CN102548769B - 平版印刷版原版 - Google Patents

平版印刷版原版 Download PDF

Info

Publication number
CN102548769B
CN102548769B CN201080042267.7A CN201080042267A CN102548769B CN 102548769 B CN102548769 B CN 102548769B CN 201080042267 A CN201080042267 A CN 201080042267A CN 102548769 B CN102548769 B CN 102548769B
Authority
CN
China
Prior art keywords
aluminium alloy
lithographic printing
printing plate
original edition
alloy plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201080042267.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102548769A (zh
Inventor
松浦睦
泽田宏和
上杉彰男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2009218909A external-priority patent/JP5266175B2/ja
Priority claimed from JP2009220592A external-priority patent/JP5276560B2/ja
Priority claimed from JP2009220443A external-priority patent/JP5266177B2/ja
Priority claimed from JP2009220406A external-priority patent/JP5266176B2/ja
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to CN201510514543.XA priority Critical patent/CN105082725B/zh
Publication of CN102548769A publication Critical patent/CN102548769A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102548769B publication Critical patent/CN102548769B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • B41N1/08Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
    • B41N1/083Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/02Cover layers; Protective layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04Intermediate layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/10Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by inorganic compounds, e.g. pigments
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14Multiple imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

本发明公开一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版可以机上显影,同时具有优异的印刷耐久性、耐污迹性和耐微小腐蚀污垢性。具体地,本发明公开一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版顺次在载体上以下列顺序包括光敏层和保护层,所述光敏层含有(A)增感染料,(B)聚合引发剂,(C)可聚合化合物以及(D)粘合剂聚合物。所述平版印刷版原版的特征在于,所述载体使用铝合金板形成,其中,在表面中具有不小于0.2μm的等效圆直径的金属间化合物的密度不小于35,000个/mm2,并且具有不小于1μm的最大长度的碳化铝的数量不大于30,000个/g。

