JP2907643B2 - 感光性平版印刷版およびその処理方法 - Google Patents
感光性平版印刷版およびその処理方法Info
- Publication number
- JP2907643B2 JP2907643B2 JP4189448A JP18944892A JP2907643B2 JP 2907643 B2 JP2907643 B2 JP 2907643B2 JP 4189448 A JP4189448 A JP 4189448A JP 18944892 A JP18944892 A JP 18944892A JP 2907643 B2 JP2907643 B2 JP 2907643B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- weight
- photosensitive
- lithographic printing
- printing plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 79
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 126
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 59
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 56
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 48
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 38
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 36
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 31
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 12
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 11
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims description 10
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 6
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- -1 aluminum ions Chemical class 0.000 description 84
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 75
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 47
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 46
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 43
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 35
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 31
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 30
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 26
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 25
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 24
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 23
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 20
- 238000011161 development Methods 0.000 description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 19
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 18
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 18
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 18
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 16
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 14
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 14
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 14
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 14
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 13
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 11
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 11
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 10
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 9
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 8
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 8
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 7
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 5
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 5
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 5
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 4
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 4
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 4
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 4
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N dipicolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=N1 WJJMNDUMQPNECX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 4
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 4
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical group CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical class OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 3
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 3
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 3
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 3
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 3
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 3
- ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,7-diazaspiro[4.5]decane-7-carboxylate Chemical compound C1N(C(=O)OC(C)(C)C)CCCC11CNCC1 ISIJQEHRDSCQIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 1-penten-3-one Chemical compound CCC(=O)C=C JLIDVCMBCGBIEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(O)=C1O GLDQAMYCGOIJDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC=C1O WXTMDXOMEHJXQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(O)C=CC=C1O AKEUNCKRJATALU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 2-cyano-n-[4-(diethylamino)phenyl]-2-phenylacetamide Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1NC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 DKHZGIKPBFMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPHOPMSGKZNELG-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxynaphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=C(O)C=CC2=C1 UPHOPMSGKZNELG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 2-iminonaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=N)CC(=O)C2=C1 CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1OC DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=CC(O)=C1 UYEMGAFJOZZIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 3-Phenyl-1-propanol Chemical compound OCCCC1=CC=CC=C1 VAJVDSVGBWFCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NDMUQNOYNAWAAL-UHFFFAOYSA-N 3-diazo-1,4-dioxonaphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N+]=[N-])C(S(=O)(=O)O)C(=O)C2=C1 NDMUQNOYNAWAAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTSABYAWKQAHBT-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohexanol Chemical compound CC1CCCC(O)C1 HTSABYAWKQAHBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2-methylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-3-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C(=CC(O)=CC=2)C)C2=CC=CC=C2S(=O)(=O)O1 OLQIKGSZDTXODA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCC(O)CC1 MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDWRKZLROIFUML-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbutan-2-ol Chemical compound CC(O)CCC1=CC=CC=C1 GDWRKZLROIFUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SGHZXLIDFTYFHQ-UHFFFAOYSA-L Brilliant Blue Chemical compound [Na+].[Na+].C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=2C(=CC=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 SGHZXLIDFTYFHQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IRIAEXORFWYRCZ-UHFFFAOYSA-N Butylbenzyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 IRIAEXORFWYRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 2
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical compound OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N Veratric acid Natural products COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940052223 basic fuchsin Drugs 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N buten-2-one Chemical compound CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical group [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N dichloridooxygen Chemical compound ClOCl RCJVRSBWZCNNQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N dichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)Cl JXTHNDFMNIQAHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N diisobutyl phthalate Chemical compound CC(C)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(C)C MGWAVDBGNNKXQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALOUNLDAKADEEB-UHFFFAOYSA-N dimethyl sebacate Chemical compound COC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC ALOUNLDAKADEEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 2
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N gallic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007863 gel particle Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 229960002449 glycine Drugs 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 2
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical compound CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 2
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 2
- 229940002712 malachite green oxalate Drugs 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001960 metal nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUSRUYULUAYXIP-UHFFFAOYSA-N n-acetylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=O)C=C RUSRUYULUAYXIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N periodic acid Chemical compound OI(=O)(=O)=O KHIWWQKSHDUIBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUEIZVNYDFNHJU-UHFFFAOYSA-N quinizarin Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(O)=CC=C2O GUEIZVNYDFNHJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 2
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 2
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 2
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYLYBQSHRJMURN-UHFFFAOYSA-N (2-methoxyphenyl)methanol Chemical compound COC1=CC=CC=C1CO WYLYBQSHRJMURN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N (2-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O RDJHJYJHQKPTKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPCKQZVEAKXDED-UHFFFAOYSA-N (2-sulfamoylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1OC(=O)C=C RPCKQZVEAKXDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 YJSCOYMPEVWETJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- METGJYBKWXVKOA-UHFFFAOYSA-N (3-sulfamoylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC(OC(=O)C=C)=C1 METGJYBKWXVKOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound OC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 NIUHGYUFFPSEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N (4-sulfamoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 IJJHHTWSRXUUPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEBPGJVCOQUTIU-UHFFFAOYSA-N (4-sulfamoylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 YEBPGJVCOQUTIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triphenylguanidine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=NC=1C=CC=CC=1)NC1=CC=CC=C1 FUPAJKKAHDLPAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methyl-5-propan-2-ylcyclohex-2-en-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1CC(C(C)C)CC=C1C DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKXUOQFNYNLGPC-UHFFFAOYSA-N 1-(3,4-dimethyl-2,5-dioxopyrrol-1-yl)hexan-2-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(OC(=O)C(C)=C)CN1C(=O)C(C)=C(C)C1=O RKXUOQFNYNLGPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 1-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)C(C)OC(=O)C(C)=C HMLSBRLVTDLLOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJJCQDRGABAVBB-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(O)C(C(=O)O)=CC=C21 SJJCQDRGABAVBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940082044 2,3-dihydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-octanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCCCCCC YJGHMLJGPSVSLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(2-hydroxyethyl)amino]acetic acid Chemical compound OCCN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O URDCARMUOSMFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 2-[n-(2-hydroxyethyl)anilino]ethanol Chemical compound OCCN(CCO)C1=CC=CC=C1 OJPDDQSCZGTACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVLXQGJVBGMLRR-UHFFFAOYSA-N 2-aminoacetic acid;hydron;chloride Chemical compound Cl.NCC(O)=O IVLXQGJVBGMLRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 2-anilinoethanol Chemical compound OCCNC1=CC=CC=C1 MWGATWIBSKHFMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLMLWEGDMMDCDW-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CCCCC1=CC=CC=C1O HLMLWEGDMMDCDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 2-chloroaniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1Cl AKCRQHGQIJBRMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Cl IKCLCGXPQILATA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCl GPOGMJLHWQHEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCWMNWOBNHPTGX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-sulfamoylethyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCS(N)(=O)=O NCWMNWOBNHPTGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1S(N)(=O)=O NGYXHOXRNFKMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(3-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOOZGSNIAHAPOC-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-nitro-3-phenylprop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)NC(=O)C(C)=CC1=CC=CC=C1 ZOOZGSNIAHAPOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWQZIKQYNDOLK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-prop-2-enoylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C=C MVWQZIKQYNDOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-propanoylprop-2-enamide Chemical compound CCC(=O)NC(=O)C(C)=C VRWOCLJWLOZDAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzene-1,3-diol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1O ZTMADXFOCUXMJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDVWOBYBJYUSMF-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCCCC1O NDVWOBYBJYUSMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKOZPUORKCHONH-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1-sulfonic acid Chemical compound CC(C)CS(O)(=O)=O FKOZPUORKCHONH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWVFJJKBBZXWFV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-1-yl-5-phenyl-1,3-oxazole Chemical compound C=1N=C(C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)OC=1C1=CC=CC=C1 WWVFJJKBBZXWFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 2-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 UOBYKYZJUGYBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZBLUWVMZMXIKZ-UHFFFAOYSA-N 2-o-(2-ethoxy-2-oxoethyl) 1-o-ethyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC PZBLUWVMZMXIKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJERZJLSXBRUDQ-UHFFFAOYSA-N 2-o-(3,4-dihydroxybutyl) 1-o-methyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCC(O)CO YJERZJLSXBRUDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNHNBMQCHKKDNI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbutan-1-ol Chemical compound CCC(CO)C1=CC=CC=C1 DNHNBMQCHKKDNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 2-phenylmethoxyethanol Chemical compound OCCOCC1=CC=CC=C1 CUZKCNWZBXLAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical class OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 3-Hydroxy-2-naphthoate Chemical compound C1=CC=C2C=C(O)C(C(=O)O)=CC2=C1 ALKYHXVLJMQRLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIGNZLVHOZEOPV-UHFFFAOYSA-N 3-Methoxybenzyl alcohol Chemical compound COC1=CC=CC(CO)=C1 IIGNZLVHOZEOPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-formylphenoxy)methyl]thiophene-2-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1OCC1=C(C#N)SC=C1 REEBWSYYNPPSKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 3-chlorofuran-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)OC1=O CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical class CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 4-Ethoxyphenol Chemical compound CCOC1=CC=C(O)C=C1 LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxybenzyl alcohol Chemical compound COC1=CC=C(CO)C=C1 MSHFRERJPWKJFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-(2-methylprop-2-enoyl)benzamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 MPFIISCRTZAMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSMQEEPDOXSVIU-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n-prop-2-enoylbenzamide Chemical compound ClC1=CC=C(C(=O)NC(=O)C=C)C=C1 BSMQEEPDOXSVIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 XRHGYUZYPHTUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090248 4-hydroxybenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol sulfate Chemical compound OS(O)(=O)=O.CNC1=CC=C(O)C=C1.CNC1=CC=C(O)C=C1 ZVNPWFOVUDMGRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSHNITRMYYLLCV-UHFFFAOYSA-N 4-methylumbelliferone Chemical compound C1=C(O)C=CC2=C1OC(=O)C=C2C HSHNITRMYYLLCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDZLXQFDGRCELX-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbutan-1-ol Chemical compound OCCCCC1=CC=CC=C1 LDZLXQFDGRCELX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAZFGHLLJRSQEE-UHFFFAOYSA-N 6-(3,4-dimethyl-2,5-dioxopyrrol-1-yl)hexyl prop-2-enoate Chemical compound CC1=C(C)C(=O)N(CCCCCCOC(=O)C=C)C1=O NAZFGHLLJRSQEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 7028-40-2 Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004135 Bone phosphate Substances 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N Butyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCCC NDKYEUQMPZIGFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N Butyl phthalyl butylglycolate Chemical compound CCCCOC(=O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC2CCCCC2)C=1C(=O)OC1CCCCC1 VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOFJDLLWVCMRU-UHFFFAOYSA-N Diisobutyl adipate Chemical compound CC(C)COC(=O)CCCCC(=O)OCC(C)C RDOFJDLLWVCMRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVFDTKUVRCTHQE-UHFFFAOYSA-N Diisodecyl phthalate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC(C)C ZVFDTKUVRCTHQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N Docosanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O ORAWFNKFUWGRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N Etidronic acid Chemical compound OP(=O)(O)C(O)(C)P(O)(O)=O DBVJJBKOTRCVKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006385 Geon Polymers 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical class OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOOTYTYQINUNNV-UHFFFAOYSA-N Triethyl citrate Chemical compound CCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCC)CC(=O)OCC DOOTYTYQINUNNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N [(2R)-2-[(2R,3R,4S)-4-hydroxy-3-octadecanoyloxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N 0.000 description 1
- QMPSSKSQMBRQAJ-UHFFFAOYSA-N [2-(3-sulfamoylphenyl)naphthalen-1-yl] prop-2-enoate Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C3C=CC=CC3=CC=2)OC(=O)C=C)=C1 QMPSSKSQMBRQAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N alpha-glycerophosphate Natural products OCC(O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N alpha-methylbenzylalcohol Natural products CC1=CC=CC=C1CO XPNGNIFUDRPBFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001559 benzoic acids Chemical class 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N beta-monoglyceryl stearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 1
- HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N bis(3,5-difluorophenyl)phosphane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(PC=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical compound OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940106681 chloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- RUSTYNDGQSCBHW-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCC=CC1 RUSTYNDGQSCBHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCCC1N SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- 229960005215 dichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical compound OP(O)OP(O)O ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940031769 diisobutyl adipate Drugs 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940014772 dimethyl sebacate Drugs 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- XWVQUJDBOICHGH-UHFFFAOYSA-N dioctyl nonanedioate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCCCCCCC(=O)OCCCCCCCC XWVQUJDBOICHGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L dithionite(2-) Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])=O GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YCZJVRCZIPDYHH-UHFFFAOYSA-N ditridecyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCCCCCC YCZJVRCZIPDYHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 YRIUSKIDOIARQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071161 dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N dtpmp Chemical compound OP(=O)(O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(=O)O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O DUYCTCQXNHFCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N ethenyl (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=COC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WGXGKXTZIQFQFO-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-[3-(ethylamino)-6-ethylimino-2,7-dimethylxanthen-9-yl]benzoate;hydron;chloride Chemical compound [Cl-].C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUTWJXNBRUVCAF-UHFFFAOYSA-N ethyl 7-methyl-9-oxothioxanthene-3-carboxylate Chemical compound C1=C(C)C=C2C(=O)C3=CC=C(C(=O)OCC)C=C3SC2=C1 RUTWJXNBRUVCAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl formate Chemical compound CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011087 fumaric acid Nutrition 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001269 glycine hydrochloride Drugs 0.000 description 1
- 229960004275 glycolic acid Drugs 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Natural products C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N methoxyacetic acid Chemical compound COCC(O)=O RMIODHQZRUFFFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethene-1,2-diamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC=CNC1=CC=CC=C1 VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMCMWVRJNPJYIZ-UHFFFAOYSA-N n-(2-sulfamoylethyl)prop-2-enamide Chemical compound NS(=O)(=O)CCNC(=O)C=C LMCMWVRJNPJYIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFAUOAKHHDYZPL-UHFFFAOYSA-N n-(2-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1NC(=O)C=C KFAUOAKHHDYZPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 XZSZONUJSGDIFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound OC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 POVITWJTUUJBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RINSWHLCRAFXEY-UHFFFAOYSA-N n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 RINSWHLCRAFXEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCOJBDPLGQMVNL-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]phenyl]-4-hydroxybenzamide Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)NC1=CC=C(C=2N=C(N=C(N=2)C(Cl)(Cl)Cl)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 JCOJBDPLGQMVNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N n-acetyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=O)NC(=O)C(C)=C OJBZOTFHZFZOIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBFLGHPYLIZSC-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCC1=CC=CC=C1 CEBFLGHPYLIZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLHOLGYGRKZMU-UHFFFAOYSA-N n-benzylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCC1=CC=CC=C1 OHLHOLGYGRKZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1CCCCC1 JBLADNFGVOKFSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1CCCCC1 PMJFVKWBSWWAKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIRIUIGSENVXCN-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)N(CC)C1=CC=CC=C1 NIRIUIGSENVXCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C(C)=C ZIWDVJPPVMGJGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLZRLVLUJPWOB-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-7-ethylimino-2,8-dimethylphenoxazin-3-amine Chemical compound O1C2=CC(=NCC)C(C)=CC2=NC2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 PWLZRLVLUJPWOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNTUIAFSOCHRHV-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)N(CC)C1=CC=CC=C1 BNTUIAFSOCHRHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N n-ethylprop-2-enamide Chemical compound CCNC(=O)C=C SWPMNMYLORDLJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N n-hexyl-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C(C)=C FYCBGURDLIKBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCGQYJSQINRKQL-UHFFFAOYSA-N n-hexylprop-2-enamide Chemical compound CCCCCCNC(=O)C=C GCGQYJSQINRKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N n-nitro-2-phenylprop-2-enamide Chemical compound [O-][N+](=O)NC(=O)C(=C)C1=CC=CC=C1 NXURUGRQBBVNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enoylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC(=O)C=C CHDKQNHKDMEASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COYSXVQTMDAUAT-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enoylpropanamide Chemical compound CCC(=O)NC(=O)C=C COYSXVQTMDAUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonic acid Chemical class C1=CC=C2C(P(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Substances 0.000 description 1
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960003512 nicotinic acid Drugs 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000486 o-cresyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(O*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-methyl phenol Natural products CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940065472 octyl acrylate Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003606 oligomerizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N oxaloacetic acid Chemical compound OC(=O)CC(=O)C(O)=O KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical class C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N pentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C(C)=C GYDSPAVLTMAXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N pentyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCOC(=O)C=C ULDDEWDFUNBUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920002454 poly(glycidyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000000244 polyoxyethylene sorbitan monooleate Substances 0.000 description 1
- 235000010482 polyoxyethylene sorbitan monooleate Nutrition 0.000 description 1
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000053 polysorbate 80 Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 1
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N sn-glycerol 3-phosphate Chemical compound OC[C@@H](O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N sodium 4-amino-6-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-5,7-disulfonaphthalen-2-yl)diazenyl]-3-methoxyphenyl]-2-methoxyphenyl]diazenyl]-5-hydroxynaphthalene-1,3-disulfonic acid Chemical compound COC1=C(C=CC(=C1)C2=CC(=C(C=C2)N=NC3=C(C4=C(C=C3)C(=CC(=C4N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O)OC)N=NC5=C(C6=C(C=C5)C(=CC(=C6N)S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)O.[Na+] ORFSSYGWXNGVFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 229940100515 sorbitan Drugs 0.000 description 1
- 239000001570 sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 235000011071 sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 229940031953 sorbitan monopalmitate Drugs 0.000 description 1
- 239000001589 sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000011078 sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229960004129 sorbitan tristearate Drugs 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;silicate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] RLQWHDODQVOVKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N thiosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1S NBOMNTLFRHMDEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940103494 thiosalicylic acid Drugs 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004319 trichloroacetic acid Drugs 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001069 triethyl citrate Substances 0.000 description 1
- VMYFZRTXGLUXMZ-UHFFFAOYSA-N triethyl citrate Natural products CCOC(=O)C(O)(C(=O)OCC)C(=O)OCC VMYFZRTXGLUXMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013769 triethyl citrate Nutrition 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical class CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
- B41N1/083—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/03—Chemical or electrical pretreatment
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
する感光性平版印刷版およびその現像処理に関するもの
であり、特に自動現像機により処理するのに適した感光
性平版印刷版およびその現像方法に関するものである。
ているポジ型感光性平版印刷版は支持体としてのアルミ
ニウム板上にo−キノンジアジド化合物からなる感光層
を設けたものである。o−キノンジアジド化合物は紫外
線露光によりカルボン酸に変化することが知られてお
り、従って、これをアルカリ水溶液で現像すると当該感
光層の露光部のみが除去されて支持体表面が露出する。
アルミニウム支持体の表面は親水性なので現像で支持体
の表面が露出された部分(非画像部)は水を保持して油
性インキを反発する。一方、現像によって感光層の除去
されなかった領域(画像部)は、親油性なので水を反発
し、インキを受け付ける。かかるポジ型感光性平版印刷
版の現像液として使用されるアルカリ水溶液は、種々の
ものが知られているが、最も好ましいのはケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その
理由はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2とアルカリ
金属酸化物M2O の比率(一般に〔SiO2〕/〔M2O 〕のモ
ル比で表わす)と濃度によってある程度現像性の調節が
可能とされるためである。
版印刷版だけでなく、特公昭56−14970号公報記
載のo−キノンジアジド感光層を用いた反転処理用ネガ
型感光性平版印刷版や、アルカリ可溶性ジアゾニウム塩
を感光層に用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液およ
びジメチルマレイミド基を側鎖に含む樹脂を光架橋剤と
する感光層を用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液と
しても好ましく用いられている。
化および標準化のため、感光性平版印刷版の自動現像機
が広く用いられている。この自動現像機は、一般に感光
性平版印刷版を搬送する装置と、現像液槽およびスプレ
ー装置からなり、露光済みの感光性平版印刷版を水平に
搬送しながら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は現像液が満たされた現像処理槽中に液中ガイドロー
ルなどによって感光性平版印刷版を浸漬搬送させて現像
処理する方法も知られている。
る自動現像機を用いて、ポジ型感光性平版印刷版を現像
する場合に、現像液としてSiO2/Na2Oのモル比が1.0〜
1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であっ
て、SiO2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの
水溶液を使用し、しかもポジ型感光性平版印刷版の処理
量に応じて連続的または断続的にSiO2/Na2Oのモル比が
0.5〜1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が0.5〜1.5)の
ケイ酸ナトリウム水溶液(補充液)を現像液に加えるこ
とによって、長時間タンク中の現像液を交換することな
く、多量のポジ型感光性平版印刷版を処理することがで
きる旨、開示されている。
ても、より多量の感光性平版印刷版を処理すると、現像
液中に不溶物が発生し、これが平版印刷版に付着した
り、ノズルを詰まらせ、しかもフィルターの目詰まりを
発生させるという欠点があった。このような不溶物の発
生は陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を支持体とし
て使用したポジ型感光性平版印刷版を現像したときに顕
著に現れることが知られている。この欠点を改良するた
めの技術として、特公昭57−7427号公報には、
〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2
O 〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4重量
%であるアルカリ金属ケイ酸塩の現像液を用い、補充液
として用いるアルカリ金属ケイ酸塩の〔SiO2〕/〔M〕
が0.25〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O 〕が0.5〜1.
5)であり、かつ該現像液および該補充液のいずれもが
その中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準に
して少なくとも20%のカリウムを含有していることか
らなる現像方法が開示されている。これにより不溶物の
発生は抑えられたが、現像補充液の活性度がやや劣り、
補充量が多くなるという欠点があった。この欠点の改良
には特開平2−3065号公報に開示されている現像液
面に空気との接触を防止する浮き蓋を設けた浸漬現像部
を有する自動現像機で現像する技術があるが、ランニン
グコストや廃液量の削減になお強い要求がある。特に地
球規模で環境保全が論議される今日、産業廃棄物の低減
がより求められる状況にある。
細書は、感光性平版印刷版を現像する際にアルミニウム
支持体の感光層を有する面の反対側の面(以後この面を
支持体の裏面と称す)からアルミニウムの陽極酸化皮膜
が多量に溶出しており、これが不溶物生成の原因となっ
ていることを明示している。そしてその対策として感光
層を有する面の反対側の面に有機高分子化合物からなる
被覆層を設けることが有効であることを開示している。
しかしながら、用いた保護層の種類によっては印刷中に
使用する薬品によって保護層が膨潤し、印圧が変化して
耐刷性が劣化するなどの欠点がみられた。また、疎水性
の有機高分子化合物を裏面に設けることにより、該平版
印刷版を使用している間に裏面にインキなどの親油性物
質が付着し汚れる欠点が見いだされた。
感光性平版印刷版の裏面をアルカリ金属珪酸塩で処理し
て、現像液による裏面の粉ふきを抑制する方法が開示さ
れている。しかしながらこの方法には、処理液の温度を
50〜90℃の高温に保つ必要があること、処理後更に
アルカリ処理するなど煩雑であり、また処理液は高アル
カリ水溶液であり均一塗布性が劣るだけでなく、万一感
光層側に処理液が回り込んだ場合、感光層とアルミニウ
ム支持体の密着力を低下させるなどの問題があった。更
にこの方法で処理された裏面は親水性であるがために、
感光性平版印刷版を積み重ねた場合、感光層上に設けた
親水性のマットが裏面に吸着し、感光性平版印刷版同士
のくっつきや感光膜剥がれを引き起こした。
は、感光性平版印刷版の現像液補充量を低減し、産業廃
棄物を減らせることのできる改良された感光性平版印刷
版およびその処理方法を提供することである。本発明の
別の目的は、長期間、多量の感光性平版印刷版を処理し
ても不溶物が生成せず、安定して処理することのできる
改良された感光性平版印刷版およびその処理方法を提供
することである。本発明の更に別の目的は、支持体の裏
面に現像インキなどの親油性物質が付着して汚れるとい
った欠点がなく、しかも自動現像機で長期間、多量の感
光性平版印刷版を処理しても現像液中に不溶物が生成せ
ず、従って長期間にわたって現像液を交換することな
く、安定して処理することのできる改良された感光性平
版印刷版およびその処理方法を提供することである。
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、現像前は疎水性を示
し、耐現像液性に優れ、かつ現像処理後親水性を示すバ
ックコート層として、ゾル−ゲル法により得られる金属
酸化物の被覆層が優れていることを見いだし本発明を完
成するに至ったものである。即ち本発明は、両面に陽極
酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の片面に感光層を
有し、且つ該感光層とは反対側の面に有機金属化合物あ
るいは無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得ら
れる金属酸化物からなる被覆層を設けたことを特徴とす
る感光性平版印刷版を提供するものである。本発明はま
た、両面に陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の
片面に感光層を有し、且つ該感光層とは反対側の面に有
機金属化合物あるいは無機金属化合物を加水分解及び重
縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層を設けた
感光性平版印刷版を画像露光し、アルカリ金属ケイ酸塩
を含有するpH12以上のアルカリ水溶液で現像すること
を特徴とする感光性平版印刷版の処理方法を提供するも
のである。本発明はさらに、両面に陽極酸化皮膜を有す
るアルミニウム支持体の片面に感光層を有し、且つ該感
光層とは反対側の面に有機金属化合物あるいは無機金属
化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物
からなる被覆層を設けた感光性平版印刷版を画像露光
し、次いでアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液からなる現像
液で現像する方法であって、該現像による該現像液の変
化をアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液からなる補充液を該
現像液に加えることによって補償する感光性平版印刷版
の処理方法において、該現像補充液が〔SiO2〕/〔M2O
〕比(但し、〔SiO2〕はSiO2のモル濃度(mol /
l)、〔M2O 〕はアルカリ金属Mの酸化物M2Oのモル濃
度(mol /l)を示す)が0.3〜1.0であって、SiO2が
0.5〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液であ
ることを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法を提供
するものである。以下に本発明の感光性平版印刷版(以
後PS版と称す)について詳しく説明する。
ミニウムおよびアルミニウム合金からなる板状物であ
り、また、紙やプラスチックの両面にアルミニウムやア
ルミニウム合金の板状物を貼り合わせたものが用いられ
る。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板および
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々10重量
%以下である。本発明に好適なアルミニウムは、純アル
ミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技
術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するも
のでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウ
ム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より
公知公用の素材のもの、例えばJIS A1050 、JIS A1100
、JIS A3003 、JIS A3103、JIS A3005 などを適宜利用
することが出来る。本発明に用いられるアルミニウム板
の厚みは、およそ0.1mm〜0.6mm程度である。
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。まず、アルミニウム板の表面は粗面化
処理されるが、その方法としては、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化
学的に表面を選択溶解させる方法がある。機械的方法と
しては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨
法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法を用いるこ
とが出来る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸
または硝酸電解液中で交流または直流により行う方法が
ある。また、特開昭54−63902号公報に開示され
ているように機械的粗面化法と電気化学的粗面化法の両
者を組み合わせた方法も利用することが出来る。このよ
うに粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアル
カリエッチング処理及び中和処理された後、所望により
表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が
施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる
電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばい
かなるものでも使用することができ、一般には硫酸、リ
ン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電
流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲にあれば適当である。中でも、硫酸
を電解質とし、英国特許第 1,412,768号明細書に記載さ
れているような高電流密度で陽極酸化する方法および米
国特許第 4,211,619号明細書に記載されているような低
濃度の硫酸水溶液中で陽極酸化する方法が好ましく、硫
酸の濃度が5〜20重量%、溶存アルミニウムイオンの
濃度が3〜15重量%、温度25〜50℃の電解液中で
5〜20A/dm2 の電流密度で直流で陽極酸化する方法
が最も好ましい。陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が
好適であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲
である。陽極酸化皮膜が1.0g/m2より少ないと耐刷性
が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き
易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわ
ゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸
化処理は平版印刷版の支持体の印刷に用いる面に施され
るが、電気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/
m2 の陽極酸化皮膜が形成されるのが一般的である。陽
極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要によ
り親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処
理としては、米国特許第 2,714,066号、第 3,181,461
号、第 3,280,734号および第 3,902,734号に開示されて
いるようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナト
リウム水溶液)法がある。この方法に於いては、支持体
がケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるかまたは
電解処理される。他に、特公昭36−22063号公報
に開示されている弗化ジルコン酸カリウムおよび米国特
許第 3,276,868号、第 4,153,461号および第 4,689,272
号に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理
する方法などが用いられる。
に必要に応じて有機下塗層が設けられる。この有機下塗
層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシ
メチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、2−
アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホ
ン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナ
フチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホス
ホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホ
ン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェ
ニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグ
リセロリン酸などの有機リン酸エステル、置換基を有し
てもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン
酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩な
どのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選
ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機
化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾
燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の
溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター
塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいず
れの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液
の濃度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重
量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25
〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましく
は2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、
pH1〜12の範囲で使用することもできる。また、感光
性平版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加
することもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2
〜200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg
/m2である。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと十分
な耐刷性能が得られない。また、200mg/m2より大き
くても同様である。
は、アルミニウムの陽極酸化皮膜の溶出を抑えるため有
機金属化合物あるいは無機金属化合物を加水分解及び重
縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層(以後こ
の被覆層をバックコート層と称す)が設けられる。バッ
クコート層に用いられる金属酸化物としてはシリカ(酸
化珪素)、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化アルミニウム
や酸化ジルコニウム及びそれらの複合体などが挙げられ
る。本発明で用いられる金属酸化物の被覆層は、有機金
属化合物あるいは無機金属化合物を水および有機溶媒中
で、酸、またはアルカリなどの触媒で加水分解、及び縮
重合反応を起こさせたいわゆるゾル−ゲル反応液を支持
体の裏面に塗布、乾燥することにより得られる。ここで
用いる有機金属化合物あるいは無機金属化合物として
は、例えば、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネ
ート、金属酢酸塩、金属シュウ酸塩、金属硝酸塩、金属
硫酸塩、金属炭酸塩、金属オキシ塩化物、金属塩化物お
よびこれらを部分加水分解してオリゴマー化した縮合物
が挙げられる。
で表される(Mは金属元素、Rはアルキル基、nは金属
元素の酸化数を示す)。その例としては、Si(OCH3)4 、
Si(OC2H5)4 、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4、Al(OCH3)3 、
Al(OC2H5)3、Al(OC3H7)3、Al(OC4H9)3、B(OCH3)3、B(OC
2H5)3 、B(OC3H7)3 、B(OC4H9)3 、Ti(OCH3)4 、Ti(OC2
H5)4、Ti(OC3H7)4、Ti(OC4H9)4、Zr(OCH3)4 、Zr(OC
2H5)4、Zr(OC3H7)4、Zr(OC4H9)4などが用いられる。他
にGe、Li、Na、Fe、Ga、Mg、P 、Sb、Sn、Ta、V などの
アルコキシドが挙げられる。さらに、CH3Si(OCH3)3、C2
H5Si(OCH3)3 、CH3Si(OC2H5)3 、C2H5Si(OC2H5)3などの
モノ置換珪素アルコキシドも用いられる。金属アセチル
アセトネートの例としては、Al(COCH2COCH3)3 、Ti(COC
H2COCH3) 4 、などが挙げられる。金属シュウ酸塩の例と
してはK2TiO(C2O4)2など、金属硝酸塩の例としてはAl(N
O3)3、ZrO(NO3)2 ・2H2O などがある。金属硫酸塩の例
としてはAl2(SO4)3 、(NH4)Al(SO4)2 、KAl(SO4)2 、Na
Al(SO4)2、金属オキシ塩化物の例としてはSi2OCl6 、Zr
OCl2、塩化物の例としてはAlCl3 、SiCl4 、ZrCl2、TiC
l4 などがある。
化合物は単独、または二つ以上のものを組み合わせて用
いることができる。これらの有機金属化合物あるいは無
機金属化合物のなかでは金属アルコキシドが反応性に富
み、金属−酸素の結合からできた重合体を生成しやすく
好ましい。それらの内、Si(OCH3)4 、Si(OC2H5)4 、Si
(OC3H7)4、Si(OC4H9)4、などの珪素のアルコキシ化合物
が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被
覆層が耐現像液性に優れており特に好ましい。また、こ
れらの珪素のアルコキシ化合物を部分加水分解して縮合
したオリゴマーも好ましい。この例としては、約40重
量%のSiO2を含有する平均5量体のエチルシリケートオ
リゴマーが挙げられる。更に、上記の珪素のテトラアル
コキシ化合物の一個または二個のアルコキシ基をアルキ
ル基や反応性を持った基で置換したいわゆるシランカッ
プリング剤を併用するのも好ましい例として挙げられ
る。これに用いられるシランカップリング剤としては、
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、γ(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラ
ン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシランおよびメチルトリエトキ
シシランなどである。
アルカリが用いられる。その例としては、塩酸、硫酸、
亜硫酸、硝酸、亜硝酸、フッ酸、リン酸、亜リン酸など
の無機酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、グリコー
ル酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、フ
ロロ酢酸、ブロモ酢酸、メトキシ酢酸、オキサロ酢酸、
クエン酸、シュウ酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、フ
マル酸、マレイン酸、マロン酸、アスコルビン酸、安息
香酸、3,4−ジメトキシ安息香酸のような置換安息香
酸、フェノキシ酢酸、フタル酸、ピクリン酸、ニコチン
酸、ピコリン酸、ピラジン、ピラゾール、ジピコリン
酸、アジピン酸、p−トルイル酸、テレフタル酸、1,
4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エルカ
酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸な
どの有機酸、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水
酸化物、アンモニア、エタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミンなどのアルカリが挙げら
れる。他にスルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫
酸類、ホスホン酸類、およびリン酸エステル類など、具
体的には、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼン
スルホン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル酸、フ
ェニルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェ
ニル、リン酸ジフェニルなどの有機酸も使用できる。こ
れらの触媒は単独または二種以上を組み合わせて用いる
ことができる。触媒は原料の金属化合物に対して0.00
1〜10重量%が好ましく、より好ましくは0.05〜5
重量%の範囲である。触媒量がこの範囲より少ないとゾ
ル−ゲル反応の開始が遅くなり、この範囲より多いと反
応が急速に進み、不均一なゾル−ゲル粒子ができるため
か、得られる被覆層は耐現像液性に劣る。
の水が必要であり、その好ましい添加量は原料の金属化
合物を完全に加水分解するのに必要な水の量の0.05〜
50倍モルが好ましく、より好ましくは0.5〜30倍モ
ルである。水の量がこの範囲より少ないと加水分解が進
みにくく、この範囲より多いと原料が薄められるため
か、やはり反応が進みにくくなる。ゾル−ゲル反応液に
は更に溶媒が添加される。溶媒は原料の金属化合物を溶
解し、反応で生じたゾル−ゲル粒子を溶解または分散す
るものであればよく、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノールなどの低級アルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトンなどのケトン
類が用いられる。またバックコート層の塗布面質の向上
等の目的でエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコールお
よびジプロピレングリコールなどのグリコール類のモノ
またはジアルキルエーテルおよび酢酸エステルを用いる
ことができる。これらの溶媒の中で水と混合可能な低級
アルコール類が好ましい。ゾル−ゲル反応液は塗布する
のに適した濃度に溶媒で調製されるが、溶媒の全量を最
初から反応液に加えると原料が希釈されるためか加水分
解反応が進みにくくなる。そこで溶媒の一部をゾル−ゲ
ル反応液に加え、反応が進んだ時点で残りの溶媒を加え
る方法が好ましい。
媒および触媒を混合することにより進む。反応の進行は
それらの種類、組成比および反応の温度、時間に依存
し、成膜後の膜質にも影響を与える。特に反応温度の影
響が大きいので、反応中温度制御することが好ましい。
ゾル−ゲル反応液には上述の必須成分に加えて、ゾル−
ゲル反応を適度に調整するために水酸基、アミノ基や活
性水素を分子内に含む化合物を添加してもよい。それら
の化合物としてはポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、それらのブロック共重合体、およびそ
れらのモノアルキルエーテルまたはモノアルキルアリー
ルエーテル、フェノールやクレゾールなどの各種フェノ
ール類、ポリビニルアルコールおよび他のビニルモノマ
ーとの共重合体、リンゴ酸、酒石酸などの水酸基を持つ
酸、脂肪族および芳香族アミン、ホルムアミドおよびジ
メチルホルムアミドなどが挙げられる。更にバックコー
ト層の皮膜性向上のため有機、無機の高分子化合物、バ
ックコート層に可とう性を持たせたり、すべり性を調整
する目的で可塑剤、界面活性剤、その他の添加物を必要
により添加できる。好ましい高分子化合物としては、例
えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、
シリコーン樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレ
ア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、
エポキシ樹脂、フェノールノボラック樹脂、フェノール
類とアルデヒドまたはケトンとの縮合樹脂、アセタール
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチ
レン、アクリル系樹脂およびこれらの共重合樹脂などが
挙げられる。これらの高分子化合物の中では具体的に
は、フェノール、クレゾール、ter −ブチルフェノー
ル、オクチルフェノールなどのノボラック樹脂、ピロガ
ロールとアセトンとの縮合樹脂、p−ヒドロキシスチレ
ンやヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーや
コポリマーなどが好ましく用いられる。
(1)〜(12)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1万〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げること
ができる。 (1)芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−
およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−およびp−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、(3)アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル
酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキ
シル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アク
リル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アク
リル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレー
ト、N−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの(置
換)アクリル酸エステル、(4)メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリ
ル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチ
ル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メ
タクリル酸−2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒド
ロキシブチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレートなどの(置換)メタクリ
ル酸エステル、
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、(6)エチルビ
ニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、
(7)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル
類、(8)スチレン、メチルスチレン、クロロメチルス
チレンなどのスチレン類、(9)メチルビニルケトン、
エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニル
ビニルケトンなどのビニルケトン類、(10)エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ンなどのオレフィン類、
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど、(12)N−(o−アミ
ノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(m−ア
ミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(p−
アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−〔1
−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕アクリルアミ
ド、N−(2−アミノスルホニルエチル)アクリルアミ
ドなどのアクリルアミド類、N−(o−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−〔1−
(3−アミノスルホニル)ナフチル〕メタクリルアミ
ド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタクリルア
ミドなどのメタクリルアミド類、また、o−アミノスル
ホニルフェニルアクリレート、m−アミノスルホニルフ
ェニルアクリレート、p−アミノスルホニルフェニルア
クリレート、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフ
チル)アクリレートなどのアクリル酸エステル類などの
不飽和スルホンアミド、o−アミノスルホニルフェニル
メタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタク
リレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)メ
タクリレートなどのメタクリル酸エステル類などの不飽
和スルホンアミト。
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。高
分子化合物は場合によりラテックスの形でバックコート
塗布液に加えられる。好ましいラテックスとしては、ポ
リアクアリル酸エステル共重合体のエマルジョン;商品
名、ジュリマーET−410 、ジュリマーSEK-301 、ジュリ
マーSEK-101、ジュリマーFC−30、ジュリマーFC−60、
ジュリマーFC−80、ジュリマー−5101、ジュリマー−51
02、ジュリマー−5103、ジュリマー−5301、ジュリマー
−361、ジュリマー−363 、ジュリマー−365 、ジュリ
マー−6302、ジュリマー−6311、ジュリマー−6312、以
上日本純薬( 株) 製、NipolLX811、NipolLX814、NipolL
X841、NipolLX851、NipolLX852、NipolLX854、NipolLX8
56、NipolLX860、NipolLX875、以上日本ゼオン( 株)
製、プライマルAC-22 、プライマルAC-33 、プライマル
AC-3444 、プライマルAC-55 、プライマルAC-61 、プラ
イマルAC-382、プライマルASE-60、プライマルASE-75、
プライマルASE-108 、プライマルB-15、プライマルB-4
1、プライマルB-74、プライマルB-336 、プライマルB-5
05 、プライマルB-832 、プライマルB-924 、プライマ
ルC-72、プライマルE-32、プライマルE-358 、プライマ
ルHA-8、プライマルHA-16 、プライマルHA-24 、プライ
マルI-94、プライマルLC-40 、プライマルLT-76 、プラ
イマルLT-87 、プライマルMC-4530 、プライマルN-580
、プライマルP-6N、プライマルP-1060、プライマルS-1
、プライマルTR-49 、プライマル850 、以上日本アク
リル化学(株) 製、
ス;Nipol1551 、Nipol1561 、Nipol1562 、Nipol1571
、Nipo11577 、NipolLX511 NipolLX513、NipolLX53
1、NipolLX531B 、以上日本ゼオン(株)製、 スチレン・ブタジエン系ラテックス;NipolLX111、Nipo
l4850 、Nipol4850A、NipolLX110、NipolLX119、NipolL
X204、NipolLX206、NipolLX209、Nipol2507 、NipolLX3
03、Nipol2518FS 、NipolLX415A 、NipolLX426、NipolL
X430、NipolLX432A 、NipolLX433、NipolLX472、Nipol2
570X5 、NipolLX407BP、NipolLX407C 、NipolLX407F 、
NipolLX407G 、以上日本ゼオン(株)製、 塩化ビニル系ラテックス;Geon150X15、Geon351 、Geon
576 、以上日本ゼオン(株)製、
S 、VONDIC 1050B-NS 、VONDIC 1230NS 、VONDIC 1250
、VONDIC 1310NSC 、VONDIC 1320NSC、VONDIC 1510
、VONDIC 1610NS 、VONDIC 1612NSC、VONDIC 1640 、V
ONDIC 1660NS 、VONDIC 1670NS、VONDIC 1930A-NS 、VO
NDIC 1980NS 、VONDIC 1205 、VONDIC 2220 、VONDIC 2
230 、以上大日本インキ化学工業(株) 製、アロン ネ
オタンUE-1101 、アロンネオタンUE-1200 、アロン ネ
オタンUE-1300 、アロン ネオタンUE-1402 、アロン
ネオタンUE-2103 、アロン ネオタンUE-2200 、アロン
ネオタンUE-2600 、アロン ネオタンUE-2900 、アロ
ン ネオタンUE-5404 、アロン ネオタンUE-5600 、以
上東亜合成化学工業(株) 製、 コロイド分散型ウレタン樹脂;HYDRAN HW-301 、HYDRAN
HW-310 、HYDRAN HW-311 、HYDRAN HW-312B、HYDRAN H
W-333 、HYDRAN HW-340 、HYDRAN HW-350 、HWDRAN HW-
111 、HYDRAN HW-140 、HYDRAN HW-910 、HYDRAN HW-92
0 、HYDRAN HW-930 、HYDRAN HW-940 、HYDRAN HW-950
、HYDRAN HW-960 、以上大日本インキ化学工業(株)
製が挙げられる。また、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、
ポリビニルメチルエーテルなどの水溶性樹脂もまた好ま
しく用いられる。これらの高分子化合物は現像後のバッ
クコート層が適度に親水性を保つ範囲で加えられる。具
体的には原料の金属化合物に対して200重量%以下で
あることが好ましい。
しい可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジ
エチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチル
フタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリル
フタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシ
ルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシ
ルフタレート、ジアリルフタレートなどのフタル酸エス
テル類、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリ
ールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリ
コレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリ
エチレングリコールジカプリル酸エステルなどのグリコ
ールエステル類、トリクレジールホスフェート、トリフ
ェニルホスフェートなどのリン酸エステル類、ジイソブ
チルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバ
ケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、
ジブチルマレエートなどの脂肪族二塩基酸エステル類、
ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、
グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチルな
どが有効である。可塑剤はバックコート層がべとつかな
い範囲で加えられる。
活性剤の好ましい例としては、ポリオキシエチレンアル
キルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニル
エーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニル
エーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン
アルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル
類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリ
トール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモ
ノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分エステル類、ポ
リオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポ
リオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、
ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセ
リン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひま
し油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エス
テル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−
2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレン
アルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステ
ル、トリアルキルアミンオキシドなどの非イオン性界面
活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシア
ルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジア
ルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸
塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフ
ェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、
ルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナ
トリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナ
トリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪
酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫
酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸
エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ
ーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などの
カチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノ
カルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル
類、イミタゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられ
る。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンと
あるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレ
ン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに
読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含
される。
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、バックコート層中に0.001〜10
重量%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加
される。
て版種を判別するための染料や顔料が加えられる。好ま
しい染料の例としては、ローダミン6G塩化物、ローダ
ミンB塩化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグ
リーンシュウ酸塩、オキサジン4パークロレート、キニ
ザリン、2−(α−ナフチル)−5−フェニルオキサゾ
ール、クマリン−4が挙げられる。他の染料として具体
的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#1
03、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オ
イルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラ
ックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−5
05(以上、オリエント化学工業(株)製)、ビクトリ
アピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI425
55)、メチルバイオレット(CI42535)、エチ
ルバイオレット、メチレンブルー(CI52015)、
パテントピュアブルー(住友三国化学社製)、ブリリア
ントブルー、メチルグリーン、エリスリシンB、ベーシ
ックフクシン、m−クレゾールパープル、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなど
に代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の染料が挙げ
られる。上記色素は、バックコート層中に通常約0.05
〜10重量%、より好ましくは約0.5〜5重量%含有さ
れる。
フトキノンジアジド化合物、感光性アジド化合物、不飽
和二重結合含有モノマーを主成分とする光重合性組成
物、桂皮酸やジメチルマレイミド基を光架橋性組成物お
よびジアゾニウム塩モノマーや、芳香族ジアゾニウム塩
と反応性カルボニル基含有有機縮合剤、特にホルムアル
デヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類またはア
セタール類とを酸性媒体中で縮合したジアゾ樹脂を耐薬
品性の向上などのために添加することができる。このう
ちポジ型の感光性化合物として知られるo−ナフトキノ
ンジアジド化合物としては、後のポジ型感光層で述べる
o−ナフトキノンジアジド化合物が好適に用いられる。
芳香族ジアゾニウム塩としてはその最も代表的なものに
p−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮
合物がある。これらのジアゾ樹脂の合成法は、例えば、
米国特許第2,679,498 号、同第3,050,502 号、同第3,31
1,605 号および同第3,277,074 号の明細書に記載されて
いる。更に、ジアゾニウム塩としては、特公昭49−4
8,001号公報記載の芳香族ジアゾニウム塩とジアゾニウ
ム基を含まない置換芳香族化合物との共縮合ジアゾニウ
ム化合物が好適に用いられ、中でもカルボキシル基や水
酸基のようなアルカリ可溶基で置換された芳香族化合物
との共縮合ジアゾ化合物が好ましい。更には、特開平4
−18559号公報、特願昭2−321,823 および同2−
299,551 号明細書記載のアルカリ可溶性基を持つ反応性
カルボニル化合物で芳香族ジアゾニウム塩を縮合したジ
アゾニウム塩化合物も用いられる。
て塩酸、臭化水素酸、硫酸およびリン酸などの鉱酸また
は塩化亜鉛との複塩などの無機アニオンを用いたジアゾ
ニウム化合物があるが、実質的に水不溶性で有機溶剤可
溶性のジアゾニウム化合物の方が特に好ましい。かかる
好ましいジアゾニウム化合物は特公昭47−1167号
公報、米国特許第3,300,309 号明細書に詳しく記載され
ている。更には特開昭54−98613号、同56−1
21031号公報に記載されているようなテトラフルオ
ロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸などのハロゲン化ルイ
ス酸および過塩素酸、過ヨウ素酸などの過ハロゲン酸を
対アニオンとしたジアゾニウム化合物が好適に用いられ
る。また、特開昭58−209733号、同62−17
5731号、同63−262643号公報に記載されて
いる長鎖のアルキル基を有するスルホン酸を対アニオン
としたジアゾニウム化合物も好適に用いられる。ジアゾ
ニウム化合物は感光層中に0.5〜60重量%、好ましく
は5〜50重量%の範囲で含有させられる。
ヘン酸、ベヘン酸アミド、ステアリン酸、ステアリン酸
アミド、アルケニルコハク酸無水物などの高級脂肪酸や
高級脂肪酸アミド、ワックス、ジメチルシロキサン類、
ポリエチレン粉末などが加えられる。またバックコート
層には親水性の向上や皮膜性の改質のために、シリカ微
粉末、コロイダルシリカ、メタノールシリカゾルおよび
無水ホウ酸などが加えられる。本発明で用いられるバッ
クコート層の厚さは基本的には現像時アルミニウムの陽
極酸化皮膜の溶出を抑えられる厚さがあればよく、0.0
01〜10g/m2の範囲が好ましく、より好ましくは0.
01〜1g/m2が好ましく、0.02〜0.1g/m2が最も
好ましい。バックコート層をアルミニウム支持体の裏面
に被覆する方法としては種々の方法が適用できるが、上
記の塗布量を確保する上で最も好ましいのは溶液にして
塗布、乾燥する方法である。
け、かつ親水性表面を有するアルミニウム板上に、公知
の感光性組成物よりなる感光層を設けて、感光性平版印
刷版を得る。感光性組成物としては、o−キノンジアジ
ド化合物を主成分とするポジ型、ジアゾニウム塩、アル
カリ可溶性ジアゾニウム塩、不飽和二重結合含有モノマ
ーを主成分とする光重合性化合物および桂皮酸やジメチ
ルマレイミド基を含む光架橋性化合物などを感光物とす
るネガ型のものが用いられる。
用いられるo−ナフトキノンジアジド化合物としては、
特公昭43−28403号公報に記載されている1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸とピロガロール・アセ
トン樹脂とのエステルが好ましい。その他の好適なオル
トキノンジアジド化合物としては例えば、米国特許第
3,046,120号および同第 3,188,210号明細書に記載され
ている1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸と
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
り、特開平2−96163号公報、特開平2−9616
5号公報および特開平2−96761号公報に記載され
ている1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸と
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
る。その他の有用なo−ナフトキノンジアジド化合物と
しては、数多くの特許等で公知のものが挙げられる。例
えば、特開昭47−5303号、同48−63802
号、同48−63803号、同48−96575号、同
49−38701号、同48−13854号、特公昭3
7−18015号、同41−11222号、同45−9
610号、同49−17481号公報、米国特許第 2,7
97,213号、同第 3,454,400号、同第 3,544,323号、同第
3,573,917号、同第 3,674,495号、同第 3,785,825号、
英国特許第 1,227,602号、同第 1,251,345号、同第 1,2
67,005号、同第 1,329,888号、同第 1,330,932号、ドイ
ツ特許第 854,890号などの各明細書中に記載されている
ものを挙げることができる。
キノンジアジド化合物は、分子量1,000以下のポリ
ヒドロキシ化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホ
ン酸との反応により得られる化合物である。このような
化合物の具体例は、特開昭51−139402号、同5
8−150948号、同58−203434号、同59
−165053号、同60−121445号、同60−
134235号、同60−163043号、同61−1
18744号、同62−10645号、同62−106
46号、同62−153950号、同62−17856
2号、同64−76047号、米国特許第 3,102,809
号、同第 3,126,281号、同第 3,130,047号、同第 3,14
8,983号、同第 3,184,310号、同第 3,188,210号、同第
4,639,406号などの各公報または明細書に記載されてい
るものを挙げることができる。
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させることが好ましく、0.3
〜1.0当量反応させることが更に好ましい。1,2−ジ
アゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、1,2
−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドまた
は、1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸クロ
リドを用いることができる。また、得られるo−ナフト
キノンジアジド化合物は、1,2−ジアゾナフトキノン
スルホン酸エステル基の位置および導入量の種々異なる
ものの混合物となるが、ヒドロキシル基の全てが1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステル化された化合
物が、この混合物中に占める割合(完全にエステル化さ
れた化合物の含有率)は5モル%以上であることが好ま
しく、更に好ましくは20〜99モル%である。本発明
の感光性組成物中に占めるこれらのポジ型に作用する感
光性化合物(上記のような組合せを含む)の量は10〜
50重量%が適当であり、より好ましくは15〜40重
量%である。
層を構成することができるが、アルカリ水に可溶な樹脂
を結合剤(バインダー)として併用することが好まし
い。この様なアルカリ水に可溶な樹脂としては、ノボラ
ック型の樹脂があり、例えばフェノールホルムアルデヒ
ド樹脂、o−、m−およびp−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、m/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(o−、m−、p−、m/
p−およびo/m−混合のいずれでもよい)混合ホルム
アルデヒド樹脂などが挙げられる。また、フェノール変
性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲ
ン化ヒドロキシスチレン、特開昭51−34711号公
報に開示されているようなフェノール性水酸基を含有す
るアクリル系樹脂も用いることができる。その他の好適
なバインダーとして、バックコート層に添加する高分子
化合物を形成するモノマーの例として挙げた前記(1)
〜(12)に示すモノマー、及び(13)アクリル酸、
メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸などの不飽
和カルボン酸をその構成単位とする通常1万〜20万の
分子量を持つ共重合体を挙げることができる。
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には、(13)に掲げたアクリル酸、メタク
リル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボ
ン酸を含有することが好ましく、その共重合体の好まし
い酸価は0〜10meq /g、より好ましくは0.2〜5.0
meq /gである。上記共重合体の好ましい分子量は1万
〜10万である。また、上記共重合体には必要に応じ
て、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リアミド樹脂およびエポキシ樹脂を添加してもよい。こ
のようなアルカリ可溶性の高分子化合物は1種類あるい
は2種類以上組み合わせることができ、全感光性組成物
の80重量%以下の添加量で用いられる。更に、米国特
許第 4,123,279号明細書に記載されているように、t−
ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のア
ルキル基を置換基として有するフェノールとホルムアル
デヒドとの縮合物を併用することは画像の感脂性を向上
させる上で好ましい。
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第 4,115,128号明細書に記載されている無水フタ
ル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、3,6−エントオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無
水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン
酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン
酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用でき
る。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニ
トロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,
4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−トリフェニ
ルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−
3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタン
などが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭6
0−88942号、特開平2−96755号公報などに
記載されいてる、スルホン酸類、スルフィン酸類、アル
キル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカ
ルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスル
ホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンス
ルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニ
ルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、
安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル
酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタ
ル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン
酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコ
ルビン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、フ
ェノール類および有機酸類の感光性組成物中に占める割
合は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは
0.1〜5重量%である。
は、現像条件に対する処理の安定性(いわゆる現像ラチ
チュード)を広げるため、特開昭62−251740号
公報や特開平2−96760号、同4−68355号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなとが挙げら
れる。両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
アモーゲンK、第一工業(株)製)およびアルキルイミ
ダゾリン系(例えば、商品名レボン15、三洋化成
(株)製)などが挙げられる。上記非イオン界面活性剤
および両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.
1〜5重量%である。
後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤
としての染料や顔料を加えることができる。焼き出し剤
としては、露光によって酸を放出する化合物(光酸放出
剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙
げることができる。具体的には、特開昭50−3620
9号、同53−8128号の各公報に記載されているo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと
塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−36223
号、同54−74728号、同60−3626号、同6
1−143748号、同61−151644号および同
63−58440号の各公報に記載されているトリハロ
メチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げること
ができる。かかるトリハロメチル化合物としては、オキ
サゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どち
らも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
画像の着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に
他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料も含
めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げ
ることができる。具体的には、オイルイエロー#10
1、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、
オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブル
ー#603、オイルブラックBY、オイルブラックB
S、オイルブラックT−505(以上、オリエント化学
工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタル
バイオレット(CI42555)、メチルバイオレット
(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミン
B(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI
42000)、メチレンブルー(CI52015)など
を挙げることができる。また、特開昭62−29324
7号公報に記載されている染料は特に好ましい。
分を溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニウム板上
に塗布される。ここで使用される溶媒としては、特開昭
62−251739号公報に記載されているような有機
溶剤が単独あるいは混合して用いられる。本発明の感光
性組成物は、2〜50重量%の固形分濃度で溶解、分散
され、支持体上に塗布・乾燥される。支持体上に塗設さ
れる感光性組成物の層(感光層)の塗布量は用途により
異なるが、一般的には、乾燥後の重量にして0.3〜4.0
g/m2が好ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像を
得るための露光量は小さくて済むが、膜強度は低下す
る。塗布量が大きくなるにつれ、露光量を必要とするが
感光膜は強くなり、例えば、印刷版として用いた場合、
印刷可能枚数の高い(高耐刷の)印刷版が得られる。本
発明における感光性組成物中には、塗布面質を向上する
ための界面活性剤、例えば、特開昭62−170950
号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添
加することができる。好ましい添加量は、全感光性組成
物の0.001〜1.0重量%であり、更に好ましくは0.0
05〜0.5重量%である。
れるネガ型のPS版の感光性組成物としては、感光性ジ
アゾ化合物を含む感光層、光重合性感光層、光架橋性感
光層などを有するものが挙げられるが、このうち感光性
ジアゾ化合物からなる光硬化性感光性複写材料について
例を挙げて詳しく説明する。本発明のPS版に用いられ
る感光性ジアゾ化合物としては、芳香族ジアゾニウム塩
と反応性カルボニル基含有有機縮合剤、特にホルムアル
デヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類またはア
セタール類とを酸性媒体中で縮合したジアゾ樹脂が好適
に用いられる。その最も代表的なものにP−ジアゾフェ
ニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物がある。これ
らのジアゾ樹脂の合成法は、例えば、米国特許第 2,67
9,498号、同第 3,050,502号、同第 3,311,605号および
同第 3,277,074号の明細書に記載されている。更に、感
光性ジアゾ化合物としては、特公昭49−48,001
号公報記載の芳香族ジアゾニウム塩とジアゾニウム基を
含まない置換芳香族化合物との共縮合ジアゾ化合物が好
適に用いられ、中でもカルボキシル基や水酸基のような
アルカリ可溶基で置換された芳香族化合物との共縮合ジ
アゾ化合物が好ましい。更には、特開平4−18559
号公報、特願昭2−321,823および同2−29
9,551号明細書記載のアルカリ可溶性基を持つ反応
性カルボニル化合物で芳香族ジアゾニウム塩を縮合した
感光性ジアゾ化合物も好適に用いられる。
て塩酸、臭化水素酸、硫酸およびリン酸などの鉱酸また
は塩化亜鉛との複塩などの無機アニオンを用いたジアゾ
樹脂があるが、実質的に水不溶性で有機溶剤可溶性のジ
アゾ樹脂の方が特に好ましい。かかる好ましいジアゾ樹
脂は特公昭47−1167号、米国特許第 3,300,309号
公報に詳しく記載されている。更には特開昭54−98
613号、同56−121031号公報に記載されてい
るようなテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸
などのハロゲン化ルイス酸および過塩素酸、過ヨウ素酸
などの過ハロゲン酸を対アニオンとしたジアゾ樹脂が好
適に用いられる。また、特開昭58−209733号、
同62−175731号、同63−262643号公報
に記載されている長鎖のアルキル基を有するスルホン酸
を対アニオンとしたジアゾ樹脂も好適に用いられる。感
光性ジアゾ化合物は感光層中に5〜50重量%、好まし
くは8〜20重量%の範囲で含有させられる。
は、アルカリ水に可溶性もしくは膨潤性の親油性高分子
化合物を結合剤(バインダー)として併用することが好
ましい。この様な親油性高分子化合物としては、先に述
べたポジ型感光性組成物で用いたのと同様の前記(1)
〜(13)に示すモノマーをその構成単位とする通常1
万〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げることができ
るが、更に以下(14)、(15)に示すモノマーを構
成単位として共重合した高分子化合物も使用できる。 (14)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルアクリルアミド、N−プロピオニルア
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)アクリル
アミド、N−アセチルアクリルアミド、N−アクリロイ
ルメタクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、
N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロ
ベンゾイル)メタクリルアミドなどの不飽和イミド、
(15)N−〔6−(アクリロイルオキシ)−ヘキシ
ル〕−2,3−ジメチルマレイミド、N−〔2−(メタ
クリロイルオキシ)−ヘキシル〕−2,3−ジメチルマ
レイミド、ビニルシンナメートなどの側鎖に架橋性基を
有する不飽和モノマー。 更に、上記モノマーと共重合
し得るモノマーを共重合させてもよい。また、上記モノ
マーの共重合によって得られる共重合体を例えば、グリ
シジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどに
よって修飾したものも含まれるがこれらに限られるもの
ではない。上記共重合体には(13)に掲げた不飽和カ
ルボン酸を含有することが好ましく、その共重合体の好
ましい酸価は0〜10meq /g、より好ましくは0.2〜
5.0meq /gである。
0万である。また、上記共重合体には必要に応じて、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミ
ド樹脂およびエポキシ樹脂を添加してもよい。また、ノ
ボラック型の樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂
も用いることができる。このようなアルカリ可溶性の高
分子化合物は1種類あるいは2種類以上組み合わせるこ
とができ、全感光性組成物の固形分中に通常40〜95
重量%の範囲で含有させられる。
の感脂性を向上させるための感脂化剤(例えば、特開昭
55−527号公報記載のスチレン−無水マレイン酸共
重合体のアルコールによるハーフエステル化物、ノボラ
ック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸エス
テルなど)が加えられる。更には、塗膜の柔軟性、耐摩
耗性を付与するための可塑剤が加えられる、例えば、ブ
チルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸またはメタアク
リル酸のオリゴマーおよびポリマーが挙げられ、この中
で特にリン酸トリクレジルが好ましい。また、本発明に
おける感光性組成物中には、経時の安定性を広げるた
め、例えば、リン酸、亜リン酸、クエン酸、蓚酸、ジピ
コリン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン
酸、スルホサリチル酸、4−メトキシ−2−ヒドロキシ
ベンゾフェノン−5−スルホン酸、酒石酸などが加えら
れる。
は、露光後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料などの色素を加えることが
できる。該色素としては、フリーラジカルまたは酸と反
応して色調を変えるものが好ましく用いられる。例え
ば、ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学製)、
オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オ
イルピンク#312、オイルレッド、オイルグリーンB
G、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイ
ルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラック
T−505(以上、オリエント化学工業(株)製)、パ
テントピュアブルー(住友三国化学社製)、クリスタル
バイオレット(CI42555)、メチルバイオレット
(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミン
B(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI
42000)、メチレンブルー(CI52015)、ブ
リリアントブルー、メチルグリーン、エリスリシンB、
ベーシックフクシン、m−クレゾールパープル、オーラ
ミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノ
ン、シアノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリ
ドなどに代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニル
メタン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフト
キノン系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素
が有色から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する例
として挙げられる。
ては、ロイコ色素および、例えば、トリフェニルアミ
ン、ジフェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,
3−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミ
ノジフェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノ
ジフェニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p、
p′,p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタ
ン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチル
イミン、p、p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリ
フェニルメタン、p、p′−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニル−4−アニリノナフチルメタン、p、p′,p″
−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第1級ま
たは第2級アリールアミン系色素が挙げられる。特に好
ましくはトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色
素であり、更に好ましくはトリフェニルメタン系色素で
あり、特にビクトリアピュアブルーBOHである。上記
色素は、感光性組成物中に通常約0.5〜10重量%、よ
り好ましくは約1〜5重量%含有される。
性を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機
酸類および高級アルコールを添加することができる。本
発明における感光性組成物は、上記各成分を溶解する溶
媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に塗布される。
ここで使用される溶媒としては、特開昭62−2517
39号公報に記載されているような有機溶剤が単独ある
いは混合して用いられる。本発明の感光性組成物は、2
〜50重量%の固形分濃度で溶解、分散され、支持体上
に塗布・乾燥される。支持体上に塗設される感光性組成
物の層(感光層)の塗布量は用途により異なるが、一般
的には、乾燥後の重量にして0.3〜4.0g/m2が好まし
い。塗布量が小さくなるにつれて画像を得るための露光
量は小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が大き
くなるにつれ、露光量を必要とするが感光膜は強くな
り、例えば、印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の
高い(高耐刷の)印刷版が得られる。本発明における感
光性組成物中には、先に示したポジ型感光性組成物と同
様に、塗布面質を向上するための界面活性剤を添加する
ことができる。本発明の感光性印刷版の製造に当たって
は裏面のバックコート層と表面の感光性組成物層のどち
らが先に支持体上に塗布されても良く、また両者が同時
に塗布されても良い。
には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時
間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層が設け
られる。具体的には、特開昭50−125805号、特
公昭57−6582号、同61−28986号の各公報
に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭
62−62337号公報に記載されているような固体粉
末を熱融着させる方法などが挙げられるが、本発明の効
果は水溶性、アルカリ水現像液可溶性のマット層を有す
るPS版でより顕著に現れる。本発明に用いられるマッ
ト層の平均径は100μm以下が好ましく、これよりも
平均径が大きくなるとPS版を重ねて保存する場合、感
光層とバックコート層との接触面積が増大し、滑り性が
低下、感光層およびバックコート層双方の表面に擦れ傷
を生じ易い。マット層の平均高さは10μm以下が好ま
しく、より好ましくは2〜8μmである。この範囲より
平均高さが高いと細線が付き難く、ハイライトドットも
点減りし、調子再現上好ましくない。平均高さが2μm
以下では真空密着性が不十分で焼きボケを生じる。マッ
ト層の塗布量は5〜200mg/m2が好ましく、更に好ま
しくは20〜150mg/m2である。塗布量がこの範囲よ
りも大きいと感光層とバックコート層との接触面積が増
大し擦れ傷の原因となり、これよりも小さいと真空密着
性が不十分となる。
てカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、
キセノンランプ、タングステンランプなどを光源とする
活性光線により露光された後、現像処理される。かかる
現像処理に使用される現像液としては従来より知られて
いるアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナト
リウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、重炭酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。ま
た、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアン、ジイソプロパノ
ールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリ
ジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアル
カリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて用いられ
る。
効果が一段と発揮される現像液はアルカリ金属ケイ酸塩
を含有するpH12以上の水溶液である。アルカリ金属ケ
イ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素SiO2
とアルカリ金属酸化物M2O の比率(一般に〔SiO2〕/
〔M2O 〕のモル比で表す)と濃度によって現像性の調節
が可能であり、例えば、特開昭54−62004号公報
に開示されているような、SiO2/Na2Oのモル比が1.0〜
1.5(即ち〔SiO2〕/〔Na2O〕が1.0〜1.5)であっ
て、SiO2の含有量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの
水溶液や、特公昭57−7427号公報に記載されてい
るような、〔SiO2〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔Si
O2〕/〔M2O 〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の濃度が
1〜4重量%であり、かつ該現像液がその中に存在する
全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも2
0%のカリウムを含有していることとからなるアルカリ
金属ケイ酸塩が好適に用いられる。
像する場合に、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液
(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像
タンク中の現像液を交換する事なく、多量のPS版を処
理することができることが知られている。本発明におい
てもこの補充方式が好ましく適用される。例えば、特開
昭54−62004号公報に開示されているような現像
液のSiO2/Na2Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2〕/
〔Na2O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2の含有量が1〜
4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、しかも
ポジ型感光性平版印刷版の処理量に応じて連続的または
断続的にSiO2/Na2Oのモル比が0.5〜1.5(即ち〔Si
O2〕/〔Na2O〕が0.5〜1.5)のケイ酸ナトリウム水溶
液(補充液)を現像液に加える方法、更には、特公昭5
7−7427号公報に開示されている、〔SiO2〕/
〔M〕が0.5〜0.75(即ち、〔SiO2〕/〔M2O 〕が1.
0〜1.5)であって、SiO2の濃度が1〜4重量%である
アルカリ金属ケイ酸塩の現像液を用い、補充液として用
いるアルカリ金属ケイ酸塩の〔SiO2〕/〔M〕が0.25
〜0.75(即ち〔SiO2〕/〔M2O 〕が0.5〜1.5)であ
り、かつ該現像液および該補充液のいずれもがその中に
存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少な
くとも20%のカリウムを含有していることとからなる
現像方法が好適に用いられる。
酸塩を用いる場合、そのモル比〔SiO2〕/〔M2O 〕を小
さくすることにより、補充液は高活性となり、補充量は
削減できるので、ランニングコストや廃液量が低減し好
ましい。しかしながら、高活性化にともないPS版の支
持体アルミニウムが溶解し、現像液中に不溶物を生じる
ことが知られている。本発明のPS版はそのバックコー
ト層が支持体裏面からのアルミニウムの溶出を抑えるこ
ともできるので、高活性現像補充系でも好ましく処理で
きる。このような、活性度の高い現像液としては、SiO2
/M2O のモル比が0.7〜1.5であって、SiO2の濃度が1.
0〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液からな
る。また、特に好ましい補充液はSiO2/M2O のモル比が
0.3 〜1.0 であって、SiO2の濃度が0.5 〜4.0 重量%の
アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液である。より好ましくは
モル比は0.3 〜0.6 であり、SiO2濃度は0.5 〜2.0 重量
%である。補充液のSiO2/M2O モル比が0.3 よりも小さ
くなるとアルミニウム支持体の感光層を有する側におけ
る非画像部( 現像により感光層が除去される部分) の陽
極酸化皮膜の溶解が過大になり、不溶物の生成を抑える
ことができない。また、モル比が1.0以上では補充液の
活性度が劣るため多くの補充量を必要とし、本発明の目
的に適さない。また、SiO2濃度が0.5 重量%以下では不
溶物が生成しやすく、4.0 重量%以上では使用済みの廃
液の中和処理時多量のシリカゲルを生ずるので好ましく
ない。本発明のポジおよびネガ型PS版の現像に用いら
れる現像液および補充液には、現像性の促進や抑制、現
像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性を高める
目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤を添加で
きる。好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチ
オン系、ノニオン系および両性界面活性剤が挙げられ
る。界面活性剤の好ましい例としては、バックコート層
に用いられる界面活性剤として例示したすべての界面活
性剤が挙げられるが、特公平1−57895号公報に記
載されている有機硼素界面活性剤は特に好ましい。上記
の界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて
使用することができ、現像液中に0.001〜10重量
%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加され
る。
解度が約10重量%以下のものが適しており、好ましく
は5重量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェ
ニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニ
ル−1−プロパノール、4−フェニル−1−ブタノー
ル、4−フェニル−2−ブタノール、2−フェニル−1
−ブタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジ
ルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコー
ル、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベ
ンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサ
ノール、2−メチルシクロヘキサノール、3−メチルシ
クロヘキサノールおよび4−メチルシクロヘキサノー
ル、N−フェニルエタノールアミンおよびN−フェニル
ジエタノールアミンなどを挙げることができる。有機溶
剤の含有量は使用液の総重量に対して0.1〜5重量%で
ある。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係が
あり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増
加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少な
く、有機溶剤の量を多く用いると有機溶剤が完全に溶解
せず、従って、良好な現像性の確保が期待できなくなる
からである。
および補充液には更に還元剤が加えられる。これは印刷
版の汚れを防止するものであり、特に感光性ジアゾニウ
ム塩化合物を含むネガ型PS版を現像する際に有効であ
る。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハ
イドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシ
ン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フ
ェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化
合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤として
は、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素
酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩などを挙げることができる。こられの還元剤のうち汚
れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これ
らの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、0.0
5〜5重量%の範囲で含有される。
酸を加えることもできる。好ましい有機カルボン酸は炭
素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸および芳香族カル
ボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例として
は、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリン酸な
どがあり、特に好ましいのは炭素数8〜12のアルカン
酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽和脂肪
酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳香族カ
ルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、アントラ
セン環などにカルボキシル基が置換された化合物で、具
体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息香酸、
o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o
−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、2,4−ジヒ
ドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、
1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2
−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−
ナトフエ酸、2−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナ
フトエ酸は特に有効である。上記脂肪族および芳香族カ
ルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウ
ム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。
本発明で用いる現像液の有機カルボン酸の含有量は格別
な制限はないが、0.1重量%より低いと効果が十分でな
く、また10重量%以上ではそれ以上の効果の改善が計
れないばかりか、別の添加剤を併用する時に溶解を妨げ
ることがある。従って、好ましい添加量は使用時の現像
液に対して0.1〜10重量%であり、より好ましくは0.
5〜4重量%である。
て、消泡剤、硬水軟化剤等の従来より知られている化合
物も含有させることもできる。硬水軟化剤としては例え
は、ポリリン酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩お
よびアンモニウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジ
エチレントリアミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミ
ンヘキサ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ
酢酸、ニトリロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキ
サンテトラ酢酸および1,3−ジアミノ−2−プロパノ
ールテトラ酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれ
らのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、
アミノトリ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミン
テトラ(メチレンホスホン酸)、ジエチレントリアミン
ペンタ(メチレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミ
ンヘキサ(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエ
チレンジアミントリ(メチレンホスホン酸)および1−
ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナ
トリウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げる
ことができる。
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、一般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に対して0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量で
は所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲よ
り多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでてく
る。現像液および補充液の残余の成分は水であるが、更
に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤を含有さ
せることができる。現像液および補充液は使用時よりも
水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に水
で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。こ
の場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程度
が適当である。
理されることによって消費された現像液中の成分、処理
されたPS版に付着して持ち出された現像液および/ま
たは空気中の炭酸ガスにより中和された現像液中のアル
カリ成分を補償するような量の補充液が添加される。例
えば、PS版をローラーで搬送しながら処理する自動現
像機で現像する場合には、英国特許第2046931号
に記載されているように、処理されるPS版の搬送方向
の長さに比例する量の補充液を添加する方法、処理され
るSP版の面積に比例する量の補充液を添加する方法、
あるいはこれらの添加と共に、自動現像機の現像液循環
ポンプが作動している時間に比例する量の補充液を間欠
的に添加する方法が有利である。また、米国特許第4,88
2,246 号や欧州特許第107454号に記載されている
ように、現像液の電気伝導度又はインピーダンスを測定
し、その値に応じて補充液を添加する方法も好ましい方
法である。どのような手段により補充液を加えるかはと
もかく、ポジ型PS版を現像することによる、および/
または経時による、現像液の成分の変化を補償するよう
におよび/または現像されたPS版と共に持ち出される
量の現像液を補うように補充液が加えられる。
開昭54−8002号、同55−115045号、同5
9−58431号等の各公報に記載されているように、
水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガ
ムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本
発明のPS版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わ
せて用いることができる。近年、製版・印刷業界では製
版作業の合理化および標準化のため、PS版用の自動現
像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に
現像部と後処理部からなり、PS版を搬送する装置と、
各処理液槽およびスプレー装置からなり、露光済みのP
S版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理
液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するもので
ある。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液
中ガイドロールなどによってPS版を浸漬搬送させて処
理する方法も知られており、このような処理は特開平2
−7054号、同2−32357号の各公報に記載され
ているような自動現像機で行なうことが好ましい。この
ような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時
間等に応じて補充液を補充しながら処理することができ
る。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる
使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によっ
て得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、
多数枚の印刷に用いられる。
る。
ム板をナイロンブラシと400メッシュのパミストンの
水懸濁液を用いその表面を砂目立てした後、よく水で洗
浄した。10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸
漬してエッチングした後、流水で水洗後、20%NHO3で
中和洗浄、水洗した。これをVA =12.7Vの条件下で
正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で16
0クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。その表面粗さを測定したところ0.6μ(Ra表
示)であった。ひきつづいて30%のH2SO4 水溶液中に
浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20%H2SO4
水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密
度2A/dm2 において厚さが2.7g/m2になるように陽
極酸化し、基板を作製した。尚、この時の裏面の陽極酸
化皮膜はアルミニウム板の中央部で約0.2g/m2、端部
で約0.5g/m2であった。このように処理された基板の
裏面に下記のゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布
し、100℃で1分間乾燥し、乾燥後の塗布量が50mg
/m2のバックコート層を設けた基板Aを作製した。
分間反応させた後、メタノールを700重量部加えるこ
とによりバックコート塗布液を調製した。比較のため、
飽和共重合ポリエステル樹脂(商品名ケミットK−12
94、東レ製)3.0重量部をメチルエチルケトン100
重量部に溶解し、更にメガファックF−177(大日本
インキ化学工業(株)製のフッ素系界面活性剤)0.05
重量部を溶解した有機高分子化合物からなるバックコー
ト液を調製し、先に示した基板の裏面に、乾燥後の厚み
にして200mg/m2となるように塗布乾燥し基板Bを得
た。さらに比較のため、同じ基板の裏面に、SiO2の含有
量が0.4重量%である珪酸ナトリウム水溶液をシャワー
ノズルによって供給し、90℃で10秒間処理した。水
洗した後、pH=8の水酸化ナトリウム水溶液を裏面にシ
ャワーノズルによって供給し、85℃で10秒間処理し
て、次いで水洗、乾燥して基板Cを得た。また、裏面に
処理やバックコートをしなかった基板をDとした。続い
て、基板A、B、CおよびDの表面に下記感光液を塗布
し、乾燥後の塗布重量が2.5g/m2となるように感光層
を設けた。
記の様にしてマット層形成用樹脂液を吹き付けてマット
層を設け、基板A、B、CおよびDに対応したPS版
a、b、c、dを得た。マット層形成用樹脂液としてメ
チルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリル酸
(仕込重量比65:20:15)共重合体の一部をナト
リウム塩とした12%水溶液を準備し、回転霧化静電塗
装機で霧化頭回転数25,000rpm 、樹脂液の送液量は
40ml/分、霧化頭への印加電圧は−90kv、塗布時の
周囲温度は25℃、相対湿度は50%とし、塗布後2.5
秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿潤させ、ついで湿潤し
た3秒後に温度60℃、湿度10%の温風を5秒間吹き
付けて乾燥させた。マットの高さは平均約6μm、大き
さは平均約30μm、塗布量は150mg/m2であった。
このようにして得られた4種のPS版各々1,500枚を
重ね、上下に鉄製の当て板を置き、ボルト締めをした大
量輸送形態で5ケ月間放置した後、ボルトを外して、P
S版同士のくっつきを調べた。くっつきの有無と、それ
による感光膜剥がれの結果を表1に示した。参考のた
め、現像前の裏面の接触角(空中水滴)の測定結果を表
1に示した。親水性の裏面を持つPS版cでくっつきと
感光膜剥がれが生じた他は特に問題はなかった。次に、
4種のPS版を各々1,003mm×800mmの大きさに裁
断したものを多数枚用意し、これらに原稿フィルムを通
して1mの距離から3kwのメタルハライドランプを用い
て、60秒間露光した。
S−900D(富士写真フィルム(株)製)の現像槽
に、〔SiO2〕/〔M2O 〕比1.2、SiO2濃度(重量%)1.
5のケイ酸カリウム水溶液からなり、N−アルキル−
N,N−ジヒドロキシエチルベタイン両性界面活性剤を
0.04重量%含有する現像液を仕込み、前述の露光済み
の4種の感光性平版印刷版を別々に、1日当り100版
づつ、1ケ月間処理した。尚、この間、PS版の処理お
よび空気中の炭酸ガスによる現像液活性度の低下をPS
−900Dに内蔵されている電導度センサーで検出し、
コンピューターによるフィードバック方式で、〔SiO2〕
/〔M2O 〕比0.8、SiO2濃度(重量%)1.9のケイ酸カ
リウム水溶液からなり、N−アルキル−N,N−ジヒド
ロキシエチルベタイン両性界面活性剤を0.04重量%含
有する現像補充液を補充することにより現像液の活性度
を一定に保った。活性度チェックはステップタブレット
(1段の光学濃度差が0.15で15段のもの)を用いて
段階的に光量を変化させて前記PS版に焼き付けたもの
を現像し、その版上の光量に対応して残った画像の段数
を読み取り、処理開始時の段数と比較することによって
行った。1ケ月後、現像槽から現像液を抜き取った時の
槽の底に堆積した不溶物の有無を表1に示した。裏面に
バックコート層を設けたり、珪酸塩による処理を行った
PS版a、b、cでは不溶物は見られなかった。しか
し、無処理のPS版dを処理した現像槽には不溶物が堆
積していただけでなく、スプレーやフィルターの目詰ま
り、ローラーへの白色沈澱物の付着などのトラブルが発
生した。次いで、現像済みのPS版を保管するために、
現像インキPI−2(富士写真フィルム(株)社製のエ
マルジョン型インキ)をスポンジを用いて、版上に塗布
した。水洗して非画像部上のインキを除去し、保護ガム
GU−7(富士写真フィルム(株)社製)を水で2倍に
希釈したガム液をスポンジで塗布して乾燥した。できあ
がった印刷版を重ねて保存したところ、PS版bでは裏
面に付着したインキがおもて面に転写してしまい、印刷
版の検版性を著しく阻害した。
ム板をナイロンブラシと400メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てした後、よく水で洗
浄した。10%水酸化ナトリウムに70℃で20秒間浸
漬してエッチングした後、流水で水洗し、次いで20%
NHO3で中和洗浄、水洗した。これをVA =12.7Vの条
件下で正弦波の交番波形電流を用いて0.7%硝酸水溶液
中で400クーロン/dm2 の電気量で電解粗面化処理を
行った。この基板を10%水酸化ナトリウム水溶液中で
表面のアルミニウムの溶解量が0.9g/m2になるように
処理した。水洗後、20%硝酸溶液中で中和、洗浄して
スマットを除いた後、18%H2SO4 水溶液中で、陰極を
砂目立てした面に対峙させて酸化皮膜量が3g/m2にな
るように陽極酸化した。これを水洗、乾燥し基板Eを得
た。この時の裏面の酸化皮膜量は0.3〜0.6g/m2であ
った。このように処理された基板の裏面に下記のゾル−
ゲル反応液をバーコーターで塗布し、100℃で1分間
乾燥し、乾燥後の塗布量が60mg/m2のバックコート層
を設けた基板Fを作製した。
0分間攪はんして反応させた後、メタノールを700重
量部加えることによりバックコート塗布液を調製した。
次に下記組成の感光液を調製し、上記基板E、F上に乾
燥後の重量にして2.5g/m2となるように感光層を設け
た。
記の様にしてマット層を設けて、基板E、Fに対応した
PS版e,fを得た。マット層形成用樹脂液としては、
メチルメタクリレート/エチルアクリレート/2−アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸(仕込重量
比50:30:20)共重合体の14%水溶液を準備
し、回転霧化静電塗装機で霧化頭回転数25,000rpm
、樹脂液の送液量は40ml/分、霧化頭への印加電圧
は−90kv、塗布時の周囲温度は25℃、相対湿度は
50%とし、塗布後2.5秒で塗布面に蒸気を吹き付けて
湿潤させ、ついで湿潤した3秒後に温度60℃、湿度1
0%の温風を5秒間吹き付けて乾燥させた。マットの高
さは平均約5μm、大きさは25〜40μm、塗布量は
120mg/m2であった。次にPS版e,fを1003mm
×800mmの大きさに裁断したものを多数枚用意し、こ
れらに原稿フィルムを通して1mの距離から3kwのメタ
ルハライドランプを用いて、60秒間露光した。次に浸
漬型現像槽を有する市販の自動現像機PS−900D
(富士写真フィルム(株)製)の現像槽に表2の組成の
ケイ酸カリウム水溶液と、N−アルキル−N,N−ジヒ
ドロキシエチルベタイン両性界面活性剤を0.04重量%
からなる現像液に仕込み、前述の露光済みのPS版eお
よびfを1日当り100版づつ、1ケ月間ランニング処
理した。尚、この間PS版の処理および空気中の炭酸ガ
スによる現像液活性度の低下をPS−900Dに内蔵さ
れている電導度センサーで検出し、コンピューターによ
るフィードバック方式で、それぞれ表2に示した補充液
を補充することにより、現像液の活性度を一定に保っ
た。活性度のチェックは実施例1と同じ方法で行った。
グ処理した結果を示したが、本発明のバックコート層を
設けたPS版では、補充液の補充量が約1/2になり、
しかも不溶物が発生せず、安定した処理ができた。それ
に対して従来法(比較例4)では不溶物によるトラブル
は軽微であったが、補充量が多くランニングコストがか
さんだだけでなく、多量の廃液処理を必要とした。また
比較例5の様に補充液の活性度を上げることにより補充
量は減らせるが、不溶物による印刷版の汚れ、スプレー
やフィルターの目詰まり、ローラーへの白色沈着物の付
着等のトラブルが発生し、また感度も安定しなかった。
ラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いて
その表面(片面)を砂目立てした後、良く水で洗浄し
た。10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬し
てエッチングした後、流水で水洗後、これをVA =12.
7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸
水溶液中で160クーロン/dm2 の陽極時電気量で上記
砂目立てした表面に対して電解粗面化処理を行った。引
き続いて30%の硫酸水溶液に浸漬して、55℃で2分
間デスマットした後、20%硫酸水溶液中、電流密度2
A/dm2 において、上記電解粗面化された表面上の酸化
皮膜の厚さが2.7g/m2になるように陽極酸化した。こ
のときの裏面の陽極酸化皮膜量は0.2〜0.5g/m2であ
った。その後、70℃、2%の3号ケイ酸ナトリウム水
溶液に浸漬して親水化処理を行った。このようにして処
理された基板の裏面に、実施例2と同様にしてゾル−ゲ
ル反応液を塗布してバックコート層を設けた。この基板
の表面には下記感光液を塗布し、乾燥後の塗布量が1.7
g/m2となるように感光層を設けた。
記のようにしてマット層形成用樹脂液を吹き付けてマッ
ト層を設けた。マット層形成用樹脂としてメチルメタク
リレート/エチルアクリレート/2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルホン酸(仕込重量比50:3
0:20)共重合体の14%水溶液を準備し、回転霧化
静電塗装機で霧化頭回転数25,000rpm 、樹脂液の送
液量は40ml/分、霧化頭への印加電圧は−90kv、塗
布時の周囲温度は25℃、相対湿度は50%とし、塗布
後2.5秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿潤させ、ついで
湿潤した3秒後に温度60℃、湿度10%の温風を5秒
間吹き付けて乾燥させた。マットの高さは約5μm、大
きさは平均約25μm、塗布量は130mg/m2であっ
た。このようにして得られたネガ型PS版を実施例1と
全く同様の方法で大量輸送形態でのPS版同士のくっつ
きを調べたが問題はなかった。
てされ、裏面にバックコート層を有するアルミニウム基
板を得た。次に下記感光液を準備し、砂目立てされた面
上に乾燥後の重量にして、1.5g/m2となるように塗
布、乾燥し、更に実施例3と全く同様にしてマット層を
設けることにより、裏面にバックコート層を有するネガ
型PS版を得た。 感光液 メチルメタクリレート/N−〔6−(メタク リロイルオキシ)ヘキシル〕−2,3−ジ メチルマレイミド/メタクリル酸=10/ 60/30(モル比)共重合体〔Mw=3. 5×104 (GPC)、Tg=約40℃ (DSC)〕 5 重量部 3−エトキシカルボニル−7−メチル−チオ キサントン 0.30重量部 4−ジアゾジフェニルアミンとフェノキシ酢 酸のホルムアルデヒド共縮合物のドデシル ベンゼンスルホン酸塩 0.20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 50 重量部 メチルエチルケトン 50 重量部 メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系 ノニオン系界面活性剤) 0.03重量部 ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学製) 0.10重量部
ネガフィルムを通して、密着露光した。露光は、2Kwの
超高圧水銀灯を60秒間照射することにより行った。次
いで、実施例2で用いた〔SiO2〕/〔K2O 〕のモル比が
0.72の珪酸カリウム水溶液にて25℃で30秒間現像
した。水洗後、ガム液を塗布しKORD印刷機で印刷し
たところ、非画像部に汚れのない印刷物が5.0万枚得ら
れた。次に、同じネガ型PS版を多数枚準備し、実施例
1と全く同様にして、大量包装形態での放置テストを行
ったが、くっつきの問題は発生しなかった。尚、比較の
ためバックコート層を設けなかった以外は全く同様のネ
ガ型PS版を製造し、同様の評価を行ったが、大量包装
形態によるくっつきの問題が生じた。
てし、陽極酸化した基板を作製した。基板の裏面には下
記のゾル−ゲル反応の希釈液をバーコーターで塗布し、
100℃で1分間乾燥し、乾燥後の塗布量が60mg/m2
のバックコート層を設けた。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 重量部 水 86.4 重量部 メタノール 10.8 重量部 リン酸(85%) 0.08重量部 上記成分を混合、攪はんすると約35分で発熱した。4
0分間攪はんして反応させた後、更に下記の希釈液と混
合し、バックコート塗布液を調製した。 希釈液 ピロガロール−アセトン縮合樹脂 3.5 重量部 マレイン酸ジブチル 5.0 重量部 メガファックF−177 (大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面 活性剤) 0.8 重量部 メタノール 800 重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 270 重量部 次いで、基板の表面に、実施例1と全く同様にして感光
層とマット層を順に設けて、ポジ型のPS版を作製し
た。このようにして得られたPS版のバックコート層は
可とう性に富みヒビ割れることはなかった。また、実施
例1と同様に評価したところPS版aと同等の性能を示
した。
ーコーターで塗布し、乾燥後の塗布量が60mg/m2のバ
ックコート層を設けた以外は実施例1と全く同様のPS
版を作製した。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 45 重量部 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 5.0 重量部 水 86.4 重量部 メタノール 10.8 重量部 リン酸(85%) 0.08重量部 上記成分を混合、攪はんすると約35分で発熱した。4
0分間攪はんして反応させた後、メタノールを700重
量部加えることによりバックコート塗布液を調製した。
このようにして得られたPS版のバックコート層は基板
と良好な密着性を持ち、また、実施例1のPS版aと同
様の性能を示した。
ーコーターで塗布し、乾燥後の塗布量が60mg/m2のバ
ックコート層を設けた以外は実施例1と全く同様のPS
版を作製した。 ゾル−ゲル反応液 テトラn−ブチルシリケート 50 重量部 水 21.6 重量部 メタノール 10.8 重量部 硝酸 0.05重量部 上記成分を混合、攪はんすると約15分で発熱した。2
0分間反応させた後、メタノールを700重量部加える
ことによりバックコート塗布液を調製した。この様にし
て得られたPS版を実施例1と同様に評価したところ、
PS版aと同様の性能を示した。
てし、陽極酸化した基板を作製した。基板の裏面には下
記のゾル−ゲル反応の希釈液をバーコーターで塗布し、
100℃で1分間乾燥し、乾燥後の塗布量が60mg/m2
のバックコート層を設けた。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 重量部 水 86.4 重量部 メタノール 10.8 重量部 リン酸(85%) 0.08重量部 上記成分を混合し、反応容器を25℃に保って50分間
攪はんして反応させた後、更に下記の希釈液と混合し、
バックコート塗布液を調製した。 希釈液 ピロガロールアセトン縮合樹脂 3.5 重量部 ポリプロピレングリコールモノエチルエーテル (平均分子量270) 5.0 重量部 メガファック F−177 (大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.8 重量部 メタノール 800 重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 270 重量部 次いで、基板の表面に、実施例1と全く同様にして感光
層とマット層を順に設けて、ポジ型のPS版を作製し
た。このようにして得られたPS版のバックコート層は
可とう性に富みヒビ割れることはなかった。また、実施
例1と同様に評価したところPS版aと同等の性能を示
した。
ル反応液をバーコーターで塗布し、乾燥後の塗布量が6
0mg/m2のバックコート層を設けた以外は実施例1と全
く同様のPS版を作製した。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 45 重量部 テトラエチルチタネート 5 重量部 水 21.6 重量部 メタノール 10.8 重量部 硝酸 0.05重量部 上記成分を混合、攪はんすると約5分で発熱した。15
分間反応させた後、メタノールを700重量部加えるこ
とによりバックコート塗布液を調製した。この様にして
得られたPS版を実施例1と同様に評価したところ、P
S版aと同等の性能を示した。
バーコーターで塗布し、乾燥後の塗布量が60mg/m2の
バックコート層を設けた以外は実施例1と全く同様のP
S版を作製した。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 重量部 水 21.6 重量部 メタノール 10.8 重量部 リンゴ酸 0.25重量部 上記成分を混合、攪はんすると約10分で発熱した。1
5分間反応させた後、メタノールを700重量部加える
ことによりバックコート塗布液を調製した。この様にし
て得られたバックコート液はコーター周辺に飛散、乾固
してもメタノールなどの有機溶媒に溶解し掃除が容易で
あった。また、このPS版を実施例1と同様に評価した
ところ、PS版aと同等の性能を示した。
立てし、陽極酸化した基板を作製した。基板の裏面には
下記のゾル−ゲル反応の希釈液をバーコーターで塗布
し、100℃で1分間乾燥し、乾燥後の塗布量が110
mg/m2のバックコート層を設けた。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 重量部 水 86.4 重量部 メタノール 10.8 重量部 リン酸(85%) 0.08重量部 上記成分を混合、攪はんすると約35分で発熱した。4
0分間攪はんして反応させた後、更に下記の希釈液と混
合し、バックコート塗布液を調製した。 希釈液 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニル クロリドとピロガロール−アセトン樹脂と のエステル化物(米国特許第3,635,709 号 明細書の実施例1に記載されているもの) 3.5 重量部 マレイン酸ジブチル 5.0 重量部 メガファック F−177 (大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.8 重量部 メタノール 600 重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 270 重量部 次いで、基板の表面に、実施例1と全く同様にして感光
層とマット層を順に設けて、ポジ型のPS版を作製し
た。このようにして得られたPS版のバックコート層は
可とう性に富みヒビ割れることはなく、耐アルカリ(現
像液)性に優れていた。また、実施例1と同様に評価し
たところPS版aと同等の性能を示した。
立てし、陽極酸化した基板を作製した。基板の裏面には
下記のゾル−ゲル反応の希釈液をバーコーターで塗布
し、100℃で1分間乾燥し、乾燥後の塗布量が90mg
/m2のバックコート層を設けた。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 重量部 水 86.4 重量部 メタノール 10.8 重量部 リン酸(85%) 0.08重量部 上記成分を混合、攪はんすると約35分で発熱した。4
0分間攪はんして反応させた後、更に下記の希釈液と混
合し、バックコート塗布液を調製した。 希釈液 ピロガロールアセトン縮合樹脂 3.5 重量部 マレイン酸ジブチル 5.0 重量部 マラカイトグリーン・シュウ酸塩 0.02重量部 メガファック F−177 (大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 1.0 重量部 メタノール 800 重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 270 重量部 次いで、基板の表面に、実施例1と全く同様にして感光
層とマット層を順に設けて、ポジ型のPS版を作製し
た。このようにして得られたPS版は裏面が着色されて
おり、他の版材との判別が容易であった。また、実施例
1と同様に評価したところPS版aと同等の性能を示し
た。
理方法によれば、現像液の補充量を低減することがで
き、長期間、多量の感光性平版印刷版を処理しても不溶
物が生成せず安定した処理を行うことができる。更に、
多数枚の感光性平版印刷版を重ねても、くっつきや感光
膜剥がれを起こすことのない感光性平版印刷版を得るこ
とができる。更にまた、本発明の感光性平版印刷版は裏
面に現像インキなどの親油性物質が付着して汚れるとい
った欠点もない。
Claims (3)
- 【請求項1】 両面に陽極酸化皮膜を有するアルミニウ
ム支持体の片面に感光層を有し、且つ該感光層とは反対
側の面に有機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得
られる金属酸化物からなる被覆層を設けたことを特徴と
する感光性平版印刷版。 - 【請求項2】 両面に陽極酸化皮膜を有するアルミニウ
ム支持体の片面に感光層を有し、且つ該感光層とは反対
側の面に有機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得
られる金属酸化物からなる被覆層を設けた感光性平版印
刷版を画像露光し、アルカリ金属ケイ酸塩を含有するpH
12以上のアルカリ水溶液で現像することを特徴とする
感光性平版印刷版の処理方法。 - 【請求項3】 両面に陽極酸化皮膜を有するアルミニウ
ム支持体の片面に感光層を有し、且つ該感光層とは反対
側の面に有機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得
られる金属酸化物からなる被覆層を設けた感光性平版印
刷版を画像露光し、次いでアルカリ金属ケイ酸塩の水溶
液からなる現像液で現像する方法であって、該現像によ
る該現像液の変化をアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液から
なる補充液を該現像液に加えることによって補償する感
光性平版印刷版の処理方法において、該現像補充液が
〔SiO2〕/〔M2O 〕比(但し、〔SiO2〕はSiO2のモル濃
度(mol /l)、〔M2O 〕はアルカリ金属Mの酸化物M2
O のモル濃度(mol /l)を示す)が0.3〜1.0であっ
て、SiO2が0.5〜4.0重量%のアルカリ金属ケイ酸塩の
水溶液であることを特徴とする感光性平版印刷版の処理
方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4189448A JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
| US08/091,358 US5464724A (en) | 1992-07-16 | 1993-07-15 | PS plate and method for processing same |
| EP93111404A EP0579237B1 (en) | 1992-07-16 | 1993-07-15 | PS plate and method for processing same |
| DE69324734T DE69324734T2 (de) | 1992-07-16 | 1993-07-15 | Lichtempfindliche Platte und Verfahren zu ihrer Behandlung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4189448A JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0635174A JPH0635174A (ja) | 1994-02-10 |
| JP2907643B2 true JP2907643B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=16241421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4189448A Expired - Fee Related JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1992-07-16 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5464724A (ja) |
| EP (1) | EP0579237B1 (ja) |
| JP (1) | JP2907643B2 (ja) |
| DE (1) | DE69324734T2 (ja) |
Families Citing this family (244)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3117322B2 (ja) * | 1993-04-05 | 2000-12-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその支持体の製造方法 |
| US5840465A (en) * | 1995-07-17 | 1998-11-24 | Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. | Compositions and method for formation of barrier ribs of plasma display panel |
| JP3442176B2 (ja) | 1995-02-10 | 2003-09-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| US5736256A (en) * | 1995-05-31 | 1998-04-07 | Howard A. Fromson | Lithographic printing plate treated with organo-phosphonic acid chelating compounds and processes relating thereto |
| US5836249A (en) * | 1995-10-20 | 1998-11-17 | Eastman Kodak Company | Laser ablation imaging of zirconia-alumina composite ceramic printing member |
| US5888695A (en) * | 1995-11-20 | 1999-03-30 | Aluminum Company Of America | Lithographic sheet material including a metal substrate, thermoplastic adhesive layer and mineral or metal particles |
| JP3305941B2 (ja) * | 1996-01-22 | 2002-07-24 | 株式会社村田製作所 | 電子部品 |
| JP3598163B2 (ja) * | 1996-02-20 | 2004-12-08 | ソニー株式会社 | 金属の表面処理方法 |
| JPH09269593A (ja) * | 1996-04-01 | 1997-10-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| US5994031A (en) * | 1996-09-09 | 1999-11-30 | Konica Corporation | Method of processing presensitized planographic printing plate |
| JP3856843B2 (ja) * | 1996-11-14 | 2006-12-13 | 花王株式会社 | 磁気記録媒体基板用研磨材組成物及びこれを用いた磁気記録媒体基板の製造方法 |
| CA2274097A1 (en) * | 1996-12-06 | 1998-06-11 | Henkel Corporation | Composition and method for cleaning/degreasing metal surfaces, especially composites of copper and aluminum |
| CA2273258A1 (en) * | 1996-12-13 | 1998-06-18 | Henkel Corporation | Composition and method for deburring/degreasing/cleaning metal surfaces |
| JPH10275747A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Nec Corp | 電気二重層コンデンサ |
| US5893328A (en) * | 1997-05-01 | 1999-04-13 | Eastman Kodak Company | Method of controlled laser imaging of zirconia-alumina composite ceramic lithographic printing member to provide localized melting in exposed areas |
| US5836248A (en) * | 1997-05-01 | 1998-11-17 | Eastman Kodak Company | Zirconia-alumina composite ceramic lithographic printing member |
| US6114083A (en) * | 1997-09-12 | 2000-09-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation-sensitive planographic printing plate |
| JP4146917B2 (ja) * | 1997-10-03 | 2008-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版包装体及び感光性平版印刷版 |
| DE19839454A1 (de) * | 1998-08-29 | 2000-03-02 | Agfa Gevaert Ag | Aufzeichnungsmaterial aus einem Träger und einer auf einer Oberfläche des Trägers aufgebrachten Keramikschicht |
| JP4119597B2 (ja) * | 2000-05-17 | 2008-07-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| US6523473B2 (en) * | 2000-05-26 | 2003-02-25 | Agfa-Gevaert | Computer-to-plate by ink jet |
| US6824946B2 (en) | 2000-10-03 | 2004-11-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
| EP2093055B1 (en) | 2003-03-26 | 2012-05-16 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing method |
| US6981446B2 (en) * | 2003-07-08 | 2006-01-03 | Eastman Kodak Company | Ink-jet imaging method |
| US20050153239A1 (en) | 2004-01-09 | 2005-07-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| ATE396878T1 (de) | 2004-01-09 | 2008-06-15 | Fujifilm Corp | Blindplattenvorläufer für flachdruck |
| JP2005234118A (ja) | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JP4393236B2 (ja) | 2004-03-15 | 2010-01-06 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物及びそれを用いた画像形成材料 |
| EP1747500A2 (en) | 2004-05-19 | 2007-01-31 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Image recording method |
| EP2618215B1 (en) | 2004-05-31 | 2017-07-05 | Fujifilm Corporation | Method for producing a lithographic printing plate |
| JP2006021396A (ja) | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| DE602005007427D1 (de) | 2004-07-20 | 2008-07-24 | Fujifilm Corp | Bilderzeugendes Material |
| US7425406B2 (en) | 2004-07-27 | 2008-09-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| US20060032390A1 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| ATE389900T1 (de) | 2004-08-24 | 2008-04-15 | Fujifilm Corp | Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte |
| JP2006062188A (ja) | 2004-08-26 | 2006-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 色画像形成材料及び平版印刷版原版 |
| JP2006068963A (ja) | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版 |
| JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
| US20060150846A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co. Ltd | Lithographic printing method |
| JP2006181838A (ja) | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| EP1685957B1 (en) | 2005-01-26 | 2013-12-11 | FUJIFILM Corporation | Packaged body of lithographic printing plate precursors |
| EP1696268B1 (en) | 2005-02-28 | 2016-11-09 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| JP4474317B2 (ja) | 2005-03-31 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| US7856985B2 (en) | 2005-04-22 | 2010-12-28 | Cynosure, Inc. | Method of treatment body tissue using a non-uniform laser beam |
| JP4792326B2 (ja) | 2005-07-25 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版 |
| JP4815270B2 (ja) | 2005-08-18 | 2011-11-16 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び作製装置 |
| JP4759343B2 (ja) | 2005-08-19 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP4694324B2 (ja) | 2005-09-09 | 2011-06-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
| US7586957B2 (en) | 2006-08-02 | 2009-09-08 | Cynosure, Inc | Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use |
| US8771924B2 (en) | 2006-12-26 | 2014-07-08 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| JP4945432B2 (ja) | 2006-12-28 | 2012-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2447779A1 (en) | 2007-01-17 | 2012-05-02 | Fujifilm Corporation | Method for preparation of lithographic printing plate |
| JP4881756B2 (ja) | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
| JP2008230024A (ja) | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
| JP2008233660A (ja) | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Fujifilm Corp | 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法 |
| EP1972440B1 (en) | 2007-03-23 | 2010-06-23 | FUJIFILM Corporation | Negative lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same |
| EP1974914B1 (en) | 2007-03-29 | 2014-02-26 | FUJIFILM Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| EP1975706A3 (en) | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| EP1975710B1 (en) | 2007-03-30 | 2013-10-23 | FUJIFILM Corporation | Plate-making method of lithographic printing plate precursor |
| JP5075450B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-11-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP5046744B2 (ja) | 2007-05-18 | 2012-10-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法 |
| US8221957B2 (en) | 2007-07-02 | 2012-07-17 | Fujifilm Corporation | Planographic printing plate precursor and printing method using the same |
| JP2009083106A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用版面保護剤及び平版印刷版の製版方法 |
| JP4994175B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法 |
| JP2009098688A (ja) | 2007-09-28 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法および平版印刷方法 |
| JP5244518B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5055077B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-10-24 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法および平版印刷版原版 |
| JP4951454B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-06-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作成方法 |
| JP2009139852A (ja) | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| JP5066452B2 (ja) | 2008-01-09 | 2012-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用現像処理方法 |
| JP2009186997A (ja) | 2008-01-11 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法 |
| JP2009184188A (ja) | 2008-02-05 | 2009-08-20 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および印刷方法 |
| JP5150287B2 (ja) | 2008-02-06 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| JP5175582B2 (ja) | 2008-03-10 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2009214428A (ja) | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP4940174B2 (ja) | 2008-03-21 | 2012-05-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用自動現像装置 |
| JP2009229771A (ja) | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用自動現像方法 |
| US7923197B2 (en) | 2008-03-25 | 2011-04-12 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| JP5020871B2 (ja) | 2008-03-25 | 2012-09-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
| JP5183268B2 (ja) | 2008-03-27 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| CN101981503B (zh) | 2008-03-27 | 2013-09-04 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版和使用该原版的平版印刷版的制备方法 |
| JP2009244421A (ja) | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
| EP2105298B1 (en) | 2008-03-28 | 2014-03-19 | FUJIFILM Corporation | Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same |
| JP4914864B2 (ja) | 2008-03-31 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5444933B2 (ja) | 2008-08-29 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型平版印刷版原版及びそれを用いる平版印刷方法 |
| JP5364513B2 (ja) | 2008-09-12 | 2013-12-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版用現像液及び平版印刷版の製造方法 |
| JP5466462B2 (ja) | 2008-09-18 | 2014-04-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法及び平版印刷版 |
| JP2010097175A (ja) | 2008-09-22 | 2010-04-30 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
| JP2010102330A (ja) | 2008-09-24 | 2010-05-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2010197989A (ja) | 2008-09-24 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5433351B2 (ja) | 2008-09-25 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製造方法 |
| JP2010102322A (ja) | 2008-09-26 | 2010-05-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
| JP5660268B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー |
| JP5140540B2 (ja) | 2008-09-30 | 2013-02-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
| JP5313115B2 (ja) | 2008-11-26 | 2013-10-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法、平版印刷版原版用現像液、及び、平版印刷版原版現像用補充液 |
| EP2204698B1 (en) | 2009-01-06 | 2018-08-08 | FUJIFILM Corporation | Plate surface treatment agent for lithographic printing plate and method for treating lithographic printing plate |
| JP5175763B2 (ja) | 2009-02-16 | 2013-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版現像用処理液及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5292156B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-09-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5277039B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版およびその製版方法 |
| JP2010243517A (ja) | 2009-03-31 | 2010-10-28 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5449866B2 (ja) | 2009-05-29 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5586333B2 (ja) | 2009-06-09 | 2014-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2448024A1 (en) | 2009-06-26 | 2012-05-02 | FUJIFILM Corporation | Light reflecting substrate and process for manufacture thereof |
| JP5346755B2 (ja) | 2009-09-24 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2011090295A (ja) | 2009-09-24 | 2011-05-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| US8883401B2 (en) | 2009-09-24 | 2014-11-11 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing original plate |
| JP2011090294A (ja) | 2009-09-24 | 2011-05-06 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2011073211A (ja) | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版の製造方法 |
| JP5541913B2 (ja) | 2009-12-25 | 2014-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| WO2011078010A1 (ja) | 2009-12-25 | 2011-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁基板、絶縁基板の製造方法、配線の形成方法、配線基板および発光素子 |
| JP2011148292A (ja) | 2009-12-25 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| EP2339401B1 (en) | 2009-12-28 | 2016-02-17 | Fujifilm Corporation | Method of preparing lithographic printing plate |
| JP5624880B2 (ja) | 2009-12-28 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5322963B2 (ja) | 2010-01-29 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5588887B2 (ja) | 2010-01-29 | 2014-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5253433B2 (ja) | 2010-02-19 | 2013-07-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5346845B2 (ja) | 2010-02-26 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液 |
| EP2365389B1 (en) | 2010-03-08 | 2013-01-16 | Fujifilm Corporation | Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate |
| JP5525873B2 (ja) | 2010-03-15 | 2014-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| EP2366546B1 (en) | 2010-03-18 | 2013-11-06 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate |
| EP2549331B1 (en) | 2010-03-19 | 2015-11-11 | FUJIFILM Corporation | Color developing photosensitive composition, lithographic printing original plate, and method for producing same |
| US8828646B2 (en) | 2010-03-26 | 2014-09-09 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of producing thereof |
| CN102821968A (zh) | 2010-03-26 | 2012-12-12 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及其制造方法 |
| JP2011221522A (ja) | 2010-03-26 | 2011-11-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| US20130014657A1 (en) | 2010-03-30 | 2013-01-17 | Fujifilm Corporation | Plate making method of lithographic printing plate |
| US8846300B2 (en) | 2010-03-31 | 2014-09-30 | Fujifilm Corporation | Developer for processing lithographic printing plate precursor, method for manufacturing lithographic printing plate by using the developer, and printing method |
| JP5572576B2 (ja) | 2010-04-30 | 2014-08-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| EP2383118B1 (en) | 2010-04-30 | 2013-10-16 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and plate making method thereof |
| JP2012187909A (ja) | 2010-07-23 | 2012-10-04 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用支持体、および、平版印刷版原版 |
| BR112013003865B1 (pt) | 2010-08-27 | 2020-05-26 | Fujifilm Corporation | Precursor de placa de impressão litográfica do tipo revelação onpress e método de fabricar placa para realização de um processamento de revelação on-press por um método |
| JP2012073595A (ja) | 2010-08-31 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP2012073594A (ja) | 2010-08-31 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法 |
| JP5662832B2 (ja) | 2010-08-31 | 2015-02-04 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成材料、平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5789448B2 (ja) | 2010-08-31 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5656784B2 (ja) | 2010-09-24 | 2015-01-21 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、並びに平版印刷方法 |
| JP5205505B2 (ja) | 2010-12-28 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその平版印刷方法 |
| JP5286350B2 (ja) | 2010-12-28 | 2013-09-11 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、その製版方法、及び、その平版印刷方法 |
| JP5205483B2 (ja) | 2011-02-04 | 2013-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
| JP5705584B2 (ja) | 2011-02-24 | 2015-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| JP5211187B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-06-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び製版方法 |
| JP5244987B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP5186574B2 (ja) | 2011-02-28 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| CN103415808B (zh) | 2011-02-28 | 2017-06-23 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法 |
| JP5241871B2 (ja) | 2011-03-11 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | サーマルポジ型平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5705969B2 (ja) | 2011-03-28 | 2015-04-22 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| CN103477458A (zh) | 2011-03-28 | 2013-12-25 | 富士胶片株式会社 | 发光元件用反射基板及其制造方法 |
| EP2506077B1 (en) | 2011-03-31 | 2014-07-09 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
| EP2796929B1 (en) | 2011-03-31 | 2015-12-30 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same |
| JP5651538B2 (ja) | 2011-05-31 | 2015-01-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製版方法 |
| CN103635611A (zh) | 2011-07-04 | 2014-03-12 | 富士胶片株式会社 | 绝缘反射基板及其制造方法 |
| JP5281130B2 (ja) | 2011-07-05 | 2013-09-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷用湿し水組成物 |
| JP5301015B2 (ja) | 2011-07-25 | 2013-09-25 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5743783B2 (ja) | 2011-07-27 | 2015-07-01 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン |
| CN103748518B (zh) | 2011-08-22 | 2016-11-23 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法 |
| JP5432960B2 (ja) | 2011-08-24 | 2014-03-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5514781B2 (ja) | 2011-08-31 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法 |
| JP5624003B2 (ja) | 2011-09-13 | 2014-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法及び平版印刷版 |
| JP5401522B2 (ja) | 2011-09-15 | 2014-01-29 | 富士フイルム株式会社 | コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム |
| BR112014007143A2 (pt) | 2011-09-26 | 2017-06-13 | Fujifilm Corp | processo para fabricar chapa de impressão litográfica |
| EP2762974B1 (en) | 2011-09-26 | 2017-07-26 | Fujifilm Corporation | Method for producing lithographic printing plate |
| JP5602195B2 (ja) | 2011-09-27 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5690696B2 (ja) | 2011-09-28 | 2015-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| JP5604398B2 (ja) | 2011-09-30 | 2014-10-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5740275B2 (ja) | 2011-09-30 | 2015-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法 |
| JP5463346B2 (ja) | 2011-12-26 | 2014-04-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| WO2013125315A1 (ja) | 2012-02-20 | 2013-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 製版処理廃液の濃縮方法およびリサイクル方法 |
| JP5771738B2 (ja) | 2012-02-23 | 2015-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 発色性組成物、発色性硬化組成物、平版印刷版原版及び製版方法、並びに発色性化合物 |
| JP5711168B2 (ja) | 2012-02-27 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
| JP5715975B2 (ja) | 2012-02-29 | 2015-05-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の製造方法 |
| JP5579217B2 (ja) | 2012-03-27 | 2014-08-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP5554362B2 (ja) | 2012-03-30 | 2014-07-23 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
| KR102136901B1 (ko) | 2012-04-18 | 2020-07-22 | 싸이노슈어, 엘엘씨 | 피코초 레이저 장치 및 그를 사용한 표적 조직의 치료 방법 |
| CN104395834B (zh) | 2012-06-29 | 2019-07-05 | 富士胶片株式会社 | 显影处理废液浓缩方法及显影处理废液的再循环方法 |
| BR112015006206A2 (pt) | 2012-09-20 | 2017-07-04 | Fujifilm Corp | precursor de chapa de impressão litográfica e método de preparação da chapa |
| EP2902214B1 (en) | 2012-09-26 | 2017-09-27 | FUJIFILM Corporation | Lithographic presensitized plate and method for making lithographic printing plate |
| BR112015006578A2 (ja) | 2012-09-26 | 2019-12-17 | Fujifilm Corp | A planographic printing original plate and a platemaking method |
| CN105190436A (zh) | 2013-02-27 | 2015-12-23 | 富士胶片株式会社 | 红外线感光性显色组合物、红外线固化性显色组合物、平版印刷版原版和制版方法 |
| WO2014145707A2 (en) | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Cynosure, Inc. | Picosecond optical radiation systems and methods of use |
| EP3101475B1 (en) | 2014-01-31 | 2018-03-21 | FUJIFILM Corporation | Infrared-sensitive color developing composition, lithographic printing original plate, plate making method for lithographic printing plate, and infrared-sensitive color developer |
| WO2015119089A1 (ja) | 2014-02-04 | 2015-08-13 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びその製造方法、平版印刷版の製版方法、並びに、印刷方法 |
| JP2015202586A (ja) | 2014-04-11 | 2015-11-16 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版原版 |
| EP3002124B1 (en) | 2014-09-30 | 2017-08-23 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate precursor and process for making lithographic printing plate |
| WO2016121759A1 (ja) | 2015-01-29 | 2016-08-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、その製造方法、及びそれを用いる印刷方法 |
| US20160259243A1 (en) | 2015-03-03 | 2016-09-08 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor |
| JP6510726B2 (ja) | 2016-02-29 | 2019-05-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法 |
| WO2018003405A1 (ja) | 2016-06-29 | 2018-01-04 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
| BR112019009802B1 (pt) | 2016-11-16 | 2022-12-13 | Fujifilm Corporation | Precursor de placa de impressão planográfica em prensa e método para fabricação de placa em prensa para placa de impressão planográfica |
| JP2020064082A (ja) | 2017-02-17 | 2020-04-23 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
| WO2018159640A1 (ja) | 2017-02-28 | 2018-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、化合物 |
| CN110268333A (zh) | 2017-02-28 | 2019-09-20 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版的制作方法 |
| EP3590976A4 (en) | 2017-02-28 | 2020-03-25 | Fujifilm Corporation | CURABLE COMPOSITION, ORIGINAL PLATE FOR LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE |
| CN109863033B (zh) | 2017-03-31 | 2020-04-10 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及其制造方法、平版印刷版原版层叠体、平版印刷版的制版方法以及平版印刷方法 |
| CN110719847B (zh) | 2017-05-31 | 2021-08-31 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 |
| EP3632694A4 (en) | 2017-05-31 | 2020-06-17 | FUJIFILM Corporation | ORIGINAL LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, RESIN COMPOSITION FOR MANUFACTURING ORIGINAL LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE |
| WO2018221133A1 (ja) | 2017-05-31 | 2018-12-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、ポリマー粒子、及び、組成物 |
| EP3640039B1 (en) | 2017-06-12 | 2024-04-24 | FUJIFILM Corporation | Lithography original plate, platemaking method for lithography plate, and photosensitive resin composition |
| JP6832427B2 (ja) | 2017-06-30 | 2021-02-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法 |
| CN110505962B (zh) | 2017-07-13 | 2022-01-04 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版和平版印刷版的制作方法 |
| WO2019021828A1 (ja) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、発色組成物 |
| EP3674796B1 (en) | 2017-08-25 | 2023-11-22 | FUJIFILM Corporation | Negative-type planographic printing plate precursor and method for producing planographic printing plate |
| CN111065525B (zh) | 2017-08-31 | 2022-03-29 | 富士胶片株式会社 | 印刷用原版及印刷用原版层叠体 |
| WO2019044483A1 (ja) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法 |
| CN111051072B (zh) | 2017-08-31 | 2021-08-03 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| EP3674096B1 (en) | 2017-09-29 | 2023-03-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing plate fabrication method |
| EP3960456B1 (en) | 2018-01-31 | 2025-06-18 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and method of producing lithographic printing plate |
| CN111670121B (zh) | 2018-01-31 | 2022-05-13 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 |
| CN111683820B (zh) | 2018-01-31 | 2022-06-17 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法 |
| AU2019225242B2 (en) | 2018-02-26 | 2023-08-10 | Cynosure, Llc | Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser |
| CN112654507B (zh) | 2018-07-31 | 2023-05-02 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及废弃版原版 |
| CN112533764B (zh) | 2018-07-31 | 2023-05-02 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版及其层叠体、平版印刷版的制版方法及平版印刷方法 |
| EP3845394B1 (en) | 2018-08-31 | 2025-04-30 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate precursor, method of preparing a planographic printing plate, and planographic printing method |
| CN112789178B (zh) | 2018-09-28 | 2023-10-20 | 富士胶片株式会社 | 印刷用原版、其层叠体、印刷版的制版方法及印刷方法 |
| CN112752656B (zh) | 2018-09-28 | 2023-05-09 | 富士胶片株式会社 | 印刷用原版、其层叠体、印刷版的制版方法及印刷方法 |
| WO2020090995A1 (ja) | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020090996A1 (ja) | 2018-10-31 | 2020-05-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2020158138A1 (ja) | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| JP7184931B2 (ja) | 2019-01-31 | 2022-12-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| CN113474178B (zh) | 2019-01-31 | 2023-09-15 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| CN113382870B (zh) | 2019-01-31 | 2023-10-31 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| JP7282886B2 (ja) | 2019-06-28 | 2023-05-29 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| EP3991986B1 (en) | 2019-06-28 | 2024-10-09 | FUJIFILM Corporation | On-machine development type negative planographic printing plate precursor, method for preparing a planographic printing plate and planographic printing plate |
| CN115697718B (zh) | 2020-05-29 | 2025-08-12 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| EP4159460A4 (en) | 2020-05-29 | 2023-11-08 | FUJIFILM Corporation | LAMINATED BODY |
| WO2021241457A1 (ja) | 2020-05-29 | 2021-12-02 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| CN115697717A (zh) | 2020-05-29 | 2023-02-03 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| CN115996852A (zh) | 2020-06-17 | 2023-04-21 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| CN116133862B (zh) | 2020-07-21 | 2025-10-10 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| JPWO2022025068A1 (ja) | 2020-07-31 | 2022-02-03 | ||
| EP4269122A4 (en) | 2020-12-25 | 2024-05-22 | FUJIFILM Corporation | LAMINATE OF A NEGATIVE PLATINUM PRINTING PLATE ORIGINAL PLATE AND METHOD FOR PRODUCING A NEGATIVE PLATINUM PRINTING PLATE |
| EP4286175A4 (en) | 2021-01-28 | 2024-07-03 | FUJIFILM Corporation | PLATINUM PRINTING ORIGINAL PLATE THAT CAN BE DEVELOPED ON THE PRINTING PRESS, METHOD FOR PRODUCING A PLATINUM PRINTING PLATE AND PLATINUM PRINTING METHOD |
| JP7726979B2 (ja) | 2021-02-26 | 2025-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び、呈色剤 |
| JPWO2023032681A1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | ||
| JPWO2023032682A1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | ||
| JPWO2023032868A1 (ja) | 2021-08-31 | 2023-03-09 | ||
| EP4474162A4 (en) | 2022-01-31 | 2025-05-21 | FUJIFILM Corporation | On-press-developing planographic printing plate original plate, method for producing planographic printing plate, and planographic printing method |
| EP4474163A4 (en) | 2022-01-31 | 2025-05-21 | FUJIFILM Corporation | PRECURSOR OF ON-PRESS DEVELOPMENT TYPE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD AND LAMINATE |
| EP4245542B1 (en) | 2022-03-18 | 2025-12-10 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor, method of preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method |
| JPWO2024048451A1 (ja) | 2022-08-31 | 2024-03-07 | ||
| CN119968276A (zh) | 2022-09-30 | 2025-05-09 | 富士胶片株式会社 | 机上显影型平版印刷版原版、平版印刷版的制作方法及平版印刷方法 |
| JP2024062746A (ja) | 2022-10-25 | 2024-05-10 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| WO2024117242A1 (ja) | 2022-11-30 | 2024-06-06 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| JP2024143725A (ja) | 2023-03-30 | 2024-10-11 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
| JP2024143724A (ja) | 2023-03-30 | 2024-10-11 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び化合物 |
| JP2025132837A (ja) | 2024-02-29 | 2025-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、平版印刷方法、及び化合物 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE793979A (fr) * | 1972-01-15 | 1973-07-12 | Kalle Ag | Procede pour produire des cliches pour l'impression a plat et matiere pour de tels cliches |
| JPS5340121B2 (ja) * | 1973-01-31 | 1978-10-25 | ||
| JPS5459926A (en) * | 1977-10-21 | 1979-05-15 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photographic material having antistatic layer |
| JPS5540406A (en) * | 1978-09-14 | 1980-03-21 | Oji Paper Co Ltd | Photosensitive lithographic printing plate |
| US4445998A (en) * | 1981-12-02 | 1984-05-01 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Method for producing a steel lithographic plate |
| US4983497A (en) * | 1985-10-10 | 1991-01-08 | Eastman Kodak Company | Treated anodized aluminum support and lithographic printing plate containing same |
| DE3627757A1 (de) * | 1986-08-16 | 1988-02-18 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von flachdruckplatten |
| DE3740698A1 (de) * | 1987-12-01 | 1989-06-15 | Basf Ag | Verfahren zur anodischen oxidation der oberflaeche von aluminium oder aluminiumlegierungen |
| JPH0240657A (ja) * | 1988-07-30 | 1990-02-09 | Konica Corp | 感光性平版印刷版 |
| EP0391365B1 (en) * | 1989-04-03 | 1995-01-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for treating metal surface |
| JPH0390388A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-16 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の処理方法 |
| GB9003079D0 (en) * | 1990-02-12 | 1990-04-11 | Alcan Int Ltd | Lithographic plates |
| EP0528395B1 (en) * | 1991-08-19 | 1997-06-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Presensitized plate for use in making lithographic printing plate |
-
1992
- 1992-07-16 JP JP4189448A patent/JP2907643B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-07-15 DE DE69324734T patent/DE69324734T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-15 EP EP93111404A patent/EP0579237B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-07-15 US US08/091,358 patent/US5464724A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5464724A (en) | 1995-11-07 |
| DE69324734T2 (de) | 1999-10-07 |
| EP0579237B1 (en) | 1999-05-06 |
| JPH0635174A (ja) | 1994-02-10 |
| DE69324734D1 (de) | 1999-06-10 |
| EP0579237A2 (en) | 1994-01-19 |
| EP0579237A3 (en) | 1995-08-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2907643B2 (ja) | 感光性平版印刷版およびその処理方法 | |
| JP3086354B2 (ja) | 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液 | |
| JP2739395B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JP3276422B2 (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 | |
| JP3707630B2 (ja) | ポジ型感光性平版印刷版 | |
| JP3707631B2 (ja) | ポジ型感光性平版印刷版 | |
| JP3117313B2 (ja) | 感光性平版印刷版および平版印刷版の製造方法 | |
| JP3388873B2 (ja) | 帯状金属板の電解処理方法、平版印刷版支持体の製造方法及び感光性平版印刷版の製造方法 | |
| JPH11133593A (ja) | 感光性組成物 | |
| JPH06230563A (ja) | 感光性平版印刷版および平版印刷版の製造方法 | |
| JP4020803B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JP4054268B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JP3032099B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JP3322769B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH09244227A (ja) | 平版印刷版の製造方法 | |
| JP3580439B2 (ja) | 感光性平版印刷版用現像液および現像補充液 | |
| JPH06236023A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JP3483060B2 (ja) | 平版印刷版用支持体の製造方法 | |
| JP2808206B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JPH09222737A (ja) | ポジ型感光性平版印刷版 | |
| JP2001209184A (ja) | 感光性平版印刷版 | |
| JP3272174B2 (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
| JPH06247070A (ja) | 平版印刷版用アルミニウム支持体 | |
| JPH06273938A (ja) | 感光性平版印刷版の現像処理廃液の pH低下方法 | |
| JP2001335998A (ja) | アルミニウム支持体及びその粗面化方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080402 Year of fee payment: 9 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090402 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090402 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100402 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110402 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |