厚くなり、ひいては、平板型画像表示装置も厚く、
重くなってしまい、壁掛けＴＶ等で利用するには不向き
となる。また、材料費も上昇する。

【０００９】また、大面積の平板型画像表示装置に用い
る真空容器では、前面基板１０１と背面基板１０２の間
に大気圧支持用の支柱を挿入することにより大面積化が
可能であるが、製造工程が複雑になるとともに、製造コ
ストが高くなる。

【００１０】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、大面積でも薄くて軽い平板型画像表示装置
を提供すること、さらにはこれを簡便にかつ低コストで
提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明では、ガラス材からなる前面基板と背面基板を対
向させてそれらの間に密閉空間を形成することにより製
造される密閉容器を有する平板型画像表示装置におい
て、前記前面基板または背面基板に機械的強度を強化し
た強化領域を有することを特徴とする。

【００１２】また、ガラス材からなる前面基板と背面基
板を対向させてそれらの間に密閉空間を形成することに
より密閉容器を製造する工程を有する平板型画像表示装
置の製造方法において、前記前面基板または背面基板に
機械的強度を強化した強化領域を形成する工程を具備す
ることを特徴とする。

【００１３】これによれば、前面基板または背面基板に
機械的強度を強化した強化領域を形成するようにしたた
め、軽量かつ薄型な真空容器を有する平板型画像表示装
置が得られる。また、従来では真空容器の製造において
支柱を必要としていた画面サイズの平板型画像表示装置
においても、支柱を用いずに、実現可能な厚さの基板を
用いて真空容器が製造される。また、真空容器（または
パネル外囲器）の強度が高まる。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施形態におい
ては、強化領域は前面基板または背面基板の外表面、あ
るいは前面基板または／および背面基板の外表面の全面
または一部分である。また、強化領域は風冷強化または
化学強化により強化する。平板型画像表示装置として
は、ＳＥＤ、ＦＥＤ、ＶＦＤ、ＰＤＰ等が該当する。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の平板型画像表示装置およびそ
の製造方法の具体的な実施例について図面を参照して説
明する。（実施例１）［ＶＦＤを風冷部分強化］図１は第１の実施例に係る平板型画像表示装置とその製
造方法を説明するための概略工程図である。本実施例で
は、文献「蛍光表示管」（岸野隆雄編著；産業図書発
行）第６章の「蛍光表示管の製造工程」に従っている。
２５１は金属部品の組立工程であり、２５２は前面基板
に導電膜を搭載する等の前工程であり、２５３は背面基
板にフィラメント（熱電子源）、グリッド、およびアノ
ードの基本的電極と配線等によって構成される電子源２
０５を搭載する前工程である。２５４は最終組立工程で
あり、金属部品、外枠２０３、前面基板２０１および背
面基板２０２の位置合せ等を行なう工程である。２５５
は封着工程であり、最終組立工程２５４で組み上げられ
たものを焼成によって一体化し、密閉容器である真空容
器を製造する工程である。２５６は真空容器の強化を行
なう強化工程である。２５７は真空容器の内部を真空に
する真空排気工程である。２５８は後工程であり、電子
源に通電を行なうエージング工程である。２５９は駆動
回路組み付け工程であり、駆動が行えるように回路等を
組み付ける工程である。そして、駆動回路組み付け工程
２５９において製造工程が完了し、平面型画像表示装置
が完成する。

【００１６】図２は図１の工程図における封着工程２５
５を経た真空容器の断面図である。図中、２０１は前工
程２５２を経た前面基板、２０２は前面基板２０１に対
向して配置された、前工程２５３を経た背面基板、２０
３は前面基板２０１と背面基板２０２の間に配置された
外枠、２１５は前面基板２０１、背面基板２０２および
外枠２０３と共に気密な真空容器を形成する封止部材の
役割を果たすフリットガラス、２０４は、前工程２５２
を経て前面基板２０１上に搭載された導電膜である。２
０５は前工程２５３を経て背面基板２０２上に搭載され
た電子源である。２０６は前面基板２０１、背面基板２
０２、外枠２０３、フリットガラス２１５および部品組
立工程２５１を経た金属部品（不図示）より構成され、
最終組立工程２５４と封着工程２５５を経て製造された
真空容器である。

【００１７】前面基板２０１と背面基板２０２と外枠２
０３には、共に日本板硝子社製の青板ガラス（軟化点温
度７３０℃、歪点温度５００℃、熱膨張係数９０×１０
^-7［／℃］、ヤング率７３［ＧＰａ］、ポアソン比０．
２３）を用い、フリットガラス２１５には日本電気硝子
社製ディスプレイパネル封着用ガラスである結晶性のフ
リットガラスＬＳ−７１０５（軟化点温度４５０℃）を
用いた。前面基板２０１の厚さは２［ｍｍ］、背面基板
２０２の厚さは従来例（図１６）と同じ３［ｍｍ］であ
り、真空容器２０６の内部の大きさは一辺の長さが５０
［ｍｍ］、基板間距離は５［ｍｍ］である。

【００１８】図３は、前面基板２０１の部分強化を行な
う領域を説明するための図である。図中、２０８は部分
強化領域であり、図１７に示される従来例の引っ張り応
力が大きい領域１０８に相当する領域である。部分強化
領域２０８は、大きさが長手方向２５［ｍｍ］、短手方
向１０［ｍｍ］の楕円形状であり、４箇所に設定する。
以上の構成および図１の工程図に従い、真空容器２０６
を製造し、ガラスハンドブック（朝原書店発行）に記載
されている部分強化の方法に従って、真空容器２０６の
部分強化領域２０８を風冷によって部分強化した。図４
は、真空容器２０６の強化領域２０８に対して風冷強化
を行なった後の真空容器２０６の断面図であり、図３の
Ｂ−Ｂ断面図である。図中、２１８は部分強化された領
域である。図５は、部分強化された領域２０８の中の代
表的な点である点ｂにおける風冷強化処理後の基板厚さ
方向の応力分布を表わす図である。図中、２３１は残留
応力分布であり、外表面では圧縮応力層が形成され、内
表面で引っ張り応力層が形成されている。

【００１９】次に、真空排気工程２５７において、真空
容器２０６の内部を真空に引いた。これによって、図５
に示すような大気圧による応力分布２３２が発生する
が、風冷強化処理によって残留した応力の効果により、
点ｂに発生する真空排気工程後の真空容器２０６におけ
る応力分布２３３は、残留応力分布２３１と大気圧によ
る応力分布２３２を足し合せた分布となる。また、図５
に示した応力分布は点ｂに限定されるものではなく、強
化領域２０８内においては全域で点ｂとほぼ同等であ
る。

【００２０】すなわち、前面基板２０１の板厚が従来例
より１［ｍｍ］薄く、気圧差１００［ｋＰａ］によって
発生する引っ張り応力は実線で示すように最大で２０
［ＭＰａ］であったが、残留応力として一点鎖線で示す
ような最大１０［ＭＰａ］の圧縮応力を与えたため、点
線で示すように差し引き１０［ＭＰａ］の引っ張り応力
が点ｂの外表面に発生した。つまり、従来とほぼ同じ性
能を有する真空容器を製造することができた。なお、上
述の前面基板２０１の点ｂ表面におけるそれぞれの応力
値は、ひずみゲージを用いて試行を繰り返し、風冷時の
冷却条件を最適として実施した場合の応力値である。

【００２１】その後、前述のように図１の工程図に沿っ
て後工程２５８、および駆動回路組み付け工程２５９等
の工程を行なってＶＦＤを製造し、平板型画像表示装置
を完成し、画像表示に成功した。

【００２２】本実施例では上記構成によって真空容器２
０６について、約２割の軽量化と薄型化を達成し、その
結果、平板型画像表示装置の１つであるＶＦＤの軽量化
と薄型化を実現した。

【００２３】また、本実施例ではフィラメントの熱電子
源からの電子放出を利用したＶＦＤで本発明を実現した
が、平板型画像表示装置の種類はこれに限定されるもの
ではない。すなわち、ＳＥＤあるいはＦＥＤ等の電子源
を利用した平板型画像表示装置のガラスを用いた真空容
器、またはガラスを用いるＰＤＰ等の平板型画像表示装
置の製造においても同等の効果を得た。

【００２４】（実施例２）［ＰＤＰを風冷全面強化］図６は第２の実施例に係る平板型画像表示装置とその製
造方法を説明するための概略工程図である。本実施例は
既存のＰＤＰ技術に基づいている。図中、３３１は前面
基板３０１に表示電極、誘電体層、誘電体保護膜等を搭
載する前工程であり、３３２は背面基板３０２にアドレ
ス電極、隔壁、蛍光体層等を搭載する前工程である。３
３３は前面基板３０１および背面基板３０２を位置合せ
して一体化する一体化工程であり、これによって密閉容
器であるパネル外囲器３１０が完成する。３３４はパネ
ル外囲器３１０の強化工程である。３３５はガス充填工
程であり、放電空間３０５に放電ガスを充填する工程で
ある。続いて行なわれる後工程３３６では数時間にわた
って全面点燈を行なうエージング等を行なう。そして、
３３７は駆動回路の組み付け工程であり、この工程にお
いて駆動回路等と電気的な接続等を行なうことによっ
て、ＰＤＰの製造が完了し、平面型画像表示装置が完成
する。

【００２５】図７は、ＰＤＰのパネル外囲器３１０の概
略断面図である。図中、３０１は前工程３３１を経た前
面基板であり、３０２は前面基板３０１と対向して配置
された、前工程３３２を経た背面基板である。３０４は
前面基板３０１と背面基板３０２の間隙に配置された障
壁であり、前工程３３２において形成されたものであ
る。３０５はガス充填工程３３５で放電ガスが充填され
る放電空間である。３０３は前面基板３０１と背面基板
３０２を気密に接着する封止手段であるフリットガラス
であり、３１０は前面基板３０１、背面基板３０２およ
びフリットガラス３０３によって構成され、一体化工程
３３３を経て形成されたパネル外囲器である。

【００２６】前面基板３０１と背面基板３０２は、とも
に日本板硝子社製の青板ガラスであり、軟化点温度は７
３０℃である。フリットガラス３０３としては、日本電
気硝子社製ディスプレイパネル封着用ガラスである結晶
性のフリットガラスＬＳ−７１０５（軟化点温度は４５
０℃）を用いている。

【００２７】以上の構成および工程に従い、既存のＰＤ
Ｐの製造方法に基づいてパネル外囲器３１０を製造し、
パネル外囲器３１０の強化工程３３４において、前面基
板３０１と背面基板３０２の外側表面に強化処理を施し
た。強化処理に際しては、ガラスハンドブック（朝原書
店発行）に記載されている風冷強化の方法に従い、パネ
ル外囲器３１０を板ガラスに置き換えて風冷強化を行な
った。その際、表面での圧縮残留応力としては１０［Ｍ
Ｐａ］を与えた。なお、望ましい残留応力値は平板型画
像表示装置として利用する際の設置場所に依存し、一般
家庭であれば１〜１０［ＭＰａ］、屋外利用であれば１
〜２０［ＭＰａ］が望ましい。図８は強化工程３３４を
経たパネル外囲器３１０の断面図である。図中、３１８
は強化された領域である。

【００２８】次に、後工程３３６、さらに駆動回路組み
付け工程３３７を経て、ＰＤＰを完成し、画像表示に成
功した。

【００２９】本実施例によれば、風冷強化によってパネ
ル外囲器３１０は強化されるため、平板型画像表示装置
として利用しているときに誤って物をぶつけた場合、も
しくは屋外で利用中に石等がぶつかった場合でもクラッ
ク発生による真空リークがおきにくい平板型画像表示装
置を製造することができる。

【００３０】本実施例ではＰＤＰを製造することで本発
明を実現したが、平板型画像表示装置の種類はこれに限
定されるものではなく、ＳＥＤ、ＦＥＤ、ＶＦＤ等の電
子源を利用した平板型画像表示装置の真空容器の製造に
おいても同等の効果を得た。

【００３１】（実施例３）［ＳＥＤを化学強化］図９は第３の実施例に係る平板型画像表示装置の製造方
法を説明するための概略工程図である。図中、４３１は
前面基板４０１に蛍光体、透明電極等を搭載する前工程
であり、４３２は背面基板４０２に表面伝導型電子放出
素子の電子源等を搭載する前工程である。４３３は前面
基板４０１、背面基板４０２および外枠４０３を所定の
位置に合わせた後にフリットガラスを用いて一体化する
封着工程であり、これにより、密閉容器である真空容器
４０６が完成する。４３４は真空容器を強化する真空容
器の強化工程である。４３５は強化された真空容器内部
を真空に排気する真空排気工程であり、続く４３６は、
活性化、エージング等の電子源に対する工程を行なう後
工程であり、その後、駆動回路組み付け工程４３７によ
って駆動回路等と電気的な接続等を行なうことにより、
平板型画像表示装置の製造が完了し、平板型画像表示装
置が完成する。

【００３２】図１０は、図９の製造工程図に基づいて封
着工程４３３を経た真空容器４０６の断面図である。図
中、４０１は前工程４３１を経た前面基板、４０２は前
面基板４０１に対向して配置された、前工程４３２を経
た背面基板、４０３は前面基板４０１と背面基板４０２
の間に配置された外枠、４１５は前面基板４０１、背面
基板４０２および外枠４０３と共に気密な真空容器を形
成する封止部材の役割を果たすフリットガラス、４０６
は前面基板４０１、背面基板４０２、外枠４０３および
フリットガラス４１５により構成される真空容器であ
る。

【００３３】前面基板４０１、背面基板４０２および外
枠４０３にはいずれも日本板硝子社製の青板ガラス（軟
化点温度７３０℃、歪点温度５００℃、熱膨張係数９０
×１０^-7［／℃］、ヤング率７３［ＧＰａ］、ポアソン
比０．２３）を用い、フリットガラス４１５には日本電
気硝子社製ディスプレイパネル封着用ガラスである結晶
性のフリットガラスＬＳ−７１０５（軟化点温度４５０
℃）を用いている。前面基板４０１と背面基板４０２の
厚さは、図１６の従来例と同じ３［ｍｍ］であり、真空
容器４０６の内部の大きさは一辺の長さが９０［ｍ
ｍ］、基板間距離は２［ｍｍ］である。

【００３４】上記構成および製造工程に従って真空容器
４０６を製造し、強化工程４３４において、その背面基
板４０２の外表面を化学強化、中でも低温型イオン交換
法によって強化処理することにより真空容器４０６の強
化を行なった。なお、強化処理はガラスハンドブック
（朝原書店発行）に記載されている化学強化工程（低温
型イオン交換）に従って行なった。

【００３５】図１１〜図１４は、真空容器４０６の強化
工程４３４を説明するための図である。図中、４２１は
溶融塩である硝酸カリ溶融塩４２２を４５０℃に加熱す
る炉であり、４２０は真空容器４０６の周囲を支持し、
背面基板４０２を溶融塩４２２に浸けるための支持部材
である。図１１は、真空容器４０６を、支持部材４２０
によって支持し、炉４２１によって背面基板４０２の転
移温度を超えない温度である４５０℃に加熱された硝酸
カリ溶融塩４２２に浸ける前の様子を示している。硝酸
カリ溶融塩４２２に浸けるためには、本実施例では支持
部材４２０を下げるが、この代わりに硝酸カリ溶融塩４
２２の液面を上昇させてもかまわない。図１２は、背面
基板４０２の外表面を硝酸カリ溶融塩４２２に浸け、強
化処理を行なっている工程を示す。図１３は、背面基板
４０２を硝酸カリ溶融塩４２２より引き上げて、外表面
の強化処理を終えた時点を示す。図中の４１８は強化さ
れた領域である。前面基板４０１に対しても同様の工程
を行なうことによって、前面基板４０１の外表面の強化
処理を行なう。

【００３６】図１４は、強化工程４３４が完了した真空
容器４０６を示す。背面基板４０２および前面基板４０
１は、外表面の強化処理が完了して強化された領域４１
８を有する。化学強化処理により、基板ガラス中に含ま
れるＮａプラスイオンと溶融塩中のＫプラスイオンが交
換されている。なお、ガラスの化学強化処理には、この
他、低温イオン交換による方法としてガラス中のＬｉプ
ラスイオンと溶融塩のＮａプラスイオンを交換する方法
等があり、その他には、高温型イオン交換による方法等
もあり、これらによっても本実施例と同等の効果が得ら
れる。

【００３７】図１５は強化工程４３４での化学強化処理
によって基板ガラスに発生した厚さ方向の残留応力の分
布を示す図である。同図に示すように、表面部分の４０
μｍで約３００［ＭＰａ］の圧縮応力層が形成された。

【００３８】さらに、図９の製造工程に従い、真空排気
工程４３５において、内部を真空にしたところ、気圧差
１００［ｋＰａ］によって３１［ＭＰａ］の引っ張り応
力が発生した。しかしながら、残留応力として約３００
［ＭＰａ］の圧縮応力が存在するため、差し引き約２７
０［ＭＰａ］の圧縮応力が発生することになり、割れに
くく、従来と同レベルの安全性を有する真空容器を製造
することができた。すなわち、従来技術によれば、厚さ
３［ｍｍ］の基板ガラスを利用した場合には真空容器の
大きさは一辺５０［ｍｍ］が限界であったが、本実施例
によれば、化学強化を施すことによって、大気圧を支持
するための支柱を用いずに、同じ３［ｍｍ］厚さの基板
を利用して、一辺９３［ｍｍ］の真空容器が可能となっ
たのである。続いて、後工程４３６および駆動回路組み
付け工程４３７を経て、平板型画像表示装置を完成し、
画像表示に成功した。

【００３９】本実施例では、平板型画像表示装置のガラ
スで構成される真空容器を製造する工程において、真空
容器を構成する前面基板と背面基板の外表面に化学強化
処理を施すことにより、従来より大型の真空容器を製造
し、従来より大きな画面を有する平板型画像表示装置を
製造することを、スペーサを用いないで実現した。つま
り、従来と同じように安全であり、かつ、スペーサを利
用せずに従来より大面積である平板型画像表示装置を安
価に製造することを実現した。

【００４０】なお、本実施例では、表面伝導電子放出を
利用したＳＥＤで本発明を実現したが、本発明におい
て、平板型画像表示装置の種類はこれに限定されるもの
ではない。本発明は、ＶＦＤ、ＦＥＤ等の電子源を利用
した平板型画像表示装置の真空容器、ＰＤＰを利用した
平板型画像表示装置等の製造においても同等の効果を有
する。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、軽
量かつ薄型な真空容器を有する軽量かつ薄型の平板型画
像表示装置を提供することができる。また、装置の薄型
化による部材のコストダウンを実現することができる。
また、従来では真空容器の製造において支柱を必要とし
ていた画面サイズの平板型画像表示装置を、支柱を用い
ずに、低コストで製造することができる。さらに、前面
基板の安全性において、従来と同レベルの安全性を有す
る平板型画像表示装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例に係る平板型画像表示
装置の製造方法を説明するための概略工程図である。

【図２】図１中の封着工程を経た真空容器の断面図で
ある。

【図３】図１中の強化工程において前面基板の部分強
化を行なう領域を説明するための上面図である。

【図４】図１中の強化工程において真空容器の強化領
域に対して風冷強化を行なった後の真空容器の断面図で
ある。

【図５】図１中の強化工程において部分強化された領
域の中の代表的な点における基板厚さ方向の応力分布を
表わす図である。

【図６】本発明の第２の実施例に係る平板型画像表示
装置の製造方法を説明するための概略工程図である。

【図７】図６の工程において製造されるプラズマディ
スプレイパネルのパネル外囲器の概略断面図である。

【図８】図６中の強化工程を経たパネル外囲器の断面
図である。

【図９】本発明の第３の実施例に係る平板型画像表示
装置の製造方法を説明するための概略工程図である。

【図１０】図９の製造工程に基づいて封着工程を経た
真空容器の断面図である。

【図１１】図９中の強化工程において真空容器の背面
基板の化学強化処理を行なう前の様子を示す断面図であ
る。

【図１２】図９中の強化工程において背面基板の化学
強化処理を行なっている工程を示す断面図である。

【図１３】図９中の強化工程における背面基板の化学
強化処理が完了した様子を示す断面図である。

【図１４】図９中の強化工程による化学強化処理が完
了した真空容器の断面図である。

【図１５】図９中の強化工程での化学強化処理後の基
板の応力分布を示す図である。

【図１６】従来の平板型画像表示装置を説明するため
の真空容器の断面図である。

【図１７】図１６の真空容器の前面基板の応力分布を
示す図である。

【符号の説明】

１０１：蛍光体１０４を搭載した前面基板、１０２：背
面基板、１０３：外枠、１０４：蛍光体、１０５：電子
源、１０６：真空容器、１０７：フリットガラス、１０
８：最も引っ張り応力が大きい領域、２０１：前面基
板、２０２：背面基板、２０３：外枠、２０４：透明導
電膜、２０５：電子源、２０６：真空容器、２０８：部
分強化領域、２１５：フリットガラス、２３１：残量応
力分布、２３２：大気圧による応力分布、２３３：真空
排気後の応力分布、２５１：部品組立工程、２５２：前
面基板２０１に対する前工程、２５３：背面基板２０２
に対する前工程、２５４：最終組立工程、２５５：封着
工程、２５６：真空容器２０６の強化工程、２５７：真
空排気工程、２５８：後工程、２５９：駆動回路組み付
け工程、３０１：前面基板、３０２：背面基板、３０
３：フリットガラス、３０４：障壁、３０５：放電空
間、３１０：パネル外囲器、３１８：強化された領域、
３３１：全面基板３０１の前工程、３３２：背面基板３
０２の前工程、３３３：一体化工程、３３４：パネル外
囲器３１０の強化工程、３３５：ガス充填工程、３３
６：後工程、３３７：駆動回路組み付け工程、４０１：
前面基板、４０２：背面基板、４０３：外枠、４０６：
真空容器、４１５：フリットガラス、４１８：強化され
た領域、４２０：支持部材、４２１：炉、４２２：硝酸
カリ溶融塩、４３１：前面基板４０１の前工程、４３
２：背面基板４０２の前工程、４３３：封着工程、４３
４：真空容器４０６の強化工程、４３５：真空排気工
程、４３６：後工程、４３７：駆動回路組み付け工程。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス材からなる前面基板と背面基板を
対向させてそれらの間に密閉空間を形成することにより
製造される密閉容器を有する平板型画像表示装置におい
て、前記前面基板または背面基板に機械的強度を強化し
た強化領域を有することを特徴とする平板型画像表示装
置。
【請求項２】前記強化領域は前記前面基板の外表面で
あることを特徴とする請求項１に記載の平板型画像表示
装置。
【請求項３】前記強化領域は前記背面基板の外表面で
あることを特徴とする請求項１に記載の平板型画像表示
装置。
【請求項４】前記強化領域は前記前面基板または／お
よび背面基板の外表面の全面であることを特徴とする請
求項１〜３のいずれか１項に記載の平板型画像表示装
置。
【請求項５】前記強化領域は前記前面基板または／お
よび背面基板の外表面の一部分であることを特徴とする
請求項１〜３のいずれか１項に記載の平板型画像表示装
置。
【請求項６】前記強化領域は風冷強化により強化した
領域であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１
項に記載の平板型画像表示装置。
【請求項７】前記強化領域は化学強化により強化した
領域であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１
項に記載の平板型画像表示装置。
【請求項８】表面伝導型電子放出ディスプレイである
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の
平板型画像表示装置。
【請求項９】電界放出型電子放出ディスプレイである
ことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の
平板型画像表示装置。
【請求項１０】蛍光表示管であることを特徴とする請
求項１〜７のいずれか１項に記載の平板型画像表示装
置。
【請求項１１】プラズマディスプレイであることを特
徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の平板型画
像表示装置。
【請求項１２】ガラス材からなる前面基板と背面基板
を対向させてそれらの間に密閉空間を形成することによ
り密閉容器を製造する工程を有する平板型画像表示装置
の製造方法において、前記前面基板または背面基板に機
械的強度を強化した強化領域を形成する工程を具備する
ことを特徴とする平板型画像表示装置の製造方法。
【請求項１３】前記強化領域は前記前面基板の外表面
であることを特徴とする請求項１２に記載の平板型画像
表示装置の製造方法。
【請求項１４】前記強化領域は前記背面基板の外表面
であることを特徴とする請求項１２に記載の平板型画像
表示装置の製造方法。
【請求項１５】前記強化領域は前記前面基板または／
および背面基板の外表面の一部分であることを特徴とす
る請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の平板型画像
表示装置の製造方法。
【請求項１６】前記強化領域は前記前面基板または／
および背面基板の外表面の全面であることを特徴とする
請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の平板型画像表
示装置の製造方法。
【請求項１７】前記強化領域を風冷強化により形成す
ることを特徴とする請求項１２〜１６のいずれか１項に
記載の平板型画像表示装置の製造方法。
【請求項１８】前記強化領域を化学強化により形成す
ることを特徴とする請求項１２〜１６のいずれか１項に
記載の平板型画像表示装置の製造方法。
【請求項１９】前記平板型画像表示装置は表面伝導型
電子放出ディスプレイであることを特徴とする請求項１
２〜１８のいずれか１項に記載の平板型画像表示装置の
製造方法。
【請求項２０】前記平板型画像表示装置は電界放出型
電子放出ディスプレイであることを特徴とする請求項１
２〜１８のいずれか１項に記載の平板型画像表示装置の
製造方法。
【請求項２１】前記平板型画像表示装置は蛍光表示管
であることを特徴とする請求項１２〜１８のいずれか１
項に記載の平板型画像表示装置の製造方法。
【請求項２２】前記平板型画像表示装置はプラズマデ
ィスプレイであることを特徴とする請求項１２〜１８の
いずれか１項に記載の平板型画像表示装置の製造方法。