Description

平版印刷版原版
技术领域
本发明涉及平版印刷版原版。
背景技术
对铝合金板的表面进行包括表面粗糙化处理和阳极氧化处理的表面处理工艺以获得载体,之后将光敏材料涂布至载体并干燥以获得通常所说的PS版,之后对PS版进行包括图像曝光、显影和涂胶的制版工艺,并且通常将所得到的版用作胶版印刷版或平版印刷版。在这种制版工艺中,显影以后保持未溶解的光敏层的部分形成图像区,而被移除以暴露光敏层之下的铝表面的光敏层的其他部分因为其亲水性而充当水受容部分,从而形成非图像区。
使用具有的优异的表面处理性、可加工性和耐腐蚀性的轻质轧制铝合金板作为用于胶版印刷或平版印刷的载体。为此目的,传统上使用厚度为约0.1mm至约0.5mm、由材料如JIS1050、JIS1100和JIS3003材料制成的轧制铝合金板,并且在对这种轧制铝板进行表面粗糙化处理和其后的阳极氧化处理之后,将其用作印刷版。
具体地,已知的是:如专利文献1中描述的通过按下列顺序进行机械砂目化处理、化学蚀刻处理和阳极氧化处理而获得的铝平版印刷版;如专利文献2中描述的通过按下列顺序进行电化学处理、后处理和阳极氧化处理而获得的铝平版印刷版;以及专利文献3中描述的通过按下列顺序进行化学蚀刻处理和阳极氧化处理而获得的铝平版印刷版。
专利文献4描述了通过使用其中将由纯铝合金制成的轧制板中最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目调节至30,000pcs/g以下的用于平版印刷版的铝合金载体,可以抑制储存过程中光敏层的缺陷。
专利文献5描述了通过使用以5,000至35,000pcs/mm2的量含有直径为0.1μm以上的金属间化合物粒子的载体,可以获得对光敏层具有高附着性和长印刷寿命的平版印刷版原版。
专利文献6描述了一种在激光曝光适用性和印刷性能方面优异的平版印刷版原版,所述平版印刷版原版使用通过将铝板表面粗糙化而获得的载体,所述铝板在从表面2μm的深度内以500至35,000pcs/mm2的密度含有金属间化合物粒子。
专利文献7描述了使用具有均匀地粗糙化的表面并得自铝合金的载体获得平版印刷版原版,所述铝合金包含以3,000至30,000pcs/mm2的密度在平面方向上分布的金属间化合物粒子。
然而,这些载体的使用不足以防止光敏层在所得到的平版印刷版原版的储存过程中产生缺陷。
传统的PS版中的制版步骤包括在曝光之后通过在强碱性显影液中溶解以便移除非图像区的操作,并且简化或消除该附加湿式处理是所希望解决的问题,以用于在现有技术之上改进。尤其是近年来,考虑到全球环境,湿式处理过程中废水排放的处理在整个工业界受到极大关注,并且因此更加强烈地需要在该方面的改善。
另一方面,作为该领域中最近的另一个趋势,包括使用计算机对图像信息进行电子处理、储存和输出的数字化技术广泛普及,并且与数字化技术相适合的多种新图像输出系统已经被推向实际使用。该情形引起了对于计算机直接制版(CTP)技术的关注,其中使高度会聚的辐射如激光束携带数字化图像信息并用该光束对平版印刷版原版进行扫描和曝光,以直接制备印刷版而不使用制版胶片。
其中,为了解决废水处理问题同时获得进一步的步骤合理化,已经对于可以在曝光之后不经过任何显影工艺而直接安装在印刷机上并用于印刷的平版印刷版原版进行了研究,并且已经为此提出了多种方法。
用于消除处理步骤的方法之一是称为“机上显影”的方法,其中将已曝光的平版印刷版原版安装在印刷机的印版滚筒上,并在印版滚筒旋转时提供润版液和墨,从而移除平版印刷版原版的非图像区。换言之,这是一种这样的系统,其中将已曝光的平版印刷版原版安装在印刷机上而不进行任何进一步的处理,以使得显影在通常的印刷工艺中完成。适合用于在这种机上显影中使用的平版印刷版原版需要具有可溶于润版液或墨溶剂中的图像记录层,并且具有能够在放置在亮室中的印刷机上显影的亮室可操作性。
例如,专利文献8描述了这样的平版印刷版原版:其中将含有分散在亲水粘合剂聚合物中的热塑性疏水聚合物的细粒的图像记录层设置在亲水载体上。专利文献8描述了在通过将平版印刷版原版用激光束曝光以通过热使图像记录层中的热塑性疏水聚合物粒子聚结在一起而形成图像之后,可以将版安装在印刷机的印版滚筒上以使用润版液和/或墨移除未曝光区(可以进行机上显影)。平版印刷版原版对红外区域光敏感,并且因此也具有亮室可操作性。
专利文献9描述了具有以下图像记录层的平版印刷版原版具有良好的机上可显影性、高灵敏度和长印刷寿命:所述图像记录层含有热塑性颗粒聚合物和具有热反应性基团的颗粒聚合物和含具有热反应性基团的化合物的微胶囊中的至少一种。
然而,在将专利文献8和9中描述的平版印刷版原版长期存储的情况下,墨倾向于附着至非图像区表面部分,在印刷纸上带来点状或环状污点。该缺陷在下文中也称为“微小腐蚀污点”。
对于CTP技术,最近以低成本可获得大功率激光,包括半导体激光和固态激光如YAG激光,并且因此使用以大功率激光进行大功率密度曝光的制版方法极有前途。
在那些平版印刷版原版中,适合于简单显影工艺的有希望的方式之一是具有作为通过将疏水热塑性聚合物粒子分散在亲水粘合剂聚合物中而获得的亲水层的图像记录层的平版印刷版原版。这是一种利用了亲水层的表面转化为亲油图像区的方式,所述转化归因于当图像记录层曝光时疏水热塑性聚合物粒子的熔合。
专利文献10和11的每一个描述了制备平版印刷版的方法,所述方法包括通过简单的显影工艺将具有疏水热塑性聚合物粒子的图像记录层显影。
然而,难以通过简单显影方式充分移除含有疏水热塑性聚合物粒子的非图像区中的图像记录层,并且图像记录层的成分留在非图像区中,从而导致印刷中的污点。在将该版储存较长的期间的情况下,墨倾向于附着至非图像区表面的部分,在印刷纸上带来点状或环状污点(在下文中也称为“微小腐蚀污点”)。
已知各自含有可溶于碱水溶液中的粘合剂树脂和通过吸收光产生热的红外吸收染料作为主要成分的平版印刷版材料是适合于具有760nm以上的光敏波长的红外激光的阳图型记录材料(参见,例如,专利文献12至15)。
当将这种适合于红外激光的阳图型记录材料用红外激光辐射曝光时,在未曝光区(图像区)中,粘合剂树脂的溶解性被红外吸收染料等与粘合剂树脂之间的相互作用充分降低,而在曝光区(非图像区)中,红外吸收染料等吸收光以产生热,从而减少红外吸收染料等与粘合剂树脂之间的相互作用。作为结果,仅有曝光区可溶于碱显影液中并在显影过程中被移除,从而形成平版印刷版。
然而,在这种适合于红外激光的阳图型记录材料中,曝光区(非图像区)不溶于碱显影液中,并且膜的一部分以点状残留(该缺陷在下文中称为“残留膜污点”),这会导致印刷污点。
在使用自动显影机的显影中,将已曝光的平版印刷版原版重复地浸渍在含有碱显影液的显影浴中,但是在许多平版印刷版原版通过自动显影机的过程中在显影浴中形成的铝浮渣(在下文中称为“显影浮渣”)可能附着至平版印刷版的非图像区,从而导致污点。
引用列表
专利文献
专利文献1:JP 48-49501A;
专利文献2:JP 51-146234A;
专利文献3:JP 48-28123B;
专利文献4:JP 2004-292862A;
专利文献5:JP 2002-160466A;
专利文献6:JP 3788943B;
专利文献7:JP 2002-88434A;
专利文献8:JP 2938397B;
专利文献9:JP 2001-293971A;
专利文献10:JP 2003-255527A;
专利文献11:JP 2003-316021A;
专利文献12:JP 11-44956A;
专利文献13:JP 2002-55446A;
专利文献14:JP 2002-62660A;
专利文献15:JP 2002-214767A;
发明概述
技术问题
本发明的第一目的是提供一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版具有均匀地粗糙化的载体形状,能够获得具有长印刷寿命和优异的耐浮渣性,并且即使在长期储存之后也不导致光敏层中的缺陷的平版印刷版。
本发明的第二目标是提供一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版具有长印刷寿命和对浮渣和微小腐蚀污点的优异耐受性。
本发明的第三目标提供一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版能够抑制残留膜污点和显影浮渣的出现,并且能够获得具有优异的耐浮渣性的平版印刷版。
解决问题的方案
关于本发明的上述第一目的,在具有含增感染料、聚合引发剂、可聚合化合物和粘合剂聚合物的光敏层以及保护层的阴图型平版印刷版原版中,将曝光区固化以形成墨所附着至的图像区,而将未曝光区显影以形成非图像区。这种平版印刷版原版的长期存储会导致下列问题:曝光以形成图像区的区域以圆形缺失从而转化为非图像区。在本申请中该缺陷也被称为“白点缺陷”。观察到尤其是具有在光敏层上形成的保护层的平版印刷版原版倾向于归因于存储而在光敏层中具有扩大的缺陷。本发明的发明人发现该问题可以通过使用由这样的铝合金板制备的载体而解决:所述铝合金板以预定表面密度以上含有金属间化合物粒子,并且其中在铝块中包含至多预定量的具有预定尺寸以上的碳化铝粒子,并且从而完成了本发明的第一方面。
因此,本发明的第一方面提供以下(1)至(7)。
(1)一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包含:光敏层,所述光敏层含有(A)增感染料,(B)聚合引发剂,(C)可聚合化合物,以及(D)粘合剂聚合物;和保护层,所述光敏层和保护层按照上述顺序形成在载体上,
其中所述载体由铝合金板制备,所述铝合金板含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的等效圆直径(circle equivalent diameter)为0.2μm以上的金属间化合物粒子,以及至多30,000pcs/g的量的最大长度为1μm以上的碳化铝粒子。
(2)根据(1)所述的平版印刷版原版,其中所述载体是通过对铝合金板的表面进行包括电化学砂目化处理的表面粗糙化处理而获得的载体。
(3)根据(1)或(2)所述的平版印刷版原版,其中对经过表面粗糙化处理的所述载体进一步进行阳极氧化,以具有平均厚度为1.0μm以上的阳极氧化膜。
(4)根据(1)至(3)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板是通过连续铸造法制造的铝合金板。
(5)根据(1)至(4)中的任一项所述的平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括具有2至4的所述可聚合化合物与所述粘合剂聚合物的重量比(可聚合化合物重量/粘合剂聚合物重量)的所述光敏层。
(6)根据(1)至(5)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述增感染料在350至450nm具有吸收最大值的增感染料。
(7)根据(1)至(6)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述保护层包含含有聚乙烯醇的组合物。
关于本发明的第二目的,本发明的发明人研究了这种微小腐蚀污点为什么会出现,并且将注意力集中在以下事实:专利文献8和9中所描述的设置在所谓机上显影型平版印刷版原版中的图像记录层可以通过印刷墨和/或润版液移除,并且因此含有大量的亲水组分,作为其结果图像记录层可能在环境空气的影响下接受水分。清楚的是在专利文献8和9中所描述的所谓机上显影型平版印刷版原版中,铝合金板由于图像记录层中归因于环境空气等包含的水分和由水分阴离子化的亲水成分(在下文中简称为“阴离子”)的存在而被腐蚀,从而导致微小腐蚀污点。
关注集中在以下事实:同样在专利文献10和12中描述的制备平版印刷版的方法中,具有疏水热塑性聚合物粒子的图像记录层是包含疏水热塑性聚合物粒子阵列的图像记录层,并且因此由于环境空气或其他因素图像记录层中容易包含水分。清楚的是铝合金板由于图像记录层中归因于环境空气等包含的水分和由水分阴离子化的亲水成分(在下文中简称为“阴离子”)的存在而被腐蚀,从而导致微小腐蚀污点。
另一方面,关于铝合金板中的金属间化合物,例如,JP 2005-330588A、JP 2005-232596A和JP 11-151870A各自描述了用于平版印刷版的铝合金板中含有的金属间化合物。
更具体地,据描述Al-Fe金属间化合物比Al-Fe-Si金属间化合物更易于充当用于在电解砂目化过程中凹坑形成的起始点,并且在那些Al-Fe金属间化合物中,亚稳态Al-Fe金属间化合物更容易充当用于凹坑形成的起始点。JP 2005-330588A描述了在至少0.35的具有0.6以下的铁与铝的含量比的亚稳相粒子的数目与总金属间化合物粒子的数目之间的比例下获得均匀的砂目化。此外,JP 2005-232596A描述了平均含有0.5至2.0%的Al-Fe晶体的铝合金板。JP 11-151870A描述了Al-Fe金属间化合物粒子的数目与Al-Fe-Si金属间化合物粒子的数目之比为0.7以上。
然而,这些专利文献未提到用于抑制铝基板归因于图像记录层的腐蚀的任何金属间化合物。
本发明的发明人发现,具有长印刷寿命和优异的对浮渣和微小腐蚀污点的耐受性的平版印刷版原版可以使用由含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的金属间化合物粒子的铝合金板制备的载体获得,并且从而完成了本发明的第二和第三方面。
因此,本发明的第二方面提供以下(8)至(15)。
(8)一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括图像记录层,所述图像记录层含有(E)红外吸收染料和(F)疏水热塑性粒子,并且形成在载体上,
其中所述载体由铝合金板制备,所述铝合金板含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子。
(9)根据(8)所述的平版印刷版原版,其中所述疏水热塑性粒子是苯乙烯-丙烯腈粒子。
(10)根据(8)或(9)所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板含有处于至多2,500pcs/mm2的表面密度的等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子。
(11)根据(8)至(10)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中铝合金板的Al-Fe金属间化合物具有至多400cps的用X射线衍射仪(XRD)测量的峰计数值,并且铝合金板的AlFeSi金属间化合物具有至多30cps的峰计数值。
(12)根据(8)至(11)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中在所述载体的要形成所述图像记录层的表面侧上形成有带微孔的阳极氧化膜,所述阳极氧化膜的表面层中的平均孔径为10至75nm,并且孔内最大直径的平均值与平均孔径之比为1.1至3.0。
(13)根据(8)至(12)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述阳极氧化膜通过使用含有硫酸或磷酸的电解液的阳极氧化处理形成。
(14)根据(8)至(13)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板是通过连续铸造法制造的铝合金板。
(15)一种制造平版印刷版的方法,所述方法包括:在根据(8)至(14)中的任一项所述的平版印刷版原版上进行图像记录;和在配备有摩擦部件的自动处理机中,在处理液的存在下,用所述摩擦部件摩擦版表面,以移除所述图像记录层的非图像区。
因此,本发明的第三方面提供以下(16)至(26)。
(16)一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包含图像记录层,所述图像记录层含有(G)增感染料,(H)聚合引发剂,(I)可聚合化合物以及(J)聚合物,并且形成在载体上,所述图像记录层的未曝光部分被印刷墨和/或润版液移除,
其中所述载体由铝合金板制备,所述铝合金板含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子。
(17)根据(16)所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板含有处于至多2,500pcs/mm2的表面密度的等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子。
(18)根据(16)或(17)所述的平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括在所述图像记录层上的阻氧层。
(19)根据(16)或(17)所述的平版印刷版原版,所述平版印刷版原版不包括在所述图像记录层上的阻氧层。
(20)根据(16)至(19)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物(J)具有环氧烷链。
(21)根据(16)至(20)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物(J)是颗粒状的。
(22)根据(16)至(21)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板的Al-Fe金属间化合物具有至多400cps的用X射线衍射仪(XRD)测量的峰计数值。
(23)根据(16)至(22)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板的AlFeSi金属间化合物具有至多30cps的用X射线衍射仪(XRD)测量的峰计数值。
(24)根据(16)至(23)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中在所述载体的要形成所述图像记录层的表面侧上形成有带微孔的阳极氧化膜,所述阳极氧化膜的表面层中的平均孔径为10至75nm,并且孔内最大直径的平均值与所述平均孔径之比为1.1至3.0。
(25)根据(16)至(24)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述阳极氧化膜通过使用含有硫酸或磷酸的电解液的阳极氧化处理形成。
(26)根据(16)至(25)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板是通过连续铸造法制造的铝合金板。
本发明的发明人对本发明的以上第三目的进行了深入研究,并且作为结果发现,通过使用用含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板形成的载体,可以抑制残留膜污点和显影浮渣的出现,以获得具有优异的耐浮渣性的平版印刷版,并且从而完成了本发明的第四方面。
本发明的第四方面提供以下(27)至(36)。
(27)一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括图像记录层,所述图像记录层含有(K)红外吸收剂和(L)碱溶性树脂,并且形成在载体上,在用红外辐射曝光之后所述图像记录层的曝光部分具有增加的碱溶性,
其中所述载体由铝合金板形成,所述铝合金板含有处于大于35,000pcs/mm2的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子。
(28)根据(27)所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板含有处于至多2,500pcs/mm2的密度的等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子。
(29)根据(27)或(28)所述的平版印刷版原版,其中所述碱溶性树脂(L)是酚醛树脂。
(30)根据(29)所述的平版印刷版原版,其中所述酚醛树脂是酚醛清漆树脂。
(31)根据(27)至(30)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板通过连续铸造法制造。
(32)根据(31)所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板通过连续铸造法获得,所述连续铸造法包括将铝合金熔体通过熔体进料嘴进料在一对冷却辊之间,并且在用所述一对冷却辊进行固化的同时轧制所述铝合金熔体。
(33)根据(27)至(32)中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述载体是通过对所述铝合金板的表面进行包括电化学砂目化处理的表面粗糙化处理而获得的载体。
(34)根据(33)所述的平版印刷版原版,其中所述表面粗糙化处理是包括在所述电化学砂目化处理之后的阳极氧化处理的表面粗糙化处理。
(35)根据(34)所述的平版印刷版原版,其中所述阳极氧化处理是使用含有硫酸或磷酸的电解液的阳极氧化处理。
(36)一种制造平版印刷版的方法,所述方法包括以下步骤:
图像记录步骤,所述图像记录步骤用于通过图像式曝光在根据(27)至(35)中的任一项所述的平版印刷版原版上记录图像;和
显影步骤,所述显影步骤用于用pH为9以上的显影液将具有记录在其上的所述图像的所述平版印刷版原版显影,以获得所述平版印刷版。
本发明的有益效果
根据本发明的第一方面,可以获得即使在长期储存之后也不导致光敏层中的缺陷的平版印刷版原版。根据本发明的第一方面的平版印刷版原版具有长印刷寿命和优异的耐浮渣性。
根据本发明的第二和第三方面,可以获得对浮渣和微小腐蚀污点具有长印刷寿命和优异的耐受性的平版印刷版原版。
根据本发明的第四方面,可以提供能够抑制残留膜污点和显影浮渣的出现的平版印刷版原版,并获得具有优异的耐浮渣性的平版印刷版。
尚不清楚为什么可以抑制残留膜污点的出现,但本发明的发明人推测如下:即,残留膜污点出现的原因在于,图像记录层进入到铝合金板的表面上的表面粗糙化处理过程中可能形成的相对大的凹陷部中,并且在显影过程中保持不溶解。本发明的发明人揭示的是:当铝合金板的表面处存在等效圆直径为例如1.0μm以上的相对大的金属间化合物粒子时,当表面粗糙化处理(尤其是碱蚀处理)时,可能由金属间化合物粒子形成相对大的凹陷部。因此,据认为使用含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板减少相对大的金属间化合物粒子的量,并且作为结果无法通过表面粗糙化处理形成大的凹陷部,从而抑制了残留膜污点的出现。
本发明的发明人还对于显影浮渣的出现揭示了,当相对大的金属间化合物粒子存在于平版印刷版原版中的非图像区的表面处,即,存在于铝合金板(载体)的表面处时,它们可能充当用于浮渣在显影浴中形成的核(起始点)。因此,据认为使用含有表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板减少相对大的金属间化合物粒子的量,并且作为结果抑制了显影浴中用于浮渣的核的出现。
附图简述
图1是显示了可以在电化学砂目化处理中使用的交流电波形的实例的图。
图2是在用交流电的电化学砂目化处理中可以使用的径向电解槽的侧视图。
图3是可以用于进行阳极氧化处理的阳极氧化装置的示意图。
图4是可以用于进行电化学砂目化处理的正弦波形的实例的图。
图5是描述了在机械砂目化处理中可以使用的刷砂目化步骤的概念的侧视图。
图6是可以用于进行阳极氧化处理的阳极氧化装置的示意图。
图7是描述了适合于在制备本发明的平版印刷版的方法中的显影工艺的自动处理机的构造的配置图。
实施方案详述
下面详细描述本发明。
首先,描述本发明的第一方面。
本发明的第一方面中的平版印刷版原版包括:光敏层,所述光敏层含有(A)增感染料,(B)聚合引发剂,(C)可聚合化合物,以及(D)粘合剂聚合物;以及保护层,所述光敏层和所述保护层以上述顺序形成在载体上,并且其特征在于:
所述载体由铝合金板制备,其中等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的表面密度为35,000pcs/mm2以上,并且最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目至多30,000pcs/g。
如上所述,具有含有增感染料、聚合引发剂、可聚合化合物和粘合剂聚合物的光敏层以及保护层的阴图型平版印刷版原版的长期存储可能导致曝光以形成图像区的部分圆形缺失从而转化为非图像区的问题(通常所说的“白点缺陷”)。虽然原因的细节不清楚,但是推测的是在长期存储过程中载体的表面处的碳化铝和/或金属间化合物可能与空气中的水分反应以产生气泡并抬起光敏层和保护层,从其导致白点缺陷。换言之,虽然通过仅调整碳化铝的量获得的效果有限,但是据认为通过使用含有在量上调整过的碳化铝和比预定值更大表面密度的金属间化合物粒子,单个金属间化合物粒子的尺寸减少,从而获得抑制了白点缺陷的具有长印刷寿命和优异的耐浮渣性的平版印刷版原版。
等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物的表面密度优选大于30,000pcs/mm2,并且更优选为35,000pcs/mm2以上。在铝合金板具有上述范围内的金属间化合物粒子的表面密度的情况下,铝合金板的表面处存在的单个金属间化合物粒子在尺寸上减小,并且在表面粗糙化处理之后获得的表面被均匀地砂目化并且因而使用该铝载体获得的平版印刷版具有长印刷寿命和优异的耐浮渣性,并且通过调节铝合金中碳化铝的量降低了白点缺陷出现的风险。
最近还发现铝合金板的表面处存在的金属间化合物粒子充当用于当铝合金板的电化学砂目化处理时的反应的有效的起始点,并且电解砂目化表面的均匀性通过使用含有表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板而提高。
此外,铝合金板的表面上存在的等效圆直径大于1μm的金属间化合物粒子的数目优选较小。更具体地,铝合金板的表面上等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子的数目优选为至多2,500pcs/mm2,并且更优选至多2,000pcs/mm2
铝合金板的表面处的金属间化合物粒子的数目和密度可以通过以下方法测量。
首先,使用其上的表面油被擦去的铝合金板作为测量样品。
之后,使用扫描电子显微镜(PC-SEM7401F,JEOL Ltd.)以12.0kV的加速电压和2,000X的放大率收集铝合金板的表面的反射电子图像。
将从所得到的反射电子图像任意选择的五个位置处的图像存为JPEG格式,并用MS-Paint(Microsoft Corporation)转化为bmf(位图文件)格式。
将该bmf格式文件读入图像分析软件ImageFactroy Ver.3.2,日语版(Asahi-Hitec.K.K.)以进行图像分析。其后,将图像统计二进制化处理以数出对应于金属间化合物白点的部分。将等效圆直径指定为用于获得粒径分布的特征量。
等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的密度由粒径分布的结果计算。将从五个位置处的分别图像数据(粒径分布)计算的数字平均并且将平均值四舍五入到接近1,000。
在平版印刷版原版的制备之后,铝合金板的表面处的金属间化合物粒子的密度或金属间化合物粒子的数目可以在其上未形成光敏层的铝合金板的背侧上用相同方式测量。
铝合金板中存在的金属间化合物依赖于铝合金板中含有的金属元素。更具体地,在后面要描述的含有Al、Si和Fe作为其主要成分的铝合金板的一个优选的实施方案中,在铝合金板中存在包括Al-Fe金属间化合物如Al3Fe、Al6Fe、AlmFe和AlFeSi金属间化合物如α-AlFeSi和β-AlFeSi的金属间化合物。
可以在本发明的第一方面中使用的铝合金板含有至少99重量%的铝,并且还含有选自由以下各项组成的组的至少一种元素作为痕量元素:Si、Fe、Ni、Mn、Cu、Mg、Cr、Zn、Bi、Ti和V。
在本发明的第一方面中可以使用的铝合金板优选为后面描述的含有Al、Si和Fe作为其主要成分的铝合金板。
本发明的发明人发现:可以通过在铝合金板的制备过程中将热处理温度和时间调整为适当值,从而将铝合金板中金属间化合物粒子的尺寸和数目调整为适当值。
在本发明的第一方面中,优选使用后面描述的连续铸造和轧制工艺将铝合金板中的金属间化合物粒子的尺寸和数目调节至特定值。
在本发明的第一方面中可以使用的铝合金板中,最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目至多30,000pcs/g。
最大长度少于1μm的极细碳化铝粒子通常在表面粗糙化处理的过程中被腐蚀并消失,并且通常在那个部位形成阳极氧化膜。因此这种碳化铝粒子不引起特殊的问题。另一方面,最大长度为1μm以上的碳化铝粒子在表面粗糙化处理之后仍然残留,从而妨碍阳极氧化膜在那个部位的形成,并且当随后与润版液接触时引起碳化铝粒子的腐蚀,并且因此如果具有这种给定尺寸以上的碳化物粒子以相对于每g的铝的预定值以上的密度存在,则碳化物粒子可能充当用于显著地降低墨浮渣耐受性的起始点。反应产物如水合物的形成可能引起光敏层自身和其上形成的保护层中的缺陷。因而,在本发明的第一方面中,通过将轧制板中最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目调节为30,000pcs/g以下并且将等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的表面密度调节为35,000pcs/mm2以上,解决了该问题。更优选将最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目调节为27,000pcs/g以下。最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目再更优选为19,000pcs/g以下并且还再更优选10,000pcs/g以下。
如下测量铝中碳化物粒子的数目。
首先,从轧制板取1g重量的铝样品,并浸渍在100mL的无水甲醇(保证试剂)中。之后,将数滴溴(保证试剂)混合(将整个容器冷却以防止温度超过40℃)并以5mL的量加入以在40℃在3小时内完全溶解铝。之后,将溶液通过网眼大小为1μm的Teflon(注册商标)过滤器过滤,并且将50mL的10%NaOH溶液在室温倾倒通过过滤器,并反应10分钟。之后,将过滤器用水洗涤并干燥。通过SEM在2,000X下观察过滤器的给定区域,并且从元素分析如EPMA或EDX分析测量识别为是碳化铝的粒子的数目。由给定区域中测量的数目与过滤器的总过滤面积之间的关系计算1g的所溶解的铝中含有的碳化铝粒子的数目。
[铝合金板(轧制铝)]
下面描述在本发明的第一方面中可以使用的铝合金板的一个优选实施方案。
在本发明的第一方面中可以使用的铝合金板的优选实施方案含有至少99重量%的量的铝,0.03至0.20重量%的量的硅和0.11至0.45重量%的量的铁。固溶体中的硅含量优选为120至600ppm并且固溶体中铁含量优选为至多100ppm。
使用上述铝合金板的优选实施方案能够使电解砂目化处理的稳定性提高,同时提高电解砂目化的表面的均匀性。在不同电解砂目化处理条件下电解之后可以从而获得具有均匀地粗糙化的表面的载体,并且使用这种载体使得能够获得具有优异的耐浮渣性和长印刷寿命的平版印刷版原版。
优选实施方案中的铝合金板的合金成分为Al、Fe和Si,但铝合金板可以含有铜(Cu)作为任选成分。
硅是在充当原材料的铝锭中以大约0.03至0.1重量%的量作为不可避免的杂质含有的元素。通常有意加入非常小量的硅,以避免归因于原材料差异的变化。硅在铝中以固溶体的状态存在或作为金属间化合物或单沉积物。
在本发明的第一方面中,硅含量优选为0.03至0.20重量%,更优选0.04至0.18重量%,并且再更优选0.05至0.15重量%。
在上面定义的范围内的硅含量下,确保了固溶体中需要的硅含量,并且即使当在电解砂目化处理之后进行阳极氧化处理时,在阳极氧化膜中也不容易出现缺陷,从而使所获得的平版印刷版能够具有好的耐浮渣性。
在本发明的第一方面中,固溶体中的硅含量优选为120至600ppm,更优选150至600ppm,并且再更优选150至500ppm。
当溶液中的硅含量在该范围内时,电解砂目化处理之后的表面是均匀的,并且在整个表面均匀地形成具有0.01至0.05μm的平均开口直径的凹坑和具有0.05至1.5μm的平均开口直径的那些凹坑。
铁是以小量进入铝中的固溶体中的元素,并且基本上保持为金属间化合物。
在本发明的第一方面中,铁含量优选为0.11至0.45重量%,更优选0.15至0.45重量%,并且再更优选0.20至0.43重量%。
当铁含量在该范围内时,铁作为金属间化合物细粒分散,其充当用于电解砂目化处理的起始点,并且作为结果通过电解将表面均匀地粗糙化。
在本发明的第一方面中,固溶体中的铁含量优选为至多100ppm,更优选至多50ppm,并且再更优选至多40ppm,以便确保必要的铁金属间化合物。
固溶体中的铁含量优选为至少10ppm,以便确保铝合金板的耐热性。
铜是用于控制电解砂目化处理的重要元素,并且可以任选地含有。
在本发明的第一方面中,当含有铜时,铜含量优选为至多0.030重量%,以便保持电解砂目化中的均匀性。
具有晶粒细化效果的元素不影响电解砂目化中的均匀性,并且因此可以适当地加入以防止在铸造过程中形成裂纹。为此,例如,可以在至多0.05重量%的范围内加入钛,并且在至多0.02重量%的范围内加入硼。
铝合金板含有铝和不可避免的杂质作为余量。
不可避免的杂质的实例包括:Mg、Mn、Zn、Cr、Zr、V、Zn和Be。可以分别以不大于0.05重量%的量含有这些。
大部分不可避免的杂质将来源于铝材料。如果不可避免的杂质是以具有99.5%的铝纯度的锭中存在的不可避免的杂质,它们将不损害本发明的所需效果。
不可避免的杂质可以是,例如,以在L.F.Mondolfo的铝合金:结构和性质(Aluminum Alloys:Structure and Properties)(1976)中提及的量包含的杂质。
在优选实施方案中的铝合金板优选通过连续铸造制造,其中将铝合金熔体通过熔体进料嘴进料在一对冷却辊之间,并且在用所述一对冷却辊进行固化的同时进行轧制。
因为铸造材料的表面处大的凝固速率,通过连续铸造的轧制产生细小的和均匀的晶体,并且不需要在DC铸造中必须的锭的浸泡处理,或长时间处理。从而获得的铝合金板具有一致的品质,并且适合用于作为平版印刷版载体的坯料(blank)。
更详细地,可以使用以下优选方法。
首先,对调节至给定的合金成分含量的铝合金熔体任选地通过普通方法进行清洗处理。
清洗处理例如通过以下方式进行:用于从熔体移除氢和其他不想要的气体的脱气处理(例如,使用氩气、氯气等的焊剂处理);使用以下各项作为过滤介质的过滤处理,例如,所谓的刚性介质过滤器(例如,陶瓷管过滤器,陶瓷泡沫过滤器),使用氧化铝薄片、氧化铝球等的过滤器,或玻璃布过滤器;或脱气处理和过滤处理的组合。
当由铝合金制备轧制板时,优选的是使用包括下列内容的以下步骤之一:1)在铸造之前的熔融阶段中将通过将合金熔融获得的熔体保持10分钟以上,2)随后进行在线脱气处理,和3)进一步使熔体通过在线过滤器并对其进行铸造,或它们的两个以上的组合,因为即使当所使用的铝合金以相对大的量含有碳化物时,也可以将轧制板中最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目容易地调节至30,000pcs/g以下。
也优选的是将步骤简化为连续铸造法,因为最大长度为1μm以上的碳化铝粒子的数目因从外部结合的少量的碳(C)而可以被容易地调节为30,000pcs/g以下。
优选进行这种清洗处理以防止归因于杂质如熔体中的非金属夹杂物和氧化物的缺陷,以及归因于熔体中溶解的气体的缺陷。熔体过滤被描述在,例如,JP 6-57432A、JP 3-162530A、JP 5-140659A、JP 4-231425A、JP 4-276031A、JP 5-311261A和JP 6-136466A中。熔体脱气描述在,例如,JP 5-51659A和JP 5-49148U中。本申请人在JP 7-40017A中提出了关于熔体脱气的技术。
之后,使用任选地经过清洗处理的熔体进行连续铸造。
连续铸造是其中将铝合金熔体通过熔体进料嘴进料到一对冷却辊之间并且随着它的固化而轧制的步骤,并且通过使用用冷却辊的工艺进行,如双辊工艺(Hunter工艺)和3C工艺;以及使用冷却带或冷却块的工艺,如双带工艺(Hazelett工艺)和Alusuisse Caster II工艺。
连续铸造法通常具有比DC铸造工艺更快的冷却速度,并且因此其特征在于获得合金成分在铝基体中更高的固体溶解度的能力。熔体被以100至1,000℃/s的冷却速率固化。
上面所定义的范围内的冷却速率是优选的,因为可以容易地将所得到的铝合金板的表面处的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的密度调节至35,000pcs/mm2以上。
由本申请人提出的涉及连续铸造法的技术描述在,例如,JP 3-79798A、JP 5-201166A、JP 5-156414A、JP 6-262203A、JP 6-122949A、JP 6-210406A和JP 6-26308A中。
当通过例如包括冷却辊的使用的工艺(例如,Hunter工艺)进行连续铸造时,可以将熔体直接地并且连续地铸造为具有1至10mm的厚度的版,从而使得可以省略热轧步骤。
当使用采用冷却带的工艺(例如,Hazelett工艺)时,可以获得具有10至50mm的厚度的铸制板。通常,热轧辊直接位于铸造机的下游,并且将铸制板相继地轧制,使得能够连续铸造并获得具有1至10mm的厚度的轧制板。
在本发明的第一方面中,在大量生成金属间化合物方面,包括冷却辊的使用的工艺是优选的,并且优选将版轧制为7mm以下的厚度。
之后任选地使作为连续铸造的结果获得的铝合金板通过如冷轧的步骤,并且从而完成为特定的版厚度,例如,0.1至0.5mm。
在本发明的第一方面中,可以在冷轧制之前或之后,或者甚至在冷轧制的过程中进行中间退火以增加固溶体中的硅含量或抑制固溶体中的铁含量。适当的中间退火也具有晶粒细化效果,并且可以改善表面品质。
在合理的金属间化合物粒子的尺寸和数目方面,需要避免在过高温度或持续过长时期的中间退火。特别适宜的是避免超过550℃的热处理温度和超过36小时的热处理时间,因为金属间化合物可能再次进入铝中的固溶体中,或者亚稳态金属间化合物如α-AlFeSi和β-AlFeSi可能转化为稳定的Al3Fe。
中间退火条件可以由以下各项组成:在批次型退火炉中在280至550℃加热2至20小时,优选在350至550℃加热2至10小时,并且更优选在350至550℃加热2至5小时,或者在连续退火炉中在400至550℃加热至多6分钟,并且优选在450至550℃加热至多2分钟。
可以将通过上述步骤制成0.1至0.5mm的范围内的给定厚度的铝合金板通过矫直装置如辊式矫直机或拉伸矫直机进一步处理以提高平整度。可以在将铝合金板切割为分立的片材之后提高平整度。然而,为提高产量,优选的是在连续卷的状态下提高铝合金板的平整度。
也可以将铝合金板进料至切割机流水线以便使其形成给定的版宽度。
可以将薄油膜设置在铝合金板表面上以防止归因于相邻的铝合金板之间的摩擦的擦伤。按需要,可以适宜地使用挥发性或非挥发性油膜。
<表面粗糙化处理>
可以在根据本发明的第一方面的平版印刷版原版中使用的载体可以通过以下方法制备:对通过上述连续铸造步骤和按所需进行的多个步骤(例如,中间退火步骤、冷轧制步骤)获得的铝合金板的表面进行表面粗糙化处理。
通常,单独或以两种以上结合地使用机械砂目化处理、化学砂目化处理和电化学砂目化处理用于表面粗糙化处理。
在本发明的第一方面中,对于表面粗糙化处理优选的是至少包括电解砂目化处理,并且对电解砂目化处理,优选的是之前进行碱蚀处理(第一碱蚀处理)并且之后进行碱蚀处理(第二碱蚀处理)。
对于表面砂目化处理优选的是包括两个电化学砂目化处理步骤,并且优选的是在它们之间进行用碱水溶液的蚀刻处理。更具体地,在合适的处理中,按顺序对铝合金板进行:碱水溶液中的蚀刻处理(第一碱蚀处理),酸性水溶液中的去污处理(第一去污处理),在含有硝酸或盐酸的水溶液中的电化学砂目化处理(第一电解砂目化处理),在碱水溶液中的蚀刻处理(第二碱蚀处理),在酸性水溶液中的去污处理(第二去污处理),在含盐酸的水溶液中的电化学砂目化处理(第二电解砂目化处理),在碱水溶液中的蚀刻处理(第三碱蚀处理),在酸性水溶液中的去污处理(第三去污处理),以及阳极氧化处理。
上述碱蚀处理(第一碱蚀处理)优选通过机械砂目化处理进行。
对于阳极氧化处理还优选的是在其之后进一步进行封孔处理和亲水化处理。
制备在根据本发明的第一方面的平版印刷版原版中可以使用的载体的方法可以包括除了上述描述的那些步骤之外的多个其他步骤。
下面详细描述分别的表面处理步骤。
<机械砂目化处理>
在本发明的第一方面中,优选的是为了将铝合金板表面的中线平均表面粗糙度调节至0.35至1.0μm的范围内的目的而进行机械砂目化处理。
下面描述可以有益地用于机械砂目化处理的刷砂目化。
刷砂目化通常用辊刷进行,所述辊刷通过将很多由合成树脂如尼龙(商品名)、丙烯或氯乙烯树脂制成的刷毛设置在圆柱形辊芯的表面上获得。刷砂目化通过以下方式进行:摩擦铝合金板的一侧或两侧,同时将含磨料的浆液喷射至旋转的辊刷上。
辊刷和浆液可以由抛光辊代替,所述抛光辊为具有形成在其表面上的抛光层的辊。
在使用辊刷的情况下,可以使用的刷上的刷毛的弯曲模量优选为10,000至40,000kg/cm2,并且更优选15,000至35,000kg/cm2,并且劲度优选为500g以下,并且更优选400g以下。刷毛通常具有0.2至0.9mm的直径。可以依赖于辊刷的外径和辊芯的直径适当地确定刷毛长度,但是刷毛通常具有10至100mm的长度。
在本发明的第一方面中,优选的是使用多个尼龙刷,更优选至少三个尼龙刷,并且最优选至少四个尼龙刷。调节刷的数目使得能够调节在铝合金板表面上形成的凹坑的波长成分。
将刷辊压向铝合金板,直至旋转刷的驱动马达上的负荷大于在将刷辊压至版上之前的负荷优选至少1kW,更优选至少2kW,并且最优选至少8kW。负荷的调节使得能够调节铝合金板表面上形成的凹坑的深度。刷的旋转速度优选为至少100rpm,并且更优选至少200rpm。
可以使用已知的磨料,包括浮石、硅砂、氢氧化铝、氧化铝粉末、碳化硅、氮化硅、火山灰、碳化硅、刚玉砂,以及它们的混合物。这些中,浮石和硅砂是优选的。硅砂与浮石相比更硬并且脆性较低,并且因此在砂目化效率上是优异的。过度的负荷可以破坏氢氧化铝的粒子,所以在不希望形成局部过深凹坑的情况下,氢氧化铝是合适的。
磨料优选具有2至100μm,并且更优选20至60μm的中值直径,因为砂目化效率是优异的,并且可以缩窄砂目化间距。磨料中值直径的调节使得能够调节铝合金板表面上形成的凹坑的深度。
磨料悬浮在例如水中以用作浆液。除了磨料之外,浆液可以含有增稠剂、分散剂(例如,表面活性剂)和防腐剂。浆液优选具有0.5至2的比重。
例如,JP 50-40047B中描述的装置适合于在机械砂目化处理中使用。
在共同受让的JP 2002-211159A中详细描述了在用刷和磨料的机械砂目化处理中可以使用的装置。
在机械砂目化处理中可以使用的不同于刷砂目化的另一种工艺是其中在上述冷轧的末期进行转印以在版表面形成不规则部的工艺。在本发明的第一方面中,可以使用该工艺代替刷砂目化或将它们一起使用。
<第一碱蚀处理>
在第一碱蚀处理中,使铝合金板与碱溶液接触以便溶解表面层。
在电解砂目化处理(第一电解砂目化处理)之前进行第一碱蚀处理的目的是平滑化粗糙化的表面,以在进行机械砂目化处理的情况下在电解砂目化处理(第一电解砂目化处理)中形成均匀的凹坑,并且在不进行机械砂目化处理的情况下从铝合金板的表面移除以下物质:如压延油、污染物和自然氧化膜。
在第一碱蚀处理中移除的材料的量(在下面也称作“蚀刻量”)优选为至少0.1g/m2,更优选至少0.5g/m2,并且再更优选至少1g/m2,但优选不大于12g/m2,更优选不大于10g/m2,并且再更优选不大于8g/m2。当蚀刻量的下限落在以上范围内时,在电解砂目化处理(第一电解砂目化处理)中可以形成均匀的凹坑,从而防止处理不均匀性出现。当蚀刻量的上限落在以上范围内时,所使用的碱水溶液的量减少,这在经济上是有益的。
在碱溶液中可以使用的碱的例示为苛性碱和碱金属盐。合适的苛性碱的具体实例包括氢氧化钠和氢氧化钾。合适的金属盐的具体实例包括:碱金属硅酸盐如正硅酸钠,硅酸钠,正硅酸钾和硅酸钾;碱金属碳酸盐如碳酸钠和碳酸钾;碱金属铝酸盐如铝酸钠和铝酸钾;碱金属醛糖酸盐如葡糖酸钠和葡糖酸钾;以及碱金属磷酸氢盐如二磷酸氢二钠,磷酸氢二钾,磷酸二氢钠和磷酸二氢钾。这些中,考虑到高蚀刻速率和低成本,苛性碱溶液和含有苛性碱和碱金属铝酸盐两者的溶液是优选的。氢氧化钠的水溶液是尤其优选的。
在第一碱蚀处理中,碱溶液具有优选至少30g/L,并且更优选至少300g/L,但优选不大于500g/L,并且更优选不大于450g/L的浓度。
对于碱溶液适宜的是含有铝离子。铝离子浓度优选为至少1g/L,并且更优选至少50g/L,但优选不大于200g/L,并且更优选不大于150g/L。这种碱溶液可以使用,例如,水、48重量%氢氧化钠水溶液以及铝酸钠制备。
在第一碱蚀处理中,碱溶液的温度优选为至少30℃,并且更优选至少50℃,但优选不大于80℃,并且更优选不大于75℃。
在第一碱蚀处理中,处理时间优选为至少1秒并且更优选至少2秒,但优选不大于30秒,并且更优选不大于15秒。
当连续地蚀刻铝合金板时,碱溶液中的铝离子浓度升高并且从铝合金板蚀刻的材料的量改变。因此适宜的是如下控制蚀刻液组成。
即,预先相对于氢氧化钠浓度和铝离子浓度的矩阵(matrix)准备电导率、比重和温度的矩阵或电导率、超声波传播速度和温度的矩阵。之后基于电导率、比重和温度或电导率、超声波传播速度和温度测量溶液组成,并且加入氢氧化钠和水以控制溶液组成的目标值。接下来,随着氢氧化钠和水的加入增加蚀刻液的体积以允许其从循环槽流出,从而保持溶液的量恒定。所加入的氢氧化钠可以是工业级40至60重量%氢氧化钠。
所使用的电导率计和比重计优选为温度抵偿仪器。比重计优选为压差比重计。
用于使铝合金板与碱溶液接触的方法的示例性实例包括:使铝合金板通过装有碱溶液的槽,将铝合金板浸渍在装有碱溶液的槽中,以及用碱溶液喷涂铝合金板的表面。
这些中最适宜的是包括用碱溶液喷涂铝合金板的表面的方法。适宜的是其中从一个喷射管线或各自具有2至5mm直径开口,相隔10至50mm的间距的多个喷射管线以每个喷射管线10至100L/分钟的速率喷射蚀刻液的方法。优选设置多个喷射管线。
在完成碱蚀处理之后,适宜的是用轧辊移除残留在铝合金板上的蚀刻液,对版用水进行冲洗处理1至10秒,并且之后用轧辊移除水。
冲洗处理优选通过用使用自由下落的水帘的冲洗装置冲洗并且也可通过用喷射管线冲洗进行。
用自由下落的水帘进行冲洗处理的装置具有储存水的储水槽,将水送入至储水槽的管线,以及从储水槽将自由下落的水帘提供至铝合金板的流量分配器。
在该装置中,管线将水送入至储水槽。当储水槽中的水溢出时,它通过流量分配器分配并且自由下落的水帘被提供至铝合金板。在使用该装置的过程中,流速优选为10至100L/分钟。水在流量分配器与铝合金板之间作为自由下落的液体帘存在的距离L优选为20至50mm。此外,铝合金板优选以相对于水平线30至80°的角度α倾斜。
通过使用以自由下落的水帘冲洗铝合金板的装置,可以将铝合金板均匀地冲洗以提高冲洗之前进行的处理的均匀性。用自由下落的水帘进行冲洗处理的装置的合适的实例描述在JP 2003-96584A中。
备选地,冲洗可以用具有多个喷嘴尖的喷射管线进行,所述喷嘴尖释放水的扇形喷射并且沿铝合金板的宽度设置。喷嘴尖之间的间隔优选为20至100mm,并且每个喷嘴尖放出的水的量优选为0.5至20L/分钟。使用多个喷射管线是优选的。
<第一去污处理>
在第一碱蚀处理之后,优选的是进行酸浸(第一去污处理),以移除铝合金板的表面上残留的污染物(残渣)。去污处理通过使酸性溶液与铝合金板接触进行。
可以使用的酸的实例包括硝酸、硫酸、磷酸、铬酸、氢氟酸和四氟硼酸。
在第一碱蚀处理之后的第一去污处理中,当它紧随电解砂目化处理(第一电解砂目化处理)之后进行时,优选的是使用来自使用硝酸的电解中使用的电解液的溢流。
可以通过选择并使用下列方法控制去污处理液的组成:基于关于酸性溶液浓度和铝离子浓度的矩阵的电导率和温度的控制的方法,基于关于以上矩阵的电导率、比重和温度的控制的方法,或基于关于以上矩阵的电导率、超声波传播速度和温度的控制的方法。
在第一去污处理中,优选的是使用含有1至400g/L的酸和0.1至5g/L的铝离子的酸性溶液。
酸性溶液的温度优选为至少20℃,并且更优选至少30℃,但优选不大于70℃,并且更优选不大于60℃。
在第一去污处理中,处理时间优选为至少1秒,并且更优选至少4秒,但优选不大于60秒,并且更优选不大于40秒。
用于使铝合金板与酸性溶液接触的方法的示例性实例包括:使铝合金板通过装有酸性溶液的槽,将铝合金板浸渍在装有酸性溶液的槽中,以及用酸性溶液喷涂铝合金板的表面。
这些中,优选其中将酸性溶液喷涂在铝合金板的表面上的方法。更具体地,适宜的是其中从一个喷射管线或各自具有2至5mm直径开口,相隔10至50mm的间距的多个喷射管线以每个喷射管线10至100L/分钟的速率喷射蚀刻液的方法。优选设置多个喷射管线。
在完成去污处理之后,适宜的是用轧辊移除残留在铝合金板上的溶液,对版用水进行冲洗处理1至10秒,并且之后用轧辊移除水。
冲洗处理与碱蚀处理之后的冲洗处理相同。然而,每个喷嘴尖放出的水的量优选是1至20L/分钟。
如果采用来自随后用硝酸进行电解中使用的电解液的溢流作为第一去污处理中的去污液,而非在去污处理之后进行用轧辊移除溶液和冲洗处理,优选的是通过按需要适宜地用去污液喷涂铝合金板以使得铝合金板的表面不干燥,直至将铝合金板送至使用硝酸的电解步骤。
<第一电解砂目化处理>
第一电解砂目化处理是在含硝酸或含盐酸的水溶液中进行的电解砂目化处理。
根据本发明的第一方面,第一电解砂目化处理优选为在含硝酸的电解液中使用具有梯形波形的交流电的处理以便扩大电解砂目化的表面的范围,并且优选为在含盐酸的电解液中使用具有正弦波形的交流电的处理,以便容易控制电解砂目化的表面的形状。
经过第一电解砂目化处理的铝合金板优选具有0.2至1.0μm的平均表面粗糙度Ra。
(在含硝酸的水溶液中的电解砂目化处理(硝酸电解))
硝酸电解能够在铝合金板的表面处形成适当粗糙化的结构。在本发明的第一方面中,如果铝合金板以相对大的量含有铜,则硝酸电解在铝合金板的表面形成相对大的并且均匀的凹坑。作为结果,使用根据本发明的第一方面的平版印刷版载体制备的平版印刷版具有长印刷寿命。
可以采用在包括使用直流电或交流电的传统的电化学砂目化处理中使用的任何含硝酸的水溶液。可以通过向具有1至100g/L的硝酸浓度的水溶液在1g/L至饱和的范围内加入至少一种含有硝酸根离子的硝酸盐化合物如硝酸铝、硝酸钠或硝酸铵而制备含硝酸的水溶液,并且使用。
铝合金中存在的金属,如铁、铜、锰、镍、钛、镁和二氧化硅也可以溶解在含硝酸的水溶液中。可以以1至100g/L的量加入次氯酸或过氧化氢。
更具体地,优选的是使用具有通过将硝酸铝溶解在具有5至15g/L的硝酸浓度的硝酸水溶液中调节至3至7g/L的铝离子浓度的溶液。
含硝酸的水溶液的温度优选为至少20℃,但优选不大于55℃。
硝酸电解能够形成具有1至10μm的平均开口直径的凹坑。然而,相对增加的电量导致电解反应集中,也导致形成具有超过10μm的开口直径的蜂窝状凹坑。
为获得这种砂目化的表面,直至电解反应完成供给铝合金板上阳极反应的总电量优选为至少150C/dm2,并且更优选至少170C/dm2,但优选不大于600C/dm2,并且更优选不大于500C/dm2
峰值电流密度优选为至少5A/dm2,并且更优选20至100A/dm2
(在含盐酸的水溶液中的电解砂目化处理(盐酸电解))
可以采用在包括使用直流电或交流电的传统的电化学砂目化处理中使用的任何含盐酸的水溶液。含盐酸的水溶液可以通过以下方式制备:向具有1至30g/L,并且优选2至10g/L的盐酸浓度的水溶液在1g/L至饱和的范围内加入至少一种含有硝酸根离子的硝酸盐化合物,如硝酸铝、硝酸钠或硝酸铵,或至少一种含有氯离子的氯化物,如氯化铝、氯化钠或氯化铵。
铝合金中存在的金属,如铁、铜、锰、镍、钛、镁和二氧化硅也可以溶解在含盐酸的水溶液中。可以以1至100g/L的量加入次氯酸或过氧化氢。还可以以1至200g/L的量加入可以与铜形成配合物的化合物。还可以以1至100g/L的量加入硫酸。
特别优选的含盐酸的水溶液是通过以下方式制备的水溶液:将铝盐(氯化铝:AlCl3·6H2O)加入至含有2至10g/L的盐酸的水溶液以将铝离子浓度调节至3至7g/L,并且优选4至6g/L。
使用这种盐酸水溶液的电解砂目化处理使得电解砂目化的表面更均匀,并且无论使用低纯度或高纯度铝合金,都不出现处理不均匀性。作为结果,使用这种铝合金板获得的平版印刷版可以具有更长的印刷寿命和更优异的耐浮渣性。
含盐酸的水溶液的温度优选为至少20℃并且更优选至少30℃,但优选不大于55℃和更优选不大于50℃。
关于添加至含盐酸的水溶液的物质、装置、电源、电流密度、流速和温度,可以采用在已知的电化学砂目化处理中使用的条件。在电化学砂目化中,使用AC电源或DC电源,但AC电源是特别优选的。
因为盐酸自身具有强大的溶解铝的能力,可以通过仅施加少量电流而在表面处形成细微的不规则部。这些细微的不规则部具有0.01至1.5μm的平均开口直径(凹坑直径),并且在铝合金板的整个表面之上均匀地形成。
通过增加电量(至150至2,000C/dm2的供给阳极反应的总电量),产生平均开口直径为1至30μm的凹坑,其具有形成在其表面上的平均开口直径为0.01至0.4μm的凹坑。为获得这种砂目化的表面,直至电解反应完成供给铝合金板上的阳极反应的总电量优选为至少10C/dm,更优w选至少50C/dm2,并且再更优选至少100C/dm2,但优选不大于2,000C/dm2,并且更优选不大于600C/dm2
在盐酸电解中,峰值电流密度优选为至少5A/dm2,并且更优选20至100A/dm2
铝合金板用较大电量的盐酸电解能够使大波动部(undulations)和细小不规则部同时形成。通过在后面描述的第二碱蚀处理中制造更均匀的大波动部可以提高耐浮渣性。
第一电解砂目化处理可以按照,例如,JP 48-28123B和GB 896,563中描述的电化学砂目化工艺(电解砂目化工艺)进行。这些电解砂目化工艺使用具有正弦波形的交流电,虽然它们也可以使用特殊波形如JP52-58602A中描述的那些进行。也可以使用JP 3-79799A中描述的波形。可以用于该目的的其他方法包括JP 55-158298A、JP 56-28898A、JP52-58602A、JP 52-152302A、JP 54-85802A、JP 60-190392A、JP 58-120531A、JP 63-176187A、JP 1-5889A、JP 1-280590A、JP 1-118489A、JP 1-148592A、JP 1-178496A、JP 1-188315A、JP 1-154797A、JP 2-235794A、JP3-260100A、JP 3-253600A、JP 4-72079A、JP 4-72098A、JP 3-267400A和JP 1-141094A中描述的那些方法。除了以上之外,也可以使用如结合用于制备电解电容器的方法提出的特殊频率的交流电进行电解。这些描述在,例如,US 4,276,129和US 4,676,879中。
已经提出了多种电解池和电源。可以使用描述在以下各项中的那些,例如,US 4,203,637、JP 56-123400A、JP 57-59770A、JP 53-12738A、JP53-32821A、JP 53-32822A、JP 53-32823A、JP 55-122896A、JP 55-132884A、JP 62-127500A、JP 1-52100A、JP 1-52098A、JP 60-67700A、JP 1-230800A、JP 3-257199A、JP 52-58602A、JP 52-152302A、JP 53-12738A、JP53-12739A、JP 53-32821A、JP 53-32822A、JP 53-32833A、JP 53-32824A、JP 53-32825A、JP 54-85802A、JP 55-122896A、JP 55-132884A、JP48-28123B、JP 51-7081B、JP 52-133838A、JP 52-133840A、JP 52-133844A、JP 52-133845A、JP 53-149135A和JP 54-146234A。
当连续地对铝合金板进行电解砂目化处理时,碱溶液中的铝离子浓度升高,作为其结果,通过第一电解砂目化处理在铝合金板处形成的不规则部的形状将改变。因此优选的是如下控制含硝酸或含盐酸的电解液的组成。
即,预先相对于硝酸或盐酸浓度和铝离子浓度的矩阵准备电导率、比重和温度的矩阵或电导率、超声波传播速度和温度的矩阵。之后基于电导率、比重和温度或电导率、超声波传播速度和温度测量溶液组成,并且向溶液中加入硝酸或盐酸和水以控制溶液组成的目标值。接下来,随着硝酸或盐酸和水的加入增加蚀刻液的体积以允许其从循环槽溢流,从而保持溶液的量恒定。所加入的硝酸可以是工业级30至70重量%硝酸。所加入的盐酸可以是工业级30至40重量%盐酸。
所使用的电导率计和比重计优选为温度抵偿仪器。比重计优选为压差比重计。
为高精度测量溶液组成,优选的是将用于测量溶液组成的目的从电解液收集的样品首先使用与用于电解液所使用的热交换器不同的热交换器控制为固定的温度(例如,40±0.5℃),之后提供用于测量。
对于电化学砂目化处理中使用的交流电的波形未进行特别地限定。例如,可以使用正弦、方形、梯形或三角形波形。这些中,正弦、方形或梯形波形是优选的。梯形波形是尤其优选的。在第一盐酸电解的情况下,正弦波形是尤其优选的,因为可均匀地并且容易地产生平均直径为至少1μm的凹坑。“正弦波形”在本文中是指类似于图4中所示的波形。
在本文中“梯形波形”是指类似于图1中所示的波形。在该梯形波形中,优选的是直至电流从零达到峰值为止的时间TP为0.5至3ms。TP大于3ms,尤其是当使用含硝酸的水溶液时,铝合金板倾向于受到电解液中在电解处理过程中自发增加的铵离子和其他痕量成分影响,使得难以进行均匀的砂目化。作为结果,对于使用该铝合金板获得的平版印刷版有耐浮渣性降低的倾向。
可以采用具有1∶2至2∶1的占空比的交流电。然而,如JP 5-195300A中所指出的,在不使用导电辊将电流提供至铝合金板的间接供能系统中,使用具有1∶1的占空比的交流电是优选的。
可以使用具有0.1至120Hz频率的交流电,虽然在仪器方面优选的是50至70Hz的频率。在低于50Hz的频率,充当主电极的碳电极更易于被溶解。另一方面,在高于70Hz的频率,电源电路更易于受到其中上的电感分量(inductance components)的影响,从而增加电源成本。
图2是可以在用交流电的电化学砂目化处理中使用的径向电解池的侧视图。
可以将一个或多个AC电源连接至电解槽。为控制施加至面对主电极的铝合金板的交流电的阳极/阴极电流比,并从而进行均匀的砂目化并从主电极溶解碳,如图2中所示,优选的是设置辅助阳极并转移一部分交流电。图2显示了铝合金板11、径向滚筒式碾压机12、主电极13a和13b、电解处理液14、溶液进料口15、狭缝16、溶液通道17、辅助阳极18、闸流管19a和19b、AC电源20、主电解槽40和辅助阳极槽50。通过使用整流或配电装置将一些电流作为直流电转移至设置在与含有两个主电极的槽相分离的槽中的辅助阳极,可以控制作用在面对主电极的铝合金板上的提供给阳极反应的电流与提供给阴极反应的电流之间的比例。在面对主电极的铝合金板上提供给阳极反应的电量与提供给阴极反应的电量之间的比例(当铝合金板充当阴极时的总电量与当铝合金板充当阳极时的总电量之间的比例)优选在0.3至0.95的范围内。
可以使用任何用于表面处理而采用的已知电解槽,包括垂直、平面和径向型电解槽,但径向型电解槽如描述在JP 5-195300A中的那些是尤其优选的。使电解液与其中铝卷行进的方向平行或相反的方向通过电解槽。
可以使用在传统的用直流电的电化学砂目化处理中使用的电解液用于用直流电的电化学砂目化处理。更具体地,可以使用与在上述用交流电的电化学砂目化处理中使用的电解液相同类型的电解液。
对电化学砂目化处理中使用的直流电没有特别限定,只要所使用的电流的极性不改变即可。可以使用的实例包括具有梳形波形的DC,连续DC和通过将工业AC用闸流管全波整流而获得的电流,并且优选使用平滑的连续DC。
用直流电的电化学砂目化处理可以通过间歇工艺、半连续工艺和连续工艺中的任一种进行,但是优选使用连续工艺。
对于用于用直流电的电化学砂目化处理的装置没有特别限定,条件是该装置被配置为跨越交替设置的阳极和阴极施加dc电压,并允许铝合金板在成对的阳极与阴极之间通过,同时保持它们之间的距离。
对电极没有特别限定,但可以使用电化学砂目化处理中采用的传统已知的电极。
可以优选使用的阳极的实例包括:通过用铂族金属镀覆或包覆阀金属如钛、钽和铌形成的阳极;通过将铂族金属氧化物涂布或烧结在阀金属上形成的阳极;铝;和不锈钢。这些中,优选使用通过用铂包覆阀金属形成的阳极。例如,通过包括在电极内部通过水以将其冷却的方法,阳极可以具有进一步延长的使用寿命。
可以基于普贝图(Pourbaix diagrams)选择在负电极电势下不溶解的金属并且用于阴极。碳是特别优选的。
可以选择电极的排列以适合于波动结构。可以通过改变铝合金板行进方向上阳极和阴极的长度、铝合金板的通过速度、流速、温度和电解液的组成以及电流密度调整波动结构。在使用包括分离的用于阳极和阴极的电解槽的装置的情况下,也可以改变相应的槽中的电解条件。
在完成第一电解砂目化处理之后,适宜的是用轧辊移除残留在铝合金板上的电解液,用水对版进行冲洗处理1至10秒,并且之后用轧辊移除水。
优选用喷射管线进行冲洗处理。备选地,冲洗可以用具有多个喷嘴尖的喷射管线进行,所述喷嘴尖释放水的扇形喷射并且沿铝合金板的宽度设置。喷嘴尖之间的间隔优选为20至100mm,并且每个喷嘴尖放出的水的量优选为1至20L/分钟。使用多个喷射管线是优选的。
<第二碱蚀处理>
在第一电解砂目化处理与第二电解砂目化处理之间进行第二碱蚀处理的目的是溶解第一电解砂目化处理中出现的残渣,并溶解通过第一电解砂目化处理形成的凹坑的边缘。
第二碱蚀处理使得将由第一电解砂目化处理形成的大凹坑的边缘溶解以平滑的版表面,并且作为结果,墨不容易贴附于边缘上。因此,可以获得具有优异的耐浮渣性的平版印刷版原版。
因为第二碱蚀处理基本上与第一碱蚀处理基本上相同,下面将仅描述那些不同的特征。
在第二碱蚀处理中从铝合金板移除的材料的量优选为至少0.05g/m2,并且更优选至少0.1g/m2,但优选不大于4g/m2,并且更优选不大于3.5g/m2。在蚀刻量为0.05g/m2以上的情况下,第一电解砂目化处理中形成的凹坑的边缘被平滑化,并且墨不容易贴附于凹坑的边缘上,从而增加了平版印刷版的非图像区中的耐浮渣性。另一方面,在蚀刻量不大于4g/m2的情况下,在第一电解砂目化处理中形成的不规则部变得更大,从而获得长印刷寿命。
在第二碱蚀处理中,碱溶液的浓度优选为至少30g/L,并且更优选至少300g/L,但优选不大于500g/L,并且更优选不大于450g/L。
碱溶液适宜含有铝离子。铝离子浓度优选为至少1g/L,并且更优选至少50g/L,但优选不大于200g/L,并且更优选不大于150g/L。这种碱溶液可以使用,例如,水、48重量%氢氧化钠水溶液和铝酸钠制备。
<第二去污处理>
在第二碱蚀处理之后,优选的是进行酸浸(第二去污处理)以移除铝合金板的表面上残留的污染物(残渣)。可以用与第一去污处理相同方式进行第二去污处理。
在第二去污处理中,优选的是使用硝酸或硫酸。
在第二去污处理中,优选的是使用含有1至400g/L的酸和0.1至8g/L的铝离子的酸性溶液。
在使用硫酸的情况下,更具体地,可以使用通过以下方法制备的溶液:将硫酸铝溶解在硫酸浓度为100至350g/L的硫酸水溶液中以使得具有0.1至5g/L的铝离子浓度。也可以使用来自后面要描述的阳极氧化处理中使用的电解液的溢流。
在第二去污处理中,处理时间优选为至少1秒,并且更优选至少4秒,但优选不大于60秒,并且更优选不大于20秒。
在第二去污处理中,酸性水溶液的温度优选为至少20℃并且更优选至少30℃,但优选不大于70℃并且更优选不大于60℃。
<第二电解砂目化处理(第二盐酸电解)>
第二电解砂目化处理是用交流电或直流电在含盐酸水溶液中进行的电化学砂目化处理。
在本发明的第一方面中可以仅进行上述第一电解砂目化处理。然而,与第二电解砂目化处理组合使得能够在铝合金板表面上形成更复杂的形貌结构,从而获得长印刷寿命。
第二电解砂目化处理与关于第一电解砂目化处理描述的盐酸电解基本上相同。
在第二电解砂目化处理中贯穿在含盐酸水溶液中的电化学砂目化的过程中,提供给铝合金板上的阳极反应的总电量可以选自当电化学砂目化处理完成时为10至200C/dm2的范围。为了基本上保持通过第一电解砂目化处理的表面粗糙化,总电量优选为10至100C/dm2,并且最优选50至80C/dm2
<第一碱蚀处理-第一电解砂目化处理(硝酸电解)-第二碱蚀处理-第二电解处理(第二盐酸电解)>
在组合进行以上处理的情况下,优选按以下顺序进行:硝酸电解,其中在含硝酸的电解液中进行的阳极反应的总电量为65至500C/dm2;碱蚀处理,其中将至少0.1g/m2的材料溶出;第二盐酸电解,其中在含盐酸的电解液中进行的阳极反应中的总电量为25至100C/dm2;以及碱蚀处理,其中将至少0.03g/m2的材料溶出。
可以通过基于以上组合进行表面粗糙化处理以获得具有更长的印刷寿命和更优异的耐浮渣性的平版印刷版原版。
<第三碱蚀处理>
在第二电解砂目化处理之后进行第三碱蚀处理的目的是溶解在第二电解砂目化处理中出现的残渣,并且溶解通过第二电解砂目化处理形成的凹坑的边缘。因为第三碱蚀处理与第一碱蚀处理基本上相同,下面仅描述那些不同的特征。
通过第三碱蚀处理移除的材料的量优选为至少0.05g/m2,并且更优选至少0.1g/m2,但优选不大于0.3g/m2,并且更优选不大于0.25g/m2。在蚀刻量为0.05g/m2以上的情况下,第二盐酸电解中形成的凹坑的边缘被平滑化,并且墨不容易贴附于凹坑的边缘上,从而提高了平版印刷版的非图像区中的耐浮渣性。在蚀刻量为不大于0.3g/m2的情况下,在第一和第二电解砂目化处理中形成的不规则部变得更大,从而获得长印刷寿命。
在第三碱蚀处理中,碱溶液具有优选至少30g/L的浓度。然而,为保持在之前用交流电的盐酸电解中形成的不规则部不变得太小,浓度优选不大于100g/L,并且更优选不大于70g/L。
适宜的是碱溶液含有铝离子。铝离子浓度优选为至少1g/L,并且更优选至少3g/L,但优选不大于50g/L,并且更优选不大于8g/L。这种碱溶液可以使用,例如,水、48重量%氢氧化钠水溶液和铝酸钠制备。
在第三碱蚀处理中,碱溶液的温度优选为至少25℃,并且更优选至少30℃,但优选不大于60℃,并且更优选不大于50℃。
在第三碱蚀处理中,处理时间优选为至少1秒,并且更优选至少2秒,但优选不大于30秒,并且更优选不大于10秒。
<第三去污处理>
在第三碱蚀处理之后,优选的是进行酸浸(第三去污处理)以移除铝合金板的表面上残留的污染物(残渣)。因为第三去污处理与第一去污处理基本上相同,下面仅表述不同的特征。
在第三去污处理中,优选的是使用含有5至400g/L的酸和0.5至8g/L的铝离子的酸性溶液。在使用硫酸的情况下,更具体地,优选的是使用通过将硫酸铝溶解在具有100至350g/L的硫酸浓度的硫酸水溶液中而将铝离子浓度调节至1至5g/L的溶液。
在第三去污处理中,处理时间优选为至少1秒,并且更优选至少4秒,但优选不大于60秒,并且更优选不大于15秒。
当在第三去污处理中使用的去污液是与在随后进行的阳极氧化处理中采用的电解液相同类型的溶液时,可以省略在去污处理之后进行的用轧辊和冲洗的溶液移除。
<阳极氧化处理>
优选地,也对如上所述处理的铝合金板进行阳极氧化处理。
阳极氧化处理可以通过本领域中通常使用的任何方法进行。更具体地,阳极氧化膜可以通过以下方式形成:例如,在具有50至300g/L的硫酸浓度和至多5重量%的铝离子浓度的溶液中,使电流通过作为阳极的铝合金板。用于在阳极氧化处理中使用的溶液,可以单独使用酸如硫酸、磷酸、铬酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸和氨基磺酸,或以它们的两种以上的组合使用。使用硫酸或磷酸的水溶液的阳极氧化处理是特别优选的。
可接受的是在电解液中存在至少通常存在于铝合金板、电极、自来水、地表水等中的成分。此外,可以加入第二和第三成分。这里,“第二和第三成分”包括,例如,金属如Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu和Zn的离子;阳离子如铵离子;以及阴离子如硝酸根离子,碳酸根离子,氯离子,磷酸根离子,氟离子,亚硫酸根离子,钛酸根离子,硅酸根离子和硼酸根离子。这些可以以约0至10,000ppm的浓度存在。
根据所使用的电解液按照经验改变阳极氧化处理条件,虽然通常适宜的是溶液具有1至80重量%的电解质浓度和5至70℃的温度,并且电流密度为0.5至60A/dm2,电压为1至100V,并且电解时间为15秒至50分钟。可以调节这些条件以获得所需的阳极氧化膜重量。
可以用于进行阳极氧化处理的方法包括JP 54-81133A、JP 57-47894A、JP 57-51289A、JP 57-51290A、JP 57-54300A、JP 57-136596A、JP58-107498A、JP 60-200256A、JP 62-136596A、JP 63-176494A、JP 4-176897A、JP 4-280997A、JP 6-207299A、JP 5-24377A、JP 5-32083A、JP 5-125597A和JP 5-195291A中描述的那些。
这些之中,如JP 54-12853A和JP 48-45303A中所描述的,优选的是使用硫酸溶液作为电解液。电解液的硫酸浓度优选为10至300g/L(1至30重量%),并且更优选50至200g/L(5至20重量%),并且铝离子浓度优选为1至25g/L(0.1至2.5重量%),并且更优选2至10g/L(0.2至1重量%)。这种电解液可以通过将化合物如硫酸铝加入至具有50至200g/L的硫酸浓度的稀硫酸中制备。
使用与在上述硝酸电解中所使用的方法相似的方法控制电解液的组成。换言之,控制优选通过关于硫酸浓度和铝离子浓度的矩阵的电导率、比重和温度或电导率、超声波传播速度和温度的方式实现。
电解液的温度优选为25至55℃,并且更优选30至50℃。
当在含有硫酸的电解液中进行阳极氧化处理时,可以穿过铝合金板和对电极施加直流电或交流电。
当将直流电施加至铝合金板时,电流密度优选为1至60A/dm2,并且更优选5至40A/dm2
为了保持当以连续工艺进行阳极氧化处理时,不由于电流的集中而在部分的铝合金板上出现过烧沉积物(burnt deposits)(比周边区域厚的阳极氧化膜区域),优选的是在阳极氧化处理开始时以5至10A/m2的低密度施加电流,并且随着阳极氧化处理进行将电流密度增加至30至50A/dm2以上。
具体地,优选的是分配来自DC电源的电流以使得来自下游DC电源的电流等于或大于来自上游DC电源的电流。以该方式分配的电流将防止过烧沉积物的形成,使得高速阳极氧化能够进行。
当以连续工艺进行阳极氧化处理时,优选的是使用通过电解液将能量提供至铝合金板的系统完成。
通过在这种条件下进行阳极氧化处理,可以获得具有大量的孔(微孔)的多孔膜。这些微孔通常具有约5至约50nm的平均直径和约300至约800孔/μm2的平均孔密度。
阳极氧化膜的重量优选为至少1.0μm,更优选至少1.3μm,并且再更优选至少2μm。阳极氧化膜的重量优选为1至5g/m2。在小于1g/m2的情况下,在版上易于形成擦伤。另一方面,大于5g/m2的重量需要大量的电能,这在经济上是不利的。1.5至4g/m2的阳极氧化膜重量是更优选的。对于阳极氧化处理还适宜的是以这样的方式进行:使得铝合金板的中心与接近边缘的区域之间阳极氧化膜重量之差不大于1g/m2
可以在阳极氧化处理中使用的电解装置的实例包括JP 48-26638A、JP 47-18739A、JP 58-24517B和JP 2001-11698A中描述的那些。
使用图3中所示的装置是特别有益的。图3是用于阳极氧化铝合金板表面的装置的示意图。
在图3中所示的阳极氧化装置410中,通过电解液施加电流至铝合金板416,给电槽412设置在铝合金板416传输方向的上游侧,并且阳极氧化处理槽414设置在下游侧。铝合金板416通过传递辊422和428在图3中通过箭头所指出的方向上传送。铝合金板416首先穿过的给电槽412设置有阳极420,所述阳极420连接至DC电源434的正极;并且铝合金板416充当阴极。因此,阴极反应在铝合金板416处出现。
铝合金板416接下来穿过的阳极氧化处理槽414设置有阴极430,所述阴极430连接至DC电源434的负极;铝合金板416充当阳极。因此,阳极反应在铝合金板416处出现,并且阳极氧化膜形成在铝合金板416的表面上。
铝合金板416和阴极430分开优选50至200mm的距离。阴极430可以由铝制成。为了使由阳极反应产生的氢气更易于从体系排出,阴极430优选在铝合金板416的前进方向分开为多个部分,而不是具有大面积的单一电极。
如图3中所示,优选的是在给电槽412与阳极氧化处理槽414之间设置不存留电解液的中间槽413。通过提供中间槽413,可以防止电流从阳极420流至阴极430而不穿过铝合金板416。优选通过在中间槽413中提供轧辊424并移除铝合金板416上残留的溶液以使旁路电流最小化。通过轧辊424移除的溶液通过排液口442排放至阳极氧化装置410的外部。
为减小电压损失,将提供至给电槽412的电解液418调节至比提供至阳极氧化处理槽414的电解液426更高的温度和/或更高的浓度。此外,基于这样的考虑确定电解液418和426的组成、温度和其他特征:阳极氧化膜形成效率、阳极氧化膜的微孔形状、阳极氧化膜的硬度、电压、以及电解液成本。
电解液从给液喷嘴436和438分别喷入给电槽412和阳极氧化处理槽414中。为确保电解液的分布保持均匀并且从而防止在阳极氧化处理槽414中电流在铝合金板416上的局部集中,给液喷嘴436和438具有其中设置狭缝以保持注入液体的流动在宽度方向上恒定的结构。
在阳极氧化处理槽414中,遮板440设置在铝合金板416与阴极430的相对侧,以防止电流从铝合金板416的其上要形成阳极氧化膜的表面流至相反侧。铝合金板416和遮板440相隔优选5至30mm的距离。优选的是使用正极连接在一起的多个DC电源434,从而使得可以控制阳极氧化处理槽414内的电流分布。
<封孔处理>
在本发明的第一方面中,可以任选地进行封孔处理以封闭阳极氧化膜中存在的微孔。封孔处理可以按照已知方法进行,如沸水处理、热水处理、蒸汽处理、硅酸钠处理、亚硝酸盐处理或乙酸铵处理。例如,可以使用JP 56-12518B、JP 4-4194A、JP 5-202496A和JP 5-179482A中描述的装置和方法进行封孔处理。
<亲水化处理>
可以在阳极氧化处理之后或封孔处理之后进行亲水化处理。合适的亲水化处理的示例性实例包括US 2,946,638中描述的六氟锆酸钾处理,US3,201,247中描述的磷钼酸盐处理,GB 1,108,559中描述的钛酸烷基酯处理,DE 1,091,433中描述的聚丙烯酸处理,DE 1,134,093和GB 1,230,447中描述的聚乙烯基膦酸处理,JP 44-6409B中描述的膦酸处理,US3,307,951中描述的植酸处理,JP 58-16893A和JP 58-18291A中描述的包括亲油有机聚合化合物的二价金属盐的处理,类似于US 3,860,426中描述的处理,其中设置含有水溶性金属盐(例如,乙酸锌)的亲水纤维素(例如,羟甲基纤维素)下涂层,以及类似于JP 59-101651A中描述的涂下涂层处理,其中涂覆含磺基的水溶性聚合物。
合适的亲水化处理的其他实例包括用以下各项将铝合金板涂下涂层的那些亲水化处理:JP 62-019494A中提到的磷酸盐,JP 62-033692A中提到的水溶性环氧化合物,JP 62-097892A中提到的磷酸改性的淀粉,JP63-056498A中提到的二胺化合物,JP 63-130391A中提到的氨基酸的无机或有机酸,JP 63-145092A中提到的含羧基或羟基的有机膦酸,JP63-165183A中提到的含氨基和膦酸酯基的化合物,JP 2-316290A中提到的特定羧酸衍生物,JP 3-215095A中提到的磷酸酯,JP 3-261592A中提到的具有的一个氨基和一个磷的含氧酸基团(phosphorus oxo acid group)的化合物,JP 3-215095A中提到的磷酸酯,JP 5-246171A中提到的脂族或芳族膦酸(例如,苯基膦酸),JP 1-307745A中提到的含有硫原子的化合物(例如,硫代水杨酸),以及JP 4-282637A中提到的含磷的含氧酸基团的化合物。
也可以进行如JP 60-64352A中提到的用酸染料的着色。
优选通过以下方法进行亲水化处理:包括在碱金属硅酸盐如硅酸钠或硅酸钾的水溶液中浸渍或电解的方法;包括用六氟锆酸钾处理的方法;以及包括提供亲水乙烯基聚合物或亲水化合物,例如,通过用聚乙烯基膦酸处理以形成亲水下涂层的方法。在聚乙烯基膦酸的水溶液中浸渍是优选的。
用碱金属硅酸盐如硅酸钠或硅酸钾的水溶液的亲水化处理可以根据US 2,714,066和US 3,181,461中描述的工艺和程序进行。
合适的碱金属硅酸盐的示例性实例包括硅酸钠、硅酸钾和硅酸锂。碱金属硅酸盐的水溶液还可以包含适当量的例如氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化锂。
碱金属硅酸盐的水溶液还可以包括碱土金属盐或第4族(第IVA族)金属盐。合适的碱土金属盐的实例包括硝酸盐如硝酸钙、硝酸锶、硝酸镁和硝酸钡;以及硫酸盐、盐酸盐、磷酸盐、乙酸盐、草酸盐和硼酸盐。示例性第4族(第IVA族)金属盐包括四氯化钛、三氯化钛、氟化钛钾、草酸钛钾、硫酸钛、四碘化钛、氯氧化锆、二氧化锆、二氯氧化锆以及四氯化锆。可以单独或以其中两种以上的组合使用这些碱土金属盐和第4族(第IVA族)金属盐。
可以用荧光X射线分析仪测量作为碱金属硅酸盐处理的结果吸附的硅的量,并且优选为约1.0至15.0mg/m2
碱金属硅酸盐处理具有提高平版印刷版载体的表面对在碱显影液中溶解的耐受性并抑制铝成分浸出至显影液中的效果,从而使得能够减少由于显影液疲劳而产生显影浮渣。
也可以根据JP 59-101651A和JP 60-149491A中描述的条件和程序进行用于形成亲水下涂层的亲水化处理。
这种方法中可以使用的亲水乙烯基聚合物包括:带磺基的乙烯基可聚合化合物如聚乙烯基磺酸或带磺基的对苯乙烯磺酸与传统的乙烯基可聚合化合物如烷基(甲基)丙烯酸酯的共聚物。可以在该方法中使用的亲水化合物的实例包括具有选自-NH2基团、-COOH基团和磺基中的至少一种基团的化合物。
<干燥>
在根据上述程序获得根据本发明的第一方面的平版印刷版原版中使用的载体之后,优选在载体上形成光敏层之前将载体的表面干燥。优选在最终表面处理结束后将载体用水冲洗并将水用轧辊移除之后进行干燥。
干燥温度优选为至少70℃,并且更优选至少80℃,但优选不大于110℃,并且更优选不大于100℃。
干燥时间优选为至少1秒,并且更优选至少2秒,但优选不大于20秒,并且更优选不大于15秒。
<溶液组成的控制>
在本发明的第一方面中,优选通过JP 2001-121837A中描述的方法控制在上述表面处理中使用的多种处理液的组成。这典型地包括首先制备大量的不同浓度的处理液样品,之后在两个溶液温度对每个样品测量超声波传播速度并且基于结果建立矩阵型数据表。在处理过程中,优选的是实时测量溶液温度和超声波传播速度,并基于这些测量控制浓度。尤其是在去污处理中使用具有250g/L以上硫酸浓度的电解液的情况下,通过以上方法控制浓度是尤其优选的。
电解砂目化处理和阳极氧化处理中使用的多种电解液优选具有不大于100ppm的铜浓度。如果铜浓度过高,当生产线停止时铜将沉积在铝合金板上。当生产线再次开始移动,所沉积的铜可能转移至传递辊,这可能引起不均匀的处理。
[光敏层]
光敏层形成在根据上述程序制备的载体上。如上所述,根据本发明的第一方面的平版印刷版原版的光敏层含有(A)增感染料,(B)聚合引发剂,(C)可聚合化合物和(D)粘合剂聚合物。
(A)增感染料
根据本发明的第一方面的光敏层含有增感染料。可以不带有特别限定地使用增感染料,只要当图像曝光时它吸收光以形成激发态并以电子传递、能量传递或热生成向下面描述的聚合引发剂提供能量,从而改善聚合引发作用即可。尤其是,优选使用在300至450nm或750至1,400nm的波长范围内具有吸收最大值的增感染料。
在350至450nm的波长范围内具有吸收最大值的增感染料的实例包括部花青染料、苯并吡喃、香豆素、芳族酮和蒽。
在360至450nm的波长范围内具有吸收最大值的增感染料中,在高灵敏度方面,由如下所示的通式(IX)表示的染料是更优选的。
[化学式1]
在通式(IX)中,A表示可以具有取代基的芳环基或可以具有取代基的杂环基,X表示氧原子、硫原子或N-(R3),并且R1、R2和R3各自独立地表示单价非金属原子团,或A和R1或R2和R3可以彼此连接以形成脂族或芳族环。
下面更详细地描述通式(IX)。R1、R2和R3各自独立地表示单价非金属原子团,优选:任选取代的烷基、任选取代的烯基、任选取代的芳基、任选取代的芳族杂环残基、任选取代的烷氧基、任选取代的烷基硫基、羟基或卤素原子。
下面描述通式(IX)中的A。A表示可以具有取代基的芳环基或可以具有取代基的杂环基。可以具有取代基的芳环基和可以具有取代基的杂环基的具体实例与对于通式(IX)中的R1,R2和R3描述的那些相同。
可以优选使用的增感染料的具体实例包括JP 2007-58170A的段落[0047]至[0053]中描述的化合物。
也可以使用由如下所示的通式(V)和(VI)表示的增感染料。
[化学式2]
[化学式3]
在式(V)中,R1至R14各自独立地表示:氢原子、烷基、烷氧基、氰基或卤素原子,条件是R1至R10中的至少一个表示具有2个以上碳原子的烷氧基。
在式(VI)中,R15至R32各自独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、氰基或卤素原子,条件是R15至R24中的至少一个表示具有2个以上碳原子的烷氧基。
可以优选使用的增感染料的具体实例包括EP 1349006A和WO2005/029187中描述的化合物。
也可以优选使用JP 2007-171406A、JP 2007-206216A、JP 2007-206217A、JP 2007-225701A、JP 2007-225702A、JP 2007-316582和JP2007-328243A中描述的增感染料。
接下来,详细描述可以在本发明的第一方面中优选使用的在750至1,400nm的波长范围内具有吸收最大值的增感染料(在下文中也称为“红外吸收剂”)。所使用的红外吸收剂优选为染料或颜料。
可以使用的染料包括商业染料和技术文献中提到的已知染料,所述技术文献例如为:Senryo Binran[染料手册](合成有机化学学会(The Societyof Synthetic Organic Chemistry),日本,1970)。合适的染料的示例性实例包括偶氮染料、金属配合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳染料、醌亚胺染料、次甲基染料、菁染料、方酸菁(squarylium)染料、吡喃盐和金属-硫醇化物配合物。在这些染料中,菁染料,方酸菁染料,吡喃盐,镍-硫醇化物配合物和假吲哚菁染料是特别优选的。此外,菁染料和假吲哚菁染料是更优选的,并且下面的通式(a)的菁染料是最优选的。
[化学式4]
通式(a)
在通式(a)中,X1是氢原子、卤素原子、-N(Ph)2、-X2-L1或以下基团。在上式中,Ph是苯基,X2是氧原子、氮原子或硫原子;L1是具有1至12个碳原子的烃基,具有杂原子(N、S、O、卤素原子、Se)的芳香环,或含有杂原子的1至12个碳原子的烃基。在以下基团中,Xa-以与在下面描述的Za-相同的方式的定义;并且Ra是选自氢原子、烷基、芳基、任选取代的氨基和卤素原子中的取代基。
[化学式5]
R1和R2各自独立地表示具有1至12个碳原子的烃基。为了光敏层用涂布液的良好的储存稳定性,R1和R2各自优选为具有至少两个碳原子的烃基。特别优选的是R1和R2连接在一起以形成5或6元环。
Ar1和Ar2可以是相同的或不同的,并且各自为可以被取代的芳族烃基。优选的芳族烃基包括苯和萘环。取代基的优选实例包括具有至多12个碳原子的烃基、卤素原子、以及具有至多12个碳原子的烷氧基。Y1和Y2可以是相同的或不同的,并且各自为硫原子或具有至多12个碳原子的二烷基亚甲基。R3和R4可以是相同的或不同的,并且各自为可以具有取代基的具有至多20个碳原子的烃基。取代基的优选的实例包括具有至多12个碳原子的烷氧基、羧基和磺基。R5、R6、R7和R8可以是相同的或不同的,并且各自为氢原子或具有至多12个碳原子的烃基。考虑到原材料的可得性,优选R5至R8中的每一个是氢原子。Za-表示抗衡阴离子。在通式(a)的菁染料在结构中具有阴离子取代基并且不需要电荷中和的情况下,Za-是不需要的。为了光敏层用涂布液的良好储存稳定性,Za-的优选实例包括卤离子、高氯酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子和磺酸根离子。这些之中,高氯酸根离子、六氟磷酸根离子和芳基磺酸根离子是最优选的。
在本发明的第一方面中可以优选使用的通式(a)的菁染料的具体实例包括JP 2001-133969A的段落[0017]至[0019]、JP 2002-023360A的段落[0012]至[0021]和JP 2002-040638A的段落[0012]至[0037]中描述的那些。
菁染料的其他优选的实例包括JP 2002-278057A中提到的特定的假吲哚菁染料。
可以使用的颜料包括商业颜料和技术文献中提到的颜料,如ColorIndex(C.I.)、Saishin Ganryo Binran[最新颜料手册](日本颜料技术学会(Japan Association of Pigment Technology),1977)、Saishin Ganryo OyoGijutsu[最新颜料应用技术(Recent Pigment Applications Technology)](CMC Publishing Co.,Ltd.,1986)以及Insatsu Inki Gijutsu[印刷墨技术](CMC Publishing Co.,Ltd.,1984)。优选可以使用的示例性颜料包括JP2008-195018A的段落[0072]至[0076]中描述的化合物。
基于光敏层的总固体含量,这些增感染料优选以0.05至30重量%,更优选0.1至20重量%,并且最优选0.2至10重量%的量加入。
(B)聚合引发剂
在本发明的第一方面中的光敏层含有聚合引发剂(在下文中也称为“引发剂化合物”)。在本发明的第一方面中,优选使用自由基聚合引发剂。
在本发明的第一方面中,可以不带限制地使用本领域技术人员已知的引发剂化合物。其具体实例包括三卤甲基化合物、羰基化合物、有机过氧化物、偶氮化合物、叠氮化合物、金属茂化合物、六芳基联咪唑化合物、有机硼化合物、二砜化合物、肟酯化合物、盐化合物和铁芳烃配合物。这些中,选自由六芳基联咪唑化合物、盐、三卤甲基化合物和金属茂化合物组成的组的至少一种化合物是优选的,并且六芳基联咪唑化合物是特别优选的。可以适当地以它们的两种以上的组合使用聚合引发剂。
六芳基联咪唑化合物的实例包括JP 45-37377B和JP 44-86516B中描述的洛粉碱二聚体,具体地,2,2′-双(o-氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(o-溴苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(o,p-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(o-氯苯基)-4,4′,5,5′-四(m-甲氧基苯基)联咪唑、2,2′-双(o,o′-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(o-硝基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑、2,2′-双(o-甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑和2,2′-双(o-三氟苯基)-4,4′,5,5′-四苯基联咪唑。
特别优选的是与具有300至450nm的波长范围内的吸收最大值的增感染料结合使用六芳基联咪唑化合物。
可以在本发明的第一方面中优选使用的盐的实例包括锍盐、碘盐和重氮盐。尤其是,二芳基碘盐和三芳基锍盐是优选使用的。特别优选的是与具有波长范围750至1,400nm内的吸收最大值的红外吸收剂结合使用盐。
可以优选使用的聚合引发剂的其他实例包括JP 2007-206217A的段落[0071]至[0129]中描述的那些。
优选单独使用本发明的第一方面中的聚合引发剂,或使用其两种以上的组合。
在本发明的第一方面中,基于光敏层的总固体含量,在光敏层中优选以0.01至20重量%,更优选0.1至15重量%并且再更优选1.0重量%至10重量%的量使用聚合引发剂。
(C)可聚合化合物
可以在本发明的第一方面中使用的可聚合化合物是具有至少一个烯键式不饱和双键的可加成聚合化合物,并且选自具有至少一个,并且优选两个以上的末端烯键式不饱和键的化合物。这种化合物具有多种化学形式,包括单体、预聚物如二聚体、三聚体和低聚物,以及以上各项中任一项的混合物。
示例性单体包括不饱和羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸)以及它们的酯和酰胺。在这些中,优选的是使用不饱和羧酸与多元醇化合物的酯或不饱和羧酸与多胺化合物的酰胺。优选也可以使用具有亲核取代基如羟基、氨基或巯基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能异氰酸酯或环氧化合物的加成反应产物;以上酯或酰胺与单官能或多官能羧酸的脱水缩合反应产物;具有亲电取代基如异氰酸酯或环氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的加成反应产物;或具有可离去取代基如卤素原子或甲苯磺酰基氧基的不饱和羧酸酯或酰胺与单官能或多官能醇、胺或硫醇的取代反应产物。此外,也可以使用其中用合适的化合物如不饱和膦酸、苯乙烯或乙烯基醚代替上述不饱和的羧酸的化合物组。
可以作为单体使用的多元醇化合物与不饱和羧酸的酯的具体实例包括:丙烯酸酯如二丙烯酸乙二醇酯,二丙烯酸1,3-丁二醇酯,二丙烯酸四亚甲基二醇酯,二丙烯酸丙二醇酯,三丙烯酸三羟甲基丙烷酯,二丙烯酸己二醇酯,二丙烯酸四甘醇酯,四丙烯酸季戊四醇酯,三丙烯酸山梨糖醇酯,异氰脲酸环氧乙烷(EO)改性的三丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯低聚物;以及甲基丙烯酸酯如二甲基丙烯酸四亚甲基二醇酯,二甲基丙烯酸新戊二醇酯,三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯,二甲基丙烯乙二醇酯,三甲基丙烯酸季戊四醇酯,双[对(3-甲基丙烯酰基氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷和双[对(甲基丙烯酰基氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷。可以用作单体的多胺化合物与不饱和羧酸的酰胺的具体实例包括:亚甲基双(丙烯酰胺)、亚甲基双(甲基丙烯酰胺)、1,6-六亚甲基双(丙烯酰胺)、1,6-六亚甲基双(甲基丙烯酰胺)、二亚乙基三胺三(丙烯酰胺)、亚二甲苯基双(丙烯酰胺)和亚二甲苯基双(甲基丙烯酰胺)。
使用异氰酸酯基与羟基之间的加成反应制备的氨基甲酸乙酯型可加成聚合化合物也是适宜的。具体实例包括如JP 48-41708B中提到的每分子具有两个以上可聚合乙烯基的乙烯基氨基甲酸乙酯化合物,其通过将下面的通式(A)的带羟基的乙烯基单体加入至每分子具有两个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯化合物而获得。
CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH  (A)
在通式(a)中,R4和R5各自为H或CH3
聚氨酯丙烯酸酯如JP 51-37193A、JP 2-32293B和JP 2-16765B中提到的那些,以及JP 58-49860B、JP 56-17654B、JP 62-39417B和JP62-39418B中提到的具有环氧乙烷型骨架的氨基甲酸乙酯化合物也是合适的。
如JP 2007-506125A中描述的能够进行光氧化的可聚合化合物也是优选的,并且含有至少一个脲基团和/或叔氨基的可聚合化合物是特别优选的。其具体实例包括以下化合物。
[化学式6]
关于可聚合化合物的使用细节,例如,它应具有什么类型的结构,是单独使用一种这种化合物,还是使用其两种以上的组合,以及添加量,可以根据对于平版印刷版原版最终预期的性能特征按需要选择。基于光敏层的总固体含量,优选使用的可聚合化合物的量为5至75重量%,更优选25至70重量%和最优选30至60重量%。
(D)粘合剂聚合物
根据本发明的第一方面的光敏层含有粘合剂聚合物。使用能够保持载体上光敏层的成分并且能够用显影液移除的聚合物作为粘合剂聚合物。可以使用的粘合剂聚合物的实例包括:(甲基)丙烯酸类聚合物、聚氨酯树脂、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、聚酰胺树脂、聚酯树脂和环氧树脂。尤其是,优选使用(甲基)丙烯酸类聚合物、聚氨酯树脂和聚乙烯醇缩丁醛树脂。
如在本发明的第一方面中所使用的术语“(甲基)丙烯酸类聚合物”意指含有以下各项作为聚合成分的共聚物:(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸衍生物,例如,(甲基)丙烯酸酯(包括,例如,烷基酯、芳基酯和烯丙基酯)、(甲基)丙烯酰胺或(甲基)丙烯酰胺衍生物。如本文所使用的术语“聚氨酯树脂”意指通过具有两个以上异氰酸酯基的化合物与具有两个以上羟基的化合物的缩合反应形成的聚合物。如本文所使用的术语“聚乙烯醇缩丁醛树脂”意指通过由聚乙酸乙烯酯的部分或完全皂化获得的聚乙烯醇与丁基醛在酸性条件下的反应(缩醛化反应)合成的聚合物,并且包括其中通过使余下的羟基与具有酸基团等的化合物反应的方法引入酸基团等的聚合物。
根据本发明的第一方面的粘合剂聚合物的优选实例包括含有含酸基团的重复单元的共聚物。酸基团的实例包括:羧酸酯基,磺酸酯基,膦酸酯基,磷酸酯基和亚磺酰氨基,并且羧酸酯基是特别优选的。优选使用衍生自(甲基)丙烯酸的重复单元或由下面的通式(I)表示的重复单元。
[化学式7]
在通式(I)中,R1表示氢原子或甲基,R2表示单键或(n+1)价连接基团,A表示氧原子或-NR3-,其中R3表示氢原子或具有1至10个碳原子的单价烃基,并且n表示1至5的整数。
通式(I)中的由R2表示的连接基团优选包含选自氢原子、氧原子、氮原子、硫原子和卤素原子的一个或多个原子,并且原子数优选为1至80个。连接基团的具体实例包括亚烷基、取代的亚烷基、亚芳基和取代的亚芳基。连接基团可以具有其中多个这种二价基团经由酰胺键或酯键彼此连接的结构。R2优选为单键、亚烷基或取代的亚烷基,更优选单键、具有1至5个碳原子的亚烷基或具有1至5个碳原子的取代的亚烷基,并且最优选单键、具有1至3个碳原子的亚烷基或具有1至3个碳原子的取代的亚烷基。
取代基的实例包括除氢原子外的单价非金属原子团,例如,卤素原子(-F、-Br、-Cl或-I)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、酰基、羧基及其共轭碱基团、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、芳基、烯基和炔基。
R3优选为氢原子或具有1至5个碳原子的烃基,更优选氢原子或具有1至3个碳原子的烃基,并且最优选氢原子或甲基。n优选为1至3,更优选1或2,并且最优选1。
在可显影性方面,含羧酸基团的共聚成分与粘合剂聚合物的全部共聚成分的比例(摩尔%)优选为1至70%。考虑到可显影性与印刷寿命之间的良好的相容性,该比例更优选1至50%,并且最优选1至30%。
含羧酸基团的单元的优选的具体实例包括以下各项。
[化学式8]
此外,可以将作为在本发明的第一方面中的粘合剂聚合物的优选实例的含酸基团的聚合物中的酸基团用碱性化合物中和,并且特别优选用含有碱性氮如氨基、脒基或胍基的化合物中和。含碱性氮的化合物优选还具有烯键式不饱和基团。这种化合物的具体实例包括WO 2007/057442中描述的那些。
在本发明的第一方面中,优选使用(甲基)丙烯酸与(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物。特别优选的是使用(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸甲酯的共聚物。
在本发明的第一方面中可以使用的粘合剂聚合物优选还含有可交联基团。如本文所使用的可交联基团是指可以在自由基聚合反应的过程中交联粘合剂聚合物的基团,所述自由基聚合反应当平版印刷版原版曝光时在光敏层中被引发。对可交联基团没有特别地限定,只要它具有这种功能即可,并且可以进行加成聚合反应的示例性官能团包括:具有烯键式不饱和键的基团、氨基和环氧基。可以使用当曝光时可以形成自由基的官能团,并且这种可交联基团的实例包括硫醇基和卤素基团。这些中,具有烯键式不饱和键的基团是优选的。具有烯键式不饱和键的基团的实例包括苯乙烯基、(甲基)丙烯酰基和烯丙基。
粘合剂聚合物例如通过以下方式固化:自由基(聚合引发基,或可聚合化合物的聚合过程中的增长基)与聚合物上的可交联官能团加成以实现聚合物之间的直接加成聚合,或经由可聚合化合物的链式聚合,以便在聚合物分子之间形成交联。备选地,当聚合物中的原子(例如,与可交联官能团相邻的碳原子上的氢原子)被自由基拉出时,形成连接在一起的聚合物自由基,使得聚合物分子之间的交联形成,具有可交联性的粘合剂聚合物被固化。
粘合剂聚合物中的可交联基团含量(可自由基聚合的不饱和双键的含量,按通过碘量滴定法测定的)为每克的粘合剂聚合物优选0.01至10.0mmol,更优选0.05至5.0mmol,并且最优选0.1至2.0mmol。
除含酸基团的聚合单元和含可交联基团的聚合单元之外,在本发明的第一方面中可以使用的粘合剂聚合物可以含有(甲基)丙烯酸烷基酯或(甲基)丙烯酸芳烷基酯的聚合单元。(甲基)丙烯酸烷基酯中的烷基优选为具有1至5个碳原子的烷基,并且更优选甲基。(甲基)丙烯酸苄酯被用作芳烷基(甲基)丙烯酸酯。
粘合剂聚合物的重均分子量优选为至少5,000,并且更优选10,000至300,000,并且具有优选至少1,000,并且更优选2,000至250,000的数均分子量。多分散度(重均分子量/数均分子量)优选为1.1至10。
可以单独使用粘合剂聚合物或使用其两种以上的组合。在图像区中的高强度和良好的图像形成性方面,粘合剂聚合物的含量为基于光敏层的总固体含量优选5至75重量%,更优选10至70重量%,并且再更优选10至60重量%。
可聚合化合物和粘合剂聚合物的总含量为基于光敏层的总固体含量优选至多80重量%。总含量超过80重量%可能降低灵敏度和可显影性。总含量更优选为35至75重量%。
根据本发明的第一方面,通过控制平版印刷版原版的光敏层中含有的可聚合化合物与粘合剂聚合物的比例进一步提高显影液至光敏层中的渗透性和可显影性。具体地,光敏层中可自由基聚合化合物与粘合剂聚合物的重量比优选为1.2以上,更优选1.25至4.5,并且最优选2至4。
(用于光敏层的其他成分)
光敏层可以还含有链转移剂。例如,在它们的分子中具有SH、PH、SiH或GeH的化合物被用作链转移剂。这些化合物将氢给予至活性较低的自由基物种以产生自由基,或被氧化并且之后去质子化以生成自由基。
尤其是,根据本发明的第一方面,硫醇化合物(例如,2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并唑、3-巯基三唑和5-巯基四唑)可以优选用于光敏层中的链转移剂。
根据本发明的第一方面的光敏层可以任选地还含有多种添加剂。添加剂的实例包括用于提高可显影性并改善涂覆层的表面状态的表面活性剂,用于提供可显影性与印刷寿命之间良好相容性的微胶囊,用于提高可显影性和微胶囊的分散稳定性的亲水聚合物,用于将图像区与非图像区在视觉上区分的着色剂或印出剂,用于防止可自由基聚合化合物在光敏层的制备和储存过程中不适宜的热聚合的聚合抑制剂,用于避免归因于氧的聚合抑制的高级脂肪酸衍生物,用于提高固化膜中图像区的强度的无机细粒,用于提高可显影性的亲水低分子量化合物,用于增加灵敏度的共增感剂,用于提高可塑性的链转移剂和增塑剂。可以使用已知化合物,例如,JP2007-206217A的段落[0161]至[0215]中描述的化合物用于添加剂。
<光敏层的形成>
在本发明的第一方面中,通过将上面描述的所需成分分散或溶解在溶剂中以制备涂布液并将从而制备的涂布液涂覆至载体以形成光敏层。可以使用的溶剂的实例包括,但是不限于,甲基乙基酮、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙基酯和γ-丁内酯。可以单独使用这些溶剂或作为它们的两种以上的混合物使用。涂布液具有优选1至50重量%的固体浓度。
在涂布和干燥之后在载体上获得的光敏层具有0.3至3.0g/m2的涂布重量(固体含量)。在涂布重量在该范围内的情况下,可获得好的涂布性能。可以使用多种涂布方法中的任一种。涂布的合适的方法的实例包括棒涂、旋涂、喷涂、幕涂、浸涂、气刀刮涂、刮板涂布和辊涂。
[保护层]
在本发明的第一方面中的平版印刷版原版中,保护层(阻氧层)被设置在光敏层上以便防止曝光时可能抑制聚合反应的氧的扩散和渗透。在保护层中可以使用的示例材料包括具有相对高的可结晶性的的水溶性聚合物化合物。具体地,当使用聚乙烯醇作为主要成分时,在基本性能,例如,隔氧性和显影过程中保护层的可移除性上可以获得最好的结果。
只要用于在保护层中使用的聚乙烯醇包含向保护层提供所需的隔氧性和水溶性的未取代的乙烯醇单元,一些乙烯醇单元可以被酯、醚或缩醛取代。聚乙烯醇还可以部分地具有其他共聚物成分。聚乙烯醇可以通过聚乙酸乙烯酯的水解获得。聚乙烯醇的具体实例包括具有71至100摩尔%的水解度以及300至2,400的重复聚合物单元数的那些。其具体实例包括PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-405、PVA-420、PVA-613和L-8(Kuraray Co.,Ltd.)。聚乙烯醇可以单独使用或作为混合物使用。在一个优选的实施方案中,保护层中的聚乙烯醇含量为20至95重量%,并且更优选30至90重量%。
还优选使用已知的改性聚乙烯醇。尤其是,优选使用具有羧酸酯基或磺酸酯基的酸改性的聚乙烯醇。在隔氧性和显影过程中保护层的可移除性方面,优选使用如聚乙烯基吡咯烷酮或其改性产物的成分作为与聚乙烯醇的混合物。其在保护层中的含量为3.5至80重量%,优选10至60重量%并且再更优选15至30重量%。
通过以数个重量%的量将例如甘油、一缩二丙二醇等添加至(共)聚合物,可以赋予保护层柔韧性。此外,可以以以相对于(共)聚合物数个重量%的量加入阴离子表面活性剂如烷基硫酸钠和烷基磺酸钠;两性表面活性剂如烷基氨基羧酸酯和烷基氨基二羧酸酯;以及非离子表面活性剂如聚氧乙烯烷基苯基醚。
本发明的第一方面中的平版印刷版原版的保护层含有如JP2006-106700A的段落[0018]至[0024]中描述的无机层状化合物以便提高光敏层的隔氧性和表面防护性。在无机层状化合物中,作为合成无机层状化合物的含氟溶胀合成云母是特别可用的。
当包含无机层状化合物时,保护层干燥之后的涂布重量优选为0.05至10g/m2,更优选0.1至0.5g/m2,并且当不包含无机层状化合物时,再更优选0.5至5g/m2
[下涂层]
在本发明的第一方面中的平版印刷版原版中,可以将下涂层(也称为“中间层”)设置在光敏层与载体之间。
优选使用含具有酸基团如膦酸、磷酸或磺酸的化合物的下涂层。化合物优选还含有可聚合基团以便提高对光敏层的附着性。具有亲水基团如环氧乙烷基团的化合物也是优选的化合物。
化合物可以是低分子量聚合物或高分子量聚合物。优选的实例包括如JP 10-282679A中描述的具有可加成聚合烯键式双键反应性基团的硅烷偶联剂,以及如JP 2-304441A中描述的具有烯键式双键反应性基团的磷化合物。
如JP 2005-238816A、JP 2005-125749A、JP 2006-239867A和JP2006-215263A中描述的,含具有可交联基团(优选烯键式不饱和键基团)、能够与载体的表面相互作用的官能团以及亲水基团的低分子量化合物或高分子量化合物的下涂层是最优选的下涂层。
下涂层的涂布重量(固体含量)优选为0.1至100mg/m2,并且更优选1至30mg/m2
<背涂层>
在载体上的表面处理或在载体上形成下涂层之后,可以任选地在载体的背表面上形成背涂层。
背涂层优选包括,例如,JP 5-45885A中描述的包含有机聚合物化合物的层,以及如JP 6-35174A中描述的包含通过有机金属化合物或无机金属化合物的水解和缩聚获得的金属氧化物的涂层。这些中,使用硅的烷氧基化合物,例如,Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4或Si(OC4H9)4是优选的,因为原材料是廉价的并且易得的。
[制版方法]
通过对本发明的第一方面中的平版印刷版原版进行图像曝光和显影而制备平版印刷版。显影通过包括用显影液显影的方法(1)和包括随着润版液和/或墨的加入而在印刷机上显影的方法(2)(机上显影)进行,但在本发明的第一方面中没有特别地限定。
[显影液]
对可以在制备平版印刷版的方法中使用的显影液没有特别地限定,并且优选使用含有无机碱盐和表面活性剂并具有11至13的pH的显影液,或者含有表面活性剂和/或水溶性聚合物并具有2至11的pH的显影液(描述在JP 2007-079136A中)。
可以适当地使用以下无机碱试剂作为无机碱盐,如氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铵、氢氧化锂、硅酸钠、硅酸钾、硅酸铵、硅酸锂、三代磷酸钠、三代磷酸钾、三代磷酸铵、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、硼酸钠、硼酸钾和硼酸铵。这些可以单独使用或以两种以上的组合使用。
当使用硅酸盐时,可以通过改变硅酸盐成分二氧化硅SiO2和碱的氧化物(alkali oxide)M2O(M表示碱金属或铵基团)之间的比例及其浓度而容易地调整可显影性。二氧化硅SiO2与碱的氧化物M2O在碱水溶液中的混合比(SiO2与M2O的摩尔比)优选为0.5至3.0和更优选1.0至2.0。在SiO2/M2O比小于0.5的情况下,相对于碱水溶液重量的浓度优选为1至10重量%,更优选3至8重量%和最优选4至7重量%。1重量%以上的浓度不降低可显影性和处理能力,而10重量%以下的浓度几乎不导致沉淀或结晶,并且在废水处理上没有困难,因为该废水在被中和时更不易于凝胶化。
可以作为组合补充使用有机碱试剂以便帮助细调碱浓度和光敏层的溶解度。有机碱试剂的实例包括:单乙胺、二甲胺、三甲胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺、三异丙胺、正丁胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、吖丙啶、乙二胺、吡啶以及氢氧化四甲基铵。这些碱试剂可以单独使用或以其两种以上的组合使用。
可以适当地使用表面活性剂。对在根据本发明的第一方面的显影液中可以使用的阴离子表面活性剂没有特别地限定,并且其实例包括脂肪酸盐、松香酸盐、羟基链烷磺酸盐、链烷磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基二苯基醚(二)磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚盐、N-甲基-N-油烯基牛磺酸钠盐、N-烷基磺基琥珀酸单酰胺二钠盐、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛油、脂肪酸烷基酯的硫酸酯盐、烷基硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯盐、脂肪酸单甘油酯硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸酯盐、烷基磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸酯盐、苯乙烯-马来酸酐共聚物的部分皂化产物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化产物以及萘磺酸酯福尔马林缩合物。这些中,烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐以及烷基二苯基醚(二)磺酸盐是最优选使用的。
对于可以在根据本发明的第一方面的显影液中使用的阳离子表面活性剂没有特别地限定,并且可以使用传统已知的表面活性剂。其实例包括烷基胺盐、季铵盐、聚氧乙烯烷基胺盐和聚乙烯多胺衍生物。
对于在根据本发明的第一方面的显影液中可以使用的非离子表面活性剂没有特别地限定,并且其实例包括聚乙二醇型高级醇环氧乙烷加合物、烷基苯酚环氧乙烷加合物、烷基萘酚环氧乙烷加合物、苯酚环氧乙烷加合物、萘酚环氧乙烷加合物、脂肪酸环氧乙烷加合物、多羟基醇脂肪酸酯环氧乙烷加合物、高级烷基胺环氧乙烷加合物、脂肪酸酰胺环氧乙烷加合物、脂肪和油的环氧乙烷加合物、聚丙二醇环氧乙烷加合物、二甲基硅氧烷-环氧乙烷嵌段共聚物、二甲基硅氧烷-(环氧丙烷-环氧乙烷)嵌段共聚物、多羟基醇型甘油的脂肪酸酯、季戊四醇的脂肪酸酯、山梨糖醇和脱水山梨醇的脂肪酸酯、蔗糖的脂肪酸酯、多羟基醇的烷基醚以及烷醇胺的脂肪酸酰胺。在这些化合物中,那些具有芳族环和环氧乙烷链的是优选的,并且烷基取代的或未取代的苯酚环氧乙烷加合物和烷基取代的或未取代的萘酚环氧乙烷加合物是更优选的。
对两性表面活性剂没有特别地限定,并且其实例包括包含烷基二甲基氧化胺的氧化胺型表面活性剂,包含烷基甜菜碱的甜菜碱型表面活性剂和包含烷基氨基脂肪酸的钠盐的氨基酸型表面活性剂。
尤其是,优选使用:可以具有取代基的烷基二甲基氧化胺、可以具有取代基的烷基羧基甜菜碱和可以具有取代基的烷基磺基甜菜碱。可以使用的表面活性剂的具体实例描述在例如JP 2008-203359A的段落[0255]至[0278]和JP 2008-276166A的段落[0028]至[0052]中。
可以组合使用两种以上的表面活性剂,并且显影液中表面活性剂的含量优选为0.01至20重量%,并且更优选0.1至10重量%。
在显影液中可以使用JP 2007-079136A中描述的水溶性聚合物化合物。
对于可以用于制备本发明的第一方面中的平版印刷版的显影液的pH没有特别地限定,并且优选为11.0至12.7,并且更优选11.5至12.5。
显影液优选具有3至30mS/cm的电导率。3mS/cm以上的电导率使得能够可靠地溶解铝载体的表面上的可光聚合光敏层,并且在印刷中无污点。30mS/cm以下的电导率不过分增加盐浓度,从而防止可光聚合光敏层的溶解速率极大地下降,也不使在未曝光区中出现残留膜。显影液特别优选具有5至20mS/cm的电导率。
根据本发明的第一方面的平版印刷版通过常规方法显影,例如,通过将已曝光的平版印刷版浸渍在0至60℃并且优选约15至40℃的温度的显影液中,并且将其用刷摩擦。
此外,当使用自动显影机显影平版印刷版时,显影液随着处理量变疲乏,并且因此可以通过使用补充液或新显影液恢复处理能力。
对以这种方式显影的平版印刷版进一步进行后处理,如JP 54-8002A,JP 55-115045A和JP 59-58431A中描述的,使用冲洗水、含有表面活性剂的冲洗溶液或含有阿拉伯树胶或淀粉衍生物的减敏溶液。在本发明的第一方面中,可以以不同组合使用平版印刷版的后处理。
通过使用高水溶性成分,也可以将平版印刷版的光敏层溶解在中性水或弱碱性水中,并且具有这种结构的平版印刷版也可以用2至11的pH的显影液显影。在使用2至10的pH的显影液的情况下,可以不进行使用冲洗水或减敏溶液的后处理。
此外,当光敏层呈现为可溶解在中性水或弱碱性水中时,机上显影是可能的,并且也可以将该光敏层使用在其中在安装在印刷机上之后在所述印刷机上进行曝光和显影的系统中。这种系统在JP 2005-119273A、JP2006-256035A和JP 2005-14347A中有详细描述。
此外,在由本发明的第一方面中的平版印刷版原版制备平版印刷版的过程中,可以任选地将版的整个表面在曝光之前、曝光过程中或曝光至显影之间的期间加热。这种加热可以有益于促进光敏层中的图像形成反应,提高灵敏度和印刷寿命,并且使灵敏度稳定化。此外,还有效的是对已显影的图像的整个表面进行后加热或曝光,以便提高图像强度和印刷寿命。通常,预显影加热优选在150℃以下的温和条件下进行。过高的温度引起未曝光区的固化或其他问题。在后显影加热中使用非常严苛的条件。加热温度通常在100至500℃的范围内。过低的温度不具有足够的图像增强效果,而过高的温度导致如载体的劣化和图像区的热分解的问题。
在显影工序之前,将平版印刷版原版通过具有例如线图像或网点图像的透明底片(original)暴露至激光束,或将其通过使用数字数据扫描的激光束图像式曝光。
优选可以使用的适宜的光源的波长在300nm至450nm或750nm至1,400nm的范围内。在300nm至450nm的波长范围内使用的平版印刷版原版具有含有吸收最大值在该范围内的增感染料的光敏层,并且在750nm至1,400nm的波长范围内使用的平版印刷版原版含有红外吸收剂,所述红外吸收剂是在该范围内具有吸收的增感染料。在波长性质和成本方面,半导体激光器并且尤其是AlGaInN半导体激光器(可商购InGaN半导体激光器;5至30mW)适合于300nm-450nm光源。发射红外辐射的固态激光器和半导体激光器适合于750nm-1,400nm光源。所使用的曝光机制可以是内表面鼓型、外表面鼓型和平床型中的任一种。
将在以上处理之后获得的平版印刷版安装在胶版印刷机上,并且用于印刷大量的印件(impressions)。
接下来,描述本发明的第二方面。
本发明的第二方面的平版印刷版原版包括含有(E)红外吸收染料和(F)疏水热塑性粒子并形成在载体上的图像记录层,并且其特征在于载体由铝合金板制备,其中等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物的表面密度为35,000pcs/mm2以上。
如上所述,具有疏水热塑性聚合物粒子的图像记录层是这样的图像记录层:其中排列疏水热塑性聚合物粒子,并且因此水分易于由于环境空气或其他因素而结合到图像记录层中。图像记录层中归因于环境气体等的水分和由水分阴离子化的亲水成分(在下文中简称为“阴离子”)的存在引起铝合金板的腐蚀,从而显示微小腐蚀污点。
本发明的发明人发现,在图像记录层中包含大量的亲水成分的情况下,在铝合金板的表面上存在的带有大等效圆直径的金属间化合物更倾向于充当用于铝合金板的腐蚀的起始点,并且当存在等效圆直径超过1μm的金属间化合物时,该倾向显著。
在含有表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板中,在铝合金板的表面上存在的等效圆直径大于1μm的金属间化合物粒子的数目极小,并且从而在图像记录层含有大量的亲水成分的情况下,可以抑制铝合金板的腐蚀和由其产生的微小腐蚀污点。
在抑制微小腐蚀污点方面,等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物优选在铝合金板的表面以50,000pcs/mm2以上的密度存在。
如在本发明的第一方面中所述的,通过使用含有表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板,电解砂目化表面的均匀性提高。
如上所述,在抑制微小腐蚀污点方面,存在于铝合金板的表面上的等效圆直径大于1μm的金属间化合物粒子的数目优选小。更具体地,在铝合金板的表面处的等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子的数目优选为至多2,500pcs/mm2和更优选至多1,500pcs/mm2
铝合金板的表面上的金属间化合物粒子的数目和密度可以通过在本发明的第一方面中所描述的方法测量。
与本发明的第一方面中相同,在本发明的第二方面中可以使用的铝合金板含有至少99重量%的铝并且还含有选自由以下各项组成的组的至少一种元素作为痕量元素:Si、Fe、Ni、Mn、Cu、Mg、Cr、Zn、Bi、Ti和V。在一个优选的实施方案中,铝合金板含有Al、Si和Fe作为其主要成分。
与在本发明的第一方面中相同,在含有Al、Si和Fe作为其主要成分的铝合金板的优选实施方案中,铝合金板中存在的金属间化合物的具体实例包括Al-Fe金属间化合物如Al3Fe和Al6Fe,以及AlFeSi金属间化合物如α-AlFeSi和β-AlFeSi。
如上所述,在含有Al、Si和Fe作为其主要成分的铝合金板的优选实施方案中,Al-Fe金属间化合物如Al3Fe和Al6Fe,以及AlFeSi金属间化合物如α-AlFeSi和β-AlFeSi中的一个或两者都存在于铝合金板中。
已经发现,在这些金属间化合物中,在图像记录层含有大量的亲水成分的情况下,Al-Fe金属间化合物充当用于铝合金板的腐蚀的起始点,并且在抑制微小腐蚀污点方面,铝合金板优选以小量含有Al-Fe金属间化合物。更具体地,铝合金板的Al-Fe金属间化合物优选具有至多400cps的用X射线衍射仪(XRD)测量的峰计数值,并且尤其是Al3Fe和Al6Fe两者都优选具有至多400cps的峰计数值。
通过将铝合金板放置在X射线衍射仪(例如,RAD-rR(12kW回转对阴极型;Rigaku Corporation)中并在以下条件下测量,确定Al-Fe金属间化合物的峰计数值。
*设定管电压:50kV;
*设定管电流:200mA;
*取样间隔:0.01°;
*扫描速率:1°/分钟;
*2θ扫描范围:10°至70°;并且
*使用石墨单色器。
在抑制微小腐蚀污点方面,铝合金板的Al-Fe金属间化合物优选具有至多200cps的峰计数值,并且尤其是Al3Fe和Al6Fe两者优选具有至多200cps的峰计数值。
另一方面,发现Al-Fe-Si金属间化合物如α-AlFeSi和β-AlFeSi与Al-Fe金属间化合物相比不易于充当用于铝合金板腐蚀的起始点。
已经发现,在这些金属间化合物中,在图像记录层含有大量的亲水成分的情况下,Al-Fe金属间化合物充当用于铝合金板的腐蚀的起始点,并且在抑制微小腐蚀污点方面,铝合金板优选大量含有Al-Fe-Si金属间化合物(尤其是α-AlFeSi)。更具体地,铝合金板的Al-Fe-Si金属间化合物(尤其是α-AlFeSi)优选具有用X射线衍射仪(XRD)测量的30cps以上,并且更优选50cps以上的峰计数值。
<铝合金板(轧制铝)>
可以在本发明的第二方面使用的铝合金板的优选实施方案及其制备程序(连续铸造和轧制工艺)与在本发明的第一方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
<表面粗糙化处理>
可以在根据本发明的第二方面的平版印刷版原版中使用的载体可以通过以下方法制备:对通过上述连续铸造步骤和按所需进行的多个步骤(例如,中间退火步骤、冷轧制步骤)获得的铝合金板的表面进行表面粗糙化处理。
表面粗糙化处理和表面粗糙化处理之后的多个其他处理(例如,阳极氧化处理)与在本发明的第一方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
在本发明的第二方面中,如JP 2-57391A中描述的,优选使用磷酸溶液作为阳极氧化处理中的电解液。根据JP 2-57391A中描述的方法,使用磷酸溶液作为电解液,并且使用磷酸溶液作为电解液在以下条件下进行阳极氧化处理:15至45重量%的磷酸浓度;20至70℃的电解液温度;2.0A·分钟/dm2以上的电流密度;50V以上的电压;以及15秒至3分钟的电解时间。
通过进行上述程序,可以形成阳极氧化膜,其中阳极氧化膜的表面层中的平均孔径(平均表面孔径)为10至75nm并且优选20至50nm,并且孔内最大直径的平均值(孔最大直径的平均值)与平均表面孔径之比为1.1至3.0。
[图像记录层]
在本发明的第二方面中,在根据上述步骤形成的载体上形成图像记录层。如上所述,本发明的第二方面中的平版印刷版原版的图像记录层含有(E)红外吸收染料和(F)疏水热塑性粒子。
(E)红外吸收染料
本发明的第二方面中的图像记录层含有红外吸收染料。尤其是,优选使用在760至1,200nm的波长范围内具有吸收最大值的红外吸收染料。尤其是,优选使用作为在760至1,200nm的波长范围内具有吸收最大值的染料的红外吸收染料。
红外吸收染料的优选实例包括在本发明的第一方面中描述的红外吸收剂。可以使用的红外吸收染料是JP 2008-195018A的段落[0058]至[0087]中描述的化合物。
这些红外吸收染料可以单独使用,或者以它们的两种以上的组合使用,或者与除了红外吸收染料之外的红外吸收剂如颜料组合使用。可以优选使用的示例性颜料包括JP 2008-195018A的段落[0072]至[0076]中描述的化合物。
基于图像记录层的总固体含量,本发明的第二方面的图像记录层优选含有0.1至10.0重量%和更优选0.5至5.0重量%的量的增感染料。
(F)疏水热塑性粒子
本发明的第二方面中的图像记录层含有疏水热塑性粒子(也称为“疏水热塑性聚合物粒子”)。合适的疏水聚合物的具体实例包括:聚乙烯、聚(氯乙烯)、聚((甲基)丙烯酸甲酯)、聚((甲基)丙烯酸乙酯)、聚(偏二氯乙烯)、聚(甲基)丙烯腈、聚(乙烯基咔唑)、聚苯乙烯以及它们的共聚物。聚苯乙烯和聚(甲基)丙烯腈或它们的衍生物是非常优选的实施方案。
尤其是,热塑性聚合物以优选至少50重量%和更优选至少60重量%的量含有聚苯乙烯。
为了获得对清洁剂中可能使用的有机化学品如烃的高耐受性,热塑性聚合物优选以至少5重量%的量并且更优选至少30重量%的量含有含氮单体单元,或特征在于大于20的溶解度参数的单体单元,例如,(甲基)丙烯腈。这种含氮单体单元被描述在JP 2002-251005A中。
疏水热塑性聚合物最优选为以1/1至5/1,例如,2/1的苯乙烯与丙烯腈的重量比包含苯乙烯单元和丙烯腈单元的共聚物。
疏水热塑性聚合物粒子优选具有5,000至1,000,000g/mol的重均分子量。疏水热塑性聚合物粒子优选具有小于200nm并且更优选10至100nm的数均粒径。疏水热塑性聚合物粒子的量相对于图像记录层中含有的固体优选为20重量%至65重量%,更优选25重量%至55重量%,并且最优选30重量%至45重量%。
疏水热塑性聚合物粒子优选作为图像记录层形成用涂布液中的分散体存在,并且通过US 3,476,937中公开的方法制备。制备热塑性聚合物粒子的水性分散体的另一种优选方法包括将疏水热塑性聚合物溶解在水不相混的有机溶剂中,将所得到的溶液分散在水或水性介质中,并通过蒸发移除有机溶剂。
(亲水性树脂)
可以将亲水性树脂加入至本发明的第二方面的图像记录层中。亲水性树脂的添加不仅提高可显影性,而且也提高图像记录层自身的膜强度。优选的亲水性树脂包括具有亲水基团如羟基、羧基、羟乙基、羟丙基、氨基、氨基乙基、氨基丙基和羧基甲基的那些。
亲水性树脂的具体实例包括:阿拉伯树胶、酪蛋白、明胶、淀粉衍生物、羟甲基纤维素及其钠盐、乙酸纤维素、藻酸钠、乙酸乙烯酯-马来酸共聚物、苯乙烯-马来酸共聚物、聚丙烯酸及其盐、聚甲基丙烯酸及其盐、甲基丙烯酸羟乙酯的均聚物和共聚物、丙烯酸羟乙酯的均聚物和共聚物、甲基丙烯酸羟丙酯的均聚物和共聚物、丙烯酸羟丙酯的均聚物和共聚物、甲基丙烯酸羟丁酯的均聚物和共聚物、丙烯酸羟丁酯的均聚物和共聚物、聚乙二醇、羟基丙烯聚合物、聚乙烯醇、具有至少60重量%并且优选至少80重量%的水解度的水解聚乙酸乙烯酯、聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙烯基吡咯烷酮、丙烯酰胺均聚物和共聚物、甲基丙烯酰胺均聚物和共聚物、以及N-羟甲基丙烯酰胺均聚物和共聚物。
亲水性树脂优选以图像记录层的固体含量的5至40重量%的量并且更优选10至30重量%的量加入至图像记录层。当加入量在该范围内时,获得好的可显影性和膜强度。
当使用具有如上所述的热反应性官能团的颗粒聚合物时,本发明的第二方面的图像记录层还可以含有具有能够与颗粒聚合物中的热反应性官能团及其保护基反应的官能团的低分子量化合物。该化合物优选以5重量%至40重量%的量,并且最优选5重量%至20重量%的量加入至图像记录层。低于该范围的量在交联上有效性降低并且缩短印刷寿命,而高于该范围的量随时间劣化可显影性。下面描述可使用的化合物。
示例性低分子量化合物包括在分子中具有可聚合不饱和基团、羟基、羧基、羧酸酯基、酸酐基团、氨基、环氧基、异氰酸酯基或封闭的异氰酸酯基的那些。可以优选使用JP 2003-316021A中描述的化合物作为低分子量化合物。
(其他成分)
可以将不同于以上提到的那些的多种其他化合物任选地加入至本发明的第二方面中的图像记录层。例如,可以使用在可见光范围内具有较大吸收的的染料作为图像形成之后的图像着色剂,以便有利于在图像区与非图像区之间区分。具体实例包括Oil Yellow#101、Oil Yellow#103、Oil Pink#312、Oil Green BG、Oil Blue BOS、Oil Blue#603、Oil Black BY、Oil BlackBS和Oil Black T-505(Orient Chemical Industries Co.,Ltd.);以及VictoriaPure Blue、Crystal Violet(CI42555)、Methyl Violet(CI 42535)、Ethyl Violet、Rhodamine B(CI 145170B)、Malachite Green(CI 42000)、Methylene Blue(CI 52015),以及JP 62-293247A中提到的染料。还可以优选使用颜料如酞菁颜料、偶氮颜料和氧化钛。基于图像记录层形成用涂布液的总固体含量,添加量优选为0.01重量%至10重量%。此外,优选将成色化合物或褪色化合物加入至本发明的第二方面中的图像记录层中,以便增加已曝光的图像区和非图像区的清晰度。将无色染料(例如,内酯形式的隐色孔雀绿(Leucomalachite Green)、无色结晶紫(Leuco Crystal Violet)、结晶紫(Crystal Violet))和pH变色染料(例如,染料如乙基紫和维多利亚纯蓝BOH)与热酸发生剂如二偶氮化合物和二苯基碘盐一起使用。
在本发明的第二方面,适宜地加入少量的热聚合抑制剂以防止烯键式不饱和化合物在图像记录层用涂布液的制备或储存过程中不合乎需要的热聚合。热聚合抑制剂的合适的实例包括氢醌、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、连苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4,4′-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2′-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)和N-亚硝基-N-苯胲铝。热聚合抑制剂优选以基于组合物的总重量约0.01至5重量%的量加入。
为防止氧抑制聚合,可以将高级脂肪酸如山萮酸或山萮酸酰胺任选地加入至图像记录层,并且在涂布之后随着层的干燥其倾向于主要集中在图像记录层的表面。高级脂肪酸或其衍生物优选以图像记录层的总固体含量的约0.1重量%至约10重量%的量加入。
可以将增塑剂任选地加入至本发明的第二方面的图像记录层,以便赋予涂覆膜柔韧性。例如,可以使用聚乙二醇、柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二己酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯和油酸四氢糠基酯。
(图像记录层的形成)
本发明的第二方面的图像记录层可以用与用于本发明的第一方面中的光敏层相同的程序形成。可以用于制备涂布液的溶剂的具体实例包括,但是不限于,二氯乙烷、环己酮、甲基乙基酮、甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇单甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、二甲氧基乙烷、乳酸甲酯、乳酸乙酯、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、四甲基脲、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、环丁砜、γ-丁内酯、甲苯和水。这些溶剂可以单独使用或作为其两种以上的混合物使用。涂布液具有优选1至50重量%的固体浓度。
可以将用于提高涂布性能的表面活性剂如JP 62-170950A中描述的氟表面活性剂加入至图像记录层用涂布液。加入的量为图像记录层的总固体含量的优选0.01至1重量%,并且更优选0.05至0.5重量%。
涂布和干燥之后获得的载体上的图像记录层涂布重量(固体含量)依赖于所需的用途而变化,虽然0.4至5.0g/m2的量是通常优选的。低于该范围的涂布重量增加表观灵敏度但降低具有图像记录功能的图像记录层的膜特性。
(外涂层)
在根据本发明的第二方面的平版印刷版原版中,可以将外涂层形成在图像记录层上,以便防止图像记录层的表面被亲油物质污染或被划伤。可以在本发明的第二方面使用的外涂层可以在印刷过程中通过亲水印刷液如润版液容易地移除,并且含有选自亲水有机聚合物化合物的树脂。如本文所使用的亲水有机聚合物化合物具有在涂膜干燥之后的成膜能力,并且其具体实例包括:聚乙酸乙烯酯(具有65%以上的水解度)、聚丙烯酰基胺盐、聚丙烯酸共聚物及其碱金属盐或胺盐、聚甲基丙烯酸及其碱金属盐或胺盐、聚甲基丙烯酸共聚物及其碱金属盐或胺盐、聚丙烯酰胺及其共聚物、聚丙烯酸羟乙酯、聚乙烯基吡咯烷酮及其共聚物、聚乙烯基甲基醚、乙烯基甲基醚/马来酸酐共聚物、聚-2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙磺酸及其碱金属盐或胺盐、聚-2-丙烯酰胺-2-甲基-1-丙烷磺酸共聚物及其碱金属盐或胺盐、阿拉伯树胶、纤维蛋白衍生物(例如,羟甲基纤维素、羧基乙基纤维素、甲基纤维素等)及其改性物、白糊精、支链淀粉以及酶解醚化的糊精。依赖于预期目的可以以两种以上的组合使用这些树脂。
还可以将亲水光热转化剂加入至外涂层。在涂布水溶液的情况下,可以将非离子表面活性剂如聚氧乙烯壬基苯基醚和聚氧乙烯十二烷基醚加入至外涂层以便确保涂布均匀性。外涂层优选具有0.1至2.0g/m2的干燥涂布重量。涂布重量在该范围内,可以防止图像记录层的表面被亲油物质(例如,指纹)污染或被擦伤,而不劣化可显影性。
(图像形成和制版)
在本发明的第二方面中,图像通过热的作用形成在平版印刷版原版上。更具体地,可以通过用热记录头的直接图像式记录、用红外激光扫描曝光、用氙气放电灯泡的高强度闪光曝光、或用红外灯曝光,从而进行图像形成。用发射700至1,200nm的波长的红外辐射的半导体激光器或高功率固态红外激光器如YAG激光器曝光是适宜的。
接下来用摩擦部件在处理液的存在下摩擦具有形成在其上的图像的本发明的第二方面中的平版印刷版原版的表面,以移除非图像区中的图像记录层(在形成外涂层的情况下,外涂层也被同时移除)。在非图像区中露出亲水载体的表面,从而制备了平版印刷版。
在本发明的第二方面中可以使用的摩擦部件的实例包括无纺布、棉布、棉垫、毛皮(moulton)、橡胶刀和刷。
适合在本发明的第二方面中使用的处理液是亲水性处理液并且,例如,水或含有水作为其主要成分的水溶液是优选的,并且通常,与已知的润版液和含有表面活性剂(阴离子、非离子、阳离子或其他性质的)的水溶液具有相同组成的水溶液是特别优选的。本发明的处理液可以含有有机溶剂。可以含有的溶剂的实例包括脂族烃(例如,己烷、庚烷、Isopar-E、H、G(EssoChemical Ltd.)、汽油和煤油)、芳族烃(例如,甲苯和二甲苯)、卤化的烃(例如,三氯乙烯)和如下所述的极性溶剂。
极性溶剂的实例包括醇(例如,甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、苄醇、乙二醇单甲醚、2-乙氧基乙醇、二甘醇单乙醚、二甘醇单己醚、三甘醇单甲醚、丙二醇单乙醚、一缩二丙二醇单甲醚、聚乙二醇单甲醚、聚丙二醇和四甘醇),酮(例如,丙酮和甲基乙基酮),酯(例如,乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸丁酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、二甘醇乙酸酯和邻苯二甲酸二乙酯),以及其他溶剂(例如,磷酸三乙酯和磷酸三甲苯酯)。
当所使用的有机溶剂不溶于水中时,可以用表面活性剂将其溶剂化之后使用。在安全性和可燃性方面,该处理液中所要含有的溶剂适宜地具有少于40重量%的浓度。在本发明的第二方面中,可以有益地使用阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂之一作为用于在处理液中使用的表面活性剂,以便抑制发泡。
在根据本发明的第二方面的处理液中可以使用的阴离子表面活性剂的实例包括:烷基二苯基醚二磺酸盐、脂肪酸盐(aliphates)、松香酸盐、羟基链烷磺酸盐、链烷磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚的盐、N-甲基-N-油烯基牛磺酸钠、N-烷基磺基琥珀酸单酰胺二钠盐、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛油、脂族烷基酯的硫酸酯盐、烷基硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯、脂族单甘油酯的硫酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯盐、烷基磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯盐、苯乙烯-马来酸酐共聚物的部分皂化产物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化产物以及萘磺酸酯福尔马林缩合物。这些阴离子表面活性剂中,烷基二苯基醚磺酸盐、二烷基磺基琥珀酸盐、烷基硫酸酯的盐和烷基萘磺酸盐是特别优选的。
合适的阴离子表面活性剂的具体实例包括:十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化的萘磺酸钠盐、亚甲基-二萘-二磺酸二钠、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基二苯基醚二磺酸钠、全氟烷基磺酸铵或钾以及二辛基磺基琥珀酸钠。
在根据本发明的第二方面的处理液中可以使用的非离子表面活性剂的实例包括:聚乙二醇型高级醇环氧乙烷加合物、烷基苯酚环氧乙烷加合物、脂肪酸环氧乙烷加合物、多羟基醇脂肪酸酯环氧乙烷加合物、高级烷基胺环氧乙烷加合物、脂肪酸酰胺环氧乙烷加合物、脂肪和油的环氧乙烷加合物、聚丙二醇环氧乙烷加合物、二甲基硅氧烷-环氧乙烷嵌段共聚物、二甲基硅氧烷-(环氧丙烷-环氧乙烷)嵌段共聚物、多羟基醇型甘油的脂肪酸酯、季戊四醇的脂肪酸酯、山梨糖醇和脱水山梨醇的脂肪酸酯、蔗糖的脂肪酸酯、多羟基醇的烷基醚以及烷醇胺的脂肪酸酰胺。可以单独或以两种以上的组合使用这些非离子表面活性剂。在本发明的第二方面中,山梨糖醇和/或脱水山梨醇脂肪酸酯环氧乙烷加合物、聚丙二醇环氧乙烷加合物、二甲基硅氧烷-环氧乙烷嵌段共聚物、二甲基硅氧烷-(环氧丙烷-环氧乙烷)嵌段共聚物以及多羟基醇的脂肪酸酯是更优选的。
在稳定的溶解性或相对于水的浊度方面,用于在根据本发明的第二方面的处理液中使用的非离子表面活性剂优选具有6以上并且更优选8以上的HLB(亲水-亲油平衡)。在处理液中优选以0.01至10重量%并且更优选0.01至5重量%的量含有非离子表面活性剂。
可以使用含有碱性试剂(例如,碳酸钠、三乙醇胺、二乙醇胺、氢氧化钠、硅酸盐)或酸性试剂(例如,柠檬酸、磷酸、亚磷酸、偏磷酸、焦磷酸、草酸、苹果酸、酒石酸、硼酸、氨基酸)、防腐剂(例如,苯甲酸及其衍生物、脱氢乙酸钠、3-异噻唑酮化合物、2-溴-2-硝基-1,3-丙二醇、2-吡啶硫醇-1-氧化钠)以及其他添加剂(例如,柠檬酸盐)的处理液。处理液可以在任意温度使用,但温度优选为10℃至50℃。
在本发明的第二方面中,可以适宜地通过配备有处理液提供部和摩擦部件的自动处理机移除非图像区中的图像记录层。自动处理机的实例包括:JP 2-220061A和JP 60-59351A中描述的那些,其中在传送的同时对图像记录之后的平版印刷版原版进行摩擦处理;以及US 5,148,746、US5,568,768和GB 2,297,719中描述的那些,其中将图像记录之后的平版印刷版原版放置在圆筒上并在旋转圆筒的同时对其进行摩擦处理。这些中,使用旋转刷辊作为摩擦部件的自动处理机是特别优选的。适合于本发明的第二方面中的显影工艺的自动处理机的实例在图7中给出。在图7中所示的自动处理机中,通过循环泵210将处理液209进料至喷射管线204并且喷淋至旋转刷辊200和版表面211(平版印刷版原版)上,以用旋转刷辊200摩擦版表面211。图7显示了承压辊201、输送辊202、输送导板203、管路205、过滤器206、给版台207、排版台208和处理液(槽)209。
在本发明的第二方面中,在随后的处理中可以任选地用水冲洗摩擦过的平版印刷版并干燥。
可以通过考虑到例如图像区的耐擦伤性和平版印刷版原版载体的劲而度适当地选择可以使用的旋转刷辊。可以使用通过将刷材料植入塑料或金属辊中形成的已知旋转刷辊作为旋转刷辊。例如,可以使用JP58-159533A和JP 3-100554A中描述的刷辊,或JP 62-167253U中描述的刷辊,其中将具有成排植入其中的刷材料的金属或塑料槽形部件紧密地并且径向地卷绕在充当芯的塑料或金属辊周围。作为刷材料,可以使用塑料纤维(例如,由以下材料制成的合成纤维:聚酯材料如聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸丁二醇酯;聚酰胺材料如尼龙6,6和尼龙6,10;聚丙烯酸类材料如聚丙烯腈和多烷基(甲基)丙烯酸酯;以及聚烯烃材料如聚丙烯和聚苯乙烯)。例如,可以有益地使用具有20至400μm的纤维刷毛直径和5至30mm的刷毛长度的刷材料。旋转刷辊的外部直径优选为30至200mm,并且摩擦版的表面的刷的尖端处的旋转速度优选为0.1至5m/s。
用于在本发明的第二方面中使用的旋转刷辊的旋转方向可以是相对于本发明的第二方面中的平版印刷版原版的传送方向相同的方向或相反的方向,但是当如图7中所示当在自动处理机中使用两个以上旋转刷辊时,优选的是至少一个旋转刷辊以与其相同的方向旋转并且至少一个旋转刷辊以相反的方向旋转。通过这样的安排,可以更容易地移除非图像区中的图像记录层。此外,在刷辊的旋转轴方向摇动并旋转刷辊也是有效的。
接下来,描述本发明的第三方面。
本发明的第三方面中的平版印刷版原版包括图像记录层,所述图像记录层含有(G)增感染料,(H)聚合引发剂,(I)可聚合化合物,以及(J)聚合物,并且形成在载体上,所述图像记录层的未曝光部分被印刷墨和/或润版液移除,并且其特征在于,所述载体由铝合金板制备,其中等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物的表面密度为35,000pcs/mm2以上。
如上所述,将可以通过印刷墨和/或润版液移除的图像记录层设置在所谓的机上显影型平版印刷版原版中,并且因此含有大量的亲水成分。如在本发明的第二方面中也描述的,当图像记录层中存在大量的亲水成分时,在环境空气的影响下图像记录层中包含的水分等和阴离子的存在可能引起铝合金板上的微小腐蚀污点。
相反,在包含表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板中,存在于铝合金板的表面上的等效圆直径大于1μm的金属间化合物粒子的数目极小,并且因此可以抑制铝合金板的微小腐蚀污点。
在抑制微小腐蚀污点方面,等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子优选在铝合金板的表面以50,000pcs/mm2以上的密度存在。
如在本发明的第一方面中所述,通过使用含有表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板,电解砂目化表面的均匀性提高。
在抑制微小腐蚀污点方面,与在本发明的第二方面中相同,在铝合金板的表面等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子的数目优选为至多2,500pcs/mm2,并且更优选至多1,500pcs/mm2
在铝合金板的表面处的金属间化合物粒子的数目和密度可以通过在本发明的第一方面中描述的方法测量。
与在本发明的第一方面中相同,在本发明的第三方面中可以使用的铝合金板含有至少99重量%的铝并且还含有选自由以下各项组成的组的至少一种元素作为痕量元素:Si、Fe、Ni、Mn、Cu、Mg、Cr、Zn、Bi、Ti和V。在一个优选的实施方案中,铝合金板优选含有Al、Si和Fe作为其主要成分。
与在本发明的第一方面中相同,在含有Al、Si和Fe作为其主要成分的铝合金板的优选实施方案中,铝合金板中存在的金属间化合物的具体实例包括Al-Fe金属间化合物如Al3Fe和Al6Fe,以及AlFeSi金属间化合物如α-AlFeSi和β-AlFeSi。
在可以在本发明的第三方面中使用的铝合金板中,因为与本发明的第二方面中所描述的相同的原因,铝合金板的Al-Fe金属间化合物优选具有至多400cps,并且更优选至多200cps的用XRD测量的峰计数值。尤其是,Al3Fe和Al6Fe两者优选具有至多400cps并且更优选至多200cps的峰计数值。
铝合金板的Al-Fe-Si金属间化合物(尤其是α-AlFeSi)优选具有30cps以上,并且更优选50cps以上的峰计数值。
<铝合金板(轧制铝)>
可以在本发明的第三方面使用的铝合金板的优选实施方案及其制备程序(连续铸造和轧制工艺)与在本发明的第一方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
<表面粗糙化处理>
可以在根据本发明的第三方面的平版印刷版原版中使用的载体可以通过以下方法制备:对通过上述连续铸造步骤和按所需进行的多个步骤(例如,中间退火步骤、冷轧制步骤)获得的铝合金板的表面进行表面粗糙化处理。
表面粗糙化处理和表面粗糙化处理之后的多个其他处理(例如,阳极氧化处理)与在本发明的第一方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
在本发明的第三方面中,因为与本发明的第二方面中所描述的相同的原因,也优选使用磷酸溶液作为用于阳极氧化处理的电解液。使用磷酸溶液作为电解液进行阳极氧化处理的条件与本发明的第二方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
[图像记录层]
在本发明的第三方面中,图像记录层形成在根据上述程序形成的载体上。如上所述,根据本发明的第三方面的平版印刷版原版的图像记录层含有:(G)增感染料,(H)聚合引发剂,(I)可聚合化合物和(J)聚合物。
(G)增感染料
增感染料(G)与本发明的第一方面中的增感染料(A)相同,并且将对其的描述省略。
在本发明的第一方面中的增感染料(A)中,优选使用作为红外吸收剂描述的那些作为增感染料(G)。可以使用的红外吸收染料是JP2008-195018A的段落[0058]至[0087]中描述的化合物。
本发明的第三方面中的图像记录层优选以基于图像记录层的总固体含量为0.1至10.0重量%并且更优选0.5至5.0重量%的量含有增感染料(G)。
(H)聚合引发剂
用于在本发明的第三方面中使用的聚合引发剂是引发并促进可聚合化合物聚合的化合物。可以在本发明的第三方面中使用的聚合引发剂优选为自由基聚合引发剂并且,例如,可以使用已知的热聚合引发剂、具有键离解能小的键的化合物和光聚合引发剂。
本发明的第三方面中的自由基聚合引发剂的实例包括:(a)有机卤化物,(b)羰基化合物,(c)偶氮化合物,(d)有机过氧化物,(e)金属茂化合物,(f)叠氮化合物,(g)六芳基联咪唑化合物,(h)有机硼酸盐化合物,(i)二砜化合物,(j)肟酯化合物和(k)盐化合物。
作为有机卤化物(a),JP 2008-195018A的段落[0022]至[0023]中描述的化合物是优选的。
作为羰基化合物(b),JP 2008-195018A的段落[0024]中描述的化合物是优选的。
作为偶氮化合物(c),例如,可以使用JP 8-108621A的中描述的偶氮化合物。
作为有机过氧化物(d),例如,JP 2008-195018A的段落[0025]中描述的化合物是优选的。
作为金属茂化合物(e),例如,JP 2008-195018A的段落[0026]中描述的化合物是优选的。
叠氮基化合物(f)的实例包括化合物如2,6-双(4-叠氮基亚苄基)-4-甲基环己酮。
作为六芳基联咪唑化合物(g),例如,JP 2008-195018A的段落[0027]中描述的化合物是优选的。
作为有机硼酸盐化合物(h),例如,JP 2008-195018A的段落[0028]中描述的化合物是优选的。
二砜化合物(i)的实例包括,例如,JP 61-166544A和JP 2003-328465A中描述的化合物。
作为肟酯化合物(j),例如,JP 2008-195018A的段落[0028]至[0030]中描述的化合物是优选的。
盐化合物(k)的实例包括:盐,如S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)和T.S.Bal等,聚合物(Polymer),21,423(1980)中描述的重氮盐;US 4,069,055和JP 4-365049A中描述的铵盐;US4,069,055和US 4,069,056中描述的盐;EP 104,143、US 339,049、US410,201、US 2008/0311520、JP 2-150848A、JP 2-296514A和JP2008-195018A中描述的碘盐;EP 370,693、EP 390,214、EP 233,567、EP 297,443、EP 297,442、US 4,933,377、US 161,811、US 410,201、US399,049、US 4,760,013、US 4,734,444、US 2,833,827、DE 2,904,626、DE3,604,580和DE 3,604,581中描述的锍盐;J.V.Crivello等,大分子(Macromolecules),10(6),1307(1977)中描述的盐和J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)中描述的盐;C.S.Wen等,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,第478页,东京,十月(1988)中描述的盐;和JP 2008-195018A中描述的吖嗪盐(azinium salts)。
这些中,盐并且尤其是,碘盐、锍盐和吖嗪盐是更优选的。在下面给出这些化合物的具体实例,但本发明不应被理解为限定于此。在碘盐中,二苯基碘盐是优选的,被给电子基团例如烷基或烷氧基取代的二苯基碘盐是更优选的,并且不对称二苯基碘盐是再更优选的。其具体实例包括:六氟磷酸二苯基碘六氟磷酸4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘六氟磷酸4-(2-甲基丙基)苯基-对-甲苯基碘六氟磷酸4-己氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘四氟硼酸4-己氧基苯基-2,4-二乙氧基苯基碘1-全氟丁磺酸4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘六氟磷酸4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘和四苯基硼酸双(4-叔丁基苯基)碘
锍盐的实例包括:六氟磷酸三苯基锍,苯甲酰基甲酸三苯基锍,苯甲酰基甲酸双(4-氯苯基)苯基锍,四氟硼酸双(4-氯苯基)-4-甲基苯基锍和3,5-双(甲氧基羰基)苯磺酸三(4-氯苯基)锍。
吖嗪盐的实例包括:六氟磷酸1-环己基甲氧基吡啶六氟磷酸1-环己氧基-4-苯基吡啶六氟磷酸1-乙氧基-4-苯基吡啶六氟磷酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶六氟磷酸4-氯-1-环己基甲氧基吡啶六氟磷酸1-乙氧基-4-氰基吡啶六氟磷酸3,4-二氯-1-(2-乙基己氧基)吡啶六氟磷酸1-苄基氧基-4-苯基吡啶六氟磷酸1-苯乙氧基-4-苯基吡啶对甲苯磺酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶全氟丁磺酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶溴化1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶和四氟硼酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶
优选可以以基于构成图像记录层的总固体含量为0.1至50重量%,更优选0.5至30重量%,并且最优选0.8至20重量%的量将聚合引发剂加入至图像记录层。在聚合引发剂含量在以上定义的范围内的情况下,获得优异的灵敏度和对印刷过程中非图像区中的浮渣的高耐受性。
(I)可聚合化合物
在本发明的第三方面中可以使用的可聚合化合物是具有至少一个烯键式不饱和双键的可加成聚合化合物,并且选自具有至少一个,并且优选两个以上末端烯键式不饱和键的化合物。这种化合物在本领域中广泛已知,并且它们可以在本发明的第三方面中不带有任何特别限定地使用。这种化合物具有多种化学形式,包括单体、预聚物如二聚体、三聚体和低聚物,以上任意种的混合物,以及以上任意种的共聚物。
也可以使用JP 2008-105018A的段落[0089]至[0098]中描述的化合物。这些中,脂族多元醇化合物与不饱和的羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸和马来酸)的酯是优选的。其他优选的可自由基聚合化合物包括JP 2005-329708A中描述的含有异氰脲酸结构的可聚合化合物。
这些中,异氰脲酸环氧乙烷改性的丙烯酸酯,如异氰脲酸[三(丙烯酰基氧基乙基)]酯和异氰脲酸[双(丙烯酰基氧基乙基)羟乙基]酯是特别优选的,因为在它们在与机上可显影性有关的亲水性和与印刷寿命有关的聚合能力之间的平衡上是优异的。
在本发明的第三方面中,基于图像记录层的总固体含量,以优选5至80重量%并且更优选25至75重量%的量使用可聚合化合物。
(J)聚合物
根据本发明的第三方面的图像记录层含有聚合物以使得具有机上可显影性。尤其是,具有聚环氧烷链(EO链)的聚合物是优选的。可以将具有聚环氧烷链的聚合物,尤其是在其侧链上具有聚环氧烷链的聚合物以细粒的形式或作为用于相容化或结合图像记录层的多种材料而不具有特定的形状如粒子形状的介质结合至图像记录层中。在任何情况下,在这种聚合物的侧链上引入聚环氧烷链提高润版液的渗透性,同时提高机上可显影性。尤其是,优选的是环氧烷链为环氧乙烷链并且环氧乙烷链的重复单元数为9至250,并且尤其是9至50。
(J-1)颗粒聚合物
根据本发明的第三方面,可以使用颗粒聚合物即聚合物细粒以便提高机上可显影性。用于在本发明的第三方面中使用的聚合物细粒优选为选自以下各项的至少一种类型的聚合物细粒:疏水热塑性聚合物细粒、热反应性聚合物细粒、具有包封在其中的疏水化合物的微胶囊以及交联的聚合物细粒(微凝胶)。
在本发明的第三方面中,聚合物细粒优选具有聚环氧烷链。聚环氧烷链与润版液中特定共聚物的聚环氧烷基团相互作用以提高机上可显影性。尤其是,优选的是环氧烷链是环氧乙烷链,并且环氧乙烷链的重复单元数目为9至250,并且尤其是9至50。
在疏水热塑性聚合物细粒或热反应性聚合物细粒的情况下,将聚环氧烷链通过以下方式引入聚合物细粒中,例如,通过其中对具有聚环氧烷链的乙烯基单体或丙烯酸类单体进行乳液聚合或悬浮聚合的方法。在这种情况下,制成聚合物细粒的聚合物的具体实例包括以下可共聚单体的均聚物或共聚物:如乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、1,1-二氯乙烯、丙烯腈、乙烯基咔唑以及具有聚环氧烷链的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯或它们的混合物。这些中,聚苯乙烯、含有苯乙烯和丙烯腈的共聚物以及聚甲基丙烯酸甲酯是更优选的。
疏水热塑性聚合物细粒意指由曝光至红外激光辐射时生成的热熔合为疏水性的细粒,如描述在以下各项中的疏水热塑性聚合物:例如,研究公开(Research Disclosure),第33303号,一月(1992),JP 9-123387A、JP9-131850A、JP 9-171249A、JP 9-171250A和EP 931,647。
热反应性聚合物细粒意指通过归因于热反应的交联和交联时的官能团的改变而形成疏水区域的聚合物细粒,并且包括具有热反应性基团的聚合物细粒。
用于在本发明的第三方面中使用的具有热反应性基团的聚合物细粒中的热反应性基团可以是进行任何反应的官能团,只要形成化学键即可。其优选实例包括:进行自由基聚合反应的烯键式不饱和基团(例如,丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基或烯丙基),可阳离子聚合基团(例如,乙烯基或乙烯基氧基),进行加成反应的异氰酸酯基或其封闭形式,环氧基,乙烯基氧基以及作为其反应对(reaction partner)的具有活性氢原子的官能团(例如,氨基、羟基或羧基),进行缩合反应的羧基和作为其反应对的羟基或氨基,以及进行开环加成反应的酸酐和作为其反应对的氨基或羟基。
在微胶囊或微凝胶的情况下,根据已知方法将聚环氧烷链引入至聚合物细粒中,所述已知方法例如为:包括通过应用下面说明的聚合物细粒,将聚环氧烷单烷基醚加入至使用多官能异氰酸酯的界面聚合的成分的方法。
用于在本发明的第三方面中使用的微胶囊的实例包括例如,JP2001-277740A和JP 2001-277742A中描述的实例,其中将图像记录层的全部或部分成分包封在其中。在微胶囊外侧也可以含有构成图像记录层的成分。在一个优选的实施方案中,微胶囊型图像记录层在微胶囊中含有疏水成分并在微胶囊外侧含有亲水成分。
在本发明的第三方面中,图像记录层可以含有交联的树脂粒子,即微凝胶。微凝胶在其内部和/或在其表面上可以含有图像记录层的成分的一部分。尤其是,在图像形成灵敏度和印刷寿命方面,在其表面上含有可聚合化合物(J)的反应性微凝胶的实施方案是特别优选的。
在图像记录层成分的微胶囊化或微凝胶化中可以使用已知的方法。
聚合物细粒的平均粒径优选为0.01至3.0μm,更优选0.05至2.0μm,并且最优选0.10至1.0μm。在该范围内,获得好的溶解和好的暂时稳定性。
基于图像记录层的总固体含量,聚合物细粒的含量优选在5至90重量%的范围内。
(J-2)粘合剂聚合物
在根据本发明的第三方面的图像记录层中,可以使用粘合剂聚合物作为用于图像记录层的每个成分的粘合剂,并且用于提高图像记录层的膜强度的目的。在本发明的第三方面中可以不带有任何特别限制地使用传统已知的粘合剂聚合物,并且具有成膜性的聚合物是优选的。这些中,丙烯酸类树脂、聚乙烯醇缩醛树脂和聚氨酯树脂是优选的。
在提高机上可显影性方面,特别优选的是具有环氧烷链作为亲水基团的粘合剂聚合物。尤其是,优选的是环氧烷链为环氧乙烷链并且环氧乙烷链的重复单元数为9至250,并且尤其是9至50。通过将具有聚环氧烷链的丙烯酸类单体共聚获得的丙烯酸类树脂是特别优选的。
据认为粘合剂聚合物的环氧烷链与用于在本发明的第三方面中使用的润版液中特定聚合物的环氧烷基团相互作用以提高机上可显影性。
为了控制受墨性,可以将亲油基团如烷基、芳基、芳烷基或烯基引入至根据本发明的第三方面的粘合剂聚合物中。具体地,可以将含有亲油基团的单体如甲基丙烯酸烷基酯共聚。
适合于在本发明的第三方面中使用的粘合剂聚合物的实例包括:如JP 2008-195018A中描述的在其主链或侧链上,优选在其侧链上具有用于增强图像区的膜强度的可交联官能团的聚合物。可交联基团引起在聚合物分子之间形成交联,从而促进固化。
可交联官能团的优选实例包括:烯键式不饱和基团如(甲基)丙烯酰基、乙烯基和烯丙基,以及环氧基。可以通过聚合物反应或共聚将可交联官能团引入至聚合物中。例如,可以利用在其侧链上具有羧基的丙烯酸类聚合物或聚氨酯与甲基丙烯酸缩水甘油酯之间的反应,或者具有环氧基的聚合物与含有烯键式不饱和基团的羧酸如甲基丙烯酸之间的反应。
粘合剂聚合物中可交联基团的含量为每g的粘合剂聚合物优选0.1至10.0mmol,更优选1.0至7.0mmol,并且最优选2.0至5.5mmol。
此外,粘合剂聚合物还可以含有除聚环氧烷链之外的亲水基团。亲水基团的其他实例包括:羟基、羧基、氨基、铵基、酰氨基、磺基和磷酸酯基。亲水基团有助于赋予图像记录层机上可显影性。尤其是,可交联基团和亲水基团的共存能够使得在印刷寿命与可显影性之间获得好的平衡。
为了将亲水基团引入至粘合剂聚合物中,可以将具有亲水基团的单体共聚。
在下面列出用于在本发明的第三方面中使用的粘合剂聚合物的具体实例(1)至(11),但本发明不应被理解为限定于此。
[化学式9]
[化学式10]
根据本发明的第三方面的粘合剂聚合物的重均摩尔重量(Mw)优选为2,000以上,更优选5,000以上,并且再更优选10,000至300,000。
根据本发明的第三方面,可以按所需使用JP 2008-195018A中描述的亲水聚合物如聚丙烯酸和聚乙烯醇。也可以与亲水粘合剂聚合物一起使用亲油粘合剂聚合物。
基于图像记录层的总固体含量,粘合剂聚合物的含量通常为5至90重量%,优选5至80重量%和更优选10至70重量%。
(其他成分)
根据本发明的第三方面的图像记录层还可以按所需含有其他成分。可以将包括以下各项的其他成分加入至图像记录层:疏水化前体、低分子量亲水化合物、增感剂、表面活性剂、着色剂、印出剂、聚合抑制剂、高级脂肪酸衍生物、增塑剂、无机细粒、无机层状化合物、共增感剂和链转移剂。具体地,如JP 2008-284817A的段落[0114]至[0159],JP 2006-091479A的段落[0023]至[0027]和US 2008/0311520A的段落[0060]中描述的化合物及其添加量是优选的。
(图像记录层的形成)
根据本发明的第三方面的图像记录层通过以下方法形成:例如,按JP 2008-195018A的段落[0142]至[0143]中描述的,将每种所需成分分散或溶解在已知溶剂中以制备涂布液,并将液体通过已知方法如棒涂涂布至载体上,并干燥所涂布的液体。涂布和干燥之后获得的载体上的图像记录层涂布重量(固体含量)依赖于所需目的而变化,虽然0.3至3.0g/m2的量是通常优选的。在图像记录层涂布重量在该范围内的情况下,获得好的灵敏度和好的图像记录层成膜性。
(下涂层)
在根据本发明的第三方面的平版印刷版原版中,优选将下涂层(也称为“中间层”)设置在图像记录层与载体之间。下涂层提高曝光区域内载体与图像记录层之间的附着,并且有利于未曝光区中图像记录层从载体的剥离,并且从而有助于提高可显影性而不降低印刷寿命。在曝光至红外激光辐射的情况下,下涂层充当热绝缘层,以防止灵敏度归因于曝光时生成的热扩散至载体中而降低。
用于在下涂层中使用的化合物的具体实例包括:JP 10-282679A中描述的具有可加成聚合烯键式双键反应性基团的硅烷偶联剂,以及JP2-304441A中描述的具有烯键式双键反应性基团的磷化合物。如JP2005-125749A和JP 2006-188038A中描述的具有能够吸附至载体的表面的吸附基团、亲水基团和可交联基团的聚合物树脂是更优选的。聚合物树脂优选为具有吸附基团的单体、具有亲水基团的单体和具有可交联基团的单体的共聚物。更具体地,使用作为以下单体的共聚物的聚合物树脂:具有吸附基团如酚式羟基、羧基、-PO3H2、-OPO3H2、-CONHSO2-、-SO2NHSO2-或-COCH2COCH3的单体,具有亲水磺基的单体和具有可聚合可交联基团如甲基丙烯酰基或烯丙基的单体。聚合物树脂可以含有可交联基团,所述可交联基团通过聚合物树脂的极性取代基与含具有与聚合物树脂的极性取代基相反的电荷的取代基以及烯键式不饱和键的化合物之间的成盐而引入,并且可以进一步与除上面描述的那些之外的单体,优选亲水单体共聚。
用于下涂层的聚合物树脂中不饱和双键的含量为每g的聚合物树脂优选0.1至10.0mmol,并且最优选2.0至5.5mmol。
用于下涂层的聚合物树脂的重均摩尔重量优选为5,000以上,并且更优选10,000至300,000。
除上面描述的用于下涂层的化合物之外,根据本发明的第三方面的下涂层可以含有螯合剂、仲胺或叔胺、聚合抑制剂,或含有氨基或具有聚合抑制能力的官能团以及能够与铝载体的表面相互作用的基团的化合物(例如,1,4-二氮杂双环[2,2,2]辛烷(DABCO)、2,3,5,6-四羟基对醌、氯醌、磺基邻苯二甲酸、羟乙基乙二胺三乙酸、二羟乙基乙二胺二乙酸或羟乙基亚氨基二乙酸)以便防止随时间出现着色。
下涂层通过已知的涂布方法形成。下涂层的涂布重量(固体含量)优选为0.1至100mg/m2,并且更优选1至30mg/m2
(阻氧层)
可以将阻氧层设置在根据本发明的第三方面的平版印刷版原版中的图像记录层上。除阻挡氧气以防止可能抑制图像形成的反应之外,在防止图像记录层的擦伤和曝光至高强度激光辐射过程中的烧蚀方面,阻氧层还充当保护层。
具有这种性质的阻氧层(保护层)被描述在例如US 3,458,311和JP55-49729B中。具有用于在阻氧层中使用的低氧渗透率的聚合物可以适当地从水溶性聚合物和水不溶性聚合物中选择并使用。其具体实例包括:聚乙烯醇、改性的聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纤维素衍生物和聚(甲基)丙烯腈。
此外,如JP 2005-119273A中描述的,阻氧层优选含有无机层状化合物如天然云母或合成云母以便增强氧阻挡性。
此外,阻氧层可以含有已知添加剂,如用于赋予柔韧性的增塑剂、用于提高可涂布性的表面活性剂和用于控制表面润滑性的无机细粒。也可以将与图像记录层结合描述的增感剂结合至阻氧层中。
阻氧层通过已知的涂布方法形成。阻氧层干燥之后的涂布重量优选为0.01至10g/m2,更优选0.02至3g/m2,并且最优选0.02至1g/m2
[制版方法]
平版印刷版优选由本发明的第三方面中的平版印刷版原版通过机上显影方法形成。机上显影方法包括其中将平版印刷版原版图像式曝光的步骤和其中将油性墨和水性成分提供至曝光的平版印刷版原版而不进行任何显影过程以进行印刷的印刷步骤,并且其特征在于平版印刷版原版的未曝光区在印刷步骤的过程中被移除。图像式曝光可以在将平版印刷版原版安装在印刷机上之后在印刷机上进行,或可以使用排版机(platesetter)等独立地进行。在后一种情况下,将已曝光的平版印刷版原版直接安装在印刷机上而不经过显影步骤。之后,使用印刷机提供油性墨和水性成分开始印刷从而在印刷的早期阶段进行机上显影。具体地,未曝光区中的图像记录层被移除并且亲水载体表面暴露以形成非图像区。作为油性墨和水性成分,分别采用用于在平版印刷中使用的普通印刷墨和润版液。
下面更详细地描述机上显影方法。
用于本发明的第三方面中的图像曝光使用的光源优选为激光器。对于用于在本发明中使用的激光器没有特别地限定,并且优选包括,例如,发射具有760至1,200nm的波长的红外线的固态激光器和半导体激光器。
红外激光器优选具有100mW以上的功率,每像素至多20微秒的曝光时间和10至300mJ/cm2的照射能量。在激光器上优选使用多束激光装置以便缩短曝光时间。
已曝光的平版印刷版原版被安装在印刷机的印版滚筒上。在配备有激光曝光装置的印刷机情况下,在将平版印刷版原版安装在印刷机的印版滚筒上之后对其进行图像式曝光。
当将润版液和印刷墨提供至图像式曝光的平版印刷版原版以进行印刷时,曝光区中的图像记录层通过曝光固化以形成具有亲油表面的印刷墨接受区。另一方面,在未曝光区中,将未固化的图像记录层通过溶解或分散在所提供的润版液和/或印刷墨中而移除,从而在这些区域暴露亲水表面。作为结果,润版液附着至暴露的亲水表面并且印刷墨附着至图像记录层的曝光区,从而开始印刷。
虽然可以将润版液或印刷墨首先提供至版表面上,在防止润版液被所移除的图像记录层的成分污染方面,优选的是首先提供印刷墨。
因此,在胶版印刷机上对根据本发明的第三方面的平版印刷版原版进行机上显影,并用于印刷大量的印件。
接下来,描述本发明的第四方面。
本发明的第四方面中的平版印刷版原版包括图像记录层,所述图像记录层含有(K)红外吸收剂和(L)碱溶性树脂,并且形成在载体上,在用红外辐射曝光之后所述图像记录层的曝光部分具有增加的碱溶性,并且所述载体由铝合金板形成,所述铝合金板含有处于大于35,000pcs/mm2的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子。
如上所述,本发明的发明人发现,相对大的金属间化合物粒子充当通过表面粗糙化处理形成的相对大的凹坑的起始点,并且还发现,通过使用在其表面以大于35,000pcs/mm2的量含有等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板,可以获得能够抑制残留膜污点和显影浮渣的出现并获得具有优异的耐浮渣性的平版印刷版的平版印刷版原版。
与在本发明的第一方面中相同,在本发明的第四方面中可以使用的铝合金板含有至少99重量%的铝,并且还含有选自由以下各项组成的组的至少一种元素作为痕量元素:Si、Fe、Ni、Mn、Cu、Mg、Cr、Zn、Bi、Ti和V。在一个优选的实施方案中,铝合金板含有Al、Si和Fe作为其主要成分。
上述组成的铝合金板中可以包含的金属间化合物的具体实例包括Al3Fe、Al6Fe、AlmFe、α-AlFe Si和β-AlFeSi。
这些中,亚稳态金属间化合物(α-AlFeSi、β-AlFeSi、Al6Fe)是优选的,并且α-AlFeSi是特别优选的。
在本发明的第四方面中,无论包含何种金属间化合物,通过以大于35,000pcs/mm2的量包含等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子可以防止残留膜污点和显影浮渣出现。如上所述,据推测这是因为金属间化合物粒子大量存在,并且作为结果充当用于残留膜污点和显影浮渣的起始点的相对较大的金属间化合物粒子减少。
优选以大于35,000pcs/mm2的量并且更优选40,000至70,000pcs/mm2的量包含等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子,因为可以进一步抑制残留膜污点和显影浮渣的出现。
此外,因为与上述相同的原因,金属间化合物粒子具有优选0.2至1.0μm并且更优选0.3至0.5μm的平均直径。
在本发明的第四方面中,以优选至多2,500pcs/mm2,更优选至多2,000pcs/mm2并且再更优选至多1,500pcs/mm2的量包含等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子,因为可以进一步抑制残留膜污点的出现。
铝合金板的表面上金属间化合物粒子的数目和密度可以通过在本发明的第一方面中描述的方法测量。
<铝合金板(轧制铝)>
可以在本发明的第四方面中使用的铝合金板的优选实施方案及其制备过程(连续铸造和轧制工艺)与在本发明的第一方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
<表面粗糙化处理>
可以在根据本发明的第四方面的平版印刷版原版中使用的载体可以通过以下方法制备:对通过上述连续铸造步骤和按所需进行的多个步骤(例如,中间退火步骤、冷轧制步骤)获得的铝合金板的表面进行表面粗糙化处理。
表面粗糙化处理和表面粗糙化处理之后的多个其他处理(例如,阳极氧化处理)与在本发明的第一方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
[图像记录层]
在本发明的第四方面中,平版印刷版原版可以通过在平版印刷版载体上形成热阳图型图像记录层获得,其中在暴露至红外辐射之后的暴露部分的碱溶性增加。
图像记录层含有(K)红外吸收剂和(L)碱溶性树脂,并且红外吸收剂(K)将红外辐射的光能转化为热,并且所述热有效地消除用于降低碱溶性树脂的碱溶性的相互作用。
在本发明的第四方面中,图像记录层可以是单层结构,但优选是包括至少两个层的多层结构(上记录层和下记录层)。
(K)红外吸收剂
图像记录层含有作为具有将光转化为热的功能的成分的红外吸收剂。该红外吸收剂具有将所吸收的红外辐射转化为热的能力,并且激光扫描消除相互作用、分解显影抑制剂并生成酸,从而显著地增加在显影液中的溶解性。此外,红外吸收剂自身可以与碱溶性树脂相互作用以抑制碱溶性。
当图像记录层是多层结构的时,在上记录层和下记录层中的至少一个中可以含有这种红外吸收剂,但是在灵敏度方面,优选在上记录层中含有。
用于在本发明的第四方面中使用的红外吸收剂是有效地吸收具有760nm至1,200nm的波长的红外辐射的染料或颜料,并且优选为在760nm至1,200nm的波长范围内具有吸收最大值的染料或颜料。
下面详细描述在根据本发明的第四方面的平版印刷版原版中可以有益地使用的红外吸收剂。
可以使用的染料包括商业染料和技术文献中提到的已知染料,所述技术文献例如为:Senryo Binran[染料手册](合成有机化学学会(The Societyof Synthetic Organic Chemistry),日本,1970)。合适的染料的示例性实例包括偶氮染料、金属配合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳染料、醌亚胺染料、次甲基染料、菁染料、方酸菁染料、吡喃盐和金属-硫醇化物配合物。
优选的染料包括JP 58-125246A、JP 59-84356A、JP 59-202829A和JP 60-78787A中提到的菁染料;JP 58-173696A、JP 58-181690A和JP58-194595A中提到的次甲基染料;JP 58-112793A、JP 58-224793A、JP59-48187A、JP 59-73996A、JP 60-52940A和JP 60-63744A中提到的萘醌染料;JP 58-112792A中提到的方酸菁染料;和GB 434,875中提到的菁染料。
可以有益地使用的染料的其他实例包括US 5,156,938中提到的近红外吸收剂/增感剂。可以优选使用的其他化合物包括:US 3,881,924中提到的取代的芳基苯并(硫代)吡喃盐;JP 57-142645A(US 4,327,169)中提到的三次甲基噻喃盐;JP 58-181051A、JP 58-220143A、JP 59-41363A、JP 59-84248A、JP 59-84249A、JP 59-146063A和JP 59-146061A中提到的吡喃化合物;JP 59-216146A中提到的菁染料;US 4,283,475中提到的五次甲基硫代吡喃盐;以及JP 5-13514B和JP 5-19702B中提到的吡喃化合物。
可以优选使用的其他示例性染料包括:US 4,756,993中提到的由式(I)和(II)表示的近红外吸收染料。
在这些染料中,菁染料、方酸菁染料、吡喃盐和镍-硫醇化物配合物是特别优选的。
可以在本发明的第四方面中使用的颜料包括商业颜料和技术文献中提到的颜料,所述技术文献例如为:Color Index(C.I.)、Saishin GanryoBinran[最新颜料手册](日本颜料技术学会(Japan Association of PigmentTechnology),1977)、Saishin Ganryo Oyo Gijutsu[最新颜料应用技术(RecentPigment Applications Technology)](CMC Publishing Co.,Ltd.,1986)以及Insatsu Inki Gijutsu[印刷墨技术](CMC Publishing Co.,Ltd.,1984)。
合适的颜料包括:黑色颜料、黄色颜料、橙色颜料、棕色颜料、红色颜料、紫色颜料、蓝色颜料、绿色颜料、荧光颜料、金属粉末颜料和与聚合物结合的染料。这种颜料的具体实例包括不溶性偶氮颜料、偶氮色淀颜料、稠合偶氮颜料、螯合偶氮颜料、酞菁颜料、蒽醌颜料、苝和芘酮颜料、硫代靛青颜料、喹吖啶酮颜料、二嗪颜料、异吲哚啉酮颜料、喹酞酮(quinophthalone)颜料、色淀颜料、吖嗪颜料、亚硝基颜料、硝基颜料、天然颜料、荧光颜料、无机颜料和炭黑。
这些颜料可以不经表面处理而使用,或可以在表面处理之后使用。表面处理方法的实例包括对颜料表面用树脂或蜡表面涂布,表面活性剂沉积,以及与反应性物质(例如,硅烷偶联剂、环氧化合物或聚异氰酸酯)结合。可以使用的表面处理方法包括以下文献中描述的那些:Kinzoku Sekken noSeishitsu to Oyo[金属皂的性质和引用](Saiwai Shobo),Insatsu Inki Gijutsu[印刷墨技术](CMC Publishing Co.,Ltd.,1984),以及Saishin Ganryo OyoGijutsu[最新颜料应用技术](CMC Publishing Co.,Ltd.,1986)。
在记录层形成用涂布液的稳定性和所形成的记录层的均匀性方面,颜料的粒径优选为0.01μm至10μm,更优选0.05μm至1μm和最优选0.1μm至1μm。
可以采用如那些可以在墨的制备或墨粉制备中使用的已知分散技术作为用于分散颜料的方法。用于该目的可以使用的装置的示例性实例包括:超声分散机、砂磨机、磨碎机、珠磨、超细磨、球磨、旋转混合机、分散机、KD磨、胶体磨机、负阻管磨(dynatron)、三辊磨机和压力捏合机。这些分散方法和分散装置描述在Saishin Ganryo Oyo Gijutsu[最新颜料应用技术](CMC Publishing Co.,Ltd.,1986)中。
在本发明的第四方面中,特别优选的是红外吸收剂含有盐结构,因为与碱溶性树脂相互作用的红外吸收剂的使用产生正的作用(未曝光部分在碱显影液中的溶解被抑制,反之解除曝光部分的抑制溶解作用),并且该作用是优异的。更具体地,在上面描述的那些中,菁染料和吡喃盐是特别优选的。
在本发明的第四方面中,也可以有益地使用如JP 11-338131A中描述的阴离子红外吸收剂。阴离子红外吸收剂是指染料骨架上不具有阳离子结构而具有主要吸收红外辐射的阴离子结构的阴离子红外吸收剂。
阴离子红外吸收剂的实例包括(K-1)阴离子金属配合物和(K-2)阴离子酞菁。
如本文所使用的阴离子金属配合物(K-1)是指其中主要吸收光的中心金属和配合物部分的配体作为整体形成阴离子的化合物。
阴离子酞菁(K-2)是指其中阴离子基团如磺酸酯基、羧酸酯基或膦酸酯基充当取代基连接至酞菁骨架以作为整体形成阴离子的化合物。
其他实例包括如JP 11-338131A的段落[0014]至[0105]中描述的由式[Ga--M-Gb]mXm+表示的阴离子红外吸收剂。
在该式中,Ga-表示阴离子取代基并且Gb表示中性取代基,Xm+表示具有包括质子1至m价(其中m表示整数1至6)的阳离子。
红外吸收剂优选为染料。染料的优选实例包括如JP 11-291652A的段落[0018]至[0034]中描述的具有盐结构的那些。
在图像记录层中展现出溶解抑制能力的红外吸收剂如菁染料、吡喃盐和阴离子染料也可以与其他染料或颜料组合使用,以便进一步提高灵敏度和显影范围。
在本发明的第四方面中,基于图像记录层的总固体含量,单层类型的图像记录层中红外吸收剂的含量优选为2重量%至20重量%,并且更优选3重量%至15重量%。在图像可形成性和非图像区中的浮渣抑制方面,当图像记录层为多层结构时,基于每个记录层的总固体含量,下记录层和一个或多个其他记录层中的红外吸收剂的含量优选为0.01重量%至50重量%,更优选0.1重量%至20重量%,并且再更优选0.5重量%至15重量%。
当红外吸收剂被包含在如后面将描述的具有通过组合使用两种以上聚合物形成的分散相的记录层中时,红外吸收剂可以被包含在基体相和分散相的每一个或它们两者中。当所需成分如引发剂和红外吸收剂要被包含在构成分散相的胶乳中时,可以将它们在胶乳粒子的形成过程中与原料一起加入,或在形成胶乳之后引入。
在胶乳形成之后引入的方法的实例包括以下方法:将所需的成分如引发剂、染料和交联剂溶解在有机溶剂中并将它们加入至分散介质以引入分散在水性体系中的胶乳中。
(L)碱溶性树脂
图像记录层中含有的碱溶性树脂的实例包括酚醛树脂。
(酚醛树脂)
酚醛树脂是指在分子中具有酚式羟基作为碱溶性基团的聚合物化合物。
具有酚式羟基的聚合物化合物的具体实例包括:酚醛清漆树脂如苯酚-甲醛树脂、二甲苯酚-甲酚-甲醛树脂(3,5-、2,3-、2,4-、2,5-二甲苯酚)、间甲酚-甲醛树脂、对甲酚-甲醛树脂、间/对混合的甲酚-甲醛树脂、和苯酚/甲酚(间、对或间/对混合)-甲醛树脂;和连苯三酚-丙酮树脂。
这些中,优选大量含有在邻位具有高键合性的酚醛清漆树脂,例如,二甲苯酚-甲酚-甲醛树脂、间甲酚-甲醛树脂和对甲酚-甲醛树脂。更具体地,在全部碱溶性树脂中优选以10重量%以上和更优选30重量%以上的量含有这些树脂。
可以优选使用的具有酚式羟基的其他聚合物化合物是在侧链具有酚式羟基的那些。
在侧链具有酚式羟基的聚合物化合物的实例包括:通过含具有一个以上酚式羟基和一个以上可聚合不饱和键的低分子量化合物的可聚合单体的均聚获得的聚合物化合物,以及通过使该可聚合单体与任何其他可聚合单体共聚获得的那些。
具有酚式羟基的可聚合单体的实例包括:各自具有酚式羟基的丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、丙烯酸类酯、甲基丙烯酸类酯和羟基苯乙烯。
可以优选使用的可聚合单体的具体实例包括:N-(2-羟基苯基)丙烯酰胺、N-(3-羟基苯基)丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)丙烯酰胺、N-(2-羟基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(3-羟基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺、邻羟基苯基丙烯酸酯、间羟基苯基丙烯酸酯、对羟基苯基丙烯酸酯、邻羟基苯基甲基丙烯酸酯、间羟基苯基甲基丙烯酸酯、对羟基苯基甲基丙烯酸酯、邻羟基苯乙烯、间羟基苯乙烯、对羟基苯乙烯、2-(2-羟基苯基)乙基丙烯酸酯、2-(3-羟基苯基)乙基丙烯酸酯、2-(4-羟基苯基)乙基丙烯酸酯、2-(2-羟基苯基)乙基甲基丙烯酸酯、2-(3-羟基苯基)乙基甲基丙烯酸酯和2-(4-羟基苯基)乙基甲基丙烯酸酯。
要与具有酚式羟基的可聚合单体共聚的示例性单体成分包括(m1)-(m12)中描述的化合物。
(m1)具有脂族羟基的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯,如丙烯酸2-羟基乙酯和甲基丙烯酸2-羟基乙酯;
(m2)丙烯酸烷基酯,如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸2-氯乙酯和丙烯酸缩水甘油酯;
(m3)甲基丙烯酸烷基酯,如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸2-氯乙酯和甲基丙烯酸缩水甘油酯;
(m4)丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺,如丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-羟甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-己基甲基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺和N-乙基-N-苯基丙烯酰胺;
(m5)乙烯基醚,如乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、羟乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛基乙烯基醚和苯基乙烯基醚;
(m6)乙烯酯,如乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯和苯甲酸乙烯酯;
(m7)苯乙烯,如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基苯乙烯和氯甲基苯乙烯;
(m8)乙烯基酮,如甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮和苯基乙烯基酮;
(m9)烯烃,如乙烯、丙烯、异丁烯、丁二烯和异戊二烯;
(m10)N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈和甲基丙烯腈;
(m11)不饱和酰亚胺,如马来酰亚胺N-丙烯酰基丙烯酰胺、N-乙酰基甲基丙烯酰胺、N-丙酰甲基丙烯酰胺和N-(对氯苯甲酰基)甲基丙烯酰胺;以及
(m12)不饱和羧酸,如丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐和衣康酸。
作为酚醛树脂的本发明的具有酚式羟基的碱水溶性聚合物化合物的实例包括:具有含3至8个碳原子的烷基作为取代基的苯酚和甲醛的缩聚物,如US 4,123,279中描述的叔丁基苯酚甲醛树脂和辛基苯酚甲醛树脂。
可以使用传统已知的方法如接枝共聚法、嵌段共聚法和无规共聚法合成酚醛树脂。
因为酚醛树脂在未曝光部分具有强的氢结合性,而在曝光部分中容易地消除了一些氢键,因此酚醛树脂适合于阳图型记录层,并且更优选为酚醛清漆树脂。
酚醛树脂优选分别具有如通过GPC方法测量的500至20,000和200至10,000的重均分子量和数均分子量。
当记录层是单层类型时,基于总固体含量,图像记录层中酚醛树脂的含量优选为3重量%至50重量%,并且更优选5重量%至40重量%。
当图像记录层是多层结构时,酚醛树脂优选被包含在位于临近表面(暴露表面)位置的上记录层中,并且在这种实施方案中,基于上记录层的总固体含量,上记录层中酚醛树脂的含量优选为2重量%至20重量%,并且更优选3重量%至15重量%。
(其他聚合物)
图像记录层中含有的除上述酚醛树脂之外的示例性碱溶性树脂包括可溶于碱性水溶液中的已知聚合物(树脂),并且可以根据预期用途使用它们。尤其是当本发明的第四方面中的平版印刷版原版具有多层型图像记录层时,优选将它们加入至下记录层。
可溶于碱水溶液中的聚合物(在下文中称为“其他聚合物”)优选至少包括以下官能团:如羧基、磺酸酯基、磷酸酯基、膦酸酯基、活性亚氨基和氨磺酰基。
因此,可以通过将具有官能团如羧基、磺酸酯基、磷酸酯基、膦酸酯基、活性亚氨基、氨磺酰基或它们的组合的含有至少一个烯键式不饱和单体的单体混合物聚合而适宜地制备其他聚合物。
烯键式不饱和单体的实例包括:丙烯酸、甲基丙烯酸、N-(4-羧基苯基)丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)丙烯酰胺、乙烯基膦酸、1,3-丙二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯以及1,4-正丁二醇甲基丙烯酸酯磷酸酯。
这些单体的混合物可以含有其他烯键式不饱和共聚单体。这种其他烯键式不饱和共聚单体的实例包括以下单体:
丙烯酸酯,如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸叔辛酯、丙烯酸氯乙酯、丙烯酸2,2-二甲基羟基丙酯、丙烯酸5-羟基戊酯、三羟甲基丙烷单丙烯酸酯、季戊四醇单丙烯酸酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸甲氧基苄酯和四氢丙烯酸酯;
丙烯酸芳基酯,如丙烯酸苯酯和丙烯酸糠基酯;
甲基丙烯酸酯,如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸氯苄酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸5-羟基戊酯、甲基丙烯酸2,2-二甲基-3-羟基丙酯、三羟甲基丙烷单甲基丙烯酸酯、季戊四醇单甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸糠基酯和甲基丙烯酸四氢糠基酯;
甲基丙烯酸芳基酯,如甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲苯酯和甲基丙烯酸萘酯;
N-烷基丙烯酰胺,如N-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-丙基丙烯酰胺、N-丁基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、N-庚基丙烯酰胺、N-辛基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺和N-苄基丙烯酰胺;
N-芳基丙烯酰胺,如N-苯基丙烯酰胺、N-甲苯基丙烯酰胺、N-硝基苯基丙烯酰胺、N-萘基丙烯酰胺和N-羟基苯基丙烯酰胺;
N,N-二烷基丙烯酰胺,如N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N,N-二丁基丙烯酰胺、N,N-二丁基丙烯酰胺、N,N-二异丁基丙烯酰胺、N,N-二乙基己基丙烯酰胺和N,N-二环己基丙烯酰胺;
N,N-芳基丙烯酰胺,如N-甲基-N-苯基丙烯酰胺、N-羟乙基-N-甲基丙烯酰胺和N-2-乙酰胺乙基-N-乙酰基丙烯酰胺;
N-烷基甲基丙烯酰胺,如N-甲基甲基丙烯酰胺、N-乙基甲基丙烯酰胺、N-丙基甲基丙烯酰胺、N-丁基甲基丙烯酰胺、N-叔丁基甲基丙烯酰胺、N-乙基己基甲基丙烯酰胺、N-羟乙基甲基丙烯酰胺和N-环己基甲基丙烯酰胺;
N-芳基甲基丙烯酰胺,如N-苯基甲基丙烯酰胺和N-萘基甲基丙烯酰胺;
N,N-二烷基甲基丙烯酰胺,如N,N-二乙基甲基丙烯酰胺、N,N-二丙基甲基丙烯酰胺和N,N-二丁基甲基丙烯酰胺;
N,N-二芳基甲基丙烯酰胺,如N,N-二苯基甲基丙烯酰胺;
甲基丙烯酰胺衍生物,如N-羟乙基-N-甲基甲基丙烯酰胺、N-甲基-N-苯基甲基丙烯酰胺和N-乙基-N-苯基甲基丙烯酰胺;
烯丙基化合物,如乙酸烯丙酯、己酸烯丙酯、辛酸烯丙酯、月桂酸烯丙酯、棕榈酸烯丙酯、硬脂酸烯丙酯、苯甲酸烯丙酯、乙酰乙酸烯丙酯、乳酸烯丙酯和烯丙氧基乙醇;
乙烯基醚,如己基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、十二烷基乙烯基醚、乙基己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚、乙氧基乙基乙烯基醚、氯乙基乙烯基醚、1-甲基-2,2-二甲基丙基乙烯基醚、2-乙基丁基乙烯基醚、羟乙基乙烯基醚、二甘醇乙烯基醚、二甲基氨基乙基乙烯基醚、二乙基氨基乙基乙烯基醚、丁基氨基乙基乙烯基醚、苄基乙烯基醚、四氢糠基乙烯基醚、乙烯基苯基醚、乙烯基甲苯基醚、乙烯基氯苯基醚、乙烯基-2,4-二氯苯基醚、乙烯基萘基醚和乙烯基氨茴内酐醚;
乙烯酯,如丁酸乙烯酯、异丁酸乙烯酯、三甲基乙酸乙烯酯、二乙基乙酸乙烯酯、戊酸乙烯酯、己酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、甲氧基乙酸乙烯酯、丁氧基乙酸乙烯酯、苯乙酸乙烯酯、乙酰乙酸乙烯酯、乳酸乙烯酯、乙烯基-β-苯基丁酸酯、环己基甲酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、水杨酸乙烯酯、氯苯甲酸乙烯酯、四氯苯甲酸乙烯酯和萘甲酸乙烯酯;
苯乙烯类,如苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙苯乙烯、二乙苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、十二烷基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰基氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯和4-氟-3-三氟甲基苯乙烯;
巴豆酸酯,如巴豆酸丁酯、巴豆酸己酯、巴豆酸和单巴豆酸甘油酯;
衣康酸二烷基酯,如衣康酸二甲酯、衣康酸二乙酯和衣康酸二丁酯;
马来酸和富马酸的二烷基酯,如马来酸酯二甲酯和富马酸二丁酯;
马来酰亚胺,如N-甲基马来酰亚胺、N-乙基马来酰亚胺、N-丙基马来酰亚胺、N-丁基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-2-甲基苯基马来酰亚胺、N-2,6-二乙基苯基马来酰亚胺、N-2-氯苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺、N-月桂基马来酰亚胺和N-羟基苯基马来酰亚胺;以及
其他含氮原子单体,如N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡啶、丙烯腈和甲基丙烯腈。
在这些其他烯键式不饱和共聚单体中,例如,优选使用(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、马来酰亚胺和(甲基)丙烯腈。
在本发明的第四方面中,这些其他聚合物优选具有20,000至100,000的如通过GPC测量的重均分子量。少于20,000的重均分子量倾向于降低耐溶剂性和耐用性,而超过100,000的重均分子量倾向于降低碱可显影性。
在本发明的第四方面中,这种其他聚合物优选以基于下记录层的固体含量20至95重量%的量被结合在下记录层中。在耐化学性方面低于20重量%的含量是不便利的,并且在曝光速度方面超过95重量%的含量是不优选的。可以任选地组合使用两种以上其他聚合物。
此外,在根据本发明的第四方面的下记录层中与酚醛树脂组合使用任何其他聚合物的情况下,酚醛树脂和与酚醛树脂不相容的其他聚合物的组合使用将在下记录层中形成分散相。
在这种实施方案中使用的情况下,作为构成下记录层中的基体相的树脂的酚醛树脂与构成分散相的其他聚合物的含量比(特定聚合物/其他聚合物)以重量比计优选为95/5至60/40。
从而形成的包含分散相和基体相的下记录层在分散相中含有上述红外吸收剂和归因于大量的热的作用而改变在碱性溶液中的溶解性的化合物,从而有效地提高基体相在碱性溶液中的溶解性。
接下来,描述分散相中可以含有的除红外吸收剂之外的化合物。
<酸生成剂>
分散相可以含有酸生成剂,所述酸生成剂通过光或热的作用分解以生成酸,以便提高曝光部分中的碱溶性树脂的碱溶性。
“酸生成剂”意指通过用具有200nm至500nm的波长的光照射或通过在100℃以上加热可以生成酸的化合物。酸生成剂的具体实例包括用于光-阳离子聚合的光引发剂、用于光-自由基聚合的光引发剂、用于染料的光消色剂、光变色剂、用于微抗蚀剂的已知的酸生成剂;热分解生成酸的已知化合物;以及它们的混合物。
可以产生的酸优选为具有2以下的pKa的强酸,如磺酸和盐酸。
在本发明的第四方面中可以有益地使用的酸生成剂的实例包括JP11-95415A中描述的三嗪化合物,以及JP 7-20629A中描述的潜布郎斯台德酸。
潜布郎斯台德酸意指可以被分解生成布郎斯台德酸的前体。据认为布郎斯台德酸催化甲阶酚醛树脂与酚醛清漆树脂之间的基体生成反应。适合于该目的的布郎斯台德酸的实例包括三氟甲磺酸和六氟膦酸。
在潜布郎斯台德酸中,在本发明的第四方面中可以优选使用离子潜布郎斯台德酸。
离子潜布郎斯台德酸的实例包括盐(例如,碘锍、 重氮盐和盐)。
尤其可用的盐包括:六氟磷酸二苯基碘六氟锑酸三苯基锍、三氟甲磺酸苯基甲基-邻-氰基苄基锍和六氟磷酸2-甲氧基-4-氨基苯基重氮。
可用的离子潜布郎斯台德酸是由下式表示的那些。
[化学式11]
X+R1R2R3R4W-
在该式中,当X是碘时,R3和R4各自表示孤对电子,并且R1和R2各自表示芳基或取代的芳基。当X是S或Se时,R4表示孤对电子,并且R1、R2和R3可以各自表示芳基、取代的芳基、脂族基或取代的脂族基。当X是P或As时,R4可以表示芳基、取代的芳基、脂族基或取代的脂族基。W可以表示BF4、CF3SO3、SbF6、CCl3CO2、ClO4、AsF6、PF6或具有少于3的pH的任何相应的酸。
也可以使用US 4,708,925中描述的所有盐作为潜布郎斯台德酸。盐的实例包括碘锍、羟基氧化锍、羟基锍、氧化锍、盐。
在本发明的第四方面中也可以适当地使用非离子潜布郎斯台德酸。
非离子潜布郎斯台德酸的实例包括由下式表示的化合物:
RCH2X、RCHX2、RCX3、R(CH2X)2、R(CH2X)3
其中X表示Cl、Br、F或CF3SO3,并且R表示芳族基团、脂族基团或芳族基团和脂族基团的组合。
在本发明的第四方面中,特别优选的是使用重氮盐作为潜布郎斯台德酸。
在本发明的第四方面中,在图像可形成性和非图像区中的浮渣防止方面,酸生成剂的含量基于下记录层的总固体含量为优选0.01至50重量%,更优选0.1至25重量%,并且再更优选0.5至20重量%。
(添加剂)
根据预期目的,在图像记录层中不仅可以使用上述成分,而且可以组合使用多种已知的添加剂。
当图像记录层是多层型记录层时,分散相优选形成在如上所述的下记录层中。关于其他添加剂,可以在下记录层和其他记录层中使用相同的添加剂。
例如,优选将含氟聚合物加入至图像记录层用于提高图像区中的显影耐受性的目的。在图像记录层中可以使用的含氟聚合物的实例包括由如JP 11-288093A和JP 2000-187318A中描述的含氟单体形成的共聚物。
可以优选使用的含氟聚合物的具体实例包括如JP 11-288093A中描述的含氟丙烯酰基聚合物P-1至P-13,以及通过将如JP 2000-187318A中描述的含氟丙烯酰基单体A-1至A-33与任意丙烯酰基单体共聚获得的含氟聚合物。
优选使用的含氟聚合物具有2,000以上的重均分子量和1,000以上的数均分子量。含氟聚合物更优选具有5,000至300,000的重均分子量和2,000至250,000的数均分子量。
也可以使用可商购氟表面活性剂用于具有优选分子量的含氟聚合物。这种表面活性剂的具体实例包括MEGAFACE F-171、F-173、F-176、F-183、F-184、F-780和F-781(都是商品名,由Dainippon Ink and Chemicals,Inc.制造)。
这些含氟聚合物可以单独使用或以其两种以上的组合使用。基于图像记录层的固体含量,以1.4重量%以上并且更优选1.4至5.0重量%的量加入含氟聚合物。在少于1.4重量%的量下,加入含氟聚合物的目的,即,提高图像记录层的显影范围的效果不能有效地获得。在超过5.0重量%的量下,不能够完全展现提高显影范围的效果,并且图像记录层的表面在含氟聚合物的影响下较不容易溶液化,导致在灵敏度上下降。
在记录层中还可以任选地使用溶解抑制剂,所述溶解抑制剂是可热分解材料,并且在未分解状态下充分降低碱溶性树脂的溶解性。溶解抑制剂的实例包括盐、邻醌二叠氮化合物、芳族砜化合物和芳族磺酸酯化合物。
溶解抑制剂的添加使得可以提高在显影液中图像区对溶解的耐受性,并且使得可以使用不与碱溶性树脂相互作用的化合物作为红外吸收剂。
盐的实例包括重氮盐、铵盐、盐、碘盐、锍盐、盐和盐。
可以在本发明的第四方面中使用的盐的优选的实例包括:S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974),T.S.Bal等,Polymer,21,423(1980),以及JP 5-158230A中描述的重氮盐;US 4,069,055、US4,069,056和JP 3-140140A中描述的铵盐;D.C.Necker等,Macromolecules,17,2468(1984),C.S.Wen等,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,第478页,东京,十月(1988),US 4,069,055和US 4,069,056中描述的盐;J.V.Crivello等,Macromolecules,10(6),1307(1977),Chem.& Eng.News,11月28日,第31页,(1988),EP 104,143、US 5,041,358、US 4,491,628、JP 2-150848A和JP 2-296514A中描述的碘盐;
J.V.Crivello等,Polymer J.17,73(1985),J.V.Crivello等,J.Org.Chem.,43,3055(1978),W.R.Watt等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984),J.V.Crivello等,Polymer Bull.,14,279(1985),J.V.Crivello等,Macromolecules,14(5),1141(1981),J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979),EP 370,693、EP 233,567、EP 297,443、EP 297,442、US 4,933,377、US 3,902,114、US 4,491,628、US 5,041,358、US 4,760,013、US 4,734,444、US 2,833,827、DE 2,904,626、DE 3,604,580和DE 3,604,581中描述的锍盐;J.V.Crivello等,Macromolecules,10(6),1307(1977),J.V.Crivello等,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)中描述的盐;以及C.S.Wen等,Teh Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,第478页,东京,十月(1988)中描述的盐。
作为可以在本发明的第四方面中使用的溶解抑制剂,重氮盐是特别优选的。重氮盐的特别优选的实例包括JP 5-158230A中描述的那些。
盐的抗衡离子的实例包括:四氟硼酸、六氟磷酸、三异丙基萘磺酸、5-硝基-邻-甲苯磺酸、5-磺基水杨酸、2,5-二甲基苯磺酸、2,4,6-三甲基苯磺酸、2-硝基苯磺酸、3-氯苯磺酸、3-溴苯磺酸、2-氟癸酰基萘磺酸、十二烷基苯磺酸、1-萘酚-5-磺酸、2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰基-苯磺酸、以及对甲苯磺酸。这些中,六氟磷酸以及烷基芳族磺酸如三异丙基萘磺酸和2,5-二甲基苯磺酸是特别优选的。
醌二叠氮化合物的优选的实例包括邻醌二叠氮化合物。用于在本发明中使用的邻醌二叠氮化合物是具有至少一个邻醌二叠氮基团并且被热分解以增加碱溶性的化合物,并且可以使用具有多种结构的化合物。换言之,邻醌二叠氮化合物通过以下两个作用增强光敏体系的溶解性:抑制粘合剂溶解的功能由于邻醌二叠氮的热分解而丧失的作用,以及邻醌二叠氮自身变为碱溶性材料的作用。
可以在本发明的第四方面中使用的邻醌二叠氮化合物的实例包括J.Koser,“光敏体系(Light--Sensitive Systems)”(John Wiley & Sons.Inc.),第339-352页中描述的化合物。通过允许与多种芳族多羟基化合物或与芳族氨基化合物反应而形成的邻醌二叠氮化合物的磺酸酯或磺酸酰胺是优选的。邻醌二叠氮化合物的优选的实例还包括如JP 43-28403B中描述的苯醌-(1,2)-二叠氮磺酰氯或萘醌-(1,2)-二叠氮-5-磺酸酰氯和连苯三酚-丙酮树脂的酯;以及如US 3,046,120和US 3,188,210中描述的苯醌-(1,2)-二叠氮磺酰氯或萘醌-(1,2)-二叠氮-5-磺酰氯和苯酚-甲醛树脂的酯。
可以优选使用的邻醌二叠氮化合物的其他实例包括:萘醌-(1,2)-二叠氮-4-磺酰氯和苯酚-甲醛树脂或甲酚-甲醛树脂的酯;以及萘醌-(1,2)-二叠氮-4-磺酰氯和连苯三酚-丙酮树脂的酯。其他可用的邻醌二叠氮化合物被报告在很多专利文献中,其实例包括JP 47-5303A、JP 48-63802A、JP48-63803A、JP 48-96575A、JP 49-38701A、JP 48-13354A、JP 41-11222B、JP 45-9610B、JP 49-17481B、US 2,797,213、US 3,454,400、US 3,544,323、US 3,573,917、US 3,674,495、US 3,785,825、GB 1,227,602、GB 1,251,345、GB 1,267,005、GB 1,329,888、GB 1,330,932和DE 854,890。
基于每个记录层的总固体含量,优选以1至50重量%,更优选5至30重量%,并且最优选10至30重量%的量加入邻醌二叠氮化合物。这些化合物可以单独使用,但也可以作为其两种以上的混合物使用。
除邻醌二叠氮化合物之外的添加剂优选以1至50重量%,更优选5至30重量%,并且最优选10至30重量%的量加入。
在本发明的第四方面中所使用的添加剂和粘合剂优选被包含在相同层中。
为了形成分辨率提高的图像和对表面上的擦伤的耐受性的目的,可以一起使用如JP 2000-87318A的说明书中描述的含有在分子中具有两个或三个含有3至20个碳原子的全氟烷基的(甲基)丙烯酸酯单体作为聚合成分的聚合物。
为了增加灵敏度,记录层可以还含有环状酸酐、酚类化合物、有机酸等。
环状酸酐的实例包括:如US 4,115,128中描述的,邻苯二甲酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、3,6-桥氧-Δ4-四氢邻苯二甲酸酐、四氯邻苯二甲酸酐、马来酸酐、氯马来酸酐、α-苯基马来酸酐、琥珀酸酐和均苯四酸酐。
酚类化合物的实例包括:双酚A、对硝基苯酚、对乙氧基苯酚、2,4,4′-三羟基二苯甲酮、2,3,4-三羟基二苯甲酮、4-羟基二苯甲酮、4,4′,4″-三羟基三苯基甲烷和4,4′,3″,4″-四羟基-3,5,3′,5′-四甲基三苯基甲烷。
有机酸的实例包括:如JP 60-88942A和JP 2-96755A中描述的,磺酸、亚磺酸、烷基硫酸、膦酸、磷酸酯以及羧酸。其具体实例包括:对甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、对甲苯亚磺酸、乙基硫酸、苯基膦酸、苯基次膦酸、苯基磷酸酯、二苯基磷酸酯、苯甲酸、间苯二甲酸、己二酸、对甲苯甲酸、3,4-二甲氧基苯甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、4-环己烯-1,2-二羧酸、芥酸、月桂酸、正十一烷酸和抗坏血酸。
印刷版的材料中环状酸酐、酚类化合物和有机酸的含量优选为0.05至20重量%,更优选0.1至5重量%,并且最优选0.1至10重量%。
例如,可以进一步将在可见光范围内具有大的吸收的染料作为图像着色剂加入至图像记录层。其具体实例包括JP 62-293247A中描述的那些,如Oil Yellow#101、Oil Yellow#103、Oil Pink#312、Oil Green BG、Oil BlueBOS、Oil Blue#603、Oil Black BY、Oil Black BS和Oil Black T-505(OrientChemical Industries Co.,Ltd.);以及Victoria Pure Blue、Crystal Violet(CI42555)、Methyl Violet(CI 42535)、Ethyl Violet、Rhodamine B(CI 145170B)、Malachite Green(CI 42000)、Methylene Blue(CI 52015)以及Aizen SpilonBlue C-RH(Hodogaya Chemical Co.,Ltd.)。
优选加入这些染料以在图像形成之后清楚地在图像区与非图像区之间区分。基于记录层的总固体含量的加入量优选为0.01重量%至10重量%。
为了增加对于显影条件的加工稳定性,可以将如JP 62-251740A和JP 3-208514A中描述的非离子表面活性剂,如JP 59-121044A和JP4-13149A中描述的两性表面活性剂,如EP 950517A中描述的硅氧烷化合物,或如JP 11-288093A中描述的含氟单体的共聚物加入至图像记录层。
非离子表面活性剂的具体实例包括:脱水山梨醇三硬脂酸酯、脱水山梨醇单棕榈酸酯、脱水山梨醇三油酸酯、硬脂酸单甘油酯和聚氧乙烯壬基苯基醚。
两性表面活性剂的具体实例包括:烷基二(氨基乙基)甘氨酸、烷基聚氨基乙基甘氨酸盐酸盐、2-烷基-N-羧基乙基-N-羟乙基咪唑烷甜菜碱和N-十四烷基-N,N-甜菜碱型表面活性剂(例如,“AMOGEN K”(商品名),由Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co.,Ltd.制备)。
硅氧烷化合物优选为二甲基硅氧烷与聚环氧烷的嵌段共聚物。其具体实例包括聚环氧烷改性的硅氧烷,如DBE-224、DBE-621、DBE-712、DBP-732和DBP-534(Chisso Corporation)和Tego Glide 100(Evonik TegoChemie GmbH,德国)。
非离子表面活性剂和两性表面活性剂优选占记录层的0.05重量%至15重量%,并且更优选0.1重量%至5重量%。
可以将印出剂加入至在本发明的第四方面中的平版印刷版原版,所述印出剂是用于通过曝光加热之后立即获得可视图像的材料,或作为图像着色剂的染料或颜料。
印出剂的典型的实例是有机染料的组合,所述有机染料可以与可以归因于曝光时的加热而释放酸的化合物(光酸释放剂)形成盐。
该组合的具体实例包括:如JP 50-36209A和JP 53-8128A中描述的,邻萘醌二叠氮-4-磺酰卤与可成盐有机染料的组合;以及如JP 53-36223A、JP 54-74728A、JP 60-3626A、JP 61-143748A、JP 61-151644A和JP63-58440A中描述的,三卤甲基化合物与可成盐有机染料的组合。三卤甲基化合物分为唑化合物和三嗪化合物。两种化合物都具有优异的暂时稳定性并产生清晰的印出图像。光酸释放剂的其他实例包括如JP 55-62444A中描述的多种邻萘醌二叠氮化合物,如JP 55-77742A中描述的2-三卤甲基-5-芳基-1,3,4-二唑化合物,以及重氮盐。
可以任选地将增塑剂加入至本发明的第四方面中的记录层形成用涂布液,以便赋予涂布膜柔韧性。例如,可以使用丁基邻苯二甲酰、聚乙二醇、柠檬酸三丁酯、邻苯二甲酸二乙酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二己酯、邻苯二甲酸二辛酯、磷酸三甲苯酯、磷酸三丁酯、磷酸三辛酯、油酸四氢糠基酯、丙烯酸或甲基丙烯酸的低聚物和聚合物。
本发明的第四方面中的平版印刷版原版通常可以通过相继将各自通过将成分溶解在溶剂中所获得的记录层形成用涂布液涂布至适当的载体上而制备。
可以以所述浓度使用在本发明的第二方面中描述的那些溶剂作为适合于形成记录层的溶剂。
优选的是下记录层和下记录层上的上记录层(或其他记录层)基本上彼此分开地形成。
形成彼此分开的两个层的方法的实例包括:利用下记录层中含有的成分在溶剂中的溶解性与上记录层中含有的成分在溶剂中的溶解性之间的差别的方法,以及其中在将上记录层涂布之后将溶剂干燥并快速移除的方法。然而,方法不限于此。
利用下记录层中含有的成分在溶剂中的溶解性与上记录层中含有的成分在溶剂中的溶解性之间的差别的方法的实例包括:当涂布用于上记录层的涂布液时使用不溶解下记录层中含有的碱溶性树脂的溶剂的方法。以这种方式,可以清楚地将通过双层涂布形成的涂布膜彼此分开。例如,选择在溶解作为上记录层中的成分的碱溶性树脂的溶剂如甲基乙基酮和1-甲氧基-2-丙醇中不溶的成分作为下记录层的成分,使用溶解下记录层中含有的成分的溶剂体系涂布下记录层,并且将涂布膜干燥,其后,将含有碱溶性聚合物作为主要成分的上记录层用形成涂布液溶解在甲基乙基酮、1-甲氧基-2-丙醇等中,并且涂布并干燥,从而可以形成两个层。
当在涂布上记录层形成用涂布液时使用采用不溶解下记录层中含有的碱溶性树脂的溶剂的方法时,可以将溶解下记录层中含有的碱溶性树脂的溶剂与不溶解该碱溶性树脂的溶剂混合。上记录层与下记录层之间的混合比可以通过改变两种溶剂的混合比任意控制。如果溶解下记录层中含有的碱溶性聚合物的溶剂的比例增加,则当涂布以形成上记录层时,下记录层的一部分被溶解,并且所溶解的成分在干燥之后作为颗粒成分被包含在上记录层中。颗粒成分在上记录层的表面上形成突起,从而提高擦伤耐受性。另一方面,下记录层中的成分溶入上记录层中,导致膜品质和下记录层的耐化学性劣化的倾向。通过考虑到每个层的物理性质这样控制混合比,可以展现多种特征,并且也可以得到层之间的部分相容,这将在下文中描述。
在本发明的第四方面中,当使用如上所述的混合溶剂作为用于上记录层的涂布液的溶剂时,在效果方面,在耐化学性方面,基于用于上记录层的涂布液所使用的溶剂的量,可以溶解下记录层中的碱溶性聚合物的溶剂的量优选为80重量%以下,并且在擦伤耐受性方面更优选10重量%至60重量%。
之后,在形成第二层(上记录层)之后非常快速地干燥溶剂的方法的实例包括以下方法:包括从大约设置在垂直于卷的输送方向的狭缝喷嘴吹出高压气体的方法,包括从卷的底侧通过其中提供有加热介质如蒸汽的辊(加热辊)将热能作为传导热提供至卷的方法,以及这些方法的组合。
在本发明的第四方面中,可以使用与本发明的第一方面中的热敏层的形成相关描述的多种涂布方法涂布每个层,如记录层。
用于形成上记录层的涂布方法适宜地在非接触系统中进行,以防止当涂布上记录层时对下记录层的损坏。虽然与在溶剂涂布中通常使用的方法相同,可以使用作为接触系统的棒涂,适宜的是在顺转驱动系统中进行涂布以防止损坏下记录层。
为了在抑制显影过程中残留膜的出现的同时确保印刷寿命,在单层的情况下,根据本发明的第四方面的平版印刷版原版中的干燥的记录层的涂布重量优选在0.7g/m2至4.0g/m2,并且更优选在0.8g/m2至3.0g/m2的范围内。
此外,在多层的情况下,干燥的下记录层的涂布重量优选在0.5g/m2至1.5g/m2,并且更优选在0.7g/m2至1.0g/m2的范围内,并且干燥的上记录层的涂布重量优选在0.05g/m2至1.0g/m2,并且更优选在0.07g/m2至0.7g/m2的范围内,以便确保印刷寿命,同时抑制显影过程中残留膜的出现。当上记录层包含两个或多个的子层时,涂布重量显示其总涂布重量。
因为与在本发明的第二方面中描述的相同的原因,可以将表面活性剂加入至用于记录层的涂布液。合适的表面活性剂及其合适的添加量与在本发明的第二方面中的那些相同,并且因此将对它们的描述省略。
[下涂层]
本发明的第四方面中的平版印刷版原版包括载体和形成在载体上的上述图像记录层,并且可以任选地具有设置在载体与图像记录层之间的下涂层。
可以使用多种有机化合物作为下涂层的成分。其实例包括:羧甲基纤维素、糊精、阿拉伯树胶、具有氨基的膦酸如2-氨基乙基膦酸;可以具有取代基的有机膦酸,如苯基膦酸、萘基膦酸、烷基膦酸、甘油基膦酸、亚甲基二膦酸和亚乙基二膦酸;可以具有取代基的有机磷酸,如苯基磷酸、萘基磷酸、烷基磷酸和甘油基磷酸;可以具有取代基的有机次膦酸,如苯基次膦酸、萘基次膦酸、烷基次膦酸和甘油基次膦酸;氨基酸如甘氨酸和β-丙氨酸;和具有羟基的胺的盐酸盐,如三乙醇胺盐酸盐。这些有机化合物可以单独使用或以其两种以上的组合使用。
有机下涂层可以通过包括下列方法的方法形成:包括将溶液涂布至铝板上并且之后将所涂布的溶液干燥以形成下涂层的方法,在所述溶液中将所述有机化合物的任一种溶解在水或有机溶剂如甲醇、乙醇或甲基乙基酮或它们的混合溶剂中;以及包括将铝板浸渍至溶液中以在其上吸附化合物,用水等冲洗铝板,并且干燥所涂布的膜以形成下涂层的方法,在所述溶液中将所述有机化合物的任一种溶解在水或有机溶剂如甲醇、乙醇或甲基乙基酮或它们的混合溶剂中。在前一种方法中,可以以不同方式涂布具有0.005至10重量%的浓度的有机化合物的溶液。在后一种方法中,溶液中有机化合物的浓度为0.01至20重量%,并且优选0.05至5重量%,用于浸渍的温度为20至90℃,并且优选25至50℃,并且用于浸渍的时间为0.1秒至20分钟,并且优选2秒至1分钟。可以将在这些方法中使用的溶液的pH用碱性物质如氨、三乙胺或氢氧化钾,或酸性物质如盐酸或磷酸在1至12的范围内调节。此外,也可以将黄色染料加入至溶液以便提高图像记录材料的色调再现性。
在印刷寿命方面,下涂层的涂布重量适宜地为2至200mg/m2,并且优选5至100mg/m2
[制备平版印刷版的方法]
制备根据本发明的第四方面的平版印刷版的方法是包括图像记录步骤和显影步骤的方法,所述图像记录步骤用于通过在本发明的第四方面中的平版印刷版原版上图像式曝光以记录图像,而所述显影步骤用于将具有记录在其上的图像的平版印刷版原版用pH为9以上的显影液显影以获得平版印刷版。
[图像记录步骤]
图像记录步骤是用于通过图像式曝光在本发明的第四方面中的平版印刷版原版上记录图像的步骤。
如本文所使用的图像式曝光是指通过具有例如线图像或网点图像的透明底片图像式曝光,或通过使用数字数据的激光束扫描的图像式曝光。
使用具有近红外区至红外区内发射波长的光源作为用于曝光的光源。具体地,优选将平版印刷版原版由来自发射具有760nm至1,200nm的波长的红外线的固态激光器或半导体激光器的光图像式曝光。
[显影步骤]
显影步骤是用于将具有在图像记录步骤中记录的图像的本发明的第四方面中的平版印刷版原版用pH为9以上的显影液显影以获得平版印刷版的步骤。
虽然显影过程可以在曝光之后立即进行,但是可以在图像记录步骤与显影步骤之间进行热处理。热处理优选在60℃至150℃的温度进行5秒至5分钟。可以使用传统已知的多种方法用于加热。加热方法的实例包括其中当使其与板式加热器或陶瓷加热器接触时加热记录材料的方法,以及使用灯或热空气的非接触方法。该热处理使得当激光照射时用于记录所需的激光能量减少。
在本发明的第四方面中,可以使用任何传统已知的碱水溶液作为显影液和补充液,用于由平版印刷版原版制版。
可以应用至本发明的第四方面中的平版印刷版原版的显影过程的显影液是具有9.0至14.0并且优选12.0至13.5的pH的显影液。
可以使用传统已知的碱水溶液作为显影液(在下文中将补充液也称为显影液)。示例性无机碱性盐包括:硅酸钠、硅酸钾、磷酸三钠、磷酸三钾、磷酸三铵、磷酸氢二钠、磷酸氢二钾、磷酸氢二铵、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、硼酸钠、硼酸钾、硼酸铵、氢氧化钠、氢氧化铵、氢氧化钾和氢氧化锂。示例性有机碱试剂包括:单甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺、三异丙胺、正丁胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、吖丙啶、乙二胺和吡啶。可以单独或以它们的两种以上的组合使用这些碱水溶液。
此外,也可以使用含有非还原糖和碱的碱水溶液。非还原糖是指由于缺乏自由醛基团或酮基团而不具有还原能力的糖,并且被分为其中还原性基团彼此结合的海藻糖低聚糖,其中糖的还原性基团与非糖物结合的苷,以及其中将糖通过氢化还原的糖醇。在本发明的第四方面中可以有益地使用这些非还原性糖中的任意一种或多种。
海藻糖低聚糖的实例包括蔗糖和海藻糖。苷的实例包括:烷基葡糖苷、酚类葡糖苷以及芥子油葡糖苷。糖醇的实例包括:D,L-阿糖醇、核糖醇、木糖醇、D,L-山梨糖醇、D,L-甘露糖醇、D,L-艾杜糖醇、D,L-塔罗糖醇、卫矛醇以及阿洛醇(allodulcitol)。此外,通过氢化二糖获得的麦芽糖醇,以及通过氢化低聚糖获得的还原产物(即,还原淀粉糖浆)是优选使用的。这些中,糖醇和蔗糖是特别优选的。D-山梨糖醇、蔗糖以及还原淀粉糖浆是优选的,因为它们具有在合适的pH范围内的缓冲作用,并且不昂贵。
这些非还原糖可以单独使用,或者组合使用其两种以上,并且优选占显影液的0.1至30重量%,并且更优选1至20重量%。
可以与一种或多种非还原性糖组合的碱可以是传统已知的碱试剂。其实例包括无机碱试剂如氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、磷酸三钠、磷酸三钾、磷酸三铵、磷酸二钠、磷酸二钾、磷酸二铵、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、硼酸钠、硼酸钾和硼酸铵;以及有机碱试剂如单甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺、单异丙胺、二异丙胺、三异丙胺、正丁胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、吖丙啶、乙二胺和吡啶。
单独或以其两种以上的组合使用这些碱试剂。在这些中,氢氧化钠和氢氧化钾是优选的。这是因为通过调整加入至非还原性糖的碱试剂的量可以在宽的pH范围内调节pH。碱试剂如磷酸三钠、碳酸钠和碳酸钾本身具有缓冲功能并且因而是优选的。
已知的是,在使用自动显影机进行显影的情况下,可以通过加入具有比显影液的碱性强度更高的碱性强度的水溶液(或,补充剂)处理大数量的平版印刷版原版,从而长时期不更换显影槽中的显影液。该补充系统也优选应用至本发明的第四方面。可以任选地将多种表面活性剂和有机溶剂结合至显影液和补充剂中,以便促进或抑制可显影性,分散显影过程中生成的浮渣,并且提高印刷版中图像区的亲墨性。表面活性剂的优选实例包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、非离子表面活性剂和两性表面活性剂。如果需要,可以将以下各种加入至显影液和补充剂中:还原剂如氢醌、间苯二酚、无机酸如亚硫酸或亚硫氢酸的钠或钾盐,有机羧酸,消泡剂和水软化剂。随后对用上面描述的显影液和补充剂显影的印刷版进行用洗涤水、含有表面活性剂和其他成分的冲洗溶液、以及含有阿拉伯树胶和淀粉衍生物的减敏溶液的后处理。在本发明的第四方面中,在使用平版印刷版原版作为印刷版的情况下,可以以不同组合采用这些处理用于后处理。
近年来,在制版和印刷工业中为了将制版工艺合理化并标准化,用于印刷版的自动显影机被广泛使用。这些自动显影机通常由显影部分和后处理部分组成,并且包括用于输送印刷版的装置,不同的处理溶液槽,以及喷雾装置。这些机器是用于通过喷射相应的处理液而将已曝光的印刷版显影的机器,在将印刷版水平传递的同时,所述处理液通过喷雾嘴被泵至已曝光的印刷版之上。最近,其中将印刷版浸渍在填充有处理液的处理液槽中并通过液体中的导向辊的方式传送的方法也引起了关注。这种自动处理可以在将补充剂按照所要处理的量、操作时间以及其他因素加入至相应的处理液的同时进行处理。也可以使用其中使用新处理液进行处理的通常所说的可丢弃体系。
下面描述处理本发明的第四方面中的平版印刷版原版的方法。在通过将平版印刷版原版图像式曝光获得的平版印刷版上存在不需要的图像区(例如,底片图像胶片的胶片边缘迹线)的情况下,将已曝光的版显影,并且对以显影的版进行用水洗涤、冲洗和涂胶中的至少一种,将不需要的图像区擦除。擦除优选通过,例如,JP 2-13293B中描述的方法进行,所述方法包括将擦除溶液涂布至不需要的图像区,允许印刷版静置给定的时间期间,并且用水洗涤版。该擦除也可以通过JP 5-174842A中描述的方法进行,所述方法包括用通过光纤引导的光化射线照射不需要的图像区,并且之后将版显影。
在按需要用减敏胶涂布之后,可以对如上所述获得的平版印刷版进行印刷步骤。然而,为获得具有更长的印刷寿命的平版印刷版,应用焙烧处理。平版印刷版的焙烧优选通过用如JP 61-2518B、JP 55-28062B、JP62-31859A或JP 61-159655A中描述的抗蚀刻液处理进行。
抗蚀刻液处理的方法的实例包括:包括将抗蚀刻液用浸透溶液的海绵或脱脂棉涂布至平版印刷版上的方法;包括将平版印刷版浸渍在装有抗蚀刻液的桶中的方法;和包括用自动涂布机将抗蚀刻液涂布至平版印刷版的方法。当在涂布溶液之后用刮板或橡皮辊使所涂布的溶液的量均匀时,获得更好的结果。
通常,所涂布的抗蚀刻液的量适宜地为0.03g/m2至0.8g/m2(干燥重量)。如果需要,在干燥之后,在焙烧处理机(例如,焙烧处理机BP-1300,可得自FUJIFILM Corporation)等中将其上涂布有抗蚀刻液的平版印刷版加热至高温。在这种情况下,可能依赖于形成图像的成分的种类的加热温度和加热时间优选为180℃至300℃和1分钟至20分钟。
如果需要,可以适当地对已焙烧的平版印刷版进行传统的处理如用水洗涤和涂胶。然而,在使用含有水溶性聚合物化合物等的抗蚀刻液的情况下,可以省略通常所说的减敏处理如涂胶。
将在上述处理之后获得的平版印刷版安装在胶版印刷机上并用于印刷大量的印件。
实施例
下面通过实施例的方式详细描述本发明。然而,本发明不应被理解为限定于以下实施例。
下面描述的实施例1至12和比较例1至4是关于本发明的第一方面的那些。
[铝合金板的制造]
(实施例1至12)
使用表1中所示组成的每个铝合金熔体在表2中所示的条件下通过包括中间退火的连续铸造制备铝合金板。
使用具有非常小的碳化物含量的铝材料,并且在熔化炉的出口浸入一个或多个碳部件以通过0至12的范围内的碳部件的数量调节铝熔体中碳化铝的含量。
更具体地,首先将每个组成的铝合金熔体通过双辊工艺连续铸造为5.5mm的厚度的铸制板。
之后,将所得到的连续铸制板冷轧为0.9mm的版厚度,之后在表2中所示的条件下对其进行中间退火热处理,并且进一步将其再次冷轧为最终0.3mm的厚度。
之后,使用拉杆(tension level)校正平整度以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
(比较例1和4)
使用表1中所示组成的每个铝合金熔体通过DC铸造制备铝合金板。更具体地,进行DC(直接冷铸)铸造以形成厚度为500mm的厚板。
之后,将所得到的厚板的两个表面去皮至20mm的深度并在500至600℃进行均热处理。
之后,进行热轧以将版轧至3mm的厚度。版通过由轧制生成的热再结晶并最终通过冷轧至0.3mm的厚度。在410℃至550℃进行中间退火。
之后,使用拉杆校正平整度以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
(每单位重量的碳化铝数目)
首先,从轧制板取1g的量的铝样品,并浸渍在100mL的无水甲醇(保证试剂)中。之后,将数滴溴(保证试剂)混合(将整个容器冷却以防止温度超过40℃)并以5mL的量加入以在40℃在3小时内完全溶解铝。之后,将溶液通过网眼大小为1μm的Teflon(注册商标)过滤器过滤,并且将50mL的10%NaOH溶液在室温倾倒通过过滤器,并反应10分钟。之后,将过滤器用水洗涤并干燥。通过SEM在2,000X下观察过滤器的给定区域,并且从元素分析如EPMA或EDX分析测量识别为是碳化铝的粒子的数目。由给定区域中测量的数目与过滤器的总过滤面积之间的关系计算1g的所溶解的铝中含有的碳化铝粒子的数目。结果在表2中给出。
通过下面描述的方法测定在每个所制备的铝合金板中每单位面积金属间化合物粒子的数目。结果在表2中给出。
(每单位面积金属间化合物粒子的数目)
首先,使用其上的表面油被擦去的所制备的铝合金板作为测量样品。
之后,使用扫描电子显微镜(PC-SEM7401F,JEOL Ltd.)以12.0kV的加速电压和2,000X的放大率收集铝合金板的表面的反射电子图像。
将从所得到的反射电子图像任意选择的五个位置处的图像存为JPEG格式,并用MS-Paint(Microsoft Corporation)转化为bmf(位图文件)格式。
将该bmf格式文件读入图像分析软件ImageFactroy Ver.3.2,日语版(Asahi-Hitec.K.K.)以进行图像分析。其后,将图像统计二进制化处理以数出对应于金属间化合物白点的部分。将等效圆直径指定为用于获得粒径分布的特征量。
等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的数目由粒径分布的结果计算。将从五个位置处的分别图像数据(粒径分布)计算的数字平均并且将平均值四舍五入到接近1,000。
[表1]
表1
[表2]
表2
[载体的制备]
对每个所制备的铝合金板进行下面描述的表面粗糙化处理,以获得用于平版印刷版原版的载体。
进行包括下列处理(a)至(k)的表面粗糙化处理。在所有的处理步骤中都进行冲洗处理。
(a)机械砂目化处理(刷砂目化)
使用如图5中示例性给出的装置,在将磨料浆液以磨料(浮石)在水中的悬浮液(比重,1.12g/cm3)的形式提供至铝合金板的表面同时,进行用旋转辊型尼龙刷的机械砂目化处理。图5显示了铝合金板1、辊型刷2和4、含磨料浆液3,以及支持辊5、6、7和8。
磨料具有40μm的平均粒径和100μm的最大粒径。尼龙刷由6/10尼龙制成,并具有50mm的刷毛长度和0.3mm的刷毛直径。每个尼龙刷由其中形成有孔的300mm直径不锈钢圆筒和密植的刷毛构成。使用三个旋转刷。在每个刷之下设置两个支持辊(200mm直径)并且分开300mm间隔。将刷辊压向铝合金板直至旋转刷的驱动马达上的负荷比将刷辊压向版之前大7kW。刷旋转的方向与铝板移动的方向相同。刷的转速为200rpm。
(b)碱蚀处理
通过用具有25重量%的氢氧化钠浓度,100g/L的铝离子浓度和60℃的温度的水溶液喷射对铝合金板进行蚀刻处理,以从铝合金板溶解3g/m2的材料。之后将版通过用水喷射冲洗。
(c)去污处理
通过从喷射管线用具有35℃的温度和0.5重量%的铝离子浓度的硫酸水溶液(浓度:300g/L)对版喷射而进行去污处理5秒,并且之后将版通过用水喷射冲洗。
(d)电解砂目化处理
其后,使用其中通过将氯化铝溶解在1重量%盐酸水溶液中而将铝离子浓度调节至4.5g/L的电解液(溶液温度:35℃),60Hz的AC电源和平槽型电解槽连续进行电化学砂目化处理。在AC电源中使用正弦波形。在电化学砂目化处理中,铝合金板的阳极反应过程中的AC峰值电流密度为30A/dm2。供给铝合金板上的阳极反应的总电量与供给其上的阴极反应的总电量之比为0.95。作为当铝合金板充当阳极时的总电量的电量为480C/dm2。用泵将电解液循环以在电解槽内搅动。
(e)碱蚀处理
通过使用喷射管线用具有5重量%的氢氧化钠浓度,5g/L的铝离子浓度,以及35℃的温度的水溶液喷射铝合金板,以进行蚀刻处理。通过蚀刻从经过电解砂目化处理的铝合金板移除的材料的量为0.05g/m2
(f)去污处理
通过从喷射管线用具有300g/L的硫酸浓度,5g/L的铝离子浓度和35℃的溶液温度的水溶液喷射版5秒进行去污处理。
(j)阳极氧化处理
使用图6中所示结构的阳极氧化装置进行阳极氧化处理。使用硫酸作为用于提供至第一和第二电解部分的电解液。每个电解液含有170g/L的硫酸和0.5重量%的铝离子并具有38℃的温度。之后通过用水喷射冲洗版。调整阳极氧化时间以获得对应于表3中所示的阳极氧化膜厚度的最终氧化物膜量。
(k)亲水化处理(用聚乙烯基膦酸处理)
将版浸渍在40℃的含有4g/L的聚乙烯基膦酸的水溶液中10秒,用纯水冲洗并干燥。温度为38℃。之后通过用水喷射冲洗版。
[平版印刷版原版的制备]
通过以下步骤在通过上述步骤获得的实施例和比较例中的载体上形成光敏层,从而获得平版印刷版原版。
(1)光敏层的形成
将下面给出的组成的可光聚合组合物P-1涂布至载体上至1.4g/m2的干燥涂布重量,并在100℃干燥1分钟以形成光敏层。
可光聚合组合物P-1
(颜料:15重量份,
分散剂(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物
(共聚摩尔比:83/17)):10重量份;
环己酮:15重量份)
[化学式12]
可聚合化合物(1)(同分异构体混合物)
[化学式13]
可聚合化合物(2)
[化学式14]
粘合剂聚合物(2)
[化学式15]
增感染料(1)
[化学式16]
聚合引发剂(1)
[化学式17]
链转移剂(1)
(2)保护层的形成
将下面给出的组成的保护层形成用涂布液涂布至光敏层上至2.3g/m2的干燥涂布重量,并在125℃干燥75秒,以形成保护层,从而获得实施例和比较例中的平版印刷版原版。
保护层形成用涂布液
[平版印刷版原版的评价]
如下评价通过以上程序获得的平版印刷版原版。结果在表3中给出。
(1)印刷寿命的评价
使用Vx9600CTP(光源的波长:405nm,由富士胶片公司(FUJIFILMCorporation)制造),在将所获得的平版印刷版原版的表面上的曝光量控制为0.05mJ/cm2的同时,对平版印刷版原版进行图像绘图。将要曝光的图像设定为包含实心图像。之后,将平版印刷版原版在115℃的温度预热12秒,并使用装有具有在低于25℃的溶液温度显示28秒的显影时间的组成的碱显影液的PS处理机(IP850HD,由G&J制造)显影。作为润饰液,使用通过用水以1∶3的比例稀释FN-6(富士胶片公司(FUJIFILM Corporation))制备的水溶液。
(碱显影液的组成)
在Lithrone印刷机(Komori Corporation)中,使用DIC-GEOS(N)黑墨(Dainippon Ink and Chemicals,Inc.)和蚀刻液EU-3(FUJIFILMCorporation)/水/异丙醇=1/89/10(体积比)的混合物对所获得的平版印刷版进行印刷,并且通过当实心图像的密度降低变得视觉上可察觉时的印件的数目评价印刷寿命。结果在表3中给出。
非常好:印件的数目为70,000以上;
好:印件的数目为至少50,000但少于70,000;
普通:印件的数目为至少30,000但少于70,000;
差:印件的数目为少于30,000。
(2)耐浮渣性的评价
在印刷10,000份印件之后对表层(blanket)目测检查,并且基于以下标准进行评价。结果在表3中给出。
非常好:表层未被沾污;
好:表层被稍微沾污但任良好;
普通:表层在可容忍的水平内被沾污;
差:表层被沾污,导致印件被明显地沾污;
(3)对白点形成耐受性的评价
将具有形成在其上的光敏层和保护层的平版印刷版原版在室温储存在具有20至90%的湿度的气氛中3个月,并且评价在光敏层中是否出现缺陷。结果在表3中给出。
优异:白点缺陷的数目为120pcs/m2以下。
非常好:白点缺陷的数目为121pcs/m2至250pcs/m2
好:白点缺陷的数目为251pcs/m2至350pcs/m2
普通:白点缺陷的数目为351pcs/m2至500pcs/m2
差:白点缺陷的数目为501pcs/m2至600pcs/m2
非常差:白点缺陷的数目为601pcs/m2以上。
[表3]
表3
实施例和比较例显示,与铝块中具有给定尺寸以上的碳化铝粒子的数目比较,在1.3μm以上的阳极氧化膜厚处白点缺陷的数目减少。
下面描述的实施例13至27和比较例5至8是关于本发明的第二方面的那些。
[铝合金板的制备]
(实施例13至27)
使用表4中所示组成的每个铝合金熔体在表5中所示的条件下通过包括热处理(中间退火)的连续铸造制备铝合金板。
更具体地,首先将每个组成的铝合金熔体通过双辊工艺连续铸造为5.5mm的厚度的铸制板。
之后,将所得到的连续铸制板冷轧为0.9mm的版厚度,之后在表5中所示的条件下对其进行中间退火热处理,并且进一步将其再次冷轧为最终0.3mm的厚度。
之后,使用拉杆校正平整度以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
(比较例5至8)
使用表4中所示组成的每个铝合金熔体通过不包括热处理的DC铸造制备铝合金板。
更具体地,通过DC铸造将铝合金熔体Al-5铸造为500mm的厚度的厚板。
之后,将所得到的厚板的两个表面去皮至20mm的深度并通过在500至600℃均热进行厚板的热处理。
之后,进行热轧以将厚板轧至3mm的厚度并在410至550℃对其进行中间退火。之后,通过冷轧使版最终为0.3mm的厚度。
之后,使用拉杆校正平整度以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
通过与实施例1中描述的相同的程序测定每个所制备的铝合金板中每单位面积金属间化合物粒子的数目。结果在表5中给出。
使用X射线衍射仪在以下条件下测定每个所制备的铝合金板中Al-Fe金属间化合物和α-AlFeSi的峰值计数。对于Al-Fe金属间化合物,测定Al3Fe和Al6Fe的峰值计数并且在表5中将它们中的具有最大值的一种作为Al-Fe金属间化合物的类型(Al-Fe的类型)给出。Al3Fe、Al6Fe和α-AlFeSi分别具有24.1°、18.0°和42.0°的峰值角度。峰计数值为在相应的角度测量的衍射强度(cps)值。结果在表5中给出。
*X射线衍射仪:RAD-rR(12kW回转对阴极型;Rigaku Corporation)
*设定管电压:50kV;
*设定管电流:200mA;
*取样间隔:0.01°;
*扫描速率:1°/分钟;
*2θ扫描范围:10°至70°;并且
*使用石墨单色器。
[表4]
表4
[表5]
表5
[载体的制备]
对每个所制备的铝合金板进行下面描述的表面粗糙化处理,以获得用于平版印刷版原版的载体。
进行包括下列处理(b)至(g)的表面粗糙化处理。在所有的处理步骤中都进行冲洗处理。
(b)碱蚀处理
进行与实施例1中的碱蚀处理(b)的程序相同的程序。
(c)去污处理
进行与实施例1中的去污处理(c)的程序相同的程序。
(d)电解砂目化处理
进行与实施例1中的电解砂目化处理(d)的程序相同的程序。
(e)碱蚀处理
进行与实施例1中的碱蚀处理(e)的程序相同的程序。
(f)去污处理
进行与实施例1中的去污处理(f)的程序相同的程序。
(g)阳极氧化处理
使用磷酸作为电解液进行阳极氧化处理。电解液具有22重量%的磷酸浓度和38℃的温度。之后通过用水喷射冲洗版。最终的氧化物膜的重量为1.5g/m2
对于通过上述程序形成的阳极氧化膜,通过以下程序测量阳极氧化膜的表面层中的平均孔径(平均表面孔径)和微孔内最大直径的平均值(孔最大直径的平均值)。结果在表6中给出。
平均表面孔径:使用超高分辨率SEM(Hitachi S-900)测量阳极氧化膜的表面层中的孔径。使用12V的相对低的加速电压以150,000X的放大率观察表面而不进行用于赋予电导性的气相沉积处理,并且随机选择50个孔以获得平均值。标准偏差为±10%以下。
测量孔内最大直径的平均值的方法:微孔内最大直径通过折叠经过阳极氧化处理的铝合金板并用超高分辨率SEM(Hitachi S-900)观察折叠过程中裂开的横向表面(通常称为断裂表面)从而测量。使用12V的相对低的加速电压以150,000X的放大率不进行用于赋予电导性的气相沉积处理观察在阳极氧化膜的断裂表面上看到的微孔内的最大直径部分,并且随机选择50个孔以获得平均值。标准偏差为±10%以下。
[表6]
表6
[平版印刷版原版的制备]
通过以下程序在通过上述程序获得的载体上形成图像记录层从而获得平版印刷版原版。
将下面给出的组成的图像形成层形成用涂布液涂布至30g/m2的厚度并干燥。
红外吸收染料(I)
[化学式18]
着色剂(I)
[化学式19]
将从而获得的平版印刷版原版在200mJ/cm2的版表面能量和2,400dpi的分辨率的条件下使用配备有水冷型40W红外半导体激光器的Trendsetter 3244VFS(Creo)曝光,并且其后使用如图5中所示具有两个相同机制的旋转刷辊的自动处理机显影。将要曝光的图像设定为包含实心图像和25μm点FM屏的50%网点图。所使用的旋转刷辊包括:第一刷辊,其外直径为90mm,其中植有刷毛直径为200μm并且刷毛长度为17mm的聚对苯二甲酸丁二醇酯纤维,并且所述第一刷辊在与输送方向相同的方向上以200rpm旋转(刷边缘处圆周速度为0.94m/sec);以及第二刷辊,其外直径为60mm,其中植有刷毛直径为200μm并且刷毛长度为17mm的聚对苯二甲酸丁二醇酯纤维,并且所述第二刷辊在与输送方向相反的方向以200rpm旋转(刷边缘处圆周速度为0.63m/sec)。将平版印刷版原版以100cm/分钟的输送速度输送。使用处理液1。将处理液通过循环泵经由喷射管线喷淋以提供至版表面。
<处理液1>
在搅拌下向700g的去离子水加入77.3mL的Dowfax 3B2(烷基二苯基醚二磺酸酯,可得自Dow Chemical Company),32.6g的柠檬酸三钠二水合物和9.8g的柠檬酸。再加入去离子水直至1,000g的重量。pH为约5.0。
[平版印刷版原版的评价]
如下评价通过以上程序获得的平版印刷版原版。结果在表7中给出。
(1)印刷寿命的评价
将所得到的平版印刷版安装在印刷机SOR-M(Heidelberger)的圆筒上并进行印刷。所使用的润版液为含有4体积%的IF-102(FUJIFILMCorporation)的水溶液,并且所使用的墨为TK HIGH-ECO-SOYMZ黑(Toyo Ink Co.,Ltd.)。在Tokubishi铜版纸(76.5kg)上以每小时10,000张印件的印刷速度进行印刷。
随着印件数目的增加图像记录层逐渐磨损,从而降低印刷纸上的墨密度。用Gretag密度计测量印刷纸上FM屏的50%网点的网点面积比,并且将所测量的值相对第100张印件中所测量的值降低5%时的印件的数目认为是印刷结束数。基于印刷结束数评价印刷寿命。结果在表4中给出(“非常好”“好”“普通”和“差”的标准见下文)。
非常好:印件的数目为50,000以上;
好:印件的数目为至少40,000但少于50,000;
普通:印件的数目为至少30,000但少于40,000;
差:印件的数目少于30,000。
(2)耐浮渣性的评价
以与实施例1至12和比较例1至4中的(2)耐浮渣性的评价中相同方式进行评价。
(4)对微小腐蚀污点的形成的耐受性的评价
将所得到的平版印刷版原版用薄衬纸在25℃和70%RH调湿1小时,用铝箔牛皮纸包裹并在设定为60℃的烘箱中加热5天。
之后,将温度降低至室温并在不曝光的情况下以与印刷寿命的评价中相同方式将平版印刷版原版显影。
之后,将所得到的平版印刷版安装在印刷机SOR-M(Heidelberger)的圆筒上并进行印刷。所使用的润版液为含有4体积%的IF-102(FUJIFILM Corporation)的水溶液,并且所使用的墨为TKHIGH-ECO-SOYMZ黑(Toyo Ink Co.,Ltd.)。在Tokubishi铜版纸(76.5kg)上以每小时10,000张印件的印刷速度进行印刷以获得500张印件。
目测检查第500张的印件,并数出每100cm2大小为至少20μm的印刷污点的数目。结果在表中给出。
优异:微小腐蚀污点的数目为至多20个(每80cm2);
非常好:微小腐蚀污点的数目为21至50个(每80cm2);
好:微小腐蚀污点的数目为51至80个(每80cm2);
普通:微小腐蚀污点的数目为81至100个(每80cm2);
差:微小腐蚀污点的数目为101至150个(每80cm2);
非常差:微小腐蚀污点的数目为151个以上(每80cm2)。
在每100cm2至多200个的污点数目的情况下,可以将平版印刷版原版评定为对严重的浮渣具有好的耐受性。
[表7]
表7
  印刷寿命   耐浮渣性   微小腐蚀污点的评价结果
  实施例13   非常好   非常好   优异
  实施例14   非常好   非常好   非常好
  实施例15   非常好   非常好   好
  实施例16   好   好   好
  实施例17   非常好   非常好   非常好
  实施例18   非常好   非常好   非常好
  实施例19   非常好   非常好   好
  实施例20   非常好   非常好   普通
  实施例21   非常好   非常好   好
  实施例22   非常好   非常好   好
  实施例23   非常好   非常好   好
  实施例24   非常好   非常好   普通
  实施例25   非常好   非常好   好
  实施例26   非常好   非常好   非常好
  实施例27   非常好   非常好   好
  比较例5   差   差   差
  比较例6   差   差   非常差
  比较例7   差   差   非常差
  比较例8   差   差   非常差
下面描述的实施例28至50和比较例9至14是关于本发明的第三方面的那些。
[铝合金板的制造]
(实施例28至50)
使用表8中所示组成的每个铝合金熔体在表9中所示的条件下通过包括热处理(中间退火)的连续铸造制备铝合金板。
更具体地,首先将每个组成的铝合金熔体通过双辊工艺连续铸造为5.5mm的厚度的铸制板。
之后,将所得到的连续铸制板冷轧为0.9mm的版厚度,之后在表2中所示的条件下对其进行中间退火热处理,并且进一步将其再次冷轧为最终0.3mm的厚度。
之后,使用拉杆校正平整度以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
(比较例9和14)
使用表8中所示组成的每个铝合金熔体通过DC铸造制备铝合金板。
更具体地,通过DC铸造将铝合金熔体Al-5铸造为500mm的厚度的厚板。
之后,将所得到的厚板的两个表面去皮至20mm的深度并通过在500至600℃均热进行厚板的热处理。
之后,进行热轧以将厚板轧至3mm的厚度并在410至550℃对其进行中间退火。之后,通过冷轧使版最终为0.3mm的厚度。
之后,使用拉杆校正平整度以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
通过与实施例1中描述的相同的程序测定每个所制备的铝合金板中每单位面积金属间化合物粒子的数目。通过与实施例13中相同的方法测定每个铝合金板中Al-Fe金属间化合物和α-AlFeSi的峰值计数。结果在表9中给出。
[表8]
表8
[表9]
表9
[载体的制备]
对每个所制备的铝合金板进行下面描述的表面粗糙化处理,以获得用于平版印刷版原版的载体。
进行包括下列处理(a)至(k)的表面粗糙化处理。在所有的处理步骤中都进行冲洗处理。
(a)机械砂目化处理(刷砂目化)
进行与实施例1中的机械砂目化处理(a)的程序相同的程序。
(b)碱蚀处理
进行与实施例1中的碱蚀处理(b)的程序相同的程序。
(c)去污处理
进行与实施例1中的去污处理(c)的程序相同的程序。
(d)电解砂目化处理
使用60Hz AC电压连续地进行电化学砂目化处理。电解液为含有10.5g/L的硝酸,5g/L的铝离子和0.007重量%的铵离子并且具有50℃的溶液温度的水溶液。交流电波形在图1中给出,并且在0.8ms的电流从零达到峰值的时间TP的期间内进行电化学砂目化处理,占空比为1∶1,使用具有梯形波形的交流电,并且用碳电极作为对电极。使用铁氧体作为辅助阳极。使用图2中所示类型的电解槽。
电流峰值处电流密度为30A/dm2。作为当铝合金板充当阳极时的总电量的电量为220C/dm2。在从电源流出的电流中,将5%引向辅助阳极。
之后通过用水喷射冲洗版。
(e)碱蚀处理
进行与实施例1中的碱蚀处理(e)的程序相同的程序。
(f)去污处理
通过用具有15重量%的硫酸浓度(铝离子含量,4.5重量%)和30℃的温度的水溶液喷射版进行去污处理。之后通过用水喷射冲洗版。在去污处理中所使用的硝酸水溶液为来自用交流电在硝酸水溶液中进行的电解砂目化处理步骤的废水。
(g)电解砂目化处理
使用60Hz AC电压连续地进行电化学砂目化处理。电解液为含有7.5g/L的盐酸和5g/L的铝离子并且具有35℃的温度的水溶液。交流电波形在图1中给出,并且在0.8ms的电流从零达到峰值的时间TP的期间内进行电化学砂目化处理,占空比为1∶1,使用具有梯形波形的交流电,并且用碳电极作为对电极。使用铁氧体作为辅助阳极。使用图2中所示类型的电解槽。
电流峰值处的电流密度为25A/dm2。作为当铝合金板充当阳极时的总电量的电量为50C/dm2。在从电源流出的电流中,将5%引向辅助阳极。
之后通过用水喷射冲洗版。
(h)碱蚀处理
通过用具有26重量%的氢氧化钠浓度和6.5重量%的铝离子浓度以及32℃的温度的水溶液喷射对铝合金板进行蚀刻处理,以便从铝合金板溶解0.5g/m2的材料。使用交流电将在之前的电解砂目化处理中生成的基于氢氧化铝的残渣成分移除,并且将所形成的凹坑的边缘溶解并从而光滑化。之后通过用水喷射冲洗版。
(i)去污处理
通过用具有25重量%的硫酸浓度(铝离子含量为0.5重量%)和60℃的温度的水溶液喷射版进行去污处理。之后通过用水喷射冲洗版。
(j)阳极氧化处理
进行与实施例13中的阳极氧化处理(g)的程序相同的程序。
对于所形成的阳极氧化膜,通过与实施例13中相同的程序测量阳极氧化膜的表面层中的平均孔径(平均表面孔径)和微孔内最大直径的平均值(孔最大直径的平均值)。结果在表10中给出。
(k)亲水化处理
通过在20℃的溶液温度的在含有1重量%的3号硅酸钠的水溶液处理槽中浸渍10秒进行亲水化处理(碱金属硅酸盐处理)。之后通过用井水喷射冲洗版。
[平版印刷版原版的制备]
通过以下程序在通过上述程序获得的载体上形成图像记录层,从而获得平版印刷版原版。
(l)下涂层的形成
之后,将下面给出的下涂层形成用涂布液(1)涂布在通过以上程序制备的每个载体上至20mg/m2的干燥涂布重量,从而在载体上形成下涂层。<下涂层形成用涂布液(1)>
[化学式20]
下涂层用化合物(1)
(2)图像记录层的形成
将下面给出的图像记录层形成用涂布液(1)通过棒涂涂布至具有形成在其上的下涂层的载体上,并在烘箱中在70℃干燥60秒以形成具有0.6g/m2的干燥涂布重量的图像记录层,从而获得平版印刷版原版。
<图像记录层形成用涂布液(1)>
在以上组成中使用它们的商品名表示的化合物如下所示。
IRGACURE 250:六氟磷酸(4-甲氧基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘(75重量%的碳酸异丙烯酯溶液)
SR-399:五丙烯酸二季戊四醇酯
BYK 336:改性的二甲基聚硅氧烷共聚物(25重量%的二甲苯/乙酸甲氧基丙酯溶液)
KLUCELM:羟丙基纤维素(2重量%水溶液)
ELVACITE 4026:高度支化的聚甲基丙烯酸甲酯(10重量%的2-丁酮溶液)
[化学式21]
红外吸收染料(2)
(聚合物细粒(1)的水性分散体的制备)
将搅拌器、温度计、滴液漏斗、氮输入管和回流冷凝器连接至1,000ml四颈烧瓶,并且在通过引入氮气进行脱氧的同时,向其中装入20g的聚乙二醇甲基醚甲基丙烯酸酯(PEGMA,实施例28至39和44至50以及比较例9至14中的乙二醇链(EO链)的重复单元的平均数为9,而实施例40至43中的乙二醇链(EO链)的重复单元的平均数变为如表10中所示的值)、200g的去离子水和200g的正丙醇,并且加热直至内部温度达到70℃。之后,将预先制备的10g的苯乙烯(St)、70g的丙烯腈(AN)和0.8g的2,2′-偶氮二异丁腈的混合物在一小时的期间内滴加至烧瓶。在滴加完成之后,使得反应进行5小时。之后,加入0.4g的2,2′-偶氮二异丁腈并且将内部温度升高至80℃。随后,在6小时的期间内加入0.5g的2,2′-偶氮二异丁腈。在总共20小时的反应的最后进行了98%以上的聚合,并且获得聚合物细粒(1)(PEGMA/St/AN=20/10/80(重量比))的水性分散液。聚合物细粒的粒径分布在150nm的粒径处具有最大值。
通过下列方法测定粒径分布:摄取聚合物细粒的电子显微照片,测量显微照片上总共5,000个细粒的粒径,并且在对数坐标上将从所测量的粒径的最大值至0的范围分为50份以通过绘图获得每个粒径的出现几率。将与显微照片上的非球形粒子的粒子面积相同粒子面积的球形粒子的粒径定义为非球形粒子的粒径。
(3)阻氧层的形成
在要具有表10中的阻氧层的载体中,将下面给出的组成的阻氧层形成用涂布液(1)进一步通过棒涂涂布至图像记录层上,并且在烘箱中在120℃干燥60秒,以形成具有0.15g/m2的干燥涂布重量的阻氧层,从而获得平版印刷版原版。
<阻氧层形成用涂布液(1)>
*无机层状化合物(1)的分散体                      1.5g
*聚乙烯醇(CKS50,可得自
Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.;
用磺酸改性;皂化度:至少99摩尔%;
聚合度:300)的6重量%水溶液                      0.55g
*聚乙烯醇(PVA-405,可得自Kuraray Co.,Ltd.;
皂化度:81.5摩尔%;聚合度:500)的6重量%水溶液  0.03g
*表面活性剂(EMALEX 710,
可得自Nihon Emulsion Co.,Ltd.)的1重量%水溶液   0.86g
*离子交换水                                       6.0g
(无机层状化合物(1)的分散体的制备)
向193.6g的离子交换水加入6.4g的合成云母SomasifME-100(可得自Co-Op Chemical Co.,Ltd.),并将混合物在均化器中分散为3μm的如通过激光散射方法测得的平均粒径。所得到的分散粒子具有至少100的纵横比。
[表10]
表10
[平版印刷版原版的评价]
如下评价通过以上程序获得的平版印刷版原版。结果在表11中给出。
(1)印刷寿命的评价
将所得到的平版印刷版原版通过得自FUJIFILM Corporation的配备有1,000rpm的外鼓转速,70%的激光功率和2,400dpi的分辨率的红外半导体激光器的Luxel PLATESETTER T-6000III曝光。将要曝光的图像设定为包含实心图像和20μm点FM屏的50%网点图。
将所得到的平版印刷版原版在曝光之后不经过显影过程安装在Lithrone 26印刷机(Komori Corporation)的印版滚筒上。使用体积比为2/98的润版液Ecolity-2(FUJIFILM Corporation)/自来水和Values-G(N)黑墨(Dainippon Ink and Chemicals,Inc.)。通过Lithrone 26上的标准自动印刷开始程序提供润版液和墨,以进行机上显影,并且在Tokubishi铜版纸(76.5kg)上以每小时10,000张印件的印刷速度进行印刷。
随着印件数目的增加图像记录层逐渐磨损,从而降低印刷纸上的墨密度。用Gretag密度计测量印刷纸上FM屏的50%网点的网点面积比,并且将所测量的值相对第100张印件中所测量的值降低5%时的印件的数目认为是印刷结束数。基于印刷结束数评价印刷寿命。结果在表11中给出(“非常好”“好”“普通”和“差”的标准见下文)。
非常好:印件的数目为50,000以上;
好:印件的数目为至少40,000但少于50,000;
普通:印件的数目为至少30,000但少于40,000;
差:印件的数目少于30,000。
(2)耐浮渣性的评价
以与实施例1中的(2)耐浮渣性的评价相同方式进行评价。
(4)对微小腐蚀污点形成的耐受性的评价
将所得到的平版印刷版原版用薄衬纸在25℃和70%RH调湿1小时,用铝箔牛皮纸包裹并在设定为60℃的烘箱中加热5天。
之后,将温度降低至室温并且在没有显影过程的情况下将版安装在Lithrone 26印刷机(Komori Corporation)的印版滚筒上。
使用体积比为2/98的润版液Ecolity-2(FUJIFILM Corporation)/自来水和Values-G(N)黑墨(Dainippon Ink and Chemicals,Inc.)。通过Lithrone 26上的标准自动印刷开始程序提供润版液和墨,以进行机上显影,并且在Tokubishi铜版纸(76.5kg)上印刷500张印件。
目测检查第500张印件,并数出每100cm2的尺寸为至少20μm的印刷污点的数目。结果在表11中给出。
优异:微小腐蚀污点的数目为至多20个(每80cm2);
非常好:微小腐蚀污点的数目为21至50个(每80cm2);
好:微小腐蚀污点的数目为51至80个(每80cm2);
普通:微小腐蚀污点的数目为81至100个(每80cm2);
差:微小腐蚀污点的数目为101至150个(每80cm2);
非常差:微小腐蚀污点的数目为151个以上(每80cm2)。
在每100cm2至多200个的污点数目的情况下,可以将平版印刷版原版评定为对严重的浮渣具有好的耐受性。
[表11]
表11
  印刷寿命   耐浮渣性   微小腐蚀污点的评价结果
  实施例28   非常好   非常好   优异
  实施例29   非常好   非常好   非常好
  实施例30   非常好   非常好   好
  实施例31   好   好   好
  实施例32   非常好   非常好   非常好
  实施例33   非常好   非常好   非常好
  实施例34   非常好   非常好   好
  实施例35   非常好   非常好   普通
  实施例36   非常好   非常好   好
  实施例37   非常好   非常好   好
  实施例38   非常好   非常好   非常好
  实施例39   非常好   非常好   好
  实施例40   非常好   非常好   好
  实施例41   非常好   非常好   好
  实施例42   非常好   非常好   非常好
  实施例43   好   好   非常好
  实施例44   非常好   非常好   普通
  实施例45   非常好   非常好   普通
  实施例46   非常好   非常好   好
  实施例47   非常好   非常好   非常好
  实施例48   非常好   非常好   优异
  实施例49   非常好   非常好   优异
  实施例50   非常好   非常好   好
  比较例9   差   差   差
  比较例10   差   差   非常差
  比较例11   差   差   非常差
  比较例12   差   差   非常差
  比较例13   差   差   差
  比较例14   差   差   差
下面描述的实施例51至56和比较例15至16是关于本发明的第四方面的那些。
(实施例51至56)
使用表12中所示组成的每个铝合金熔体在表13中所示的条件下通过包括热处理(中间退火)的连续铸造制备铝合金板。
更具体地,首先将铝合金熔体通过双辊工艺连续铸造为5.5mm的厚度的铸制板。
之后,将所得到的连续铸制板冷轧为0.9mm的版厚度,之后在表13中所示的条件下对其进行中间退火热处理,并且进一步将其再次冷轧为最终0.3mm的厚度。
之后,使用拉杆校正平整度以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
(比较例15和16)
通过DC铸造将表12中所示组成的每个铝合金熔体铸造为厚板,并且对厚板进行均热处理和在表13中所示的条件下的热处理(中间退火)以制备铝合金板。
更具体地,通过DC铸造将铝合金熔体铸造为500mm的厚度的厚板。
之后,将所得到的厚板的两个表面去皮至20mm的深度并且在500至600℃进行均热处理。
之后,进行热轧以将厚板轧至3mm的厚度,并在表13中所示的条件下对其进行中间退火热处理。
之后,进行冷轧以使版最终为0.3mm的厚度,并使用拉杆校正平整度,以制备铝合金板。所制备的每个铝合金板的组成与用于其所使用的铝合金熔体的组成相同。
通过上面描述的方法测定每个所制备的铝合金板中的每单位面积金属间化合物粒子的数目。结果在表13中给出。
[表12]
表12
[表13]
表13
对每个所制备的铝合金板进行下面描述的表面粗糙化处理以制备平版印刷版载体。
<表面粗糙化处理>
进行包括下列处理(b)至(k)的表面粗糙化处理。在所有的处理步骤中都进行冲洗处理。
(b)碱蚀处理
进行与实施例1中的碱蚀处理(b)的程序相同的程序。
(c)去污处理
进行与实施例1中的去污处理(c)的程序相同的程序。
(d)电解砂目化处理
进行与实施例1中的电解砂目化处理(d)的程序相同的程序。
(e)碱蚀处理
进行与实施例1中的碱蚀处理(e)的程序相同的程序。
(f)去污处理
进行与实施例1中的去污处理(f)的程序相同的程序。
(j)阳极氧化处理
进行与实施例1中的阳极氧化处理(j)的程序相同的程序。最终的氧化物膜重量为2.7g/m2
(k)用聚乙烯基膦酸处理
进行与实施例1中用聚乙烯基膦酸处理(k)的程序相同的程序。
[平版印刷版原版的制备]
在表面粗糙化处理之后获得的每个平版印刷版载体上形成如下面描述的热阳图型图像记录层,以获得平版印刷版原版。
更详细地,制备下面给出的组成的图像记录层形成用涂布液(1)和(2),并且首先将图像记录层形成用涂布液(1)涂布至1.5g/m2的干燥涂布重量并在100℃干燥1分钟。之后,将图像记录层形成用涂布液(2)涂布至0.5g/m2的干燥涂布重量并在100℃干燥1分钟,以形成热敏层(热阳图型图像记录层),从而获得平版印刷版原版。
<图像记录层形成用涂布液(1)>
<图像记录层形成用涂布液(2)>
在图像记录层形成用涂布液(1)和(2)中,使用以下化合物作为聚合物A、Byk 307和乙基紫。
(聚合物A)
通过将甲基丙烯酸(20摩尔%)、丙烯腈(67摩尔%)、N-苯基马来酰亚胺(3摩尔%)和甲基丙烯酰胺(10摩尔%)在含有70g的二甲基乙酰胺(DMAC)和5g的水的250mL三颈烧瓶中聚合所获得的共聚物(Mw=50,000)。
(Byk 307)
聚醚改性的聚二甲基硅氧烷(BYK Japan KK)(乙基紫)
CAS:2390-59-2,λ最大:596nm
在Trendsetter(Creo)中以9W的束强度和150rpm的鼓转速对所得到的光敏平版印刷版原版进行图像式绘图。将所要曝光的图像设定为包含实心图像。
之后,使用含有下面给出的组成的碱显影液的PS处理机900H(FUJIFILM Corporation)将版在保持在30℃的温度的显影液中在20秒的显影时间内显影,以获得平版印刷版原版。
<碱显影液的组成>
[平版印刷版原版的评价]
如下评价通过以上程序获得的平版印刷版原版。结果在表14中给出。
(1)印刷寿命的评价
在Lithrone印刷机(Komori Corporation)上使用DIC-GEOS(N)黑墨(Dainippon Ink and Chemicals,Inc.)对上面获得的平版印刷版原版进行印刷,并且基于以下标准通过当实心图像的密度降低变得视觉上可察觉时的印件的数目评价印刷寿命。结果在表14中给出。
非常好:印件的数目为70,000以上;
好:印件的数目为至少50,000但少于70,000;
普通:印件的数目为至少30,000但少于50,000;
差:印件的数目为少于30,000。
(2)耐浮渣性的评价
通过Mitsubishi Dia type F2印刷机(Mitsubishi Heavy Industries,Ltd.)使用DIC-GEOS(s)红墨在上面获得的平版印刷版原版上进行印刷。在印刷10,000份印件之后开始对表层目测检查,并且基于以下标准进行评价。结果在表14中给出。
非常好:表层未被沾污;
好:表层稍微被沾污,但在实际使用中被认为是良好的;
普通:表层在可容忍的水平被沾污;
差:表层被沾污,导致印件明显地被沾污。
(5)残留膜污点的抑制的评价
使用上面获得的平版印刷版原版用光学显微镜在100X的放大率观察在每个版表面能量的量下曝光的样品的已显影非图像区。数出每1cm2的面积的残留膜污点的数目,并且基于以下标准评价样品。结果在表14中给出。
非常好:残留膜污点的数目为至多5pcs/cm2
好:残留膜污点的数目为6至10pcs/cm2
普通:残留膜污点的数目为11至20pcs/cm2
差:残留膜污点的数目为21至30pcs/cm2
非常差:残留膜污点的数目为31pcs/cm2以上。
(6)显影浮渣的评价
使用上面获得的平版印刷版原版在Trendsetter 3244(CREO)中在10.0W的束强度和250rpm的鼓转速的条件下进行测试图案的图像式绘图(曝光),所述测试图案具有在175lpi/2400dpi下1至99%的网点面积比的图。
之后,使用PS处理机LP-940HII(FUJIFILM Corporation)将平版印刷版原版在30℃的显影溶液温度在12秒的显影时间内显影。其后,进行涂胶以制备平版印刷版。所使用的显影液为通过用水以1/8的比例稀释显影液DT-2(FUJIFILM Corporation)而获得的不含有有机溶剂的pH为13.2的溶液。所使用的胶液为通过用水以1/1的比例稀释FG-1(FUJIFILMCorporation)而获得的溶液。
目测检查附着于所得到的平版印刷版的表面的显影浮渣的数目,并且基于以下标准评价平版印刷版。结果在表14中给出。
非常好:显影浮渣的数目为0pcs/m2
好:显影浮渣的数目为1至2pcs/cm2
普通:显影浮渣的数目为3pcs/m2
差:显影浮渣的数目为4至6pcs/cm2
非常差:显影浮渣的数目为7pcs/cm2以上。
表14中给出的结果显示,在使用各自具有表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板形成的比较例15和16中的平版印刷版原版中,残留膜污点的出现未被抑制并且不仅耐浮渣性差而且印刷寿命也差。特别是显示了在使用具有表面密度为2,500pcs/mm2以上的等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板形成的比较例16中的平版印刷版原版中无法抑制显影浮渣的出现。
相反,显示的是,在使用各自具有表面密度为35,000pcs/mm2以上的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子的铝合金板形成的平版印刷版原版中,残留膜污点和显影浮渣的出现被抑制,并且不仅耐浮渣性优异而且印刷寿命也优异。还显示的是,等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子的密度在2,500pcs/mm2以下的范围内减少得越大,越能够抑制显影浮渣的出现。
附图标记
1          铝合金板
2、4       辊型刷
3          含磨料浆液
5、6、7、8 支持辊
11         铝合金板
12         径向滚筒式碾压机
13a、13b   主电极
14         电解处理液
15         溶液进料口
16         狭缝
17         溶液通道
18         辅助阳极
19a、19b   闸流管
20         AC电源
40         主电解槽
50         辅助阳极槽
200        旋转刷辊
201        承压辊
202        输送辊
203        输送导板
204        喷射管线
205        管路
206        过滤器
207        给版台
208        排版台
209        处理液(槽)
210        循环泵
211        平版印刷版原版
410        阳极氧化装置
412        给电槽
413        中间槽
414        阳极氧化处理槽
416        铝合金板
418、426   电解液
420        阳极
422、428   传递辊
424        轧辊
430        阴极
434        DC电源
436、438   给液喷嘴
440        遮板
442        排液口

Claims (16)

1.一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括图像记录层,所述图像记录层含有红外吸收染料和疏水热塑性粒子,并且形成在载体上,
其中所述载体由铝合金板制备,所述铝合金板含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子,并且其中Al-Fe金属间化合物存在于铝合金中,所述铝合金板的α-AlFeSi金属间化合物具有30cps以上的用X射线衍射仪(XRD)测量的峰计数值。
2.根据权利要求1所述的平版印刷版原版,其中所述疏水热塑性粒子是苯乙烯-丙烯腈粒子。
3.一种平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括图像记录层,所述图像记录层含有增感染料,聚合引发剂,可聚合化合物以及聚合物,并且形成在载体上,所述图像记录层的未曝光部分被印刷墨和/或润版液移除,
其中所述载体由铝合金板制备,所述铝合金板含有处于35,000pcs/mm2以上的表面密度的等效圆直径为0.2μm以上的金属间化合物粒子,并且其中Al-Fe金属间化合物存在于铝合金中,所述铝合金板的α-AlFeSi金属间化合物具有30cps以上的用X射线衍射仪(XRD)测量的峰计数值。
4.根据权利要求3所述的平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括在所述图像记录层上的阻氧层。
5.根据权利要求3或4所述的平版印刷版原版,所述平版印刷版原版不包括在所述图像记录层上的阻氧层。
6.根据权利要求3或4所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物具有环氧烷链。
7.根据权利要求3或4所述的平版印刷版原版,其中所述聚合物是颗粒状的。
8.根据权利要求1至4中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板的Al-Fe金属间化合物具有至多400cps的用X射线衍射仪(XRD)测量的峰计数值。
9.根据权利要求1至4中的任一项所述的平版印刷版原版,其中在所述载体的要形成所述图像记录层的表面侧上形成有带微孔的阳极氧化膜,所述阳极氧化膜的表面层中的平均孔径为10至75nm,并且孔内最大直径的平均值与所述平均孔径之比为1.1至3.0。
10.根据权利要求1至4中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板含有处于至多2,500pcs/mm2的密度的等效圆直径为1.0μm以上的金属间化合物粒子。
11.根据权利要求1至4中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板通过连续铸造法制造。
12.根据权利要求11所述的平版印刷版原版,其中所述铝合金板通过连续铸造法获得,所述连续铸造法包括将铝合金熔体通过熔体进料嘴进料在一对冷却辊之间,并且在用所述一对冷却辊进行固化的同时轧制所述铝合金熔体。
13.根据权利要求1至4中的任一项所述的平版印刷版原版,其中所述载体是通过对所述铝合金板的表面进行包括电化学砂目化处理的表面粗糙化处理而获得的载体。
14.根据权利要求13所述的平版印刷版原版,其中所述表面粗糙化处理是包括在所述电化学砂目化处理之后的阳极氧化处理的表面粗糙化处理。
15.根据权利要求14所述的平版印刷版原版,其中所述阳极氧化处理是使用含有硫酸或磷酸的电解液的阳极氧化处理。
16.一种制造平版印刷版的方法,所述方法包括以下步骤:在根据权利要求1或2所述的平版印刷版原版上进行图像记录;和在配备有摩擦部件的自动处理机中,在处理液的存在下,用所述摩擦部件摩擦版表面,以移除所述图像记录层的非图像区。
CN201080042267.7A 2009-09-24 2010-09-07 平版印刷版原版 Active CN102548769B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510514543.XA CN105082725B (zh) 2009-09-24 2010-09-07 平版印刷版原版

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009218909A JP5266175B2 (ja) 2009-09-24 2009-09-24 平版印刷版原版
JP2009-218909 2009-09-24
JP2009220592A JP5276560B2 (ja) 2009-09-25 2009-09-25 平版印刷版原版
JP2009220443A JP5266177B2 (ja) 2009-09-25 2009-09-25 平版印刷版原版
JP2009220406A JP5266176B2 (ja) 2009-09-25 2009-09-25 平版印刷版原版
JP2009-220406 2009-09-25
JP2009-220592 2009-09-25
JP2009-220443 2009-09-25
PCT/JP2010/065285 WO2011037005A1 (ja) 2009-09-24 2010-09-07 平版印刷版原版

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510514543.XA Division CN105082725B (zh) 2009-09-24 2010-09-07 平版印刷版原版

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102548769A CN102548769A (zh) 2012-07-04
CN102548769B true CN102548769B (zh) 2015-08-12

Family

ID=43795758

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510514543.XA Active CN105082725B (zh) 2009-09-24 2010-09-07 平版印刷版原版
CN201080042267.7A Active CN102548769B (zh) 2009-09-24 2010-09-07 平版印刷版原版

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510514543.XA Active CN105082725B (zh) 2009-09-24 2010-09-07 平版印刷版原版

Country Status (4)

Country Link
US (3) US8883401B2 (zh)
EP (1) EP2481603A4 (zh)
CN (2) CN105082725B (zh)
WO (1) WO2011037005A1 (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB201206126D0 (en) * 2012-04-05 2012-05-16 Fujifilm Imaging Colorants Ltd Polymeric dispersants, dispersions, processes for preparing dispersions and the use of polymeric dispersants
JP2014025120A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Fujifilm Corp 平版印刷版用アルミニウム合金板及びその製造方法
WO2014192509A1 (ja) * 2013-05-31 2014-12-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理液及び処理方法
CN104060131A (zh) * 2014-07-03 2014-09-24 南通志邦新材料科技有限公司 一种黄色铝合金
CN108780282A (zh) * 2016-03-16 2018-11-09 爱克发有限公司 加工平版印刷版的设备和相应方法
CN109153278B (zh) * 2016-05-30 2020-06-05 富士胶片株式会社 平版印刷版用铝支撑体及平版印刷版原版
JP6751326B2 (ja) 2016-09-16 2020-09-02 キオクシア株式会社 基板処理装置および半導体装置の製造方法
WO2019064694A1 (ja) * 2017-09-29 2019-04-04 富士フイルム株式会社 印刷版原版、印刷版の製造方法、印刷方法
CN108437608B (zh) * 2018-03-07 2020-06-02 重庆普天印务有限公司 印板机
JP7019031B2 (ja) * 2018-03-29 2022-02-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版作製用現像処理装置、及び、平版印刷版の作製方法
WO2020085500A1 (ja) * 2018-10-25 2020-04-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、及び、平版印刷版の作製方法
WO2020085501A1 (ja) * 2018-10-25 2020-04-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、及び、平版印刷版の作製方法
JP7500617B2 (ja) * 2019-12-27 2024-06-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法および印刷方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1302736A (zh) * 1999-10-13 2001-07-11 富士胶片株式会社 平版印刷版用原版
CN1314617A (zh) * 2000-03-22 2001-09-26 富士胶片株式会社 阳性型感光性平版印刷版
US6890700B2 (en) * 2000-12-20 2005-05-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
CN101253279A (zh) * 2005-08-30 2008-08-27 富士胶片株式会社 平版印刷版用铝合金板及其制造方法

Family Cites Families (351)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US399049A (en) 1889-03-05 Folding chair
US161811A (en) 1875-04-06 Improvement in mechanisms for feeding heel-stiffeners or counter-blanks
US410201A (en) 1889-09-03 Bent for suspension-bridges
US339049A (en) 1886-03-30 Sole-edge-burnishing
FR44686E (fr) 1933-02-08 1935-03-20 Procédé d'obtention de photographies ou films cinématographiques en deux ou en plusieurs couleurs
BE510563A (zh) 1949-07-23
BE506677A (zh) 1950-10-31
BE507657A (zh) 1950-12-06
NL95406C (zh) 1954-08-20
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
NL130248C (zh) 1959-01-21
US2946638A (en) 1959-03-31 1960-07-26 Acme Visible Records Inc Slidable shelf arrangement
BE606888A (zh) 1960-08-05 1900-01-01
GB896563A (en) 1959-12-10 1962-05-16 Algraphy Ltd Improvements in or relating to the graining of lithographic plates
US3247791A (en) 1960-05-06 1966-04-26 Litho Chemical And Supply Co I Surface treated lithographic plates and production thereof
US3307951A (en) 1963-02-01 1967-03-07 Lithoplate Inc Lithographic plate
US3181461A (en) 1963-05-23 1965-05-04 Howard A Fromson Photographic plate
FR1424008A (fr) 1963-12-05 1966-01-07 Gevaert Photo Prod Nv Procédé d'enregistrement d'informations au moyen d'un matériel sensible à la chaleur et à la pression
DE1299661B (de) 1964-02-27 1969-07-24 Eastman Kodak Co Verfahren zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Traeger von fuer Flachdruckverfahren geeigneten Druckplatten
GB1053866A (zh) 1964-08-05
US3458311A (en) 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
NL136645C (zh) 1966-12-12
US3902114A (en) 1967-10-20 1975-08-26 Gunther Alich Method of and apparatus for measuring the distance between cooperating rollers of a rolling mill
DE1807644A1 (de) 1967-11-21 1969-08-28 Eastman Kodak Co Verwendung von lichtempfindlichen,filmbildenden Polymerisaten aus Aminostyrolen zur Herstellung von lichtempfindlichen Schichten lichtempfindlicher Aufzeichnungsmaterialien
GB1227602A (zh) 1967-11-24 1971-04-07
ZA6807938B (zh) 1967-12-04
US3573917A (en) 1968-07-12 1971-04-06 Takashi Okamoto Light-sensitive printing plate composition
JPS492284B1 (zh) 1969-05-30 1974-01-19
US3837860A (en) 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
JPS4813354B1 (zh) 1969-12-01 1973-04-26
JPS4841708B1 (zh) 1970-01-13 1973-12-07
JPS4917481B1 (zh) 1970-02-17 1974-05-01
JPS4828123B1 (zh) 1970-06-16 1973-08-29
JPS505084B1 (zh) 1970-09-16 1975-02-28
JPS505083B1 (zh) 1970-09-16 1975-02-28
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
JPS517081B1 (zh) 1971-04-17 1976-03-04
US3785825A (en) 1971-07-19 1974-01-15 Polychrome Corp Light-sensitive quinone diazide compounds,compositions,and presensitized lithographic plate
JPS526697B2 (zh) 1971-08-11 1977-02-24
US3881924A (en) 1971-08-25 1975-05-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Organic photoconductive layer sensitized with trimethine compound
JPS5040047B2 (zh) 1971-09-06 1975-12-22
JPS5120922B2 (zh) 1971-10-07 1976-06-29
JPS5133444B2 (zh) 1971-10-21 1976-09-20
JPS5429922B2 (zh) 1971-12-13 1979-09-27
JPS5423571B2 (zh) 1971-12-13 1979-08-15
BE795809A (fr) 1972-02-22 1973-08-22 Eastman Kodak Co Nouveaux polymeres photosensibles a groupes o-quinone diazide
JPS51483B2 (zh) 1972-08-18 1976-01-08
US3860426A (en) 1972-12-22 1975-01-14 Eastman Kodak Co Subbed lithographic printing plate
JPS5549729B2 (zh) 1973-02-07 1980-12-13
DE2331377C2 (de) 1973-06-20 1982-10-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
US4123279A (en) 1974-03-25 1978-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive o-quinonediazide containing planographic printing plate
GB1512982A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Salts
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
GB1513368A (en) 1974-07-08 1978-06-07 Vickers Ltd Processing of radiation-sensitive members
JPS5134007A (ja) 1974-09-12 1976-03-23 Fuji Photo Film Co Ltd Insatsubanyoshijitainosetozohoho
JPS5311314B2 (zh) 1974-09-25 1978-04-20
JPS51146234A (en) 1975-05-28 1976-12-15 Minolta Camera Co Ltd Device for forming electrography
JPS51143409A (en) 1975-06-04 1976-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd Method of making lithographic press plate
JPS5258602A (en) 1975-11-06 1977-05-14 Nippon Keikinzoku Sougou Kenki Method of producing aluminium roughened surfaced plate for offset printing
JPS52152302A (en) 1976-06-11 1977-12-17 Nippon Keikinzoku Sougou Kenki Method of producing aluminium surface roughened plate for offset printing
JPS5280022A (en) 1975-12-26 1977-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd Light solubilizable composition
JPS52133844A (en) 1976-05-04 1977-11-09 Nippon Telegraph & Telephone Mandrel for tube welding
JPS52133838A (en) 1976-05-04 1977-11-09 Sumitomo Light Metal Ind Continuous electrolytic treating means for aluminum
JPS52133845A (en) 1976-05-04 1977-11-09 Nippon Telegraph & Telephone Method of mounting travelling rollers of mandrel for tube welding
JPS52133840A (en) 1976-05-04 1977-11-09 Sumitomo Light Metal Ind Method of producing aluminum plates for offset printing
JPS538128A (en) 1976-07-09 1978-01-25 Fuji Photo Film Co Ltd Photosolubilizable composition
JPS5312739A (en) 1976-07-22 1978-02-04 Nippon Keikinzoku Sougou Kenki Desmutting method in electrolytic roughing treatment for aluminum
JPS5312738A (en) 1976-07-22 1978-02-04 Nippon Keikinzoku Sougou Kenki Method of continuously electrolytically treating one side of aluminum plates
JPS5332823A (en) 1976-09-07 1978-03-28 Onoda Cement Co Ltd Demoulding agent for cement sand casting mould
JPS5332825A (en) 1976-09-07 1978-03-28 Kobe Steel Ltd Method to mould castings with inner passage
JPS5332833A (en) 1976-09-08 1978-03-28 Hitachi Cable Zinccaluminum metallization wire material
JPS5332822A (en) 1976-09-08 1978-03-28 Hitachi Ltd Washing apparatus for used cast sand
JPS5332821A (en) 1976-09-08 1978-03-28 Toyota Motor Co Ltd Method to manufacture casting mould
JPS5332824A (en) 1976-09-08 1978-03-28 Sumitomo Metal Ind Mould for continuous casting
DE2641100A1 (de) 1976-09-13 1978-03-16 Hoechst Ag Lichtempfindliche kopierschicht
JPS53149135A (en) 1977-06-01 1978-12-26 Sumitomo Light Metal Ind Surface roughening method of aluminium plate for printing plate
JPS548002A (en) 1977-06-17 1979-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd Method of developing flat printing plate
JPS5412853A (en) 1977-06-30 1979-01-30 Ricoh Co Ltd Laser beam modulating system
DE2749680A1 (de) 1977-11-07 1979-05-10 Hoechst Ag Vorrichtung zur uebertragung von elektrischem strom
JPS5474728A (en) 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5481133A (en) 1977-12-12 1979-06-28 Fuji Photo Film Co Ltd Anodic oxidation device
JPS5485802A (en) 1977-12-19 1979-07-07 Nippon Keikinzoku Sougou Kenki Preparation of aluminium roughened surface plate for offset printing block
US4173476A (en) 1978-02-08 1979-11-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Complex salt photoinitiator
JPS54146234A (en) 1978-05-08 1979-11-15 Sumitomo Light Metal Ind Electrolytic surface rough ening of aluminum plate
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
JPS5562444A (en) 1978-11-02 1980-05-10 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS5577742A (en) 1978-12-08 1980-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS55115045A (en) 1979-02-27 1980-09-04 Fuji Photo Film Co Ltd Printing plate preparation
JPS5818997B2 (ja) 1979-03-13 1983-04-15 株式会社日本軽金属総合研究所 金属ストリツプの対する給電装置
JPS55121447A (en) 1979-03-15 1980-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd Lithographic printing plate correcting agent
JPS55132884A (en) 1979-03-31 1980-10-16 Matsushita Electric Works Ltd Door unit
JPS55158298A (en) 1979-05-30 1980-12-09 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacture of support for lithographic plate
JPS5628898A (en) 1979-08-16 1981-03-23 Canon Kk Erasing material erasing character* picture* etc*
US4283475A (en) 1979-08-21 1981-08-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Pentamethine thiopyrylium salts, process for production thereof, and photoconductive compositions containing said salts
US4327169A (en) 1981-01-19 1982-04-27 Eastman Kodak Company Infrared sensitive photoconductive composition, elements and imaging method using trimethine thiopyrylium dye
JPS56123400A (en) 1980-02-29 1981-09-28 Nippon Light Metal Co Ltd Transfer method of web
JPS5824517B2 (ja) 1980-04-02 1983-05-21 勝川工業株式会社 直流電解による連続コイルアルマイトの片面専用処理装置
US4276129A (en) 1980-06-25 1981-06-30 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for producing foil electrodes for electrolytic capacitor
JPS5747894A (en) 1980-09-05 1982-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd Electrolytic treatment of strip-like metallic sheet
JPS5751289A (en) 1980-09-10 1982-03-26 Fuji Photo Film Co Ltd Electrolytic treating device for belt-like metallic plate
JPS5751290A (en) 1980-09-10 1982-03-26 Fuji Photo Film Co Ltd Electrolytic treatment of beltlike metallic plate
JPS5754300A (ja) 1980-09-19 1982-03-31 Fuji Photo Film Co Ltd Obijokinzokubannodenkaisochi
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
JPS5759770A (en) 1980-09-29 1982-04-10 Ricoh Co Ltd Ink recoverting device for ink jet recorder
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
JPS57136596A (en) 1981-02-19 1982-08-23 Toyama Chem Co Ltd Carcinostatic substance tf-240, its preparation, and carcinostatic agent containing the same
DE3126636A1 (de) 1981-07-06 1983-01-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Hydrophilierte traegermaterialien fuer offsetdruckplatten, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE3126626A1 (de) 1981-07-06 1983-01-20 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Hydrophilierte traegermaterialien fuer offsetdruckplatten, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
JPS58107498A (ja) 1981-12-18 1983-06-27 Fuji Photo Film Co Ltd 帯状金属板の電解処理方法および装置
JPS58112792A (ja) 1981-12-28 1983-07-05 Ricoh Co Ltd 光情報記録部材
JPS58112793A (ja) 1981-12-28 1983-07-05 Ricoh Co Ltd 光情報記録部材
JPS58120531A (ja) 1982-01-13 1983-07-18 Furukawa Electric Co Ltd:The 光フアイバの製造方法
JPS58125246A (ja) 1982-01-22 1983-07-26 Ricoh Co Ltd レ−ザ記録媒体
JPS58159533A (ja) 1982-02-01 1983-09-21 Toray Ind Inc 異形断面捲縮糸を植毛した現像用ブラシ
JPS58181690A (ja) 1982-04-19 1983-10-24 Canon Inc 光学記録媒体
JPS58220143A (ja) 1982-06-16 1983-12-21 Canon Inc 有機被膜
JPS58173696A (ja) 1982-04-06 1983-10-12 Canon Inc 光学記録媒体
JPS58181051A (ja) 1982-04-19 1983-10-22 Canon Inc 有機光導電体
JPS58194595A (ja) 1982-05-10 1983-11-12 Canon Inc 光学記録媒体
JPS5948187A (ja) 1982-09-10 1984-03-19 Nec Corp 光学記録媒体
JPS58224793A (ja) 1982-06-25 1983-12-27 Nec Corp 光学記録媒体
US4491628A (en) 1982-08-23 1985-01-01 International Business Machines Corporation Positive- and negative-working resist compositions with acid generating photoinitiator and polymer with acid labile groups pendant from polymer backbone
JPS5984248A (ja) 1982-11-05 1984-05-15 Canon Inc 有機被膜
JPS5984249A (ja) 1982-11-05 1984-05-15 Canon Inc 有機被膜
JPS5941363A (ja) 1982-08-31 1984-03-07 Canon Inc 新規ピリリウム系染料およびその製造方法
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
JPS5958431A (ja) 1982-09-29 1984-04-04 Konishiroku Photo Ind Co Ltd 平版印刷版の製版方法
JPS5973996A (ja) 1982-10-22 1984-04-26 Nec Corp 光学記録用媒体
JPS5984356A (ja) 1982-11-05 1984-05-16 Ricoh Co Ltd 光デイスク原盤の作成方法
JPS59101651A (ja) 1982-12-02 1984-06-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS59121044A (ja) 1982-12-27 1984-07-12 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS59146063A (ja) 1983-02-09 1984-08-21 Canon Inc 有機被膜
JPS59146061A (ja) 1983-02-09 1984-08-21 Canon Inc 有機被膜
JPS59202829A (ja) 1983-05-04 1984-11-16 Sanpo Gokin Kogyo Kk 合成樹脂製品の射出成型金型
JPS59216146A (ja) 1983-05-24 1984-12-06 Sony Corp 電子写真用感光材料
JPS60200256A (ja) 1984-03-23 1985-10-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の処理方法
JPS603626A (ja) 1983-06-22 1985-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS6063744A (ja) 1983-08-23 1985-04-12 Nec Corp 光学的情報記録媒体
JPS6052940A (ja) 1983-09-02 1985-03-26 Nec Corp 光学記録媒体
JPS6059351A (ja) 1983-09-12 1985-04-05 Toray Ind Inc 湿し水不要平版印刷版の現像方法
JPS6064352A (ja) 1983-09-19 1985-04-12 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版の製造方法
JPS6067700A (ja) 1983-09-20 1985-04-18 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JPS6078787A (ja) 1983-10-07 1985-05-04 Ricoh Co Ltd 光学的情報記録媒体
JPS6088942A (ja) 1983-10-21 1985-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH0694234B2 (ja) 1984-01-17 1994-11-24 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPS60190392A (ja) 1984-03-13 1985-09-27 Fuji Photo Film Co Ltd 原版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
US4708925A (en) 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
JPS61143748A (ja) 1984-12-17 1986-07-01 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS61151644A (ja) 1984-12-26 1986-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS61159655A (ja) 1985-01-07 1986-07-19 Fuji Photo Film Co Ltd 製版方法
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
US4676879A (en) 1985-04-12 1987-06-30 Becromal S.P.A. Method for the production of an aluminum foil for electrolytic _capacitors, and electrolytic capacitors thus produced
JPS6214115A (ja) 1985-07-12 1987-01-22 Canon Inc 強誘電性液晶装置
JPS6219494A (ja) 1985-07-18 1987-01-28 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
JPS6231859A (ja) 1985-08-01 1987-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 製版方法
JPS6233692A (ja) 1985-08-06 1987-02-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
JPS6256971A (ja) 1985-09-05 1987-03-12 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光材料
JPS6259963A (ja) 1985-09-10 1987-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光材料
JPS6297892A (ja) 1985-10-25 1987-05-07 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
JPS62127500A (ja) 1985-11-26 1987-06-09 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理方法及び装置
JPS62136596A (ja) 1985-12-09 1987-06-19 Fuji Photo Film Co Ltd 金属ウエブへの連続電解処理装置
JPH083630B2 (ja) 1986-01-23 1996-01-17 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4756993A (en) 1986-01-27 1988-07-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Electrophotographic photoreceptor with light scattering layer or light absorbing layer on support backside
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
DE3604581A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag 4-acylbenzylsulfoniumsalze, ihre herstellung sowie sie enthaltende photohaertbare gemische und aufzeichnungsmaterialien
JPS62167253U (zh) 1986-04-14 1987-10-23
JPH0743501B2 (ja) 1986-04-24 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版
JPH065384B2 (ja) 1986-06-12 1994-01-19 富士写真フイルム株式会社 感光性印刷版
JPS6356498A (ja) 1986-08-27 1988-03-11 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
JPS6358440A (ja) 1986-08-29 1988-03-14 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH062434B2 (ja) 1986-11-20 1994-01-12 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体
JPH062435B2 (ja) 1986-12-10 1994-01-12 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体
JPS63264706A (ja) 1986-12-10 1988-11-01 Mitsubishi Cable Ind Ltd 医療用イメージスコープ
JPH062436B2 (ja) 1986-12-26 1994-01-12 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体
JPS63176494A (ja) 1987-01-16 1988-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理用通電ロ−ル
JPS63176187A (ja) 1987-01-19 1988-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用支持体の製造方法
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
JPS645889A (en) 1987-06-30 1989-01-10 Fuji Photo Film Co Ltd Smut removal from printing plate base material
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
JPH0637716B2 (ja) 1987-08-21 1994-05-18 富士写真フイルム株式会社 電解処理方法
JPS6452100A (en) 1987-08-21 1989-02-28 Fuji Photo Film Co Ltd Electrolytic treatment
US4865951A (en) 1987-10-22 1989-09-12 Eastman Kodak Company Bilayered anodized aluminum support, method for the preparation thereof and lithographic printing plate containing same
JPH0729507B2 (ja) 1987-10-30 1995-04-05 富士写真フイルム株式会社 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JPH01118489A (ja) 1987-11-02 1989-05-10 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JPH07423B2 (ja) 1987-11-27 1995-01-11 富士写真フイルム株式会社 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JPH01148592A (ja) 1987-12-07 1989-06-09 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JPH01154797A (ja) 1987-12-11 1989-06-16 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム支持体の電解粗面化処理方法
JPH01178496A (ja) 1988-01-08 1989-07-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版支持体の製造方法
JPH01188315A (ja) 1988-01-22 1989-07-27 Alps Electric Co Ltd ランナレス成形方法
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
JP2520685B2 (ja) 1988-03-10 1996-07-31 富士写真フイルム株式会社 電解処理装置
JPH01307745A (ja) 1988-06-07 1989-12-12 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性記録材料
US5148746A (en) 1988-08-19 1992-09-22 Presstek, Inc. Print-head and plate-cleaning assembly
JPH0296755A (ja) 1988-10-03 1990-04-09 Konica Corp 感光性組成物
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
JP2610678B2 (ja) 1989-02-21 1997-05-14 富士写真フイルム株式会社 水なし平版印刷版の現像かす除去装置
JPH02235794A (ja) 1989-03-10 1990-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
US5156938A (en) 1989-03-30 1992-10-20 Graphics Technology International, Inc. Ablation-transfer imaging/recording
US5040237A (en) 1989-03-31 1991-08-13 E. F. Johnson Company Method and apparatus for an alternate home channel for a land mobile transmission trunked communication system
US5041358A (en) 1989-04-17 1991-08-20 International Business Machines Corporation Negative photoresist and use thereof
JPH02296514A (ja) 1989-05-12 1990-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 車両用サスペンション制御装置
JP2655349B2 (ja) 1989-05-18 1997-09-17 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2660581B2 (ja) 1989-08-21 1997-10-08 富士写真フイルム株式会社 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JP2767711B2 (ja) 1989-08-22 1998-06-18 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2589578B2 (ja) 1989-09-13 1997-03-12 富士写真フイルム株式会社 現像用ブラシ
JP2648981B2 (ja) 1989-10-19 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2845995B2 (ja) 1989-10-27 1999-01-13 株式会社日立製作所 領域抽出手法
JP2645668B2 (ja) 1989-11-22 1997-08-25 日本軽金属株式会社 金属溶湯の濾過方法
JPH03208514A (ja) 1990-01-04 1991-09-11 Nippon Steel Corp 塗装鋼板の切断方法
JP2688786B2 (ja) * 1990-02-09 1997-12-10 スカイアルミニウム株式会社 印刷版用アルミニウム合金支持体
JPH03253600A (ja) 1990-03-05 1991-11-12 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用支持体の製造方法
JPH03257199A (ja) 1990-03-07 1991-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JP2648976B2 (ja) 1990-03-09 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH03260100A (ja) 1990-03-12 1991-11-20 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用支持体の製造方法
JPH03267400A (ja) 1990-03-16 1991-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版支持体の製造方法
JP2614133B2 (ja) 1990-04-20 1997-05-28 富士写真フイルム株式会社 印刷版用支持体の表面処理装置
JP2639741B2 (ja) 1990-05-02 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0472079A (ja) 1990-07-10 1992-03-06 Toshiba Corp 高比重装飾品用金属材
JPH0472098A (ja) 1990-07-11 1992-03-06 Fuji Photo Film Co Ltd 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JPH04176897A (ja) 1990-11-08 1992-06-24 Riken Corp 鋼製組合せオイルコントロールリングのレールリングのめっき処理方法
JP2992085B2 (ja) 1990-12-27 1999-12-20 三井金属鉱業株式会社 溶融アルミニウム濾過用セラミックスフィルター
JP2709535B2 (ja) 1991-03-12 1998-02-04 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2775526B2 (ja) 1991-01-31 1998-07-16 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH04276031A (ja) 1991-03-05 1992-10-01 Nippon Light Metal Co Ltd アルミニウム中のリンの除去方法
JP2646042B2 (ja) 1991-03-07 1997-08-25 富士写真フイルム株式会社 アルミニウム製品の連続電解処理装置
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPH05125597A (ja) 1991-11-06 1993-05-21 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の陽極酸化装置及び陽極酸化方法
JPH06207299A (ja) 1991-07-26 1994-07-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の陽極酸化装置
JPH0524377A (ja) 1991-07-26 1993-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の陽極酸化方法
JPH0532083A (ja) 1991-07-29 1993-02-09 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の陽極酸化方法
JP2739395B2 (ja) 1991-08-19 1998-04-15 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JPH0551659A (ja) 1991-08-21 1993-03-02 Showa Alum Corp アルミニウム溶湯中からの脱水素方法
JP2767727B2 (ja) 1991-11-05 1998-06-18 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の封孔処理方法及び装置
JPH05140659A (ja) 1991-11-18 1993-06-08 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 傾斜出湯式濾過漕
JP3054719B2 (ja) 1991-12-02 2000-06-19 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の製造方法
JPH05158230A (ja) 1991-12-10 1993-06-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性組成物
JPH07105225B2 (ja) 1991-12-20 1995-11-13 東ソー株式会社 マンガン電池
JP2791729B2 (ja) 1992-01-23 1998-08-27 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の製造方法
JPH05195291A (ja) 1992-01-23 1993-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 陽極酸化処理方法及び装置
JPH05195300A (ja) 1992-01-23 1993-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JP2791730B2 (ja) 1992-01-27 1998-08-27 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の封孔処理方法及び装置
JPH05311261A (ja) 1992-05-13 1993-11-22 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 金属溶湯用濾過材
JP2653610B2 (ja) 1992-07-09 1997-09-17 株式会社東芝 コンバインドサイクル発電プラント
JP2907643B2 (ja) 1992-07-16 1999-06-21 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版およびその処理方法
JPH0657432A (ja) 1992-08-10 1994-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd 酸化タンタル薄膜の形成方法
JP3184636B2 (ja) 1992-10-08 2001-07-09 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の製造方法
JPH06136466A (ja) 1992-10-26 1994-05-17 Daido Steel Co Ltd アルミニウム溶湯又はアルミニウム合金溶湯の処理方法
JPH06210406A (ja) 1993-01-14 1994-08-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JPH06262203A (ja) 1993-03-09 1994-09-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
US5372915A (en) 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
JPH0740017A (ja) 1993-07-29 1995-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH08238758A (ja) 1995-02-11 1996-09-17 Heidelberger Druckmas Ag 輪転印刷機の印刷装置のためのクリーニング装置
US5568768A (en) 1995-05-04 1996-10-29 Presstek, Inc. Cleaning apparatus for offset plates
EP0770494B1 (en) 1995-10-24 2000-05-24 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithographic printing plate involving on press development
DE69620336T2 (de) 1995-10-24 2002-10-24 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit Wasser als Entwickler
US6030750A (en) 1995-10-24 2000-02-29 Agfa-Gevaert. N.V. Method for making a lithographic printing plate involving on press development
DE69613078T2 (de) 1995-11-09 2001-11-22 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer Druckform damit
DE69608522T2 (de) 1995-11-09 2001-01-25 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform damit
JPH10282679A (ja) 1997-04-08 1998-10-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性平版印刷版
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JP3812082B2 (ja) 1997-09-22 2006-08-23 コニカミノルタホールディングス株式会社 画像形成材料および画像形成方法
JP3588742B2 (ja) 1997-11-21 2004-11-17 コニカミノルタホールディングス株式会社 平版印刷版用アルミニウム合金板
DE69812871T2 (de) 1998-01-23 2004-02-26 Agfa-Gevaert Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement und Verfahren um damit Flachdruckplatten herzustellen
JPH11291652A (ja) 1998-02-10 1999-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
JPH11338131A (ja) 1998-03-26 1999-12-10 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JPH11288093A (ja) 1998-04-06 1999-10-19 Fuji Photo Film Co Ltd 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
EP0950517B1 (en) 1998-04-15 2001-10-04 Agfa-Gevaert N.V. A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
JP2000087318A (ja) 1998-09-17 2000-03-28 Kam:Kk 吸音部材及びその製造方法
JP3842471B2 (ja) 1998-12-22 2006-11-08 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
JP4328403B2 (ja) 1999-02-16 2009-09-09 キヤノン株式会社 カメラ及び交換レンズ
JP2001011698A (ja) 1999-06-24 2001-01-16 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷板用アルミニウム支持体の粗面化方法及び製造方法
JP2001121837A (ja) 1999-10-28 2001-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JP2001133969A (ja) 1999-11-01 2001-05-18 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型平版印刷版原版
JP2001277740A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP2001277742A (ja) 2000-01-27 2001-10-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用原版
JP4015344B2 (ja) 2000-04-14 2007-11-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP3882987B2 (ja) 2000-07-11 2007-02-21 三菱アルミニウム株式会社 平版印刷版用アルミニウム合金板
JP2002023360A (ja) 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型画像記録材料
JP4156784B2 (ja) 2000-07-25 2008-09-24 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料及び画像形成方法
JP2002055446A (ja) 2000-08-11 2002-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2002062660A (ja) 2000-08-16 2002-02-28 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
ATE404383T1 (de) 2000-09-14 2008-08-15 Fujifilm Corp Aluminiumträger für flachdruchplatte, verfahren zu seiner herstellung und originalflachdruckplatte
JP2002160466A (ja) 2000-09-14 2002-06-04 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体
JP4195781B2 (ja) 2000-12-20 2008-12-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP2002251005A (ja) 2000-12-20 2002-09-06 Agfa Gevaert Nv オンプレス現像用のネガ作用サーマルプレートを用いた印刷システム
JP4319363B2 (ja) 2001-01-15 2009-08-26 富士フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP4179754B2 (ja) 2001-01-16 2008-11-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2002211159A (ja) 2001-01-18 2002-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法、平版印刷版用支持体、および平版印刷原版
US7261998B2 (en) 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7592128B2 (en) 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
JP2003096584A (ja) 2001-09-25 2003-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 金属ウエブの洗浄用スプレー装置及び洗浄方法
JP4287414B2 (ja) 2001-12-28 2009-07-01 三菱アルミニウム株式会社 平版印刷版用アルミニウム合金板および平版印刷版
DE60329343D1 (de) 2002-02-26 2009-11-05 Fujifilm Corp Aluminiumträger für eine Flachdruckplatte und Verfahren zu seiner Herstellung sowie eine vorsensibilisierte Druckplatte, die diesen verwendet
JP3788943B2 (ja) 2002-02-26 2006-06-21 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体とその製造方法、および平版印刷版
US7316891B2 (en) 2002-03-06 2008-01-08 Agfa Graphics Nv Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution
DE60224114T2 (de) 2002-03-06 2008-12-04 Agfa Graphics N.V. Verfahren zum Entwickeln eines wärmeempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers mit einer Gummilösung
EP1349006B1 (en) 2002-03-28 2013-09-25 Agfa Graphics N.V. Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm.
US7659046B2 (en) 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
US7172850B2 (en) 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
JP2003316021A (ja) 2002-04-24 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の作製方法
US7198876B2 (en) 2002-04-24 2007-04-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of preparation of lithographic printing plates
JP2003328465A (ja) 2002-05-08 2003-11-19 Isao Okawa 建 物
JP2004230624A (ja) * 2003-01-29 2004-08-19 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体、平版印刷版原版および平版印刷版原版の処理方法
ATE553229T1 (de) 2003-02-25 2012-04-15 Chemetall Gmbh Verfahren zur beschichtung von metallischen oberflächen mit einer silan-reichen zusammensetzung
JP2004292862A (ja) 2003-03-26 2004-10-21 Furukawa Sky Kk 平版印刷版用アルミニウム合金支持体およびその製造方法
JP3977290B2 (ja) 2003-06-25 2007-09-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷方法
ATE491968T1 (de) 2003-07-22 2011-01-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren
US8059420B2 (en) 2003-07-22 2011-11-15 Murata Manufacturing Co., Ltd. Surface mountable device
WO2005029187A1 (en) 2003-09-22 2005-03-31 Agfa-Gevaert Photopolymerizable composition.
CN1882881A (zh) 2003-09-22 2006-12-20 爱克发-格法特公司 感光聚合物印刷版前体
JP4815113B2 (ja) 2003-09-24 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4644458B2 (ja) 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
US20050084797A1 (en) * 2003-10-16 2005-04-21 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
DE602004010592T2 (de) * 2003-10-16 2008-12-11 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher Vorläufer für eine Flachdruckplatte
JP2005329708A (ja) 2004-03-19 2005-12-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2005271414A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体および平版印刷版原版
JP4486516B2 (ja) 2004-05-21 2010-06-23 新日本製鐵株式会社 冷間加工性と焼き入れ性に優れた電縫鋼管とその製造方法
JP2006001144A (ja) * 2004-06-17 2006-01-05 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷方法及びそれに用いる平版印刷版原版
JP4410714B2 (ja) * 2004-08-13 2010-02-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体の製造方法
JP4945103B2 (ja) 2004-08-24 2012-06-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法、平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4460986B2 (ja) 2004-09-24 2010-05-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2006188038A (ja) 2004-12-10 2006-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および製版方法
JP4469734B2 (ja) 2005-02-03 2010-05-26 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006239867A (ja) 2005-02-28 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4174483B2 (ja) 2005-03-04 2008-10-29 三菱アルミニウム株式会社 平板印刷版用アルミニウム合金板の製造方法
JP2006256035A (ja) 2005-03-16 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版の製版方法および平版印刷方法
JP4792326B2 (ja) 2005-07-25 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
WO2007026574A1 (ja) * 2005-08-30 2007-03-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. 平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法
JP4711787B2 (ja) 2005-09-14 2011-06-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
EP1952201B1 (en) 2005-11-18 2011-01-12 Agfa Graphics N.V. Method of making a photopolymer printing plate
JP4911457B2 (ja) 2005-12-02 2012-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP4820640B2 (ja) 2005-12-20 2011-11-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2007206216A (ja) 2006-01-31 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007206217A (ja) 2006-01-31 2007-08-16 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2007225701A (ja) 2006-02-21 2007-09-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2007225702A (ja) 2006-02-21 2007-09-06 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法
JP2007328243A (ja) 2006-06-09 2007-12-20 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版
JP2008105018A (ja) 2006-09-25 2008-05-08 Casio Comput Co Ltd 触媒、触媒の製造方法、反応器及び発電システム
JP5064952B2 (ja) 2006-09-29 2012-10-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法
JP4945432B2 (ja) * 2006-12-28 2012-06-06 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP2008195018A (ja) 2007-02-15 2008-08-28 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
JP4887173B2 (ja) 2007-02-16 2012-02-29 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US20080311520A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
JP5068681B2 (ja) * 2008-02-27 2012-11-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1302736A (zh) * 1999-10-13 2001-07-11 富士胶片株式会社 平版印刷版用原版
CN1314617A (zh) * 2000-03-22 2001-09-26 富士胶片株式会社 阳性型感光性平版印刷版
US6890700B2 (en) * 2000-12-20 2005-05-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
CN101253279A (zh) * 2005-08-30 2008-08-27 富士胶片株式会社 平版印刷版用铝合金板及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2481603A4 (en) 2015-11-18
US9207537B2 (en) 2015-12-08
US20160026081A1 (en) 2016-01-28
US20150024325A1 (en) 2015-01-22
CN105082725B (zh) 2018-05-04
EP2481603A1 (en) 2012-08-01
US8883401B2 (en) 2014-11-11
US20120189959A1 (en) 2012-07-26
CN102548769A (zh) 2012-07-04
CN105082725A (zh) 2015-11-25
WO2011037005A1 (ja) 2011-03-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102548769B (zh) 平版印刷版原版
JP5612531B2 (ja) 平版印刷版用支持体、および平版印刷版原版
WO2018181993A1 (ja) 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版原版積層体、平版印刷版の製版方法、並びに、平版印刷方法
JP2005254638A (ja) 平版印刷版用支持体の製造方法
CN104742492B (zh) 一种双涂层阳图热敏ctp版材
WO2020026957A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法
JP6608093B2 (ja) 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
JP3787334B2 (ja) 平版印刷版原版
CN102762381B (zh) 正性平版印刷版前体及其制备方法、用于制备正性平版印刷版的方法和印刷方法
WO2020067374A1 (ja) 印刷用原版、印刷用原版積層体、印刷版の製版方法、及び印刷方法
JP2011068006A (ja) 平版印刷版原版
WO2020026956A1 (ja) 平版印刷版原版、平版印刷版原版積層体、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法
JP2008298938A (ja) ポジ型感光性平版印刷版材料
JPWO2014002835A1 (ja) 現像処理廃液濃縮方法及び現像処理廃液のリサイクル方法
JP5276560B2 (ja) 平版印刷版原版
WO2020067373A1 (ja) 印刷用原版、印刷用原版積層体、印刷版の製版方法、及び印刷方法
JP2009014779A (ja) 平版印刷版原版
JP5624003B2 (ja) 平版印刷版の製造方法及び平版印刷版
WO2015146716A1 (ja) 平版印刷方法
JP2009214496A (ja) 平版印刷版原版
JP2005262466A (ja) 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JP2005092039A (ja) 平版印刷版原版
JP2023020769A (ja) 機上現像型平版印刷版原版、及び印刷版の作製方法
JP2003215803A (ja) 感赤外線感光性組成物
JP5266177B2 (ja) 平版印刷版原版

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant