JPH01178496A - 平版印刷版支持体の製造方法 - Google Patents
平版印刷版支持体の製造方法Info
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- JPH01178496A JPH01178496A JP124488A JP124488A JPH01178496A JP H01178496 A JPH01178496 A JP H01178496A JP 124488 A JP124488 A JP 124488A JP 124488 A JP124488 A JP 124488A JP H01178496 A JPH01178496 A JP H01178496A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、平版印刷版用支持体の製造方法に関する、特
に、マンガンを含有するアルミニウム板からなる平版印
刷版用支持体の粗面化方法に関するものである。
に、マンガンを含有するアルミニウム板からなる平版印
刷版用支持体の粗面化方法に関するものである。
印刷版用支持体、特に平版印刷版用支持体としては、ア
ルミニウム板が用いられ、ユーザーの多様化から、アル
ミニウム支持体も極少景鉄分、珪素が、含有された純ア
ルミニウムに近いものからマンガンを添加した支持体な
ど多岐にわたっている。
ルミニウム板が用いられ、ユーザーの多様化から、アル
ミニウム支持体も極少景鉄分、珪素が、含有された純ア
ルミニウムに近いものからマンガンを添加した支持体な
ど多岐にわたっている。
またマンガンを添加した支持体は純アルミニウムに比べ
て引張強度が大幅に増加し、今後更に増加の1頃向、に
ある。
て引張強度が大幅に増加し、今後更に増加の1頃向、に
ある。
印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方法としては、機
械的な砂目立て法、電気化学的な砂目立て法などがあり
、又それらを適時組合わせた形で粗面化を行っている。
械的な砂目立て法、電気化学的な砂目立て法などがあり
、又それらを適時組合わせた形で粗面化を行っている。
機械的な砂目立て法としては、例えばポールグレイン、
ワイヤーグレイン、プラノジグレイン。
ワイヤーグレイン、プラノジグレイン。
液体ホーニング法などがある。また電気化学的砂目立て
方法としては、交流電解エツチング法が一般的に採用さ
れてちり、電27にとしては、普通の正弦波交流電流あ
るいは矩形波など、特殊交番電流が用いられている。ま
たこの電気化学的砂目立ての前処理として、苛性ソーダ
などでエツチング処理をしても良い。
方法としては、交流電解エツチング法が一般的に採用さ
れてちり、電27にとしては、普通の正弦波交流電流あ
るいは矩形波など、特殊交番電流が用いられている。ま
たこの電気化学的砂目立ての前処理として、苛性ソーダ
などでエツチング処理をしても良い。
電気化学的砂目立て方法に関しては、近年各種検討され
ており、例えば■ 米国特許44,824.324号明
細書には1.5〜10Hzの交流で、電解液中で粗面化
すると、均一なピットが生成すると記載されている。
ており、例えば■ 米国特許44,824.324号明
細書には1.5〜10Hzの交流で、電解液中で粗面化
すると、均一なピットが生成すると記載されている。
■ 米国特許第4,297,184号、米国特許第4,
279.714号、米国特許第4,279.715号各
明細書では、塩酸を主体とした電解液中で、20Hz程
度の周波数で粗面化することが開示されている。
279.714号、米国特許第4,279.715号各
明細書では、塩酸を主体とした電解液中で、20Hz程
度の周波数で粗面化することが開示されている。
■ 米国特許第4,548,683号明細書では、交流
で140〜400 Hz、 7〜22A/dイの電流
密度で酸性電解液中にて粗面化することで、スマットを
生成せず均一なピットが生成されることが開示されてい
る。
で140〜400 Hz、 7〜22A/dイの電流
密度で酸性電解液中にて粗面化することで、スマットを
生成せず均一なピットが生成されることが開示されてい
る。
■ 又硝酸主体にした電解液中で 10Hz〜100H
zの交流波形で砂目立てを行うと支持体は小さなピット
の製造が可能であり、汚れにくさの性能の良い印刷版支
持体が生成される。
zの交流波形で砂目立てを行うと支持体は小さなピット
の製造が可能であり、汚れにくさの性能の良い印刷版支
持体が生成される。
しかしながら前記■の方法の電解液中の周波数が10H
z以下では、ピット径は大きなものしか出来ず、耐剛性
も汚れ性能も現在の市場の要求を満足させる印刷版には
不充分であり、■の方法では電解浴が塩酸主体である為
、ピット径の小さな砂目を得ることは難しく、■の方法
の周波数が14011 z以上と高いと、銅、マンガン
、鉄などの不純物が多くなるとそれらの金属間化合物が
析出して均一にピットが生成しないという問題があり、
更に■硝酸を主体にした電解液でlO〜100Hzの交
流波形で砂目立てすると、耐刷性能が不充分であるとい
う問題点があった。
z以下では、ピット径は大きなものしか出来ず、耐剛性
も汚れ性能も現在の市場の要求を満足させる印刷版には
不充分であり、■の方法では電解浴が塩酸主体である為
、ピット径の小さな砂目を得ることは難しく、■の方法
の周波数が14011 z以上と高いと、銅、マンガン
、鉄などの不純物が多くなるとそれらの金属間化合物が
析出して均一にピットが生成しないという問題があり、
更に■硝酸を主体にした電解液でlO〜100Hzの交
流波形で砂目立てすると、耐刷性能が不充分であるとい
う問題点があった。
本発明は上記の如き従来の欠点に鑑み、最近年の要望に
応じた、アルミニウムに不純物が含有されていてもピッ
ト径の大きな砂目と、ピット径の小さな砂目が均一に分
布し耐剛性に優れ、汚れにくさ及び外観に優れた平版印
刷版用支持体の製造方法を提供することにある。
応じた、アルミニウムに不純物が含有されていてもピッ
ト径の大きな砂目と、ピット径の小さな砂目が均一に分
布し耐剛性に優れ、汚れにくさ及び外観に優れた平版印
刷版用支持体の製造方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明者らは
、電気化学的砂目立て方式において、鋭意検討を行い、
以下の発明を見出したのである。すなわちアルミニウム
支持体、とくに、マ゛ンガンが0.3%以上含有してい
る支持体において、硝酸を主体とした電解液中で、0.
1〜1.5Hzの範囲内の周波数を有する交流で1次相
面化した後、表面のスマット景を50%以上除去し、更
に硝酸を主体とした電解液中で、10〜100Hzの範
囲内の周波数を存する交流で、2次相面化することを特
徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。
、電気化学的砂目立て方式において、鋭意検討を行い、
以下の発明を見出したのである。すなわちアルミニウム
支持体、とくに、マ゛ンガンが0.3%以上含有してい
る支持体において、硝酸を主体とした電解液中で、0.
1〜1.5Hzの範囲内の周波数を有する交流で1次相
面化した後、表面のスマット景を50%以上除去し、更
に硝酸を主体とした電解液中で、10〜100Hzの範
囲内の周波数を存する交流で、2次相面化することを特
徴とする平版印刷版用支持体の製造方法である。
本発明はアルミニウム支持体がマンガン含有量として、
0.3〜7.0%の場合が特に有効である。
0.3〜7.0%の場合が特に有効である。
以下本発明の実施態様について説明する。アルミニウム
支持体は、まずアルカリエツチングされる。好ましいア
ルカリ剤は、苛性ソーダ、苛性カリ、メタ珪酸ソーダ、
炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等で
ある。濃度0.01%〜20%、温度は20°〜90°
C2時間は5秒〜5分間の範囲から選択されるのが適当
であり、好ましいエツチング量としては、0.01g/
nf〜5g/ポである。
支持体は、まずアルカリエツチングされる。好ましいア
ルカリ剤は、苛性ソーダ、苛性カリ、メタ珪酸ソーダ、
炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等で
ある。濃度0.01%〜20%、温度は20°〜90°
C2時間は5秒〜5分間の範囲から選択されるのが適当
であり、好ましいエツチング量としては、0.01g/
nf〜5g/ポである。
特にマンガン等不純物の多いアルミニウム支持体の場合
、エツチング量としては0.01g/rrf〜l g/
rrfが適当である。(昭和62年11月20日特許出
願) 引き続き、アルカリエンチングしたアルミニウム板の表
面にアルカリに不溶な物質(スマット)が残存するので
、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。
、エツチング量としては0.01g/rrf〜l g/
rrfが適当である。(昭和62年11月20日特許出
願) 引き続き、アルカリエンチングしたアルミニウム板の表
面にアルカリに不溶な物質(スマット)が残存するので
、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。
引き続き酸性電解液中で交流電解エツチングされるが酸
性電解液としては硝酸を主体とする電解液が好ましい。
性電解液としては硝酸を主体とする電解液が好ましい。
周波数としては、0.1〜1.511z、より好ましく
は0 、 3〜1 、2 Hzであり、硝酸a[として
は、3〜15.0g/L より好ましくは5〜50 B
I3、浴内のアルミ濃度とじては、2〜20 g/lで
ある。この場合硝酸に必要に応じて、添加物を入れても
良いが、大量生産をする場合は、液の濃度制御などが難
しくなる。また、電流密度は、5〜100A/dnfが
適当であるが、lO〜B0A/drrfがより好ましい
、電源波形としては、求める品質、使用されるアルミニ
ウム支持体の成分によって適時選択されるが、特公昭5
6−19280号、特公昭55−19191号各公報明
記載の特殊交番波形を用いるのがより好ましい。
は0 、 3〜1 、2 Hzであり、硝酸a[として
は、3〜15.0g/L より好ましくは5〜50 B
I3、浴内のアルミ濃度とじては、2〜20 g/lで
ある。この場合硝酸に必要に応じて、添加物を入れても
良いが、大量生産をする場合は、液の濃度制御などが難
しくなる。また、電流密度は、5〜100A/dnfが
適当であるが、lO〜B0A/drrfがより好ましい
、電源波形としては、求める品質、使用されるアルミニ
ウム支持体の成分によって適時選択されるが、特公昭5
6−19280号、特公昭55−19191号各公報明
記載の特殊交番波形を用いるのがより好ましい。
この様な条件で、ピット径2〜8μ閤、ピット深さ0,
3〜6μ糟の砂目を生成する。
3〜6μ糟の砂目を生成する。
この様に1次相面化された支持体は、表面にスマットが
生成してい□るので、これを50%以上取り除くにれは
、表面にスマットが多く付着した状態で次工程の2次相
面化が行われると、ビットとビットが完全に重なり合わ
ず、不均一な砂目となってしまうからである。スマット
の除去方法としては、硫酸を主体にした液に浸漬して溶
解させる方法、高圧水でスマットを除去する方法などが
あり、適時選択される(特願昭62−161020号)
。この様に、表面のスマットを50%以上取り除いた板
は、引き続き交流電解エツチングにより2次相面化が行
われる0周波数としては!0〜100 HZであり、硝
酸濃度としては、3〜150 g/j!、より好ましく
は5〜50g/I1.、浴内のアルミ濃度としては50
g/Il以下が適当であり、より好ましくは2〜20
g#である。この硝酸に必要に応じて、添加物を入れ
ても良いが、大量生産をする場合は液の濃度制御などが
難しくなり、実用土煙しい、この様な条件下でピット径
0.3〜4μ、ピット深さ0.1〜2μの砂目を形成し
、1次相面されたものに重ね合わせる。また電流密度は
5〜100A/drrfが適当であるが、lO〜80
A/ dnfがより好ましい、電源波形とシテは、求め
る品質、使用されるアルミニウム支持体の成分によって
適時選択されるが、特公昭56−19280号、特公昭
55−19191号各公報明記載の特殊交番波形を用い
るのがより好ましい。
生成してい□るので、これを50%以上取り除くにれは
、表面にスマットが多く付着した状態で次工程の2次相
面化が行われると、ビットとビットが完全に重なり合わ
ず、不均一な砂目となってしまうからである。スマット
の除去方法としては、硫酸を主体にした液に浸漬して溶
解させる方法、高圧水でスマットを除去する方法などが
あり、適時選択される(特願昭62−161020号)
。この様に、表面のスマットを50%以上取り除いた板
は、引き続き交流電解エツチングにより2次相面化が行
われる0周波数としては!0〜100 HZであり、硝
酸濃度としては、3〜150 g/j!、より好ましく
は5〜50g/I1.、浴内のアルミ濃度としては50
g/Il以下が適当であり、より好ましくは2〜20
g#である。この硝酸に必要に応じて、添加物を入れ
ても良いが、大量生産をする場合は液の濃度制御などが
難しくなり、実用土煙しい、この様な条件下でピット径
0.3〜4μ、ピット深さ0.1〜2μの砂目を形成し
、1次相面されたものに重ね合わせる。また電流密度は
5〜100A/drrfが適当であるが、lO〜80
A/ dnfがより好ましい、電源波形とシテは、求め
る品質、使用されるアルミニウム支持体の成分によって
適時選択されるが、特公昭56−19280号、特公昭
55−19191号各公報明記載の特殊交番波形を用い
るのがより好ましい。
2次1■而を形成したアルミニウムは、引続き、酸又は
アルカリ溶液で処理されることが好ましい。
アルカリ溶液で処理されることが好ましい。
具体的には特公昭56−11316号公報に記載されて
いる硫酸の他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混液
が用いられる。また、特公昭48−28123号公報に
記載されているような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液
で軽くエツチング処理を行って、表面に付着しているス
マットを除去する。アルカリ溶液で付着したスマットを
除去する場合、アルミニウム表面をエツチングするので
、アルカリに不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液
(硫酸、リン酸、クロム酸等)により再度デスマットす
る必要がある。
いる硫酸の他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混液
が用いられる。また、特公昭48−28123号公報に
記載されているような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液
で軽くエツチング処理を行って、表面に付着しているス
マットを除去する。アルカリ溶液で付着したスマットを
除去する場合、アルミニウム表面をエツチングするので
、アルカリに不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液
(硫酸、リン酸、クロム酸等)により再度デスマットす
る必要がある。
陽極酸化皮膜は0.1〜10g/nf、より好ましくは
0.3〜5g/rrf表面に形成するのが良い。
0.3〜5g/rrf表面に形成するのが良い。
陽極酸化処理する前にアルカリエツチング、デスマット
処理するのが好ましい。
処理するのが好ましい。
陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によって種々
変化するので一概には決定されないが一船的には、電解
液の濃度が1〜80重更%、液温5〜70″C1電流密
度0.5〜60A/d、’i圧1〜toov、電解時間
1秒〜5分の範囲が適当である。
変化するので一概には決定されないが一船的には、電解
液の濃度が1〜80重更%、液温5〜70″C1電流密
度0.5〜60A/d、’i圧1〜toov、電解時間
1秒〜5分の範囲が適当である。
この様にして得られた陽極酸化皮膜を持っ砂目のアルミ
ニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものであるか
ら、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要
により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、先に
記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケート層あるい
は、親水性高分子化合物よりなる下塗層を設けることが
できる。
ニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものであるか
ら、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要
により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、先に
記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケート層あるい
は、親水性高分子化合物よりなる下塗層を設けることが
できる。
下塗層の塗布量は5〜1’50+*g/nfが好ましい
。
。
次に、このように処理したアルミニウム支持体上に感光
性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷
機にセットし、印刷を開始する。
性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷
機にセットし、印刷を開始する。
実施例−1
マンガンを1. 2%含有するJIS3003材のアル
ミニウム支持体を、5%苛性ソーダ水溶液を60°Cに
温めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解9が0.15
g/nfになる様にエツチングした後、スマットを除去
し、水洗した。
ミニウム支持体を、5%苛性ソーダ水溶液を60°Cに
温めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解9が0.15
g/nfになる様にエツチングした後、スマットを除去
し、水洗した。
その後、17.5g/j!の硝酸に3.5g/lのアル
ミを入れ、浴温度45℃にて、0.5Hzの交流周波数
にて、陽極特電気量が550クーロン/dn?になる様
に設定し、1次粗面化を行った。
ミを入れ、浴温度45℃にて、0.5Hzの交流周波数
にて、陽極特電気量が550クーロン/dn?になる様
に設定し、1次粗面化を行った。
その後、60℃、300g#硫酸水溶液中に30sec
浸漬した。その時、スマットの溶MIJを求めたところ
、約75%溶解していることがわかった。その後水洗を
行い、17.5g/j!の硝酸に、3.5g、#!のア
ルミを混合し、浴温度45°Cにて、12.5Hzの交
流周波数にて、陽極特電気量が200クーロン/dnf
になる様に設定し、第2次相面化を行った。スマットを
除去した後、電顕写真で観察すると、5μmのピット径
のものと、1IIIIのピット径のものが多重に重なり
合っていた0次に18%硫酸中で陽極酸化皮膜を2.3
g/ボ設け、水洗し、乾燥した。これを基板(A)とす
る。
浸漬した。その時、スマットの溶MIJを求めたところ
、約75%溶解していることがわかった。その後水洗を
行い、17.5g/j!の硝酸に、3.5g、#!のア
ルミを混合し、浴温度45°Cにて、12.5Hzの交
流周波数にて、陽極特電気量が200クーロン/dnf
になる様に設定し、第2次相面化を行った。スマットを
除去した後、電顕写真で観察すると、5μmのピット径
のものと、1IIIIのピット径のものが多重に重なり
合っていた0次に18%硫酸中で陽極酸化皮膜を2.3
g/ボ設け、水洗し、乾燥した。これを基板(A)とす
る。
比較例−1
マンガンを1.2%含有するJIS 3003材+7)
アルミニウム支持体を、5%苛性ソーダ水溶液を60℃
に温めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量が0.1
5g/rrlになる様にエツチングした後、スマットを
除去し、水洗した。
アルミニウム支持体を、5%苛性ソーダ水溶液を60℃
に温めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量が0.1
5g/rrlになる様にエツチングした後、スマットを
除去し、水洗した。
その後、17.5g/lの硝酸に3.5g/lのアルミ
を入れ浴温度45℃にて、0.5Hzの交流周波数にて
、陽極特電気量が550クーロン/dnfになる様に設
定し、1次相面化を行った。
を入れ浴温度45℃にて、0.5Hzの交流周波数にて
、陽極特電気量が550クーロン/dnfになる様に設
定し、1次相面化を行った。
その後スマット処理を行なわず水洗を行い、17.5g
/42の硝酸に、3.5g/lのアルミを混合し、浴温
度45℃にて、12.5Hzの交流周波数にて、陽極特
電気量が200クーロン/dnfになる様に設定し、第
2次相面化を行った。
/42の硝酸に、3.5g/lのアルミを混合し、浴温
度45℃にて、12.5Hzの交流周波数にて、陽極特
電気量が200クーロン/dnfになる様に設定し、第
2次相面化を行った。
スマットを除去した後、電顕写真で観察すると、5μ−
のピット径のものと1μ−のピット径のものが混在して
いる砂目であった0次に18%硫酸中で陽極酸化皮膜を
2.3g/n(設け、水洗し、乾燥した。これを基板(
B)とする。
のピット径のものと1μ−のピット径のものが混在して
いる砂目であった0次に18%硫酸中で陽極酸化皮膜を
2.3g/n(設け、水洗し、乾燥した。これを基板(
B)とする。
比較例−2
マンガンを1.2%含有するJIS3003材のアルミ
ニウム支持体を5%苛性ソーダ水溶液を60℃に温めた
?容;夜中に浸漬し、アルミニウム;容解用が0.15
g/rJになる様にエツチングした後、スマットを除去
し、水洗した。
ニウム支持体を5%苛性ソーダ水溶液を60℃に温めた
?容;夜中に浸漬し、アルミニウム;容解用が0.15
g/rJになる様にエツチングした後、スマットを除去
し、水洗した。
その後、17.5g/j!の硝酸に3.5g/Itのア
ルミを入れ浴温度45℃にて、0.5Hzの交流周波数
にて、陽極特電気量が550クーロン/dnrになる様
に設定し、1次相面化を行った。
ルミを入れ浴温度45℃にて、0.5Hzの交流周波数
にて、陽極特電気量が550クーロン/dnrになる様
に設定し、1次相面化を行った。
スマットを除去し、電顕写真で観察すると、5μmのピ
・7ト径のものが均一にあった。このものを、18%硫
酸中で、陽極酸化皮膜を2.3g/d設け、水洗し、乾
燥した。これを基板(C)とする。
・7ト径のものが均一にあった。このものを、18%硫
酸中で、陽極酸化皮膜を2.3g/d設け、水洗し、乾
燥した。これを基板(C)とする。
この様に作成した基板(A)〜(C)に、下記組成物を
乾燥後の塗布重量が2.5g/イになる様に塗布して感
光層を設けた。
乾燥後の塗布重量が2.5g/イになる様に塗布して感
光層を設けた。
感光液組成
ナフトキノン−1,2−
ジアジド−5−スルホニル
クロライドとピロガロール、
アセトン樹脂とのエステル
化合物
(米国特許3,635.7
09号明細書実施例−1記
載のもの) ・・・0.75gクレゾー
ルノボラック樹 脂 ・ ・ ・2.00
gオイルブルー#603 (オリエント化学製) ・・・0.04gエチレンジ
クロライド ・・・ 16g2−メトキシエチルア セテート ・・・ 12gとの様にし
て作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明ポ
ジティブフィルムを通して1mの距離から3kwのメタ
ルハライドランプにより、50秒間露光を行なったのち
SIO□/NazOのモル比が1.74の珪酸ナトリウ
ムの5.26%水溶液(PH−12,7)で現像したの
ち、常法の手順で印刷した。
ルノボラック樹 脂 ・ ・ ・2.00
gオイルブルー#603 (オリエント化学製) ・・・0.04gエチレンジ
クロライド ・・・ 16g2−メトキシエチルア セテート ・・・ 12gとの様にし
て作られた感光性平版印刷版を、真空焼枠中で、透明ポ
ジティブフィルムを通して1mの距離から3kwのメタ
ルハライドランプにより、50秒間露光を行なったのち
SIO□/NazOのモル比が1.74の珪酸ナトリウ
ムの5.26%水溶液(PH−12,7)で現像したの
ち、常法の手順で印刷した。
尚印刷機はスプリント25(小森印刷機社製)を使用し
た。
た。
印刷評価結果を第1表に示す。
第 1 表
〔発明の効果)
本発明のアルミニウム支持体を、電解液中で、0.1=
1.511zの範囲内の周波数を有する交流で1次粗面
化した後、表面のスマットけを50%以上除去し、更に
、電解液中で1O−100Hzの範囲内の周波数を有す
る交流で2次相面化することを特徴とする平版印刷版用
支持体の製造方法を実施することにより、耐剛性、汚れ
にくさの性能は勿論、外観の良い平版印刷版用支持体を
提供することが出来る。
1.511zの範囲内の周波数を有する交流で1次粗面
化した後、表面のスマットけを50%以上除去し、更に
、電解液中で1O−100Hzの範囲内の周波数を有す
る交流で2次相面化することを特徴とする平版印刷版用
支持体の製造方法を実施することにより、耐剛性、汚れ
にくさの性能は勿論、外観の良い平版印刷版用支持体を
提供することが出来る。
Claims (3)
- (1)アルミニウム支持体を、電解液中で、0.1〜1
.5Hzの範囲内の周波数を有する交流で1次粗面化し
た後、表面のスマット量を50%以上除去し、更に、電
解液中で10〜100Hzの範囲内の周波数を有する交
流で2次粗面化することを特徴とする平版印刷版支持体
の製造方法。 - (2)該アルミニウム支持体が、マンガンを0.3%以
上含有していることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の平版印刷版支持体の製造方法。 - (3)該電解液が、硝酸を主体とする液であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の平版印
刷版支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP124488A JPH01178496A (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP124488A JPH01178496A (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01178496A true JPH01178496A (ja) | 1989-07-14 |
Family
ID=11496039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP124488A Pending JPH01178496A (ja) | 1988-01-08 | 1988-01-08 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01178496A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2384100A2 (en) | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Insulated light-reflective substrate |
EP2586621A1 (en) | 2011-10-28 | 2013-05-01 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method and manufacturing apparatus of support for planographic printing plate |
WO2018235659A1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | アルミニウム複合材料 |
-
1988
- 1988-01-08 JP JP124488A patent/JPH01178496A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1712368A1 (en) | 2005-04-13 | 2006-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing a support for a lithographic printing plate |
EP2100677A1 (en) | 2008-03-06 | 2009-09-16 | Fujifilm Corporation | Method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate, aluminum alloy plate for lithographic printing plate obtained thereby and lithographic printing plate support |
WO2010150810A1 (ja) | 2009-06-26 | 2010-12-29 | 富士フイルム株式会社 | 光反射基板およびその製造方法 |
WO2011037005A1 (ja) | 2009-09-24 | 2011-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
EP2384100A2 (en) | 2010-04-28 | 2011-11-02 | Fujifilm Corporation | Insulated light-reflective substrate |
EP2586621A1 (en) | 2011-10-28 | 2013-05-01 | Fujifilm Corporation | Manufacturing method and manufacturing apparatus of support for planographic printing plate |
WO2018235659A1 (ja) | 2017-06-21 | 2018-12-27 | 富士フイルム株式会社 | アルミニウム複合材料 |
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