JP3086354B2 - 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液 - Google Patents

感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液

Info

Publication number
JP3086354B2
JP3086354B2 JP7158993A JP7158993A JP3086354B2 JP 3086354 B2 JP3086354 B2 JP 3086354B2 JP 7158993 A JP7158993 A JP 7158993A JP 7158993 A JP7158993 A JP 7158993A JP 3086354 B2 JP3086354 B2 JP 3086354B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
weight
photosensitive
developer
developing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP7158993A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06282079A (ja
Inventor
忠夫 登山
均 萩原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP7158993A priority Critical patent/JP3086354B2/ja
Priority to GB9405242A priority patent/GB2276729B/en
Priority to DE19944411176 priority patent/DE4411176B4/de
Publication of JPH06282079A publication Critical patent/JPH06282079A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3086354B2 publication Critical patent/JP3086354B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は感光性平版印刷版用の現
像液および現像補充液に関するものである。
【0002】
【従来技術およびその問題点】従来より、広く使用され
ているポジ型感光性平版印刷版は支持体としてのアルミ
ニウム板上にo−キノンジアジド化合物からなる感光層
を設けたものである。o−キノンジアジド化合物は紫外
線露光によりカルボン酸に変化することが知られてお
り、従って、これをアルカリ水溶液で現像すると当該感
光層の露光部のみが除去されて支持体表面が露出する。
アルミニウム支持体の表面は親水性なので現像で支持体
の表面が露出された部分(非画像部)は水を保持して油
性インキを反発する。一方、現像によって感光層の除去
されなかった領域(画像部)は、親油性なので水を反発
し、インキを受け付ける。かかるポジ型感光性平版印刷
版の現像液として使用されるアルカリ水溶液は、種々の
ものが知られているが、最も好ましいのは珪酸ナトリウ
ム、珪酸カリウム等の珪酸塩水溶液である。その理由は
珪酸塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金属酸
化物M2 Oの比率(一般に〔SiO2 〕/〔M2 O〕の
モル比で表す)と両者の液中濃度を変えることによって
ある程度現像性の調節が可能とされるためである。近
年、製版・印刷業界では製版作業の合理化および標準化
のため、感光性平版印刷版用の自動現像機が広く用いら
れている。この自動現像機は、一般に感光性平版印刷版
を搬送する装置と、現像液槽およびスプレー装置からな
り、露光済みの感光性平版印刷版を水平に搬送しなが
ら、ポンプで汲み上げた現像液をスプレーノズルから吹
き付けて現像処理するものである。また、最近は現像液
が満たされた現像処理槽中に液中ガイドロールなどによ
って感光性平版印刷版を浸漬搬送させて現像処理する方
法も知られている。
【0003】かかる自動現像機を用いて、ポジ型感光性
平版印刷版を現像する場合に、現像液としてSiO2
Na2 Oのモル比が1.0〜1.5(即ち〔SiO2 〕/
〔Na 2 O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2 の含有
量が1〜4重量%のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用
し、さらにポジ型感光性平版印刷版の処理量に応じて連
続的または断続的にSiO2 /Na2 Oのモル比が0.5
〜1.5(即ち〔SiO2 〕/〔Na2 O〕が0.5〜1.
5)の珪酸ナトリウム水溶液(補充液)を現像液に加え
ることによって、長時間タンク中の現像液を交換する事
なく、多量のポジ型感光性平版印刷版を処理することが
できる旨、特開昭54−62004号公報に開示されて
いる。また、特公昭57−7427号公報は、〔SiO
2 〕/〔M〕が0.5〜0.75(即ち〔SiO2 〕/〔M
2 O〕が1.0〜1.5)であって、SiO2 の濃度が1〜
4重量%であるアルカリ金属珪酸塩の現像液を用い、補
充液として用いるアルカリ金属ケイ酸塩の〔SiO2
/〔M〕が0.25〜0.75(即ち〔SiO2 〕/〔M2
O〕が0.5〜1.5)であり、かつ該現像液および該補充
液のいずれもがその中に存在する全アルカリ金属のグラ
ム原子を基準にして少なくとも20%のカリウムを含有
していることからなる現像方法を開示している。
【0004】これらの珪酸塩を主成分とする現像液にお
いて、そのアルカリ強度を高めると高い処理能力を得る
ことができるが、現像安定性に欠けることが知られてい
る。このようなアルカリ強度の高い状態で現像安定性を
得る方法としてアニオン界面活性剤または両性界面活性
剤を添加する方法が特開昭50−51324号公報に、
また水溶性カチオニックポリマーを添加する方法が特開
昭55−95946号公報に、水溶性の両性高分子電解
質を添加する方法が特開昭56−142528号公報に
記載されている。しかしこれらの現像液はいずれも自動
現像機を用いて現像すると液の攪拌により発泡が多くな
り、自動現像機が汚れるという欠点を有していた。更
に、特開昭59−84241号公報にはアルキレングリ
コールが付加された有機ホウ素化合物、特開昭60−1
11246号公報にはポリオキシエチレン・ポリオキシ
プロピレンブロック重合型の水溶性界面活性剤、特開昭
60−129750号公報にはポリオキシエチレン・ポ
リオキシプロピレンを付加したアルキレンジアミン化合
物、特開昭61−215554号公報には重量平均分子
量300以上のポリエチレングリコール、特開昭63−
175858号公報にはカチオン性基を有する含フッ素
界面活性剤、特開平2−39157号公報には酸または
アルコールに4モル以上のエチレンオキシドを付加して
得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物と、水溶性
ポリアルキレン化合物からなる各種化合物が現像安定性
を得る添加剤として開示されている。しかし一般に感光
性平版印刷版用の現像液は、輸送の問題などから3〜1
0倍に濃縮されて市販されており、製版印刷業者がこれ
を希釈して使用しているが、上記水溶性ポリアルキレン
化合物の溶解度は高濃度の珪酸塩水溶液中では非常に小
さいので濃縮が難しいという問題があった。
【0005】一方、これらのケイ酸塩は上述のポジ型感
光性平版印刷版だけでなく、特公昭56−14970号
公報記載のo−キノンジアジド感光層を用いた反転型ネ
ガ型感光性平版印刷版や、アルカリ可溶性ジアゾニウム
塩を感光層に用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液お
よびジメチルマレイミド基を側鎖に含む樹脂を光架橋剤
とする感光層を用いたネガ型感光性平版印刷版の現像液
としても使用できるが、特に近年、省スペースや省資源
および省力化の目的でネガ型とポジ型の感光性平版印刷
版を一台の自動現像機で共通処理することが行われてい
る。しかし、ポジ型感光性平版印刷版のために高い処理
能力を得ようとしてアルカリ強度を高めると、ネガ型感
光性平版印刷版の現像性が著しく低下し共通処理ができ
なくなるという問題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、長期間にわたり現像安定性、現像処理能力に優れ、
かつ発泡性が低く、特に自動現像機を使用するのに適し
た感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液を提供
することである。本発明の他の目的は、濃縮液の保存安
定性に優れた感光性平版印刷版用の現像液および現像補
充液を提供することである。本発明の別の目的は、ネガ
型およびポジ型の感光性平版印刷版を共通処理するのに
適した現像液および現像補充液を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく鋭意検討を重ねた結果、現像液及び/又は補
充液に新規のエチレンオキシド付加化合物を添加するこ
とにより、上記の目的が達成されることを見いだし本発
明を成すに至ったものである。即ち本発明は、SiO2
/M2 O(Mはアルカリ金属を示す)のモル比が0.5〜
2.0の珪酸アルカリ金属塩と、水酸基を4以上有する糖
アルコールに5モル以上のエチレンオキシドを付加して
得られる水溶性エチレンオキシド付加化合物を含有する
ことを特徴とする感光性平版印刷版(以後PS版と称
す)用の現像液を提供するものである。本発明はさら
に、SiO2 /M2 Oのモル比が0.3〜1.5の珪酸アル
カリ金属塩と、水酸基を4以上有する糖アルコールに5
モル以上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性
エチレンオキシド付加化合物を含有することを特徴とす
る、感光性平版印刷版用の現像補充液を提供するもので
ある。
【0008】以下に本発明の現像液および現像補充液に
ついて詳しく述べる。本発明の現像液に用いられる珪酸
アルカリ金属塩としては珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、珪酸リチウムがあり、それらを単独または組み合わ
せて用いることができる。珪酸アルカリ金属塩のSiO
2 /M2 Oモル比(Mはアルカリ金属を示す)は0.5〜
2.0である。上記のモル比が大きくなると現像性(特に
ネガ型PS版の現像性)が低下する傾向にあり、モル比
2.0以上は好ましくない。また、モル比が小さくなるに
つれてアルカリ強度が高まり、PS版の支持体として汎
用されているアルミニウム板などの金属が侵される。モ
ル比0.5以下では特にその傾向が著しい。現像液中の珪
酸アルカリ金属塩の濃度は1〜10重量%が好ましく、
1.5〜5重量%が特に好ましい。10重量%より高くな
ると沈澱や結晶が生成しやすくなり、好ましくない。ま
た、1重量%より低くなると現像力が低くなる。
【0009】次に本発明の現像補充液に用いられる珪酸
アルカリ金属塩としては珪酸ナトリウム、珪酸カリウ
ム、珪酸リチウムがあり、それらを単独または組み合わ
せて用いることができる。珪酸アルカリ金属塩のSiO
2 /M2 Oモル比は0.3〜1.5である。上記のモル比が
大きくなると現像性(特にネガ型PS版の現像性)が低
下する傾向にあり、モル比1.5以上は好ましくない。ま
た、モル比が小さくなるにつれてアルカリ強度が高ま
り、PS版の支持体として汎用されているアルミニウム
板などの金属が侵される。モル比0.3以下では特にその
傾向が著しい。現像液中の珪酸アルカリ金属塩の濃度は
1〜10重量%が好ましく、1.5〜5重量%が特に好ま
しい。10重量%より高くなると沈澱や結晶が生成しや
すくなり、また、廃液時の中和に際して多量のシリカゲ
ルが生ずるので廃液処理がしにくくなり好ましくない。
また、1重量%より低くなると処理能力が低くなる。
【0010】本発明の現像液および補充液には珪酸アル
カリ金属塩以外のアルカリ剤を併用することができる。
その例として、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニ
ウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムお
よび同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。ま
た、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピ
リジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのア
ルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて併用で
きる。
【0011】本発明の現像液および現像補充液に用いら
れる新規な水溶性エチレンオキシド付加化合物は、水酸
基を4以上有する糖アルコールに5モル以上のエチレン
オキシドを付加して得られる化合物である。本発明に用
いられる糖アルコールは糖のアルデヒド基およびケトン
基を還元してそれぞれ第一、第二アルコール基としたも
のに相当する多価アルコールである。糖アルコールの具
体的な例としては、D,L−トレイット、エリトリッ
ト、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,
L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジッ
ト、D,L−タリット、ズルシット、アロズルシットな
どであり、更に糖アルコールを縮合したジ、トリ、テト
ラ、ペンタおよびヘキサグリセリンなども挙げられる。
本発明の水溶性エチレンオキシド付加化合物は上記糖ア
ルコール1モルに対し5モル以上のエチレンオキシドを
付加することにより得られる。さらにエチレンオキシド
付加化合物には必要に応じてプロピレンオキシドを溶解
性が許容できる範囲でブロック共重合させてもよい。こ
れらのエチレンオキシド付加化合物は単独もしくは二種
以上を組み合わせて用いてもよい。
【0012】エチレンオキシド付加化合物は現像過程に
おいて、画像部に吸着して現像液の画像部への侵入を緩
慢にして現像の安定化に効果を示すものと考えられる。
水酸基が4未満の糖アルコールでは現像の安定化に効果
が小さいため、細線の細りが生じる。またエチレンオキ
シド付加モル数が5未満ではこの現像安定化効果が小さ
い。好ましいエチレンオキシド付加モル数は5〜50で
あり、より好ましくは5〜30である。50モルを越え
るとポジ型PS版の現像速度が遅くなるだけでなく、現
像液への溶解度が小さくなり、ネガ型PS版の現像を促
進するのに十分な量を濃縮液に添加することができな
い。これらの水溶性エチレンオキシド付加化合物の添加
量は現像液(使用液)に対して0.001〜5重量%が適
しており、より好ましくは0.001〜2重量%である。
本発明に用いられる現像液および補充液には、現像性の
促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親インキ性
を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や有機溶剤
を添加できる。
【0013】界面活性剤の好ましい例としては、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
スチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪
酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、
ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレ
ングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分
エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部
分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル
類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシ
エチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン
脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、
N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリ
オキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン
脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシドなどの非
イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、
ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン
酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼ
ンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩
類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルス
ルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェ
ニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリン
ナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二
ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂
肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル
塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫
酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニル
エーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステ
ル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
リン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合
物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン
縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩
類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアル
キルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などの
カチオン性界面活性剤、カルボキシべタイン類、アミノ
カルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル
類、イミダゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられ
る。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンと
あるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレ
ン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに
読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含
される。
【0014】更に好ましい界面活性剤は分子内にパーフ
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルべタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型のものが挙げられる。
上記の界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わ
せて使用することができる。現像液および補充液中に0.
001〜10重量%、より好ましくは0.01〜5重量%
の範囲で添加される。
【0015】本発明の現像液および補充液には場合によ
り有機溶剤を添加することができる。有機溶剤として
は、水に対する溶解度が約10重量%以下のものが適し
ており、好ましくは5重量%以下のものから選ばれる。
例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノ
ール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フェニル
−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノール、2
−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエタノー
ル、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベン
ジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p
−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、
シクロヘキサノール、、2−メチルシクロヘキサノー
ル、3−メチルシクロヘキサノールおよび4−メチルシ
クロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミンおよ
びN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げることが
できる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して0.
1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤の使用量
と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、界面
活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活
性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有機溶
剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保が期
待できなくなるからである。
【0016】本発明に用いられる現像液および補充液に
は更に還元剤が加えられてもよい。これは印刷版の汚れ
を防止するものであり、特に感光性ジアゾニウム塩化合
物を含むネガ型感光性平版印刷版を現像する際に有効で
ある。好ましい有機還元剤としては、チオサリチル酸、
ハイドロキノン、メトール、メトキシキノン、レゾルシ
ン、2−メチルレゾルシンなどのフェノール化合物、フ
ェニレンジアミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化
合物が挙げられる。更に好ましい無機の還元剤として
は、亜硫酸、亜硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素
酸、亜リン酸二水素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸な
どの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム
塩などを挙げることができる。これらの還元剤のうち汚
れ防止効果が特に優れているのは亜硫酸塩である。これ
らの還元剤は使用時の現像液に対して好ましくは、0.0
5〜5重量%の範囲で含有される。
【0017】本発明の現像液および補充液には更に有機
カルボン酸を加えることもできる。好ましい有機カルボ
ン酸は炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン酸および芳
香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の具体的な例
としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプリル酸、ラ
ウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およびステアリ
ン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数8〜12のア
ルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を有する不飽
和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のものでもよい。芳
香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタレン環、ア
ントラセン環などにカルボキシル基が置換された化合物
で、具体的には、o−クロロ安息香酸、p−クロロ安息
香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香
酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、p−is
o プロピル安息香酸、p−ter ブチル安息香酸、p−se
c ブチル安息香酸、p−nブチル安息香酸、2,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロキシ安息香酸、
2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ
安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、没食子酸、
1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−ヒドロキシ−2
−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナフトエ酸、1−
ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがあるがヒドロキシナ
フトエ酸は特に有効である。上記脂肪族および芳香族カ
ルボン酸は水溶性を高めるためにナトリウム塩やカリウ
ム塩またはアンモニウム塩として用いるのが好ましい。
本発明で用いる現像液および補充液中の有機カルボン酸
の含有量は格別な制限はないが、0.1重量%より低いと
効果が十分でなく、また10重量%以上ではそれ以上の
効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用する
時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加量
は使用時の現像液に対して0.1〜10重量%であり、よ
り好ましくは0.5〜4重量%である。
【0018】本発明の現像液および補充液には、更に必
要に応じて、消泡剤および硬水軟化剤などを含有させる
こともできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリン酸
およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニウ
ム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリア
ミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、
ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニトリロ
トリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸
および1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸
などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリウム
塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ(メ
チレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレ
ンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メチレ
ンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ(メチ
レンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジアミン
トリ(メチレンホスホン酸)および1−ヒドロキシエタ
ン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナトリウム塩、カ
リウム塩およびアンモニウム塩を挙げることができる。
このような硬水軟化剤はそのキレート化力と使用される
硬水の硬度および硬水の量によって最適値が変化する
が、一般的な使用量を示せば、使用時の現像液に0.01
〜5重量%、より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲
である。この範囲より少ない添加量では所期の目的が十
分に達成されず、添加量がこの範囲より多い場合は、色
抜けなど、画像部への悪影響がでてくる。
【0019】本発明の現像液および補充液の残余の成分
は水であるが、更に必要に応じて当業界で知られた種々
の添加剤を含有させることができる。例えば、特開昭5
8−75152号公報記載のNaCl,KCl,KBr
などの中性塩、特開昭58−121336号公報記載の
〔Co(NH3)6 〕Cl3 などの錯体、特開昭55−2
5100号公報記載の周期律表第IIa族、第IIIa族また
はIIIb族の元素のイオン化可能な化合物、米国特許第4,
374,920 号公報記載のテトラメチルデシンジオール、特
開昭60−213943号公報記載の非イオン性界面活
性剤、特開昭55−95946号公報記載のp−ジメチ
ルアミノメチルポリスチレンのメチルクロライド4級化
合物などのカチオニックポリマー、特開昭56−142
528号公報記載のビニルベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロライドとアクリル酸ソーダの共重合体などの両
性高分子電解質、特開昭57−192952号公報記載
のアルカリ可溶性メルカプト化合物またはチオエーテル
化合物、特開昭58−59444号公報記載の塩化リチ
ウムなどの無機リチウム化合物、特公昭50−3444
2号公報記載の安息香酸リチウムなどの有機リチウム化
合物、特開昭59−75255号公報記載のSi,Ti
などを含む有機金属界面活性剤、特開昭59−8424
1号公報記載の有機ほう素化合物、ヨーロッパ特許10
1010号公報記載のテトラアルキルアンモニウムオキ
サイドなどの4級アンモニウム塩、特開昭63−226
657号公報記載のデヒドロ酢酸ナトリウムなどの殺菌
剤などが挙げられる。
【0020】本発明の現像液および補充液は使用時より
も水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に
水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。
この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程
度が適当である。本発明の現像液および補充液が好適に
用いられるPS版としてはo−キノンジアジド化合物を
感光剤として含有するポジ型(場合により反転してネガ
型としても用いられる)感光層を有するPS版や各種光
硬化型感光層を有するネガ型のPS版が挙げられる。特
に本発明の現像液および補充液は、ポジ型とネガ型のP
S版を共通処理する場合において、ネガ型PS版で十分
な現像速度が得られる点で特に適している。以下に本発
明の現像液及び補充液が好ましく適用できるPS版につ
いて詳しく述べる。
【0021】
【支持体】本発明の現像液及び補充液が適用されるPS
版の支持体は、寸度的に安定な板状物である。かかる支
持体としては、紙、プラスチックス(例えば、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネー
トされた紙、例えば、アルミニウム(アルミニウム合金
も含む)、亜鉛、鉄、銅などの金属板などが用いられる
が、特にアルミニウム板などの金属板において本発明の
効果が著しく発揮される。好適なアルミニウム板は、純
アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量
の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミ
ネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。用いられるアルミニウム板の厚みは、およそ0.1mm
〜0.6mm程度である。
【0022】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。まず、アルミニウム板の表面は粗面化
処理されるが、その方法としては、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化
学的に表面を選択溶解させる方法がある。機械的方法と
しては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨
法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法を用いるこ
とが出来る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸
または硝酸電解液中で交流または直流により行う方法が
ある。また、特開昭54−63902号公報に開示され
ているように両者を組み合わせた方法も利用することが
出来る。
【0023】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高める
ために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極
酸化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を
形成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそ
れらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解
質の種類によって適宜決められる。
【0024】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電
流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好ましくは
2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化皮膜が1.0g
/m2より少ないと耐刷性が不十分であったり、平版印刷
版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分
にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くな
る。尚、このような陽極酸化処理は平板印刷版の支持体
の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りによ
り、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化皮膜が形成さ
れるのが一般的である。
【0025】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面は必要により親水化処理が施される。親水化処理と
しては、米国特許第 2,714,066号、第 3,181,461号、第
3,280,734号および第 3,902,734号に開示されているよ
うなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナトリウム
水溶液)法がある。この方法に於いては、支持体がケイ
酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理されるかまたは電解処
理される。他に、特公昭36−22063号公報に開示
されている弗化ジルコン酸カリウムおよび米国特許第
3,276,868号、第 4,153,461号および第 4,689,272号に
開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する
方法などが用いられる。
【0026】
【有機下塗層】アルミニウム板は、感光層を塗設する前
に必要に応じて有機下塗層もしくは中間層が設けられ
る。この有機下塗層に用いられる有機化合物としては例
えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、ア
ラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ
基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニ
ルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエ
チレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有
してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキル
リン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基
を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフ
ィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィ
ン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニン
などのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸
塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などか
ら選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【0027】前記下塗層塗布溶液は、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1〜1
2の範囲で使用することもできる。また、感光性平版印
刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加すること
もできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200
mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100mg/m2であ
る。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと汚れ防止等の
本来の目的に十分な効果が得られない。また、200mg
/m2より大きいと耐刷が低下する。
【0028】なお支持体と感光層との密着性を高めるた
めの中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、
一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに
吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さ
は任意であり、露光した時に、上層の感光層と均一な結
合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、
乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよく、5〜
40mg/m2が特に良好である。中間層中におけるジアゾ
樹脂の使用割合は、30〜100重量%、好ましくは6
0〜100重量%である。
【0029】
【バックコート層】本発明の現像液および補充液はアル
カリ強度が比較的高いので、裏面からの酸化アルミニウ
ムの溶出を抑えるためにバックコート層を有するPS版
が好ましく用いられる。このようなバックコート層とし
ては、例えば特開平5−45885号、特願平4−57
902号および特願平4−189448号に詳しく記載
されているものを用いることができる。
【0030】
【感光層】このようにして得られた親水性表面を有する
アルミニウム板上に、公知の感光性組成物よりなる感光
層を設けて、感光性平版印刷版を得る。感光性組成物と
しては、o−キノンジアジド化合物を主成分とするポジ
型、ジアゾニウム塩、アルカリ可溶性ジアゾニウム塩、
不飽和二重結合含有モノマーを主成分とする光重合性化
合物および桂皮酸やジメチルマレイミド基を含む光架橋
性化合物などを感光物とするネガ型のものが用いられ
る。
【0031】
【ポジ型感光層】このうちポジ型の感光性組成物として
用いられるo−ナフトキノンジアジド化合物としては、
特公昭43−28403号公報に記載されている1,2
−ジアゾナフトキノンスルホン酸とピロガロール・アセ
トン樹脂とのエステルが好ましい。その他の好適なオル
トキノンジアジド化合物としては例えば、米国特許第
3,046,120号および同第 3,188,210号明細書に記載され
ている1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸と
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
り、特開平2−96163号公報、特開平2−9616
5号公報および特開平2−96761号公報に記載され
ている1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸と
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあ
る。その他の有用なo−ナフトキノンジアジド化合物と
しては、数多くの特許等で公知のものが挙げられる。例
えば、特開昭47−5303号、同48−63802
号、同48−63803号、同48−96575号、同
49−38701号、同48−13854号、特公昭3
7−18015号、同41−11222号、同45−9
610号、同49−17481号公報、米国特許第 2,7
97,213号、同第 3,454,400号、同第 3,544,323号、同第
3,573,917号、同第 3,674,495号、同第 3,785,825号、
英国特許第 1,227,602号、同第 1,251,345号、同第 1,2
67,005号、同第 1,329,888号、同第 1,330,932号、ドイ
ツ特許第 854,890号などの各明細書中に記載されている
ものを挙げることができる。
【0032】さらに特に好ましい、o−ナフトキノンジ
アジド化合物は、分子量1,000以下のポリヒドロキ
シ化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸との
反応により得られる化合物である。このような化合物の
具体例は、特開昭51−139402号、同58−15
0948号、同58−203434号、同59−165
053号、同60−121445号、同60−1342
35号、同60−163043号、同61−11874
4号、同62−10645号、同62−10646号、
同62−153950号、同62−178562号、同
64−76047号、米国特許第 3,102,809号、同第
3,126,281号、同第 3,130,047号、同第 3,148,983号、
同第 3,184,310号、同第 3,188,210号、同第 4,639,406
号などの各公報または明細書に記載されているものを挙
げることができる。
【0033】感光性組成物中に占めるこれらのポジ型に
作用する感光性化合物(上記のような組合せを含む)の
量は10〜50重量%が適当であり、より好ましくは1
5〜40重量%である。o−キノンジアジド化合物は単
独でも感光層を構成することができるが、アルカリ水に
可溶な樹脂を結合剤(バインダー)として併用すること
が好ましい。この様なアルカリ水に可溶な樹脂として
は、ノボラック型の樹脂があり、例えばフェノールホル
ムアルデヒド樹脂、o−、m−およびp−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、m/p−混合クレゾールホルムア
ルデヒド樹脂、フェノール/クレゾール(o−、m−、
p−、m/p−およびo/m−混合のいずれでもよい)
混合ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。
【0034】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダーとして以
下(1)〜(13)に示すモノマーをその構成単位とす
る通常1万〜20万の分子量を持つ共重合体を挙げるこ
とができる。 (1)芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エ
ステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−
およびp−ヒドロキシスチレン、o−、m−およびp−
ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
およびメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキ
シエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、(3)アクリル酸、メタクリル酸、無水マ
レイン酸、メタコン酸などの不飽和カルボン酸、(4)
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロ
ピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル
酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オ
クチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、ア
クリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒドロキ
シブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミ
ノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸エステ
ル、(5)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、
メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリ
ル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シク
ロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェ
ニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロ
ロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシ
ジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタク
リレートなどの(置換)メタクリル酸エステル、
【0035】(6)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、(7)エチルビ
ニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、
(8)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル
類、
【0036】(9)スチレン、メチルスチレン、クロロ
メチルスチレンなどのスチレン類、(10)メチルビニ
ルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケト
ン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン類、(1
1)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレンなどのオレフィン類、(12)N−ビニ
ルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピ
リジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど、
(13)N−(o−アミノスルホニルフェニル)アクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)アク
リルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)ア
クリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナ
フチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノスルホニル
エチル)アクリルアミドなどのアクリルアミド類、N−
(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、
N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリル
アミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチ
ル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエ
チル)メタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、ま
た、o−アミノスルホニルフェニルアクリレート、m−
アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルアクリレート、1−(3−アミノスル
ホニルフェニルナフチル)アクリレートなどのアクリル
酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、o−アミノ
スルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホ
ニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニルフ
ェニルナフチル)メタクリレートなどのメタクリル酸エ
ステル類などの不飽和スルホンアミド。
【0037】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、その共重合体の好ましい酸価は0
〜10meq /g、より好ましくは0.2〜5.0meq /gで
ある。上記共重合体の好ましい分子量は1万〜10万で
ある。また、上記共重合体には必要に応じて、ポリビニ
ルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂
およびエポキシ樹脂を添加してもよい。このようなアル
カリ可溶性の高分子化合物は1種類あるいは2種類以上
組み合わせることができ、全感光性組成物の80重量%
以下の添加量で用いられる。更に、米国特許第 4,123,2
79号明細書に記載されているように、t−ブチルフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキル基を置
換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮
合物を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好
ましい。本発明における感光性組成物中には、感度を高
めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を
添加することが好ましい。
【0038】環状酸無水物としては米国特許第 4,115,1
28号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒド
ロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−
エントオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マ
レイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク
酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール
類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノー
ル、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,
4′,4″−トリヒドロキシ−トリフェニルメタン、
4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,
3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙
げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88
942号、特開平2−96755号公報などに記載され
いてる、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸
類などがある。上記の環状酸無水物類、フェノール類お
よび有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05
〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量
%である。また、上記感光性組成物中には、現像条件に
対する処理の安定性(いわゆる現像ラチチュード)を広
げるため、特開昭62−251740号公報や特願平2
−188号明細書に記載されているような非イオン界面
活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−
13149号公報に記載されているような両性界面活性
剤を添加することができる。
【0039】上記非イオン界面活性剤および両性界面活
性剤の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。上記ポジ型感光性組成物中には、露光後直ちに可視
像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料
や顔料を加えることができる。焼き出し剤としては、露
光によって酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形
成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることがで
きる。具体的には、特開昭50−36209号、同53
−8128号の各公報に記載されているo−ナフトキノ
ンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機
染料の組合せや、特開昭53−36223号、同54−
74728号、同60−3626号、同61−1437
48号、同61−151644号および同63−584
40号の各公報に記載されているトリハロメチル化合物
と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。か
かるトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化
合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【0040】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料も含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、
オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上、オリエ
ント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイ
オレット(CI42535)、エチルバイオレット、ロ
ーダミンB(CI145170B)、マラカイトグリー
ン(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。
【0041】上記ポジ型感光性組成物は、上記各成分を
溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に塗
布される。ここで使用される溶媒としては、特開昭62
−251739号公報に記載されているような有機溶剤
が単独あるいは混合して用いられる。上記感光性組成物
は、2〜50重量%の固形分濃度で溶解、分散され、支
持体上に塗布・乾燥される。支持体上に塗設される感光
性組成物の層(感光層)の塗布量は用途により異なる
が、一般的には、乾燥後の重量にして0.3〜4.0g/m2
が好ましい。塗布量が小さくなるにつれて画像を得るた
めの露光量は小さくて済むが、膜強度は低下する。塗布
量が大きくなるにつれ、露光量を必要とするが感光膜は
強くなり、例えば、印刷版として用いた場合、印刷可能
枚数の高い(高耐刷の)印刷版が得られる。上記ポジ型
感光性組成物中には、塗布面質を向上するための界面活
性剤、例えば、特開昭62−170950号公報に記載
されているようなフッ素系界面活性剤を添加することが
できる。好ましい添加量は、全感光性組成物の0.001
〜1.0重量%であり、更に好ましくは0.005〜0.5重
量%である。
【0042】
【ネガ型感光層】次に本発明の現像液及び補充液が好ま
しく適用されるネガ型のPS版の感光性組成物として
は、感光性ジアゾ化合物を含む感光層、光重合性感光
層、光架橋性感光層などを有するものが挙げられるが、
このうち感光性ジアゾ化合物を含む光硬化性感光性複写
材料および光架橋性感光層を有する感光性複写材料につ
いて例を挙げて詳しく説明する。感光性ジアゾ化合物と
しては、芳香族ジアゾニウム塩と反応性カルボニル基含
有有機縮合剤、特にホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ドなどのアルデヒド類またはアセタール類とを酸性媒体
中で縮合したジアゾ樹脂が好適に用いられる。その最も
代表的なものにP−ジアゾフェニルアミンとホルムアル
デヒドとの縮合物がある。これらのジアゾ樹脂の合成法
は、例えば、米国特許第 2,679,498号、同第 3,050,502
号、同第 3,311,605号および同第 3,277,074号の明細書
に記載されている。
【0043】更に、感光性ジアゾ化合物としては、特公
昭49−48,001号公報記載の芳香族ジアゾニウム
塩とジアゾニウム基を含まない置換芳香族化合物との共
縮合ジアゾ化合物が好適に用いられ、中でもカルボキシ
ル基や水酸基のようなアルカリ可溶基で置換された芳香
族化合物との共縮合ジアゾ化合物が好ましい。更には、
特開平4−18559号、同4−190361および同
4−172354号記載のアルカリ可溶性基を持つ反応
性カルボニル化合物で芳香族ジアゾニウム塩を縮合した
感光性ジアゾ化合物も好適に用いられる。なお、上記分
子内にアルカリ可溶基を含有するジアゾニウム塩を感光
剤に用いたPS版として特開平3−2846号、同3−
5754号、同3−240061号、同3−25385
7号、同4−172354号、同4−211253号、
同4−219759号、同4−274429号、同5−
5984号公報に記載されているPS版も本発明の現像
液及び補充液を適用するのに適している。
【0044】これらのジアゾニウム塩の対アニオンとし
て塩酸、臭化水素酸、硫酸およびリン酸などの鉱酸また
は塩化亜鉛との複塩などの無機アニオンを用いたジアゾ
樹脂があるが、実質的に水不溶性で有機溶剤可溶性のジ
アゾ樹脂の方が特に好ましい。かかる好ましいジアゾ樹
脂は特公昭47−1167号、米国特許第 3,300,309号
公報に詳しく記載されている。更には特開昭54−98
613号、同56−121031号公報に記載されてい
るようなテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸
などのハロゲン化ルイス酸および過塩素酸、過ヨウ素酸
などの過ハロゲン酸を対アニオンとしたジアゾ樹脂が好
適に用いられる。また、特開昭58−209733号、
同62−175731号、同63−262643号公報
に記載されている長鎖のアルキル基を有するスルホン酸
を対アニオンとしたジアゾ樹脂も好適に用いられる。
【0045】感光性ジアゾ化合物は感光層中に5〜50
重量%、好ましくは8〜20重量%の範囲で含有させら
れる。上記感光性ジアゾ化合物は、アルカリ水に可溶性
もしくは膨潤性の親油性高分子化合物を結合剤(バイン
ダー)として併用することが好ましい。この様な親油性
高分子化合物としては、先に述べたポジ型感光性組成物
で用いたのと同様の前記(1)〜(13)に示すモノマ
ーをその構成単位とする通常1万〜20万の分子量を持
つ共重合体を挙げることができるが、更に以下(1
4)、(15)に示したモノマーを構成単位として共重
合した高分子化合物も使用できる。 (14)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルアクリルアミド、N−プロピオニルア
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)アクリル
アミド、N−アセチルアクリルアミド、N−アクリロイ
ルメタクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、
N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロ
ベンゾイル)メタクリルアミドなどの不飽和イミド、
(15)N−〔2−(アクリロイルオキシ)−エチル〕
−2,3−ジメチルマレイミド、N−〔2−(メタクリ
ロイルオキシ)−エチル〕−2,3−ジメチルマレイミ
ド、ビニルシンナメートなどの側鎖に架橋性基を有する
不飽和モノマー。
【0046】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレートなどによって修飾し
たものも含まれるがこれらに限られるものではない。上
記共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有
することが好ましく、その共重合体の好ましい酸価は0
〜10meq /g、より好ましくは0.2〜5.0meq /gで
ある。上記共重合体の好ましい分子量は1万〜10万で
ある。また、上記共重合体には必要に応じて、ポリビニ
ルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂
およびエポキシ樹脂を添加してもよい。また、ノボラッ
ク型の樹脂、フェノール変性キシレン樹脂、ポリヒドロ
キシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、特
開昭51−34711号公報に開示されているようなフ
ェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂も用い
ることができる。このようなアルカリ可溶性の高分子化
合物は1種類あるいは2種類以上組み合わせることがで
き、全感光性組成物の固形分中に通常40〜95重量%
の範囲で含有させられる。次に光架橋性感光層に用いる
光架橋性ポリマーとしては、マレイミド基やシンナミル
基、シンナモイル基、シンナミリデン基、シンナミリデ
ンアセチル基やカルコン基等を側鎖又は主鎖に有するポ
リマーが挙げられる。マレイミド基を側鎖に有するポリ
マーとして、特開昭52−988号(対応米国特許4,07
9,041 号)や、独国特許2,626,769 号明細書、ヨーロッ
パ特許21,019号明細書、ヨーロッパ特許3,552 号明細書
やディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケ
ミー(Die Angewandte Makromolekulare Chemie)115
(1983)の162〜182ページに記載されている
下記一般式(I):
【0047】
【化1】
【0048】(式中、R1 及びR2 はそれぞれ独立し
て、最高4個の炭素原子を有するアルキル基を表わす
か、又はR1 とR2 が一緒になって5員又は6員の炭素
環を形成してもよい。)で表わされるマレイミド基を側
鎖に有するポリマーや、特開昭49−128991号、
同49−128992号、同49−128993号、同
50−5376号、同50−5377号、同50−53
79号、同50−5378号、同50−5380号、同
53−5298号、同53−5299号、同53−53
00号、同50−50197号、同51−47940
号、同52−13907号、同50−45076号、同
52−121700号、同50−10884号、同50
−45087号、独国特許第2,349,948 号、同第2,616,
276 号各公報に記載されている下記一般式(II)
【0049】
【化2】
【0050】(式中、R3 は芳香族基を表わし、R4
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はシアノ基を表
わす)で表わされるマレイミド基を側鎖に有するポリマ
ー等を挙げることが出来る。これらのポリマーの平均分
子量は1000以上、好ましくは3〜4万である。ま
た、これらのポリマーは1分子当り平均2個以上のマレ
イミド基を側鎖に有する。これらのマレイミド基を側鎖
に有するポリマーを、アルカリ水に可溶性又は膨潤性と
するためには、酸基をポリマー中に含めればよい。酸基
の具体例としては、カルボン酸、スルホン酸、リン酸、
ホスホン酸及びこれらのアルカリ金属塩やアンモニウム
塩、及びアルカリ水に対し解難するpKa が6〜12の酸
基で、具体的には、−SO2NHCO −、−CONHCO−、−SO2N
HCOO−、4−ヒドロキシフェニル基が挙げられる。これ
らの酸基を有するモノマーと、マレイミド基を有するモ
ノマーとを、例えば10/90〜50/50、好ましく
は、20/80〜40/60(モル比)の割合で共重合
させることによって本発明のポリマーが容易に得られ
る。酸基を有するマレイミドポリマーの酸価は30〜3
00の範囲が好ましく、更に好ましくは、50〜200
である。なお、上記共重合しうる酸基を有するモノマー
として好ましいものは、アクリル酸、メタクリル酸等の
カルボキシル基を有するビニルモノマー、マレイン酸無
水物、イタコン酸無水物等が例示される。
【0051】これらの酸価を有するポリマーの中でも、
ディー・アンゲバンドゥテ・マクロモレクラーレ・ケミ
ー(Die Angewandte Makromolekulare Chemie)128
(1984)の71〜91ページに記載されているよう
なN−〔2−メタクリロイルオキシ)エチル〕−2,3
−ジメチルマレイミドとメタクリル酸あるいはアクリル
酸との共重合体が有用である。更にこの共重合体の合成
に際して第3成分のビニルモノマーを共重合することに
よって目的に応じた多元共重合体を容易に合成すること
ができる。例えば、第3成分のビニルモノマーとして、
そのホモポリマーのガラス転移点が室温以下のアルキル
メタアクリレートやアルキルアクリレートを用いること
によって共重合体に柔軟性を与えることが出来る。
【0052】シンナミル基、シンナモイル基、シンナミ
リデン基、シンナミリデンアセチル基、カルコン基等を
側鎖又は主鎖に有する本発明の他の光架橋性ポリマーの
内、主鎖に感光性のシンナモイレン基を有するものとし
ては、例えば米国特許第3030208 号、米国特許出願7094
96号、同828455号に記載されている感光性ポリエステル
がある。上記のポリエステルは適当なポリカルボン酸、
又は適当なポリカルボン酸の低級アルキルエステル、又
はクロライドと適当な多価アルコールをエステル化触媒
の存在下に縮合せしめることにより作られる。これらの
ポリマーをアルカリ水可溶化した物としては、次のよう
なものが挙げられる。即ち、特開昭60−191244
号中に記載されているような主鎖に、芳香核に隣接した
光二量化可能な不飽和二重結合、側鎖カルボキシル基及
び末端に水酸基を有するポリエステルプレポリマーに水
酸基と反応し得る官能基を分子中に2個以上有する鎖延
長剤、例えばジイソシアネート化合物、ジフェニルテレ
フタレート、ジフェニルカーボネートやテレフタロイル
ビス(N−カプロラクタム)等を反応させて得られる感
光性ポリマーや、主鎖に、芳香核に隣接した光二量化可
能な不飽和二重結合と、末端に水酸基とを有するポリエ
ステルプレポリマーやポリウレタンポリマーに鎖延長剤
としてピロメリット酸二無水物やシクロペンタンテトラ
カルボン酸二無水物を反応させ、側鎖にカルボキシル基
を導入した感光性ポリマー等を挙げることが出来る。
【0053】更に、側鎖に、光二量化可能な官能基と、
側鎖にカルボキシル基とを有する酸価20〜200のア
ルカリ水可溶又は膨潤可能な感光性ポリマー等を挙げる
ことが出来る。これらの感光性ポリマーは特開昭62−
175729号、特開昭62−175730号、特開昭
63−25443号、特開昭63−218944号、特
開昭63−218945号に記載されている。なお、本
発明で用いる光架橋性ポリマーとしては、分子量100
0以上、好ましくは1万〜50万、特に好ましくは2万
〜30万のものを用いるのが望ましい。上記光架橋性ポ
リマーの感光層全組成物に対する添加量は10〜99重
量%(以下%と略称する)、好ましくは、50〜99%
である。光架橋性ポリマーよりなる感光層には、支持体
との接着性を向上させるために感光性ジアゾ樹脂を含有
させておくことが好ましい。このような感光性ジアゾ樹
脂としては、前述のジアゾ樹脂が使用できる。このジア
ゾ樹脂を感光層中に含有させる場合の含有量は、0.1〜
30重量%、好ましくは1〜10重量%である。なお、
上記ジアゾ樹脂の他に、特公昭47−1167号、特開
昭50−118802号、特公昭52−7364号及び
特開昭59−222834号などに記載されているよう
なジアゾ樹脂を、前述のジアゾ樹脂に対して50重量%
以下の量で併用してもよい。
【0054】本発明で使用する感光層には増感剤を使用
することができる。そのような増感剤としては、300
nm以上の範囲で実際に充分な光吸収を可能にするような
極大吸収を有する三重項増感剤が好ましい。そのような
増感剤としてはベンゾフェノン誘導体、ベンズアンスロ
ン誘導体、キノン類、芳香族ニトロ化合物、ナフトチア
ゾリン誘導体、ベンゾチアゾリン誘導体、チオキサント
ン類、ナフトチアゾール誘導体、ケトクマリン化合物、
ベンゾチアゾール誘導体、ナフトフラノン化合物、ピリ
リウム塩、チアピリリウム塩等を挙げることが出来る。
具体的にはミヒラーケトン、N,N′−ジエチルアミノ
ベンゾフェノン、ベンズアンスロン、(3−メチル−
1,3−ジアザ−1,9ベンズ)アンスロンピクラミ
ド、5−ニトロアセナフテン、2−クロルチオキサント
ン、2−イソプロピルチオキサントン、ジメチルチオキ
サントン、メチルチオキサントン−1−エチルカルボキ
シレート、2−ニトロフルオレン、2−ジベンゾイルメ
チレン−3−メチルナフトチアゾリン、3,3−カルボ
ニル−ビス(7−ジエチルアミノクマリン)、2,4,
6−トリフェニルチアピリリウムパークロレート、2−
(p−クロルベンゾイル)ナフトチアゾール、などを挙
げることが出来る。これらの増感剤の添加量は感光層の
約1〜約20重量%、より好ましくは3〜10重量%が
適当である。上記種々のネガ型感光性組成物中には、画
像の感脂性を向上させるための感脂化剤(例えば、特開
昭55−527号公報記載のスチレン−無水マレイン酸
共重合体のアルコールによるハーフエステル化物、ノボ
ラック樹脂、p−ヒドロキシスチレンの50%脂肪酸エ
ステルなど)が加えられるのが好ましい。更には、塗膜
の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤が加えられ
るのが好ましい。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタアクリル酸のオリゴマーおよ
びポリマーが挙げられ、この中で特にリン酸トリクレジ
ルが好ましい。
【0055】また、上記ネガ型感光性組成物中には、経
時の安定性を広げるため、例えば、リン酸、亜リン酸、
クエン酸、蓚酸、ジピコリン酸、ベンゼンスルホン酸、
ナフタレンスルホン酸、スルホサリチル酸、4−メトキ
シ−2−ヒドロキシベンゾフェノン−5−スルホン酸、
酒石酸などが加えられるのが好ましい。また、上記ネガ
型感光性組成物中には、露光後直ちに可視像を得るため
の焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料などの
色素を加えることができる。該色素としては、フリーラ
ジカルまたは酸と反応して色調を変えるものが好ましく
用いられる。例えば、トリフェニルメタン系、ジフェニ
ルメタン系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフ
トキノン系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色
素が有色から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する
例として挙げられる。一方、無色から有色に変化する変
色剤としては、ロイコ色素および、第1級または第2級
アリールアミン系色素が挙げられる。特に好ましくはト
リフェニルメタン系、ジフェニルメタン系色素であり、
更に好ましくはトリフェニルメタン系色素であり、特に
ビクトリアピュアブルーBOHである。上記色素は、感
光性組成物中に通常約0.5〜10重量%、より好ましく
は約1〜5重量%含有される。上記ネガ型感光性組成物
中には、現像性を高めるために環状酸無水物類、フェノ
ール類、有機酸類および高級アルコールを添加すること
ができる。本発明における感光性組成物は、上記各成分
を溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に
塗布される。ここで使用される溶媒としては、特開昭6
2−251739号公報に記載されているような有機溶
剤が単独あるいは混合して用いられる。
【0056】上記ネガ型感光性組成物は、2〜50重量
%の固形分濃度で溶解、分散され、支持体上に塗布・乾
燥される。支持体上に塗設される感光性組成物の層(感
光層)の塗布量は用途により異なるが、一般的には、乾
燥後の重量にして0.3〜4.0g/m2が好ましい。塗布量
が小さくなるにつれて画像を得るための露光量は小さく
て済むが、膜強度は低下する。塗布量が大きくなるにつ
れ、露光量を必要とするが感光膜は強くなり、例えば、
印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の高い(高耐刷
の)印刷版が得られる。上記感光性組成物中には、先に
示したポジ型感光性組成物と同様に、塗布面質を向上す
るための界面活性剤を添加することができる。上記感光
性印刷版の製造に当たっては裏面のバックコート層と表
面の感光性組成物層のどちらが先に支持体上に塗布され
ても良く、また両者が同時に塗布されても良い。
【0057】
【マット層】上記のようにして設けられた感光層の表面
には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時
間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層が設け
られる。具体的には、特開昭50−125805号、特
公昭57−6582号、同61−28986号の各公報
に記載されているようなマット層を設ける方法、特公昭
62−62337号公報に記載されているような固体粉
末を熱融着させる方法などが挙げられるが、水溶性、ア
ルカリ水現像液可溶性のマット層を有するPS版がより
好ましい。
【0058】
【現像処理】かくして得られたPS版は透明原画を通し
てカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、
キセノンランプ、タングステンランプなどを光源とする
活性光線により露光された後、現像処理される。本発明
の現像液および補充液は自動現像機を用いる現像処理方
法において使用するのが特に有利であり、現像液の活性
度の低下を補充液で保証する方法が好ましい。補充方式
としては公知の技術が用いられる。例えば、特開昭55
−115039号公報記載のPS版の処理および経時に
よる現像性の劣化を連続または間欠的に補充する方法、
特開昭58−95349号公報記載の現像ゾーンの途中
で感光層の溶出度をセンサーで検出し、溶出度の低下に
応じて補充液を補充する方法、特開平1−21451
号、同1−180548号記載の測定した現像液のイン
ピーダンス値をコンピューター処理し、検出された現像
液の劣化に応じて補充する方法などが好適に用いられ
る。
【0059】このようにして現像処理されたPS版は水
洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガム
や澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。また
さらに、これらの処理を種々組み合わせて用いることも
できる。近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化お
よび標準化のため、PS版用の自動現像機が広く用いら
れている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部
からなり、PS版を搬送する装置と、各処理液槽および
スプレー装置からなり、露光済みのPS版を水平に搬送
しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズ
ルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近
は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールな
どによってPS版を浸漬搬送させて処理する方法も知ら
れている。このような自動処理においては、各処理液に
処理量や稼働時間等に応じて各補充液を補充しながら処
理することができる。また、本発明の現像液は実質的に
未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式に
も適用できる。このような処理によって得られた平版印
刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用
いられる。
【0060】
【発明の効果】本発明の現像液及び現像補充液は、現像
安定性、保存安定性、現像処理能力にすぐれ、発泡性が
低く、ネガ型及びポジ型PS版を共通に処理することが
できる。
【0061】
【実施例】以下実施例をもって本発明を詳細に説明す
る。 実施例1 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリ
ウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流
水で水洗後20%HNO3 で中和洗浄、水洗した。これ
をVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用
いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2 の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定
したところ0.6μ(Ra表示)であった。ひきつづいて
30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し55℃で2分間デ
スマットした後、20%H2 SO4 水溶液中で、砂目立
てした面に陰極を配置して、電流密度2A/dm2 におい
て厚さが2.7g/m2になるように陽極酸化し、基板を作
製した。尚、この時の裏面の陽極酸化皮膜はアルミニウ
ム板の中央部で約0.2g/m2、端部で約0.5g/m2であ
った。このように処理された基板の裏面に下記のゾル−
ゲル反応液をバーコーターで塗布し、100℃で1分間
乾燥し、乾燥後の塗布量が50mg/m2のバックコート層
を設けた基板を作製した。 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート 50 重量部 水 21.6重量部 メタノール 10.8重量部 硝酸 0.05重量部 上記成分を混合、攪はんすると約5分で発熱した。10
分間反応させた後、メタノールを700重量部加えるこ
とによりバックコート塗布液を調製した。続いて、上記
の基板の表面に下記感光液Iを塗布し、乾燥後の塗布重
量が2.5g/m2となるように感光層を設けた。
【0062】 感光液I 1,2−ジアゾナフトキノン−5− スルホニルクロリドとピロガロール −アセトン樹脂とのエステル化物 (米国特許第3,635,709 号明細書の 実施例1に記載されているもの) 45重量部 クレゾールホルムアルデヒドノボラック 樹脂 110重量部 2−(p−メトキシフェニル)−4,6 −ビス(トリクロロメチル)−s−ト リアジン 2重量部 オイルブルー#603 (オリエント化学工業(株)製) 1重量部 メガファック F−177 (大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.4重量部 メチルエチルケトン 1000重量部 プロピレングリコールモノメチル エーテル 1000重量部
【0063】このようにして作製した感光層の表面に下
記の様にしてマット層形成用樹脂液を吹き付けてマット
層を設けたPS版を得た。マット層形成用樹脂液として
メチルメタクリレート/エチルアクリレート/アクリル
酸(仕込重量比65:20:15)共重合体の一部をナ
トリウム塩とした12%水溶液を準備し、回転霧化静電
塗布機で霧化頭回転数25,000rpm 、樹脂液の送液量
は40ml/分、霧化頭への印加電圧は−90kv 、塗布
時の周囲温度は25℃、相対湿度は50%とし、塗布後
2.5秒で塗布面に蒸気を吹き付けて湿潤させ、ついで湿
潤した3秒後に温度60℃、湿度10%の温風を5秒間
吹き付けて乾燥させた。マットの高さは平均約6μm、
大きさは平均径30μm、塗布量は150mg/m2であっ
た。このようにして得られたPS版を1,003mm×80
0mmの大きさに裁断したものを多数枚用意し、これらに
原稿フィルムを通して1mの距離から3kw のメタルハ
ライドランプを用いて、60秒間露光した。次に下記の
現像液1及び現像補充液1の濃縮原液を準備した。これ
らの濃縮原液は60℃、1ケ月の強制経時テストでも濁
りや分離が起こるようなことはなかった。
【0064】 現像液原液1 〔SiO2 〕/〔K2 O〕モル比1.2、 SiO2 12.2重量%のケイ酸カリ ウム水溶液 1000重量部 ポリオキシエチレン(付加モル数n= 12)ソルビトール 2重量部 現像補充液原液1 〔SiO2 〕/〔K2 O〕モル比0.8、 SiO2 11.4重量%のケイ酸カリ ウム水溶液 1000重量部 ポリオキシエチレン(付加モル数n= 12)ソルビトール 4重量部
【0065】浸漬型現像槽を有する市販の自動現像機P
S−900NP(富士写真フィルム(株)製)の現像槽
に、上記の現像液原液1を水道水で9倍に希釈した現像
液を22リットル仕込んだ。別に、現像補充液原液供給
タンクには上記の現像補充液原液1を5リットル入れ
た。この様な条件の下で、前述の露光済みのPS版を、
1日当り100版づつ、1ケ月間処理した。尚、この
間、PS版の処理および空気中の炭酸ガスによる現像液
活性度の低下をPS−900NPに内蔵されている電導
度センサーで検出し、コンピューターによるフィードバ
ック方式により、現像補充液原液1に対して水5の比率
で現像補充液を補充することにより現像液の活性度を一
定に保った。活性度チェックはステップタブレット(1
段の光学濃度差が0.15で15段のもの)を用いて段階
的に光量を変化させて前記PS版に焼き付けたものを現
像し、その版上の光量に対応して残った画像の段数を読
み取り、処理開始時の段数と比較することによって行っ
た。1ケ月間のテストの間中、ステップタブレットのベ
タ部(画像残存部)の段数は11段を維持し、発泡のた
め現像槽が汚れることもなく、安定した処理が維持され
た。また現像補充液の補充量は平均43ml/m2と少な
く、且つ、処理後現像槽から現像液を抜き取った時の槽
の底に不溶物の堆積はみられなかった。
【0066】実施例2 実施例1において下記現像液および現像補充液以外は、
実施例1と全く同様の処理を行った。
【0067】 現像液原液2 〔SiO2 〕/〔K2 O〕モル比1.4、 SiO2 14.4重量%のケイ酸カリ ウム水溶液 1000重量部 ポリオキシエチレン(付加モル数n= 10)ジグリセリン 2重量部 現像補充液原液2 〔SiO2 〕/〔K2 O〕モル比1.1、 SiO2 12.5重量%のケイ酸カリ ウム水溶液 1000重量部 ポリオキシエチレン(付加モル数n= 10)ジグリセリン 4重量部 なお、実施例1と同じ強制経時テストでも濃縮原液に濁
りや分離はなかった。1ケ月間のテスト中、ベタ部の段
数は11段を維持し、発泡もなく、安定した処理が維持
された。なお補充量は平均45ml/m2であった。テスト
終了後、現像液を抜きとった時の槽の底に堆積物はなか
った。
【0068】比較例1 現像補充液原液にポリオキシエチレン(付加モル数n=
12)ソルビトールを添加しなかった以外は実施例1と
全く同様の処理を行ったところ、ステップタブレットの
ベタ部の段数は処理スタート時は11段であったが、徐
々に上がり、1ケ月後は13.5段になり、細線の細りや
焼きボケを生じた。 比較例2 実施例1の現像補充液原液のポリオキシエチレン(付加
モル数n=12)ソルビトールの代わりにポリオキシエ
チレン・ポリオキシプロピレンブロック重合型界面活性
剤(商品名プルロニックP−85、旭電化工業(株)
製)を1重量部添加したが、完全に溶解せずオイル玉状
に液面に浮いた。したがって現像液、現像補充液共濃縮
液とせず使用時の濃度で調整を行った。それ以外の点
は、実施例1と同様にして処理を行った。ステップタブ
レットのベタ部の段数は処理スタート時は11段であっ
たが、徐々に下がり、1ケ月後には9段となり、フィル
ムエッジや印刷時の細線の太りを生じた。
【0069】実施例3 厚さ0.2mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400
メッシュのパミストンの水懸濁液を用いてその表面を砂
目立てした後、良く水で洗浄した。10%水酸化ナトリ
ウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流
水で水洗後、これをVA =12.7Vの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロ
ン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引
き続いて30%の硫酸水溶液に浸漬して、55℃で2分
間デスマットした後、20%硫酸水溶液中、電流密度2
A/dm2 において厚さが1.5g/m2になるように陽極酸
化し、その後、70℃、2%の3号ケイ酸ナトリウム水
溶液で親水化処理を行った。次に、下記感光液IIを準備
し、先の砂目立てした基板上に乾燥後の重量にして、1.
5g/m2 となるように塗布し、80℃で2分間乾燥す
ることによりネガ型PS版を得た。
【0070】 感光液II メチルメタクリレート/N−〔6−(メタクリロイル オキシ)ヘキシル〕−2,3−ジメチルマレイミド /メタクリル酸=10/60/30(モル比)共重 合体〔Mw=3.5×104 (GPC)Tg=約40 ℃(DSC)〕 5 重量部 3−エトキシカルボニル−7−メチル−チオキサント ン 0.25重量部 4−ジアゾジフェニルアミンとフェノキシ酢酸のホル ムアルデヒド共縮合物のドデシルベンゼンスルホン 酸塩 0.20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 50重量部 メチルエチルケトン 50重量部 メガファックF−177 (大日本インキ化学(株)製、フッ素系ノニオン系 界面活性剤) 0.03重量部 ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学製) 0.10重量部
【0071】このようにして得られたネガ型PS版を1,
003mm×800mmの大きさに裁断したものを多数枚用
意し、これらに原稿フィルムを通して1mの距離から3
kwのメタルハライドランプを用いて、40秒間露光し
た後、実施例1に示した自動現像機および現像条件で実
施例1のポジ型PS版と共通処理を行った。なお、ネガ
型PS版とポジ型PS版は交互に処理した。処理量はネ
ガ、ポジ合わせて1日100枚であった。その結果、ネ
ガ型PS版の現像性も良好で、ポジ型PS版のベタ部の
段数は11段に維持されていた。なお補充量は平均40
ml/m2であり、テスト後の槽の底の堆積物もなかった。
【0072】比較例3 現像補充液原液にポリオキシエチレン(付加モル数n=
12)ソルビトールを添加しなかった以外は実施例3と
全く同様の処理を行ったところ、ネガ型PS版は処理ス
タート時は現像できたが、徐々に現像性が劣ってきて、
1ケ月後には現像不良を生じた。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−2271(JP,A) 特開 平3−38647(JP,A) 特開 平2−39157(JP,A) 特開 昭59−84241(JP,A) 特開 平1−287651(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/32

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 SiO2 /M2 O(Mはアルカリ金属を
    示す)のモル比が0.5〜2.0の珪酸アルカリ金属塩と、
    水酸基を4以上有する糖アルコールに5モル以上のエチ
    レンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシ
    ド付加化合物を含有することを特徴とする感光性平版印
    刷版用の現像液。
  2. 【請求項2】 SiO2 /M2 O(Mはアルカリ金属を
    示す)のモル比が0.3〜1.5の珪酸アルカリ金属塩と、
    水酸基を4以上有する糖アルコールに5モル以上のエチ
    レンオキシドを付加して得られる水溶性エチレンオキシ
    ド付加化合物を含有することを特徴とする感光性平版印
    刷版用の現像補充液。
JP7158993A 1993-03-30 1993-03-30 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液 Expired - Fee Related JP3086354B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7158993A JP3086354B2 (ja) 1993-03-30 1993-03-30 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液
GB9405242A GB2276729B (en) 1993-03-30 1994-03-17 Developers and replenishers for presensitised plates
DE19944411176 DE4411176B4 (de) 1993-03-30 1994-03-30 Entwickler für PS-Platten und Ergänzungsflüssigkeiten für Entwickler

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7158993A JP3086354B2 (ja) 1993-03-30 1993-03-30 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06282079A JPH06282079A (ja) 1994-10-07
JP3086354B2 true JP3086354B2 (ja) 2000-09-11

Family

ID=13465018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7158993A Expired - Fee Related JP3086354B2 (ja) 1993-03-30 1993-03-30 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP3086354B2 (ja)
DE (1) DE4411176B4 (ja)
GB (1) GB2276729B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0555148U (ja) * 1991-12-27 1993-07-23 コニカ株式会社 簡易型カメラ
EP2251195A1 (en) 2009-05-15 2010-11-17 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL9400920A (nl) * 1994-06-07 1996-01-02 Davatech Europ V O F Ontwikkelaarsamenstelling voor positiefwerkende lithografische drukplaten en werkwijze voor het ontwikkelen van positiefwerkende lithografische drukplaten.
EP0732628A1 (en) * 1995-03-07 1996-09-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous alkaline solution for developing offset printing plate
US5766826A (en) * 1996-10-11 1998-06-16 Eastman Kodak Company Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US5897985A (en) * 1996-10-11 1999-04-27 Kodak Polychrome Graphics, Llc Potassium silicate developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US5811221A (en) * 1997-05-30 1998-09-22 Kodak Polychrome Graphics, Llc Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
TW459162B (en) * 1997-08-01 2001-10-11 Shipley Co Llc Photoresist composition
US5998102A (en) * 1997-10-06 1999-12-07 Agfa Corporation Etch inhibitors in developer for lithographic printing plates
DE69905959T2 (de) 1998-04-06 2003-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
US6143479A (en) * 1999-08-31 2000-11-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates
US6255042B1 (en) 1999-11-24 2001-07-03 Kodak Polychrome Graphics, Llc Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates with different interlayers
JP2002062663A (ja) * 2000-08-14 2002-02-28 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の品質管理方法
DE60039609D1 (de) * 2000-11-03 2008-09-04 Kodak Graphic Comm Gmbh Verfahren zum Entwickeln belichteter strahlungsempfindlicher Druckplattenvorläufer
US6391530B1 (en) 2000-11-03 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics, Llc Process for developing exposed radiation-sensitive printing plate precursors
US6541188B2 (en) 2001-05-11 2003-04-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Developer for alkaline-developable lithographic printing plates
US6649319B2 (en) * 2001-06-11 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method of processing lithographic printing plate precursors
US6562555B2 (en) * 2001-08-01 2003-05-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing lithographic printing plate precursors using a coating attack-suppressing agent
JP4514370B2 (ja) * 2001-08-03 2010-07-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製版方法
JP2003315987A (ja) 2002-02-21 2003-11-06 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法
TW200307856A (en) * 2002-05-07 2003-12-16 Shipley Co Llc Residue reducing stable concentrate
US6849372B2 (en) 2002-07-30 2005-02-01 Kodak Polychrome Graphics Method of manufacturing imaging compositions
CN1846172A (zh) * 2003-09-01 2006-10-11 株工会社新克 正型感光性组合物用显影液
EP2002987B1 (en) * 2007-06-13 2014-04-23 Agfa Graphics N.V. A method for treating a lithographic printing plate
JP2011090282A (ja) 2009-09-25 2011-05-06 Fujifilm Corp 感光性平版印刷版の製版処理廃液の処理方法
WO2012111238A1 (ja) * 2011-02-16 2012-08-23 東洋紡績株式会社 印刷版用現像液組成物、現像液および印刷原版の製造方法
JP5714544B2 (ja) 2011-09-15 2015-05-07 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2543742B2 (ja) * 1988-04-07 1996-10-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型フオトレジスト用現像液
JP2533793B2 (ja) * 1988-06-17 1996-09-11 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP2538793B2 (ja) * 1988-07-29 1996-10-02 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の現像液

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0555148U (ja) * 1991-12-27 1993-07-23 コニカ株式会社 簡易型カメラ
EP2251195A1 (en) 2009-05-15 2010-11-17 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06282079A (ja) 1994-10-07
GB2276729A (en) 1994-10-05
GB2276729B (en) 1996-08-14
GB9405242D0 (en) 1994-04-27
DE4411176B4 (de) 2007-08-30
DE4411176A1 (de) 1994-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3086354B2 (ja) 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液
JP2907643B2 (ja) 感光性平版印刷版およびその処理方法
JP2739395B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP3276422B2 (ja) 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JP3707630B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3707631B2 (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP2967009B2 (ja) 感光性平版印刷版
JPH11133593A (ja) 感光性組成物
JPH06332155A (ja) 感光性平版印刷版
JPH11109637A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JP3117313B2 (ja) 感光性平版印刷版および平版印刷版の製造方法
JPH06230563A (ja) 感光性平版印刷版および平版印刷版の製造方法
JP3032099B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2000181053A (ja) 感光性平版印刷版
JP2000241962A (ja) 感光性平版印刷版
JPH09244227A (ja) 平版印刷版の製造方法
JP4054268B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP4020803B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2808206B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP3580439B2 (ja) 感光性平版印刷版用現像液および現像補充液
JP2984713B2 (ja) 感光性複写材料およびその処理方法
JP2002214791A (ja) 感光性平版印刷版
JPH06273938A (ja) 感光性平版印刷版の現像処理廃液の pH低下方法
JPH06236023A (ja) 感光性平版印刷版
JP3272174B2 (ja) 平版印刷版の製版方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080707

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080707

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees