WO2022163777A1 - 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 - Google Patents

機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 Download PDF

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Abstract

支持体、画像記録層、及び、オーバーコート層をこの順で有し、上記オーバーコート層が、無機化合物を含まないか、無機化合物の含有量が、上記オーバーコート層の全質量に対し、０質量％を超え１質量％未満であり、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、オイル剤を含む機上現像型平版印刷版原版、並びに、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法。

Description

機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法
　本開示は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。
　一般に、平版印刷版は、印刷過程でインクを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インクが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインク受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部（インク非受容部）として、平版印刷版の表面にインクの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインクを着肉させた後、紙などの被印刷体にインクを転写して印刷する方法である。
　この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層（画像記録層）を設けてなる平版印刷版原版（ＰＳ版）が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
　また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
　上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化、無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
　本開示において、このような機上現像に用いることができる平版印刷版原版を、「機上現像型平版印刷版原版」という。
　従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献１又は２に記載されたものが挙げられる。
　特許文献１には、親水化されたアルミニウム支持体上に、水溶性又は水分散性のネガ型画像記録層を有し、上記画像記録層を有する側と反対の側におけるオーバーコート層表面の算術平均高さＳ ａ が、０．３μｍ以上２０μｍ以下であり、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、及び、熱可塑性ポリマー粒子を含む平版印刷版原版が記載されている。
　特許文献２には、基板、及び、上記基板上に画像形成層を備え、上記画像形成層がインキ及び湿し水の一方、又は、インキ及び湿し水の両方によって除去可能である平版印刷版原版であって、上記画像形成層が、（Ａ）少なくとも１種のラジカル重合開始剤、及び、（Ｂ）少なくとも１種のラジカル重合性基、並びに、少なくとも１つのウレタン結合及び少なくとも２つの別個の尿素結合、又は、少なくとも１つの尿素結合及び少なくとも２つの別個のウレタン結合を有するラジカル重合性化合物を含む、平版印刷版原版が記載されている。
　また、従来の平版印刷版の作製方法としては、例えば、特許文献３に記載されたものが挙げられる。
　特許文献３には、支持体上に画像記録層を有するポジ型平版印刷版原版を、画像様に露光する露光工程と、露光された上記ポジ型平版印刷版原版を、現像液を用いて現像し、画像部と非画像部とを形成する現像工程と、をこの順で含み、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、並びに、酸基及び塩基基を有するポリマーＡを含むか、又は、酸基を有するポリマーＢ及び塩基基を有するポリマーＣの両方を含み、上記画像記録層中に含まれるポリマーの全質量に対する、上記ポリマーＡの含有量、又は、上記ポリマーＢ及び上記ポリマーＣの合計含有量が１０質量％以上であり、上記ポリマーＡ又は上記ポリマーＢが有する酸基のｐＫａが９以下であり、上記現像工程後に、現像された平版印刷版原版を水洗する水洗工程を含まない、平版印刷版の作製方法が記載されている。
　　特許文献１：特開２０１９－６４２６９号公報
　　特許文献２：特開２０１６－１５５２７１号公報
　　特許文献３：特開２０２０－１６０３４８号公報
　本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、紫外線硬化型インキ（ＵＶインキ）耐刷性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性に優れる機上現像型平版印刷版原版を提供することである。
　本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。
　上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞　支持体、画像記録層、及び、オーバーコート層をこの順で有し、上記オーバーコート層が、無機化合物を含まないか、無機化合物の含有量が、上記オーバーコート層の全質量に対し、０質量％を超え１質量％未満であり、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、オイル剤を含む機上現像型平版印刷版原版。
＜２＞　上記オイル剤が、沸点が３００℃以上であるオイル剤を含む＜１＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜３＞　上記オイル剤が、異なる構造を有する２種以上のオイル剤を含む＜１＞又は＜２＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜４＞　上記オイル剤のｃｌｏｇＰ値が、５．０以上である＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜５＞　上記オイル剤が、芳香環を有するオイル剤を含む＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜６＞　上記オイル剤が、リン原子を有するオイル剤を含む＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜７＞　上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤を含む＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜８＞　上記電子供与型重合開始剤が、ボレート化合物である＜７＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜９＞　上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である、＜７＞又は＜８＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１０＞　上記重合開始剤が、電子受容型重合開始剤を含み、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１１＞　上記重合性化合物が、７官能以上の重合性化合物を含む＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１２＞　上記重合性化合物が、１０官能以上の重合性化合物を含む＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１３＞　上記画像記録層が、ポリマー粒子を更に含む＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１４＞　上記オーバーコート層が、親水性ポリマーを含む＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１５＞　上記親水性ポリマーが、セルロース誘導体を含む＜１４＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１６＞　上記重合性化合物が、２官能以下の重合性化合物を含む＜１＞～＜１５＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１７＞　上記電子受容型重合開始剤が、下記式（II）で表される化合物を含む＜１０＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（II）中、ＸＡはハロゲン原子を表し、ＲＡはアリール基を表す。
＜１８＞　上記画像記録層が、ポリビニルブチラールを更に含む＜１＞～＜１７＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜１９＞　上記オーバーコート層が、疎水性ポリマーを含む＜１＞～＜１８＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２０＞　上記疎水性ポリマーが、疎水性ポリマー粒子である＜１９＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２１＞　上記オーバーコート層が、変色性化合物を更に含む＜１＞～＜２０＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２２＞　上記変色性化合物が、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む＜２１＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２３＞　上記変色性化合物が、シアニン色素である＜２１＞又は＜２２＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２４＞　上記変色性化合物が、下記式１－１で表される化合物である＜２１＞～＜２３＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式１－１中、Ｒ１は下記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表し、Ｒ１１～Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ、又は－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒａ～Ｒｅは、それぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ａ１、Ａ２及び複数のＲ１１～Ｒ１８が連結して単環又は多環を形成してもよく、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、ｎ１１及びｎ１２はそれぞれ独立に、０～５の整数を表し、但し、ｎ１１及びｎ１２の合計は２以上であり、ｎ１３及びｎ１４はそれぞれ独立に、０又は１を表し、Ｌは酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式２－１～式４－１中、Ｒ２０、Ｒ３０、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚｂは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、上記式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
＜２５＞　上記変色性化合物が、下記式１－２で表される化合物である＜２１＞～＜２４＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式１－２中、Ｒ１は上記式２～式４のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に、水素原子、又は、－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２３とＲ２４は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
＜２６＞　上記変色性化合物が、下記式１－３～式１－７のいずれかで表される化合物である＜２１＞～＜２５＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式１－３～式１－７中、Ｒ１は上記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２５及びＲ２６はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２５とＲ２６は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
＜２７＞　上記式１－２～式１－７におけるＷ１及びＷ２はそれぞれ独立に、置換基を有するアルキル基であり、かつ、上記置換基として、－ＯＣＨ２ＣＨ２－、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又は、カルボキシ基の塩を少なくとも有する基である＜２５＞又は＜２６＞に記載の機上現像型平版印刷版原版。
＜２８＞　＜１＞～＜２７＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む平版印刷版の作製方法。
＜２９＞　＜１＞～＜２７＞のいずれか１つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む平版印刷方法。
　本開示の一実施形態によれば、ＵＶインキ耐刷性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性に優れる機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
　また、本開示の他の実施形態によれば、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。
本開示に好適に用いられるアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。
　以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、数値範囲を示す「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
　また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。　また、本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
　特に限定しない限りにおいて、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位は、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上を併用してもよいものとする。
　更に、本開示において組成物中の各成分、又は、ポリマー中の各構成単位の量は、組成物中に各成分、又は、ポリマー中の各構成単位に該当する物質又は構成単位が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質、又は、ポリマー中に存在する該当する複数の各構成単位の合計量を意味する。
　更に、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ　ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ　Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶媒ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
　本開示において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は２色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
　本開示において、「耐刷性に優れる」とは、平版印刷版の印刷可能な枚数が多いことをいい、印刷の際のインキとして紫外線硬化型インキ（ＵＶインキ）を用いた場合の耐刷性を、以下、「ＵＶインキ耐刷性」又は単に「ＵＶ耐刷性」ともいう。
　以下、本開示を詳細に説明する。
（機上現像型平版印刷版原版）
　本開示に係る機上現像型平版印刷版原版（単に「平版印刷版原版」ともいう。）は、支持体、画像記録層、及び、オーバーコート層をこの順で有し、上記オーバーコート層が、無機化合物を含まないか、無機化合物の含有量が、上記オーバーコート層の全質量に対し、０質量％を超え１質量％未満であり、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、オイル剤を含む。
　また、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、ネガ型平版印刷版原版であっても、ポジ型平版印刷版原版であってよいが、ネガ型平版印刷版原版であることが好ましい。
　従来の機上現像型平版印刷版原版において、ＵＶインキ耐刷性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の少なくとも１つが十分でない場合があることを本発明者らは見出した。
　本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとることにより、ＵＶインキ耐刷性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性に優れる機上現像型平版印刷版原版を提供できることを見出した。
　上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
　上記オーバーコート層が、無機化合物を含まないか、無機化合物の含有量が、上記オーバーコート層の全質量に対し、０質量％を超え１質量％未満であり、かつ上記画像記録層が、オイル剤を含むことにより、オーバーコート層中の無機化合物による湿し水濁りを抑制するとともに、オイル剤により上記画像記録層をより疎水化することができ、上記画像記録層及びその成分の湿し水への溶解及び分散を抑制でき、また、オイル剤の含有により上記画像記録層の疎水性を維持しつつ、可塑効果により上記画像記録層への湿し水の浸透性が向上し、高いＵＶインキ耐刷性を付与しつつ機上現像性にも優れると推定している。
　以下、本開示に係る平版印刷版原版における各構成要件の詳細について説明する。
＜画像記録層＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、支持体、画像記録層、及び、オーバーコート層をこの順で有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、オイル剤を含む。
〔オイル剤〕
　上記画像記録層は、オイル剤を含む。
　本開示におけるオイル剤は、８０℃において液体状態であり、かつ同じ質量の水と混合した際に混和せず分離する疎水的な化合物をいうものとする。
　なお、２種以上のオイル剤を用いる場合は、融点が８０℃以上の化合物を含んでいても、２種以上のオイル剤を混合した状態において、８０℃において液体状態であればよい。
　また、上記オイル剤は、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、分子量１，０００未満の化合物であることが好ましく、分子量２００～８００の化合物であることがより好ましく、分子量３００～５００の化合物であることが特に好ましい。
　更に、上記オイル剤は、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、１気圧における沸点が２００℃以上の化合物であることが好ましく、１気圧における沸点が２５０℃以上の化合物であることがより好ましく、１気圧における沸点が３００℃以上の化合物であることが更に好ましく、１気圧における沸点が４００℃以上５００℃以下の化合物であることが特に好ましい。
　なお、本開示において、特に断りなく「沸点」という場合は、１気圧における沸点であるものとする。
　また、上記オイル剤の１気圧における融点は、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、５０℃以下であることが好ましく、３０℃以下であることがより好ましく、－２００℃以上２５℃以下であることが特に好ましい。
　なお、本開示において、特に断りなく「融点」という場合は、１気圧における融点であるものとする。
　上記オイル剤としては、リン酸エステル化合物、芳香族炭化水素化合物、グリセリド化合物、脂肪酸化合物、芳香族エステル化合物等が挙げられる。
　中でも、ＵＶ耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、リン酸エステル化合物、芳香族炭化水素化合物、グリセリド化合物、芳香族エステル化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が好ましく、リン酸エステル化合物、芳香族炭化水素化合物、及び、グリセリド化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物がより好ましく、リン酸エステル化合物、及び、芳香族炭化水素化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましく、リン酸エステル化合物が特に好ましい。
　リン酸エステル化合物としては、ＵＶ耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、リン酸トリエステル化合物が好ましく、リン酸トリアリールエステル化合物がより好ましく、リン酸トリクレジルであることが更に好ましく、リン酸トリクレジルのオルト体、メタ体及びパラ体の３種のうちの２種以上の混合物が特に好ましい。
　芳香族炭化水素化合物としては、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、芳香環を２以上有する化合物が好ましく、縮環していないベンゼン環を２以上有する化合物であることがより好ましい。
　グリセリド化合物としては、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、トリグリセリド化合物が好ましく、脂肪油であることがより好ましく、ひまし油等の２５℃で液体である脂肪油が特に好ましい。
　脂肪酸化合物としては、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、不飽和脂肪酸が好ましく、炭素数８～３０の不飽和脂肪酸がより好ましく、炭素数１２～２４の不飽和脂肪酸が特に好ましい。
　芳香族エステル化合物としては、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、芳香族ジエステル化合物が好ましく、脂肪族環を有する芳香族ジエステル化合物がより好ましい。
　脂肪族エステル化合物としては、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、分岐アルキル基を有する脂肪族エステル化合物が好ましく、分岐アルキル基を有し、かつ炭素数１０～２４である脂肪族エステル化合物がより好ましい。
　上記オイル剤としては、ＵＶ耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、リン原子を有するオイル剤を含むことが好ましく、リン原子を有するオイル剤であることがより好ましい。
　また、上記オイル剤としては、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、芳香環を有するオイル剤を含むことが好ましく、芳香環を２以上有するオイル剤を含むことがより好ましく、縮環していないベンゼン環を２以上有するオイル剤を含むことが特に好ましい。
　上記オイル剤のｃｌｏｇＰ値は、ＵＶ耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、５．０以上であることが好ましく、５．５０以上であることがより好ましく、５．５０以上１０．０以下であることが更に好ましく、５．６０以上７．００以下であることが特に好ましい。
　ｃｌｏｇＰ値とは、１－オクタノールと水との分配係数Ｐの常用対数ｌｏｇＰを計算によって求めた値である。ｃｌｏｇＰ値の計算に用いる方法やソフトウェアについては公知の物を用いることができるが、特に断らない限り、本開示ではＣａｍｂｒｉｄｇｅ　ｓｏｆｔ社のＣｈｅｍＢｉｏＤｒａｗ　Ｕｌｔｒａ　１２．０に組み込まれたＣｌｏｇＰプログラムを用いることとする。
　上記オイル剤として具体的には、例えば、リン酸トリクレジル、ジメチル（１－フェニルエチル）ベンゼン、２，４－ジフェニル－４－メチル－１－ペンテン、ジシクロヘキシルフタレート、ひまし油（castor oil）、α－リノレン酸、リン酸トリ（２－エチルヘキシル）等が挙げられる。
　上記オイル剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよいが、上記画像記録層は、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、異なる構造を有する２種以上のオイル剤を含むことが好ましい。
　上記オイル剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．０００１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．０００２質量％～１．０質量％がより好ましく、０．０００５質量％～０．５質量％が更に好ましく、０．００１質量％～０．０５質量％が特に好ましい。
〔赤外線吸収剤〕
　本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤を含む。
　赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
　赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
　これらの染料のうち好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。より好ましくは、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。
　上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素原子、窒素原子、又はハロゲン原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。
　シアニン色素の具体例としては、特開２００１－１３３９６９号公報の段落００１７～００１９に記載の化合物、特開２００２－０２３３６０号公報の段落００１６～００２１、特開２００２－０４０６３８号公報の段落００１２～００３７に記載の化合物、好ましくは特開２００２－２７８０５７号公報の段落００３４～００４１、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００８０～００８６に記載の化合物、特に好ましくは特開２００７－９０８５０号公報の段落００３５～００４３に記載の化合物、特開２０１２－２０６４９５号公報の段落０１０５～０１１３に記載の化合物が挙げられる。
　また、特開平５－５００５号公報の段落０００８～０００９、特開２００１－２２２１０１号公報の段落００２２～００２５に記載の化合物も好ましく使用することができる。　顔料としては、特開２００８－１９５０１８号公報の段落００７２～００７６に記載の化合物が好ましい。
　また、上記赤外線吸収剤としては、オーバーコート層の変色性化合物として後述する赤外線露光に起因して分解する分解性化合物も好適に用いられる。
　上記赤外線吸収剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、耐刷性及び視認性の観点から、－５．２５０ｅＶ以下であることが好ましく、－５．３０ｅＶ以下であることがより好ましく、－５．８０ｅＶ以上－５．３５ｅＶ以下であることが更に好ましく、－５．６５ｅＶ以上－５．４０ｅＶ以下であることが特に好ましい。
　上記赤外線吸収剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、経時安定性、感度の向上及びＵＶ耐刷性の観点から、－３．７０ｅＶより小さいことが好ましく、－３．８０ｅＶより小さいことがより好ましく、－４．２０ｅＶ以上－３．８０ｅＶ未満であることが更に好ましく、－４．００ｅＶ以上－３．８０ｅＶ未満であることが特に好ましい。
　赤外線吸収剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよいが、画像記録層は、ＵＶ耐刷性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、赤外線吸収剤を２種以上含むことが好ましく、２種～４種含むことがより好ましく、２種含むことが特に好ましい。
　また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
　赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～１０．０質量％が好ましく、０．５質量％～５．０質量％がより好ましい。
〔重合開始剤〕
　本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、重合開始剤を含む。
　上記重合開始剤としては、電子供与型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤及び電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
　また、画像記録層は、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、重合開始剤を更に含み、上記露光による分解物が、上記重合開始剤の露光による分解物であることが好ましく、電子供与型重合開始剤を更に含み、上記露光による分解物が、上記電子供与型重合開始剤の露光による分解物であることがより好ましい。
〔電子供与型重合開始剤（重合助剤）〕
　本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤（「重合助剤」ともいう。）を更に含むことが好ましい。
　電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
　電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　上記電子供与型重合開始剤は、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、ホウ素化合物を含むことが好ましく、ボレート化合物を含むことがより好ましく、テトラアリールボレート化合物を含むことが更に好ましく、テトラフェニルボレート化合物を含むことが特に好ましい。
　ボレート化合物としては、耐刷性及び視認性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
　また、ボレート化合物としては、耐刷性及び視認性の観点から、１つ以上の電子供与性基又は電子求引性基を有するテトラアリールボレート化合物であることが好ましく、１つの電子供与性基又は電子求引性基を各アリール基に有するテトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
　上記電子供与性基としては、耐刷性及び視認性の観点から、アルキル基、又は、アルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましい。
　上記電子求引性基としては、分解性及び視認性の観点から、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アシル基、カルボキシ基等が挙げられる。
　ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
　また、ボレート化合物が有する対カチオンとしては、本明細書に記載している赤外吸収剤において、カチオン性のポリメチン色素であってもよい。例えば、シアニン色素の対カチオンとして上記ボレート化合物を用いてもよい。
　ボレート塩化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。
　以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、Ｂ－１～Ｂ－９を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｂｕはｎ－ブチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　また、電子供与型重合開始剤の最高被占軌道（ＨＯＭＯ）は、感度の向上の観点から、－６．００ｅＶ以上であることが好ましく、－５．９５ｅＶ以上であることがより好ましく、－５．９３ｅＶ以上であることが更に好ましく、－５．９０ｅＶより大きいことが特に好ましい。
　また、上限としては、－５．００ｅＶ以下であることが好ましく、－５．４０ｅＶ以下であることがより好ましい。
　電子供与型重合開始剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、０．０１質量％～３０質量％であることが好ましく、０．０５質量％～２５質量％であることがより好ましく、０．１質量％～２０質量％であることが更に好ましい。
　また、画像記録層における電子供与型重合開始剤の含有量は、ＵＶ耐刷性の観点から、赤外線吸収剤の含有量よりも多いことが好ましく、赤外線吸収剤の含有量の１．１倍～５倍であることがより好ましく、赤外線吸収剤の含有量の１．５倍～３倍であることが特に好ましい。
　本開示において、重合開始剤は、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物であってもよい。
　例えば、本開示において、電子供与型重合開始剤におけるアニオンと電子受容型重合開始剤におけるカチオンとが対塩を形成してなる化合物であることが好ましく、オニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることがより好ましく、ヨードニウムカチオン又はスルホニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが更に好ましく、ジアリールヨードニウムカチオン又はトリアリールスルホニウムカチオンとテトラアリールボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが特に好ましい。
　電子供与型重合開始剤におけるアニオン、及び、電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様としては、既述の電子供与型重合開始剤におけるアニオン及び既述の電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様と同様である。
　画像記録層が、電子供与型重合開始剤であるアニオンと、電子受容型重合開始剤であるカチオンと、を含む場合（つまり、上記対塩を形成している化合物を含む場合）、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
　また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物は、電子供与型重合開始剤として用いてもよいし、電子受容型重合開始剤として用いてもよい。
　また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物は、既述の電子供与型重合開始剤と併用してもよいし、既述の電子受容型重合開始剤と併用してもよい。
　本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤及び電子供与型重合開始剤を更に含み、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値は、感度の向上及び耐刷性の観点から、０．７０ｅＶ以下であることが好ましく、０．６０ｅＶ以下であることがより好ましく、０．５０ｅＶ以下であることが更に好ましく、０．５０ｅＶ～－０．１０ｅＶであることが特に好ましい。
　なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯが、上記赤外線吸収剤のＨＯＭＯよりも高くなることを意味する。
　本開示において、最高被占軌道（ＨＯＭＯ）及び最低空軌道（ＬＵＭＯ）のＭＯ（分子軌道）エネルギー計算は、以下の方法により行う。
　まず、計算対象となる化合物における遊離の対イオンは計算対象から除外する。例えば、カチオン性の一電子受容型重合剤、カチオン性の赤外線吸収剤では対アニオンを、アニオン性の一電子供与型重合剤では対カチオンをそれぞれ計算対象から除外する。ここでいう遊離とは、対象とする化合物とその対イオンが共有結合で連結されていないことを意味する。
　量子化学計算ソフトウェアＧａｕｓｓｉａｎ１６を用い、構造最適化はＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１Ｇ（ｄ））で行う。
　ＭＯエネルギー計算は、上記構造最適化で得た最適構造で量子化学計算ソフトウェアＧａｕｓｓｉａｎ１６を用い、ＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／６－３１＋Ｇ（ｄ，ｐ）／ＰＣＭ（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌ））で行う。なお、ヨウ素を含有する化合物は、ＤＦＴ（Ｂ３ＬＹＰ／ＤＧＤＺＶＰ／ＰＣＭ（ｓｏｌｖｅｎｔ＝ｍｅｔｈａｎｏｌ））条件にて計算する。
　ここでいう最適構造とは、ＤＦＴ計算で得られる全エネルギーが最も安定な構造を意味する。必要に応じて構造最適化を繰り返すことで、最安定構造を見出す。
　上記ＭＯエネルギー計算で得られたＭＯエネルギーＥｂａｒｅ（単位：ｈａｒｔｒｅｅ）を以下の公式により、本開示においてＨＯＭＯ及びＬＵＭＯの値として用いるＥｓｃａｌｅｄ（単位：ｅＶ）へ変換する。
　〔ＨＯＭＯの算出式〕　Ｅｓｃａｌｅｄ＝０．８２３１６８×２７．２１１４×Ｅｂａｒｅ－１．０７６３４
　〔ＬＵＭＯの算出式〕　Ｅｓｃａｌｅｄ＝０．８２０１３９×２７．２１１４×Ｅｂａｒｅ－１．０８６０３９
　なお、２７．２１１４は単にｈａｒｔｒｅｅをｅＶに変換するための係数であり、ＨＯＭＯを算出する際に用いる０．８２３１６８と－１．０７６３４、及び、ＵＭＯを算出する際に用いる０．８２０１３９と－１．０８６０３９とは調節係数であり、計算対象となる化合物のＨＯＭＯとＬＵＭＯの計算が実測の値に合うように定める。
〔電子受容型重合開始剤〕
　本開示における画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を更に含むことが好ましい。
　電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
　電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカル、カチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
　電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
　また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
　更に、電子受容型重合開始剤としては、感度の向上及びＵＶ耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、又は、ハロゲン化アルキル基を有する化合物であることが好ましく、ハロゲン化アルキル基を有する化合物であることがより好ましい。
　また、ハロゲン化アルキル基を有する化合物としては、感度の向上及びＵＶ耐刷性の観点から、パーハロゲノアルキルスルホニル基を有する化合物が好ましく、トリハロゲノメチルスルホニル基を有する化合物がより好ましく、トリブロモメチルスルホニル基を有する化合物であることが特に好ましい。
　上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
　これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
　ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－メトキシフェニル－４－（２－メチルプロピル）フェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－（２－メチルプロピル）フェニル－ｐ－トリルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファート、４－ヘキシルオキシフェニル－２，４－ジエトキシフェニルヨードニウム＝テトラフルオロボラート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝１－ペルフルオロブタンスルホナート、４－オクチルオキシフェニル－２，４，６－トリメトキシフェニルヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファー飛びス（４－ｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム＝ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。
　また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、ｐ－トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
　スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
　また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ま
しい。
　スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例としては、国際公開第２０１９／０１３２６８号に記載されているものが挙げられる。
　また、上記電子受容型重合開始剤としては、露光後の経時視認性、現像性、及び、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、下記式（II）又は式（III）で表される化合物を含むことが好ましく、式（II）で表される化合物を含むことが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（II）及び式（III）中、ＸＡはハロゲン原子を表し、ＲＡ、ＲＡ１及びＲＡ２はそれぞれ独立に、炭素数１～２０の一価の炭化水素基を表す。
　式（II）におけるＲＡは、アリール基であることが好ましい。
　式（II）及び式（III）におけるＸＡとしては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのうち、塩素原子又は臭素原子は、感度に優れるため好ましく、臭素原子が特に好ましい。
　また、式（II）及び式（III）において、ＲＡ、ＲＡ１及びＲＡ２はそれぞれ独立に、アリール基であることが好ましく、中でも、感度と保存安定性とのバランスに優れる観点から、アミド基で置換されているアリール基がより好ましい。
　また、上記電子受容型重合開始剤としては、式（IV）で表される化合物を含むことが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（IV）中、ＸＡはハロゲン原子を表し、ＲＡ３及びＲＡ４はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～２０までの１価の炭化水素基を表し、ｐＡ及びｑＡはそれぞれ独立に、１～５の整数を表す。ただし、ｐＡ＋ｑＡ＝２～６である。
　電子受容型重合開始剤の具体例としては、下記に示す化合物などが挙げられるが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　電子受容型重合開始剤の最低空軌道（ＬＵＭＯ）は、感度の向上の観点から、－３．００ｅＶ以下であることが好ましく、－３．０２ｅＶ以下であることがより好ましい。
　また、下限としては、－３．８０ｅＶ以上であることが好ましく、－３．５０ｅＶ以上であることがより好ましい。
　電子受容型重合開始剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．５質量％～３０質量％であることがより好ましく、０．８質量％～２０質量％であることが特に好ましい。
　本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤及び電子受容型重合開始剤を更に含み、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値が、感度の向上及び耐刷性の観点から、１．００ｅＶ以下であることが好ましく、０．８０ｅＶ以下であることがより好ましく、０．７０ｅＶ以下であることが更に好ましく、０．７０ｅＶ～－０．１０ｅＶ以下であることが特に好ましく、０．７０ｅＶ～０．３０ｅＶであることが最も好ましい。
　なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のＬＵＭＯが、上記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯよりも高くなることを意味する。
〔重合性化合物〕
　本開示における画像記録層は、重合性化合物を含む。
　本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
　重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。また、重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
　ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から（メタ）アクリロイル基が好ましい。
　重合性化合物の分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）は、５０以上２，５００未満であることが好ましい。
　本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物（エチレン性不飽和化合物）であることが好ましい。
　エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を２個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
　中でも、上記重合性化合物としては、ＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、７官能以上の重合性化合物を含むことがより好ましく、１０官能以上の重合性化合物を含むことが更に好ましい。また、上記重合性化合物は、得られる平版印刷版におけるＵＶ耐刷性の観点から、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、３官能以上（好ましくは７官能以上、より好ましくは１０官能以上）の（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
　また、上記重合性化合物としては、機上現像性、及び、汚れ抑制性の観点から、２官能以下の重合性化合物を含むことが好ましく、２官能重合性化合物を含むことがより好ましく、２官能（メタ）アクリレート化合物を含むことが特に好ましい。
　２官能以下の重合性化合物（好ましくは２官能重合性化合物）の含有量は、耐刷性、機上現像性、及び、汚れ抑制性の観点から、上記画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、５質量％～１００質量％であることが好ましく、１０質量％～１００質量％であることがより好ましく、５０％～１００質量％であることが特に好ましい。
＜＜オリゴマー＞＞
　画像記録層に含まれる重合性化合物としては、オリゴマーである重合性化合物（以下、単に「オリゴマー」ともいう。）を含有することが好ましい。
　本開示においてオリゴマーとは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）が６００以上１０，０００以下であり、かつ、重合性基を少なくとも１つ含む重合性化合物を表す。
　耐薬品性、ＵＶ耐刷性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、１，０００以上５，０００以下であることが好ましい。
　また、ＵＶ耐刷性を向上させる観点から、１分子のオリゴマーにおける重合性基数は、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、６以上であることが更に好ましく、１０以上であることが特に好ましい。
　また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は２０以下であることが好ましい。
　ＵＶ耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が７以上であり、かつ、分子量が１，０００以上１０，０００以下であることが好ましく、重合性基の数が７以上２０以下であり、かつ、分子量が１，０００以上５，０００以下であることがより好ましい。
　なお、オリゴマーを製造する過程で生じる可能性のある、ポリマー成分を含有していてもよい。
　ＵＶ耐刷性、視認性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
　本開示においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基（カルボン酸基等）とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。
　オリゴマーの例であるウレタン結合を有する化合物としては、例えば、下記式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式（Ａｃ－１）で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。　　　
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）中、Ｌ１～Ｌ４はそれぞれ独立に、炭素数２～２０の二価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
　Ｌ１～Ｌ４としては、それぞれ独立に、炭素数２～２０のアルキレン基であることが好ましく、炭素数２～１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数４～８のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐又は環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。
　式（Ａｃ－１）又は式（Ａｃ－２）における波線部はそれぞれ独立に、下記式（Ａｅ－１）又は式（Ａｅ－２）で表される基における波線部と直接結合することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　式（Ａｅ－１）及び式（Ａｅ－２）中、Ｒはそれぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し、波線部分は式（Ａｃ－１）及び式（Ａｃ－２）における波線部との結合位置を表す。
　また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。
　例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。
　オリゴマーの例であるエステル結合を有する化合物における重合性基の数は、３以上であることが好ましく、６以上であることが更に好ましい。
　オリゴマーの例であるエポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
　また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、２～６であることが好ましく、２～３であることがより好ましい。
　上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。
　オリゴマーの具体例を下記表に示すが、本開示において用いられるオリゴマーはこれに限定されるものではない。
　オリゴマーとしては、市販品を用いてもよく、ＵＡ５１０Ｈ、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｔ（いずれも共栄社化学（株）製）、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－６３００Ｂ、ＵＶ７６２０ＥＡ（いずれも日本合成化学工業（株）製）、Ｕ－１５ＨＡ（新中村化学工業（株）製）、ＥＢＥＣＲＹＬ４５０、ＥＢＥＣＲＹＬ６５７、ＥＢＥＣＲＹＬ８８５、ＥＢＥＣＲＹＬ８００、ＥＢＥＣＲＹＬ３４１６、ＥＢＥＣＲＹＬ８６０（いずれもダイセルオルネクス（株）製）等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
　オリゴマーの含有量は、耐薬品性、ＵＶ耐刷性、及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましい。
＜＜低分子重合性化合物＞＞
　重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
　オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、２量体、３量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
　また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を３つ以上有する重合性化合物、及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。
　本開示において低分子重合性化合物とは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）５０以上６００未満の重合性化合物を表す。
　低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、１００以上６００未満であることが好ましく、３００以上６００未満であることがより好ましく、４００以上６００未満であることが更に好ましい。
　重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合（２種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量）、耐薬品性、ＵＶ耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比（オリゴマー／低分子重合性化合物）は、質量基準で、１０／１～１／１０であることが好ましく、１０／１～３／７であることがより好ましく、１０／１～７／３であることが更に好ましい。
　また、低分子重合性化合物としては、国際公開第２０１９／０１３２６８号の段落００８２～００８６に記載の重合性化合物も好適に用いることができる。
　重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
　中でも、画像記録層は、ＵＶ耐刷性の観点から、２種以上の重合性化合物を含むことが好ましい。
　重合性化合物の含有量（重合性化合物を２種以上含む場合は、重合性化合物の総含有量）は、画像記録層の全質量に対して、５質量％～７５質量％であることが好ましく、１０質量％～７０質量％であることがより好ましく、１５質量％～６０質量％であることが更に好ましい。
〔粒子〕
　本開示における画像記録層は、現像性、及び、ＵＶ耐刷性の観点から、粒子を更に含むことが好ましい。粒子としては、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。
　中でも、粒子として、有機粒子を含むことが好ましく、樹脂粒子（ポリマー粒子）を含むことがより好ましい。
　無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
＜＜樹脂粒子＞＞
　樹脂粒子としては、例えば、付加重合型樹脂を含む粒子（即ち、付加重合型樹脂粒子）、重付加型樹脂を含む粒子（即ち、重付加型樹脂粒子）、重縮合型樹脂を含む粒子（即ち、重縮合型樹脂粒子）等が挙げられるが、中でも、付加重合型樹脂粒子、又は重付加型樹脂粒子が好ましい。
　また、樹脂粒子としては、熱融着が可能となる観点から、熱可塑性樹脂を含む粒子（即ち、熱可塑性樹脂粒子）であってもよい。
　また、樹脂粒子は、マイクロカプセル、ミクロゲル（即ち、架橋樹脂粒子）等の形態であってもよい。
　樹脂粒子としては、熱可塑性樹脂粒子、熱反応性樹脂粒子、重合性基を有する樹脂粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル（架橋樹脂粒子）よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有する樹脂粒子が好ましい。
　特に好ましい実施形態では、樹脂粒子は少なくとも１つのエチレン性不飽和基を含む。このような樹脂粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
　熱可塑性樹脂粒子としては、１９９２年１月のＲｅｓｅａｒｃｈ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ　Ｎｏ．３３３０３、特開平９－１２３３８７号公報、同９－１３１８５０号公報、同９－１７１２４９号公報、同９－１７１２５０号公報及び欧州特許第９３１６４７号明細書などに記載の熱可塑性樹脂粒子が好ましい。
　熱可塑性樹脂粒子を構成する樹脂の具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。
　熱可塑性樹脂粒子としては、インク着肉性及びＵＶ耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、ニトリル基を有する構成単位を有する樹脂を含むことが好ましい。
　上記芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
　スチレン化合物としては、スチレン、ｐ－メチルスチレン、ｐ－メトキシスチレン、β－メチルスチレン、ｐ－メチル－β－メチルスチレン、α－メチルスチレン、及びｐ－メトキシ－β－メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
　芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インク着肉性の観点から、後述するニトリル基を有する構成単位の含有量よりも多いことが好ましく、樹脂の全質量に対し、１５質量％～８５質量％であることがより好ましく、３０質量％～７０質量％であることが更に好ましい。
　ニトリル基を有する構成単位は、ニトリル基を有するモノマーを用いて導入されることが好ましい。
　ニトリル基を有するモノマーとしては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、（メタ）アクリロニトリルが好適に挙げられる。
　ニトリル基を有する構成単位としては、（メタ）アクリロニトリルにより形成される構成単位が好ましい。
　ニトリル基を有する構成単位の含有量は、インク着肉性の観点から、上記芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量よりも少ないことが好ましく、樹脂の全質量に対し、５５質量％～９０質量％であることがより好ましく、６０質量％～８５質量％であることがより好ましい。
　また、熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂が芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位を含む場合、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位の含有量比（芳香族ビニル化合物により形成される構成単位：ニトリル基を有する構成単位）としては、質量基準で５：５～９：１であることが好ましく、より好ましくは、６：４～８：２である。
　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、ＵＶ耐刷性及び耐薬品性の観点から、Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
　Ｎ－ビニル複素環化合物としては、例えば、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカルバゾール、Ｎ－ビニルピロール、Ｎ－ビニルフェノチアジン、Ｎ－ビニルコハク酸イミド、Ｎ－ビニルフタルイミド、Ｎ－ビニルカプロラクタム、及びＮ－ビニルイミダゾールが挙げられ、Ｎ－ビニルピロリドンが好ましい。
　Ｎ－ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましい。
　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインク着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
　具体的には、熱可塑性樹脂における酸性基を有する構成単位の含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、０質量％であってもよい。
　また、熱可塑性樹脂の酸価は、１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。
　本開示において、酸価はＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２に準拠した測定法により求められる。
　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、インク着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
　上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
　疎水性基を含む構成単位としては、アルキル（メタ）アクリレート化合物、アリール（メタ）アクリレート化合物、又は、アラルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル（メタ）アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂における、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
　親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
　上記親水性基としては、ＵＶ耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。
　上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ（エチレンオキシド／プロピレンオキシド）構造であることが好ましい。
　また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
　上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、２以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましく、５～２００であることが更に好ましく、８～１５０であることが特に好ましい。
　また、機上現像性の観点から、上記親水性基として、後述する式Ｚで表される基が好ましい。
　熱可塑性樹脂が有する親水性基の中でも、下記式ＰＯにより表される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　式ＰＯ中、ＬＰはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、ＲＰは水素原子又はアルキル基を表し、ｎは１～１００の整数を表す。
　式ＰＯ中、ＬＰはそれぞれ独立に、エチレン基、１－メチルエチレン基又は２－メチルエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
　式ＰＯ中、ＲＰは水素原子又は炭素数１～１８のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
　式ＰＯ中、ｎは１～１０の整数が好ましく、１～４の整数がより好ましい。
　親水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、その他の構成単位を更に含有してもよい。その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
　熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂における、その他の構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～３０質量％であることがより好ましい。
　熱反応性樹脂粒子としては、熱反応性基を有する樹脂粒子が挙げられる。熱反応性樹脂粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。
　熱反応性基を有する樹脂粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）、カチオン重合性基（例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など）、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基（例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など）、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
　上記熱反応性基を有する樹脂としては、付加重合型樹脂、重付加型樹脂、又は重縮合型樹脂であってもよいし、熱可塑性樹脂であってもよい。
　マイクロカプセルとしては、例えば、特開２００１－２７７７４０号公報、特開２００１－２７７７４２号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部（好ましくは疎水性化合物）を内包したものが好ましい。樹脂粒子としてマイクロカプセルを含有する画像記録層は、画像記録層の構成成分のうち疎水性成分（即ち、疎水性化合物）をマイクロカプセルに内包し、親水性成分（即ち、親水性化合物）をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
　ミクロゲル（架橋樹脂粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
　画像記録層の構成成分を含むマイクロカプセルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
　ミクロゲル（架橋樹脂粒子）は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
　画像記録層の構成成分を含むミクロゲルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
　樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる重付加型樹脂粒子が好ましい。
　上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
　上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物が更に好ましい。また上記活性水素化合物としては、水を用いることができる。水を用いた場合、イソシアナト基と水との反応によって生じたアミンがウレア結合を形成し、粒子を形成することができる。
　分子中に２個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、国際公開第２０１８０４３２５９号の段落０２３０～０２３４に記載の樹脂粒子が好ましく挙げられる。
　更に、樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、ｉ）上記疎水性主鎖に直接的に結合されたニトリル基を有する構成ユニット、及び、ii）親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型樹脂粒子が好ましい。具体的には、特開２０１９－６４２６９号公報の段落０１５６に記載の粒子が好ましい。
＜＜式Ｚで表される基＞＞
　本開示における樹脂粒子は、親水性基として、下記式Ｚで表される基を有することが好ましい。
　＊－Ｑ－Ｗ－Ｙ　式Ｚ
　式Ｚ中、Ｑは二価の連結基を表し、Ｗは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Ｙは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、Ｗ及びＹのいずれかは親水性構造を有し、＊は他の構造との結合部位を表す。
　また、式Ｚ中に含まれる親水性構造のいずれかが、ポリアルキレンオキシド構造を含むことが好ましい。
　上記式ＺにおけるＱは、炭素数１～２０の二価の連結基であることが好ましく、炭素数１～１０の二価の連結基であることがより好ましい。
　また、上記式ＺにおけるＱは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを２以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
　上記式ＺのＷにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２ＮＲＷ－が結合した基であることが好ましい。なお、ＲＷは、水素原子又はアルキル基を表す。
　上記式ＺのＷにおける疎水性構造を有する二価の基は、－ＲＷＡ－、－Ｏ－ＲＷＡ－Ｏ－、－ＲＷＮ－ＲＷＡ－ＮＲＷ－、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＲＷＡ－Ｏ－、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）－ＲＷＡ－Ｏ－であることが好ましい。なお、ＲＷＡはそれぞれ独立に、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数６～１２０のハロアルキレン基、炭素数６～１２０のアリーレン基、炭素数６～１２０のアルカーリレン基（アルキルアリール基から水素原子を１つ除いた二価の基）、又は、炭素数６～１２０のアラルキレン基を表す。
　上記式ＺのＹにおける親水性構造を有する一価の基は、－ＯＨ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＲＷ）－が結合した基であることが好ましい。中でも、親水性構造を有する一価の基としては、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に－ＣＨ２ＣＨ２Ｎ（ＲＷ）－が結合した基が好ましい。
　上記式ＺのＹにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数６～１２０の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数６～１２０のハロアルキル基、炭素数６～１２０のアリール基、炭素数６～１２０のアルカーリル基（アルキルアリール基）、炭素数６～１２０のアラルキル基、－ＯＲＷＢ、－Ｃ（＝Ｏ）ＯＲＷＢ、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）ＲＷＢであることが好ましい。ＲＷＢは、炭素数６～２０を有するアルキル基を表す。
　上記式Ｚで表される基を有する樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Ｗが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Ｑがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Ｗは、ポリアルキレンオキシ基であり、Ｙが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
　なお、式Ｚで表される基は、樹脂粒子の分散性を高める分散性基として機能してもよい。
　本開示における樹脂粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基（好ましくはエチレン性不飽和基）を有することが好ましく、特に、表面に重合性基を有する樹脂粒子を含むことがより好ましい。重合性基を有する樹脂粒子を用いることで、耐刷性（好ましくはＵＶ耐刷性）が高められる。
　本開示における樹脂粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有する樹脂粒子であることが好ましい。
　上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
　上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基（スチリル基）、（メタ）アクリロキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基がより好ましく、（メタ）アクリロキシ基が特に好ましい。
　また、重合性基を有する樹脂粒子を構成する樹脂は、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
　なお、高分子反応により樹脂粒子の表面に重合性基を導入してもよい。
　また、樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する重付加型樹脂を含むことが好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する重付加型樹脂を含むことがより好ましく、下記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつ、ポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する重付加型樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　式（Ｉｓｏ）中、ｎは０～１０の整数を表す。
　上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、ｎ＝０、４，４－異性体を使用した例である。
　下記に示すように、上記式（Ｉｓｏ）で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する重付加型樹脂が形成される。
　また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物（活性水素を有する化合物）を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造を、ウレア結合を有する重付加型樹脂に導入することもできる。
　上記活性水素を有する化合物としては、既述の活性水素を有する化合物が好ましく挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式（ＰＥＴＡ）で表される基を有することがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　式（ＰＥＴＡ）中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。
＜＜樹脂粒子の合成＞＞
　樹脂粒子の合成法としては、特に制限はなく、既述した各種の樹脂にて粒子を合成しうる方法であればよい。樹脂粒子の合成法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、ソープフリー重合法、マイクロエマルション重合法等の、公知の樹脂粒子の合成法が挙げられる。
　その他、樹脂粒子の合成には、公知のマイクロカプセルの合成法、ミクロゲル（架橋樹脂粒子）の合成法等を用いてもよい。
＜＜粒子の平均粒径＞＞
　粒子の平均粒径は、０．０１μｍ～３．０μｍが好ましく、０．０３μｍ～２．０μｍがより好ましく、０．１０μｍ～１．０μｍが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
　粒子の平均粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で５，０００個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子の円相当径とする。
　なお、本開示における粒子の平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
　粒子（好ましくは樹脂粒子）は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　粒子（好ましくは樹脂粒子）の含有量は、現像性、及び、耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、５質量％～９０質量％が好ましく、１０質量％～９０質量％であることがより好ましく、２０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～９０質量％であることが特に好ましい。
〔その他の成分〕
　本開示における画像記録層は、既述の成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
　その他の成分としては、バインダーポリマー、発色剤、呈色性化合物、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の添加剤等が挙げられる。
　その他の成分としては、特開２００９－２５５４３４号公報の段落０１８１～０１９０に開示される着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機粒子、および、低分子親水性化合物等が挙げられる。
　また、他の化合物としては、特開２０１２－１８７９０７号公報の段落０１９１～０２１７に開示される、疎水化前駆体（熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子）、低分子親水性化合物、感脂化剤（例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー）、及び、連鎖移動剤も挙げられる。
－バインダーポリマー－
　画像記録層は、必要に応じて、バインダーポリマーを含んでいてもよい。
　ここで、バインダーポリマーは、樹脂粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないポリマーを指す。
　また、バインダーポリマーは、感脂化剤におけるアンモニウム塩含有ポリマー及び界面活性剤として用いるポリマーを除く。
　バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマー（例えば、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール、ポリウレタン樹脂等）を好適に使用することができる。
　一例として、機上現像型平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー（以下、機上現像用バインダーポリマーともいう）について、詳細に記載する。
　機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ（アルキレンオキシド）を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ（アルキレンオキシド）含有繰返し単位で構成されるブロックと（アルキレンオキシド）非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
　ポリ（アルキレンオキシド）部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
　ポリ（アルキレンオキシド）部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に（メタ）アクリル樹脂が好ましい。
　また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、６官能以上１０官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物（以下、星型高分子化合物ともいう。）が挙げられる。
　星型高分子化合物としては、例えば、特開２０１２－１４８５５５号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。
　星型高分子化合物は、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。星型高分子化合物が有する重合性基によって星型高分子化合物の分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
　重合性基としては、（メタ）アクリル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基（スチリル基）などのエチレン性不飽和基、エポキシ基等が好ましく、（メタ）アクリル基、ビニル基、ビニルフェニル基（スチリル基）が重合反応性の観点でより好ましく、（メタ）アクリル基が特に好ましい。これらの基は、高分子反応、又は、共重合によってポリマーに導入することができる。具体的には、例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。
　バインダーポリマーの分子量は、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量（Ｍｗ）が、２，０００以上であることが好ましく、５，０００以上であることがより好ましく、１０，０００～３００，０００であることが更に好ましい。
　バインダーポリマーとしては、必要に応じて、特開２００８－１９５０１８号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。
　中でも、画像記録層は、機上現像性の観点から、ポリビニルアセタールを含むことが好ましい。ポリビニルアセタールとしては、例えば、ポリビニルブチラール等が好適に挙げられる。
　バインダーポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、１質量％～９０質量％であることが好ましく、５質量％～８０質量％であることがより好ましい。
－発色剤－
　本開示における画像記録層は、発色剤を更に含むことが好ましく、酸発色剤を更に含むことがより好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
　本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物（例えば酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
　このような酸発色剤の例としては、特開２０１９－１８４１２号公報の０１８４～０１９１段落に記載された化合物が挙げられる。
　中でも、本開示に用いられる発色剤は、視認性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
　発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、４５０～６５０ｎｍの範囲に極大吸収を有することが好ましい。色味としては、赤、紫、青又は黒緑であることが好ましい。
　また、上記酸発色剤は、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
　上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
　また、上記ロイコ色素としては、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
　更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式（Ｌｅ－２）で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｘ５～Ｘ１０はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）のＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基又はモノアリールモノヘテロアリールアミノ基であることが更に好ましく、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
　また、上記ＥＲＧにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基又は少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基を有する二置換アミノ基であることが好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基を有する二置換アミノ基であることがより好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基とアリール基又はヘテロアリール基とを有するアミノ基であることが更に好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基と電子供与性基を有するアリール基又は電子供与性基を有するヘテロアリール基とを有するアミノ基であることが特に好ましい。
　なお、本開示において、フェニル基以外のアリール基又はヘテロアリール基におけるオルト位は、アリール基又はヘテロアリール基の他の構造との結合位置を１位とした場合の上記１位の隣の結合位置（例えば、２位等）を言うものとする。
　更に、上記アリール基又はヘテロアリール基が有する電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式（Ｌｅ－２）又は式（Ｌｅ－３）におけるＸ５～Ｘ１０はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＹ１及びＹ２は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１方がＣであることが好ましく、Ｙ１及びＹ２の両方がＣであることがより好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲａ１は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＲｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
　また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式（Ｌｅ－５）で表される化合物であることが更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）中、ＥＲＧはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１は、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－４）～式（Ｌｅ－６）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＥＲＧ、Ｘ１～Ｘ４、Ｙ１、Ｙ２、Ｒａ１、及び、Ｒｂ１～Ｒｂ４と同義であり、好ましい態様も同様である。
　更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式（Ｌｅ－８）で表される化合物であることが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）中、Ｘ１～Ｘ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に、Ｃ又はＮを表し、Ｙ１がＮである場合は、Ｘ１は存在せず、Ｙ２がＮである場合は、Ｘ４は存在せず、Ｒａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１及びＹ２は、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－３）におけるＸ１～Ｘ４、Ｙ１及びＹ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－７）又は式（Ｌｅ－９）におけるＲａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
　また、式（Ｌｅ－８）におけるＲｃ１及びＲｃ２はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基、又は、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基であることが好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基であることがより好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するフェニル基であることが更に好ましく、少なくとも１つのオルト位に置換基を有し、かつパラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。Ｒｃ１及びＲｃ２における上記置換基としては、後述する置換基が挙げられる。
　また、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｘ１～Ｘ４が水素原子であり、Ｙ１及びＹ２がＣであることが好ましい。
　更に、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｒｂ１及びＲｂ２がそれぞれ独立に、アルキル基又はアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましい。
　更にまた、式（Ｌｅ－８）において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Ｒｂ１及びＲｂ２がそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基であることが好ましく、アリール基であることがより好ましく、電子供与性基を有するアリール基であることが更に好ましく、パラ位に電子供与性基を有するフェニル基であることが特に好ましい。
　また、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｒｃ１及びＲｃ２における上記電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、又は、アルキル基であることがより好ましく、アルコキシ基であることが特に好ましい。
　また、酸発色剤としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式（Ｌｅ－１０）で表される化合物を含むことが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　式（Ｌｅ－１０）中、Ａｒ１はそれぞれ独立に、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ａｒ２はそれぞれ独立に、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するアリール基、又は、少なくとも１つのオルト位に置換基を有するヘテロアリール基を表す。
　式（Ｌｅ－１０）におけるＡｒ１は、式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｂ１及びＲｂ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－１０）におけるＡｒ２は、式（Ｌｅ－７）～式（Ｌｅ－９）におけるＲｃ１及びＲｃ２と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
　また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－９）におけるアルキル基の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～８であることがより好ましく、１～４であることが更に好ましく、１又は２であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるアリール基の炭素数は、６～２０であることが好ましく、６～１０であることがより好ましく、６～８であることが特に好ましい。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、及び、フェナントレニル基等が挙げられる。
　式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）におけるヘテロアリール基として具体的には、置換基を有していてもよい、フリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラゾイル基、及び、チオフェニル基等が挙げられる。
　また、式（Ｌｅ－１）～式（Ｌｅ－１０）における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロアリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、モノアルキルモノヘテロアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ジヘテロアリールアミノ基、モノアリールモノヘテロアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、ヘテロアリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。
　好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ＥＴＡＣ、ＲＥＤ５００、ＲＥＤ５２０、ＣＶＬ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、ＢＬＵＥ２２０、Ｈ－３０３５、ＢＬＵＥ２０３、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４（以上、福井山田化学工業（株）製）、ＯＲＡＮＧＥ－ＤＣＦ、Ｖｅｒｍｉｌｉｏｎ－ＤＣＦ、ＰＩＮＫ－ＤＣＦ、ＲＥＤ－ＤＣＦ、ＢＬＭＢ、ＣＶＬ、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、ＴＨ－１０７（以上、保土ヶ谷化学（株）製）、ＯＤＢ、ＯＤＢ－２、ＯＤＢ－４、ＯＤＢ－２５０、ＯＤＢ－ＢｌａｃｋＸＶ、Ｂｌｕｅ－６３、Ｂｌｕｅ－５０２、ＧＮ－１６９、ＧＮ－２、Ｇｒｅｅｎ－１１８、Ｒｅｄ－４０、Ｒｅｄ－８（以上、山本化成（株）製）、クリスタルバイオレットラクトン（東京化成工業（株）製）等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ＥＴＡＣ、Ｓ－２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＢＬＡＣＫ１００、ＢＬＡＣＫ５００、Ｈ－７００１、ＧＲＥＥＮ３００、ＮＩＲＢＬＡＣＫ７８、Ｈ－３０３５、ＡＴＰ、Ｈ－１０４６、Ｈ－２１１４、ＧＲＥＥＮ－ＤＣＦ、Ｂｌｕｅ－６３、ＧＮ－１６９、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。
　好適に用いられるロイコ色素としては、視認性、及び、露光部の視認性の観点から、以下の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　これらの発色剤は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
　発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、０．５質量％～１０質量％であることが好ましく、１質量％～５質量％であることがより好ましい。
－呈色性化合物－
　本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、上記画像記録層が、上記画像記録層の露光により生じる分解物と呈色反応が可能な呈色性化合物を含むことが好ましい。
　本開示における「呈色反応」とは、発色又は変色の現象を伴う化学反応とする。
　上記画像記録層の露光により生じる分解物としては、特に制限はないが、露光部の視認性の観点から、重合開始剤の露光による分解物又は赤外線吸収剤の露光による分解物であることが好ましく、重合開始剤の露光による分解物であることがより好ましく、電子供与型重合開始剤の露光による分解物であることが特に好ましい。
　また、上記画像記録層の露光により生じる分解物としては、上記画像記録層の露光により分解した分解物だけでなく、上記分解物が更に分解又は変性して生じた化合物も含まれる。
　また、上記呈色反応は、露光部の視認性の観点から、錯形成反応であることが好ましく、ホウ素錯体形成反応であることがより好ましい。
　以下に上記呈色反応の一例を示す。下記は、呈色性化合物としてクルクミン（Ｃｕｒｃｕｍｉｎ）を使用し、画像記録層の露光により生じる分解物として、ナトリウムテトラフェニルボレートが分解してホウ酸が生じる場合の呈色反応を示したものである。クルクミンは、ケト－エノール互変異性により、エノール型が平衡として生じる。上記エノール型とホウ酸とが反応することにより、下記ホウ素錯体（Ｃｏｍｐｌｅｘ）が生じ、クルクミン（黄色）から下記ホウ素錯体（赤色）への呈色反応が生じる。
　また、下記はホウ酸まで加水分解した例を示しているが、例えば、ジフェニルモノヒドロキシホウ素、モノフェニルジヒドロキシホウ素等とクルクミンとが錯体を形成してもよいし、トリフェニルホウ素が０価の配位子としてエノール型のクルクミンに配位し、錯体を形成してもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　上記呈色性化合物としては、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、ケトン構造を１つ以上有する化合物であることが好ましく、１，３－ジケトン構造、β－ヒドロキシケトン構造、又は、β－アミノケトン構造を１つ以上有する化合物であることがより好ましく、１，３－ジケトン構造、又は、β－ヒドロキシケトン構造を１つ以上有する化合物であることが更に好ましく、１，３－ジケトン構造を１つ以上有する化合物であることが特に好ましい。
　また、上記呈色性化合物としては、１－ヒドロキシ－３－アミノ構造、又は、１－ヒドロキシ－３－イミノ構造を１つ以上有する化合物も挙げられる。
　また、上記呈色性化合物としては、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、芳香環構造を有する化合物であることが好ましく、２つ以上の芳香環構造を有する化合物であることがより好ましく、２つ～４つの芳香環構造を有する化合物であることが更に好ましく、２つの芳香環構造を有する化合物であることが特に好ましい。
　上記芳香環構造としては、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、ベンゼン環構造、及び、ナフタレン環構造よりなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく挙げられ、ベンゼン環構造がより好ましく挙げられる。
　また、上記呈色性化合物は、塩であってもよいし、水和物であってもよい。
　更に、上記呈色性化合物は、上記画像記録層の露光により生じる分解物と反応し、錯体を形成する場合、上記錯体において、単座配位子であっても、多座配位子であってもよいが、錯体形成性、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、多座配位子であることが好ましく、二座～六座配位子であることがより好ましく、二座～四座配位子であることが更に好ましく、二座又は三座配位子であることが特に好ましく、二座配位子であることが最も好ましい。
　本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、上記呈色性化合物として、下記式１Ｃ又は式２Ｃで表される化合物を含むことが好ましく、下記式１Ｃで表される化合物を含むことがより好ましい。
　また、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、露光後において、下記式１Ｃ又は式２Ｃで表される化合物が、上記画像記録層の露光により生じる分解物と反応し、下記式１Ｃ又は式２Ｃで表される化合物を０価の配位子として又は下記式１Ｃ又は式２Ｃで表される化合物から水素原子を１つ除いたアニオンを一価の配位子として有する錯体を形成することが好ましく、下記式１Ｃ又は式２Ｃで表される化合物が、上記画像記録層の露光により生じる分解物と反応し、下記式１Ｃ又は式２Ｃで表される化合物から水素原子を１つ除いたアニオンを一価の配位子として有する錯体を形成することがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　式１Ｃ及び式２Ｃ中、Ｒ１Ｃ～Ｒ４Ｃはそれぞれ独立に、一価の有機基を表し、Ｌ１Ｃ及びＬ２Ｃはそれぞれ独立に、二価の有機基を表し、ＡＣはＯＨ又はＮＲ５ＣＲ６Ｃを表し、Ｒ５Ｃ及びＲ６Ｃはそれぞれ独立に、水素原子又は一価の有機基を表し、点線部分は、二重結合であってもよい部分を表す。
　式１Ｃにおいては、Ｒ１Ｃ、Ｌ１Ｃ、及び、Ｒ２Ｃのうちの２以上が結合して環構造を形成していてもよい。
　式２Ｃにおいては、Ｒ３Ｃ、Ｌ２Ｃ、Ｒ４Ｃ、Ｒ５Ｃ、及び、Ｒ６Ｃのうちの２以上が結合して環構造を形成していてもよい。
　式１ＣにおけるＲ１Ｃ及びＲ２Ｃはそれぞれ独立に、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、芳香環を有する一価の有機基であることが好ましく、アリール基、又は、アリール基を有するアルケニル基であることがより好ましく、２－アリールビニル基であることが特に好ましい。
　また、上記アリール基は、置換基を有していてもよく、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、置換基として、ヒドロキシ基及びアルコキシ基よりなる群から選ばれた基を１つ以上有するアリール基であることが好ましく、置換基として、ヒドロキシ基及びアルコキシ基よりなる群から選ばれた基を１つ以上有するフェニル基であることがより好ましく、置換基として、ヒドロキシ基及びアルコキシ基を有するフェニル基であることが特に好ましい。
　更に、式１ＣにおけるＲ１Ｃ及びＲ２Ｃの炭素数（炭素原子数）はそれぞれ独立に、６～５０であることが好ましく、６～２０であることがより好ましく、８～２０であることが特に好ましい。
　また、式１ＣにおけるＲ１Ｃ及びＲ２Ｃは、同じ基であることが好ましい。
　式１ＣにおけるＬ１Ｃは、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、アルキレン基、又は、アシルオキシ基を有するアルキレン基であることが好ましく、メチレン基、又は、アシルオキシメチレン基であることがより好ましい。
　また、上記アシルオキシ基としては、露光部の視認性の観点から、炭素数１～１０のアシルオキシ基であることが好ましく、炭素数１～４のアシルオキシ基であることがより好ましく、アセトキシ基であることが特に好ましい。
　式２ＣにおけるＲ３Ｃは、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、芳香環を有する一価の有機基であることが好ましく、アリール基、又は、アリール基を有するアルケニル基であることがより好ましい。
　式２Ｃにおいては、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、Ｌ２ＣとＲ４Ｃとが結合して芳香環を形成していることが好ましく、Ｌ２ＣとＲ４Ｃとが結合してベンゼン環を形成していることがより好ましい。
　また、式２ＣにおけるＲ３Ｃ及びＲ４Ｃの炭素数はそれぞれ独立に、６～５０であることが好ましく、６～３０であることがより好ましく、６～２０であることが特に好ましい。
　式２ＣにおけるＬ２Ｃは、Ｒ４Ｃと結合しない場合、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、アルキレン基、又は、アシルオキシ基を有するアルキレン基であることが好ましく、メチレン基、又は、アシルオキシメチレン基であることがより好ましい。
　また、上記アシルオキシ基としては、露光部の視認性の観点から、炭素数１～１０のアシルオキシ基であることが好ましく、炭素数１～４のアシルオキシ基であることがより好ましく、アセトキシ基であることが特に好ましい。
　また、式２ＣにおけるＬ２Ｃは、Ｒ４Ｃと結合し、芳香環構造の環員を形成していることが好ましい。
　式２Ｃで表される化合物は、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、１－ヒドロキシアントラキノン構造又は１－アミノアントラキノン構造を有する化合物であることが好ましく、１－ヒドロキシアントラキノン構造を有する化合物であることがより好ましい。
　式２ＣにおけるＡＣは、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、ＯＨ又はＮＨＲ６Ｃであることが好ましく、ＯＨであることがより好ましい。
　式２ＣのＮＲ５ＣＲ６ＣにおけるＲ５Ｃは、水素原子、アルキル基、又は、アリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
　式２ＣのＮＲ５ＣＲ６ＣにおけるＲ６Ｃは、水素原子、アルキル基、又は、アントラキノリル基であることが好ましく、アントラキノリル基であることがより好ましく、１－アントラキノリル基であることが特に好ましい。
　上記呈色性化合物として、具体的には、例えば、クルクミン（実施例にて後述するＣ－１）、デメトキシクルクミン（実施例にて後述するＣ－２）、アリザリン（実施例にて後述するＣ－３）、イミノジアントラキノン（実施例にて後述するＣ－４）、カーミン酸（実施例にて後述するＣ－５）、アゾメチンＨ（実施例にて後述するＣ－６）、１，３－ビス（４－メトキシフェニル）－１，３－プロパンジオン（実施例にて後述するＣ－７）、４－メトキシカルコン（実施例にて後述するＣ－８）、１，３－ビス（４－ジメチルアミノフェニル）－１，３－プロパンジオン（実施例にて後述するＣ－９）、アセトキシクルクミン（実施例にて後述するＣ－１０）等が好適に挙げられる。
　上記呈色性化合物は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　また、上記式１Ｃ又は式２Ｃで表される化合物は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　更に、上記錯体は、１種のみ形成してもよいし、２種以上を形成してもよい。
　上記呈色性化合物の含有量は、露光部の視認性、及び、調子再現性の観点から、上記画像記録層の全質量に対し、０．００１質量％～５質量％が好ましく、０．０１質量％～３質量％がより好ましく、０．０５質量％～２．５質量％が更に好ましく、０．０５質量％～１．０質量％が特に好ましい。
　上記画像記録層における上記呈色性化合物（好ましくは上記式１又は式２で表される化合物）の含有量ＭＣと、後述する重合開始剤の含有量ＭＩとのモル比は、ＭＣ／ＭＩ＝０．００１～１であることが好ましく、ＭＣ／ＭＩ＝０．０１～０．８であることがより好ましく、ＭＣ／ＭＩ＝０．０５～０．５であることが特に好ましい。
　また、上記画像記録層における上記呈色性化合物（好ましくは上記式１又は式２で表される化合物）のモ含有量ＭＣと、後述する電子供与型重合開始剤の含有量ＭＤＩとのモル比は、ＭＣ／ＭＤＩ＝０．００１～１．５であることが好ましく、ＭＣ／ＭＤＩ＝０．０１～１であることがより好ましく、ＭＣ／ＭＤＩ＝０．０５～０．８であることが特に好ましい。
〔画像記録層の形成〕
　本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開２００８－１９５０１８号公報の段落０１４２～段落０１４３に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、０．３ｇ／ｍ２～３．０ｇ／ｍ２が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
　溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン（２－ブタノン）、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、１－メトキシ－２－プロパノール、３－メトキシ－１－プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は１質量％～５０質量％であることが好ましい。
　塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、０．３ｇ／ｍ２～３．０ｇ／ｍ２が好ましい。
　また、本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層の膜厚は、０．１μｍ～３．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～２．０μｍであることがより好ましい。
　本開示において、平版印刷版原版における各層の膜厚は、平版印刷版原版の表面に対して垂直な方向に切断した切片を作製し、上記切片の断面を走査型顕微鏡（ＳＥＭ）により観察することにより確認される。
＜オーバーコート層＞
　本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、支持体、画像記録層、及び、オーバーコート層をこの順で有し、上記オーバーコート層が、無機化合物を含まないか、無機化合物の含有量が、上記オーバーコート層の全質量に対し、０質量％を超え１質量％未満である。
　上記オーバーコート層が、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性の観点から、無機化合物を含まないか、無機化合物の含有量が、上記オーバーコート層の全質量に対し、０質量％を超え０．５質量％未満であることが好ましく、無機化合物を含まないことがより好ましい。
　また、上記オーバーコート層は、視認性の観点から、変色性化合物を含むことが好ましい。
　また、上記オーバーコート層は、機上現像型平版印刷版原版における支持体における画像記録層側のオーバーコート層である。
　上記オーバーコート層は、酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、高照度レーザー露光時のアブレーション防止等の機能を有していてもよい。
－変色性化合物－
　また、上記オーバーコート層は、変色性化合物を含むことが好ましい。
　上記オーバーコート層は、変色性化合物以外に、水溶性ポリマー、疎水性ポリマー、感脂化剤、酸発生剤、赤外線吸収剤等の他の成分を含んでいてもよく、変色性化合物、及び、水溶性ポリマーを含むことが好ましく、変色性化合物、水溶性ポリマー、及び、疎水性ポリマーを含むことがより好ましい。
　本開示において「変色性化合物」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域（波長：４００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満）の吸収が変化する化合物をいう。つまり、本開示において「変色」とは、赤外線露光に起因して、可視光領域（波長：４００ｎｍ以上７５０ｎｍ未満）の吸収が変化することをいう。
　具体的には、本開示における変色性化合物は、（１）赤外線露光に起因して赤外線露光前より可視光領域の吸収が増加する化合物、（２）赤外線露光に起因して可視光領域の吸収を有するようになる化合物、（３）赤外線露光に起因して可視光領域に吸収を有しないようになる化合物が挙げられる。
　なお、本開示における赤外線は、７５０ｎｍ～１ｍｍの波長の光線であり、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長の光線であることが好ましい。
　変色性化合物としては、赤外線露光に起因して発色する化合物を含むことが好ましい。
　また、変色性化合物としては、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含むことが好ましく、中でも、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解する分解性化合物を含むことが好ましい。
　より具体的に言えば、本開示における変色性化合物は、赤外線露光に起因して分解し（より好ましくは、赤外線露光に起因する、熱、電子移動、又はその両方により分解し）、赤外線露光前に比べて、可視光領域における吸収が増加するか、又は、吸収が短波長化し可視光領域に吸収を有するようになる化合物であることが好ましい。
　ここで、「電子移動により分解する」とは、赤外線露光によって変色性化合物のＨＯＭＯ（最高被占軌道）からＬＵＭＯ（最低空軌道）に励起した電子が、分子内の電子受容基（ＬＵＭＯと電位が近い基）に分子内電子移動し、それに伴って分解が生じることを意味する。
　また、変色性化合物は、露光部の視認性を高める観点から、シアニン色素であることが好ましい。
　以下、変色性化合物の一例である分解性化合物について説明する。
　分解性化合物は、赤外線波長域（７５０ｎｍ～１ｍｍの波長域、好ましくは７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長域）の少なくとも１部の光を吸収し、分解するものであればよいが、７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの波長域に極大吸収を有する化合物であることが好ましい。
　より具体的には、分解性化合物は、赤外線露光に起因して分解し、５００ｎｍ～６００ｎｍの波長域に極大吸収波長を有する化合物を生成する化合物であることが好ましい。
　分解性化合物は、露光部の視認性を高める観点から、赤外線露光により分解する基（具体的には、下記式１－１～式１－７におけるＲ１）を有する、シアニン色素であることが好ましい。
　分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式１－１で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　式１－１中、Ｒ１は下記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表し、Ｒ１１～Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ａ１、Ａ２及び複数のＲ１１～Ｒ１８が連結して単環又は多環を形成してもよく、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、ｎ１１及びｎ１２はそれぞれ独立に、０～５の整数を表し、但し、ｎ１１及びｎ１２の合計は２以上であり、ｎ１３及びｎ１４はそれぞれ独立に、０又は１を表し、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
　式２－１～式４－１中、Ｒ２０、Ｒ３０、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚｂは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、上記式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
　式１－１で表される化合物は、赤外線で露光されると、Ｒ１－Ｌ結合が開裂し、Ｌは、＝Ｏ、＝Ｓ、又は＝ＮＲ１０となって、変色する。
　式１－１において、Ｒ１は上記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表す。
　以下、式２－１で表される基、式３－１で表される基、及び式４－１で表される基についてそれぞれ説明する。
　式２－１中、Ｒ２０は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
　Ｒ２０で表されるアルキル基としては、炭素数１～３０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～１０のアルキル基が更に好ましい。
　上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
　Ｒ２０で表されるアリール基としては、炭素数６～３０のアリール基が好ましく、炭素数６～２０のアリール基がより好ましく、炭素数６～１２のアリール基が更に好ましい。
　Ｒ２０としては、視認性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
　また、分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ２０で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
　更に、分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ２０で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数３～６の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましく、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
　以下に、上記式２－１で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
　式３－１中、Ｒ３０は、アルキル基又はアリール基を表し、波線部分は、式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
　Ｒ３０で表されるアルキル基及びアリール基としては、式２－１中のＲ２０で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
　分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ３０で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
　また、分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ３０で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数３～６の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又はｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましく、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
　更に、分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ３０で表されるアルキル基は、置換アルキル基であることが好ましく、フルオロ置換アルキル基であることがより好ましく、パーフルオロアルキル基であることが更に好ましく、トリフルオロメチル基であることが特に好ましい。
　分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ３０で表されるアリール基は置換アリール基であることが好ましく、置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１～４のアルキル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～４のアルコキシ基）等が挙げられる。
　以下に、上記式３－１で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
　式４－１中、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚｂは電荷を中和する対イオンを表し、波線部分は、式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
　Ｒ４１又はＲ４２で表されるアルキル基及びアリール基としては、式２中のＲ２０で表されるアルキル基及びアリール基と同様であり、好ましい態様も同様である。
　Ｒ４１としては、分解性、及び、視認性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
　Ｒ４２としては、分解性、及び、視認性の観点から、アルキル基であることが好ましい。
　分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ４１で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数１～４のアルキル基であることがより好ましく、メチル基が特に好ましい。
　分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ４２で表されるアルキル基としては、第二級アルキル基又は第三級アルキル基であることが好ましく、第三級アルキル基であることが好ましい。
　また、分解性、及び、視認性の観点から、Ｒ４２で表されるアルキル基としては、炭素数１～８のアルキル基であることが好ましく、炭素数３～１０の分岐状のアルキル基であることがより好ましく、炭素数３～６の分岐状のアルキル基であることが更に好ましく、イソプロピル基、又は、ｔｅｒｔ－ブチル基が特に好ましく、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
　式４－１におけるＺｂは、電荷を中和するための対イオンであればよく、化合物全体として、式１－１におけるＺａに含まれてもよい。
　Ｚｂは、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、又は過塩素酸塩イオンが好ましく、テトラフルオロボレートイオンがより好ましい。
　以下に、上記式４－１で表される基の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、●は式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
　式１－１において、Ｌは、酸素原子、又は－ＮＲ１０－が好ましく、酸素原子が特に好ましい。
　また、－ＮＲ１０－におけるＲ１０は、アルキル基が好ましい。Ｒ１０で表されるアルキル基としては、炭素数１～１０のアルキル基が好ましい。また、Ｒ１０で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
　アルキル基の中では、メチル基又はシクロヘキシル基が好ましい。
　－ＮＲ１０－におけるＲ１０がアリール基の場合、炭素数６～３０のアリール基が好ましく、炭素数６～２０のアリール基がより好ましく、炭素数６～１２のアリール基が更に好ましい。また、これらアリール基は、置換基を有していてもよい。
　式１－１において、Ｒ１１～Ｒ１８は、それぞれ独立に、水素原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ、又は－ＮＲｄＲｅであることが好ましい。
　Ｒａ～Ｒｅで表される炭化水素基は、炭素数１～３０の炭化水素基が好ましく、炭素数１～１５の炭化水素基がより好ましく、炭素数１～１０の炭化水素基が更に好ましい。
　上記炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
　上記炭化水素基としては、アルキル基が特に好ましい。
　上記アルキル基としては、炭素数１～３０のアルキル基が好ましく、炭素数１～１５のアルキル基がより好ましく、炭素数１～１０のアルキル基が更に好ましい。
　上記アルキル基は、直鎖状であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
　具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、及び、２－ノルボルニル基が挙げられる。
　アルキル基の中で、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基が好ましい。
　上記アルキル基は、置換基を有していてもよい。
　置換基の例としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、カルボキシ基、カルボキシレート基、スルホ基、スルホネート基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
　式１－１におけるＲ１１～Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素原子、又は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、以下の場合を除き、水素原子であることが更に好ましい。
　中でも、Ｌが結合する炭素原子と結合する炭素原子に結合するＲ１１及びＲ１３は、アルキル基が好ましく、両者が連結して環を形成することがより好ましい。上記形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環、インドール環等の多環が挙げられる。
　また、Ａ１ ＋が結合する炭素原子に結合するＲ１２はＲ１５又はＲ１６（好ましくはＲ１６）と連結して環を形成することが好ましく、Ａ２が結合する炭素原子に結合するＲ１４はＲ１７又はＲ１８（好ましくはＲ１８）と連結して環を形成することが好ましい。
　式１－１において、ｎ１３は１であり、Ｒ１６は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましい。
　また、Ｒ１６は、Ａ１ ＋が結合する炭素原子に結合するＲ１２と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドリウム環、ピリリウム環、チオピリリウム環、ベンゾオキサゾリン環、又はベンゾイミダゾリン環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドリウム環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
　式１－１において、ｎ１４は１であり、Ｒ１８は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましい。
　また、Ｒ１８は、Ａ２が結合する炭素原子に結合するＲ１４と連結して環を形成することが好ましい。形成される環としては、インドール環、ピラン環、チオピラン環、ベンゾオキサゾール環、又はベンゾイミダゾール環が好ましく、露光部の視認性を高める観点から、インドール環がより好ましい。これらの環は更に置換基を有していてもよい。
　式１－１におけるＲ１６及びＲ１８は同一の基であることが好ましく、それぞれが環を形成する場合、Ａ１ ＋及びＡ２を除き、同一の構造の環を形成することが好ましい。
　式１－１におけるＲ１５及びＲ１７は同一の基であることが好ましい。また、Ｒ１５及びＲ１７は、－Ｒａ（即ち炭化水素基）であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、置換アルキル基であることが更に好ましい。
　式１－１により表される化合物において、水溶性を向上させる観点からは、Ｒ１５及びＲ１７は置換基アルキル基であることが好ましい。
　Ｒ１５又はＲ１７で表される置換アルキル基としては、下記式（ａ１）～式（ａ４）のいずれかで表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
　式（ａ１）～式（ａ４）中、ＲＷ０は炭素数２～６のアルキレン基を表し、Ｗは単結合又は酸素原子を表し、ｎＷ１は１～４５の整数を表し、ＲＷ１は炭素数１～１２のアルキル基又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＲＷ５を表し、ＲＷ５は炭素数１～１２のアルキル基を表し、ＲＷ２～ＲＷ４はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１２のアルキレン基を表し、Ｍは水素原子、ナトリウム原子、カリウム原子、又は、オニウム基を表す。
　式（ａ１）において、ＲＷ０で表されるアルキレン基の具体例としては、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、又はｎ－ブチレン基が好ましく、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
　ｎＷ１は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が特に好ましい。
　ＲＷ１で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ドデシル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、又はｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が好ましく、メチル基、又はエチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。
　ＲＷ５で表されるアルキル基は、ＲＷ１で表されるアルキル基と同様であり、好ましい態様もＲＷ１で表されるアルキル基の好ましい態様と同様である。
　式（ａ１）で表される基の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記構造式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基を表し、＊は結合部位を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
　式（ａ２）～式（ａ４）において、ＲＷ２～ＲＷ４で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ－ブチレン基、イソブチレン基、ｎ－ペンチレン基、イソペンチレン基、ｎ－ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ－オクチレン基、ｎ－ドデシレン基等が挙げられ、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基、又は、ｎ－ブチレン基が好ましく、エチレン基、又は、ｎ－プロピレン基が特に好ましい。
　式（ａ３）において、２つ存在するＭは同じでも異なってもよい。
　式（ａ２）～式（ａ４）において、Ｍで表されるオニウム基としては、アンモニウム基、ヨードニウム基、ホスホニウム基、スルホニウム基等が挙げられる。
　式（ａ２）におけるＣＯ２Ｍ、式（ａ２）におけるＰＯ３Ｍ２、及び式（ａ４）におけるＳＯ３Ｍは、いずれもＭが解離したアニオン構造を有していてもよい。アニオン構造の対カチオンは、Ａ１ ＋であってもよいし、式１－１中のＲ１－Ｌに含まれうるカチオンであってもよい。
　式（ａ１）～式（ａ４）で表される基の中で、式（ａ１）、式（ａ２）、又は式（ａ４）で表される基が好ましい。
　式１－１におけるｎ１１及びｎ１２は同一であることが好ましく、いずれも、１～５の整数が好ましく、１～３の整数がより好ましく、１又は２が更に好ましく、２が特に好ましい。
　式１－１におけるＡ１及びＡ２は、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は窒素原子を表し、窒素原子が好ましい。
　式１－１におけるＡ１及びＡ２は同一の原子であることが好ましい。
　式１－１におけるＺａは、電荷を中和する対イオンを表す。
　Ｒ１１～Ｒ１８及びＲ１－Ｌの全てが電荷的に中性の基であれば、Ｚａは一価の対アニオンとなる。但し、Ｒ１１～Ｒ１８及びＲ１－Ｌは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、Ｒ１１～Ｒ１８及びＲ１－Ｌに２以上のアニオン構造を有する場合、Ｚａは対カチオンにもなり得る。
　なお、式１－１で表されるシアニン色素が、Ｚａを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Ｚａは必要ない。
　Ｚａが対アニオンである場合、スルホネートイオン、カルボキシレートイオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ｐ－トルエンスルホネートイオン、過塩素酸塩イオン等が挙げられ、テトラフルオロボレートイオンが好ましい。
　Ｚａが対カチオンである場合、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、スルホニウムイオン等が挙げられ、ナトリウムイオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、又はスルホニウムイオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又はアンモニウムイオンがより好ましい。
　分解性化合物としては、露光部の視認性を高める観点から、下記式１－２で表される化合物（即ち、シアニン色素）であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　式１－２中、Ｒ１は上記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に、水素原子、又は、－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２３とＲ２４は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
　式１－２におけるＲ１は、式１－１におけるＲ１と同義であり、好ましい態様も同様である。
　式１－２において、Ｒ１９～Ｒ２２は、それぞれ独立に、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、又は－ＣＮであることが好ましい。
　より具体的には、Ｒ１９及びＲ２１は、水素原子、又は－Ｒａであることが好ましい。
　また、Ｒ２０及びＲ２２は、水素原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、又は－ＣＮであることが好ましい。
　Ｒ１９～Ｒ２２で表される－Ｒａとしては、アルキル基、又はアルケニル基が好ましい。
　Ｒ１９～Ｒ２２のすべてが－Ｒａである場合、Ｒ１９とＲ２０及びＲ２１とＲ２２が連結して単環又は多環を形成することが好ましい。
　Ｒ１９とＲ２０又はＲ２１とＲ２２が連結して形成される環としては、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
　式１－２において、Ｒ２３とＲ２４は、連結して単環又は多環を形成していることが好ましい。
　Ｒ２３とＲ２４が連結して形成される環としては、単環であってもよく、多環であってもよい。形成される環として、具体的には、シクロペンテン環、シクロペンタジエン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサジエン環等の単環、及び、インデン環等の多環が挙げられる。
　式１－２において、Ｒｄ１～Ｒｄ４は、無置換アルキル基であることが好ましい。また、Ｒｄ１～Ｒｄ４は、いずれも同一の基であることが好ましい。
　無置換アルキル基としては、炭素数１～４の無置換アルキル基が挙げられ、中でも、メチル基が好ましい。
　式１－２において、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、式１－２で表される化合物に水溶性を高める観点から、置換アルキル基であることが好ましい。
　Ｗ１及びＷ２で表される置換アルキル基としては、式１－１における式（ａ１）～式（ａ４）のいずれかで表される基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
　また、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、機上現像性の観点から、置換基を有するアルキル基であり、かつ、上記置換基として、－ＯＣＨ２ＣＨ２－、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又は、カルボキシ基の塩を少なくとも有する基であることが好ましい。
　Ｚａは、分子内の電荷を中和する対イオンを表す。
　Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒ２３～Ｒ２４、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及び、Ｒ１－Ｌの全てが電荷的に中性の基であれば、Ｚａは一価の対アニオンとなる。但し、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒ２３～Ｒ２４、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及び、Ｒ１－Ｌは、アニオン構造又はカチオン構造を有していてもよく、例えば、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒ２３～Ｒ２４、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及び、Ｒ１－Ｌに２以上のアニオン構造を有する場合、Ｚａは対カチオンにもなり得る。
　なお、式１－２で表される化合物が、Ｚａを除き、化合物の全体において電荷的に中性な構造であれば、Ｚａは必要ない。
　Ｚａが対アニオンである場合の例は、式１－１におけるＺａと同様であり、好ましい態様も同様である。また、Ｚａが対カチオンである場合の例も、式１－１におけるＺａと同様であり、好ましい態様も同様である。
　分解性化合物としてのシアニン色素は、分解性、及び、視認性の観点から、下記式１－３～式１－７のいずれかで表される化合物であることが更に好ましい。
　特に、分解性、及び、視認性の観点から、式１－３、式１－５、及び式１－６のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
　式１－３～式１－７中、Ｒ１は上記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２５及びＲ２６はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２５とＲ２６は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
　式１－３～式１－７におけるＲ１、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及びＬは、式１－２におけるＲ１、Ｒ１９～Ｒ２２、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１、Ｗ２、及びＬと同義であり、好ましい態様も同様である。
　式１－７におけるＲ２５及びＲ２６はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
　以下に、分解性化合物のシアニン色素の具体例を挙げるが、本開示はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
　また、分解性化合物であるシアニン色素としては、国際公開第２０１９／２１９５６０号に記載の赤外線吸収性化合物を好適に用いることができる。
　また、上記変色性化合物は、酸発色剤を含んでいてもよい。
　酸発色剤としては、画像記録層において酸発色剤として記載したものを用いることができ、好ましい態様も同様である。
　変色性化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種類以上の成分を組み合わせて使用してもよい。
　変色性化合物としては、既述の分解性化合物と後述の酸発生剤とを組み合わせて使用してもよい。
　オーバーコート層中の変色性化合物の含有量は、視認性の観点から、オーバーコート層の全質量に対し、０．１０質量％～５０質量％が好ましく、０．５０質量％～３０質量％がより好ましく、１．０　質量％～２０質量％が更に好ましい。
　上記オーバーコート層の上記変色性化合物の含有量ＭＸと上記画像記録層の上記赤外線吸収剤の含有量ＭＹとの比ＭＸ／ＭＹが、視認性の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上がより好ましく、０．３以上３．０以下が特に好ましい。
－親水性ポリマー－
　上記オーバーコート層は、現像除去性（より好ましくは、機上現像性）の観点から、親水性ポリマーを含むことが好ましく、水溶性ポリマーを含むことがより好ましい。
　本開示において、水溶性ポリマーとは、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇ以上溶解し、かつ、７０℃、１００ｇの純水に対して１ｇのポリマーが溶解した溶液を２５℃に冷却しても析出しないポリマーをいう。
　オーバーコート層に用いられる水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
　変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開２００５－２５０２１６号公報及び特開２００６－２５９１３７号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
　中でも、親水性ポリマーとしては、機上現像性の観点から、セルロース誘導体が好ましく挙げられ、ヒドロキシアルキルセルロースがより好ましく挙げられる。
　上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールが好ましいものとして挙げられる。中でも、水溶性ポリマーとしては、けん化度が５０％以上であるポリビニルアルコールを用いることが更に好ましい。
　上記けん化度は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましく、８５％以上が更に好ましい。けん化度の上限は特に限定されず、１００％以下であればよい。
　上記けん化度は、ＪＩＳ　Ｋ　６７２６：１９９４に記載の方法に従い測定される。
　上記水溶性ポリマーとしては、ポリビニルピロリドンも好ましいものとして挙げられる。
　親水性ポリマーとしては、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを組み合わせて使用することも好ましい。
　水溶性ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
　オーバーコート層が水溶性ポリマーを含む場合、水溶性ポリマーの含有量は、オーバーコート層の全質量に対して、１質量％～９９質量％であることが好ましく、３質量％～９７質量％であることがより好ましく、５質量％～９５質量％であることが更に好ましい。
－その他の成分－
　上記オーバーコート層は、既述の変色性化合物及び水溶性ポリマー以外に、疎水性ポリマー、感脂化剤、酸発生剤、赤外線吸収剤等の他の成分を含んでいてもよい。
　以下、その他の成分について説明する。
＜＜疎水性ポリマー＞＞
　上記オーバーコート層は、疎水性ポリマーを含むことが好ましい。
　疎水性ポリマーとは、７０℃、１００ｇの純水に対する１ｇ未満で溶解するか、又は、溶解しないポリマーをいう。
　疎水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル（例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル等）、これらのポリマーの原料モノマーを組み合わせた共重合体等が挙げられる。
　また、疎水性ポリマーとしては、ポリビニリデンクロライド樹脂を含むことが好ましい。
　更に、疎水性ポリマーとしては、スチレン－アクリル共重合体を含むことが好ましい。
　更にまた、疎水性ポリマーは、機上現像性の観点から、疎水性ポリマー粒子であることが好ましい。
　疎水性ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
　オーバーコート層が疎水性ポリマーを含む場合、疎水性ポリマーの含有量は、オーバーコート層の全質量に対して、１質量％～８０質量％であることが好ましく、５質量％～５０質量％であることがより好ましい。
＜＜酸発生剤＞＞
　上記オーバーコート層は、変色性化合物として酸発色剤を用いる場合に、酸発生剤を含むことが好ましい。
　本開示における「酸発生剤」とは、光又は熱により酸を発生する化合物であり、具体的には、赤外線露光によって分解し酸を発生する化合物をいう。
　発生する酸としては、スルホン酸、塩酸等のｐＫａが２以下の強酸であることが好ましい。酸発生剤から発生した酸によって、既述の酸発色剤が変色することができる。
　酸発生剤として具体的には、感度と安定性の観点から、オニウム塩化合物が好ましい。
　酸発生剤として好適なオニウム塩の具体例は、国際公開第２０１６／０４７３９２号の段落０１２１～段落０１２４に記載された化合物が挙げられる。
　中でも、トリアリールスルホニウム、又は、ジアリールヨードニウムの、スルホン酸塩、カルボン酸塩、ＢＰｈ４ －、ＢＦ４ －、ＰＦ６ －、ＣｌＯ４ －などが好ましい。ここで、Ｐｈはフェニル基を表す。
　酸発生剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
　オーバーコート層が酸発生剤を含む場合、酸発生剤の含有量は、オーバーコート層の全質量に対して、０．５質量％～３０質量％であることが好ましく、１質量％～２０質量％であることがより好ましい。
　上記オーバーコート層は、既述の成分以外にも、感脂化剤、無機層状化合物、界面活性剤等の公知の添加物を含有してもよい。
　オーバーコート層は、公知の方法で塗布され、乾燥することで形成される。
　オーバーコート層の塗布量（固形分）は、０．０１ｇ／ｍ２～１０ｇ／ｍ２が好ましく、０．０２ｇ／ｍ２～３ｇ／ｍ２がより好ましく、０．１ｇ／ｍ２～２．０ｇ／ｍ２が特に好ましい。
　オーバーコート層の膜厚は、０．１μｍ～５．０μｍであることが好ましく、０．３μｍ～４．０μｍであることがより好ましい。
　上記オーバーコート層の膜厚は、後述する画像記録層の膜厚に対し、０．１倍～５．０倍であることが好ましく、０．２倍～３．０倍であることがより好ましい。
　オーバーコート層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。
＜支持体＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
　支持体としては、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。
　支持体としては、親水性表面を有する支持体（以下、「親水性支持体」ともいう。）が好ましい。
　本開示における支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示における支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。
　また、上記支持体は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましい。
　更に、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１，０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が、１５ｎｍ～１００ｎｍであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が、１３ｎｍ以下であることが好ましい。
　図１は、アルミニウム支持体１２ａの一実施形態の模式的断面図である。
　アルミニウム支持体１２ａは、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０ａ（以後、単に「陽極酸化皮膜２０ａ」とも称する）とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体１２ａ中の陽極酸化皮膜２０ａが、アルミニウム板１８よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。
－陽極酸化皮膜－
　以下、陽極酸化被膜２０ａの好ましい態様について説明する。
　陽極酸化皮膜２０ａは、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２ａを有する。マイクロポア２２ａは、画像記録層側の陽極酸化皮膜２０ａ表面（アルミニウム板１８側とは反対側の陽極酸化皮膜２０ａ表面）から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびる。
　陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径（平均開口径）は、１０ｎｍを超え１００ｎｍ以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び、画像視認性のバランスの点から、１５ｎｍ～６０ｎｍがより好ましく、２０ｎｍ～５０ｎｍが更に好ましく、２５ｎｍ～４０ｎｍが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
　平均径が１０ｎｍを超える場合、耐刷性及び画像視認性に優れる。また、平均径が１００ｎｍ以下である場合、耐刷性に優れる。
　マイクロポア２２ａの平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ－ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を５０箇所測定し、平均した値である。
　なお、マイクロポア２２ａの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
　マイクロポア２２ａの形状は特に制限されず、図１では、略直管状（略円柱状）であるが、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア２２ａの底部の形状は特に制限されず、曲面状（凸状）であっても、平面状であってもよい。
　支持体において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面からある深さの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置からある深さの位置までのびる小径孔部とから構成されていてもよい。
　例えば、図２に示すように、アルミニウム支持体１２ｂが、アルミニウム板１８と、大径孔部２４と小径孔部２６とから構成されるマイクロポア２２ｂを有する陽極酸化皮膜２０ｂとを含む形態であってもよい。
　例えば、陽極酸化皮膜２０ｂ中のマイクロポア２２ｂは、陽極酸化皮膜表面から深さ１０ｎｍ～１０００ｎｍ（深さＤ：図２参照）の位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置から更に深さ２０ｎｍ～２，０００ｎｍの位置までのびる小径孔部２６とから構成される。具体的には、例えば、特開２０１９－１６２８５５号公報の段落０１０７～０１１４に記載の態様を使用することができる。
－支持体の製造方法－
　本開示に用いられる支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程：アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程：粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程：陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
　以下、各工程の手順について詳述する。
＜＜粗面化処理工程＞＞
　粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。特開２０１９－１６２８５５号公報の段落００８６～０１０１に記載された方法で行うことができる。
＜＜陽極酸化処理工程＞＞
　陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
　陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、１００ｇ／Ｌ～３００ｇ／Ｌが挙げられる。
　陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温５℃～７０℃（好ましくは１０℃～６０℃）、電流密度０．５Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ２（好ましくは１Ａ／ｄｍ２～６０Ａ／ｄｍ２）、電圧１Ｖ～１００Ｖ（好ましくは５Ｖ～５０Ｖ）、電解時間１秒～１００秒（好ましくは５秒～６０秒）、及び、皮膜量０．１ｇ／ｍ２～５ｇ／ｍ２（好ましくは０．２ｇ／ｍ２～３ｇ／ｍ２）が挙げられる。
＜＜ポアワイド処理＞＞
　ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径（ポア径）を拡大させる処理（孔径拡大処理）である。
　ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
　支持体は、必要に応じて、画像記録層とは反対側の面に、特開平５－４５８８５号公報に記載の有機高分子化合物又は特開平６－３５１７４号公報に記載のケイ素のアルコキシ化合物等を含むバックコート層を有していてもよい。
＜下塗り層＞
　本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層（中間層と呼ばれることもある。）を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
　下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、２種以上を混合して使用してもよい。
　下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
　支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、－ＰＯ３Ｈ２、－ＯＰＯ３Ｈ２、－ＣＯＮＨＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２－、－ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３が好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
　ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
　具体的には、特開平１０－２８２６７９号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平２－３０４４４１号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開２００５－２３８８１６号、特開２００５－１２５７４９号、特開２００６－２３９８６７号、特開２００６－２１５２６３号の各公報に記載の架橋性基（好ましくは、エチレン性不飽和結合基）、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
　より好ましいものとして、特開２００５－１２５７４９号及び特開２００６－１８８０３８号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
　下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー１ｇ当たり、好ましくは０．１ｍｍｏｌ～１０．０ｍｍｏｌ、より好ましくは０．２ｍｍｏｌ～５．５ｍｍｏｌである。
　下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００以上が好ましく、１万～３０万がより好ましい。
－親水性化合物－
　下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
　親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
　親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
　また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物（例えば、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、２，３，５，６－テトラヒドロキシ－ｐ－キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など）が好ましく挙げられる。
　親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
　また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
　上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、オーバーコート層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
　本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
　また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物（例えば、水溶液等）により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層（例えば、画像記録層又は下塗り層）に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
　下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を１１０°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
　ヒドロキシカルボン酸とは、１分子中に１個以上のカルボキシ基と１個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる（岩波理化学辞典第５版、（株）岩波書店発行（１９９８）参照）。
　上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式（ＨＣ）で表されるものが好ましい。
　　ＲＨＣ（ＯＨ）ｍｈｃ（ＣＯＯＭＨＣ）ｎｈｃ　　　　　　　式（ＨＣ）
　式（ＨＣ）中、ＲＨＣはｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基を表し、ＭＨＣはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、ｍｈｃ及びｎｈｃはそれぞれ独立に、１以上の整数を表し、ｎが２以上の場合、ＭＨＣは同じでも異なってもよい。
　式（ＨＣ）において、ＲＨＣで表されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の有機基としては、ｍｈｃ＋ｎｈｃ価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び／又は連結基を有してもよい。
　炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるｍｈｃ＋ｎｈｃ価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１－メチルブチル基、イソヘキシル基、２－エチルヘキシル基、２－メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２－ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α－メチルベンジル基、１－メチル－１－フェニルエチル基、ｐ－メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１－プロペニルメチル基、２－ブテニル基、２－メチルアリル基、２－メチルプロペニルメチル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも１種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは１～５０である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの２価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
　ＭＨＣで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
　また、ＭＨＣは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
　ｍｈｃとｎｈｃとの総数は、３以上が好ましく、３～８がより好ましく、４～６が更に好ましい。
　上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が６００以下であることが好ましく、５００以下であることがより好ましく、３００以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、７６以上であることが好ましい。
　上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸（２－ヒドロキシ酪酸、３－ヒドロキシ酪酸、γ－ヒドロキシ酪酸等）、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体（サリチル酸、クレオソート酸（ホモサリチル酸、ヒドロキシ（メチル）安息香酸）、バニリン酸、シリング酸等）、ジヒドロキシ安息香酸誘導体（ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等）、トリヒドロキシ安息香酸誘導体（没食子酸等）、フェニル酢酸誘導体（マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等）、ヒドロケイヒ酸誘導体（メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等）等が挙げられる。
　これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を２個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を３個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を５個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を５個～８個有している化合物が特に好ましい。
　また、カルボキシ基を１個、ヒドロキシ基を２個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
　カルボキシ基を２個以上、ヒドロキシ基を１個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
　カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ２個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
　中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
　親水性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
　下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、０．０１質量％～５０質量％であることが好ましく、０．１質量％～４０質量％であることがより好ましく、１．０質量％～３０質量％であることが特に好ましい。
　下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。
　下塗り層は、公知の方法で塗布される。
　下塗り層の塗布量（固形分）は、０．１ｍｇ／ｍ２～３００ｍｇ／ｍ２が好ましく、５ｍｇ／ｍ２～２００ｍｇ／ｍ２がより好ましい。 
　本開示に係る平版印刷版原版は、上述した以外のその他の層を有していてもよい。
　その他の層としては、特に制限はなく、公知の層を有することができる。例えば、支持体の画像記録層側とは反対側には、必要に応じてバックコート層が設けられていてもよい。
（平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法）
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）、及び、露光後の平版印刷版原版を印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程（機上現像工程）を含むことが好ましい。
　本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程（露光工程）と、印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程（機上現像工程）と、得られた平版印刷版により印刷する工程（以下、「印刷工程」ともいう）と、を含むことが好ましい。
＜露光工程＞
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
　光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上であることが好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は１０ｍＪ／ｃｍ２～３００ｍＪ／ｃｍ２であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
　画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。　　　
＜機上現像工程＞
　本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷機上で印刷インク及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
　以下に、機上現像方式について説明する。
〔機上現像方式〕
　機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インクと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
　すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インクと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インク及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インク受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インクでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インクを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インク及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インク及び湿し水が好適に用いられる。
　本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は７５０ｎｍ～１，４００ｎｍが好ましく用いられる。波長７５０ｎｍ～１，４００ｎｍの光源は上述したものが好ましく用いられる。
＜印刷工程＞
　本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インクを供給して記録媒体を印刷する
印刷工程を含む。
　印刷インクとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインクを用いることができる。また、印刷インクとしては、油性インク又は紫外線硬化型インク（ＵＶインク）が好ましく挙げられる。
　また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
　また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
　記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
　本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、１００℃～５００℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。
　以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「％」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量％」、「質量部」を意味する。なお、高分子化合物において、特別に規定したもの以外は、分子量は重量平均分子量（Ｍｗ）であり、構成繰り返し単位の比率はモル百分率である。また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算値として測定した値である。
（実施例１～３８、及び、比較例１～６）
＜支持体Ａ及びＢの作製＞
＜＜処理Ａ及びＢ＞＞
（Ａ－ａ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％及びアルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面の アルミニウム溶解量は、５ｇ／ｍ２であった。
（Ａ－ｂ）酸性水溶液を用いたデスマット処理（第１デスマット処理）
　次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。その後、水洗処理を行った。
（Ａ－ｃ）電気化学的粗面化処理
　次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、及び、硫酸濃度３ ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電気化学的粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
　交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１１２．５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
（Ａ－ｄ）アルカリエッチング処理
　電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレーにより吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの 溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
（Ａ－ｅ）酸性水溶液を用いたデスマット処理
　次に、酸性水溶液を用いてデスマット処理を行った。具体的には、酸性水溶液をアルミニウム板にスプレーにて吹き付けて、３秒間デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ及びアルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。 
（Ａ－ｆ）第１段階の陽極酸化処理
　図３に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す「第１陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の 陽極酸化皮膜を形成した。
（Ａ－ｇ）ポアワイド処理
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度４０℃、カセイソーダ濃度５質量％及びアルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す時間条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ａ－ｈ）第２段階の陽極酸化処理
　図３に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す「第２陽極酸化処理」欄の条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜量の陽極酸化皮膜を形成した。なお、表１に示すように、表面処理Ｂでは第２段階の陽極酸化処理を行わなかった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
＜支持体Ｃ～Ｅの作製＞
＜＜表面処理Ｃ＞＞
（Ｃ－ａ）機械的粗面化処理（ブラシグレイン法）
　図５に示したような装置を使って、パミスの懸濁液（比重１．１ｇ／ｃｍ３）を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図５において、１はアルミニウム板、２及び４はローラ状ブラシ（本実施例において、束植ブラシ）、３は研磨スラリー液、５、６、７及び８は支持ローラである。
　機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径（μｍ）を３０μｍ、ブラシ本数を４本、ブラシの回転数（ｒｐｍ）を２５０ｒｐｍとした。束植ブラシの材質は６・１０ナイロンで、ブラシ毛の直径０．３ｍｍ、毛長５０ｍｍであった。ブラシは、φ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１０ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
（Ｃ－ｂ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ２であった。
（Ｃ－ｃ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｃ－ｄ）電気化学的粗面化処理
　硝酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度３５℃、硝酸１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図３に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図４に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ２、補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。電気量（Ｃ／ｄｍ２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で１８５Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｃ－ｅ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．５ｇ／ｍ２であった。
（Ｃ－ｆ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度１７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度５ｇ／Ｌの液を用いた。その液温は、３０℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｃ－ｇ）電気化学的粗面化処理
　塩酸電解６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温３５℃、塩酸６．２ｇ／Ｌの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図３に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図４に示すものを使用した。
　電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ２であり、塩酸電解における電気量（Ｃ／ｄｍ２）はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で６３Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｃ－ｈ）アルカリエッチング処理
　上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度５０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、０．１ｇ／ｍ２であった。
（Ｃ－ｉ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。具体的には、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌを溶解）を用い、液温３５℃で４秒間デスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｃ－ｊ）第１段階の陽極酸化処理
　図３に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。　なお、陽極酸化処理装置６１０において、アルミニウム板６１６は、図３中矢印で示すように搬送される。電解液６１８が貯溜された給電槽６１２にてアルミニウム板６１６は給電電極６２０によって（＋）に荷電される。そして、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２においてローラ６２２によって上方に搬送され、ニップローラ６２４によって下方に方向変換された後、電解液６２６が貯溜された電解処理槽６１４に向けて搬送され、ローラ６２８によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板６１６は、電解電極６３０によって（－）に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽６１４を出たアルミニウム板６１６は後工程に搬送される。陽極酸化処理装置６１０において、ローラ６２２、ニップローラ６２４及びローラ６２８によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板６１６は、給電槽６１２と電解処理槽６１４との槽間部において、上記ローラ６２２、６２４及び６２８により、山型及び逆Ｕ字型に搬送される。給電電極６２０と電解電極６３０とは、直流電源６３４に接続されている。
（Ｃ－ｋ）ポアワイド処理
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｃ－ｌ）第２段階の陽極酸化処理
　図３に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表２に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
（Ｃ－ｍ）第３段階の陽極酸化処理
　図３に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第３段階の陽極酸化処理を行った。表２に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。　　　
＜＜表面処理Ｄ＞＞：
〔大径孔部及び小径孔部を有する支持体〕
（Ｄ－ａ）アルカリエッチング処理
　アルミニウム板に、カセイソーダ（水酸化ナトリウム）濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１．０ｇ／ｍ２であった。
（Ｄ－ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
　次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
（Ｄ－ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
　次に、塩酸濃度１４ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１３ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は５０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１２５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
（Ｄ－ｄ）アルカリエッチング処理
　電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度４５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
（Ｄ－ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
　次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
（Ｄ－ｆ）第１段階の陽極酸化処理
　図３に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表２に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
（Ｄ－ｇ）ポアワイド処理
　上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、温度３５℃、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
（Ｄ－ｈ）第２段階の陽極酸化処理
　図３に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表２に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
　以上の表面処理Ｃ又はＤから、表２及び表３に記載の支持体Ｃ～Ｅを得た。
　上記で得られた第２陽極酸化処理工程後のマイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径（ｎｍ）、小径孔部の連通位置における平均径（ｎｍ）、大径孔部及び小径孔部の深さ（ｎｍ）、ピット密度（マイクロポアの密度、単位；個／μｍ２）、並びに、小径孔部の底部からアルミニウム板表面までの陽極酸化皮膜の厚み（ｎｍ）を、表２にまとめて示す。
　なお、マイクロポアの平均径（大径孔部及び小径孔部の平均径）は、大径孔部表面及び小径孔部表面を倍率１５万倍のＦＥ－ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００ｎｍ×６００ｎｍの範囲に存在するマイクロポア（大径孔部及び小径孔部）の径を測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深く、小径孔部の径が測定しづらい場合、及び、小径孔部中の拡径孔部の測定を行う場合は、陽極酸化皮膜上部を切削し、その後各種径を求めた。
　マイクロポアの深さ（大径孔部及び小径孔部の深さ）は、支持体（陽極酸化皮膜）の断面をＦＥ－ＳＥＭで観察し（大径孔部深さ観察：１５万倍、小径孔部深さ観察：５万倍）、得られた画像において、任意のマイクロポア２５個の深さを測定し、平均した値である。
　なお、表２中、第１陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）量と第２陽極酸化処理欄の皮膜量（ＡＤ）とは、各処理で得られた皮膜量を表す。なお、使用される電解液は、表２中の成分を含む水溶液である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
＜下塗り層Ａ～Ｃの形成方法＞
　表５～表８に記載の支持体上に、表５～表８に記載の下記組成の下塗り層塗布液Ａ～Ｃのいずれかを乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して１００℃のオーブンで３０秒間乾燥し、下塗り層を形成した。
－下塗り層塗布液Ａの組成－
・ポリマー（Ｕ－１）〔下記構造〕：０．１８部
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸：０．１０部
・水：６１．４部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
－下塗り層塗布液Ｂの組成－
・ポリマー（Ｕ－１）：０．１４部
・グルコン酸ナトリウム：０．０７部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１６部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株）製）：０．００１５部
・水：３．２９部
－下塗り層塗布液Ｃの組成－
・ポリマー（Ｕ－１）：０．１４部
・キレスト４００：０．０３５部
・キレスト３ＥＡＦ：０．０３５部
・界面活性剤（エマレックス７１０、日本エマルジョン（株）製）：０．００１６部
・防腐剤（バイオホープＬ、ケイ・アイ化成（株）製）：０．００１５部
・水：３．２９部
－ポリマー（Ｕ－１）の合成－
＜＜モノマーＭ－１の精製＞＞
　ライトエステル　Ｐ－１Ｍ（２－メタクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、共栄社化学（株）製）４２０部、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部及び蒸留水１，０５０部を分液ロートに加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄した後、ジエチレングリコールジブチルエーテル１，０５０部を加え、激しく撹拌した後静置した。上層を廃棄してモノマーＭ－１の水溶液（固形分換算１０．５質量％）を１，３００部得た。
＜＜ポリマー（Ｕ－１）の合成＞＞
　三口フラスコに、蒸留水を５３．７３部、以下に示すモノマーＭ－２を３．６６部加え、窒素雰囲気下で５５℃に昇温した。次に、以下に示す滴下液１を２時間掛けて滴下し、３０分撹拌した後、ＶＡ－０４６Ｂ（富士フイルム和光純薬（株）製）０．３８６部を加え、８０℃に昇温し、１．５時間撹拌した。反応液を室温（２５℃）に戻した後、３０質量％水酸化ナトリウム水溶液を加え、ｐＨを８．０に調整したのち、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル（４－ＯＨ－ＴＥＭＰＯ）を０．００５部加えた。以上の操作により、ポリマー（Ｕ－１）の水溶液を１８０部得た。ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリエチレングリコール換算値とした重量平均分子量（Ｍｗ）は２０万であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
＜＜滴下液１の組成＞＞
・上記モノマーＭ－１水溶液：８７．５９部
・上記モノマーＭ－２：１４．６３部
・ＶＡ－０４６Ｂ（２，２’－アゾビス［２－（２－イミダゾリン－２－イル）プロパン］ジスルフェートジハイドレート、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．３８６部
・蒸留水：２０．９５部
＜画像記録層の形成＞
　表５～表８に記載の組成の画像記録層塗布液（ただし、上記画像記録層塗布液は、表５～表８に記載の各成分を含み、かつ１－メトキシ－２－プロパノール（ＭＦＧ）：メチルエチルケトン（ＭＥＫ）：メタノール＝４：４：１（質量比）の混合溶媒で固形分が６質量％になるように調製した。なお、表５～表８に記載の添加量は、無機層状化合物分散液を除き、固形量を示す。）を支持体又は下塗り層上にバー塗布し、１２０℃で４０秒間オーブン乾燥して、表５～表８に記載の乾燥塗布量の画像記録層を形成した。
　画像記録層に使用した各成分を以下に示す。
〔オイル剤〕
　Ｏ－１～Ｏ－１３：下記化合物（物性値等を下記表４に示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
〔赤外線吸収剤〕
　ＩＲ－１～ＩＲ－１０：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
　なお、Ｂｕはｎ－ブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、ＴｓＯ－はトシレートアニオンを表す。
〔電子受容型重合開始剤〕
　Ｉｎｔ－１～Ｉｎｔ－５：下記構造の化合物、なお、ＴｓＯ－は、トシレートアニオンを表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
〔電子供与型重合開始剤〕
　Ｂ－１～Ｂ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
〔重合性化合物〕
　Ｍ－１：下記化合物
　Ｍ－２：下記化合物
　Ｍ－３：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、サートマー社製ＳＲ－３９９
　Ｍ－４：ウレタンアクリレート、新中村化学工業（株）製Ｕ－１５ＨＡ
　Ｍ－５：下記合成方法により合成したモノマー
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
＜Ｍ－５の合成＞
　タケネートＤ－１６０Ｎ（ポリイソシアネート　トリメチロールプロパンアダクト体、三井化学株式会社製、４．７部）、アロニックスＭ－４０３（東亞合成（株）製、タケネートＤ－１６０ＮのＮＣＯ価とアロニックスＭ－４０３の水酸基価が１：１となる量）、ｔ－ブチルベンゾキノン（０．０２部）、及びメチルエチルケトン（１１．５部）の混合溶液を６５℃に加熱した。反応溶液に、ネオスタンＵ－６００（ビスマス系重縮合触媒、日東化成（株）製、０．１１部）を加え、６５℃で４時間加熱した。反応溶液を室温（２５℃）まで冷却し、メチルエチルケトンを加えることで、固形分が５０質量％のウレタンアクリレート溶液を合成した。リサイクル型ＧＰＣ（機器：ＬＣ９０８－Ｃ６０、カラム：ＪＡＩＧＥＬ－１Ｈ－４０及び２Ｈ－４０（日本分析工業（株）製））を用いて、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の溶離液にて、ウレタンアクリレート（Ｍ－５）溶液の分子量分画を実施した。重量平均分子量は２０，０００であった。
〔バインダーポリマー〕
　Ｐ－１：ポリビニルアルコール、積水化学工業（株）製エスレックＢＸ－５Ｚ
　Ｐ－２：ポリビニルアルコール、積水化学工業（株）製エスレックＢＬ１０
　Ｐ－３：下記合成方法により合成された樹脂
＜バインダーポリマーＰ－３の合成＞
　三口フラスコに、１－メトキシ－２－プロパノール：７８．０部を秤取り、窒素気流下、７０℃に加熱した。この反応容器に、ブレンマーＰＭＥ－１００（メトキシジエチレングリコールモノメタクリレート、日本油脂（株）製）：５２．１部、メチルメタクリレート：２１．８部、メタクリル酸：１４．２部、ヘキサキス（３－メルカプトプロピオン酸）ジペンタエリスリトール：２．１５部、Ｖ－６０１（２，２’－アゾビス（イソ酪酸）ジメチル、和光純薬工業（株）製）：０．３８部、１－メトキシ－２－プロパノール：５４部からなる混合溶液を２時間３０分かけて滴下した。滴下終了後、８０℃に昇温し、更に２時間反応を続けた。Ｖ－６０１：０．０４部、１－メトキシ－２－プロパノール：４部からなる混合溶液を加え、９０℃に昇温して２．５時間反応を続けた。反応終了後、室温まで反応液を冷却した。
　上記の反応溶液に１－メトキシ－２－プロパノール：１３７．２部、４－ヒドロキシテトラメチルピペリジン－Ｎ－オキシド：０．２４部、グリシジルメタクリレート：２６．０部、テトラエチルアンモニウムブロミド：３．０部を加えてよく撹拌した後、９０℃にて加熱した。
　１８時間後、室温（２５℃）まで反応溶液を冷却した後、１－メトキシ－２－プロパノール：９９．４部を加えて希釈した。
　こうして得られたバインダーポリマーＰ－３は、固形分濃度：２３質量％、ＧＰＣで測定したポリスチレン換算重量平均分子量は３．５万であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
〔酸発色剤〕
　Ｓ－１～Ｓ－８：下記化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
　なお、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。
〔呈色性化合物〕
　クルクミン：下記化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
〔親水性化合物〕
　Ｔ－１：トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート
　Ｔ－２：下記構造の化合物
　Ｔ－３：ヒドロキシプロピルセルロース、Ｋｌｕｃｅｌ　Ｍ、Ｈｅｒｃｕｌｅｓ社製
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
〔界面活性剤〕
　Ｆ－１：アニオン性界面活性剤、ラピゾールＡ－８０、日油（株）製
　Ｆ－２：フッ素系界面活性剤、メガファック　Ｆ－７８１Ｆ（ＤＩＣ（株）製）
　Ｆ－３：下記化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
〔ポリマー粒子〕
＜ポリマー粒子Ｒ－１の調製＞
・ミクロゲル（ポリマー粒子Ｒ－１）：２．６４０部
・蒸留水：２．４２５部
　上記ミクロゲルの調製法を以下に示す。
－多価イソシアネート化合物の調製－
イソホロンジイソシアネート１７．７８部（８０モル当量）と下記多価フェノール化合物（１）７．３５部（２０モル当量）との酢酸エチル（２５．３１部）懸濁溶液に、ビスマストリス（２－エチルヘキサノエート）（ネオスタン　Ｕ－６００、日東化成（株）製）０．０４３部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を５０℃に設定し、３時間撹拌して多価イソシアネート化合物（１）の酢酸エチル溶液（５０質量％）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
－ミクロゲルの調製－
　下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を４５℃で４時間撹拌後、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．２０ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ミクロゲルの水分散液が得られた。光散乱法により平均粒径を測定したところ、０．２０μｍであった。
～油相成分～
　（成分１）酢酸エチル：１２．０部
　（成分２）トリメチロールプロパン（６モル当量）とキシレンジイソシアネート（１８モル当量）を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン（１モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数：９０）を付加させた付加体（５０質量％酢酸エチル溶液、三井化学（株）製）：３．７６部
　（成分３）多価イソシアネート化合物（１）（５０質量％酢酸エチル溶液として）：１５．０部
　（成分４）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．５４部
　（成分５）スルホン酸塩型界面活性剤（パイオニンＡ－４１－Ｃ、竹本油脂（株）製）の１０％酢酸エチル溶液：４．４２部
～水相成分～
　蒸留水：４６．８７部
＜ポリマー粒子Ｒ－２の作製＞
－油相成分の調製－
　多官能イソシアネート化合物（ＰＭ－２００：万華化学社製）：６．６６ｇと、三井化学（株）製の「タケネート（登録商標）Ｄ－１１６Ｎ（トリメチロールプロパン（ＴＭＰ）とｍ－キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）とポリエチレングリコールモノメチルエーテル（ＥＯ９０）との付加物（下記構造）」の５０質量％酢酸エチル溶液：５．４６ｇと、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＳＲ－３９９、サートマー社製）の６５質量％酢酸エチル溶液：１１．２４ｇと、酢酸エチル：１４．４７ｇと、竹本油脂（株）製のパイオニン（登録商標）Ａ－４１－Ｃ：０．４５ｇを混合し、室温（２５℃）で１５分攪拌して油相成分を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
－水相成分の準備－
　水相成分として、蒸留水４７．２ｇを準備した。
－マイクロカプセル形成工程－
　油相成分に水相成分を添加して混合し、得られた混合物を、ホモジナイザーを用いて１２，０００ｒｐｍで１６分間乳化させて乳化物を得た。
　得られた乳化物に蒸留水１６．８ｇを添加し、得られた液体を室温で１０分撹拌した。
　次いで、撹拌後の液体を４５℃に加熱し、液温を４５℃に保持した状態で４時間撹拌することにより、上記液体から酢酸エチルを留去した。次いで、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン－オクチル酸塩（Ｕ－ＣＡＴ　ＳＡ１０２、サンアプロ（株）製）の１０質量％水溶液５．１２ｇを加え、室温で３０分撹拌し、４５℃で２４時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を２０質量％になるように調整し、ポリマー粒子Ｒ－２の水分散液が得られた。Ｒ－２の体積平均粒径はレーザー回折／散乱式粒子径分布測定装置ＬＡ－９２０（（株）堀場製作所製）により測定したところ、１６５ｎｍであった。
＜ポリマー粒子Ｒ－３の調製＞
　４つ口フラスコに、分散ユニット：下記化合物Ｂ－１（ｎ＝４５）：１０．０部、蒸留水８５．０部、及びｎ－プロパノール２４０．０部を加えて、窒素雰囲気下７０℃で加熱撹拌した。
　次に、４つ口フラスコに、予め混合された下記化合物Ａ－１：２０．０部、下記化合物Ａ－２：７０．０部及び２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．７部の混合物を２時間かけて滴下した。
　滴下終了後５時間そのまま反応を続けた後、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．５部を添加し、８０℃に昇温した。６時間おきに２，２’－アゾビスイソブチロニトリルを０．４部ずつ添加し、計１９時間反応させた。
　反応液を室温（２５℃）に放冷し、ポリマー粒子Ｒ－３の分散液（固形分２３％）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
　ポリマー粒子Ｒ－３のメジアン径は１５０ｎｍであって、変動係数は２３％であった。
　また、ポリマー粒子Ｒ－３の分散性について、既述の方法で確認したところ、樹脂粒子Ｒ－３は、水分散性を有する粒子であって、有機溶媒分散性を有する粒子であった。
＜ポリマー粒子Ｒ－４の調製＞
　３つ口フラスコに蒸留水３５０部、化合物Ａ－１　５０部、化合物Ａ－２　２０部、化合物Ａ－３　２０部、化合物Ｂ－１（ｎ＝４５）　１０部を加え、窒素雰囲気下で７０℃に昇温した。次に過硫酸カリウム（ＫＰＳ）を１．０部添加し３時間加熱撹拌した後に、９５℃に昇温し４時間反応させた。反応液を室温（２５℃）に放冷し、ポリマー粒子Ｒ－４の水分散液（固形分２２％）を得た。ポリマー粒子Ｒ－４の平均粒径は１４２ｎｍであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
＜ポリマー粒子Ｒ－５の調製＞
　３つ口フラスコにイオン交換水２８８部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１．６部、Ａ－１　０．５部、及び、Ａ－２　０．２部添加し、窒素雰囲気下、７５℃、２００ｒｐｍで１５分間撹拌及び乳化した。
　過硫酸カリウム（ＫＰＳ）０．１５部、イオン交換水７部を添加し８０℃で３０分加熱撹拌した。
　Ａ－１　２４．７部、Ａ－２　１２．８部、及び、Ａ－４　６．７部を３時間かけて滴下した後、１時間加熱撹拌を継続した。反応液を室温（２５℃）に放冷し、ポリマー粒子Ｒ－５の水分散液（固形分１３％）を得た。ポリマー粒子Ｒ－５の平均粒径は４０ｎｍであった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
＜オーバーコート層の形成＞
　下記オーバーコート層塗布液（１）（ただし、オーバーコート層塗布液（１）は、表５～表８に記載の各成分を含み、かつイオン交換水で固形分が６質量％になるように調製した。）を画像記録層上にバー塗布し、１２０℃で６０秒間オーブンにて乾燥して、表５～表８に記載の乾燥塗布量のオーバーコート層を形成した。
　なお、オーバーコート層塗布液（１）に使用した無機層状化合物分散液の調製法を以下に記載する。
＜＜無機層状化合物分散液の調製＞＞
　イオン交換水１９３．６部に合成雲母（ソマシフＭＥ－１００、コープケミカル（株）製）６．４部を添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。
〔変色性化合物〕
　ｗＩＲ－１～ｗＩＲ－３：下記化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
〔親水性ポリマー〕
　ＷＰ－１：ポリビニルアルコール、シグマアルドリッチ社製Ｍｏｗｉｏｌ　４－８８
　ＷＰ－２：ポリビニルアルコール、シグマアルドリッチ社製Ｍｏｗｉｏｌ　８－８８
　ＷＰ－３：下記樹脂
　ＷＰ－４：セルロース、信越化学工業（株）製メトローズ６０ＳＨ－１５
　ＷＰ－５：ポリビニルアルコール、三菱ケミカル（株）製ゴーセノールＬ－３２６６、けん化度８６％～８９％以上
　ＷＰ－６：セルロース、信越化学工業（株）製メトローズＳＭ０４
　ＷＰ－７：下記樹脂（Ｍｗ＝３０，０００）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
〔疎水性ポリマー〕
　Ｌ－１：ポリ塩化ビニリデン水性ディスパージョン、Ｓｏｌｖｉｎ社製Ｄｉｏｆａｎ（登録商標）　Ａ５０
　Ｌ－２：スチレン－アクリル樹脂、日本ペイント・インダストリアルコーティングス（株）製ＦＳ－２０１
　Ｌ－３：スチレン－アクリル樹脂、日本ペイント・インダストリアルコーティングス（株）製ＦＳ－１０２
＜平版印刷版原版の作製＞
　表５～表８に記載の通り、それぞれ支持体及び上記各層の形成方法に従って、実施例１～３８、及び、比較例１～６の平版印刷版原版をそれぞれ作製した。
＜平版印刷版原版の評価＞
　上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のＫｏｄａｋ社製Ｍａｇｎｕｓ８００　Ｑｕａｎｔｕｍにて、出力２７Ｗ、外面ドラム回転数４５０ｒｐｍ、解像度２，４００ｄｐｉ（dot per inch、１inchは２．５４ｃｍ）の条件で露光（照射エネルギー１１０ｍＪ／ｃｍ２相当）した。露光画像にはベタ画像、ＡＭスクリーン（Amplitude Modulation Screen）３％網点のチャート、及び、ＦＭスクリーン（Frequency Modulation Screen）２０％網点のチャートを含むようにした。
〔機上現像性〕
　得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機ＳＸ－７４のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量１００Ｌの湿し水循環タンクを接続した。湿し水Ｓ－Ｚ１（富士フイルム（株）製）２．０％の湿し水８０Ｌを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてＴ＆Ｋ　ＵＶ　ＯＦＳ　Ｋ－ＨＳ墨ＧＥ－Ｍ（（株）Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製）を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時１０，０００枚の印刷速度で特菱アート（連量：７６．５ｋｇ、三菱製紙（株）製）紙に５００枚印刷を行った。
　上記機上現像において、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。計測結果は表５～表８に記載した。上記枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。
〔紫外線硬化型インキ耐刷性（ＵＶ耐刷性）〕
　上述した機上現像性の評価を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像部が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるＡＭスクリーン３％網点の網点面積率をグレタグ濃度計（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）で計測した値が、印刷５００枚目の計測値よりも１％低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。印刷枚数が５万枚の場合を１００とする相対耐刷性により評価した。数値が大きいほど、耐刷性が良好である。評価結果は表５～表８に記載した。
　　相対耐刷性＝（対象平版印刷版原版の印刷枚数）／５０，０００×１００
〔着肉性（特色インキ着肉性）〕
　インキとして特色インキＥｐｐｌｅ　Ｐａｎｔｏｎｅ　Ｂｌａｕ　０７２Ｃ（Ｅｐｐｌｅ社製インキ）を用いた以外は、上記ＵＶ耐刷性と同様に印刷を行った。１万枚目の印刷用紙をサンプリングし、２０％ＦＭ網点部のインキ濃度をグレタグ濃度計で調べた。その測定値（小数点２桁目は四捨五入した。）を基に特色インキ着肉性の評価を次の指標で表５～表８に示す。
－評価基準－
　　Ａ：インキ濃度１．８～１．９：全くインキ濃度低下なく、インキ着肉性良好
　　Ｂ：インキ濃度１．５～１．７：ややインキ濃度低下しているが許容レベル
　　Ｃ：インキ濃度１．０～１．４：はっきりとインキ濃度低下しており、許容できないレベル
　　Ｄ：インキ濃度０．９以下：インキ濃度低下著しく劣悪
〔湿し水濁り抑制性〕
　調整版（富士フイルム（株）製ＸＰ－Ｆ）を用いて、適正な水インキバランスの調整した後、１，０００枚印刷した。その後、調整版を外し、ブランケットを洗浄した。続いて、インキ壺キーをゼロに設定する。調整時に使用した湿し水を捨て、新たに湿し水を投入した。その際、湿し水の循環系を停止し、ゴム栓で排出口を閉じた。
　次に、下記Ｘ１～Ｘ３の動作を１０回繰り返した。
　Ｘ１：作製した平版印刷版原版（未露光版）をマニュアルプレダンプニングで水着け５０回行った。
　Ｘ２：水着け５０回実施後、しらおい（上質紙、日本製紙（株）製）に１００枚印刷した。
　Ｘ３：版を外した。
　また、印刷条件を以下に示す。
　印刷機：（株）小森コーポレーション製リスロン印刷機ＬＳ２６／１０４
　インキ：ＵＶインキ（（株）Ｔ＆Ｋ　ＴＯＫＡ製ＵＶ　ＣＯＲＥ　ＴＹＰＥ－ＡＪ黄）
　湿し水：ＰＲＥＳＳＭＡＸ　Ｓ－Ｚ１　２％（富士フイルム（株）製）
　プレダンプニング：５０回
　その後、ゴム栓を抜いて、湿し水を回収し、湿し水の透視度で濁りをした。透視度は、ＪＩＳ　Ｋ０１０２（２０１９）に準じて測定し、以下の基準で評価した。評価結果は表５～表８に記載した。
－評価基準－
　　Ａ：透視度８ｃｍ以上
　　Ｂ：透視度５ｃｍ以上８ｃｍ未満
　　Ｃ：透視度５ｃｍ未満
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000080
　なお、ΔＥ１は、電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値を表し、ΔＥ２は、赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値を表す。
　表５～表８に記載した結果から、実施例に係る平版印刷版原版は、比較例に係る平版印刷版原版と比べて、ＵＶ耐刷性、機上現像性、及び、湿し水濁り抑制性に優れた平版印刷版原版が得られることがわかる。また、本開示に係る平版印刷版原版は、着肉性にも優れた平版印刷版が得られることがわかる。
　２０２１年１月２８日に出願された日本国特許出願第２０２１－０１２０３２号の開示、及び、２０２１年３月３１日に出願された日本国特許出願第２０２１－０６１１６４号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び、技術規格は、個々の文献、特許出願、及び、技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
　１２ａ，１２ｂ：アルミニウム支持体、１４：下塗り層、１６：画像記録層、１８：アルミニウム板、２０ａ，２０ｂ：陽極酸化皮膜、２２ａ，２２ｂ：マイクロポア、２４：大径孔部、２６：小径孔部、Ｄ：大径孔部の深さ、６１０：陽極酸化処理装置、６１２：給電槽、６１４：電解処理槽、６１６：アルミニウム板、６１８，２６：電解液、６２０：給電電極、６２２，６２８：ローラ、６２４：ニップローラ、６３０：電解電極、６３２：槽壁、６３４：直流電源

Claims (29)

  1. 　支持体、画像記録層、及び、オーバーコート層をこの順で有し、
    　前記オーバーコート層が、無機化合物を含まないか、無機化合物の含有量が、前記オーバーコート層の全質量に対し、０質量％を超え１質量％未満であり、
    　前記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び、オイル剤を含む
    　機上現像型平版印刷版原版。
  2. 　前記オイル剤が、沸点が３００℃以上であるオイル剤を含む請求項１に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  3. 　前記オイル剤が、異なる構造を有する２種以上のオイル剤を含む請求項１又は請求項２に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  4. 　前記オイル剤のｃｌｏｇＰ値が、５．０以上である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  5. 　前記オイル剤が、芳香環を有するオイル剤を含む請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  6. 　前記オイル剤が、リン原子を有するオイル剤を含む請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  7. 　前記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤を含む請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  8. 　前記電子供与型重合開始剤が、ボレート化合物である請求項７に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  9. 　前記赤外線吸収剤のＨＯＭＯ－前記電子供与型重合開始剤のＨＯＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である、請求項７又は請求項８に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  10. 　前記重合開始剤が、電子受容型重合開始剤を含み、
    　前記電子受容型重合開始剤のＬＵＭＯ－前記赤外線吸収剤のＬＵＭＯの値が、０．７０ｅＶ以下である請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  11. 　前記重合性化合物が、７官能以上の重合性化合物を含む請求項１～請求項１０のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  12. 　前記重合性化合物が、１０官能以上の重合性化合物を含む請求項１～請求項１１のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  13. 　前記画像記録層が、ポリマー粒子を更に含む請求項１～請求項１２のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  14. 　前記オーバーコート層が、親水性ポリマーを含む請求項１～請求項１３のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  15. 　前記親水性ポリマーが、セルロース誘導体を含む請求項１４に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  16. 　前記重合性化合物が、２官能以下の重合性化合物を含む請求項１～請求項１５のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  17. 　前記電子受容型重合開始剤が、下記式（II）で表される化合物を含む請求項１０に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    　式（II）中、ＸＡはハロゲン原子を表し、ＲＡはアリール基を表す。
  18. 　前記画像記録層が、ポリビニルブチラールを更に含む請求項１～請求項１７のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  19. 　前記オーバーコート層が、疎水性ポリマーを含む請求項１～請求項１８のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  20. 　前記疎水性ポリマーが、疎水性ポリマー粒子である請求項１９に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  21. 　前記オーバーコート層が、変色性化合物を更に含む請求項１～請求項２０のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  22. 　前記変色性化合物が、赤外線露光に起因して分解する分解性化合物を含む請求項２１に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  23. 　前記変色性化合物が、シアニン色素である請求項２１又は請求項２２に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  24. 　前記変色性化合物が、下記式１－１で表される化合物である請求項２１～請求項２３のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    　式１－１中、Ｒ１は下記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表し、Ｒ１１～Ｒ１８はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＳＲｃ、又は－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒａ～Ｒｅは、それぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ａ１、Ａ２及び複数のＲ１１～Ｒ１８が連結して単環又は多環を形成してもよく、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又は、窒素原子を表し、ｎ１１及びｎ１２はそれぞれ独立に、０～５の整数を表し、但し、ｎ１１及びｎ１２の合計は２以上であり、ｎ１３及びｎ１４はそれぞれ独立に、０又は１を表し、Ｌは酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    　式２－１～式４－１中、Ｒ２０、Ｒ３０、Ｒ４１及びＲ４２はそれぞれ独立に、アルキル基又はアリール基を表し、Ｚｂは電荷を中和する対イオンを表し、波線は、前記式１－１中のＬで表される基との結合部位を表す。
  25. 　前記変色性化合物が、下記式１－２で表される化合物である請求項２１～請求項２４のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    　式１－２中、Ｒ１は上記式２～式４のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に、水素原子、又は、－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２３とＲ２４は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
  26. 　前記変色性化合物が、下記式１－３～式１－７のいずれかで表される化合物である請求項２１～請求項２５のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    　式１－３～式１－７中、Ｒ１は上記式２－１～式４－１のいずれかで表される基を表し、Ｒ１９～Ｒ２２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、－Ｒａ、－ＯＲｂ、－ＣＮ、－ＳＲｃ、又は、－ＮＲｄＲｅを表し、Ｒ２５及びＲ２６はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は－Ｒａを表し、Ｒａ～Ｒｅはそれぞれ独立に、炭化水素基を表し、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２１とＲ２２、又は、Ｒ２５とＲ２６は、連結して単環又は多環を形成してもよく、Ｌは、酸素原子、硫黄原子、又は、－ＮＲ１０－を表し、Ｒ１０は、水素原子、アルキル基、又は、アリール基を表し、Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアルキル基を表し、Ｚａは電荷を中和する対イオンを表す。
  27. 　前記式１－２～式１－７におけるＷ１及びＷ２はそれぞれ独立に、置換基を有するアルキル基であり、かつ、前記置換基として、－ＯＣＨ２ＣＨ２－、スルホ基、スルホ基の塩、カルボキシ基、又は、カルボキシ基の塩を少なくとも有する基である請求項２５又は請求項２６に記載の機上現像型平版印刷版原版。
  28. 　請求項１～請求項２７のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    　印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む平版印刷版の作製方法。
  29. 　請求項１～請求項２７のいずれか１項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
    　印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
    　得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む平版印刷方法。
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