JP6038860B2 - リン原子修飾核酸の合成方法 - Google Patents

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Description

本明細書は、キラルX−ホスホネート部分を含むリン原子修飾核酸の合成方法について記載する。本明細書に記載の方法は、化学的に安定なH−ホスホネート部分を含むアキラル分子とヌクレオシド/ヌクレオチドとの不斉反応を介して、高いジアステレオマー純度の骨格修飾核酸を提供する。
オリゴヌクレオチドは、治療、診断、研究、および新規なナノ材料の用途において有用である。DNAまたはRNAの天然の配列の使用は、ヌクレアーゼに対するそれらの安定性によって制限される。さらに、インビトロでの研究は、結合親和性、相補的なRNAに対する配列特異的結合性、ヌクレアーゼに対する安定性のようなアンチセンスヌクレオチドの特性が、リン原子の配置によって影響を受けることを示している。従って、当該分野では、リンにおいて立体制御され、そして分解に対して所望の安定性を示す一方、外因性または内因性相補的DNA/RNA配列に対する親和性を保持するオリゴヌクレオチドを生成する方法の必要性が存在する。これらの化合物が、固相支持体上または溶液中において容易に合成され、そしてオリゴヌクレオチドの糖または核酸塩基に対する広範な合成修飾を可能にすることの必要性が存在する。
本明細書は、リン原子修飾ポリマーおよびオリゴマー核酸の立体制御合成を記載し、いくつかの実施形態では、それは、固相支持体上で実施される。
本発明の一態様において、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子と5’−OH部分を含むヌクレオシドを反応させて、縮合中間体を形成させる工程;および前記縮合中間体を、キラルX−ホスホネート部分を含む核酸に変換させる工程を含む、キラルX−ホスホネート部分を含む核酸の合成方法が提供される。
いくつかの実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子と5’−OH部分を含むヌクレオシドを反応させて縮合中間体を形成させる前記工程が、ワンポット反応である方法である。
いくつかの実施形態では、前記方法は、式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸を提供する。
Figure 0006038860
式1の化合物のいくつかの実施形態では、Rは、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−ORまたは−SRである。Yは、O、NR、S、またはSeである。Rは、ブロッキング部分である。Rは、ブロッキング基である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、もしくはヘテロアリール−Y−であるか、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンである。Yは、O、NR、またはSである。Rの各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルまたは修飾核酸塩基である。Xの各例は、独立して、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。Zは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは一価の金属イオンである。Rは、水素、ブロッキング基、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分である;およびnは、1〜約200の整数である。
前記方法のいくつかの実施形態では、式1の化合物の各X−ホスホネート部分は、31P NMR分光法または逆相HPLCによって測定されるとき、ジアステレオマー的に98%を超えて純粋である。前記方法のいくつかの実施形態では、各X−ホスホネート部分は、R配置を有する。前記方法の他の実施形態では、各X−ホスホネート部分は、S配置を有する。前記方法の他の実施形態では、各X−ホスホネートは、独立して、R配置またはS配置を有する。
前記方法のさらなる実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子は、式2の化合物である。
Figure 0006038860
式2において、Rは、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRである。Yは、O、NR、S、またはSeである。Rは、ブロッキング部分である。Rは、ブロッキング基である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。Rの各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−である。Yは、O、NR、またはSである。Rは、水素、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。Baは、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。Zは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいは一価の金属イオンである。
前記方法のいくつかの実施形態では、前記方法は、キラル試薬をさらに含む。前記方法のなお他の実施形態では、キラル試薬は、式3の化合物である。
Figure 0006038860
およびWは、独立して、−NG−、−O−、または−S−である。G、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘタリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、る約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
前記方法のいくつかの実施形態では、5’−OH部分を含むヌクレオシドは、式4の化合物である。
Figure 0006038860
の各例は、独立して、水素、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。Yは、O、NR、S、またはSeである。Rは、ブロッキング基である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。Rの各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−である。Yは、O、NR、またはSである。Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。mは、0〜n−1の整数である。nは、1〜約200の整数である。Oは、トリチル部分、シリル部分、アセチル部分、アシル部分、アリールアシル部分、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分に接続されている。JはOであり、そしてDはHであり、あるいはJはS、Se、もしくはBHであり、そしてDはキラル配位子Cもしくは式A部分である。
Figure 0006038860
式Aにおいて、WおよびWは、独立して、NHG、OH、またはSHである。Aは、水素、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分である。G、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
前記方法のなお他の実施形態では、前記方法は、縮合試薬Cを提供する工程であって、それによって、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子が活性化され、キラル試薬と反応して、キラル中間体を形成する工程をさらに含む。
前記方法のさらなる実施形態では、縮合試薬Cは、ArPL、(ArO)PL
Figure 0006038860
である。
、Z、Z、Z、Z、Z、Z、Z、ZおよびZ10は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであり、あるいは式中、ZとZ、ZとZ、ZとZ、ZとZ、ZとZ、もしくはZとZとZのうちのいずれかは、一緒になって、3〜20員環の脂環またはヘテロ環を形成する。Qは対アニオンであり、Lは脱離基であり、そしてwは0〜3の整数である。Arは、アリール、ヘテロアリールであり、および/またはAr基のうちの1つは、高分子支持体に付着している。前記方法のいくつかの実施形態では、縮合試薬Cの対イオンは、Cl、Br、BF 、PF 、TfO、Tf、AsF 、ClO 、またはSbF であり、ここで、TfはCFSOである。前記方法の他の実施形態では、縮合試薬Cの脱離基は、F、Cl、Br、I、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、アルキルトリアゾール、テトラゾール、ペンタフルオロベンゼン、または1−ヒドロキシベンゾトリアゾールである。
前記方法のいくつかの実施形態では、縮合試薬は、ホスゲン、トリクロロメチルクロロホルメート、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、塩化オキサリル、PhPCl、(PhO)PCl、N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl)、1,3−ジメチル−2−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−イル)−2−ピロリジン−1−イル−1,3,2−ジアザホスホリジニウムヘキサフルオロホスフェート(MNTP)、または3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−イル−トリス(ピロリジン−1−イル)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(PyNTP)である。
Figure 0006038860
前記方法のさらなる実施形態では、前記方法は、活性化試薬Aを提供する工程をさらに含む。一実施形態では、活性化試薬Aは、
Figure 0006038860
であり、式中、Z11、Z12、Z13、Z14、Z15、Z16、Z17、Z18、Z19、Z20、およびZ21は、独立して、水素、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであり、あるいは式中、Z11とZ12、Z11とZ13、Z11とZ14、Z12とZ13、Z12とZ14、Z13とZ14、Z15とZ16、Z15とZ17、Z16とZ17、Z18とZ19、もしくはZ20とZ21のうちいずれかは、一緒になって、3〜20員環の脂環もしくはヘテロ環を形成するか、または5もしくは20員環の芳香環を形成し;ならびにQは対イオンである。ある実施形態では、活性化試薬Aの対イオンは、Cl、Br、BF 、PF 、TfO、Tf、AsF 、ClO 、またはSbF であり、ここで、TfはCFSOである。一実施形態では、活性化試薬Aは、イミダゾール、4,5−ジシアノイミダゾール(DCI)、4,5−ジクロロイミダゾール、1−フェニルイミダゾリウムトリフレート(PhIMT)、ベンゾイミダゾリウムトリフレート(BIT)、ベンズトリアゾール、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール(NT)、テトラゾール、5−エチルチオテトラゾール、5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール、N−シアノメチルピロリジニウムトリフレート(CMPT)、N−シアノメチルピペリジニウムトリフレート、N−シアノメチルジメチルアンモニウムトリフレートである。他の実施形態では、活性化試薬Aは、4,5−ジシアノイミダゾール(DCI)、1−フェニルイミダゾリウムトリフレート(PhIMT)、ベンゾイミダゾリウムトリフレート(BIT)、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール(NT)、テトラゾール、またはN−シアノメチルピロリジニウムトリフレート(CMPT)である。
Figure 0006038860
ある実施形態では、活性化試薬Aは、N−シアノメチルピロリジニウムトリフレート(CMPT)である。
前記方法のいくつかの実施形態では、反応は、非プロトン性有機溶媒中で実施される。前記方法の他の実施形態では、溶媒は、アセトニトリル、ピリジン、テトラヒドロフラン、またはジクロロメタンである。前記方法の他の実施形態では、非プロトン性有機溶媒が塩基性ではない場合、塩基が、前記反応させる工程中に存在する。前記方法のいくつかの実施形態では、塩基は、ピリジン、キノリン、またはN,N−ジメチルアニリンである。前記方法のいくつかの実施形態では、塩基は、
Figure 0006038860
であり、式中、Z22およびZ23は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであり、あるいは式中、Z22とZ23のいずれかは、一緒になって、3〜10員環の脂環もしくはヘテロ環を形成する。前記方法のいくつかの実施形態では、塩基は、N−シアノメチルピロリジンである。前記方法のいくつかの実施形態では、非プロトン性有機溶媒は、無水である。前記方法の他の実施形態では、無水の非プロトン性有機溶媒は、蒸留直後のものである。前記方法のなお他の実施形態では、蒸留直後の無水の非プロトン性有機溶媒は、ピリジンである。前記方法の他の実施形態では、蒸留直後の無水の非プロトン性有機溶媒は、アセトニトリルである。
前記方法のいくつかの実施形態では、縮合中間体を式1の化合物に変換する工程は:縮合中間体を修飾して、式5の化合物を生成する工程を含む。
Figure 0006038860
式5において、Rは、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRである。Yは、O、NR、S、またはSeである。Rは、ブロッキング部分である。Rは、ブロッキング基である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。Rの各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−である。Yは、O、NR、またはSである。Rの各例は、独立して、水素、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。Jの各例は、S、Se、またはBHである。vは、整数1である。Oは、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分に接続されている。Aは、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分である。G、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
前記方法のいくつかの実施形態では、縮合中間体を式1の化合物に変換する工程は:縮合中間体をキャッピングする工程、およびキャッピングされた縮合中間体を修飾して、式5の化合物を生成する工程を含む。
Figure 0006038860
式5において、Rは、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRである。Yは、O、NR、S、またはSeである。Rは、ブロッキング部分である。Rは、ブロッキング基である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。Rの各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−である。Yは、O、NR、またはSである。Rの各例は、独立して、水素、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。Jの各例は、S、Se、またはBHである。vは、2〜n−1の整数である。Oは、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分に接続されている。Aは、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分である。G、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
前記方法のいくつかの実施形態では、方法は、次の工程:(a)式5の化合物のRを脱ブロックして、式4の化合物(式中、mは、少なくとも1であり、JはS、Se、またはBHであり、そしてDは、式Aの部分である)を生成する工程;(b)請求項10に記載の方法を使用して、式4の化合物を反応させる工程であって、ここで、縮合中間体を変換する工程は、縮合中間体をキャッピングする工程、およびキャッピングされた縮合中間体を修飾して、式5の化合物(式中、vは、2より大きく、かつ約200未満である)を生成する工程を含む工程;ならびに(c)場合により、工程(a)および(b)を反復して、式5の化合物(式中、vは、3より大きく、かつ約200未満である)を形成する工程;をさらに含む。
前記方法の他の実施形態では、前記方法は、式5の化合物を式1の化合物(式中、各Ba部分は、ブロックされていない。Rは、−OH、−SH、NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−ORまたは−SRである。Yは、O、NR、S、またはSeである。Rは、ブロッキング部分である。Rは、ブロッキング基である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンである。Yは、O、NR、またはSである。Rの各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。RはHである。Xの各例は、独立して、−S、−Se、または−BH である。Zは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは一価の金属イオンである。)
に変換する工程をさらに含む。
前記方法のいくつかの実施形態では、縮合中間体を式1の化合物に変換する工程は、縮合中間体を酸性化して、式4の化合物(式中、mは少なくとも1であり、JはOであり、そしてDはHである。)を生成する工程を含む。前記方法のいくつかの実施形態では、縮合中間体は、式A’の部分を含む。
Figure 0006038860
Aは水素であり、そしてGおよびGは、独立して、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、そしてG、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
前記方法のいくつかの実施形態では、前記方法はさらに:(a)請求項10に記載の方法を使用して、式4の化合物(式中、mは少なくとも1であり、JはOであり、そしてDはHである)を反応させる工程であって、ここで、縮合中間体を式1の化合物に変換する工程は、縮合中間体を酸性化して、式4の化合物(式中、mは少なくとも2であり、かつ約200未満であり;JはOであり、そしてDはHである)を生成する工程を含む工程、ならびに(b)場合により、工程(a)を反復して、式4の化合物(式中、mは2より大きく、かつ約200未満である)を生成する工程;を含む。
前記方法のいくつかの実施形態では、酸性化する工程は、縮合中間体からプリンもしくはピリミジン部分を除去せずに、縮合中間体を式4の化合物に変換するのに有効な量のブレンステッドまたはルイス酸を添加する工程を含む。前記方法のなお他の実施形態では、酸性化する工程は、有機溶媒中1%トリフルオロ酢酸、有機溶媒中3%ジクロロ酢酸、または有機溶媒中3%トリクロロ酢酸を添加する工程を含む。前記方法のなお他の実施形態では、酸性化する工程は、カチオンスカベンジャーを添加する工程をさらに含む。前記方法のいくつかの実施形態では、カチオンスカベンジャーは、トリエチルシランまたはトリイソプロピルシランである。
前記方法のいくつかの実施形態では、縮合中間体を式1の化合物に変換する工程は、縮合中間体を酸性化する工程に先立って、Rを脱ブロックする工程をさらに含む。
前記方法の他の実施形態では、前記方法は、式4の化合物を修飾して、X部分を導入し、それによって、式1の化合物(式中、Rは、ブロッキング基または固相支持体に接続された連結部分である)を生成する工程をさらに含む。
前記方法のなお他の実施形態では、前記方法は、X修飾化合物を処理して、式1の化合物を生成する工程をさらに含み、式中、Rは、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−ORまたは−SRである。Yは、O、NR、S、またはSeである。Rは、ブロッキング部分である。Rは、ブロッキング基である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンであり;Yは、O、NR、またはSである。Rの各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。各Ba部分は、ブロックされていない。RはHである。Xの各例は、独立して、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH である。Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。Zは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは一価の金属イオンである。nは、1より大きく、かつ約200未満である。
前記方法のいくつかの実施形態では、修飾する工程は、ホウ素化剤、硫黄求電子剤、またはセレン求電子剤を使用して、実施される。
前記方法のいくつかの実施形態では、硫黄求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:
(式B)、Z24−S−S−Z25、またはZ24−S−X−Z25
24およびZ25は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ24およびZ25は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。
前記方法のいくつかの実施形態では、硫黄求電子剤は、式B、C、D、E、またはFの化合物である:
Figure 0006038860
前記方法のいくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:
Se(式G)、Z26−Se−Se−Z27、またはZ26−Se−X−Z27
26およびZ27は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ26およびZ27は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、S、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。
前記方法のいくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、式G、H、I、J、K、またはLの化合物である。
Figure 0006038860
前記方法のいくつかの実施形態では、ホウ素化剤は、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH・DIPEA)、ボラン−ピリジン(BH・Py)、ボラン−2−クロロピリジン(BH・CPy)、ボラン−アニリン(BH・An)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH・MeS)である。
前記方法のいくつかの実施形態では、修飾する工程は、シリル化試薬、続いて、硫黄求電子剤、セレン求電子剤、ホウ素化剤、アルキル化剤、アルデヒド、またはアシル化剤を使用して、実施される。
前記方法のいくつかの実施形態では、シリル化試薬は、クロロトリメチルシラン(TMS−Cl)、トリイソプロピルシリルクロリド(TEPS−Cl)、t−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMS−Cl)、t−ブチルジフェニルシリルクロリド(TBDPS−Cl)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、N−トリメチルシリルジメチルアミン(TMSDMA)、N−トリメチルシリルジエチルアミン(TMSDEA)、N−トリメチルシリルアセトアミド(TMSA)、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA)、またはN,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド(BSTFA)である。
方法のいくつかの実施形態では、硫黄求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:S(式B)、Z24−S−S−Z25、またはZ24−S−X−Z25、式中、Z24およびZ25は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ24およびZ25は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。
前記方法のいくつかの実施形態では、硫黄求電子剤は、式B、C、D、E、またはFの化合物である:
Figure 0006038860
前記方法のいくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:Se(式G)、Z26−Se−Se−Z27、またはZ26−Se−X−Z27、式中、Z26およびZ27は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ26およびZ27は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、S、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。
前記方法のいくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、式G、H、I、J、K、またはLの化合物である:
Figure 0006038860
前記方法のいくつかの実施形態では、ホウ素化剤は、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH・DIPEA)、ボラン−ピリジン(BH・Py)、ボラン−2−クロロピリジン(BH・CPy)、ボラン−アニリン(BH・An)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH・MeS)である。
前記方法のいくつかの実施形態では、アルキル化剤は、アルキルハライド、アルケニルハライド、アルキニルハライド、アルキルスルホネート、アルケニルスルホネート、またはアルキニルスルホネートである。前記方法の他の実施形態では、アルデヒドは、(パラ)−ホルムアルデヒド、アルキルアルデヒド、アルケニルアルデヒド、アルキニルアルデヒド、またはアリールアルデヒドである。
前記方法のいくつかの実施形態では、アシル化剤は、式MまたはNの化合物である。
Figure 0006038860
は、アルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、またはヘテロアリールオキシでり;およびMは、F、Cl、Br、I、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、アルキルトリアゾール、テトラゾール、ペンタフルオロベンゼン、または1−ヒドロキシベンゾトリアゾールである。
前記方法のいくつかの実施形態では、修飾する工程は、ハロゲン化試薬と反応させる工程、続いて、求核剤と反応させる工程によって、実施される。前記方法のいくつかの実施形態では、ハロゲン化試薬は、CCl、CBr、Cl、Br、I、塩化スルフリル(SOCl)、ホスゲン、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、一塩化硫黄、二塩化硫黄、クロラミン、CuCl、N−クロロスクシンイミド(NCS)、CI、N−ブロモスクシンイミド(NBS)、またはN−ヨードスクシンイミド(NIS)である。前記方法の他の実施形態では、求核剤は、NRH、ROH、またはRSHであり、ここで、Rは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールであり、そしてNRHのRのうち少なくとも1つは水素ではない。
前記方法のいくつかの実施形態では、キラル試薬は、式3の化合物(式中、WはNHGであり、そしてWはOHである)である。前記方法のいくつかの実施形態では、キラル試薬は、式Oまたは式Pである。
Figure 0006038860
前記方法のいくつかの実施形態では、キラル試薬は、式Qまたは式Rである。
Figure 0006038860
前記方法のいくつかの実施形態では、Rは、置換もしくは非置換のトリチルまたは置換シリルである。前記方法の他の実施形態では、式中、Rは、置換もしくは非置換のトリチルまたは置換シリルである。前記方法の他の実施形態では、Rは、置換もしくは非置換トリチル、置換シリル、アセチル、アシル、または置換メチルエーテルである。
前記方法のいくつかの実施形態では、Rは、置換トリチル、アシル、置換シリル、または置換ベンジルであるブロッキング基である。前記方法の他の実施形態では、Rは、固相支持体に接続された連結部分である。
前記方法のいくつかの実施形態では、Ba部分のブロッキング基は、ベンジル、アシル、ホルミル、ジアルキルホルムアミジニル、イソブチリル、フェノキシアセチル、またはトリチル部分であり、それらのうちいずれかは、置換されなくてもよく、もしくは置換されてもよい。前記方法のいくつかの実施形態では、Rは、−N、−NR、アルキニルオキシ、または−OHである。前記方法のいくつかの実施形態では、Rは、−N、−NR、アルキニルオキシ、または−OHである。前記方法の他の実施形態では、Rは、−NR、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、そして蛍光部分または生体分子結合部分により置換される。前記方法のなお他の実施形態では、Rは、−NR、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、そして蛍光部分または生体分子結合部分により置換される。
前記方法のいくつかの実施形態では、R上の置換基は、蛍光部分である。前記方法の他の実施形態では、R上の置換基は、ビオチンまたはアビジンである。前記方法のなお他の実施形態では、R上の置換基は、蛍光部分である。前記方法のいくつかの実施形態では、前記R上の置換基は、ビオチンまたはアビジンである。前記方法の他の実施形態では、Rは、−OH、−N、水素、ハロゲン、アルコキシ、またはアルキニルオキシである。前記方法のなお他の実施形態では、Rは、−OH、−N、水素、ハロゲン、アルコキシ、またはアルキニルオキシである。
前記方法のいくつかの実施形態では、Baは、5−ブロモウラシル、5−ヨードウラシル、または2,6−ジアミノプリンである。前記方法の他の実施形態では、Baは、蛍光部分または生体分子結合部分による置換によって修飾される。前記方法のなお他の実施形態では、Baは、蛍光部分または生体分子結合部分による置換によって修飾される。前記方法のいくつかの実施形態では、Ba上の置換基は、蛍光部分である。前記方法の他の実施形態では、Ba上の置換基は、ビオチンまたはアビジンである。前記方法のなお他の実施形態では、Ba上の置換基は、蛍光部分である。前記方法のいくつかの実施形態では、Ba上の置換基は、ビオチンまたはアビジンである。
前記方法のいくつかの実施形態では、Zは、ピリジニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、N,N−ジイソプロピルエチルアンモニウムイオン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムイオン、ナトリウムイオン、またはカリウムイオンである。前記方法の他の実施形態では、Zは、ピリジニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、N,N−ジイソプロピルエチルアンモニウムイオン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムイオン、ナトリウムイオン、またはカリウムイオンである。前記方法のいくつかの実施形態では、Xは、アルキル、アルコキシ、−NR、−S、または−BH である。前記方法の他の実施形態では、Xは、アルキル、アルコキシ、−NR、−S、または−BH である。
前記方法の実施形態では、硫黄求電子剤は、式F、式Eまたは式Bである。前記方法のいくつかの実施形態では、硫黄求電子剤は、式F、式Eまたは式Bである。前記方法の他の実施形態では、セレン求電子剤は、式Gまたは式Lである。前記方法のなお他の実施形態では、セレン求電子剤は、式Gまたは式Lである。前記方法のいくつかの実施形態では、ホウ素化剤は、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH・DIPEA)、ボラン−2−クロロピリジン(BH・CPy)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH・MeS)である。前記方法の他の実施形態では、ハロゲン化剤は、CCl、CBr、Cl、塩化スルフリル(SOCl)、またはN−クロロスクシンイミド(NCS)である。前記方法のなお他の実施形態では、縮合試薬は、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、PhPCl、またはN,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl)である。
本発明の他の態様では、サンプル中の標的分子を同定または検出する方法が提供され、方法は、標的分子を含有することが疑わしいサンプルと、本発明の方法に従って合成される式1の核酸センサー分子とを接触させる工程を含み、ここで、シグナル発生ユニットによって発生するシグナルの変化は、前記サンプル中の前記標的の存在を示す。核酸センサー分子は、標的分子に特異的に結合する。いくつかの実施形態では、複数の核酸センサー分子が存在する。いくつかの実施形態では、複数の核酸センサー分子は、異なる標的分子に特異的に結合する核酸センサー分子を含む。場合によっては、前記方法は、シグナル発生ユニットによって発生するシグナルの変化を定量して、サンプル中の標的分子の量を定量する工程をさらに含む。シグナル発生ユニットは、蛍光、表面プラズモン共鳴、蛍光消光、化学発光、干渉計測、または屈折率検出を含むが、これらに限定されない任意の種類のシグナルを検出する。
検出しようとするサンプルは、環境サンプル、バイオハザード材料、有機サンプル、薬物、毒素、フレーバー、香料、または生物学的サンプルである。生物学的サンプルは、細胞、細胞抽出物、細胞溶解物、組織、組織抽出物、体液、血清、血液または血液産物である。前記方法のいくつかの実施形態では、標的分子の存在は、病的状態の存在を示す。前記方法のいくつかの実施形態では、標的分子の存在は、所望の分子の存在を示す。
本発明の他の態様では、核酸鋳型から核酸の所望の領域を増幅する方法が提供され、方法は:(a)目的のコンセンサス配列に相補的な一定の(fixed)ヌクレオチド配列のある領域を有する複数の第1のPCRプライマーを提供する工程;(b)複数の第2のPCRプライマーを提供する工程、(c)第1のプライマーおよび第2のプライマーによってフランキングされる核酸領域が特異的に増幅されるように、複数の第1のプライマーのサブセットが、実質的にそれが鋳型のどこで生じようとも目的のコンセンサス配列に結合し、そして複数の第2のプライマーのサブセットが、第1のプライマーから隔たった(removed from)場所で鋳型に結合するという条件下で、複数の第1のPCRプライマーおよび複数の第2のPCRプライマーを使用するPCRを介して、核酸鋳型を増幅する工程であって、複数の第1のPCRプライマーおよび/または複数の第2のPCTプライマーが本発明の方法に従って生成される式1の核酸分子である工程、を含む。
いくつかの実施態様では、鋳型は、ゲノムDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、真核生物のゲノムDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、ヒトのゲノムDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、原核生物のDNAである。いくつかの実施形態では、鋳型は、クローニングされたゲノムDNA、DNAのサブゲノム領域、染色体、またはサブ染色体領域であるDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、RNAである。
文献の援用
本明細書において開示されるすべての刊行物および特許出願は、それぞれ個々の刊行物または特許出願が、あたかも具体的かつ個別に参考として組み込まれて示されているが如く、それらの全体が、同程度に参考として、本明細書に援用される。
図面の簡単な説明
本発明の新規の特徴については、添付の特許請求の範囲に詳細に記載されている。本発明の特徴および利点は、本発明の原理を利用する例示的な実施形態を記載する以下の詳細な説明、および以下の添付の図面を参考にして、より良好に理解されよう。
(S)−4tt(CDCl)のH NMRスペクトル (S)−4tt(CDCl)の31P NMRスペクトル (R)−4tt(CDCl)のH NMRスペクトル (R)−4tt(CDCl)の31P NMRスペクトル (S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル Ph3PCl2の代わりにBTCを使用した(S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル PH3PCL2の代わりにBTCを使用した(S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ctの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ctの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ctの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ctの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5atの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5atの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5gtの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5gtの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5ctの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5ctの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5atの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5atの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5atの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5atの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5atの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−5gtの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−5gtの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−7ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−7ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−8ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−8ttの粗UPLC(登録商標)プロファイル All−(S)−[TPSTの粗UPLC(登録商標)プロファイル All−(S)−[TPSTのMALDI TOF−MSスペクトル (S,R,S)−[TPSTの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S,R,S)−[TPSTのMALDI TOF−MSスペクトル (RP,SP,RP)−[TPSTの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R,S,R)−[TPSTのMALDI TOF−MSスペクトル All−(R)−[TPSTの粗UPLC(登録商標)プロファイル All−(R)−[TPSTのMALDI TOF−MSスペクトル (S)−9uuの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−9uuのMALDI TOF−MSスペクトル (R)−9uMuの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−9uuのMALDI TOF−MSスペクトル (S)−10uFuの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−10uuのMALDI TOF−MSスペクトル (R)−10uFuの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−10uuのMALDI TOF−MSスペクトル (S)−11ntの粗UPLC(登録商標)プロファイル (S)−11ntのMALDI TOF−MSスペクトル (R)−11ntの粗UPLC(登録商標)プロファイル (R)−11ntのMALDI TOF−MSスペクトル
定義
別段の定めのない限り、明細書および特許請求の範囲を含む本出願において使用される以下の用語は、下記の定義を有する。本明細書および添付の特許請求の範囲において使用される単数形「a」、「an」および「the」は、別段文脈が明示しない限り、複数の指示対象も含むことが留意されなければならない。別段の指示のない限り、質量分析、NMR、HPLC、タンパク質化学、生化学、組み換えDNA技術および薬理学の従来の方法を用いる。本明細書において、「または」あるいは「および」の使用は、別段の定めのない限り、「および/または」を意味する。さらに、用語「含んでいる(including)」ならびに「含む(include)」、「含む(includes)」および「含んだ(included)」のような他の形態の使用は、限定的ではない。
用語「核酸」は、ポリ−またはオリゴ−リボヌクレオチド(RNA)およびポリ−またはオリゴ−デオキシリボヌクレオチド(DNA);核酸塩基および/または修飾核酸塩基のN−グリコシドもしくはC−グリコシドから誘導されるRNAまたはDNA;糖および/または修飾糖から誘導される核酸;ならびにリン酸化架橋および/または修飾リン原子架橋から誘導される核酸を包含する。前記用語は、核酸塩基、修飾核酸塩基、糖、修飾糖、リン酸化架橋または修飾リン原子架橋の任意の組み合わせを含有する核酸を包含する。例には、リボース部分を含有する核酸、デオキシ−リボース部分を含有する核酸、リボースおよびデオキシリボース部分を含有する核酸、リボースおよび修飾されたリボース部分を含有する核酸が含まれるが、これらに限定されない。接頭辞であるポリ−は、約1〜約10,000ヌクレオチドモノマー単位を含有する核酸を指し、ここで、接頭辞であるオリゴ−は、約1〜約200ヌクレオチドモノマー単位を含有する核酸を指す。
用語「核酸塩基」は、配列特異的様式で、1つの核酸鎖を別の相補的な鎖に結合する水素結合に関与する核酸の部分を指す。最も一般的に天然に存在する核酸塩基は、アデニン(A)、グアニン(G)、ウラシル(U)、シトシン(C)、およびチミン(T)である。
用語「修飾核酸塩基」は、核酸塩基を置き換えることができる部分を指す。修飾核酸塩基は、核酸塩基の空間的配置、電子的特性、または他のいくつかの物理化学的特性を模倣し、そして配列特異的様式で、1つの核酸鎖を別のものに結合する水素結合の特性を保持する。修飾核酸塩基は、融解挙動、細胞内酵素による認識またはオリゴヌクレオチド二重鎖の活性に実質的に影響を及ぼすことなく、5種類の天然に存在する塩基(ウラシル、チミン、アデニン、シトシン、またはグアニン)のすべてと対を形成することができる。
用語「ヌクレオシド」は、核酸塩基または修飾核酸塩基が、糖または修飾糖に共有結合する部分を指す。
用語「糖」は、閉環および/または開環形態の単糖を指す。糖には、リボース、デオキシリボース、ペントフラノース、ペントピラノース、およびヘキソピラノース部分が含まれるが、これらに限定されない。
用語「修飾糖」は、糖を置き換えることができる部分を指す。修飾糖は、空間的配置、電子特性、または糖の他のいくつかの物理化学的特性を模倣する。
用語「ヌクレオチド」は、核酸塩基または修飾核酸塩基が、糖または修飾糖に共有結合し、糖または修飾糖が、リン酸基もしくは修飾リン原子部分に共有結合する部分を指す。
用語「キラル試薬」は、キラルまたはエナンチオピュアであり、そして核酸合成における不斉導入に使用することができる化合物を指す。
用語「キラル配位子」または「キラル補助基」は、キラルまたはエナンチオピュアであり、そして反応の立体化学的結果を制御する部分を指す。
縮合反応において、用語「縮合試薬」は、より低い反応性の部位を活性化し、そしてそれを、求核剤によってより攻撃され易くする試薬を指す。
用語「ブロッキング部分」は、官能基の反応性を一時的にマスクする基を指す。官能基は、続いて、ブロッキング部分の除去によって、脱マスクすることができる。
用語「ホウ素化剤」、「硫黄求電子剤」、「セレン求電子剤」は、リン原子における修飾のために、それぞれ、BH、S、およびSe基を導入するための修飾する工程において有用な化合物を指す。
用語「部分」は、分子の特異的セグメントまたは官能基を指す。化学部分は、しばしば、分子中に包埋されるか、または付加される化学的実体として認識される。
用語「固相支持体」は、核酸の合成大量生産を可能にする任意の支持体を指し、そして必要時に再利用することができる。本明細書において、前記用語は、核酸を合成するために実施される反応工程において用いられる媒体に不溶性であり、かつ反応基を含むように誘導体化されるポリマーを指す。
用語「連結部分」は、末端のヌクレオシドと固相支持体との間または末端のヌクレオシドと別のヌクレオシド、ヌクレオチド、もしくは核酸との間に場合により位置する任意の部分を指す。
本明細書において「処置」もしくは「処置する」または「軽減する」または「改善する」は、本明細書において互換可能に使用される。これらの用語は、治療上の利益および/または予防上の利益を含むが、これらに限定されない利益または所望の結果を得るためのアプローチを指す。治療上の利益とは、処置している基礎疾患の根治または改善を意味する。また、治療上の利益は、患者がなお、基礎疾患に罹患し得るにもかかわらず、患者において改善が観察されるような、基礎疾患に関連する1つ以上の生理学的徴候の根治または改善によって達成される。予防上の利益のために、組成物を、特定の疾患を発症する危険性がある患者、または疾患の1つ以上の生理学的徴候が報告されている患者に、たとえ、この疾患の診断がなされていなかったとしても、投与してもよい。
本明細書において「治療効果」という用語は、上記で説明するような治療上の利益および/または予防上の利益を包含する。予防効果は、疾患もしくは病態の出現を延期または排除すること、疾患もしくは病態の徴候の発生を延期または排除すること、疾患もしくは病態の進行を遅延、停止、または反転させること、あるいはそれらの任意の組み合わせを含む。
「アルキル」基は、脂肪族炭化水素基を指す。アルキル部分は、飽和アルキル基(任意の不飽和単位、例えば、炭素−炭素二重結合もしくは炭素−炭素三重結合を含有しないことを意味する)であってもよく、またはアルキル部分は、不飽和アルキル基(少なくとも1つの不飽和単位を含有することを意味する)であってもよい。アルキル部分は、飽和もしくは不飽和にかかわらず、分枝状、直鎖であるか、または環部分を含んでもよい。アルキルの付着点は、環の部分ではない炭素原子にある。
「アルキル」部分は、1〜10個の炭素原子を有し得る(本明細書において出現する場合は常に、「1〜10」のような数の範囲は、所与の範囲の各整数を指す;例えば、「1〜10個の炭素原子」は、アルキル基が、1個の炭素原子、2個の炭素原子、3個の炭素原子など、10個まで(10個を含む)の炭素原子からなり得ることを意味するが、本定義はまた、数字の範囲は明示されない用語「アルキル」の存在をカバーする)。アルキルは、分枝状および直鎖のアルキル基の両方を含む。本明細書に記載の化合物のアルキル基は、「C〜Cアルキル」または類似の呼称で記載され得る。単なる例として、「C〜Cアルキル」は、アルキル鎖中に1、2、3、4、5、もしくは6個の炭素原子が存在することを示し、即ち、アルキル鎖は、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、およびt−ブチルからなる群から選択される。典型的なアルキル基は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル、アリル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチルなどを含むが、これらに全く限定されない。一態様では、アルキルは、C〜Cアルキルである。
本明細書において、用語「アリール」は、芳香環を指し、ここで、環を形成する原子のそれぞれは、炭素原子である。アリール環は、5、6、7、8、9、または9個を超える炭素原子によって形成される。アリール基は、置換または非置換である。一態様では、アリールは、フェニルまたはナフタレニルである。構造に依存して、アリール基は、モノラジカルまたはジラジカル(即ち、アリーレン基)であり得る。一態様では、アリールはC6〜C10アリールである。
「ヘテロアリール」または代替的に、「ヘテロ芳香族」は、窒素、酸素および硫黄から選択される1個以上の環ヘテロ原子を含み、そして単環式、二環式、三環式または四環式の環系であり得る5−〜18−員環の芳香族ラジカル(例えば、C〜C13ヘテロアリール)を指す。本明細書において出現する場合は常に、「5〜18」のような数の範囲は、所与の範囲の各整数を指す;例えば、「5〜18個の環原子」は、ヘテロアリール基が、5個の環原子、6個の環原子など、18個まで(18個を含む)の環原子からなり得ることを意味する。N含有「ヘテロ芳香族」または「ヘテロアリール」部分は、環の骨格原子のうち少なくとも1個は窒素原子である芳香族基を指す。多環式ヘテロアリール基は、縮合型であってもよくまたは非縮合型であってもよい。ヘテロアリールラジカルにおけるヘテロ原子は、場合により酸化される。1個以上の窒素原子は、存在する場合、場合任意により、四級化される。ヘテロアリールは、環の任意の原子を介して、残りの分子に付着される。ヘテロアリールの例には、アゼピニル、アクリジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンズインドリル、1,3−ベンゾジオキソリル、ベンゾフラニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾ[d]チアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾ[b][1,4]ジオキセピニル、ベンゾ[b][1,4]オキサジニル、1,4−ベンゾジオキサニル、ベンゾナフトフラニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾジオキソリル、ベンゾジオキシニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾピラニル、ベンゾピラノニル、ベンゾフラニル、ベンゾフラノニル、ベンゾフラザニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチエニル(ベンゾチオフェニル)、ベンゾチエノ[3,2−d]ピリミジニル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾ[4,6]イミダゾ[1,2−a]ピリジニル、カルバゾリル、シンノリニル、シクロペンタ[d|ピリミジニル、6,7−ジヒドロ−5H−シクロペンタ[4,5]チエノ[2,3−d]ピリミジニル、5,6−ジヒドロベンゾ[h]キナゾリニル、5,6−ジヒドロベンゾ[h]シンノリニル、6,7−ジヒドロ−5H−ベンゾ[6,7]シクロヘプタ[1,2−c]ピリダジニル、ジベンゾフラニル、ジベンゾチオフェニル、フラニル、フラザニル、フラノニル、フロ[3,2−c]ピリジニル、5,6,7,8,9,10−ヘキサヒドロシクロオクタ[d]ピリミジニル、5,6,7,8,9,10−ヘキサヒドロシクロオクタ[d]ピリダジニル、5,6,7,8,9,10−ヘキサヒドロシクロオクタ[d]ピリジニル、イソチアゾリル、イミダゾリル、インダゾリル、インドリル、インダゾリル、イソインドリル、インドリニル、イソインドリニル、イソキノリル、インドリジニル、イソキサゾリル、5,8−メタノ−5,6,7,8−テトラヒドロキナゾリニル、ナフチリジニル、1,6−ナフチリジノニル、オキサジアゾリル、2−オキソアゼピニル、オキサゾリル、オキシラニル、5,6,6a,7,8,9,10,10a−オクタヒドロベンゾ[h]キナゾリニル、1−フェニル−1H−ピロリル、フェナジニル、フェノチアジニル、フェノキサジニル、フタラジニル、プテリジニル、プリニル、ピラニル、ピロリル、ピラゾリル、ピラゾロ[3,4−d]ピリミジニル、ピリジニル、ピリド[3,2−d]ピリミジニル、ピリド[3,4−d]ピリミジニル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピロリル、キナゾリニル、キノキサリニル、キノリニル、イソキノリニル、テトラヒドロキノリニル、5,6,7,8−テトラヒドロキナゾリニル、5,6,7,8−テトラヒドロベンゾ[4,5]チエノ[2,3−d]ピリミジニル、6,7,8,9−テトラヒドロ−5H−シクロヘプタ[4,5]チエノ[2,3−d]ピリミジニル、5,6,7,8−テトラヒドロピリド[4,5−c]ピリダジニル、チアゾリル、ジアジアゾリル、チアピラニル、トリアゾリル、テトラゾリル、トリアジニル、チエノ[2,3−d]ピリミジニル、チエノ[3,2−d]ピリミジニル、チエノ[2,3−c]ピリジニル、およびチオフェニル(即ち、チエニル)が含まれるが、これらに限定されない。本明細書において別段の定めのない限り、ヘテロアリール部分は、独立して:アルキル、ヘテロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヒドロキシ、ハロ、シアノ、ニトロ、オキソ、チオキソ、トリメチルシラニル、−OR、−SR、−OC(O)R、−N(R、−C(O)R、−C(O)OR、−C(O)N(R、−N(R)C(O)OR、−N(R)C(O)R、−N(R)S(O)tR(式中、tは1もしくは2である)、−S(O)tOR(式中、tは1もしくは2である)、または−S(O)N(R(式中、tは1もしくは2である)である1つ以上の置換基によって、場合により置換され、式中、各Rは、独立して、水素、アルキル、フルオロアルキル、カルボシクリル、カルボシクリルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルである。
用語「脂環」は、脂肪族かつ環式の両方であるすべての炭素部分を指す。脂環基は、飽和または不飽和のいずれかであるが、芳香族の特徴を有さない1つ以上のすべての炭素環を含有する。脂環基は、置換または非置換であり、そして1〜10個の炭素原子を含有し得る。一態様では、脂環式は、単環式シクロアルカンである。他の態様では、脂環式は、二環式シクロアルカンである。
用語「アラルキル」は、アリール基により置換されたアルキル基を指す。適切なアラルキル基は、ベンジル、ピコリルなどを含み、それらのうちすべてが、場合により置換されていてもよい。
「アシル部分」は、アルキル(C=O)、アリール(C=O)、またはアラルキル(C=O)基を指す。アシル部分は、カルボニル基と炭化水素基との間のオキシ、アミノ、チオ、またはセレノである介在部分(Y)を有し得る。例えば、アシル基は、アルキル−Y−(C=O)、アリール−Y−(C=O)またはアラルキル−Y−(C=O)であり得る。
「アルケニル」基は、少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を含有する直鎖、分枝鎖、および環式炭化水素基である。アルケニル基は置換され得る。
「アルキニル」基は、少なくとも1つの炭素−炭素三重結合を含有する直鎖、分枝鎖、および環式炭化水素基である。アルキニル基は置換され得る。
「アルコキシ」基は、酸素に連結されたアルキル基、即ち、(アルキル)−O−基を指し、ここで、アルキルは、本明細書において定義されるとおりである。例には、メトキシ(−OCH)またはエトキシ(−OCHCH)基が含まれる。
「アルケニルオキシ」基は、酸素に連結されたアルケニル基、即ち、(アルケニル)−O−基を指し、ここで、アルケニルは、本明細書において定義されるとおりである。
「アルキニルオキシ」基は、酸素に連結されたアルキニル基、即ち、(アルキニル)−O−基を指し、ここで、アルキニルは、本明細書において定義されるとおりである。
「アリールオキシ」基は、酸素に連結されたアリール基、即ち、(アリール)−O−基を指し、ここで、アリールは、本明細書において定義されるとおりである。例として、フェノキシ(−OC)が含まれる。
用語「アルキルセレノ」は、置換セレノ基が付着しているアルキル基、即ち、(アルキル)−Se−基を指し、ここで、アルキルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アルケニルセレノ」は、置換セレノ基が付着しているアルケニル基、即ち、(アルケニル)−Se−基を指し、ここで、アルケニルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アルキニルセレノ」は、置換セレノ基が付着しているアルキニル基、即ち、(アルキニル)−Se−基を指し、ここで、アルケニルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アルキルチオ」は、架橋硫黄原子が付着しているアルキル基、即ち、(アルキル)−S−基を指し、ここで、アルキルは、本明細書において定義されるとおりである。例えば、アルキルチオは、メチルチオなどである。
用語「アルケニルチオ」は、架橋硫黄原子が付着しているアルケニル基、即ち、(アルケニル)−S−基を指し、ここで、アルケニルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アルキニルチオ」は、架橋硫黄原子が付着しているアルキニル基、即ち、(アルキニル)−S−基を指し、ここで、アルケニルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アルキルアミノ」は、少なくとも1つのアルキル基で置換されたアミノ基、即ち、−NH(アルキル)または−N−(アルキル)を指し、ここで、アルキルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アルケニルアミノ」は、少なくとも1つのアルケニル基で置換されたアミノ基、即ち、−NH(アルケニル)または−N−(アルケニル)を指し、ここで、アルケニルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「アルキニルアミノ」は、少なくとも1つのアルキニル基で置換されたアミノ基、即ち、−NH(アルキニル)または−N−(アルキニル)を指し、ここで、アルキニルは、本明細書において定義されるとおりである。
用語「ハロゲン」は、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素を含むことが意図される。
「蛍光基」は、選択された波長を有する光で励起される場合に、異なる波長の光を発光する分子を指す。蛍光基には、インドール基、フルオレセイン、テトラメチルローダミン、テキサスレッド、BODIPY、5−[(2−アミノエチル)アミノ]ナフタレン−1−スルホン酸(EDANS)、クマリンおよびルシファーイエローが含まれるが、これらに限定されない。
「アンモニウムイオン」は、化学式NH の正に荷電した多原子カチオンである。
「アルキルアンモニウムイオン」は、その水素原子のうち少なくとも1つがアルキル基によって置き換えらたアンモニウムイオンであり、ここで、アルキルは、本明細書において定義される。例には、トリエチルアンモニウムイオン、N,N−ジイソプロピルエチルアンモニウムイオンが含まれる。
「イミニウムイオン」は、一般構造RC=NR を有する。R基は、本明細書において定義されるアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール基を指す。「ヘテロ芳香族イミニウムイオン」は、窒素およびその付着したR基がヘテロ芳香環を形成するイミニウムイオンを指す。「ヘテロ環イミニウムイオン」は、窒素およびその付着したR基がヘテロ環を形成するイミニウムイオンを指す。
用語「アミノ」または「アミン」は、−N(Rラジカル基を指し、式中、各Rは、本明細書において、別段の定めのない限り、独立して、水素、アルキル、フルオロアルキル、カルボシクリル、カルボシクリルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルである。−N(R基が、水素以外の2つのRを有する場合、それらは、窒素原子と組み合わせて、4−、5−、6−、または7−員環を形成することができる。例えば、−N(Rは、1−ピロリジニルおよび4−モルホリニルを含むが、これらに限定されないことを意味する。水素、アルキル、フルオロアルキル、カルボシクリル、カルボシクリルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルのうちの任意の1つ以上は、独立して、アルキル、ヘテロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、ヒドロキシ、ハロ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、トリメチルシラニル、−OR、−SR、−OC(O)R、−NCR、−C(O)R、−C(O)OR、−OC(O)N(R、−C(O)N(R、−N(R)C(O)OR、−N(R)C(O)R、−N(R)C(O)N(R、N(R)C(NR)N(R、−N(R)S(0)(式中、tは1もしくは2である)、−S(O)OR(式中、tは1もしくは2である)、または−S(O)N(R(式中、tは1もしくは2である)である1つ以上の置換基によって、場合により置換され、ここで、各Rは、独立して、水素、アルキル、フルオロアルキル、カルボシクリル、カルボシクリルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルである。
本明細書において「カルバメート」は、式−C(O)ORを有するアミノ基に付着する部分を指し、式中、Rは、アルキル、フルオロアルキル、カルボシクリル、カルボシクリルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールまたはヘテロアリールアルキルである。例には、Boc(tert−ブチル−OC(O))、CBz(ベンジル−OC(O)−)、Teoc(MeSiCHCHOC(O)−)、alloc(アリル−OC(O)−)、またはFmoc(9−フルオレニルメチル−OC(O)−)が含まれるが、これらに限定されない。
本明細書において「置換シリル」は、式RSi−を有する部分を指す。例には、TBDMS(tert−ブチルジメチルシリル)、TBDPS(tert−ブチルジフェニルシリル)またはTMS(トリメチルシリル)が含まれるが、これらに限定されない。
用語「チオール」は、−SH基を指し、そして置換チオール基、即ち、−SR基を含み、式中、Rは、それぞれ独立して、本明細書において定義される置換もしくは非置換アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリールアラルキル、ヘテロシクリルまたはヘテロシクリルアルキル基である。
合成方法
キラルX−ホスホネート部分を含む核酸の合成方法の一般的考察。
本方法は、リン原子修飾核酸の効率的な合成を提供し、ここで、リン原子における立体化学的配置が制御され、それ故、立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドを生成する。前記方法は、ジアステレオマー混合体の複雑な分離の必要性を排除し、そして容易に入手可能な安価なアキラル出発物質の使用を可能にする。本明細書において開示する合成方法は、スキーム1に示すような、式1の化合物であるリン原子修飾キラルX−ホスホネート部分を含む核酸を提供するための、アキラルH−ホスホネート部分(式2)と、ヒドロキシ基のような求核部分を含むヌクレオシド(式4−1、式中、Qは、ブロッキング基、支持体またはヌクレオチド鎖に対する連結部分のうちいずれかである)との不斉反応を含む。そのような様式では、高いジアステレオマー純度を有するヌクレオチドポリマーまたはオリゴマーが生成される。いくつかの実施形態では、核酸は、核酸塩基、糖部分、および/または保護基の修飾を含有する。
スキーム1.式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸の合成
Figure 0006038860
式2のアキラルH−ホスホネート部分を含む分子と、式4−1の求核部分を含むヌクレオシドとの反応により、縮合中間体が形成され;これは、キラルX−ホスホネート部分を含む核酸に変換される。縮合中間体の合成は、(a)縮合剤による式2の化合物の活性化、(b)キラル試薬との反応、それに続く(c)式4−1の化合物との反応の工程を含む。一般的スキームをスキーム2に示す。キラル試薬は、キラル補助基として縮合中間体に付着する。本明細書で提供するプロセスにおいて、縮合中間体をもたらす工程(a)〜(c)は、何ら中間体を単離することなく、即ち、同じポットまたはワンポットで実施され得る。それ故、前記プロセスは、個別の中間体の単離の必要性を回避する。本明細書に開示するプロセスは、溶液中または固相支持体上において実施することができる。反応条件に依存して、活性化試薬の添加は、縮合工程に有用であり得る。例えば、活性化試薬は、工程(a)〜(c)が完了した後に反応に添加され得るか、または工程(a)〜(c)と同時に反応に添加され得る。
スキーム2.縮合中間体の形成をもたらす反応工程
Figure 0006038860
1つの実施形態では、縮合中間体は、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分である部分Aにより縮合中間体上のキラル補助基をキャッピングする工程、およびリンを修飾して、S、Se、またはBHであるJを導入する工程によって、式1のキラルXホスホネート部分を含む核酸に変換され、式5−1の化合物を生成する。一実施形態(オプションA、スキーム3)では、キラル補助基を切断し、そしてブロッキング基を脱ブロックし、そして所望により、固相支持体から切断することによって、式5−1の化合物は、式1の化合物(式中、XはS、Se、またはBHであり、そしてnは1である(ダイマー))に変換される。ダイマーを形成する場合、スキーム3のキャッピング工程は、任意である。あるいは(オプションB、スキーム3)、縮合中間体を生成する工程を反復することによって、式5−1の化合物は、鎖伸長に供され、ここで、式2のさらなるモノマーが、オリゴヌクレオチドに添加される。キャッピング、修飾、脱ブロック、および鎖伸長の工程は、所望のnが達成されるまで、反復される。この時点で各ホスホネートにおけるキラル補助基は切断され、残留するブロッキング基は切断されて(所望により、固相支持体から切断することを含む)、式1の化合物(式中、XはS、Se、またはBHであり、そしてnは2以上であり、かつ約200未満である)を生成する。
スキーム3.経路Aを介して縮合中間体を式1の化合物に変換する工程
Figure 0006038860
本明細書において提供する他の方法では、縮合中間体を酸性化して、Rにおけるブロッキング基を除去する(これはまた、キラル補助基も除去する)ことによって、縮合中間体は、式1のキラルXホスホネート部分を含む核酸に変換される。一実施形態(オプションA、スキーム4)では、式4の化合物は、修飾され、リンにおけるX部分が導入されて、式1の化合物が生成され、これは、脱ブロックされて、残留するブロッキング基が除去され、そして所望により、合成支持体から取り出されて、式1の化合物(式中、Rは水素であり、そしてnは1である)を生成する。
あるいは、スキーム4(オプションB)における式4の化合物は、鎖伸長の工程に供され、次いで、酸性化されて、新たに添加されたヌクレオシドRブロッキング基が脱ブロックされる。鎖伸長工程およびR脱ブロック工程は、m回反復される。この時点で、mがn−1に等しい式4の化合物は、修飾され、各リンにおけるX部分が導入されて、式1の化合物が生成され、これは、脱ブロックされて、残留するブロッキング基が除去され、そして所望により、合成支持体から取り出されて、式1の化合物(式中、Rは水素であり、そしてnは2以上であり、かつ約200未満である)を生成する。
スキーム4.経路Bを介して縮合中間体を式1の化合物に変換する工程
Figure 0006038860
スキーム4のオプションAおよびオプションBの両方において、Xは、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH であり、ここで、各Rは、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールであり;Zは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであり、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは、一価の金属イオンである。他の実施形態では、Zは、ピリジニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、N,N−ジイソプロピルエチルアンモニウムイオン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムイオン、ナトリウムイオン、またはカリウムイオンである。
式1のキラルX−ホスホネート部分を含むリン原子修飾核酸
本発明のプロセスは、以下の一般式1−1または式1−2の、キラルX−ホスホネート部分を含む核酸を提供する:
Figure 0006038860
式中、X−ホスホネート部分は、天然のヌクレオシド部分または非天然のヌクレオシド部分に接続し、ここで、天然のリボース環は、より大きなもしくはより小さな酸素含有環によって置き換えられ、あるいはここで、環は、非環状構造によって置き換えられ、式中、Wは、−S−、−O−、置換もしくは非置換のアミノ、アルキレン、アルケニレン、もしくはアルキニレンである。核酸の他の実施形態では、X−ホスホネート部分は、天然のヌクレオシド部分と非天然のヌクレオシド部分とを接続する。核酸のなお他の実施形態では、X−ホスホネート部分は、ヌクレオシド部分と異なる糖部分とを互いに接続する。
核酸のなお他の実施形態では、キラルX−ホスホネート部分を含む核酸は、式1の化合物である:
Figure 0006038860
式1において、Rは、−OH、−SH、NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−ORまたは−SRである。
は、O、NR、S、またはSeである。
は、ブロッキング部分である。
は、ブロッキング基である。
の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。
の各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンである。
は、O、NR、またはSである。
の各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。
Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。
Xの各例は、独立して、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH である。
の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。
は、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいZは一価の金属イオンである。
は、水素、ブロッキング基、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分であり;nは、1〜約200の整数である。
1つの実施形態では、任意のR基は、例えば、蛍光部分、ビオチン部分、またはアビジン部分によって置換される。
一実施形態では、本明細書に記載の核酸は、すべてリボヌクレオチドモノマーから調製される。他の実施形態では、それは、すべてデオキシリボヌクレオチドモノマーから調製される。さらに他の実施形態では、核酸は、リボヌクレオチドまたはデオキシリボヌクレオチドモノマーの混合物から調製される。一実施形態では、核酸は、RNAおよびDNA部分の混合物である。他の実施形態では、核酸は、Rにおいて、RNAまたはDNA核酸では見出されない置換基を含む。
Baは、天然のまたは修飾核酸塩基である核酸塩基を表す。核酸塩基の各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていない。
Xの各例は、独立して、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH であり、ここで、Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールであり;Zは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであり、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは、一価の金属イオンである。いくつかの実施形態では、Xは、アルキル、アルコキシ、−NR、−S、または−BH である。他の実施形態では、Zは、ピリジニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、N,N−ジイソプロピルエチルアンモニウムイオン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムイオン、ナトリウムイオン、またはカリウムイオンである。
は、水素、ブロッキング基、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分であり、それらは、本明細書に記載のまたは当該技術分野において公知の方法を使用して調製される。任意の既知の方法を使用して調製されるRに付着した核酸は、修飾、非修飾、または修飾および非修飾のリンの混合物であるリン原子を含み、そしてリン原子における任意の配置を含む。一実施形態では、Rは、別のヌクレオシドまたはヌクレオチドに付着された連結部分である。
X−ホスホネート部分
本明細書において、X−ホスホネート部分は、修飾されて、部分Xに共有結合するヌクレオシド間骨格連結のリン原子を指し、ここで、Xは、硫黄、セレン、アルキル、ホウ素、アシル、アミノ、チオール、またはアルコキシであり得るが、これらに限定されない。X部分は、ヌクレオシド間骨格中の酸素原子のうちの1個の置き換えによって、リン原子を修飾する。非制限的例として、2つの核酸フラグメントについて、ヌクレオシド間骨格連結を以下に示す(点線矩形枠内)。以下の左側の構造は、天然のヌクレオシド骨格連結において見出されるリン酸基を示す。以下の右側の構造は、ヌクレオシド間骨格連結としてのX−ホスホネート部分を示す。
Figure 0006038860
ホスホロチオエート部分は、X部分として硫黄部分を含む。ホスホロセレノエート部分は、X部分としてセレン部分を含む。アルキルホスホネート部分(例えば、メチルホスホネート)は、X部分としてアルキル基(例えば、メチル基)を含む。ボロノホスホネート部分は、X部分としてボラン基を含む。
1つの実施形態では、核酸は、骨格連結中にホスホロチオエート基を含む。いくつかの実施形態では、核酸は、骨格連結中にホスホロセレノエート基を含む。他の実施形態では、核酸は、骨格連結中にアルキルホスホネート基(例えば、メチルホスホネート)を含む。なお他の実施形態では、核酸は、骨格連結中にボロノホスホネート基を含む。
各X部分は、本明細書に記載の様々なX部分から独立して選択することができる。これは、複数のX部分が1つの核酸内に存在することを可能にする。一実施形態では、核酸全体を通して、同じX部分が使用される。他の実施形態では、核酸全体を通して、異なるX部分が使用される。例えば、1つの核酸内において、X−ホスホネートのいくつかは、ホスホチオエート部分である一方、同じ核酸内の他のX−ホスホネートは、アルキルホスホネート部分である。リン修飾の他のバリエーションおよび改変が可能であり、そしてこれらの核酸の使用および用途に依存することは、当業者に明らかであろう。いくつかの実施形態では、X部分の選択は、核酸の生化学的特性および生物学的サンプルとのその相互作用に依存する。
X−ホスホネート部分の配置
本明細書に記載の方法は、ヌクレオシド間骨格連結中の各リン原子の配置を制御するのに有用である。キラル試薬は、X−ホスホネートにおけるキラリティーの特異的制御を可能にする。それ故、RまたはS配置のいずれかを、各合成サイクルにおいて選択することができ、核酸生成物の全体的な三次元構造の制御が可能になる。いくつかの実施形態では、RおよびS配置の選択は、核酸鎖に特定の三次元構造を付与するために行われる。
いくつかの実施形態では、各X−ホスホネート部分は、R配置を有することができる。いくつかの実施形態では、各X−ホスホネート部分は、S配置を有することができる。他の実施形態では、各X−ホスホネート部分は、独立して、R配置またはS配置を有することができる。特定の実施形態では、X−ホスホネート部分は、核酸全体を通してR、S、RまたはS、R、Sのように、RとSとの間で交替する。他の特定の実施形態では、X−ホスホネート部分は、核酸全体を通してR、R、S、Sの反復配置を含有する。なお他の実施形態では、核酸は、すべてR配置を含む。さらなる実施形態では、核酸は、すべてS部分を含む。いくつかの実施形態では、5’および3’末端のヌクレオシド間骨格連結は、S配置のものであり、そして内部のヌクレオシド間骨格連結は、すべてR配置である。本明細書に記載の実施形態は、これらの方法を使用して、どのように配置を制御することができるかの例として役立つ。本明細書に記載の核酸は、これらの配置のパターンに限定されない。RおよびS配置の他のバリエーションおよび改変が可能であり、そして核酸の使用および用途に依存することは、当業者に明らかであろう。
X−ホスホネート配置の純度決定
核酸の各X−ホスホネート部分における配置の純度は、例えば、31P NMR分光法または逆相HPLCがあるが、これらに限定されない従来の分析方法を使用して、決定される。本明細書に記載の方法を使用して、ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に80%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に60%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に70%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に85%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に90%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に95%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に98%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に99%を超えて純粋であり得る。ある実施形態では、化合物の各X−ホスホネート部分は、約60%を超えて純粋、約70%を超えて純粋、約80%を超えて純粋、約83%を超えて純粋、約84%を超えて純粋、約85%を超えて純粋、約86%を超えて純粋、約87%を超えて純粋、約88%を超えて純粋、約89%を超えて純粋、約90%を超えて純粋、約91%を超えて純粋、約92%を超えて純粋、約93%を超えて純粋、約94%を超えて純粋、約95%を超えて純粋、約96%を超えて純粋、約97%を超えて純粋、約98%を超えて純粋、または約99%を超えて純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約60%〜約99.9%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約60%〜約99%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約60%〜約70%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約70%〜約80%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約80%〜約90%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約80%〜約99%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約85%〜約95%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約90%〜約95%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約95%〜約99%純粋であり得る。一実施形態では、各X−ホスホネート部分は、ジアステレオマー的に約90%〜約99.9%純粋であり得る。
他の配置より優位な特定の配置の量は、核酸の三次元構造ならびにそれらの安定性に影響を及ぼす。従って、異なる配置は、核酸の生物学的、化学的、および物理特性に影響を及ぼす。一実施形態では、核酸は、R配置より大きな百分率のS配置を含む。他の実施形態では、核酸は、S配置より大きな百分率のR配置を含む。他の実施形態では、核酸は、S配置と同じ百分率のR配置を含む。一実施形態では、核酸は、0〜20%のR配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、20〜40%のR配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、40〜60%のR配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、60〜80%のR配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、80〜100%のR配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、0〜20%のS配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、20〜40%のS配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、40〜60%のS配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、60〜80%のS配置を含むことができる。一実施形態では、核酸は、80〜100%のS配置を含むことができる。
リン原子修飾核酸の長さ
式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸は、約1ヌクレオシド〜約200ヌクレオシドを含む。いくつかの実施形態では、式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸は、さらに組み合わされて、オリゴマーまたはポリマーになる。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、ダイマーである。他の実施形態では、式1の核酸は、約100ヌクレオシドまでを含む。他の実施形態では、式1の核酸は、約150ヌクレオシドまでを含む。他の実施形態では、式1の核酸は、約200ヌクレオシドまでを含む。他の実施形態では、式1の核酸は、約300ヌクレオシドまでを含む。式1のいくつかの実施形態では、式1の核酸は、1〜約200ヌクレオシドを含む。他の実施形態では、核酸は、1〜約150ヌクレオシドを含む。さらなる実施形態では、核酸は、1〜約10ヌクレオシドを含有する。他の実施形態では、核酸は、約10〜約50ヌクレオシドを含有する。さらなる実施形態では、核酸は、約10〜約100ヌクレオシドを含有する。いくつかの実施形態では、核酸は、約1〜約5ヌクレオチド、または約5〜約10ヌクレオチド、または約5〜約15ヌクレオチド、または約10〜約20ヌクレオチド、または約15〜約25ヌクレオチド、または約20〜約30ヌクレオチド、または約25〜約35ヌクレオチド、または約30〜約40ヌクレオチドを含む。式1のいくつかの実施形態では、nは、1〜約200の整数である。式1のいくつかの実施形態では、nは、1〜約150の整数である。式1のいくつかの実施形態では、nは、1〜約10の整数である。式1のいくつかの実施形態では、nは、10〜約50の整数である。式1のいくつかの実施形態では、nは、10〜約100の整数である。式1のいくつかの実施形態では、nは、約1〜約5、または約5〜約10、または約5〜約15、または約10〜約20、または約15〜約25、または約20〜約30、または約25〜約35、または約30〜約40を含む。
リン原子修飾核酸のさらなるバリエーション
式1の核酸は、一本鎖であり得る。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、相補鎖とハイブリダイズして、二本鎖核酸を形成する。
いくつかの実施形態では、式1の核酸は、開いた線状構造を含むことができる。他の実施形態では、式1の核酸のそれぞれの末端が接続され、環状構造を形成する。
核酸内では、各単位の糖成分は、同じまたは異なる糖を含む。いくつかの実施形態では、糖は、修飾糖または置換されている糖である。いくつかの実施形態では、糖は、すべてリボース糖部分である。いくつかの実施形態では、糖は、すべてデオキシリボース糖部分である。他の実施形態では、糖は、すべてペントフラノース、ペントピラノース、またはヘキソピラノース部分である。さらなる実施形態では、糖成分は、閉環構造または開放構造を含む。
核酸構造内で、リン原子架橋は、一般に、核酸のヌクレオシド間骨格を形成するとされる。核酸中のヌクレオシド間骨格連結は、2’〜5’リン原子架橋、3’〜5’リン原子架橋、5’〜3’リン原子架橋、および3’〜2’リン原子架橋、ならびに米国特許第6,608,186号およびJoyce, G.F. Nature, 2002, 418, 214-220に記載の4’−2’架橋を含み、そしてこれらに限定されない。ヌクレオシド間骨格連結におけるこれらのバリエーションの非制限的例を、以下に示す:
Figure 0006038860
糖または修飾糖の成分に依存して、以下に示され、そしてXu, L. et al,J. Med. Chem., 2005, 48, 4177-4181に記載されている、メチレンビスホスホネート架橋を含み、そしてこれらに限定されない他のタイプのリン原子架橋もまた企図される。
Figure 0006038860
式1の核酸は、同じまたは異なる核酸塩基を含むことができる。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、同じ核酸塩基を含む。他の実施形態では、式1の核酸は、すべて異なる核酸塩基を含む。他の実施形態では、式1の核酸は、天然に存在する核酸塩基を含む。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、修飾核酸塩基を含む。さらに他の実施形態では、核酸は、天然に見出される核酸の核酸塩基配列を模倣する核酸塩基を含有する。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、天然に存在する核酸塩基および修飾核酸塩基の混合物を含む。
アキラルH−ホスホネート部分を含む分子
アキラルH−ホスホネート部分を含む分子は、式2の化合物である:
Figure 0006038860
式2において、Rは、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRである。
は、O、NR、S、またはSeである。
は、ブロッキング部分である。
は、ブロッキング基である。
の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。
の各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−である。
は、O、NR、またはSである。
は、水素、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。
Baは、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。
は、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいは一価の金属イオンである。
いくつかの実施形態では、Zは、ピリジニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、N,N−ジイソプロピルエチルアンモニウムイオン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムイオン、ナトリウムイオン、またはカリウムイオンである。
いくつかの実施態様では、糖は、リボース環である。他の実施形態では、糖は、デオキシリボース、ペントフラノース、ペントピラノース、またはヘキソピラノース部分である。他の実施態様では、糖は、修飾糖である。いくつかの実施形態では、糖は、グリセロール類似体または置換を伴う糖である。
H−ホスホネートヌクレオシドモノマーは、容易に調製され、かつ安定である。それらの調製方法については、既に記載されている(例えば、Froehler, B.C. Methods in Molecular Biology. In Protocols for Oligonucleotides and Analogs; Agrawal, S., Ed.; Humana: Totowa, 1993; vol 20, p 63-80を参照のこと)。
いくつかの実施形態では、ヌクレオシドモノマーは、3’位に、ヌクレオシドに付着されたアキラルH−ホスホネート部分を含む。なおさらなる実施形態では、ヌクレオシドモノマーは、介在連結部分を介して3’位のヌクレオシド部分に付着されたアキラルH−ホスホネート部分を含む。特定の実施形態では、介在連結部分は、メチレン基である(例えば、国際公開第2001/02415号パンフレットを参照のこと)。いくつかの実施形態では、H−ホスホネート部分は、ヌクレオシドモノマーの2’位に付着する。他の実施形態では、ヌクレオシドモノマーは、5’位に、ヌクレオシドに付着したアキラルH−ホスホネート部分を含む。
遊離の求核部分を伴う化合物
遊離の求核部分を含む化合物は、式4−1の化合物であり、そしてキラル中間体のリン中心において反応する。リンにおける求核基または部分による攻撃の方向は、キラル中間体(縮合中間体)上のキラル補助基の置換基に依存する。ある実施形態では、活性化試薬の添加は、遊離の求核部分を含む化合物が、キラル中間体のリン中心における反応を助けるのに有用であり得る。
Figure 0006038860
いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、本明細書に記載の方法を使用して予め調製された核酸であるか、またはそれは、核酸合成の他の既知の方法を使用して調製される。一実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、単一のヌクレオシドモノマーを含む。他の実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、1を超えるヌクレオシド単位を含む。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、鎖伸長工程の生成物である。なお他の実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、オリゴマーである。さらなる実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、ポリマーである。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、遊離の求核部分としてヒドロキシル基を含む。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、遊離の求核部分としてアミノ基を含む。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、遊離の求核部分としてチオール基を含む。
いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、ヌクレオシド糖の任意の位置に求核部分を含む。いくつかの実施形態では、求核部分は、糖の5’位に局在する。いくつかの実施形態では、求核部分は、糖の4’位に局在する。いくつかの実施形態では、求核部分は、糖の3’位に局在する。
いくつかの実施形態では、求核部分は、糖の2’位に局在する。
いくつかの実施形態では、式4−1の化合物は、5’−OH部分を含むヌクレオシドであり、そして式4の化合物である。
Figure 0006038860
式4において、Rの各例は、独立して、水素、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。
は、O、NR、S、またはSeである。
は、ブロッキング基である。
の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。
の各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−である。
は、O、NR、またはSである。
Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。
mは、0〜n−1の整数である。
nは、1〜約200の整数である。
は、トリチル部分、シリル部分、アセチル部分、アシル部分、アリールアシル部分、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分に接続されている。
JはOであり、そしてDはHであり、あるいはJはS、Se、もしくはBHであり、そしてDはキラル配位子Cもしくは式A部分である。
Figure 0006038860
式中、WおよびWは、独立して、NHG、OH、またはSHである。
Aは、水素、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分である。
、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
他の実施形態では、式中、Jは、S、Se、またはBHであり、そしてDは、式A−Iの部分である;
Figure 0006038860
式中、U、U、U、r、G、G、G、W、W、Aは、式3−1について本明細書において定義されるとおりである。式A−Iのある実施形態では、Aは水素である。
いくつかの実施形態では、式4の5’−OH部分を含むヌクレオシドは、本明細書に記載の先の鎖伸長サイクル由来の中間体である。なお他の実施形態では、式4の化合物は、別の既知の核酸合成方法由来の中間体である。いくつかの実施形態では、式4の化合物は、固相支持体に付着される。他の実施形態では、式4の化合物は、固相支持体に付着されず、そして溶媒または溶液中で遊離である。
ある実施形態では、mは0であり、そして式4の化合物は、単一のヌクレオシド単位であり、そして核酸の第1のヌクレオシドとみなされる。ある実施形態では、mは0であり、そして式4の化合物は、3’−酸素を介して別の核酸に付着したヌクレオシド単位である。他の実施形態では、mは0より大きく、そして式4の化合物は、5’−OH部分を含むポリマーまたはオリゴマー核酸である。他の実施形態では、mは0より大きく、そして式4の化合物は、先の鎖伸長サイクルの最終生成物である。いくつかの実施形態では、mが0より大きい場合、式4の化合物は、3’位またはヌクレオシド上の別の位置のいずれかにおける連結を介して、ヌクレオチドにさらに付着されるヌクレオシドである。
式4の化合物が別のヌクレオチドまたは核酸に付着される場合、リン酸ヌクレオシド間骨格連結は、2’〜5’リン原子架橋、3’ 〜5’リン原子架橋、5’ 〜3’リン原子架橋、および3’ 〜2’リン原子架橋ならびに4’ 〜2’架橋を含み、そしてこれらに限定されない。リン酸ヌクレオシド間骨格連結は、メチレンビスホスホネート架橋を含むがこれに限定されない他のタイプのリン原子架橋を含むことが企図される。
式1の核酸は、同じまたは異なる核酸塩基を含む。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、同じ核酸塩基を含む。他の実施形態では、式1の核酸は、異なる核酸塩基を含む。他の実施形態では、式1の核酸は、天然に存在する核酸塩基を含む。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、修飾核酸塩基を含む。なお他の実施形態では、核酸は、天然に見出される核酸の核酸塩基配列を模倣する核酸塩基を含有する。いくつかの実施形態では、式1の核酸は、天然に存在する核酸塩基および修飾核酸塩基の混合物を含む。
遊離の求核部分を含む化合物は、溶液中で遊離である。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、固相支持体に付着されない。これにより、溶液中で核酸を合成することが可能である(液相合成または溶液相合成)。あるいは、遊離の求核部分を含む化合物は、固相支持体のような別の部分に予め付着される。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、ヌクレオシドの3’ヒドロキシルにおいて固相支持体に付着される。核酸の固相支持体への付着は、固相合成を使用する合成を可能にする。核酸合成中、固相支持体に付着された化合物は、1回または反復される伸長サイクルにおいて様々な試薬で処理されて、個々の核酸単位を伴って成長する核酸鎖の段階的伸長を達成する。精製工程は、典型的には、完全に集成された核酸配列が合成されるまで行われない。様々なタイプの固相支持体材料が公知であり、そして核酸、タンパク質、およびオリゴ糖の合成に使用される。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、連結部分を介して固相支持体に付着される。他の実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、連結部分を伴わずに固相支持体に付着される。
遊離の求核部分を含む化合物は、糖、置換糖、または修飾糖を含む。いくつかの実施態様では、糖は、リボース糖である。いくつかの実施態様では、糖は、デオキシリボース糖である。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、リボース糖およびデオキシリボース糖の混合物を含む。他の実施形態では、糖は、ペントフラノース、ペントピラノース、ヘキソピラノース部分またはそれらの混合物である。さらなる実施形態では、糖は、閉環構造、開放構造、またはそれらの混合物を含む。
非保護−OH部分を含むヌクレオシド反応物は、糖コア上の任意の位置に非保護−OH基を含有し得る。一実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分は、5’OH−部分を含むヌクレオシドと縮合して、縮合中間体を形成する。他の実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分は、4’OH−部分を含むヌクレオシドと縮合して、縮合中間体を形成する。他の実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分は、3’OH−部分を含むヌクレオシドと縮合して、縮合中間体を形成する。さらに他の実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分は、2’OH−部分を含むヌクレオシドと縮合して、縮合中間体を形成する。
いくつかの実施形態では、縮合中間体を酸性化する工程は、式4の化合物(式中、mは少なくとも1である)を生成する。他の実施形態では、縮合中間体は、式Aの部分に等価である式A’の部分を含み、式中、Aは水素であり、そして式中、GおよびGは、独立して、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、そしてG、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
合成方法の詳細な考察
核酸鎖の伸長は、3’から5’への方向で実施することができる。一実施形態では、核酸は、化学反応の反復サイクルで、5’−末端の遊離のヒドロキシルから合成される。あるいは、核酸鎖の伸長は、5’から3’への方向で実施することができる。ある実施形態では、核酸は、化学反応の反復サイクルで、3’−末端の遊離のヒドロキシルから合成される。
核酸の合成方法の一実施形態を、スキーム5(経路A)に示す。本明細書に記載の方法は、スキーム、事象の順序、または例示されたその中間体に限定されないことが理解される。スキーム5に記載の一実施形態では、式2のアキラルH−ホスホネートが縮合試薬で処理されて、構造IIの中間体を形成する。一実施形態では、活性化試薬は、縮合工程中に反応混合物に添加される。活性化試薬の使用は、反応に使用される溶媒のような反応条件に依存する。構造IIの中間体は、単離せず、そして同じポットにおいて、キラル試薬で処理して、構造IIIのキラル中間体を形成させる。構造IIIの中間体は、単離されず、そして同じポットにおいて、ヌクレオシドまたは構造IVの修飾ヌクレオシドとの反応を経て、構造Vのキラルホスファイト化合物を提供する。いくつかの実施形態では、構造Vを溶媒に抽出して、それを副生成物、不純物、および/または試薬から単離する。他の実施形態では、前記方法を固相合成を介して実施する場合、構造Vの化合物を含む固相支持体を、副生成物、不純物、および/または試薬から濾過分離する。最終核酸がダイマーより大きい場合、構造Vの化合物中のキラル補助基を、ブロッキング基でキャッピングして、構造VIの化合物を提供する。最終核酸がダイマーである場合、キャッピング工程は必要ではない。構造VIの化合物を、求電子剤との反応によって修飾して、構造VIIの化合物を提供する。構造VIIの、修飾されキャッピングされた縮合中間体を脱ブロックして、成長している核酸鎖の5’−末端におけるブロッキング基を除去し、構造IVの化合物を提供する。構造IVの化合物を、場合により、鎖伸長サイクルに再入させて、縮合中間体、キャッピングされた縮合中間体、修飾され、キャッピングされた縮合中間体、および5’脱保護され、修飾され、キャッピングされた中間体を形成させる。少なくとも1ラウンドの鎖伸長サイクル後、5’脱保護され、修飾され、キャッピングされた中間体を、キラル補助配位子および他の保護基、例えば、核酸塩基、修飾核酸塩基、糖および修飾された糖保護基の除去によってさらに脱ブロックして、式1の核酸を提供する。他の実施形態では、5’−OH部分を含むヌクレオシドは、本明細書に記載の先の鎖伸長サイクル由来の中間体である。なお他の実施形態では、5’−OH部分を含むヌクレオシドは、他の既知の核酸合成方法から得られる中間体である。第1のヌクレオシドによる合成のサイクル後、脱保護された−OH部分を含有するヌクレオシド、ヌクレオチド、または核酸は、以後の伸長サイクルに使用することができる。固相支持体を使用する実施形態では、次いで、リン原子修飾核酸を、固相支持体から切断する。所定の実施形態では、核酸を、精製目的のために固相支持体上に付着させたままにし、次いで、精製後に固相支持体から切断する。一実施形態では、スキーム5(経路A)に記載の合成は、式Aのキラル補助配位子のGおよびG位が水素である場合に有用である。なお他の実施形態では、構造III〜VIIの化合物は、式Aの部分の代わりに式A−Iの部分を含む。
スキーム5.経路Aを介する式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸の合成
Figure 0006038860
スキーム6(経路B)に記載の他の実施形態では、式2のアキラルH−ホスホネートが縮合試薬で処理されて、構造IIの中間体を形成する。一実施形態では、活性化試薬は、縮合工程中に反応混合物に添加される。活性化試薬の使用は、反応に使用される溶媒のような反応条件に依存する。構造IIの中間体は、単離せず、そして同じポットにおいて、キラル試薬で処理して、構造IIIのキラル中間体を形成させる。構造IIIの中間体は、単離されず、そして同じポットにおいて、ヌクレオシドまたは構造IXの修飾ヌクレオシドとの反応を経て、構造Xのキラルホスファイト化合物を提供する。いくつかの実施形態では、構造Xを溶媒に抽出して、それを副生成物、不純物、および/または試薬から単離する。他の実施形態では、方法を固相合成を介して実施する場合、構造Xの化合物を含む固相支持体を、副生成物、不純物、および/または試薬から濾過分離する。構造Xの化合物を、酸で処理して、成長している核酸鎖(構造XI)の5’−末端におけるブロッキング基を除去する。酸性化する工程もまた、キラル補助配位子を除去して、構造IXの化合物を提供する。5’−脱ブロックされた中間体を、場合により、鎖伸長サイクルに再入させて、ブロックされた5’−末端を含有する縮合中間体を形成させ、次いで、これを酸性化して、5’−末端ブロッキング基およびキラル補助配位子を除去する。少なくとも1ラウンドの鎖伸長サイクル後、5’脱保護された中間体は、修飾する工程を経て、各リン原子に結合した部分Xが導入されて、構造XIIの化合物を提供する。修飾中間体を、残留する保護基、例えば、核酸塩基、修飾核酸塩基、糖または修飾糖の除去によって脱ブロックし、保護基を除去して、式1の核酸を提供する。他の実施形態では、5’−OH部分を含むヌクレオシドは、本明細書に記載の先の鎖伸長サイクル由来の中間体である。なお他の実施形態では、5’−OH部分を含むヌクレオシドは、他の既知の核酸合成方法から得られる中間体である。第1のヌクレオシドによる合成のサイクル後、脱保護された−OH部分を含有するヌクレオシド、ヌクレオチド、または核酸は、以後の伸長サイクルに使用することができる。固相支持体を使用する実施形態では、次いで、リン原子修飾核酸を、固相支持体から切断する。所定の実施形態では、核酸を、精製目的のために固相支持体上に付着させたままにし、次いで、精製後に固相支持体から切断する。一実施形態では、スキーム6(ルートB)に記載の合成は、式Aのキラル補助配位子のGおよびG位が水素ではない場合に有用である。いくつかの実施形態では、構造III、X、およびXIの化合物は、式Aの部分の代わりに式A−Iの部分を含む。
スキーム6.経路Bを介する式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸の合成
Figure 0006038860
逆方向の5’−3’核酸合成
あるいは、式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸は、5’から3’の方向へ合成される。固相支持体が使用される実施形態では、核酸を、成長している核酸のその5’末端を介して、固相支持体に付着させ、それによって、酵素反応(例えば、ライゲーションおよび重合)を含む反応のために、3’基を提示する。いくつかの実施形態では、この配向は、5’位においてアキラルH−ホスホネート部分および3’位において保護されたヒドロキシル基を含むヌクレオシドモノマーを調製することによって、操作される。ある実施形態では、核酸は、スキーム7に従って合成される。スキーム7において、−Rは、上記で定義された−ORであるか、または合成の最後のサイクルでは、本明細書において定義されるRに等価であるRである。
スキーム7.式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸の5’から3’への合成。
Figure 0006038860
スキーム7に記載の実施形態では、式IのアキラルH−ホスホネートが縮合試薬で処理されて、構造IIの中間体を形成する。構造IIの中間体は、単離せず、そして同じポットにおいて、キラル試薬で処理して、構造IIIの中間体を形成させる。一実施形態では、活性化試薬は、縮合工程中に使用される。活性化試薬の使用は、反応に使用される溶媒のような反応条件に依存する。構造IIIの中間体は、単離されず、そして同じポットにおいて、ヌクレオシドまたは構造XIIIの修飾ヌクレオシドとの反応を経て、構造XIVのキラルホスファイト化合物を提供する。いくつかの実施形態では、構造XIVを溶媒に抽出して、それを副生成物、不純物、および/または試薬から単離する。他の実施形態では、方法を固相合成を介して実施する場合、構造XIVの化合物を含む固相支持体を、副生成物、不純物、および/または試薬から濾過分離する。構造XIVの化合物を、酸で処理して、成長している核酸鎖(構造XV)の3’−末端におけるブロッキング基を除去する。酸性化する工程もまた、キラル補助配位子を除去して、構造XIIIの化合物を提供する。3’−脱ブロックされた中間体を、場合により、鎖伸長サイクルに再入させて、ブロックされた3’−末端を含有する縮合中間体を形成させ、次いで、これを酸性化して、3’−末端ブロッキング基およびキラル補助配位子を除去する。少なくとも1ラウンドの鎖伸長サイクル後、3’脱保護された中間体は、修飾する工程を経て、各リン原子に結合した部分Xが導入されて、構造XVIの化合物を提供する。修飾中間体を、残留する保護基、例えば、核酸塩基、修飾核酸塩基、糖または修飾糖の除去によって脱ブロックし、保護基を除去して、式1の核酸を提供する。他の実施形態では、3’−OH部分を含むヌクレオシドは、本明細書に記載の先の鎖伸長サイクル由来の中間体である。なお他の実施形態では、3’−OH部分を含むヌクレオシドは、他の既知の核酸合成方法から得られる中間体である。第1のヌクレオシドによる合成のサイクル後、脱保護された−OH部分を含有するヌクレオシド、ヌクレオチド、または核酸は、以後の伸長サイクルに使用することができる。固相支持体を使用する実施形態では、次いで、リン原子修飾核酸を、5’末端に局在する固相支持体から切断することができる。所定の実施形態では、核酸を、場合により、精製目的のために固相支持体上に付着させたままにし、次いで、精製後に固相支持体から切断することができる。一態様では、スキーム7に記載の合成は、式Aのキラル補助配位子のGおよびG位の両方が水素ではない場合に有用である。逆方向の5’から3’への合成は、経路Aの工程に類似の機構で、スキーム7の同じ出発物質を使用して、達成することができる。いくつかの実施形態では、構造III、XIV、およびXVの化合物は、式Aの部分の代わりに式A−Iの部分を含む。
鎖伸長サイクル
リン原子修飾核酸の立体選択的合成は、鎖伸長サイクルを含む。鎖伸長サイクルは、核酸に添加しようとする次の単位(例えば、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子)である化合物と別の遊離の求核部分を含む化合物(例えば、ヒドロキシル部分)との間の縮合反応から開始する。いくつかの実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、モノマーヌクレオシドである。他の実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、本明細書に記載の先の鎖伸長サイクル由来の核酸オリゴマーまたはプライマーである。他の実施形態では、遊離の求核部分を含む化合物は、当該技術分野において公知の他の方法を使用して実施される鎖伸長サイクル由来の核酸オリゴマーまたはポリマーである。
鎖伸長サイクルのラウンドの数は、合成する核酸の長さによって決定される。いくつかの実施形態では、鎖伸長サイクルは、1回生じる。他の実施形態では、鎖伸長サイクルは、1回を超えて反復され、個々のヌクレオチド単位を伴う成長しているオリゴヌクレオチド鎖単位の段階的伸長を達成する。
一実施形態では、核酸がダイマーである場合、1ラウンドの鎖伸長サイクルが必要である。他の実施形態では、核酸が10ヌクレオシド単位を含む場合、9ラウンドの鎖伸長サイクルが必要である。さらに他のの実施形態では、さらなる20ヌクレオシド単位がプレ合成された核酸鎖に付加される場合、20ラウンドの鎖伸長サイクルが必要である。鎖伸長サイクルの回数は、核酸の目標の長さについて調整することができることが当業者に理解されよう。本明細書に記載の方法によって合成される核酸は、本明細書に記載の鎖伸長サイクルの回数よって限定されない。
X−ホスホネート部分を導入するための経路Aを介して得られる縮合中間体の修飾。
スキーム8.経路Aを介する縮合中間体の修飾。
Figure 0006038860
式5の化合物において、Rは、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRである。
はO、NR、S、またはSeである;Rはブロッキング部分である。
は、ブロッキング基である。
の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)である。
の各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−である。
は、O、NR、またはSである。
の各例は、独立して水素、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分である。
Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基である。
Jの各例は、S、Se、またはBHである;vは、1〜n−1の整数である。
は、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分に接続されている。
Aは、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分である;ならびにG、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。
いくつかの実施形態では、式5の化合物は、リン原子に付着した式A−Iの部分を含む。他の実施形態では、式5の化合物は、リン原子に付着された式Aの部分を含む。経路Aに例示した方法では、新たなヌクレオシドの付加から得られる縮合中間体は、キャッピングされて、構造Vの化合物を生成し、次いで、リンにおいて修飾されて、S、Se、またはBHであるJを導入して、式5の化合物(式中、vは、1〜n−1の整数である)を生成する。式5の化合物は、処理されて、キャッピングされたキラル補助基を切断し、そして残留するブロッキング基を脱ブロックするか、またはそれは、鎖伸長のさらなるサイクルおよびリン修飾に供されるかのいずれかである。最終核酸がダイマーである場合、キャッピングは必要ではない。構造Vの一実施形態では、Aは、水素、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分である。スキーム9の一実施形態では、新たなヌクレオシド付加から得られる縮合中間体は、構造Vの化合物を生成するためにキャッピングされず、ここで、vは0である。vが0であるこの構造Vは、次いで、リンにおいて修飾されて、S、Se、またはBHであるJを導入し、式5の化合物(式中、vは、0の整数である)を生成する。
いくつかの実施形態では、修飾剤は、硫黄求電子剤、セレン求電子剤、またはホウ素化剤である。
いくつかの実施形態では、硫黄求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:
(式B)、Z24−S−S−Z25、またはZ24−S−X−Z25
式中、Z24およびZ25は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ24およびZ25は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。他の実施形態では、硫黄求電子剤は、式B、C、D、E、またはFの化合物である:
Figure 0006038860

他の実施形態では、硫黄求電子剤は、式F、式Eまたは式Bである。
いくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:
Se(式G)、Z26−Se−Se−Z27、またはZ26−Se−X−Z27
式中、Z26およびZ27は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであるか、あるいはZ26およびZ27は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、S、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。
他の実施形態では、セレン求電子剤は、式G、H、I、J、K、またはLの化合物である:
Figure 0006038860
いくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、式Gまたは式Lである。
いくつかの実施形態では、ホウ素化剤は、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH・DIPEA)、ボラン−ピリジン(BH・Py)、ボラン−2−クロロピリジン(BH・CPy)、ボラン−アニリン(BH・An)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH・MeS)、アニリン−シアノボラン、トリフェニルホスフィンカルボアルコキシボランである。
他の実施形態では、ホウ素化剤は、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH・DIPEA)、ボラン−2−クロロピリジン(BH・CPy)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH・MeS)である。
さらなる実施形態では、経路Aを介して得られる縮合中間体の修飾後、式5の化合物を、R位において脱ブロックして、式4の化合物(式中、mは、少なくとも1であり、Jは、S、Se、またはBHであり、そしてDは、式Aの部分である)を生成する。いくつかの実施形態では、Rの脱ブロック後、式4の化合物(式中、Dは、式A−Iの部分である)が生成する。式4の化合物を、構造IIIのヌクレオシドと反応させ、縮合中間体を生成する。縮合中間体を変換する工程は:縮合中間体をキャッピングする工程、およびキャッピングされた縮合中間体を修飾して、式5の化合物を生成する工程を含む。式5の化合物のいくつかの実施形態では、vは、2より大きく、かつ約200未満である。R位で脱ブロックする工程、構造IIIのヌクレオシドと反応させる工程、キャッピングする工程、および修飾する工程は、場合により反復されて、式5の化合物(式中、vは、整数1だけ増加する)を形成する。式5の化合物のいくつかの実施形態では、vは、3より大きく、かつ約200未満である。
さらなる実施形態では、式5の化合物は、式1の化合物に変換され、式中、いくつかの実施形態では、各Ba部分は、ブロックされていない。他の実施形態では、式5の化合物は、式1の化合物に変換され、式中、すべてのBa部分が、ブロックされていないわけではない。
は、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRであり;ここで、Yは、O、NR、S、もしくはSeであり、Rはブロッキング部分であり、そしてRはブロッキング基である。いくつかの実施形態では、Rは、脱ブロックされている。なお他の実施形態では、Rは、脱ブロックされたままである。
の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり、そしてRの各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンであり、ここで、Yは、O、NR、またはSである。
の各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−である。
いくつかの実施形態では、Rは、Hである。他の実施形態では、Rは、ブロッキング基、または固相支持体、ヌクレオシド、ヌクレオチド、もしくは核酸に接続された連結部分である。いくつかの実施形態では、Xの各例は、独立して、−S、−Se、または−BH であり;およびZは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは一価の金属イオンである。
X−ホスホネート部分を導入するための経路Bを介して得られる式4の化合物の修飾
経路Bを介して得られる式4の化合物を修飾するために使用される方法を、反応スキーム9aおよび9bに例示する。ホスホネートおよびホスファイトは、互変異性化し、そして平衡で存在することが公知である。ホスファイト互変異性体は、ホスホネート互変異性体ほど安定ではない。極めて強力なP=O結合のため、平衡は、天然の条件下で、ホスホネート互変異性体側に存在する。酸性条件下では、ホスホネートのホスホリル基は、可逆的にプロトン化される。中間体におけるP−H結合の切断は、ゆっくりと生じて、ホスファイト中間体を生成する。次いで、反応スキーム9aおよび9bに示される試薬を使用して、構造IXを修飾して、構造XIIを形成させる。
反応スキーム9a.リンにおける初期のハロゲン化を使用し、経路Bを介して合成される中間体におけるリンの修飾
Figure 0006038860
反応スキーム9b.初期のシリル化を使用し、経路Bを介して合成される中間体におけるリンの修飾
Figure 0006038860
いくつかの実施形態では、修飾する工程は、構造IXとハロゲン化試薬とを反応させ、続いて、求核剤と反応させることによって、実施される(スキーム9a)。特定の実施形態では、ハロゲン化試薬は、CCl、CBr、Cl、Br、I、塩化スルフリル(SOCl)、ホスゲン、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、一塩化硫黄、二塩化硫黄、クロラミン、CuCl、N−クロロスクシンイミド(NCS)、N−ブロモスクシンイミド(NBS)、またはN−ヨードスクシンイミド(NIS)である。他の特定の実施形態、ハロゲン化剤は、CCl、CBr、Cl、塩化スルフリル(SOCl)、またはN−クロロスクシンイミド(NCS)である。いくつかの実施形態では、求核剤は、第一級もしくは第二級アミン、アルコール、またはチオールである。他の実施形態では、求核剤は、NRH、ROH、またはRSHであり、ここで、Rは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールであり、そしてNRHのRのうち少なくとも1つは水素ではない。
修飾する工程はまた、構造IXをシリル化試薬と反応させる工程、続いて、硫黄求電子剤、セレン求電子剤、ホウ素化剤、アルキル化剤、アルデヒド、またはアシル化剤と反応させる工程によって、実施することができる(スキーム9b)。
特定の実施形態では、シリル化試薬は、クロロトリメチルシラン(TMS−Cl)、トリイソプロピルシリルクロリド(TIPS−Cl)、t−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMS−Cl)、t−ブチルジフェニルシリルクロリド(TBDPS−Cl)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、N−トリメチルシリルジメチルアミン(TMSDMA)、N−トリメチルシリルジエチルアミン(TMSDEA)、N−トリメチルシリルアセトアミド(TMSA)、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA)、またはN,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド(BSTFA)である。
他の特定の実施形態では、硫黄求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:
(式B)、Z24−S−S−Z25、またはZ24−S−X−Z25
式中、Z24およびZ25は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ24およびZ25は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。他の実施形態では、硫黄求電子剤は、式B、C、D、E、またはFの化合物である:
Figure 0006038860
他の実施形態では、硫黄求電子剤は、式F、式Eまたは式Bである。
いくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、以下の式のうちの1つを有する化合物である:
Se(式G)、Z26−Se−Se−Z27、またはZ26−Se−X−Z27
式中、Z26およびZ27は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ26およびZ27は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Xは、SO、S、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである。
他のいくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、式G、H、I、J、K、またはLの化合物である:
Figure 0006038860
いくつかの実施形態では、セレン求電子剤は、式Gまたは式Lである。
いくつかの実施形態では、ホウ素化剤は、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH・DIPEA)、ボラン−ピリジン(BH・Py)、ボラン−2−クロロピリジン(BH・CPy)、ボラン−アニリン(BH・An)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH・MeS)、アニリン−シアノボラン、トリフェニルホスフィンカルボアルコキシボランである。他の実施形態では、ホウ素化剤は、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH・DIPEA)、ボラン−2−クロロピリジン(BH・CPy)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH・MeS)である。
他の実施形態では、アルキル化剤は、アルキルハライド、アルケニルハライド、アルキニルハライド、アルキルスルホネート、アルケニルスルホネート、またはアルキニルスルホネートである。
他の実施形態では、アルデヒドは、(パラ)−ホルムアルデヒド、アルキルアルデヒド、アルケニルアルデヒド、アルキニルアルデヒド、またはアリールアルデヒドである。
なお他の実施形態では、アシル化剤は、式MまたはNの化合物である:
Figure 0006038860
式中、Gは、アルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、またはヘテロアリールオキシであり;およびMは、F、Cl、Br、I、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、アルキルトリアゾール、テトラゾール、ペンタフルオロベンゼン、または1−ヒドロキシベンゾトリアゾールである。
さらなる実施形態では、酸性化する工程後、mは少なくとも1であり、JはOであり、そしてDはHである式4の化合物を、構造IIIのヌクレオシドと反応させて、縮合中間体を形成させ、これは、酸性化する工程によって変換されて、式4の化合物(式中、mは少なくとも2であり、かつ約200未満である;JはOであり、そしてDはHである)を生成する。他の実施形態では、場合任意により、式4の化合物を、構造IIIのヌクレオシドとさらに反応させ、縮合中間体を形成させ、続いて、酸性化する。構造IIIのヌクレオシドと反応させる工程および酸性化する工程は、成長している鎖における所望の数の単位が達成されるまで、反復される。いくつかの実施形態では、式4の化合物(式中、mは、整数1だけ増加される)が生成する。いくつかの実施形態では、mが2より大きく、かつ約200未満である式4の化合物が生成される。いくつかの実施形態では、縮合中間体は、式Aの部分の代わりに式A−Iの部分を含む。
さらなる実施形態では、式4の化合物が修飾されて、X部分を導入し、それによって、式1の化合物を生成する。式1の化合物の実施形態では、Rは、ブロッキング基、または固相支持体に接続された連結部分である。他の実施形態では、Rは、脱ブロックされている。なお他の実施形態では、式1の化合物は、Rがブロックされたままであるように、処理される。なおさらなる実施形態では、式1の化合物は、Rが、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRであるように処理され;ここで、Yは、O、NR、S、またはSeであり、Rは、ブロッキング部分であり、そしてRは、ブロッキング基であり、Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、またはHP(O)(R)であり、そしてRの各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンであり、ここで、Yは、O、NR、またはSである。
の各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−である。いくつかの実施形態では、Rは、脱ブロックされている。なお他の実施形態では、Rは、脱ブロックされたままである。
いくつかの実施形態では、各Ba部分はブロックされていない。他の実施形態では、すべてのBa部分が、ブロックされていないわけではない。他の実施形態では、Rは、Hである。いくつかの実施形態では、Rは、ブロッキング基、または固相支持体、ヌクレオシド、ヌクレオチド、もしくは核酸に接続された連結部分である。いくつかの実施形態では、Xの各例は、独立して、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH である;Rの各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールであり;Zは、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであり、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは、一価の金属イオンである。
本発明の方法において使用される反応条件および試薬
条件
アキラルH−ホスホネート部分を含む分子および5’−OH部分を含むヌクレオシドを反応させて、縮合中間体を形成させる工程は、何ら中間体を単離することなく、行うことができる。いくつかの実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子および5’−OH部分を含むヌクレオシドを反応させて、縮合中間体を形成させる工程は、ワンポット反応で行われる。ある実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子、縮合試薬、キラル試薬、および遊離の求核部分を含む化合物が、異なる時間に反応混合物に添加される。他の実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子、縮合試薬、およびキラル試薬は、同じ反応容器または同じポット中に存在する。他の実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子、縮合試薬、キラル試薬、および遊離の求核部分を含む化合物が、同じ反応または同じポット中に存在する。これは、反応を、中間体の単離を伴わずに実施することを可能にし、そして時間を消耗する工程を排除し、経済的かつ効率的な合成が得られる。特定の実施形態では、アキラルH−ホスホネート、縮合試薬、キラルアミノアルコール、5’−OHヌクレオシドは、反応中に同時に存在する。さらなる実施形態では、縮合のためのキラル中間体の形成は、インサイチュで形成され、そして縮合反応に先立って単離されない。他の実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分を含む分子は、キラル中間体と遊離の5’−OH部分を含む化合物とを反応させる場合に使用されるものとは異なる反応容器における縮合試薬、キラル試薬との反応によって活性化されている。ある実施形態では、活性化試薬は、縮合工程中に添加される。一実施形態では、アキラルH−ホスホネート部分、縮合試薬、およびキラル試薬が共に混合された後、活性化試薬が添加される。他の実施形態では、活性化試薬は、アキラルH−ホスホネート部分、縮合試薬、およびキラル試薬と共に添加される。反応条件に依存して、活性化試薬は、合成中、例えば、縮合工程において、有用であり得る。例えば、ピリジンが、プレ活性化または縮合工程において塩基として使用される場合、ピリジンは、求核性触媒(即ち、活性化因子)として作用するため、CMPTのような活性化試薬は、存在する必要はない。ピリジンほど求核性ではないN−シアノメチルピロリジン(CMP)のような塩基が、縮合工程において使用される場合、CMPTのような活性化試薬の使用が、活性化試薬として追加され得る。
固相支持体上での合成
いくつかの実施形態では、核酸の合成は、溶液中で実施される。他の実施形態では、核酸の合成は、固相上で実施される。固相支持体の反応基は、保護されていなくてもよく、または保護されていてもよい。オリゴヌクレオチド合成中、固相支持体は、いくらかの合成サイクルにおいて、様々な試薬で処理されて、個々のヌクレオチド単位の成長オリゴヌクレオチド鎖の段階的伸長を達成する。固相支持体に直接連結される鎖の末端のヌクレオシド単位は、本明細書において「第1のヌクレオシド」と呼ばれる。第1のヌクレオシドは、リンカー部分、即ち、固相支持体のポリマーおよびヌクレオシドの両方への共有結合を伴うジラジカルを介して、固相支持体に結合される。リンカーは、オリゴヌクレオチド鎖を集成するために実施される合成サイクル中に無傷(intact)で留まり、そして鎖の集成後に切断されて、支持体からオリゴヌクレオチドを遊離させる。
固相核酸合成のための固相支持体には、例えば、米国特許第4,659,774号、同第5,141,813号、同第4,458,066号;Caruthersの米国特許第4,415,732号、同第4,458,066号、同第4,500,707号、同第4,668,777号、同第4,973,679号、および同第5,132,418号;Andrusらの米国特許第5,047,524号、同第5,262,530号;ならびにKosterの米国特許第4,725,677号(Re34,069号として再発行)において記載の支持体が含まれる。いくつかの実施形態では、固相は、有機ポリマー支持体である。他の実施形態では、固相は、無機ポリマー支持体である。いくつかの実施形態では、有機ポリマー支持体は、ポリスチレン、アミノメチルポリスチレン、ポリエチレングリコール−ポリスチレングラフト共重合体、ポリアクリルアミド、ポリメタクリレート、ポリビニルアルコール、高架橋ポリマー(HCP)、または他の合成ポリマー、セルロースおよびデンプンのような炭水化物もしくは他のポリマー性炭水化物、または他の有機ポリマーおよび任意の共重合体、複合材料あるいは上記の無機または有機材料の組み合わせである。他の実施形態では、無機ポリマー支持体は、シリカゲル支持体、またはアミノプロピルCPGであるシリカ、アルミナ、制御されたポリガラス(CPG)である。他の有用な固相支持体には、フルオラス固相支持体(例えば、国際公開第2005/070859号パンフレットを参照のこと)、長鎖アルキルアミン(LCAA)制御された多孔質ガラス(CPG)固相支持体(例えば、S. P. Adams, K. S. Kavka, E. J. Wykes, S. B. Holder and G. R. Galluppi, J. Am. Chem. Soc., 1983, 105, 661-663;G. R. Gough, M. J. Bruden and P. T. Gilham, Tetrahedron Lett., 1981, 22, 4177-4180を参照のこと)が含まれる。膜支持体および高分子膜(例えば、Innovation and Perspectives in Solid Phase Synthesis, Peptides, Proteins and Nucleic Acids, ch 21 pp 157-162, 1994, Ed. Roger Eptonおよび米国特許第4,923,901号を参照のこと)もまた、核酸の合成に有用である。一旦、形成されれば、膜は、核酸合成に使用するために化学的に官能化することができる。官能基の膜への付着では、膜に付着されたリンカーまたはスペーサー基の使用は、膜と合成された鎖との間の立体障害を最小限にするために使用され得る。
他の適切な固相支持体には、固相方法論に使用するために適切であることが当該技術分野において一般的に公知であるものが含まれ、例えば、PrimerTM200支持体、制御された多孔質ガラス(CPG)、オキサリル−制御された多孔質ガラス(例えば、Alul, et al., Nucleic Acids Research, 1991, 19, 1527を参照のこと)としてのガラス固体、TentaGel Support−アミノポリエチレングリコール誘導体化支持体(例えば、Wright, et al., Tetrahedron Lett., 1993, 34, 3373を参照のこと)、およびポリスチレン/ジビニルベンゼンのPoros−a共重合体が含まれる。
表面活性化ポリマーは、いくらかの固相支持体媒体上での天然および修飾核酸およびタンパク質の合成における使用について、実証されている。固相支持体材料は、多孔性において適切に均質な任意のポリマーであり得、十分なアミン含有量を有し、そして完全性を失うことなく、任意の付随操作を経験するのに十分に可撓性である。適切な選択された材料の例には、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、およびニトロセルロースが含まれる。他の材料も、研究者の設計に依存して固相支持体として役立ち得る。いくつかの設計について考慮すると、例えば、被覆金属、特に、金または白金を選択することができる(例えば、米国特許出願公開第20010055761号を参照のこと)。オリゴヌクレオチド合成の一実施形態では、例えば、ヌクレオシドは、ヒドロキシルまたはアミノ残基によって官能化される固相支持体にアンカーされる。あるいは、固相支持体は、誘導体化されて、トリメトキシトリチル基(TMT)のような酸に不安定なトリアルコキシトリチル基を提供する。理論にとらわれるものではないが、トリアルコキシトリチル保護基の存在は、DNA合成機において一般的に使用される条件下で初期の脱トリチルを可能にすることが予想される。水性アンモニアを伴う溶液中オリゴヌクレオチド材料のより速い放出のために、場合により、ジグリコエート(diglycoate)リンカーが、支持体に導入される。
連結部分
連結部分またはリンカーは、場合により使用されて、固相支持体を遊離の求核部分を含む化合物に接続する。固相支持体を、固相合成技術における最初のヌクレオシド分子の官能基(例えば、ヒドロキシル基)に接続することに役立つ短い分子のような適切なリンカーが公知である。いくつかの実施形態では、連結部分は、スクシンアミド酸リンカー、もしくはスクシネートリンカー(−CO−CH−CH−CO−)、またはオキサリルリンカー(−CO−CO−)である。他の実施形態では、連結部分およびヌクレオシドは、エステル結合を介して、共に結合される。他の実施形態では、連結部分およびヌクレオシドは、アミド結合を介して、共に結合される。さらなる実施形態では、連結部分は、ヌクレオシドを別のヌクレオチドまたは核酸に接続する。適切なリンカーについては、例えば、Oligonucleotides And Analogues A Practical Approach, Ekstein, F. Ed., IRL Press, N.Y., 1991, Chapter 1に記載されている。
リンカー部分は、遊離の求核部分を含む化合物を別のヌクレオシド、ヌクレオチド、または核酸に接続するために使用される。いくつかの実施形態では、連結部分は、ホスホジエステル連結である。他の実施形態では、連結部分は、H−ホスホネート部分である。なお他の実施形態では、連結部分は、X−ホスホネート部分である。
合成のための溶媒
核酸の合成は、非プロトン性有機溶媒中で実施される。いくつかの実施形態では、溶媒は、アセトニトリル、ピリジン、テトラヒドロフラン、またはジクロロメタンである。いくつかの実施形態では、非プロトン性有機溶媒が塩基性ではない場合、塩基は、反応工程中に存在する。塩基が存在するいくつかの実施形態では、塩基は、ピリジン、キノリン、またはN,N−ジメチルアニリンまたはN−シアノメチルピロリジンである。塩基の他の例には、ピロリジン、ピペリジン、N−メチルピロリジン、ピリジン、キノリン、N,N−ジメチルアミノピリジン(DMAP)、N,N−ジメチルアニリンまたはN−シアノメチルピロリジンが含まれる。前記方法のいくつかの実施形態では、塩基は、
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であり、式中、Z22およびZ23は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであるか、または式中、Z22およびZ23のいずれかは、一緒になって、3〜10員環の脂環もしくはヘテロ環を形成する。前記方法のいくつかの実施形態では、塩基は、N−シアノメチルピロリジンである。いくつかの実施形態では、非プロトン性有機溶媒は、無水である。他の実施形態では、無水の非プロトン性有機溶媒は、蒸留直後のものである(freshly distilled)。いくつかの実施形態では、蒸留直後の無水の非プロトン性有機溶媒は、ピリジンである。他の実施形態では、蒸留直後の無水の非プロトン性有機溶媒は、テトラヒドロフランである。他の実施形態では、蒸留直後の無水の非プロトン性有機溶媒は、アセトニトリルである。溶媒は、2つを超える溶媒の組み合わせであり得る。合成にどの溶媒を使用するかに依存して、活性化試薬の添加が有用である。
ブロッキング基を除去するための酸性化条件
ブロッキング基を除去するための酸性化は、ブレンステッドおよびルイス酸によって達成される。いくつかの実施形態では、Rブロッキング基を除去するために、酸性化が使用される。有用なブレンステッド酸は、有機溶媒または水(80%酢酸の場合)中−0.6(トリフルオロ酢酸)〜4.76(酢酸)のpKa(水中25℃)値を有する、カルボン酸、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、リン酸およびその誘導体、ホスホン酸およびその誘導体、アルキルホスホン酸およびそれらの誘導体、アリールホスホン酸およびそれらの誘導体、ホスフィン酸、ジアルキルホスフィン酸、ならびにジアリールホスフィン酸である。酸性化工程において使用される酸(1〜80%)の濃度は、酸の酸性度に依存する。強酸条件により、脱プリン/脱ピリミジンが得られ、ここで、プリニルまたはピリミジニル塩基が、リボース環から切断されるため、酸性強度について、考慮しなければならない。
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いくつかの実施形態では、酸性化は、有機溶媒中のルイス酸によって達成される。有用なルイス酸は、ZnXであり、式中、Xは、Cl、Br、I、またはCFSOである。
いくつかの実施形態では、酸性化する工程は、縮合中間体からプリン部分を除去せずに、縮合中間体を式4の化合物に変換するのに有効な量のブレンステッドまたはルイス酸を添加する工程を含む。
酸性化する工程において有用である酸にはまた、有機溶媒中10%リン酸、有機溶媒中10%塩酸、有機溶媒中1%トリフルオロ酢酸、有機溶媒中3%ジクロロ酢酸または水中80%酢酸が含まれるが、これらに限定されない。前記プロセスにおいて使用される任意のブレンステッドまたはルイス酸の濃度は、酸の濃度が、糖部分からの核酸塩基の切断を引き起こす濃度を超えないように、選択される。
いくつかの実施形態では、酸性化は、有機溶媒中1%トリフルオロ酢酸を添加する工程含む。いくつかの実施形態では、酸性化は、有機溶媒中約0.1%〜約8%トリフルオロ酢酸を添加する工程を含む。他の実施形態では、酸性化は、有機溶媒中3%ジクロロ酢酸を添加する工程を含む。他の実施形態では、酸性化は、有機溶媒中約0.1%〜約10%トリクロロ酢酸を添加する工程を含む。なお他の実施形態では、酸性化は、有機溶媒中3%ジクロロ酢酸を添加する工程を含む。なお他の実施形態では、酸性化は、有機溶媒中約0.1%〜約10%トリクロロ酢酸を添加する工程を含む。いくつかの実施形態では、酸性化は、水中80%酢酸を添加する工程を含む。いくつかの実施形態では、酸性化は、水中約50%〜約90%、または約50%〜約80%、約50%〜約70%、約50%〜約60%、約70%〜約90%酢酸を添加する工程を含む。いくつかの実施形態では、酸性化は、酸性溶媒へのカチオンスカベンジャーのさらなる添加を含む。特定の実施形態では、カチオンスカベンジャーは、トリエチルシランまたはトリイソプロピルシランであり得る。いくつかの実施形態では、Rは、縮合中間体を酸性化する工程に先立って脱ブロックされる。いくつかの実施形態では、Rは、有機溶媒中1%トリフルオロ酢酸を添加する工程含む酸性化によって、脱ブロックされる。いくつかの実施形態では、Rは、有機溶媒中3%ジクロロ酢酸を添加する工程含む酸性化によって、脱ブロックされる。いくつかの実施形態では、Rは、有機溶媒中3%トリクロロ酢酸を添加する工程含む酸性化によって、脱ブロックされる。
ブロッキング部分または基の除去。
核酸塩基または糖部分に局在するヒドロキシルまたはアミノ部分の官能基は、合成中、ブロッキング(保護)基(部分)で日常的にブロックされ、その後、脱ブロックされる。一般に、ブロッキング基は、特定の反応条件に対する分子の化学官能基を不活にし、そして後に、分子の残りの部分を実質的に損傷することなく、分子中のそのような官能基から除去することができる(例えば、Green and Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis, 2nd Ed., John Wiley & Sons, New York, 1991を参照のこと)。例えば、アミノ基は、フタルイミド、9−フルドレニルメトキシカルボニル(FMOC)、トリフェニルメチルスルフェニル、t−BOC、4,4’−ジメトキシトリチル(DMTr)、4−メトキシトリチル(MMTr)、9−フェニルキサンチン−9−イル(Pixyl)、トリチル(Tr)、または9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イル(MOX)のような窒素ブロッキング基でブロックすることができる。カルボキシル基は、アセチル基として保護され得る。ヒドロキシ基は、例えば、テトラヒドロピラニル(THP)、t−ブチルジメチルシリル(TBDMS)、1−[(2−クロロ−4−メチル)フェニル]−4−メトキシピペリジン−4−イル(Ctmp)、1−(2−フルオロフェニル)−4−メトキシピペリジン−4−イル(Fpmp)、1−(2−クロロエトキシ)エチル、3−メトキシ−1,5−ジカルボメトキシペンタン−3−イル(MDP)、ビス(2−アセトキシエトキシ)メチル(ACE)、トリイソプロピルシリルオキシメチル(TOM)、1−(2−シアノエトキシ)エチル(CEE)、2−シアノエトキシメチル(CEM)、[4−(N−ジクロロアセチル−N−メチルアミノ)ベンジルオキシ]メチル、2−シアノエチル(CN)、ピバロイルオキシメチル(PivOM)、レブニルオキシメチル(levunyloxymethyl)(ALE)で保護することができる。他の代表的なヒドロキシルブロッキング基についても記載されている(例えば、Beaucage et al., Tetrahedron, 1992, 46, 2223を参照のこと)。いくつかの実施形態では、ヒドロキシルブロッキング基は、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル、9−フェニルキサンチン−9−イル(Pixyl)および9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イル(MOX)のような酸に不安定な基である。化学官能基はまた、前駆体の形態で含まれることによって、ブロックされ得る。それ故、アジド基は容易にアミンに変換されるため、アジド基は、アミンのブロックされた形態とみなすことができる。核酸合成において利用されるさらなる代表的な保護基は、公知である(例えば、Agrawal et al., Protocols for Oligonucleotide Conjugates, Eds., Humana Press, New Jersey, 1994, Vol. 26, pp. 1-72を参照のこと)。
様々な方法が、公知であり、そして核酸からのブロッキング基の除去のために使用されている。いくつかの実施形態では、すべてのブロッキング基が除去される。他の実施形態では、ブロッキング基が部分的に除去される。なお他の実施形態では、反応条件を調整して、所定の部分上のブロッキング基を除去することができる。Rがブロッキング基である所定の実施形態では、Rにおけるブロッキング基の除去は、Rにおけるブロッキング基の除去とは独立(orthogonal)している。RおよびRにおけるブロッキング基は、合成工程中無傷のままであり、そして鎖の集成後にまとめて除去される。いくつかの実施形態では、Rブロッキング基は、固相支持体からの核酸の切断および核酸塩基ブロッキング基の除去と同時に除去される。特定の実施形態では、Rにおけるブロッキング基が除去される一方、Rおよび核酸塩基におけるブロッキング基は、無傷のままである。Rにおけるブロッキング基は、第一級アミン、第二級アミン、またはそれらの混合物のような有機塩基により、固相支持体上で切断可能である。R位の脱ブロックは、一般に、フロントエンドの脱保護と称される。
ある実施形態では、核酸塩基ブロッキング基は、存在する場合、酸性試薬によるそれぞれの核酸の集成後に切断可能である。他の実施形態では、核酸塩基ブロッキング基のうち1つ以上は、酸性条件下または塩基性条件下のいずれでも切断可能ではなく、例えば、フッ化塩またはフッ化水素酸錯体により切断可能である。さらに他の実施形態では、核酸塩基ブロッキング基のうち1つ以上は、塩基または塩基性溶媒の存在下でのそれぞれの核酸の集成後に切断可能であり、そしてここで、核酸塩基ブロッキング基は、アミンによるフロントエンドの脱保護工程の条件に対して安定である。
いくつかの実施形態では、核酸塩基に対するブロッキング基は、必要とされない。他の実施形態では、核酸塩基に対するブロッキング基は、必要とされる。なお他の実施形態では、所定の核酸塩基は、ブロッキング基を必要とする一方、他の核酸塩基は、ブロッキング基を必要としない。核酸塩基がブロックされる実施形態では、ブロッキング基は、フロントエンドにおいてブロッキング基を除去するのに適切な条件下で、完全にまたは部分的にのいずれかで除去される。例えば、Rは、ORを示し得、式中、Rはアシルであり、そしてBaは、イソブチリル、アセチルまたは4−(tertブチルフェノキシ)アセチルを含むが、これらに限定されないアシル基でブロックされたグアニンを指す。Rにおけるアシル基およびBaは、同じ脱ブロック工程中で除去されるかまたは部分的に除去される。
試薬
縮合試薬
本発明の方法に有用な縮合試薬(C)は、次の一般式のうちの1つを有する:ArPL、および(ArO)PL
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式中、Z、Z、Z、Z、Z、Z、Z、Z、ZおよびZ10は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシから選択され、あるいは式中、ZとZ、ZとZ、ZとZ、ZとZ、ZとZ、もしくはZとZとZのうちのいずれかは、一緒になって、3〜20員環の脂環またはヘテロ環を形成し;Qは、対アニオンであり;wは、0〜3の整数であり;Lは、脱離基であり;ならびにArは、アリール、ヘテロアリールであり、および/またはAr基のうちの1つは、高分子支持体に付着されている。
いくつかの実施形態では、縮合試薬Cの対イオンは、Cl、Br、BF 、PF 、TfO、Tf、AsF 、ClO 、またはSbF であり、ここで、TfはCFSOである。いくつかの実施形態では、縮合試薬Cの脱離基は、F、Cl、Br、I、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール、イミダゾール、アルキルトリアゾール、テトラゾール、ペンタフルオロベンゼン、または1−ヒドロキシベンゾトリアゾールである。
前記プロセスにおいて使用することができる縮合剤の例には、ペンタフルオロベンゾイルクロリド、カルボニルジイミダゾール(CDI)、1−メシチレンスルホニル−3−ニトロトリアゾール(MSNT)、1−エチル3−(3’−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(EDCI−HCl)、ベンゾトリアゾール−1−イルオキシトリス(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(PyBOP)、N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl)、2−(1H−7−アザベンゾトリアゾール−1−イル)−1,1,3,3−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート(HATU)、およびO−ベンゾトリアゾール−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート(HBTU)、DIPCDI;N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸ブロミド(BopBr)、1,3−ジメチル−2−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−yl)−2−ピロリジン−1−イル−1,3,2−ジアザホスホリジニウムヘキサフルオロホスフェート(MNTP)、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−イル−トリス(ピロリジン−1−イル)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(PyNTP)、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(PyBrOP);O−(ベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート(TBTU);テトラメチルフルオロホルムアミジニウムヘキサフルオロホスフェート(TFFH);(PhO)PCl、およびビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)が含まれるが、これらに限定されない。所定の実施形態では、縮合試薬Cの対イオンは、Cl、Br、BF 、PF 、TfO、Tf、AsF 、ClO 、またはSbF であり、ここで、TfはCFSOである。
本発明の他の実施形態では、縮合試薬は、1−(2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニル)−5−(ピリジン−2−イル)テトラゾリド、ピバロイルクロリド、ブロモトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl)、(PhO)PCl、もしくは2−クロロ−5,5−ジメチル−2−オキソ−1,3,2−ジオキサホスフィナン、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、またはPhPClである。一実施形態では、縮合試薬は、N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl)である。一実施形態では、縮合試薬は、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)である。一実施形態では、縮合試薬は、PhPClである。他の既知の縮合試薬については、既に記載されている(例えば、国際公開第2006/066260号パンフレットを参照のこと)。
他の実施形態では、縮合試薬は、1,3−ジメチル−2−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−イル)−2−ピロリジン−1−イル−1,3,2−ジアザホスホリジニウムヘキサフルオロホスフェート(MNTP)、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−イル−トリス(ピロリジン−1−イル)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(PyNTP)、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、(PhO)PCl、またはPhPClである。
Figure 0006038860
活性化試薬
本明細書において有用な活性化試薬は、遊離の求核部分を含む化合物との反応のためにキラル中間体を活性化することが可能な強力なプロトン供与能を有するべきである。一実施形態では、キラル中間体は、スキーム5もしくは6に示される構造IIIであるか、またはスキーム7に示される構造IIIである。活性化試薬は、Wが窒素である場合、構造IIIまたはIIIの窒素原子をプロトン化することによって、作用する。活性化試薬の使用は、合成に使用される溶媒に依存する。
本発明の方法に有用な活性化試薬(A)は、以下の一般式のうちの1つを有する:
Figure 0006038860
11、Z12、Z13、Z14、Z15、Z16、Z17、Z18、Z19、Z20、およびZ21は、独立して、水素、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであり、あるいは式中、Z11とZ12、Z11とZ13、Z11とZ14、Z12とZ13、Z12とZ14、Z13とZ14、Z15とZ16、Z15とZ17、Z16とZ17、Z18とZ19、もしくはZ20とZ21のうちいずれかは、一緒になって、3〜20員環の脂環もしくはヘテロ環を形成するか、または5もしくは20員環の芳香環を形成する。Qは、対イオンである。前記方法のいくつかの実施形態では、活性化試薬Aの対イオンは、Cl、Br、BF 、PF 、TfO、Tf、AsF 、ClO 、またはSbF であり、ここで、TfはCFSOである。
前記方法のいくつかの実施形態では、活性化試薬は、イミダゾール、4,5−ジシアノイミダゾール(DCI)、4,5−ジクロロイミダゾール、1−フェニルイミダゾリウムトリフレート(PhIMT)、ベンゾイミダゾリウムトリフレート(BIT)、ベンズトリアゾール、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール(NT)、テトラゾール、5−エチルチオテトラゾール、5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール、N−シアノメチルピロリジニウムトリフレート(CMPT)、N−シアノメチルピペリジニウムトリフレート、N−シアノメチルジメチルアンモニウムトリフレートである。
前記方法のいくつかの実施形態では、活性化試薬は、4,5−ジシアノイミダゾール(DCI)、1−フェニルイミダゾリウムトリフレート(PhIMT)、ベンゾイミダゾリウムトリフレート(BIT)、3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール(NT)、テトラゾール、またはN−シアノメチルピロリジニウムトリフレート(CMPT)である。
Figure 0006038860
方法のいくつかの実施形態では、活性化試薬は、N−シアノメチルピロリジニウムトリフレート(CMPT)である。
キラル試薬
本発明の方法では、X−ホスホネート連結の生成において立体選択性を付与するために、キラル試薬が使用される。異なる多くのキラル補助基が、このプロセスにおいて使用され得、これらは、式3−Iの化合物であって、式中、W、およびWは、−O−、−S−、または−NG−のいずれかであり、これらは、H−ホスホネート出発物質、式2の化合物と反応して、スキーム5および6の構造IIIに示されるようなキラル中間体を形成することが可能である。
Figure 0006038860
およびUは、単結合、二重結合もしくは三重結合を介して、存在する場合Uに結合し、またはrが0である場合は相互に結合する、炭素原子である。Uは、−C−、−CG−、−CG−、−NG−、−N−、−O−、または−S−であり、式中、rは、0〜5の整数であり、そして2個以下のヘテロ原子が隣接する。Uのうち任意の1つがCである場合、三重結合は、CであるUの第2の事例との間、またはUもしくはUのうち一方に対して形成されなければならない。同様に、Uのうちいずれか1つがCGである場合、二重結合は、−CG−もしくは−N−であるUの第2の事例との間、またはUもしくはUのうち一方に対して形成される。
例えば、いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−CG−CG−である。いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−CG=CG−である。いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−C≡C−である。いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−CG=CG−CG−である。いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−CG−O−CG−である。いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−CG−NG−CG−である。いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−CG−N−CG−である。いくつかの実施形態では、−U−(U−U−は、−CG−N=CG−CG−である。
、G、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘタリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、そして縮合するかまたは縮合しない。いくつかの実施形態では、そのように形成される環は、オキソ、チオキソ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアリール、またはアリール部分によって、置換される。いくつかの実施形態では、Gのうち2つを一緒にして形成される環が置換される場合、それは、反応中に立体選択性を付与するの十分に嵩高い部分によって置換される。
例えば、いくつかの実施形態では、Gのうち2つを一緒にして形成される環は、シクロペンチル、ピロリル、シクロプロピル、シクロヘキセニル、シクロペンテニル、テトラヒドロピラニル、またはピペラジニルである。
本発明のいくつかの実施形態では、キラル試薬は、式3の化合物である。
Figure 0006038860
式3のいくつかの実施形態では、WおよびWは、独立して、−NG−、−O−、または−S−であり;G、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘタリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであり、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、約20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである。式3’の化合物と同様に、G、G、G、G、またはGのうちいずれかは、オキソ、チオキソ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアリール、またはアリール部分によって置換される。いくつかの実施形態では、そのような置換は、X−ホスホネート生成において立体選択性を導入する。
本発明のいくつかの実施形態では、キラル試薬は、以下の式のうちの1つを有する:
Figure 0006038860
いくつかの実施形態では、キラル試薬は、アミノアルコールである。他のいくつかの実施形態では、キラル試薬は、アミノチオールである。なお他の実施形態では、キラル試薬は、アミノフェノールである。いくつかの実施形態では、キラル試薬は、(S)−および(R)−2−メチルアミノ−1−フェニルエタノール、(1R,2S)−エフェドリン、または(1R,2S)−2−メチルアミノ−1,2−ジフェニルエタノールである。
本発明の他の実施形態では、キラル試薬は、以下の式のうちの1つの化合物である。
Figure 0006038860
キラル試薬の選択、例えば、式Oによって表される異性体またはその立体異性体、式Pは、リンにおけるキラリティーの特定の制御を可能にする。それ故、RまたはS配置のいずれかを、各合成サイクルにおいて選択することができ、核酸生成物の全体的な三次元構造の制御が可能になる。本発明のいくつかの実施形態では、核酸生成物は、すべてR立体中心を有する。本発明のいくつかの実施形態では、核酸生成物は、すべてS立体中心を有する。いくつかの実施形態では、RおよびS中心の選択は、核酸鎖に特定の三次元構造を付与するために行われる。
核酸塩基および修飾核酸塩基
式1における核酸塩基Baは、天然の核酸塩基、または天然の核酸塩基から誘導される修飾核酸塩基である。例には、アシル保護基によって保護されたそれらのそれぞれのアミノ基を有するウラシル、チミン、アデニン、シトシン、およびグアニン、2−フルオロウラシル、2−フルオロシトシン、5−ブロモウラシル、5−ヨードウラシル、2,6−ジアミノプリン、アザシトシン、プソイドイソシトシンおよびプソイドウラシルのようなピリミジン類似体、ならびに8−置換プリン、キサンチン、またはヒポキサンチン(後者の2つは、天然の分解産物である)のような他の修飾核酸塩基が含まれるが、これらに限定されない。Chiu and Rana, RNA, 2003, 9, 1034-1048, Limbach et al. Nucleic Acids Research, 1994, 22, 2183-2196およびRevankar and Rao, Comprehensive Natural Products Chemistry, vol.7, 313において開示される修飾核酸塩基もまた、式1のBa部分として企図される。
以下の一般式によって表される化合物もまた、修飾核酸塩基として企図される:

Figure 0006038860
上記の式では、Rは、1〜15個の炭素原子を有する線状もしくは分枝状アルキル、アリール、アラルキル、またはアリールオキシルアルキル基であり、単なる例として、メチル、イソプロピル、フェニル、ベンジル、またはフェノキシメチル基が含まれ;ならびにRおよびR10のそれぞれは、1〜4個の炭素原子を有する線状または分枝状アルキル基を表す。
修飾核酸塩基にはまた、1つ以上のベンゼン環が付加されている、拡大されたサイズの核酸塩基が含まれる。Glen Research catalog (www.glenresearch.com);Krueger AT et al, Ace. Chem. Res., 2007, 40, 141-150;Kool, ET, Ace. Chem. Res., 2002, 55, 936-943;Benner S.A., et al., Nat. Rev. Genet., 2005, 6, 553-543;Romesberg, F.E., et al., Curr. Opin. Chem. Biol, 2003, 7, 723-733;Hirao, I., Curr. Opin. Chem. Biol., 2006, 10, 622-627に記載の核塩基の置き換えは、本明細書に記載の核酸の合成に有用であると考えられる。これらの拡大されたサイズの核酸塩基のいくつかの例を以下に示す:
Figure 0006038860
本明細書において、修飾核酸塩基はまた、核酸塩基とはみなされないが、コリンまたはポルフィリンから誘導される環のような、但し、これらに限定されない他の部分である構造を包含する。ポルフィリンから誘導される塩基の置き換えについては、Morales-Rojas, H and Kool, ET, Org. Lett., 2002, 4, 4377-4380に記載されている。塩基の置き換えとして使用することができるポルフィリンから誘導される環の例を、以下に示す:
Figure 0006038860
他の修飾核酸塩基にはまた、以下に示すような塩基の置き換えが含まれる:
Figure 0006038860
蛍光性である修飾核酸塩基もまた企図される。これらの塩基の置き換えの非制限的例には、以下に示すような:フェナントレン、ピレン、スチルベン、イソキサンチン、イソザントプテリン、ターフェニル、ターチオフェン、ベンゾターチオフェン、クマリン、ルマジン、テザー化スチルベン、ベンゾ−ウラシル、およびナフト−ウラシルが含まれる。
Figure 0006038860
修飾核酸塩基は、非置換であり得るか、あるいはヘテロ原子、アルキル基、または蛍光部分、ビオチンもしくはアビジン部分、または他のタンパク質もしくはペプチドに接続された連結部分のようなさらなる置換を含有し得る。修飾核酸塩基はまた、最も古典的な意味では核酸塩基ではないが、核酸塩基と同様に機能する所定の「普遍的(universal)塩基」を含む。そのような普遍的塩基の1つの代表例は、3−ニトロピロールである。
構造IVまたはIXのヌクレオシドに加えて、他のヌクレオシドもまた、本明細書において開示するプロセスにおいて使用され得、そして修飾核酸塩基、または修飾糖に共有結合した核酸塩基を組み込んだヌクレオシドを含み得る。修飾核酸塩基を組み込んだヌクレオシドのいくつかの例には、4−アセチルシチジン;5−(カルボキシヒドロキシルメチル)ウリジン;2’−O−メチルシチジン;5−カルボキシメチルアミノメチル−2チオウリジン;5−カルボキシメチルアミノメチルウリジン;ジヒドロウリジン;2’−O−メチルプソイドウリジン;β,D−ガラクトシルケウオシン;2’−0−メチルグアノシン;N−イソペンテニルアデノシン;1−メチルアデノシン;1−メチルプソイドウリジン;1−メチルグアノシン;1−メチルイノシン;2,2−ジメチルグアノシン;2−メチルアデノシン;2−メチルグアノシン;N−メチルグアノシン;3−メチル−シチジン;5−メチルシチジン;N−メチルアデノシン;7−メチルグアノシン;5−メチルアミノエチルウリジン;5−メトキシアミノメチル−2−チオウリジン;β,D−マンノシルケウオシン;5−メトキシカルボニルメチルウリジン;5−メトキシウリジン;2−メチルチオ−N−イソペンテニルアデノシン;N−((9−β,D−リボフラノシル−2−メチルチオプリン−6−イル)カルバモイル)スレオニン;N−((9−β,D−リボフラノシルプリン−6−イル)−N−メチルカルバモイル)スレオニン;ウリジン−5−オキシ酢酸メチルエステル;ウリジン−5−オキシ酢酸(v);プソイドウリジン;ケウオシン;2−チオシチジン;5−メチル−2−チオウリジン;2−チオウリジン;4−チオウリジン;5−メチルウリジン;2’−O−メチル−5−メチルウリジン;および2’−O−メチルウリジンが含まれる。
いくつかの実施形態では、ヌクレオシドには、6’−位において(R)または(S)−キラリティーのいずれかを有する6’−修飾二環式ヌクレオシド類似体が含まれ、そして米国特許第7,399,845号に記載の類似体が含まれる。他の実施形態では、ヌクレオシドには、5’−位において(R)または(5)−キラリティーのいずれかを有する5’−修飾二環式ヌクレオシド類似体が含まれ、そして米国特許出願公開第20070287831号に記載の類似体が含まれる。
いくつかの実施形態では、核酸塩基または修飾核酸塩基は、抗体、抗体フラグメント、ビオチン、アビジン、ストレプトアビジン、受容体配位子、またはキレート部分のような生体分子結合性部分を含む。他の実施形態では、Baは、5−ブロモウラシル、5−ヨードウラシル、または2,6−ジアミノプリンである。なお他の実施形態では、Baは、蛍光部分または生体分子結合部分による置換によって修飾される。いくつかの実施形態では、Ba上の置換基は、蛍光部分である。他の実施形態では、Ba上の置換基は、ビオチンまたはアビジンである。
ヌクレオチド/ヌクレオシドの修飾糖
最も一般的に天然に存在するヌクレオチドは、核酸塩基アデノシン(A)、シトシン(C)、グアニン(G)、およびチミン(T)またはウラシル(U)に連結されたリボース糖である。ヌクレオチドのリン酸基または修飾リン原子部分が、糖または修飾糖の様々な位置に連結することができる、修飾ヌクレオチドも企図される。非制限的例として、リン酸基または修飾リン原子部分は、糖または修飾糖の2’、3’、4’もしくは5’ヒドロキシル部分に連結することができる。上記の修飾核酸塩基を組み込むヌクレオチドもまた、本明細書において開示するプロセスにおいて使用することができる。いくつかの実施形態では、ヌクレオチドまたは保護されていない−OH部分を含む修飾ヌクレオチドは、本明細書において開示するプロセスにおいて使用される。
スキーム1−4bに記載のリボース部分に加えて、他の修飾糖もまた、本明細書において開示する核酸に組み込まれ得る。いくつかの実施形態では、修飾糖は、2’位において、次のうちの1つを含む1つ以上の置換基を含有する:F;CF、CN、N、NO、NO、O−、S−、もしくはN−アルキル;O−、S−、もしくはN−アルケニル;O−、S−もしくはN−アルキニル;またはO−アルキル−O−アルキル、O−アルキル−N−アルキルもしくはN−アルキル−O−アルキルであり、ここで、アルキル、アルケニルおよびアルキニルは、置換もしくは非置換のC〜C10アルキルもしくはC〜C10アルケニルおよびアルキニルであり得る。置換基の例は、O(CHOCH、およびO(CHNH(ここで、nは1〜約10である)、MOE、DMAOE、DMAEOEが含まれ、そしてこれらに制限されない。また、国際公開第2001/088198号パンフレット;およびMartin et al., Helv. Chim. Acta, 1995, 78, 486-504に記載の修飾糖も企図される。いくつかの実施形態では、修飾糖は、置換シリル基、RNA切断基、レポーター基、蛍光標識、インターカレーター、核酸の薬物動態特性を改善するための基、または核酸の薬力学的特性を改善するための基、および類似の特性を有する他の置換基を含む。修飾は、3’−末端ヌクレオチド上の糖の3’位もしくは5’−末端ヌクレオチドの5’位を含む糖または修飾糖の2’、3’、4’、5’、もしくは6’位において行われ得る。
修飾糖はまた、ペントフラノシル糖の代わりにシクロブチルまたはシクロペンチル部分のような糖疑似物を含む。そのような修飾糖構造の調製を教示する代表的な米国特許には、米国特許第4,981,957号;同第5,118,800号;同第5,319,080号;および同第5,359,044号が含まれるが、これらに限定されない。以下を含むいくつかの修飾糖が企図される。
Figure 0006038860
修飾糖の他の非制限的例には、グリセロール核酸(GNA)類似体を形成するグリセロールが含まれる。GNA類似体の1つの例は、以下に示され、そしてZhang, R et al., J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 5846-5847;Zhang L, et al., J. Am. Chem. Soc., 2005, 127, 4174-4175およびTsai CH et al., PNAS, 2007, 14598-14603に記載されている:
Figure 0006038860
式中、Xは、本明細書において定義されるとおりである。GNA誘導性類似体、ホルミルグリセロールの混合型アセタールアミナールに基づく可撓性核酸(FNA)の他の例は、Joyce GF et al., PNAS, 1987, 84, 4398-4402およびHeuberger BD and Switzer C, J. Am. Chem. Soc., 2008, 130, 412-413に記載されており、そして以下に示される:
Figure 0006038860
ブロッキング基
記載の反応では、所定の実施形態において、反応性官能基(例えば、最終生成物において所望されるヒドロキシ、アミノ、チオールまたはカルボキシ基)を、反応においてそれらの所望されない参入を回避するために、保護する必要がある。保護基は、任意のまたはすべての反応性部分をブロックし、そして保護基が除去されるまで、そのような基の化学反応への参入を回避するために使用される。一実施形態では、各保護基は、異なる手段によって除去可能である。完全に異なる反応条件下で切断される保護基は、特異な除去の要件を満たす。いくつかの実施形態では、保護基は、酸、塩基、および/または水素化分解によって除去される。トリチル、ジメトキシトリチル、アセタールおよびt−ブチルジメチルシリルのような基は、酸に不安定であり、所定の実施形態において、水素化分解によって除去可能でCbz基、および/または塩基に不安定であるFmoc基で保護されたアミノ基の存在下で、カルボキシおよびヒドロキシ反応性部分を保護するために使用される。他の実施形態では、カルボン酸およびヒドロキシ反応性部分は、t−ブチルカルバメートのような酸に不安定な基または酸および塩基の両方に安定であるが加水分解により除去可能であるカルバメートでブロックされたアミンの存在下で、メチル、エチル、およびアセチルのような、但し、これらに限定されない塩基に不安定な基でブロックされる。
他の実施形態では、ヒドロキシ反応性部分は、ベンジル基のような加水分解により除去可能な保護基でブロックされる一方、酸との水素結合が可能なアミン基が、Fmocのような塩基に不安定な基でブロックされる。他の実施形態では、カルボン酸反応性部分は、簡単なエステル化合物への変換によって保護されるか、またはそれらは、さらに他の実施形態において、2,4−ジメトキシベンジルのような酸化により除去可能な保護基でブロックされる一方、共存するアミノ基は、フッ化物に不安定なシリルまたはカルバメートブロッキング基でブロックされる。
アリルブロッキング基は安定であり、続いて、金属またはπ酸触媒により除去可能であり得るため、酸および塩基保護基の存在下で有用である。例えば、アリル−ブロックされたヒドロキシ基は、酸に不安定なt−ブチルカルバメートまたは塩基に不安定なアセテートアミン保護基の存在下で、Pd(0)−触媒による反応により脱保護することができる。保護基のさらに他の形態は、化合物または中間体が付着する樹脂である。残基が樹脂に付着している限り、官能基はブロックされ、そして反応することができない。一旦、樹脂から遊離すると、官能基は、反応に利用することが可能である。
典型的には、ブロッキング/保護基は、単なる例として、以下のものがある:
Figure 0006038860
合成中のヌクレオチドを保護するのに有用な代表的な保護基には、塩基に不安定な保護基および酸に不安定な保護基が含まれる。塩基に不安定な保護基は、ヘテロ環核酸塩基の環外アミノ基を保護するために使用される。このタイプの保護は、一般的に、アシル化によって達成される。この目的のための一般的に使用される3つのアシル化基は、塩化ベンゾイル、フェノキシ無水酢酸、およびイソブチリルクロリドである。これらの保護基は、核酸合成中に使用される反応条件に安定であり、そして合成終了時の塩基処理中に、ほぼ等しい割合で切断される。
いくつかの実施形態では、5’−保護基は、トリチル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチル、2−クロロトリチル、DATE、TBTr、9−フェニルキサンチン−9−イル(Pixyl)、または9−(p−メトキシフェニル)キサンチン−9−イル(MOX)である。
いくつかの実施形態では、チオール部分は、式1、2、4、または5の化合物に組み込まれ、そして保護される。いくつかの実施形態では、保護基には、Pixyl、トリチル、ベンジル、p−メトキシベンジル(PMB)、またはtert−ブチル(t−Bu)が含まれるが、これらに限定されない。
他の保護基、加えて、保護基の作製に適用可能な技術の詳細な説明およびそれらの除去については、Greene and Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd Ed., John Wiley & Sons, New York, NY, 1999、およびKocienski, Protective Groups, Thieme Verlag, New York, NY, 1994に記載されており、それらは、そのような開示内容について、本明細書において参考として援用される。
いくつかの実施形態では、Rは、−ORであって、式中、Rは、置換もしくは非置換のトリチルまたは置換シリルである。他の実施形態では、Rは、−N、−NR、アルキニルオキシ、または−OHである。いくつかの実施形態では、Rは、−ORであり、式中、Rは、置換もしくは非置換トリチル、置換シリル、アセチル、アシル、または置換メチルエーテルである。他の実施形態では、Rは、−NR、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−であり、ここで、Yは、O、NR、S、またはSeであり、そして蛍光部分または生体分子結合部分により置換される。なお他の実施形態では、R上の置換基は、蛍光部分である。いくつかの実施形態では、R上の置換基は、ビオチンまたはアビジンである。いくつかの実施形態では、Rは、−OH、−N、水素、ハロゲン、アルコキシ、またはアルキニルオキシである。
他の実施形態では、Rは、置換トリチル、アシル、置換シリル、または置換ベンジルであるブロッキング基である。なお他の実施形態では、Rは、固相支持体に接続された連結部分である。さらなる実施形態では、Ba部分のブロッキング基は、ベンジル、アシル、ホルミル、ジアルキルホルムアミジニル、イソブチリル、フェノキシアセチル、またはトリチル部分であり、それらのうちいずれかは、置換されていなくてもよく、もしくは置換されていてもよい。
キラルX−ホスホネート部分を含む核酸の使用方法
本発明の方法によって得られるキラルX−ホスホネート部分を含む立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドは、安定性、定義されたキラリティーおよび合成の容易さの組み合わせのため、多くの領域の用途において有用である。概して、本方法によって合成される化合物は、治療、診断用プローブおよび試薬、他のオリゴヌクレオチド生成物を生成するための合成ツール、ならびに多様な新規の材料および計算用途に適切なナノ構造材料として有用である。
本発明の立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドは、特に、ホスホロチオネートのクラスの立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドは、天然のDNA/RNA等価物より改善された血清安定性を有する。さらに、S異性体は、R異性体より安定である。いくつかの実施形態では、血清安定性のレベルは、すべてS中心を導入、または選択された位置にS中心を導入、のいずれかによってモジュレートされて、分解に対する耐性を付与する。他の実施形態では、選択可能なRおよび/またはS立体中心の導入は、内因性または外因性の標的との特異的塩基対形成会合を提供し得、それ故、代謝から標的を保護するかまたは特定の生物学的反応を増強する。
RNaseH活性化はまた、立体制御されたホスホロチオエート核酸類似体の存在によってモジュレートされ、天然のDNA/RNAは、R立体異性体より影響を受け易く、対応するS異性体より影響を受けやすい。
対応するSオリゴヌクレオチドより大きな二重鎖安定性を有するRホスホロチオエート型オリゴヌクレオチドに伴ってRNAに対する改善された二重鎖安定性が示され、これは、天然のDNA/RNAより高い安定性を実証する。天然のDNA/RNAを超える安定性を有するRより大きな二重鎖安定性を有するSに伴って、DNAに対する改善された二重鎖安定性が示される(P. Guga, Curr. Top Med. Chem., 2007, 7, 695-713)。
これらの分子は、多くの特定の用途において、治療剤として有用であり得る。それらは、標準的なDNA/RNAヌクレオシドもまた含有するオリゴヌクレオチドに組み込まれ得るか、またはそれらは、本発明の立体制御されたオリゴヌクレオチドの全配列として合成され得る。治療剤のいくつかのカテゴリーには、アンチセンスオリゴヌクレオチド、標的にした配列と三重螺旋を形成して、所望されない遺伝子の転写を抑制し、そしてタンパク質発現および/または活性をモジュレートするアンチジーンオリゴヌクレオチド、デコイオリゴヌクレオチド、DNAワクチン、アプタマー、リボザイム、デオキシリボザイム(DNAザイムもしくはDNA酵素)、siRNAs、マイクロRNA、ncRNA(非コーディングRNAs)、ならびにP−修飾プロドラッグが含まれるが、これらに限定されない。モジュレーションは、間接的または直接的に、タンパク質の活性を増加または減少すること、あるいはタンパク質の発現の阻害もしくは促進を包含する。これらの核酸化合物を使用して、細胞増殖、ウイルスの複製、または他の任意の細胞シグナリングプロセスを制御することができる。
一実施例では、siRNA治療の分野は、天然のヌクレオシドからなるsiRNAにおいて認められるもの超えて作用期間を改善するために、RNase活性に対する増加した安定性を付与することができるオリゴヌクレオチド種の必要性を有する。さらに、A型螺旋形成は、オリゴヌクレオチド上の特定の天然のエレメントの存在よりも、侵入RNAiの成功をより明確に表すようである。これらの要件は、両方とも本発明の立体制御されたオリゴヌクレオチドの使用によって付与され得、増強された安定性を提供し得る(Y-L Chiu, T.M. Rana RNA, 2003, 9,1034-1048)。
本明細書に記載の核酸は、抗ウイルス剤としての使用を含む様々な病態に対する治療剤として有用である。核酸は、DNAおよび/またはRNA活性のモジュレーションを介して、疾患の処置のための薬剤として使用され得る。いくつかの実施形態では、核酸は、特定の遺伝子発現を阻害するために、使用され得る。例えば、核酸は、特定の標的メッセンジャーRNA(mRNA)配列に相補的であり得る。それらは、オルソポックスウイルス、ワクシニアウイルス、ヘルペス、パピローマ、インフルエンザ、サイトメガロウイルスおよび他のウイルスのようなウイルスの複製を阻害するために使用され得る。他の例には、HIV RNAまたは他のレトロウイルスRNAに対するアンチセンス化合物として、あるいはtatタンパク質をコードするHIV mRNA、もしくはHIV mRNAのTAR領域にハイブリダイズさせるための使用が含まれる。いくつかの実施形態では、核酸は、HIV mRNAのTAR領域の二次構造を模倣し、そしてそうすることによってtatタンパク質に結合する。ある実施形態では、核酸は、細胞と式1の化合物とを接触させることによって、標的タンパク質の発現を阻害するために使用され、ここで、細胞における他のタンパク質の発現は、阻害されないか、または最小限に阻害される。いくつかの実施形態では、標的タンパク質阻害は、哺乳動物においてインビボで生じる。他の実施形態では、治療有効量の式1の化合物が、標的タンパク質の発現を阻害するために投与される。
発現をモジュレートすることができるタンパク質の他の例には、Jun N末端キナーゼ(JNK)タンパク質、ジアシルグリセロールアシルトランスフェラーゼI、アポリポタンパク質B、グルカゴン受容体、Aurora B、アシルCoAコレステロールアシルトランスフェラーゼ−2、c−反応性タンパク質、タンパク質のSTAT(シグナル伝達性転写因子)ファミリー、およびMDR P−糖タンパク質が含まれる。核酸は、タンパク質ホスファターゼIB(PTP1B)発現、RNA依存性RNAウイルスポリメラーゼを阻害するために、使用され得る。核酸は、癌細胞におけるアポトーシスのような事象を誘導するか、またはアポトーシスをより受け易い細胞を作製するために使用され得る。核酸は、タンパク質の活性をモジュレートするために使用され得る。例えば、それは、多剤耐性(MDR)RNA分子に対するRNaseH活性をモジュレートするのに役立ち得る。
本明細書に記載の核酸は、高コレステロール血症、重症急性呼吸器症候群(SARS)、AIDSまたはHIVのようなレトロウイルス性疾患、他のウイルス感染、子宮内感染、および癌を含むが、これらに限定されない適応症を処置するために有用である。
治療剤として使用する場合、本明細書に記載の核酸は、医薬組成物として投与される。いくつかの実施形態では、医薬組成物は、治療有効量の式1のキラルX−ホスホネート部分を含む核酸、またはその薬学的に許容できる塩、ならびに薬学的に許容できる希釈剤、薬学的に許容できる賦形剤、および薬学的に許容できるキャリアから選択される少なくとも1つの薬学的に許容できる不活性成分を含む。他の実施形態では、医薬組成物は、静脈内注入、経口投与、頬側投与、吸入、経鼻投与、局所投与、眼内投与または耳内投与のために処方される。さらなる実施形態では、医薬組成物は、錠剤、ピル、カプセル、液体、吸入剤、経鼻スプレー溶液、坐剤、懸濁液、ゲル、コロイド、分散剤、懸濁液、溶液、乳液、軟膏、ローション、点眼剤または点耳剤である。
本発明の方法によって合成される化合物が有用である第2のカテゴリーは、プライマーまたはプローブとしてである。前記方法は、配列(天然および非天然)、ならびにリン中心における立体化学の全体的制御を提供するため、任意の特定の分子を、特異的に生成することができる。さらに、さらなるRNase耐性は、エクスビボまたはインビボ条件下で強固な分子を提供する。本発明の立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドは、消化、ライゲーション、および核酸の重合のようなリン原子に関与する酵素反応機構の調査のためのプローブとして使用することができる。このクラスの分子は、リボザイムおよびデオキシリボザイム反応機構の調査のためのプローブとして使用することができる。それらはまた、RNAiおよび他の非コーディングRNA仲介遺伝子サイレンシング機構の調査のためのプローブとしてまたはタンパク質−核酸相互作用の分析のためのプローブとして機能することができる。選択したRまたはSリン立体中心を組み込むことによって三次元構造を定義する能力は、新規のクラスのいわゆる分子標識の設計を可能にする。
本合成方法は、狭義の組の天然の核酸塩基に限定されないため、修飾核酸塩基または塩基もしくは糖もしくは末端に対する他の修飾は、核酸、タンパク質および溶液中の任意の生物学的もしくは化学的物質のプローブまたはセンサーとしての、このクラスのオリゴヌクレオチドの使用を可能にする。同様に、それらを、天然のDNA/RNAの代わりに、標準的な検出方法を使用して、修飾核酸塩基を伴わずに使用してもよい。これらはいずれも、診断アッセイの一部として組み込まれ得る。
そのような診断試験は、生物学的液体、組織、無傷の細胞または単離された細胞成分を使用して、実施することができる。遺伝子発現阻害に関して、診断用途では、核酸の相補鎖とハイブリダイズする核酸の能力を利用する。ハイブリダイゼーションは、ワトソン−クリックおよび/またはRNAもしくはDNAに対するフーグスティーン塩基対を介した、オリゴマー化合物の配列特異的水素結合である。そのような塩基対の塩基を、相互に相補的であると言う。核酸は、身体の状態、例えば、動物における罹患状態を分析するために使用され得る。それらは、サンプル中のアデノウイルスもしくはインフルエンザウイルスの同定またはインターカレート剤またはプローブとして使用され得る。例えば、それらは、DNAメチル化を検出するか、またはタンパク質のような他の細胞成分とのDNA相互作用を探索するために使用され得る。
本発明の他の態様では、サンプル中の標的分子を同定または検出する方法が提供され、前記方法は、標的分子を含有することが疑わしいサンプルと、本発明の方法に従って合成される式1の核酸センサー分子とを接触させる工程を含み、ここで、シグナル発生ユニットによって発生するシグナルの変化は、サンプル中の標的の存在を示す。核酸センサー分子は、標的分子に特異的に結合する。いくつかの実施形態では、複数の核酸センサー分子が存在する。いくつかの実施形態では、複数の核酸センサー分子は、異なる標的分子に特異的に結合する核酸センサー分子を含む。場合によって、前記方法は、シグナル発生ユニットによって発生するシグナルの変化を定量して、サンプル中の標的分子の量を定量する工程をさらに含む。シグナル発生ユニットは、蛍光、表面プラズモン共鳴、蛍光消光、化学発光、干渉計測、または屈折率検出を含むが、これらに限定されない任意の種類のシグナルを検出する。
検出しようとするサンプルは、環境サンプル、バイオハザード材料、有機サンプル、薬物、毒素、フレーバー、香料、または生物学的サンプルである。生物学的サンプルは、細胞、細胞抽出物、細胞溶解物、組織、組織抽出物、体液、血清、血液または血液産物である。前記方法のいくつかの実施形態では、標的分子の存在は、病的状態の存在を示す。前記方法のいくつかの実施形態では、標的分子の存在は、所望の分子の存在を示す。
関連する使用において、本発明の方法によって提供される立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドは、PCRのためのプライマーとして、またはポリメラーゼを使用するDNA/RNA合成のための鋳型もしくはプライマーとして有用である。融解温度は、生成物オリゴヌクレオチドのリンにおけるRまたはSキラリティーの選択導入に依存して、特定の用途について最適化され得る。
本発明の他の態様では、核酸鋳型から核酸の所望の領域を増幅する方法が提供され、前記方法は:(a)目的のコンセンサス配列に相補的な一定のヌクレオチド配列のある領域を有する複数の第1のPCRプライマーを提供する工程;(b)複数の第2のPCRプライマーを提供する工程、(c)第1のプライマーおよび第2のプライマーによってフランキングされる核酸領域が特異的に増幅されるように、複数の第1のプライマーのサブセットが、実質的にそれが鋳型のどこで生じようとも目的のコンセンサス配列に結合し、そして複数の第2のプライマーのサブセットが、第1のプライマーから隔たった場所で鋳型に結合するという条件下で、複数の第1のPCRプライマーおよび複数の第2のPCRプライマーを使用するPCRを介して、核酸鋳型を増幅する工程であって、複数の第1のPCRプライマーおよび/または複数の第2のPCTプライマーは本発明の方法に従って生成される式1の核酸分子である工程、を含む。
いくつかの実施態様では、鋳型は、ゲノムDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、真核生物のゲノムDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、ヒトのゲノムDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、原核生物のDNAである。いくつかの実施形態では、鋳型は、クローニングされたゲノムDNA、DNAのサブゲノム領域、染色体、またはサブ染色体領域であるDNAである。いくつかの実施態様では、鋳型は、RNAである。
立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドはまた、それらの増加した安定性ならびにそれらの生物学的標的の認識および結合を保持する能力により、DNAチップおよびオリゴヌクレオチドマイクロアレイのための物質としても有用である。それらはまた、無細胞タンパク質合成におけるtRNAおよびmRNAのような天然の核酸に代わる安定化されたオリゴヌクレオチドとして、使用してもよい。
安定性、非天然の部分を含む分子組成、および構造をすべて同じ合成内において制御する能力が有用であるさらなる領域は、DNAナノ材料設計における適用のための領域である。本発明の立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドは、二重鎖、三重鎖、四重鎖、および他のさらに高次の構造からなる核酸ナノ構造の構築のための物質として、使用してもよい。本方法によって生成される分子における他の有機部分を組み込む能力は、特定の非天然のさらに高次の構造を設計することによるナノ材料の適用をもたらす。設計のインビボでの安定性および可撓性は、例えば、DNAコンピュータにおけるこれらの分子の使用を可能にする。さらに、有機分子にキレートまたは導電する金属は、本発明の立体配置が定義されたオリゴヌクレオチドに組み込まれ得、そして電子デバイスにおけるDNAナノワイヤーまたはDNA/RNAナノ機器としてのそれらの使用をもたらし得る(F.A. Aldate, A.L. Palmer, Science, 2008, 321, 1795-1799)。
一般的情報:
本明細書におけるすべてのNMRスペクトルは、Varian Mercury 300上で記録した。H NMRスペクトルは、300MHzにおいて、CDCl中、内部標準としてテトラメチルシラン(TMS)(δ0.0)を用いて入手した。31P NMRスペクトルは、121.5MHzにおいて、外部標準として85%HPO(δ0.0)を用いて入手した。MALDI TOF−MSは、Applied Biosystems Voyager System4327上で記録した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーは、Kantoシリカゲル60N(球状、中性、63〜210μm)を使用して、行った。分析TLCは、Merck Kieselgel 60−F254プレート上で実施した。乾燥有機溶媒は、使用前に、適切な手順によって調製した。他の有機溶媒は、試薬用であり、そのまま使用した。ACQUITY UPLC(登録商標)は、BEH C18(1.7μm、2.1×150mm)を使用して行った。dTT、dCT、dAT、dGT、OMeU、およびUホスホロチオエートダイマーの収量は、それぞれ、天然のdTT(16800)、dCT(15200)、dAT(22800)、dGT(20000)、rUU(19600)、rUU(19600)ダイマーについての近値のモル吸光係数を用いて、260nmにおけるUV吸収測定により決定した。
略称:
bz:ベンゾイル
ビューケージ試薬:3H−1,2−ベンゾジチオール−3−オン1,1−ジオキシド
BSA:N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド
BTC:ビス(トリクロロメチル)カルボネート
ce:シアノエチル
CFCOIm:N−トリフルオロアセチルイミダゾール
CMP:N−シアノメチルピロリジン
CMPT:N−シアノメチルピロリジニウムトリフルオロメタンスルホネート
CPG:制御された多孔質ガラス
DBU:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン
DCA:ジクロロ酢酸
DCM:ジクロロメタン、CHCl
DMAc:N,N−ジメチルアセトアミド
DMAN:1,8−ビス(ジメチルアミノ)ナフタレン
DMTr:4,4’−ジメトキシトリチル
DTD:N,N’−ジメチルチウラムジスルフィド
HCP:高架橋ポリスチレン
pac:フェノキシアセチル
TBS:t−ブチルジメチルシリル
TBDPS:t−ブチルジフェニルシリル
TFA:トリフルオロ酢酸
L−2:本明細書における式Pと同じ
D−2:本明細書における式Oと同じ
L−6:本明細書における式Rと同じ
D−6:本明細書における式Qと同じ
実施例1:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)チミジン−3’−イルN−ベンゾイル−3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−4tt]の溶液合成
8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)チミジン−3’−イルホスホネート(1t)(96.0mg、120μmol)を、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジン(2mL)に溶解した。BTC(29.7mg 100μmol)を添加し、そして混合物を、10分間、撹拌した。乾燥ピリジンとの反復的共エバポレーションによって調製し、そして乾燥ピリジン(1mL)に溶解したアミノアルコールL−2(21.3mg、120(μmol)溶液を、シリンジを介して反応混合物に滴下し、そして混合物を、5分間、アルゴン雰囲気下で撹拌した。乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって調製し、そしてピリジン(500μmol)に溶解したN−ベンゾイル−3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン(3t)の溶液に、シリンジを介して、反応混合物を添加した。30分後、DTD(42.5mg、120μmol)を、反応混合物に添加した。さらなる5分後、溶媒を、低圧下でエバポレートした。濃NH−EtOH(40mL;3:1v/v)を残渣に添加し、そして混合物を、12時間、室温で撹拌した。混合物を低圧下で濃縮して、乾燥させた。粗混合物を、CHCl(15mL)で希釈し、そして0.2Mトリエチルアンモニウムヒドロゲンカルボネート(20mL)で洗浄した。水層を、CHCl(4×15mL)で逆抽出した。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして低圧下で濃縮して、乾燥させた。残渣を、PTLCにより精製した。生成物を、CHCl(5mL)に溶解し、0.2M1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムヒドロゲンカルボネート緩衝液(10mL)で洗浄し、そしてCHCl(3×5mL)で逆抽出した。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして濃縮して、乾燥させ、白色のフォームとして(S)4tt(41.8mg、98%収率、R:S=9:91)を得た。Hおよび31P NMRスペクトル(それぞれ、図1および2)は、従来のH−ホスホネート法によって合成された対照サンプルのスペクトルと同一であった。31P NMR(121.5MHz、CDC1)δ 57.4(R異性体:57.9)。合成スキームをスキーム10に示す。
Figure 0006038860
スキーム10.スキーム5(経路A)におけるDNAダイマーの溶液合成
実施例2:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7エニウム6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−デオキシアデノシン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−4at]の溶液合成
(S)−4atは、(S)−4ttについて上記した反応工程を使用して、1tの代わりに、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−デオキシアデノシン−3’−イルホスホネート(1a)から得られる。
実施例3:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−デオキシシチジン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−4ct]の溶液合成
(S)−4ctは、(S)−4ttについて上記した反応工程を使用して、1tの代わりに、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−デオキシシチジン−3’−イルホスホネート(1c)から得られる。
実施例4:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7エニウム2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシグアノシン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−4gt]の溶液合成
(S)−4gtは、(S)−4ttについて上記した反応工程を使用して、1tの代わりに、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシグアノシン−3’−イルホスホネート(1g)から得られる。
実施例5:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)チミジン−3’−イルN−ベンゾイル−3’−O−(tertブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−4tt]の溶液合成
((R)−4ttは、実施例1の(S)−4ttに類似の様式で、L−2の代わりにアミノアルコールD−2を使用することによって、白色フォーム(93%収率、R:S=95:5)として得た。Hおよび31P NMRスペクトルを、それぞれ、図3および4に示す。31P NMR(121.5MHz、CDCl) δ57.6(S異性体:57.3。
Figure 0006038860
実施例6:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシアデノシン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−4at]の溶液合成
(R)−4atは、実施例2における上記の変換を介して、化合物1aおよびL−2の代わりにキラル試薬としてアミノアルコールD−2を使用して、生成される。
実施例7:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7エニウム4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシシチジン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−4ct]の溶液合成
(R)−4ctは、実施例3における上記の変換を介して、化合物1cおよびL−2の代わりにキラル試薬としてアミノアルコールD−2を使用して、生成される。
実施例8:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7エニウム2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシグアノシン−3’−イル3’−O−(tertブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−4gt]の溶液合成
(R)−4gtは、実施例4における上記の変換を介して、化合物1gおよびL−2の代わりにキラル試薬としてアミノアルコールD−2を使用して、生成される。
実施例9:(S)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5tt]を形成させるための脱保護
(S)−4tt(50μmol)を、乾燥ピリジンおよび乾燥トルエンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、トリエチルアミントリヒドロフロリド(500μL)に溶解する。混合物を、15時間、室温で撹拌する。次いで、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(2.5mL)を混合物に添加し、そして混合物をEtO(3×3mL)で洗浄する。合わせた有機層を、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(3mL)で逆抽出する。次いで、合わせた水層を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして残渣を、逆相カラムクロマトグラフィー[0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中アセトニトリル0〜10%の直線勾配]によって、精製して、(S)−5ttを得る。脱保護スキームをスキーム11に示す。
スキーム11.脱保護
Figure 0006038860
実施例10:(S)−アンモニウムデオキシアデノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5at]を形成させるための脱保護
(S)−5atは、(S)−4ttの代わりに(S)−4atを使用して、実施例9において上記したように生成される。
実施例11:(S)−アンモニウムデオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5ct]を形成させるための脱保護
(S)−5ctは、(S)−4ttの代わりに(S)−4ctを使用して、実施例9において上記したように生成される。
実施例12:(S)−アンモニウムデオキシグアノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5gt]を形成させるための脱保護
(S)−5gtは、(S)−4ttの代わりに(S)−4gtを使用して、実施例9において上記したように生成される。
実施例13:(R)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5tt]を形成させるための脱保護
(R)−5ttは、(S)−5ttと同様の様式で、(S)−4ttの代わりに(R)−4ttを使用して、実施例9において上記したように生成される。
実施例14:(R)−アンモニウムデオキシアデノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5at]を形成させるための脱保護
(R)−5atは、(S)−4ttの代わりに(R)−4atを使用して、実施例9において上記したように生成される。
実施例15:(R)−アンモニウムデオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5ct]を形成させるための脱保護
(R)−5ctは、(S)−4ttの代わりに(R)−4ctを使用して、実施例9において上記したように生成される。
実施例16:(R)−アンモニウムデオキシグアノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5gt]を形成させるための脱保護
(R)−5gtは、(S)−5ttと同様の様式で、(S)−4ttの代わりに(R)−4gtを使用して、実施例9において上記したように生成される。
実施例17:経路Bを介する(R)−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)チミジン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)−7tt]の合成
1t(100μmol)を、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジン(1mL)に溶解する。N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl;500μmol)を添加し、そして混合物を、5分間、撹拌する。混合物に、乾燥ピリジンとの共エバポレーションによって乾燥し、そして乾燥ピリジン(1mL)に溶解したアミノアルコール((αR、2S)−6)(100μmol)の溶液を、シリンジを介して滴下で添加し、そして混合物を、5分間、アルゴン下で撹拌する。3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジンを、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションを使用して乾燥し、そして100μmolのピリジンに溶解する。上記の混合物を、カニューレを介して、乾燥(100μmol)ピリジン中3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン3tの溶液に添加する。15分後、混合物を低圧下で濃縮する。残渣を、CHCl(5mL)で希釈し、そして飽和NaHCO(3×5mL)で洗浄する。合わせた水層を、CHCl(2×5mL)で逆抽出する。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして低圧下で濃縮して、約1mLにする。残渣を、シリンジを介して滴下で、乾燥CHCl(20mL)中撹拌した1%トリフルオロ酢酸(TFA)溶液に0℃で添加する。さらに5時間後、混合物を乾燥CHCl(100mL)で希釈し、そして飽和NaHCO水溶液(2×100mL)で洗浄する。合わせた水層を、CHCl(2×100mL)で逆抽出する。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして低圧下で濃縮して、乾燥させ、粗(R)−7ttを得る。合成スキームをスキーム12に示す。
スキーム12.スキーム6(経路B)におけるDNA類似体の合成
Figure 0006038860
実施例18:経路Bを介する(R)−6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシアデノシン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)−7at]の合成
粗(R)−7atは、1tの代わりに1aを使用して、実施例17に記載のように生成される。
実施例19:経路Bを介する(R)−4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシシチジン−3’−イル3’−O(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)−7ct]の合成
粗(R)−7ctは、1tの代わりに1cを使用して、実施例17に記載のように生成される。
実施例20:経路Bを介する(R)−2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシグアノシン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)−7gt]の合成
粗(R)−7gtは、1tの代わりに1gを使用して、実施例17に記載のように生成される。
実施例21:経路Bを介する(S)−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)チミジン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(S)−7tt]の合成
粗(S)−7ttは、キラル試薬として(αR、2S)−6の代わりに(αS、2R)−6を使用して、実施例17に記載のように生成される。
実施例22:経路Bを介する(S)−6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシアデノシン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(S)−7at]の合成
粗(S)−7atは、化合物1a、およびキラル試薬として(αR、2S)−6の代わりに(αS、2R)−6を使用して、実施例17に記載のように生成される。
実施例23:経路Bを介する(S)−4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシシチジン−3’−イル3’−O(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(S)−7ct]の合成
粗(S)−7ctは、化合物1c、およびキラル試薬として(αR、2S)−6の代わりに(αS、2R)−6を使用して、実施例17に記載のように生成される。
実施例24:経路Bを介する(S)−2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)デオキシグアノシン−3’−イル3’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)チミジン−5’−イルH−ホスホネート[(S)−7gt]の合成
粗(S)−7gtは、化合物1g、およびキラル試薬として化合物(αR、2S)−6の代わりに化合物(αS、2R)−6を使用して、実施例17に記載のように生成される。
実施例25:一般スキーム13に示される(R)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5tt]を生成するための修飾
(S)−7ttを、乾燥ピリジンおよび乾燥トルエンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、CHCN(1mL)に溶解する。N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA;100μL)を添加する。1分後、N,N’−ジメチルチウラムジスルフィド(DTD;120μmol)を添加する。さらに3分間後、混合物を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、粗(R)−4ttを得る。次いで、粗(R)−4ttを、トリエチルアミントリヒドロフロリド(1mL)に溶解する。混合物を、15時間、室温で撹拌する。次いで、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(5mL)を混合物に添加し、そして混合物をEtO(3×5mL)で洗浄する。合わせた有機層を、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(5mL)で逆抽出する。次いで、合わせた水層を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして残渣を、逆相カラムクロマトグラフィー[0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中アセトニトリル0〜10%の直線勾配]によって、精製して、(R)−5ttを得た。修飾工程をスキーム13に示す。
スキーム13.硫黄を導入するためのリンにおける修飾
Figure 0006038860
実施例26:(R)−アンモニウムデオキシアデノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5at]を生成するための修飾
(R)−5atは、(S)−7ttの代わりに(S)−7atを使用して、実施例25に記載のように生成される。
実施例27:(R)−アンモニウムデオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5ct]を生成するための修飾
(R)−5ctは、(S)−7ttの代わりに(S)−7ctを使用して、実施例25に記載のように生成される。
実施例28:(R)−アンモニウムデオキシグアノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5gt]を生成するための修飾
(R)−5gtは、(S)−7ttの代わりに(S)−7gtを使用して、実施例25に記載のように生成される。
実施例29:(S)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5tt]を生成するための修飾
(S)−5ttは、(S)−7ttの代わりに(R)−7ttを使用して、実施例25に記載のように生成される。
実施例30:(S)−アンモニウムデオキシアデノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5at]を生成するための修飾
(S)−5atは、(S)−7ttの代わりに(R)−7atを使用して、実施例25に記載のように生成される。
実施例31:(S)−アンモニウムデオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5ct]を生成するための修飾
(S)−5ctは、(S)−7ttの代わりに(R)−7ctを使用して、実施例25に記載のように生成される。
実施例32:(S)−アンモニウムデオキシグアノシン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5gt]を生成するための修飾
(S)−5gtは、(S)−7ttの代わりに(R)−7gtを使用して、実施例25に記載のように生成される。
実施例33:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−10uu]の合成。
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−3’−イルホスホネート(8u)(100μmol)を、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジン(1mL)に溶解する。N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl;500μmol)を添加し、そして混合物を、5分間、撹拌する。混合物に、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、そして乾燥ピリジン(1mL)に溶解したアミノアルコール(L−2)(100μmol)の溶液を、シリンジを介して滴下で添加し、そして混合物を、5分間、アルゴン下で撹拌する。2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン9uを、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、そして100μmolのピリジンに溶解する。次いで、上記の混合物を、カニューレを介して2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン9u(100μmol)の溶液に添加する。10分後、N−トリフルオロアセチルイミダゾール(CFCOIm;200μmol)を添加する。さらに30秒間後、N,N’−ジメチルチウラムジスルフィド(DTD;120nmol)を添加する。さらに3分間後、混合物を減圧下で乾燥する。残渣に、濃NH−EtOH(3:1、v/v、10mL)を添加し、そして混合物を12時間、撹拌し、次いで低圧下で濃縮して、乾燥させる。次いで、混合物を、CHCl(5mL)で希釈し、そして0.2Mリン酸緩衝液(pH7.0、5mL)で洗浄した。合わせた水層を、CHCl(2×5mL)で逆抽出する。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして低圧下で濃縮して、乾燥させる。残渣を、PTLCにより精製する。生成物を、CHCl(5mL)に溶解し、0.2Mの1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムビカルボネート緩衝液(5mL)で洗浄し、そしてCHCl(2×5mL)で逆抽出した。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして濃縮して、乾燥させて、(S)−10uuを得る。合成スキームをスキーム14に示す。
スキーム14.スキーム5(経路A)におけるRNA類似体の合成
Figure 0006038860
実施例34:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)アデノシン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−10au]の合成
(S)−10auは、8uの代わりに1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)アデノシン−3’−イルホスホネート(8a)を使用して、実施例33に記載のように生成される。
実施例35:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロt5.4.0]ウンデカ−7−エニウム4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)シチジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−10cu]の合成
(S)−10cuは、8uの代わりに1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)シチジン−3’−イルホスホネート(8c)を使用して、実施例33に記載のように生成される。
実施例36:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(S)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)グアノシン−3’−イル2,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−10gu]の合成
(S)−10guは、8uの代わりに1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)グアノシン−3’−イルホスホネート(8g)を使用して、実施例33に記載のように生成される。
実施例37:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−10uu]の合成
(R)−10uuは、キラル試薬L−2の代わりにキラル試薬D−2を使用して、実施例33に記載のように生成される。
実施例38:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)アデノシン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−10au]の合成
(R)−10auは、8uの代わりに8aおよびキラル試薬L−2の代わりにキラル試薬D−2を使用して、実施例33に記載のように生成される。
実施例39:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム4−N−ベンゾイル−5’−0−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)シチジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−10cu]の合成
(R)−10cuは、8uの代わりに8cおよびキラル試薬L−2の代わりにキラル試薬D−2を使用して、実施例33に記載のように生成される。
実施例40:経路Aを介するRNAアナログダイマー、(R)−1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)グアノシン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−10gu]の合成
(R)−10guは、8uの代わりに8gおよびキラル試薬L−2の代わりにキラル試薬D−2を使用して、実施例33に記載のように生成される。
実施例41:(S)−トリエチルアンモニウムウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11uu]を形成させるための脱保護
(S)−10uu(50μmol)を、乾燥ピリジンおよび乾燥トルエンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥THF(500μL)中1Mテトラブチルアンモニウムフロリド(TBAF)溶液に溶解する。混合物を、12時間、室温で撹拌する。0.05Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液溶液(pH6.9、2.5mL)を混合物に添加し、そして混合物をEtO(3×3mL)で洗浄する。合わせた有機層を、0.05Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液(3mL)で逆抽出する。次いで、合わせた水層を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして残渣を、逆相カラムクロマトグラフィー[0.1Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液(pH6.9)中アセトニトリル0〜10%の直線勾配]によって、精製して、(S)−11uuを得る。脱保護スキームをスキーム15に示す。
スキーム15.スキーム5(経路A)における脱保護
Figure 0006038860
実施例42:(S)−トリエチルアンモニウムアデノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11au]を形成させるための脱保護
(S)−11auは、(S)−10uuの代わりに(S)−10auを使用して、実施例41に記載のように生成される。
実施例43:(S)−トリエチルアンモニウムシチジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11cu]を形成させるための脱保護
(S)−11cuは、(S)−10uuの代わりに(S)−10cuを使用して、実施例41に記載のように生成される。
実施例44:(S)−トリエチルアンモニウムグアノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11gu]を形成させるための脱保護
(S)−11guは、(S)−10uuの代わりに(S)−10guを使用して、実施例41に記載のように生成される。
実施例45:(R)−トリエチルアンモニウムウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11uu]を形成させるための脱保護
(R)−11uuは、(S)−10uuの代わりに(R)−10uuを使用して、実施例41に記載のように生成される。
実施例46:(R)−トリエチルアンモニウムアデノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11au]を形成させるための脱保護
(R)−11auは、(S)−10uuの代わりに(R)−10auを使用して、実施例41に記載のように生成される。
実施例47:(R)−トリエチルアンモニウムシチジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11cu]を形成させるための脱保護
(R)−11cuは、(S)−10uuの代わりに(R)−10cuを使用して、実施例41に記載のように生成される。
実施例48:(R)−トリエチルアンモニウムグアノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11gu]を形成させるための脱保護
(R)−11guは、(S)−10uuの代わりに(R)−10guを使用して、実施例41に記載のように生成される。
実施例49:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(R)−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)−12uu]の合成
8u(100μmol)を、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジン(1mL)に溶解する。N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl;500μmol)を添加し、そして混合物を、5分間、撹拌する。混合物に、乾燥ピリジンとの共エバポレーションによって乾燥し、そして乾燥ピリジン(1mL)に溶解したアミノアルコール((αR、2S)−6)(100μmol)の溶液を、シリンジを介して滴下し、そして混合物を、5分間、アルゴン下で撹拌する。次いで、混合物を、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションおよびピリジンへの溶解により調製した9u(100μmol)の溶液に、カニューレを介して添加する。15分後、混合物を低圧下で濃縮する。残渣を、CHCl(5mL)で希釈し、そして飽和NaHCO(3×5mL)で洗浄する。合わせた水層を、CHCl(2×5mL)で逆抽出する。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして低圧下で濃縮して、約1mLにする。残渣を、シリンジを介して滴下で、乾燥CHCl(20mL)中撹拌した1%トリフルオロ酢酸(TFA)溶液に0℃で添加する。さらに5時間後、混合物を乾燥CHCl(100mL)で希釈し、そして飽和NaHCO水溶液(2×100mL)で洗浄する。合わせた水層を、CHCl(2×100mL)で逆抽出する。合わせた有機層を、NaSO上で乾燥させ、濾過し、そして低圧下で濃縮して、乾燥させ、粗(R)−12uuを得、31P NMRによって分析する。合成スキームをスキーム16に示す。
スキーム16.スキーム6(経路B)を介するRNA類似体の合成
Figure 0006038860
実施例50:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(R)−6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)アデノシン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)−12au]の合成
粗(R)−12auは、8uの代わりに8aを使用して、実施例49に記載のように生成される。
実施例51:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(R)−4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)シチジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)12cu]の合成
粗(R)−12cuは、8uの代わりに8cを使用して、実施例49に記載のように生成される。
実施例52:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(R)−2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)グアノシン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(R)−12gu]の合成
粗(R)−12guは、8uの代わりに8gを使用して、実施例49に記載のように生成される。
実施例53:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(S)−5’−0−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(SP)−12uu]の合成
粗(S)−12uuは、キラル試薬(αR、2S)−6の代わりにキラル試薬(αS、2R)−6を使用して、実施例49に記載のように生成される。
実施例54:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(S)−6−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)アデノシン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(S)−12au]の合成
粗(S)−12auは、8uの代わりに8aおよびキラル試薬(αR、2S)−6の代わりにキラル試薬(αS、2R)−6を使用して、実施例49に記載のように生成される。
実施例55:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(S)−4−N−ベンゾイル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)シチジン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(S)12cu]の合成
粗(S)−12cuは、8uの代わりに8cおよびキラル試薬(αR、2S)−6の代わりにキラル試薬(αS、2R)−6を使用して、実施例49に記載のように生成される。
実施例56:経路Bを介するRNAアナログダイマー、(S)−2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(tert−ブチルジフェニルシリル)−2’−O−(tert−ブチルジメチルシリル)グアノシン−3’−イル2’,3’−O−ビス(tert−ブチルジメチルシリル)ウリジン−5’−イルH−ホスホネート[(S)−12gu]の合成
粗(S)−12guは、8uの代わりに8gおよびキラル試薬(αR、2S)−6の代わりにキラル試薬(αS、2R)−6を使用して、実施例49に記載のように生成される。
実施例57:(R)−トリエチルアンモニウムウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11uu]を形成させるための修飾
(S)−12uuを、乾燥ピリジンおよび乾燥トルエンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、CHCN(1mL)に溶解する。N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA;100μL)を添加する。1分後、N,N’−ジメチルチウラムジスルフィド(DTD;120μmol)を添加する。さらに3分間後、混合物を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、粗(R)−10uuを得る。次いで、粗(R)−10uuを、乾燥THF(1mL)中1Mテトラブチルアンモニウムフロリド(TBAF)溶液に溶解する。混合物を、12時間、室温で撹拌する。0.05Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液溶液(pH6.9、5mL)を混合物に添加し、そして混合物をEtO(3×5mL)で洗浄する。合わせた有機層を、0.05Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液(5mL)で逆抽出する。次いで、合わせた水層を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして残渣を、逆相カラムクロマトグラフィー[0.1Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液(pH6.9)中アセトニトリル0〜10%の直線勾配]によって、精製して、(R)−11uuを得る。修飾スキームをスキーム17に示す。
スキーム17.キラルホスホロチオエートの合成
Figure 0006038860
実施例58:(R)−トリエチルアンモニウムアデノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11au]を形成させるための修飾
(R)−11auは、(S)−12uuの代わりに(S)−12auを使用して、実施例57に記載のように生成される。
実施例59:(R)−トリエチルアンモニウムシチジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11cu]を形成させるための修飾
(R)−11cuは、(R)−12uuの代わりに(R)−12cuを使用して、実施例57に記載のように生成される。
実施例60:(R)−トリエチルアンモニウムグアノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11gu]を形成させるための修飾
(R)−11guは、(S)−12uuの代わりに(S)−12guを使用して、実施例57に記載のように生成される。
実施例61:(S)−トリエチルアンモニウムウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11uu]を形成させるための修飾
(S)−11uuは、(S)−12uuの代わりに(R)−12uuを使用して、実施例57に記載のように生成される。
実施例62:(S)−トリエチルアンモニウムアデノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11au]を形成させるための修飾
(S)−11auは、(S)−12uuの代わりに(R)−12auを使用して、実施例57に記載のように生成される。
実施例63:(S)−トリエチルアンモニウムシチジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11cu]を形成させるための修飾
(S)−11cuは、(S)−12uuの代わりに(R)−12cuを使用して、実施例57に記載のように生成される。
実施例64:(S)−トリエチルアンモニウムグアノシン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11gu]を形成させるための修飾
(R)−11guは、(R)−11uuと同様の様式で、(S)−12uuの代わりに(R)−12guを使用して、実施例57に記載のように生成される。
実施例65:スキーム5(経路A)を介するX−ホスホネート部分を有するDNA類似体の固相合成
スクシニルリンカーを介した5’−O−(DMTr)チミジン−負荷HCPまたはCPG樹脂(0.5μmol)を、合成に使用する。鎖伸長を、表1工程を反復することによって実施する。鎖伸長後、5’−O−DMTr基を、CHCl中3%DCAによる処理(3×5秒間)によって除去し、そしてCHClで洗浄する。次いで、HCPまたはCPG樹脂上のオリゴマーを、25%NH−ピリジン(9:1、v/v)で、15時間、55℃で処理して、キラル補助基および核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、HCPまたはCPG樹脂からオリゴマーを遊離させる。HCPまたはCPG樹脂を、濾過によって除去し、そしてHOで洗浄する。濾過物を濃縮して、乾燥させる。残渣をHOに溶解し、EtOで洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HOで逆抽出する。合わせた水層を濃縮して、乾燥させる。得られる粗生成物を、逆相HPLCによって、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、60分間、50℃、0.5ml/分の速度で分析および/または精製して、立体規則性(stereoregular)X−ホスホネートDNAを得る。
Figure 0006038860
表1の工程3におけるプレ活性化モノマーの調製:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5’−O−(DMTr)−2’−デオキシリボヌクレオシド−3’−イルホスホネートを、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジンに溶解する。BopClを溶液に添加し、そして混合物を、5分間、撹拌する。混合物に、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、そして乾燥ピリジンに溶解したアミノアルコール(L−2またはD−2)の溶液を、シリンジを介して滴下し、そして混合物を、5分間、アルゴン下で撹拌する。
All−(R)−[TPST(ホスホロチオエート)
上記の典型的な手順に従って、RP−HPLCによる粗生成物の10分の1の精製後、HCPに結合した5’−O−(DMTr)チミジン3’−O−スクシネート(0.5μmol)により、all−(R)−[TPS]9T[7%淡色効果の仮定に基づき1.52A260単位、17.7nmol(35%):UV(HO)αmax267nm、αmin236nm]が得られる。精製されたオリゴマーの<4%が、37℃で1時間のヌクレアーゼPIとのインキュベーションにより消化される。
実施例66:スキーム6(経路B)を介するX−ホスホネート部分を有するDNA類似体の固相合成
5’−O−DMTr基の除去のために、スクシニルまたはオキサリルリンカーを介した5’−O−(DMTr)チミジン−負荷CPG樹脂を、CHCl中1%TFAで処理(3×5秒間)し、CHC1および乾燥ピリジンで洗浄し、そして減圧下で乾燥する。鎖伸長を、以下の工程(a)および(b)を反復することによって実施する。(a)乾燥ピリジン中対応するプレ活性化モノマー(0.2M)を含有する溶液を使用するアルゴン下でのカップリング反応(10分間)。縮合後、固相支持体を、乾燥ピリジンおよびCHC1で洗浄する。(b)CHCl−EtSiH(1:1、v/v)中1%TFAによる処理(3×5秒間)、ならびにその後のCHC1および乾燥ピリジンによる洗浄による5’−O−DMTr基およびキラル補助基の同時の除去。樹脂上の得られるオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、以下に記載のように、X−ホスホネートDNAに変換する。
プレ活性化モノマーの調製:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5’−O−(DMTr)−2’−デオキシリボヌクレオシド−3’−イルホスホネートを、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジンに溶解する。BopClを溶液に添加し、そして混合物を、5分間、撹拌する。混合物に、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、そして乾燥ピリジンに溶解したアミノアルコール(L−6またはD−6)の溶液を、シリンジを介して滴下し、そして混合物を、5分間、アルゴン下で撹拌する。
ホスホロチオエート(X=S
上記のように得られるスクシニルリンカーを介したCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CS−ピリジン−トリエチルアミン(35:35:1、v/v/v)中10wt%Sにより、RTで3時間、処理し、そして連続して、CS、ピリジン、およびCHCNで洗浄する。樹脂を、25%NH水溶液により、RTで12時間処理し、そしてHOで洗浄する。水溶液を合わせ、そして低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCにより精製して、立体選択的ホスホロチオエートDNAが得られる。
ボラノホスフェート(X=BH
乾燥DMF、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA)、およびBH・SMeを、上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートにRTで添加する。15分後、樹脂を、連続的にDMF、CHCN、およびCHOHで洗浄する。次いで、樹脂を、CHOH中飽和NH溶液により、RTで12時間処理し、そしてCHOHで洗浄する。CHOH溶液を合わせ、そして低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCにより精製して、立体選択的ボラノホスフェートDNAが得られる。
ヒドロキシメチルホスホネート(X=CHOH)
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、ピリジン−1−メチル−2−ピロリドン(NMP)(1:9、v/v)中0.1Mトリメチルシリルクロリド(TMSCl)により、RTで10分間、そして気体ホルムアルデヒドにより、RTで30分間、処理し、次いで、NMP、およびCHCNで洗浄する。次いで、樹脂を、25%NH水溶液により、RTで12時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCにより精製して、立体選択的ヒドロキシメチルホスホネートDNAが得られる。
ホスホロアミダート(X=NH
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CCl−1,4−ジオキサン(4:1、v/v)中飽和NH溶液により、0℃で30分間、処理し、そして1,4−ジオキサンで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、25%NH水溶液により、RTで12時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCにより精製して、立体選択的ホスホロアミダートDNAが得られる。
N−プロピルホスホロアミダート(X=NHPr)
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CCl−プロピルアミン(9:1、v/v)により、RTで1時間、処理し、そしてCHOHで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、25%NH水溶液により、RTで12時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCにより精製して、立体選択的N−プロピルホスホロアミダートDNAが得られる。
N−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダート[X=NH(CHNMe
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CCl−2−ジメチルアミノエチルアミン(9:1、v/v)により、RTで1時間、処理し、そしてCHCNで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、25%NH水溶液により、RTで12時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCにより精製して、立体選択的N−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダートDNAが得られる。
実施例67:all−(S)−d[CT](ホスホロチオエート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、スクシニルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そしてBSA−CHCN(1:8、v/v)中ビューケージ試薬の0.2M溶液によりRTで30分間、処理し、そして樹脂をCHCNで洗浄する。次いで、樹脂を、25%NH水溶液により、RTで12時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、μBondasphere5μmC18カラム(100Å、3.9mm×150mm)(Waters)を使用して、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、60分間、50℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例68:all−(R)−d[CT](ホスホロチオエート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、スクシニルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そしてBSA−CHCN(1:8、v/v)(0.2mL)中ビューケージ試薬の0.2M溶液によりRTで30分間、処理し、そして樹脂をCHCNで洗浄する。樹脂を、25%NH水溶液により、RTで12時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、μBondasphere5μmC18カラム(100Å、3.9mm×150mm)(Waters)を使用して、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、60分間、50℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例69:all−(S)−[TT(ホスホロチオエート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、スクシニルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そしてBSA−CHCN(1:8、v/v)(0.2mL)中ビューケージ試薬の0.2M溶液によりRTで30分間、処理し、そして樹脂をCHCNで洗浄する。CPG樹脂を、25%NH水溶液(5mL)により、RTで24時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、μBondasphere5μmC18カラム(100Å、3.9mm×150mm)(Waters)を使用して、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、80分間、30℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例70:all(R)−[TT(ホスホロチオエート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、スクシニルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そしてBSA−CHCN(1:8、v/v)(0.2mL)中ビューケージ試薬の0.2M溶液によりRTで30分間、処理し、そして樹脂をCHCNで洗浄する。樹脂を、25%NH水溶液(5mL)により、RTで24時間処理し、そしてHOで洗浄する。合わせた水溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、μBondasphere5μmC18カラム(100Å、3.9mm×150mm)(Waters)を使用して、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、80分間、30℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例71:al(R)−[TT(ボラノホスフェート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、スクシニルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そして乾燥DMF(0.8mL)、BSA(0.1mL)およびBH・S(CH(0.1mL)の混合物によりRTで15分間、処理し、そして樹脂を、連続的に、DMF、CHCN、およびCHOHで洗浄する。次いで、樹脂を、CHOH(5mL)中NHの飽和溶液により、RTで2時間処理し、そしてCHOHで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、PEGASIL ODS5μm(120Å、4.0mm×150mm)(Senshu Pak)を使用して、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、60分間、30℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例72:all−(S)−[TT(ボラノホスフェート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、スクシニルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そして乾燥DMF(0.8mL)、BSA(1mL)およびBH・S(CH(0.1mL)の混合物によりRTで15分間、処理し、そして樹脂を、連続的に、DMF、CHCN、およびCHOHで洗浄する。次いで、樹脂を、CHOH(5mL)中NHの飽和溶液により、RTで2時間処理し、そしてCHOHで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、PEGASIL ODS5μm(120Å、4.0mm×150mm)(Senshu Pak)を使用して、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、60分間、30℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例73:all−(S)−[TT(N−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、オキサリルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そしてCCl−2−ジメチルアミノエチルアミン(9:1、v/v)により、RTで1時間、処理し、そしてCHCNで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、PEGASIL ODS5μm(120Å、4.0mm×150mm)(Senshu Pak)を使用して、0.1Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、60分間、30℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例74:all−(R)−[TT(N−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダート)の合成
対応するオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、オキサリルリンカーを介してCPG樹脂上で上記のように合成し、そしてCCl−2−ジメチルアミノエチルアミン(9:1、v/v)により、RTで1時間、処理し、そしてCHCNで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させ、そして樹脂を、RP−HPLCおよびMALDI−TOF−MSにより、分析および特徴付けする。RP−HPLCを、PEGASIL ODS5μm(120Å、4.0mm×150mm)(Senshu Pak)を使用して、0.1Mトリエチルアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%アセトニトリルの直線勾配で、60分間、30℃で、0.5mL/分の流速で実施する。
実施例75:スキーム5(経路A)を介するX−ホスホネートRNAの固相合成の一般的手順
スクシニルリンカーを介した5’−O−(DMTr)ウリジン−負荷HCPまたはCPG樹脂を、合成に使用する。鎖伸長を、表2工程を反復することによって実施する。鎖伸長後、5’−O−DMTr基を、CHCl中3%DCAによる処理によって除去し、そしてCHClおよびEtOHで洗浄する。次いで、樹脂を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)により2時間、室温で処理し、そして濾過により取り出す。濾過物を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)で希釈し、そして密閉したフラスコ中で、48時間、室温で置く。溶液を低圧下で濃縮し、そして残渣をRP−HPLCにより精製する。所望の2’−O−TBS−保護X−ホスホネートRNAを含有する画分を、回収し、そして凍結乾燥する。残渣を、乾燥THF中1MのTBAF溶液により24時間、室温で処理する。0.05MのTEAA緩衝溶液(pH6.9)を添加し、そしてTHFを、エバポレーションによって除去する。残渣を、Sep−pakC18カートリッジで脱塩し、そしてRP−HPLCによって精製し、立体規則性XホスホネートRNAを得る。
Figure 0006038860
表2の工程3におけるプレ活性化モノマーの調製:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5’−O−(DMTr)−2’−O−(TBS)−リボヌクレオシド−3’−イルホスホネートを、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジンに溶解する。BopClを溶液に添加し、そして混合物を、5分間、撹拌する。混合物に、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションであり、そして乾燥ピリジンに溶解したアミノアルコール(L−2またはD−2)の溶液を、シリンジを介して滴下で添加し、そして混合物を、5分間、アルゴン下で撹拌する。
実施例76:スキーム6(経路B)を介するX−ホスホネートRNAの固相合成の一般的手順
合成H−ホスホネートRNAを合成するための手順。5’−O−DMTr基の除去のために、スクシニルまたはオキサリルリンカーを介した5’−O−(DMTr)ウリジン−負荷CPG樹脂を、CHCl中1%TFAで処理(3×5秒間)し、CHClおよび乾燥ピリジンで洗浄し、そして減圧下で乾燥する。鎖伸長を、以下の工程(a)および(b)を反復することによって実施する。(a)乾燥ピリジン中対応するプレ活性化モノマー*(0.2M)を含有する溶液を使用するアルゴン下でのカップリング反応(10分間)。縮合後、固相支持体を、乾燥ピリジンおよびCHClで洗浄する。(b)CHCl−EtSiH(1:1、v/v)中1%TFAによる処理(3×5秒間)、およびその後のCHClおよび乾燥ピリジンによる洗浄による5’−O−DMTr基およびキラル補助基の同時の除去。樹脂上の得られるオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、以下に記載のように、骨格修飾RNA類似体に変換する。
プレ活性化モノマーの調製:
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5’−O−(DMTr)−2’−O−(TBS)−リボヌクレオシド−3’−イルホスホネートを、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥ピリジンに溶解する。BopClを溶液に添加し、そして混合物を、5分間、撹拌する。混合物に、乾燥ピリジンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、そして乾燥ピリジンに溶解したアミノアルコール(L−6またはD−6)の溶液を、シリンジを介して滴下し、そして混合物を、5分間、アルゴン下で撹拌する。
ホスホロチオエート(X=S
上記のように得られるスクシニルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CS−ピリジン−トリエチルアミン(35:35:1、v/v/v)中10wt%Sにより、RTで3時間、処理し、そして連続して、CS、ピリジン、およびEtOHで洗浄する。次いで、樹脂を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)により2時間、室温で処理し、そして濾過により取り出す。濾過物を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)で希釈し、そして密閉したフラスコ中で、12時間、室温で置く。溶液を低圧下で濃縮し、そして残渣をRP−HPLCにより精製する。所望の2’−O−TBS−保護ホスホロチオエートRNAを含有する画分を、回収し、そして凍結乾燥する。残渣を、乾燥THF中1MのTBAF溶液により24時間、室温で処理する。0.05MのTEAA緩衝溶液(pH6.9)を添加し、そしてTHFを、エバポレーションによって除去する。残渣を、Sep−pakC18カートリッジで脱塩し、そしてRP−HPLCによって精製し、立体規則性ホスホロチオエートRNAを得る。
ボラノホスフェート(X=BH
乾燥DMF、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA)、およびBH・SMeを、上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートにRTで添加する。15分後、樹脂を、連続的にDMF、CHCN、およびEtOHで洗浄する。次いで、樹脂を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)により2時間、室温で処理し、そして濾過により取り出す。濾過物を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)で希釈し、そして密閉したフラスコ中で、12時間、室温で置く。溶液を低圧下で濃縮し、そして残渣をRP−HPLCにより精製する。所望の2’−O−TBS−保護ボラノホスフェートRNAを含有する画分を、回収し、そして凍結乾燥する。残渣を、乾燥THF中1MのTBAF溶液により24時間、室温で処理する。0.05MのTEAA緩衝溶液(pH6.9)を添加し、そしてTHFを、エバポレーションによって除去する。残渣を、Sep−pakC18カートリッジで脱塩し、そしてRP−HPLCによって精製し、立体規則性ボラノホスフェートRNAを得る。
ヒドロキシメチルホスホネート(X=CHOH)
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、ピリジン−1−メチル−2−ピロリドン(NMP)(1:9、v/v)中0.1Mトリメチルシリルクロリド(TMSCl)により、RTで10分間、そして気体ホルムアルデヒドにより、RTで30分間、処理し、次いで、NMP、およびEtOHで洗浄する。次いで、樹脂を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)により2時間、室温で処理し、そして濾過により取り出す。濾過物を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)で希釈し、そして密閉したフラスコ中で、12時間、室温で置く。溶液を低圧下で濃縮し、そして残渣をRP−HPLCにより精製する。所望の2’−O−TBS−保護ヒドロキシメチルホスホネートRNAを含有する画分を、回収し、そして凍結乾燥する。残渣を、乾燥THF中1MのTBAF溶液により24時間、室温で処理する。0.05MのTEAA緩衝溶液(pH6.9)を添加し、そしてTHFを、エバポレーションによって除去する。残渣を、Sep−pakC18カートリッジで脱塩し、そしてRP−HPLCによって精製し、立体規則性ヒドロキシメチルホスホネートRNAを得る。
ホスホロアミダート(X=NH
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CCl−1,4−ジオキサン(4:1、v/v)中飽和NH溶液により、0℃で30分間、処理し、そして1,4−ジオキサンで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させる。濾過物を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)で希釈し、そして密閉したフラスコ中で、12時間、室温で置く。溶液を低圧下で濃縮し、そして残渣をRP−HPLCにより精製する。所望の2’−O−TBS−保護ホスホロアミダートRNAを含有する画分を、回収し、そして凍結乾燥する。残渣を、乾燥THF中1MのTBAF溶液により24時間、室温で処理する。0.05MのTEAA緩衝溶液(pH6.9)を添加し、そしてTHFを、エバポレーションによって除去する。残渣を、Sep−pakC18カートリッジで脱塩し、そしてRP−HPLCによって精製し、立体規則性ホスホロアミダートRNAを得る。
N−プロピルホスホロアミダート(X=NHPr)
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CCl−プロピルアミン(9:1、v/v)により、RTで1時間、処理し、そしてCHOHで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させる。濾過物を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)で希釈し、そして密閉したフラスコ中で、12時間、室温で置く。溶液を低圧下で濃縮し、そして残渣をRP−HPLCにより精製する。所望の2’−O−TBS−保護N−プロピルホスホロアミダートRNAを含有する画分を回収し、そして凍結乾燥する。残渣を、乾燥THF中1MのTBAF溶液により24時間、室温で処理する。0.05MのTEAA緩衝溶液(pH6.9)を添加し、そしてTHFを、エバポレーションによって除去する。残渣を、Sep−pakC18カートリッジで脱塩し、そしてRP−HPLCによって精製し、立体規則性N−プロピルホスホロアミダートRNAを得る。
N−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダート[X=NH(CHNMe
上記のように得られるオキサリルリンカーを介してCPG樹脂に負荷されたオリゴヌクレオシドH−ホスホネートを、CCl−2−ジメチルアミノエチルアミン(9:1、v/v)により、RTで1時間、処理し、そしてCHCNで洗浄する。合わせた有機溶液を、低圧下で濃縮して、乾燥させる。濾過物を、25%NH水溶液−EtOH(3:1、v/v)で希釈し、そして密閉したフラスコ中で、12時間、室温で置く。溶液を低圧下で濃縮し、そして残渣をRP−HPLCにより精製する。所望の2’−O−TBS−保護N−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダートRNAを含有する画分を、回収し、そして凍結乾燥する。残渣を、乾燥THF中1MのTBAF溶液により24時間、室温で処理する。0.05MのTEAA緩衝溶液(pH6.9)を添加し、そしてTHFを、エバポレーションによって除去する。残渣を、Sep−pakC18カートリッジで脱塩し、そしてRP−HPLCによって精製し、立体規則性N−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダートRNAを得る。
実施例77:固相合成;プレ活性化モノマー溶液の調製のための一般的手順
適切なH−ホスホネートモノエステルを、乾燥ピリジンおよび乾燥トルエンとの反復共エバポレーションにより乾燥し、次いで、乾燥溶媒に溶解する。溶液に、縮合試薬を、滴下し、そして10分間、撹拌する。次いで、アミノアルコールを添加し、そしてさらに10分間、撹拌して、プレ活性化モノマー溶液を得る。
実施例78:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5tt]の固相合成
Figure 0006038860
スクシニルリンカーを介したN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−負荷HCP樹脂(16.4mg;30.5μmol/g、0.5μmol)を、3%DCA/DCM(3×1mL)で処理し、次いで、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄した。樹脂を低圧下で乾燥した(>5分間)後、プレ活性化モノマー溶液(250μL、25μmol;8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(H−ホスホネートモノエステルについて25μmol)、MeCN−ピリジン(溶媒について9:1、v/v)、PhPCl(縮合試薬について62.5μmol)、およびL−2(アミノアルコールについて30μmolからなる)を添加した。2分間、撹拌し、反応溶液を除去し、そして樹脂を、MeCN(3×1mL)で洗浄し、そして低圧下で乾燥した(>5分間)。修飾工程では、樹脂上の得られる中間体を、0.3MのDTD/MeCN(500μL、150μmol)で5分間の処理により硫化し、次いで、樹脂を、MeCN(3×1mL)およびDCM(3×1mL)で洗浄した。5’−O−DMTr基を、3%DCA/DCM(3×1mL)での処理によって除去し、そして樹脂を、DCM(3×1mL)で洗浄した。次いで、樹脂上のホスホロチオエートダイマーを、25%NH(1mL)で、12時間、55℃で処理して、キラル補助基および核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、樹脂からダイマーを遊離させる。樹脂を、濾過によって取り出し、そしてHOで洗浄した。濾過物を濃縮して、乾燥させた。残渣を、HO(2mL)に溶解し、EtO(3×2mL)で洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HO(2mL)で逆抽出した。合わせた水層を濃縮して、乾燥させた。得られる粗生成物を、逆相UPLC(登録商標)により、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%MeOHの直線勾配で、15分間、55℃で、0.4ml/分の速度で、分析した。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は97%(R:S=2:98)であった。保持時間:13.4分((R)−5tt:12.3分)。一般的スキームをスキーム18に示す。UPLCプロファイルを図5Aに示す。(S)−5ttの別の合成では、BTC(20μmol)を、PhPCl(62.5μmol)の代わりに使用した。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は95%収率(R:S=3:97)であった。保持時間:13.5分((R)−5tt:12.4分)。UPLCプロファイルを図5Bに示す。
スキーム18:経路Aを介するホスホロチオエートダイマーの一般的固相合成
Figure 0006038860
実施例79:ホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5tt]の固相合成
スクシニルリンカーを介したN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−負荷HCP樹脂(16.4mg;30.5μmol/g、0.5μmol)を、3%DCA/DCM(3×1mL)で処理し、次いで、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄した。樹脂を低圧下で乾燥した(>5分間)後、プレ活性化モノマー溶液(200μL、25μmol;8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(H−ホスホネートモノエステルについて25μmol)、MeCN−CMP(溶媒について9:1、v/v)、PhPCl(縮合試薬について62.5μmol)、およびL−2(アミノアルコールについて30μmol)を添加し、続いて、5MのCMPT/MeCN(活性化試薬について50μL、250μmol)を添加した。10分間、撹拌し、反応溶液を除去し、そして樹脂を、MeCN(3×1mL)で洗浄し、低圧下で乾燥した(>5分間)。樹脂上の得られる中間体を、0.3MのDTD/MeCN(500μL、150μmol)で5分間の処理により硫化し、次いで、樹脂を、MeCN(3×1mL)およびDCM(3×1mL)で洗浄した。5’−O−DMTr基を、3%DCA/DCM(3×1mL)での処理によって除去し、そしてDCM(3×1mL)で洗浄した。次いで、樹脂上のホスホロチオエートダイマーを、25%NH(1mL)で、12時間、55℃で処理して、キラル補助基および核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、樹脂からダイマーを遊離させる。樹脂を、濾過によって取り出し、そしてHOで洗浄した。濾過物を濃縮して、乾燥させた。残渣を、HO(2mL)に溶解し、EtO(3×2mL)で洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HO(2mL)で逆抽出した。合わせた水層を濃縮して、乾燥させた。得られる粗生成物を、逆相UPLC(登録商標)により、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%MeOHの直線勾配で、15分間、55℃で、0.4ml/分の速度で、分析した。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は98%収率(R:S=1:99)であった。保持時間:13.5分((R)−5tt:12.4分)。UPLCプロファイルを図6Aに示す。この化合物はまた、記載の類似の様式で、「PhPCl(62.5μmol)およびL−2(30μmol)」の代わりに、「BTC(16μmol)およびL−2(26μmol)」を使用しても得られた。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は95%収率(R:S=1:99)であった。保持時間:13.5分((R)−5tt:12.4分)。UPLCプロファイルを図6Bに示す。
実施例80:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5tt]の固相合成
この化合物は、「実施例78」に類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30μmol)」を使用することによって、得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5ttの収率は98%(R:S=97:3)であった。保持時間:12.2分((S)−5tt:13.5分)。UPLCプロファイルを図7Aに示す。(R)−5ttの別の合成では、BTC(20μmol)を、PhPCl(62.5μmol)の代わりに使用した。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5ttの収率は97%(R:S=95:5)であった。保持時間:12.3分((S)−5tt:13.6分)。UPLCプロファイルを図7Bに示す。
実施例81:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5tt]の固相合成
この化合物は、「実施例79」に類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5ttの収率は98%(R:S=98:2)であった。保持時間:12.3分((S)−5tt:13.6分)。UPLCプロファイルを図8に示す。
実施例82:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S−5ct]の固相合成
Figure 0006038860
この化合物は、実施例78に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(25μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム4−N−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシシチジン−3’−イルホスホネート(25μmol)」を使用して得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ctの収率は98%収率(R:S=3:97)であった。保持時間:9.7分((R)−5ct:8.7分)。UPLCプロファイルを図9Aに示す。この化合物はまた、記載のようにして「PhPCl(62.5μmol)およびL−2(30μmol)」の代わりに、「BTC(16μmol)およびL−2(26μmol)」を使用しても得られた。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ctの収率は94%(R:S=3:97)であった。保持時間:9.7分((R)−5ct:8.7分)。UPLCプロファイルを図9Bに示す。
実施例83:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウム2’−デオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R−5ct]の固相合成
この化合物は、実施例82の実験、図9Aに類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30(μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5ctの収率は98%(R:S=97:3)であった。保持時間:8.6分((S)−5ct:9.7分)。UPLCプロファイルを図10Aに示す。この化合物は、実施例82、図9Bに類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30(μmol)」を使用することによって得た。(R)−5ctの収率は87%(R:S=98:2)であった。保持時間:8.6分((S)−5ct:9.8分)。UPLCプロファイルを図10Bに示す。
実施例84:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシアデニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5at]の固相合成
Figure 0006038860
この化合物は、実施例78に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(25μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N,N−ジベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシアデニン−3’−イルホスホネート(25μmol)」を使用して得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5atの収率は96%収率(R:S=1:99)であった。保持時間:14.0分((R)−5at:12.6分)。UPLCプロファイルを図11に示す。
実施例85:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウム2’−デオキシアデニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R−5at]の固相合成
この化合物は、実施例83に類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5atの収率は96%(R:S=96:4)であった。保持時間:12.5分((S−5at:14.1分)。UPLCプロファイルを図12に示す。
実施例86:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシグアニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5gt]の固相合成
Figure 0006038860
この化合物は、実施例78に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(25μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムO−シアノエチル−2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシグアニン−3’−イルホスホネート(25μmol)」を使用して得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5gtの収率は96%(R:S=2:98)であった。保持時間:11.5分((R)−5gt:10.3分)。UPLCプロファイルを図13に示す。
実施例87:経路Aを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウム2’−デオキシグアニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5gt]の固相合成
この化合物は、実施例86に類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5gtの収率は96%(R:S=97:3)であった。保持時間:10.3分((S)−5gt:11.6分)。UPLCプロファイルを図14に示す。
実施例88:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5tt]の固相合成
Figure 0006038860
スクシニルリンカーを介したN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−負荷HCP樹脂(16.4mg;30.5μmol/g、0.5μmol)を、5’−O−DMTr基の除去のために、1%TFA/DCM(3×1mL)で処理し、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄し、減圧下で乾燥させた。プレ活性化モノマー溶液(200μL、50μmol;8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(H−ホスホネートモノエステルについて50μmol)、MeCN−CMP(溶媒について9:1、v/v)、PhPCl(縮合試薬について125μmol)、およびL−6(アミノアルコールについて52μmolからなる)を添加し、続いて、5MのCMPT/MeCN(50μL、250μmol)を添加した。2分間、撹拌し、反応溶液を除去し、そして樹脂を、MeCN(3×1mL)、DCM(3×1mL)で洗浄し、そして低圧下で乾燥した(>5分間)。5’−O−DMTr基およびキラル補助基を、DCM中1%TFA(3×1mL)の処理により同時に除去し、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄し、そして減圧下で乾燥させた。樹脂上の得られる中間体を、0.2Mビューケージ試薬/MeCN(200μL、40μmol)およびBSA(25μl、100μmol)の溶液混合物での20分間の処理により硫化し、次いで、樹脂を、MeCN(3×1mL)で洗浄した。次いで、樹脂上のホスホロチオエートダイマーを、25%NH−EtOH(2mL、4:1、v/v)で、12時間、室温で処理して、核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、樹脂からダイマーを遊離させる。樹脂を、濾過によって取り出し、そしてHOで洗浄した。濾過物を濃縮して、乾燥させた。残渣を、HO(2mL)に溶解し、EtO(3×2mL)で洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HO(2mL)で逆抽出した。合わせた水層を濃縮して、乾燥させた。得られる粗生成物を、逆相UPLC(登録商標)により、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%MeOHの直線勾配で、15分間、55℃で、0.4ml/分の速度で、分析した。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は96%(R:S=4:96)であった。保持時間:13.5分((R)−5tt:12.4分)。UPLCプロファイルを図15Aに示す。
別の合成では、この化合物はまた、記載の類似の様式で「PhPCl(125μmol)」の代わりに「BTC(32μmol)」を使用することによっても得られる。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は96%(R:S=5:95)であった。保持時間:13.4分((R)−5tt:12.3分)。UPLCプロファイルを図15Bに示す。
実施例89:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5tt]の固相合成
他の別の合成では、[(S)−5tt]は、図15A、実施例88に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン3’−イルホスホネート(50μmol)、PhPCl(125μmol)、およびL−6(52μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(25μmol)、BTC(16μmol)、およびL−6(26μmol))」を使用しても得られた。一般的スキームをスキーム19に示す。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は93%(R:S=6:94)であった。保持時間:13.5分((R)−5tt:12.4分)。UPLCプロファイルを図16Aに示す。この化合物は、記載の類似の様式で、「0.2Mビューケージ試薬/MeCN(200μL、40μmol)」の代わりに、「0.2MのDTD/MeCN(200μL、80μmol)」を使用して得られた。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ttの収率は95%(R:S=6:94)であった。保持時間:13.5分((R)−5tt:12.4分)。UPLCプロファイルを図16Bに示す。
スキーム19.
Figure 0006038860
実施例90:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5tt]の固相合成
この化合物は、実施例88の方法、図15Aに類似の様式で、「L−6(52μmol)」の代わりに「D−6(52μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5ttの収率は95%(R:S=97:3)であった。保持時間:12.3分((S)−5tt:13.6分)。UPLCプロファイルを図17Aに示す。
この化合物は、実施例88の方法、図15Bに類似の様式で、「L−6(52μmol)」の代わりに「D−6(52μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5ttの収率は94%(R:S=97:3)であった。保持時間:12.3分((S)−5tt:13.6分)。UPLCプロファイルを図17Bに示す。
実施例91:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5ct]の固相合成
Figure 0006038860
この化合物は、実施例88に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(50μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム4−N−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシシチジン−3’−イルホスホネート(50μmol)」を使用して得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5ctの収率は95%(R:S=4:96)であった。保持時間:9.7分((R)−5ct:8.7分)。UPLCプロファイルを図18に示す。
実施例92:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウム2’−デオキシシチジン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5ct]の固相合成
この化合物は、実施例91に類似の様式で、「L−6(52μmol)」の代わりに「D−6(52μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5ctの収率は96%(R:S=97:3)であった。保持時間:8.6分((S)−5ct:9.8分)。UPLCプロファイルを図19に示す。
実施例93:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシアデニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5at]の固相合成
Figure 0006038860
この化合物は、実施例88に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(50μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N,N−ジベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシアデニン−3’−イルホスホネート(50μmol)」を使用して得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5atの収率は95%収率(R:S=5:95)であった。保持時間:14.0分((R)−5at:12.5分)。UPLCプロファイルを図20Aに示す。
この化合物は、図20Aについて本実施例に記載の方法に類似の様式で、「PhPCl(125μmol)」の代わりに「BTC(32μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5atの収率は94%(R:S=5:95)であった。保持時間:13.9分((R)−5at:12.5分)。UPLCプロファイルを図20Bに示す。
実施例94:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシアデニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5at]の固相合成
この化合物は、実施例88に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(50μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム6−N−((ジメチルアミノ)メチレン)−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシアデニン−3’−イルホスホネート(50μmol)」を使用して得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5atの収率は91%収率(R:S=5:95)であった。保持時間:13.9分((R)−5at:12.5分)。UPLCプロファイルを図21に示す。
実施例95:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウム2’−デオキシアデニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5at]の固相合成
この化合物は、実施例93の方法、図20Aに類似の様式で、「L−6(52μmol)」の代わりに「D−6(52μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5atの収率は96%収率(R:S=97:3)であった。保持時間:12.5分((S)−5at:14.0分)。UPLCプロファイルを図22Aに示す。
この化合物は、実施例93の方法、図20Bに類似の様式で、「L−6(52μmol)」の代わりに「D−6(52μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5atの収率は94%(R:S=95:5)であった。保持時間:12.4分((R)−5at:14.0分)。UPLCプロファイルを図22Bに示す。
実施例96:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシグアニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−5gt]の固相合成
この化合物は、実施例88に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(50μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムO−シアノエチル−2−N−フェノキシアセチル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシグアニン−3’−イルホスホネート(50μmol)」を使用して得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−5gtの収率は95%(R:S=6:94)であった。保持時間:11.5分((R)−5gt:10.3分)。UPLCプロファイルを図23に示す。
実施例97:経路Bを介するホスホロチオエートダイマー、(R)−アンモニウム2’−デオキシグアニン−3’−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−5gt]の固相合成
この化合物は、実施例96に類似の様式で、「L−2(52μmol)」の代わりに「D−2(52μmol)」を使用することによって得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−5gtの収率は95%(R:S=94:6)であった。保持時間:10.3分((S)−5gt:11.6分)。UPLCプロファイルを図24に示す。
実施例98:経路Bを介するボラノホスフェート(Boranophoshate)ダイマー、(S)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルボラノホスフェート[(S)−7tt]の固相合成
Figure 0006038860
スクシニルリンカーを介したN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−負荷HCP樹脂(16.4mg;30.5μmol/g、0.5μmol)を、5’−O−DMTr基の除去のために、1%TFA/DCM(3×1mL)で処理し、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄し、減圧下で乾燥させた。プレ活性化モノマー溶液(200μL、50μmol;8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(H−ホスホネートモノエステルについて50μmol)、MeCN−CMP(溶媒について9:1、v/v)、BTC(縮合試薬について32μmol)、およびD−6(アミノアルコールについて52μmolからなる)を添加し、続いて、5MのCMPT/MeCN(50μL、250μmol)を添加した。2分間、撹拌し、反応溶液を除去し、そして樹脂を、MeCN(3×1mL)、DCM(3×1mL)で洗浄し、そして低圧下で乾燥した(>5分間)。5’−O−DMTr基およびキラル補助基を、DCM中1%TFA(3×1mL)の処理により同時に除去し、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄し、そして減圧下で乾燥させた。樹脂上の得られる中間体を、BH−SMe−BSA−DMAc(1mL、1:1:8、v/v/v)の混合物による15分間の処理によって、ホウ素化し、次いで、樹脂を、DMAc(3×1mL)、MeCN(3×1mL)、およびMeOH(3×1mL)で洗浄した。次いで、樹脂上のボラノホスフェートダイマーを、2MのNH/EtOH(2mL)で、12時間、室温で処理して、核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、樹脂からダイマーを遊離させた。樹脂を、濾過によって除去し、そしてMeOHで洗浄した。濾過物を濃縮して、乾燥させた。残渣を、HO(2mL)に溶解し、EtO(3×2mL)で洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HO(2mL)で逆抽出した。合わせた水層を濃縮して、乾燥させた。得られる粗生成物を、逆相UPLC(登録商標)により、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜15%MeCNの直線勾配で、15分間、60℃で、0.5ml/分の速度で、分析した。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−7ttの収率を、天然のTTダイマーの近値のモル吸光係数(16800)を用いて260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。(S)−7ttの収率は89%(R:S=4:96)であった。保持時間:9.6分((R)−7tt:9.8分)。UPLCプロファイルを図25に示す。
実施例99:経路Bを介するボラノホスフェート(Boranophoshate)ダイマー、(R)−アンモニウムチミジン−3’−イルチミジン−5’−イルボラノホスフェート[(R)−7tt]の固相合成
この化合物は、実施例98に類似の様式で、「D−2(52μmol)」の代わりに「L−2(52μmol)」を使用することによって、得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−7ttの収率を、天然のTTダイマーの近値のモル吸光係数(16800)を伴う260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。(R)−7ttの収率は90%収率(R:S=95:5)であった。保持時間:9.8分((S)−7tt:9.7分)。UPLCプロファイルを図26に示す。
実施例100:経路Bを介するN−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダートダイマー、(S)−チミジン−3’−イルチミジン−5’−イルN−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダート[(S)−8tt]の固相合成
Figure 0006038860
スクシニルリンカーを介したN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−負荷HCP樹脂(16.4mg;30.5μmol/g、0.5μmol)を、5’−O−DMTr基の除去のために、1%TFA/DCM(3×1mL)で処理し、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄し、減圧下で乾燥させた。プレ活性化モノマー溶液(200μL、50μmol;8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(H−ホスホネートモノエステルについて50μmol)、MeCN−CMP(溶媒について9:1、v/v)、BTC(縮合試薬について32μmol)、およびL−6(アミノアルコールについて52μmolからなる)を添加し、続いて、5MのCMPT/MeCN(50μL、250μmol)を添加した。2分間、撹拌し、反応溶液を除去し、そして樹脂を、MeCN(3×1mL)、DCM(3×1mL)で洗浄し、そして低圧下で乾燥した(>5分間)。5’−O−DMTr基およびキラル補助基を、DCM中1%TFA(3×1mL)の処理により同時に除去し、そして樹脂を、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄し、そして減圧下で乾燥させた。樹脂上の得られる中間体を、CCl−MeN(CH)2NH(1mL、1:9、v/v)の混合物による30分間の処理によってアミド化し、次いで、樹脂を、DCM(3×1mL)で洗浄した。次いで、樹脂上のホスホロアミダートダイマーを、2MのNH/EtOH(2mL)で、12時間、室温で処理して、核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、樹脂からダイマーを遊離させた。樹脂を、濾過によって除去し、そしてMeOHで洗浄した。濾過物を濃縮して、乾燥させた。残渣を、HO(2mL)に溶解し、EtO(3×2mL)で洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HO(2mL)で逆抽出した。合わせた水層を濃縮して、乾燥させた。得られる粗生成物を、逆相UPLC(登録商標)により、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%MeOHの直線勾配で、15分間、55℃で、0.4ml/分の速度で、分析した。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(S)−8ttの収率を、天然のTTダイマーの近値のモル吸光係数(16800)を用いて260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。(S)−8ttの収率は90%(R:S=6:94)であった。保持時間:10.3分((R)−8tt:9.6分)。UPLCプロファイルを図27に示す。
実施例101:経路Bを介するN−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダートダイマー、(R)−チミジン−3’−イルチミジン−5’−イルN−[(2−ジメチルアミノ)エチル]ホスホロアミダート[(R)−8tt]の固相合成
この化合物は、実施例100に類似の様式で、「L−2(52μmol)」の代わりに「D−2(52μmol)」を使用することによって、得た。生成物は、従来のH−ホスホネート法によって合成される対照サンプルと同一であった。(R)−8ttの収率を、天然のTTダイマーの近値のモル吸光係数(16800)を用いた260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。(R)−8ttの収率は86%収率(R:S=96:4)であった。保持時間:9.6分((S)−8tt:10.3分)。UPLCプロファイルを図28に示す。
実施例102:経路Aを介するホスホロチオエートテトラマー、All−(S)−[TPST(ホスホロチオエート)の固相合成
スクシニルリンカーを介した5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−負荷HCP樹脂(0.5μmol)を、合成に使用した。表3の工程を反復することによって、鎖伸長を実施した。鎖伸長後、5’−O−DMTr基を、3%DCA/DCM(3×1mL)での処理によって除去し、そしてDCM(3×1mL)で洗浄した。次いで、樹脂上のホスホロチオエートテトラマーを、25%NHで、12時間、55℃で処理して、キラル補助基および核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、樹脂からテトラマーを遊離させた。樹脂を、濾過によって除去し、そしてHOで洗浄した。濾過物を濃縮して、乾燥させた。残渣を、HO(2mL)に溶解し、EtO(3×2mL)で洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HO(2mL)で逆抽出した。合わせた水層を濃縮して、乾燥させた。得られる粗生成物を、逆相UPLC(登録商標)により、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜30%MeOHの直線勾配で、30分間、55℃で、0.4ml/分の速度で、分析した。生成物は、従来のホスホルアミダイト法によって合成される対照サンプルと同一であった。生成物の収率を、天然のTテトラマーの近値のモル吸光係数(33000)を用いた260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。平均的なカップリング収率は、96%であり、光学純度は、96%(平均:99%)であった。保持時間:23.0分;MS(MALDI TOF−MS)m/z C405223[M−H]の理論値1201.15、実測値1200.97。UPLCプロファイルを図29に示す。
Figure 0006038860
「プレ活性化(R)−または(S)−モノマー溶液」の調製:
8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(25μmol)を、乾燥ピリジンおよび乾燥トルエンとの反復共エバポレーションによって乾燥し、次いで、乾燥MeCN−CMP(9:1、v/v)に溶解した。溶液に、PhPCl(62.5μmol)を添加し、そして10分間、撹拌した。次いで、L−2(30μmol;「S」溶液ではD−2)を添加し、そしてさらに10分間、撹拌して、プレ活性化モノマー溶液を得た。
実施例103:経路Aを介するホスホロチオエートテトラマー、(S、R、S)−[TPST(ホスホロチオエート)の固相合成
この化合物は、実施例102のAll−(S)−[TPSTに類似の様式で得られた。生成物の収率を、天然のTテトラマーの近値のモル吸光係数(33000)を用いた260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。生成物は、従来のホスホルアミダイト法によって合成される対照サンプルと同一であった。平均的なカップリング収率は、96%であり、光学純度は、94%(平均:98%)である。保持時間:22.3分;MS(MALDI TOF−MS)m/z C405223 [M−H]の理論値1201.15、実測値1200.97。UPLCプロファイルを図30に示す。
実施例104:経路Aを介するホスホロチオエートテトラマー、(R、S、R)−[TPST(ホスホロチオエート)の固相合成
この化合物は、実施例102のAll−(S)−[TPSTに類似の様式で得られた。生成物の収率を、天然のTテトラマーの近値のモル吸光係数(33000)を用いた260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。生成物は、従来のホスホルアミダイト法によって合成される対照サンプルと同一であった。平均的なカップリング収率は、97%であり、光学純度は、96%(平均:99%)である。保持時間:21.7分;MS(MALDI TOF−MS)m/z C405223[M−H]の理論値1201.15、実測値1200.96。UPLCプロファイルを図31に示す。
実施例105:経路Aを介するホスホロチオエートテトラマー、All−(R)−[TPST(ホスホロチオエート)の固相合成
この化合物は、All−(S)−[TPSTに類似の様式で得られた。生成物の収率を、天然のTテトラマーの近値のモル吸光係数(33000)を用いた260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。生成物は、従来のホスホルアミダイト法によって合成される対照サンプルと同一であった。平均的なカップリング収率は、95%であり、光学純度は、92%(平均:97%)である。保持時間:19.1分;MS(MALDI TOF−MS)m/z C405223[M−H]の理論値1201.15、実測値1200.92。UPLCプロファイルを図32に示す。
実施例106:経路Aを介するRNAホスホロチオエートテトラマー、(S)−アンモニウム2’−O−メチルウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−9uu]の固相合成
Figure 0006038860
スクシニルリンカーを介した2’−O−アセチル−N−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)ウリジン−負荷CPG樹脂(21.4mg;23.4μmol/g、0.5μmol)を、3%DCA/DCM(3×1mL)で処理し、次いで、DCM(3×1mL)および乾燥MeCN(3×1mL)で洗浄した。樹脂を低圧下で乾燥した(>5分間)後、プレ活性化モノマー溶液(250μL、25μmol;8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−O−メチルウリジン−3’−イルホスホネート(H−ホスホネートモノエステルについて25μmol)、MeCN−ピリジン(溶媒について9:1、v/v)、PhCl(縮合試薬について62.5μmol)、およびL−2(アミノアルコールについて30μmolからなる)を添加した。5分間、撹拌し、反応溶液を除去し、そして樹脂を、MeCN(3×1mL)で洗浄し、低圧下で乾燥した(>5分間)。得られる中間体を、0.3MのDTD/MeCN(500μL、150μmol)で5分間の処理により硫化し、次いで、MeCN(3×1mL)およびDCM(3×1mL)で洗浄した。5’−O−DMTr基を、3%DCA/DCM(3×1mL)での処理によって除去し、そしてDCM(3×1mL)で洗浄した。次いで、樹脂上のホスホロチオエートダイマーを、25%NH(1mL)で、12時間、55℃で処理して、キラル補助基および核酸塩基の保護基を除去し、そしてまた、樹脂からダイマーを遊離させる。樹脂を、濾過によって除去し、そしてHOで洗浄した。濾過物を濃縮して、乾燥させた。残渣を、HO(2mL)に溶解し、EtO(3×2mL)で洗浄し、そして合わせた洗浄物を、HO(2mL)で逆抽出した。合わせた水層を濃縮して、乾燥させた。得られる粗生成物を、逆相UPLC(登録商標)により、0.1Mアンモニウムアセテート緩衝液(pH7.0)中0〜20%MeOHの直線勾配で、15分間、55℃で、0.4ml/分の速度で、分析した。(S)−9uuの収率は95%(R:S=2:98)であった。保持時間:10.2分、((R)−9uu:9.3分);MS(MALDI TOF−MS)m/z C192413PS[M−H]の理論値579.08、実測値578.92。UPLCプロファイルを図33に示す。
実施例107:経路Aを介するRNAホスホロチオエートテトラマー、(R)−アンモニウム2’−O−メチルウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−9uu]の固相合成
この化合物は、実施例106に類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30μmol)」を使用することによって、得た。(R)−9uuの収率は94%(R:S=95:5)であった。保持時間:9.3分((S)−9uu:10.3分);MS(MALDI TOF−MS)m/z C192413PS[M−H]の理論値579.08、実測値578.97。UPLCプロファイルを図34に示す。
実施例108:経路Aを介するRNAホスホロチオエートテトラマー、(S)−アンモニウム2’−デオキシ−2’−フルオロウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−10uu]の固相合成
Figure 0006038860
この化合物は、実施例106に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−O−メチルウリジン−3’−イルホスホネート(25μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−2’−デオキシ−2’−フルオロウリジン−3’−イルホスホレート(25μmol)」を使用して得た。(S)−10uuの収率は93%(R:S=1:99)であった。保持時間:10.6分((R)−10uu:8.5分);MS(MALDI TOF−MS)m/z C1821FN12PS [M−H]の理論値 567.06、実測値566.96。UPLCプロファイルを図35に示す。
実施例109:経路Aを介するRNAホスホロチオエートテトラマー、(R)−アンモニウム2’−デオキシ−2’−フルオロウリジン−3’−イルウリジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−10uu]の固相合成
この化合物は、実施例108に類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30μmol)」を使用することによって得た。(R)−10uuの収率は92%収率(R:S=96:4)であった。保持時間:8.4分((S)−10uu:10.7分);MS(MALDI TOF−MS)m/z C1821FN12PS [M−H]の理論値567.06、実測値566.97。UPLCプロファイルを図36に示す。
実施例110:経路Aを介する非天然の核酸塩基(S)−アンモニウム1−(3−ニトロピロール−イル)−2−デオキシリボフラノース−3−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(S)−11nt]の液相合成
Figure 0006038860
この化合物は、実施例78に類似の様式で、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウムN−ベンゾイル−5’−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)チミジン−3’−イルホスホネート(25μmol)」の代わりに、「8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エニウム5−O−(4,4’−ジメトキシトリチル)−1−(3−ニトロピロール−1−イル)−2−デオキシリボフラノース−3−イルホスホネート(25μmol)」を使用して得た。生成物の収率を、天然のCTダイマーの近値のモル吸光係数(15200)を用いた260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。(S)−11ntの収率は、98%収率であった。保持時間:16.3分。(R)−11ntは、解像することできなかった;MS(MALDI TOF−MS)m/z C192411PS [M−H]の理論値547.09、実測値547.02。UPLCプロファイルを図37に示す。
実施例111:経路Aを介する非天然の核酸塩基(R)−アンモニウム1−(3−ニトロピロール−イル)−2−デオキシリボフラノース−3−イルチミジン−5’−イルホスホロチオエート[(R)−11nt]の液相合成
この化合物は、実施例110に類似の様式で、「L−2(30μmol)」の代わりに「D−2(30μmol)」を使用することによって得た。生成物の収率を、天然のCTダイマーの近値のモル吸光係数(15200)を用いた260nmにおけるUV吸収測定によって決定した。(R)−11ntの収率は、97%収率であった。保持時間:16.1分。(S)−11ntは、解像することできなかった;MS(MALDI TOF−MS)m/z C192411PS [M−H]の理論値547.09、実測値547.01。UPLCプロファイルを図38に示す。
本発明の好適な実施形態を本明細書において示し、そして説明してきたが、そのような実施形態は、単に例示として提供されることが、当業者には明らかであろう。当業者であれば、本発明から逸脱することなく、今後、多くのバリエーション、変更、および置換に思い至るであろう。本発明の実践において、本明細書に記載の本発明の実施形態に対する様々な代替物を用い得ることが理解されるべきである。以下の特許請求の範囲は、本発明の範囲を規定すること、ならびにこれらの特許請求の範囲内の方法および構造およびそれらの等価物もそれらによって含まれることが意図される。

Claims (46)

  1. アキラルH−ホスホネート部分を含む分子と、キラル試薬と、5’−OH部分を含むヌクレオシドとを反応させて、縮合中間体を形成する工程;および前記縮合中間体をキラルX−ホスホネート部分を含む核酸に変換する工程を含み、
    前記キラル試薬が、式3:
    Figure 0006038860

    (式中、WおよびWは、独立して、−NG−、−O−、または−S−であり;
    、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘタリール、もしくはアリールであるか、またはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである)
    の化合物であり、
    前記縮合中間体が以下の構造:
    Figure 0006038860

    (式中、
    Figure 0006038860

    は−C−C−であり;;
    は、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRcであり;
    は、O、NR、S、またはSeであり;
    は、ブロッキング部分であり;
    は、ブロッキング基であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり;
    は、O、NR(Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、またはカルバメートである)、またはSであり;
    の各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分であり;
    Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基であり;
    は、独立して、水素、ブロッキング基、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分である)
    を有する、キラルX−ホスホネート部分を含む核酸の合成方法。
  2. 前記アキラルH−ホスホネート部分を含む分子と、キラル試薬と、5’−OH部分を含むヌクレオシドとを反応させて、縮合中間体を形成する工程が、ワンポット反応である、請求項1に記載の方法。
  3. 前記キラルX−ホスホネート部分を含む核酸が、式1:
    Figure 0006038860

    (式中、Rは、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−ORまたは−SRであり;
    は、O、NR、S、またはSeであり;
    は、ブロッキング部分であり;
    は、ブロッキング基であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンであり;
    は、O、NR(Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、またはカルバメートである)、またはSであり;
    の各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分であり;
    Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基であり;
    Xの各例は、独立して、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールであり;
    は、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは一価の金属イオンであり;
    は、水素、ブロッキング基、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分であり;およびnは、1〜200の整数である)
    の化合物である、請求項1に記載の方法。
  4. 式1の前記化合物の各X−ホスホネート部分が、31P NMR分光法または逆相HPLCによって測定されるとき、ジアステレオマー的に98%を超えて純粋である、請求項3に記載の方法。
  5. 各X−ホスホネートが、独立して、R配置またはS配置を有する、請求項3に記載の方法。
  6. 前記アキラルH−ホスホネート部分を含む分子が、式2:
    Figure 0006038860

    (式中、Rは、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRであり;
    は、O、NR、S、またはSeであり;
    は、ブロッキング部分であり;
    は、ブロッキング基であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり;
    の各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり;
    は、O、NR(Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、またはカルバメートである)、またはSであり;
    は、水素、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分であり;および
    Baは、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基であり;および
    は、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいは一価の金属イオンである)
    の化合物である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 前記5’−OH部分を含むヌクレオシドが、式4:
    Figure 0006038860

    (式中、Rの各例は、独立して、水素、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRでり、ここで、Rは、ブロッキング部分であり;
    は、O、NR、S、またはSeであり;
    は、ブロッキング基であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり;
    の各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり;
    は、O、NR(Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、またはカルバメートである)、またはSであり;
    Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基であり;
    mは、0〜n−1の整数であり;
    nは、1〜200の整数であり;
    は、トリチル部分、シリル部分、アセチル部分、アシル部分、アリールアシル部分、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分に接続されており;
    JはOであり、そしてDはHであり、あるいはJはS、Se、もしくはBHであり、そしてDは式A:
    Figure 0006038860

    (式中、WおよびWは、独立して、NHG、OH、またはSHであり;
    Aは、水素、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分であり;ならびに
    式中、G、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであるか、またはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである)
    の部分である)
    の化合物である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
  8. 縮合試薬Cを提供する工程であって、それによって、前記アキラルH−ホスホネート部分を含む分子が活性化され、前記キラル試薬と反応して、キラル中間体を形成する工程をさらに含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
  9. 前記縮合試薬Cが、ArPL、(ArO)PL
    Figure 0006038860

    であり、式中、
    、Z、Z、Z、Z、Z、Z、Z、ZおよびZ10は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであるか、あるいは式中、ZとZ、ZとZ、ZとZ、ZとZ、ZとZ、もしくはZとZとZのうちのいずれかは、一緒になって、3〜20員環の脂環またはヘテロ環を形成し;
    は、対アニオンであり;
    Lは、脱離基であり;
    wは、0〜3の整数であり;ならびに
    Arは、アリール、ヘテロアリールであり、および/またはAr基のうちの1つは、前記高分子支持体に付着している、
    請求項8に記載の方法。
  10. 前記縮合試薬が、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、(PhO)PCl、PhPCl、N,N’−ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸クロリド(BopCl)、1,3−ジメチル−2−(3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−yl)−2−ピロリジン−1−イル−1,3,2−ジアザホスホリジニウムヘキサフルオロホスフェート(MNTP)、または3−ニトロ−1,2,4−トリアゾール−1−イル−トリス(ピロリジン−1−イル)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(PyNTP)
    Figure 0006038860

    である、請求項9に記載の方法。
  11. 活性化試薬Aを提供する工程をさらに含む、請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
  12. 前記活性化試薬Aが、
    Figure 0006038860

    であり、式中、Z11、Z12、Z13、Z14、Z15、Z16、Z17、Z18、Z19、Z20、およびZ21は、独立して、水素、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであるか、あるいは式中、Z11とZ12、Z11とZ13、Z11とZ14、Z12とZ13、Z12とZ14、Z13とZ14、Z15とZ16、Z15とZ17、Z16とZ17、Z18とZ19、もしくはZ20とZ21のうちいずれかは、一緒になって、3〜20員環の脂環もしくはヘテロ環を形成するか、または5もしくは20員環の芳香環を形成し;
    ならびにQは対イオンである、
    請求項11に記載の方法。
  13. 前記活性化試薬Aが、N−シアノメチルピロリジニウムトリフレート(CMPT)である、請求項12に記載の方法。
  14. 前記反応させる工程が、非プロトン性有機溶媒中で実施される、請求項1に記載の方法。
  15. 前記非プロトン性有機溶媒が塩基性ではない場合、塩基が前記反応させる工程中に存在する、請求項14に記載の方法。
  16. 前記塩基が
    Figure 0006038860

    (式中、Z22およびZ23は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、もしくはヘテロアリールオキシであり、あるいは式中、Z22およびZ23のいずれかは、一緒になって、3〜10員環の脂環もしくはヘテロ環を形成する)
    である、請求項15に記載の方法。
  17. 前記塩基が、N−シアノメチルピロリジンである、請求項16に記載の方法。
  18. 前記縮合中間体を式1の化合物に変換する工程が、前記縮合中間体をキャッピングする工程、および前記キャッピングされた縮合中間体を修飾して、式5:
    Figure 0006038860

    (式中、Rは、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(Re)2、−HP(O)(Re)、−ORa、または−SRcであり;
    は、O、NRd、S、またはSeであり;
    は、ブロッキング部分であり;
    は、ブロッキング基であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり;
    の各例は、独立して、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり;
    は、O、NR(Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、またはカルバメートである)、またはSであり;
    の各例は、独立して、水素、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分であり;
    Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基であり;
    Jの各例は、S、Se、またはBHであり;
    vは、2〜n−1の整数であり;
    は、固相支持体に接続された連結部分または核酸に接続された連結部分に接続されており;
    Aは、アシル、アリール、アルキル、アラルキル、またはシリル部分であり;ならびに
    、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである)
    の化合物を生成する工程を含む、請求項1〜17のいずれか1項に記載の方法。
  19. 以下の工程:(a)前記式5の化合物のRを脱ブロックして、式4の化合物(式中、mは、少なくとも1であり、JはS、Se、またはBH3であり、そしてDは、式Aの部分である)を生成する工程;(b)請求項1に記載の方法を使用して、式4の前記化合物を反応させる工程であって、ここで、前記縮合中間体を変換する工程は、前記縮合中間体をキャッピングする工程、および前記キャッピングされた縮合中間体を修飾して、式5の化合物(式中、vは、2より大きく、かつ200未満である)を生成する工程を含む工程;ならびに(c)場合により、工程(a)および(b)を反復して、式5の化合物(式中、vは、3より大きく、かつ200未満である)を形成する工程、
    をさらに含む、請求項18に記載の方法。
  20. 前記式5の化合物を前記式1の化合物(式中、各Ba部分は、ブロックされていない)
    に変換する工程をさらに含む、請求項19に記載の方法。
  21. 前記縮合中間体を式1の化合物に変換する工程が、前記縮合中間体を酸性化して、式4の化合物(式中、mは少なくとも1であり、JはOであり、そしてDはHである)を生成する工程を含む、請求項1に記載の方法。
  22. 前記縮合中間体が、式A’:
    Figure 0006038860

    (式中、Aは水素であり;ならびに
    式中、GおよびGは、独立して、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、そしてG、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである)
    の部分を含む、請求項21に記載の方法。
  23. (a)請求項9に記載の方法を使用して、式4の前記化合物(式中、mは少なくとも1であり、JはOであり、そしてDはHである)を反応させる工程であって、ここで、前記縮合中間体を式1の化合物に変換する工程が、前記縮合中間体を酸性化して、式4の化合物(式中、mは少なくとも2であり、かつ200未満であり;JはOであり、そしてDはHである)を生成する工程を含む工程、ならびに(b)場合により、工程(a)を反復して、式4の化合物(式中、mは2より大きく、かつ200未満である)を生成する工程、をさらに含む、請求項21に記載の方法。
  24. 前記酸性化する工程が、前記縮合中間体からプリンもしくはピリミジン部分を除去せずに、前記縮合中間体を式4の前記化合物に変換するのに有効な量のブレンステッドまたはルイス酸を添加する工程を含む、請求項21に記載の方法。
  25. 前記酸性化する工程が、有機溶媒中1%トリフルオロ酢酸、有機溶媒中3%ジクロロ酢酸、または有機溶媒中3%トリクロロ酢酸を、添加する工程を含む、請求項24に記載の方法。
  26. 前記酸性化する工程が、カチオンスカベンジャーを添加する工程をさらに含む、請求項21〜25のいずれか1項に記載の方法。
  27. 前記カチオンスカベンジャーが、トリエチルシランまたはトリイソプロピルシランである、請求項26に記載の方法。
  28. 前記縮合中間体を式1の化合物に変換する工程が、前記縮合中間体を酸性化する工程に先立って、Rを脱ブロックする工程をさらに含む、請求項21〜27のいずれか1項に記載の方法。
  29. 前記式4の化合物を修飾して、X部分を導入し、それによって、式1の化合物(式中、Rは、ブロッキング基または固相支持体に接続された連結部分である)を生成する工程をさらに含む、請求項21〜28のいずれか1項に記載の方法。
  30. 請求項22に記載の生成物を処理して、式1の化合物(式中、Rは、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−ORまたは−SRであり;
    は、O、NR、S、またはSeであり;
    は、ブロッキング部分であり;
    は、ブロッキング基であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり、あるいはNa+1、Li+1、もしくはK+1であるカチオンであり;
    は、O、NR、またはSであり;
    の各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−であり;
    各Ba部分は、ブロックされておらず;
    はHであり;
    Xの各例は、独立して、アルキル、アルコキシ、アリール、アルキルチオ、アシル、−NR、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、−S、−Se、または−BH−Zであり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールであり;
    は、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン、ヘテロ芳香族イミニウムイオン、またはヘテロ環イミニウムイオンであって、それらのうちいずれかは、第一級、第二級、第三級もしくは第四級であり、あるいはZは一価の金属イオンであり;および
    nは、1より大きく、かつ200未満である)
    を生成する工程をさらに含む、請求項21〜29のいずれか1項に記載の方法。
  31. 前記修飾する工程が、ホウ素化剤、硫黄求電子剤、またはセレン求電子剤を使用して、実施される、請求項1〜30のいずれか1項に記載の方法。
  32. 前記修飾する工程が硫黄求電子剤を使用して実施され、
    前記硫黄求電子剤が、以下の式:
    (式B)、Z24−S−S−Z25、またはZ24−S−X−Z25
    (式中、Z24およびZ25は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルでありか、あるいはZ24およびZ25は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;
    Xは、SO、O、またはNRであり;ならびにRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである)
    のうちの1つを有する化合物である、請求項31に記載の方法。
  33. 前記硫黄求電子剤が、式B、C、D、E、またはF:
    Figure 0006038860

    の化合物である、請求項32に記載の方法。
  34. 前記修飾する工程がセレン求電子剤を使用して実施され、
    前記セレン求電子剤が、以下の式:
    Se(式G)、Z26−Se−Se−Z27、またはZ26−Se−X−Z27
    (式中、Z26およびZ27は、独立して、アルキル、アミノアルキル、シクロアルキル、ヘテロ環、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アシル、アミド、イミド、もしくはチオカルボニルであり、あるいはZ26およびZ27は、一緒になって、置換されていても置換されていなくてもよい3〜8員環の脂環またはヘテロ環を形成し;
    Xは、SO、O、SまたはNRであり;およびRは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリールである)
    のうちの1つを有する化合物である、請求項33に記載の方法。
  35. 前記修飾する工程がホウ素化剤を使用して実施され、
    前記ホウ素化剤が、ボラン−N,N−ジイソプロピルエチルアミン(BH3・DIPEA)、ボラン−ピリジン(BH3・Py)、ボラン−2−クロロピリジン(BH3・CPy)、ボラン−アニリン(BH3・An)、ボラン−テトラヒドロフラン(BH3・THF)、またはボラン−ジメチルスルフィド(BH3・Me2S)である、請求項34に記載の方法。
  36. 前記修飾する工程が、シリル化試薬、続いて、硫黄求電子剤、セレン求電子剤、ホウ素化剤、アルキル化剤、アルデヒド、またはアシル化剤を使用して、実施される、請求項1〜30のいずれか1項に記載の方法。
  37. 前記シリル化試薬が、クロロトリメチルシラン(TMS−Cl)、トリイソプロピルシリルクロリド(TIPS−Cl)、t−ブチルジメチルシリルクロリド(TBDMS−Cl)、t−ブチルジフェニルシリルクロリド(TBDPS−Cl)、1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、N−トリメチルシリルジメチルアミン(TMSDMA)、N−トリメチルシリルジエチルアミン(TMSDEA)、N−トリメチルシリルアセトアミド(TMSA)、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA)、またはN,O−ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド(BSTFA)である、請求項31〜36のいずれか1項に記載の方法。
  38. 前記修飾する工程が、ハロゲン化試薬と反応させる工程、続いて、求核剤と反応させる工程によって実施される、請求項1〜30のいずれか1項に記載の方法。
  39. 前記ハロゲン化試薬が、CCl、CBr、Cl、Br、I、塩化スルフリル(SOCl)、ホスゲン、ビス(トリクロロメチル)カルボネート(BTC)、一塩化硫黄、二塩化硫黄、クロラミン、CuCl2、N−クロロスクシンイミド(NCS)、CI、N−ブロモスクシンイミド(NBS)、またはN−ヨードスクシンイミド(NIS)である、請求項38に記載の方法。
  40. 前記キラル試薬が、前記式3の化合物(式中、WはNHGであり、そしてWはOである)である、請求項1〜39のいずれか1項に記載の方法。
  41. 前記キラル試薬が、式O、式P、式Qまたは式R:
    Figure 0006038860

    Figure 0006038860

    である、請求項40に記載の方法。
  42. が−OHである、請求項1〜41のいずれか1項に記載の方法。
  43. が、固相支持体に接続された連結部分である、請求項1〜42のいずれか1項に記載の方法。
  44. が、−OH、−N、水素、ハロゲンまたはアルコキシである、請求項1〜43のいずれか1項に記載の方法。
  45. Xが−Sである、請求項1〜44のいずれか1項に記載の方法。
  46. アキラルH−ホスホネート部分を含む分子とキラル試薬とが反応して以下の構造:
    Figure 0006038860

    (式中、Rは、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−P(O)(R、−HP(O)(R)、−OR、または−SRであり;
    は、O、NR、S、またはSeであり;
    は、ブロッキング部分であり;
    cは、ブロッキング基であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、カルバメート、−P(O)(R、または−HP(O)(R)であり;
    の各例は、独立して、水素、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、またはヘテロアリール−Y−であり;
    は、O、NR(Rは水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アシル、置換シリル、またはカルバメートである)、またはSであり;
    の各例は、独立して、水素、−OH、−SH、−NR、−N、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル−Y−、アルケニル−Y−、アルキニル−Y−、アリール−Y−、ヘテロアリール−Y−、−OR、または−SRであり、ここで、Rは、ブロッキング部分であり;
    Baの各例は、独立して、ブロックされているかまたはブロックされていないアデニン、シトシン、グアニン、チミン、ウラシルもしくは修飾核酸塩基であり;
    Jの各例は、S、Se、またはBHであり;
    およびWは、独立して、−NG−、−O−、または−S−であり;ならびに
    、G、G、G、およびGは、独立して、水素、アルキル、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロアリール、もしくはアリールであり、あるいはG、G、G、G、およびGのうちの2つはGであって、一緒になって、単環式もしくは多環式の、縮合もしくは非縮合の、20個までの環原子の、飽和、部分不飽和もしくは不飽和の、炭素環またはヘテロ原子含有環を形成し、ならびに式中、G、G、G、G、およびGのうち4つ以下がGである)
    を有するキラル中間体を形成する、請求項1〜45のいずれか1項に記載の方法。
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