JP2002211159A - 平版印刷版用支持体の製造方法、平版印刷版用支持体、および平版印刷原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄廃水の発生量を大幅に削減でき、再
製アルミニウム地金から印刷性能の高い平版印刷版用支
持体を製造できる平版印刷版用支持体の製造方法の提
供。 【解決手段】 アルミニウム板の少なくとも一方の面に
少なくとも１種の粗面化処理を施す粗面化工程を有して
なり、前記粗面化処理後に、前記アルミニウム板の表面
にドライアイス粒子を噴射して前記アルミニウム板を洗
浄することを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版用支持
体の製造方法、平版印刷版用支持体、および平版印刷原
版に係り、特に、廃水の排出量が少ない平版印刷版用支
持体の製造方法、前記方法で製造された平版印刷版用支
持体、および前記平版印刷版用支持体の表面に感熱性ま
たは感光性の製版層を形成した平版印刷原版に関する。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷版の原版である平版印刷原版
は、一般的に、純アルミニウムまたはアルミニウム合金
（以下、「アルミニウム等」ということがある。）の板
の表面を粗面化し、次いで前記表面を陽極酸化処理する
ことにより、陽極酸化皮膜を形成して平版印刷版用支持
体を得、前記平版印刷版用支持体における陽極酸化皮膜
が形成された表面に感光性樹脂または感熱性樹脂を塗布
して感光性または感熱性の製版層を形成するという手順
に従って作製される。

【０００３】前記平版印刷原版の製版層に文字および絵
などの印刷画像を焼き付け、現像することにより、平版
印刷版が作製される。

【０００４】前記アルミニウム等の板（以下、「アルミ
ニウム板」という。）の粗面化においては、ナイロンな
どの毛を有するブラシローラまたは表面が研磨布からな
る研磨ローラ等による機械的粗面化処理、アルカリ溶液
中で前記アルミニウム板の表面を化学的に粗面化するエ
ッチング処理、および前記アルミニウム板を電極の一方
として、酸性電解液中で交流を印加して電気分解を行う
交流電解粗面化などの電解粗面化処理などが行なわれて
いる。

【０００５】特に、印刷時の水バランスを付与する目的
で、機械的粗面化処理を行い、次いでエッチング処理お
よび電解粗面化処理を施すことが一般的である。

【０００６】更に、前記電解粗面化処理および前記化学
的粗面化処理の後に、前記アルミニウム板を酸性溶液に
浸漬するデスマット処理を施し、前記電解粗面化および
化学的粗面化処理によって表面に析出した酸化鉄や水酸
化鉄などの不純物を除去することもある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、前記粗面化処理および陽極酸化処理の後にアルミニ
ウム板を水洗していたので、大量の洗浄水が必要であ
り、また、前記アルミニウム板の水洗で排出される廃水
の処理にも大型の設備と膨大な労力とが必要であった。

【０００８】また、スクラップ材およびリサイクル材な
どの再生アルミニウム地金が新地金よりも安価であり、
製造時のエネルギー消費が少なく、資源の節約にもなる
ことから、前記再生アルミニウム地金から製造されたア
ルミニウム板から平版印刷版用原版を製造することが検
討されてきた。

【０００９】しかし、前記再生アルミニウム地金は、新
地金とは異なり、合金成分の制御は殆どされてなく、各
種の不純物を含んでいる。

【００１０】したがって、前記再生アルミニウム地金か
ら製造されたアルミニウム板の表面には、前記不純物に
由来する種々の金属間化合物や析出物が露出するので、
前記アルミニウム板を用いた平版印刷原版においては、
陽極酸化皮膜に欠陥が生じ易く、印刷紙面の全面に点状
にインキが付着する過酷インキ汚れが発生しやすかっ
た。

【００１１】また、前記平版印刷原版の表面に露出した
金属間化合物や析出物に起因し、印刷紙面における印刷
画像以外の部分に点状にインキが付着する所謂ポツ汚れ
や、オフセットローラのゴム胴すなわちブランケットに
インキが付着し、このインキが印刷紙面に付着する所謂
ブラン汚れが生じ易いという問題もあった。

【００１２】本発明は、従来の方法に比較して洗浄廃水
の発生量を大幅に削減でき、しかも前記再製アルミニウ
ム地金から製造されたアルミニウム板を用いた場合に
も、耐過酷インキ汚れ性に優れ、ポツ汚れやブラン汚れ
が生じることがなく、耐刷性に優れた平版印刷原版が得
られる平版印刷版用支持体を製造できる平版印刷版用支
持体の製造方法を提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、アルミニウム板の少なくとも一方の面に少なくとも
１種の粗面化処理を施す粗面化工程を有してなり、前記
粗面化処理後に、前記アルミニウム板の表面にドライア
イス粒子を噴射して前記アルミニウム板を洗浄すること
を特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法に関する。

【００１４】前記平版印刷版用支持体の製造方法によれ
ば、洗浄廃水の発生量が大幅に削減できる。

【００１５】また、ドライアイス粒子を噴射して洗浄す
ることにより発生した廃液からドライアイスを蒸発させ
れば、前記廃液を濃縮できるから、前記廃液の再利用が
容易である。したがって、再製地金から作製したアルミ
ニウム板を用いた場合にも、更なるコストダウンが可能
である。

【００１６】請求項２に記載の発明は、アルミニウム板
の少なくとも一方の面に少なくとも１種の粗面化処理を
施す粗面化工程と、前記粗面化工程において粗面化処理
を施したアルミニウム板を陽極酸化処理し、前記アルミ
ニウム板の表面に陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化工程
とを有してなり、前記粗面化処理後および前記陽極酸化
処理後の何れかまたは両方において、前記アルミニウム
板の表面にドライアイス粒子を噴射して前記アルミニウ
ム板を洗浄することを特徴とする平版印刷版用支持体の
製造方法に関する。

【００１７】前記平版印刷版用支持体の製造方法におい
ては、前記粗面化工程の後に前記アルミニウム板に、耐
磨耗性の高い陽極酸化皮膜を形成しているから、前記製
造方法で得られる平版印刷版用支持体からは、耐久性に
優れた平版印刷原版が作製できる。

【００１８】請求項３に記載の発明は、前記粗面化処理
は、前記アルミニウム板を機械的に粗面化する機械的粗
面化処理、前記アルミニウム板を化学的に粗面化するエ
ッチング処理、および前記アルミニウム板に交流または
直流を印加して電気化学的に粗面化する電解粗面化処理
のうちの少なくとも１種である平版印刷版用支持体の製
造方法である。

【００１９】機械的粗面化処理においては、パミススト
ーンや珪砂などの研磨材を用いるから、機械的粗面化処
理でアルミニウム板の表面に付着した研磨材を水洗によ
って除去しようとすると大量の洗浄水が必要になり、ま
た、大量の廃水が発生する。また、エッチング処理およ
び電解粗面化処理の後に水洗を行っても大量の廃水が発
生する。

【００２０】しかし、前記平版印刷版用支持体の製造方
法においては、ドライアイス粒子を噴射して前記研磨材
を除去するから、前記水洗に使用する洗浄水が不要にな
り、、廃水の発生量も大幅に削減できる。

【００２１】請求項４に記載の発明は、前記粗面化工程
において、前記アルミニウム板に機械的粗面化処理を施
し、次いでエッチング処理および電解粗面化処理の少な
くとも一方を施す平版印刷版用支持体の製造方法に関す
る。

【００２２】前記製造方法によれば、粗面化された側の
面に製版層を形成することにより、印刷時の水バランス
に優れた平版印刷原版が得られる平版印刷版用支持体を
製造できる。

【００２３】前記製造方法において、機械的粗面化処理
の後に、エッチング処理または電解粗面化処理の少なく
とも一方を施すときは、機械的粗面化処理の後と、前記
エッチング処理または前記電解粗面化処理の後とにドラ
イアイス粒子を噴射してもよく、前記エッチング処理ま
たは前記電解粗面化処理の後にのみ、ドライアイス粒子
を噴射してもよい。

【００２４】また、機械的粗面化処理の後に、エッチン
グ処理と電解粗面化処理との両方を施すときは、各粗面
化処理の後にドライアイス粒子を噴射してもよく、機械
的粗面化後のドライアイス粒子の噴射を省略してもよ
く、エッチング処理と電解粗面化処理との間、またはエ
ッチング処理と電解粗面化処理との後におけるドライア
イス粒子の噴射を省略してもよい。

【００２５】請求項５に記載の発明は、前記陽極酸化工
程において、前記陽極酸化処理を施したアルミニウム板
の表面を親水化する親水化処理を行なう平版印刷版用支
持体の製造方法に関する。

【００２６】前記製造方法で得られた平版印刷版用支持
体に製版層を形成した平版印刷原版は、陽極酸化皮膜と
製版層との間の接着性が高いから、耐刷性に特に優れて
いる。

【００２７】請求項６に記載の発明は、前記陽極酸化工
程において、前記陽極酸化処理により形成された陽極酸
化皮膜における細孔を封ずる封孔処理を行なう平版印刷
版用支持体の製造方法に関する。

【００２８】前記製造方法で得られた平版印刷版用支持
体においては、陽極酸化皮膜の欠陥が特に少ないから、
前記平版印刷版用支持体から得られた平版印刷原版は、
耐久性に特に優れる。

【００２９】請求項７に記載の発明は、前記アルミニウ
ム板が、アルミニウム含有量が９９．４〜９５重量％で
あり、しかも、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、
Ｃｒ、およびＴｉからなる群より選択された１以上の元
素を含有するアルミニウム地金から製造されてなる平版
印刷版用支持体の製造方法に関する。

【００３０】前記アルミニウム地金としては、前記再生
アルミニウム地金が挙げられる。前記スクラップ材およ
び再生アルミニウム地金は、前述のように、新地金に比
較して安価であるから、前記製造方法によれば、平板印
刷版用支持体をより安価に製造できる。

【００３１】請求項８に記載の発明は、請求項１〜７の
何れか１項に記載の平版印刷版用支持体の製造方法によ
り製造されたことを特徴とする平版印刷版用支持体に関
する。

【００３２】前記平板印刷版用支持体における粗面化処
理が施された側の面に、感光性または感熱性の製版層を
形成することにより、過酷インキ汚れ、ブラン汚れ、ポ
ツ汚れなどが発生することがなく、耐刷性に優れた平板
印刷原版が得られる。

【００３３】請求項９に記載の発明は、請求項８に記載
の平版印刷版用支持体における粗面化処理された側の面
に、感光性または感熱性の製版層を形成してなることを
特徴とする平版印刷原版に関する。

【００３４】前記平板印刷原版は、過酷インキ汚れ、ブ
ラン汚れ、ポツ汚れなどが発生することがなく、耐刷性
に優れている。

【００３５】

【発明の実施の形態】１．アルミニウム板 本発明において使用されるアルミニウム板としては、前
記アルミニウム等から形成されたシートまたは板材のほ
か、スクラップ材および再生アルミニウム地金などから
形成されたシートまたは板材が挙げられる。

【００３６】前記アルミニウム等としては、たとえばＪ
ＩＳ Ａ−１０５０材、ＪＩＳ Ａ−１１００材などの
純アルミニウム材、およびＪＩＳ Ａ−３００３材、Ｊ
ＩＳＡ−３１０３材、ＪＩＳ Ａ−５００５材などのア
ルミニウム合金材などが挙げられる。

【００３７】前記再生アルミニウム地金は、前述のよう
に、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、およ
びＴｉなどの各種の元素を含んでいてもよいが、アルミ
ニウムの含有量が９９．４〜９５重量％の範囲であるこ
とが好ましい。

【００３８】Ｆｅの含有率は０．３〜１．０重量％であ
るのが好ましい。Ｆｅは新地金においても０．１〜０．
２重量％前後含有される元素で、アルミニウム中に固溶
する量は少なく、殆どが金属間化合物として残存する。
Ｆｅの含有率が前記範囲であるアルミニウム板は、圧延
途中に割れが発生し難く、しかも安価であるから好まし
い。より好ましいＦｅの含有率は０．５〜１．０重量％
である。

【００３９】Ｓｉの含有率は０．１５〜１．０重量％で
あるのが好ましい。ＳｉはＪＩＳ２０００系、４０００
系、６０００系材料のスクラップに多く含まれる元素で
ある。また、新地金においても０．０３〜０．１重量％
前後含有される元素であり、アルミニウム中に固溶した
状態、または、金属間化合物として存在する。Ｓｉが過
剰に含まれているアルミニウム地金を加熱すると、固溶
していたＳｉが単体Ｓｉとして析出することがある。Ｆ
ｅＳｉ系の金属間化合物と単体Ｓｉとは耐過酷インキ汚
れ性に悪影響を与えることが知られている。しかし、Ｓ
ｉの含有率が前記範囲内であれば、たとえ前記金属間化
合物および単体Ｓｉが表面に析出しても、後述する硫酸
による処理（デスマット処理工程）で充分に除去できる
から、耐過酷インキ汚れ性などの点で問題が生じること
はなく、また、コスト的にも有利である。より好ましい
Ｓｉの含有率は０．３〜１．０重量％である。

【００４０】Ｃｕの含有率は０．１〜１．０重量％であ
るのが好ましい。ＣｕはＪＩＳ２０００系、４０００系
材料のスクラップに多く含まれる元素であり、比較的ア
ルミニウムに中に固溶しやすい。Ｃｕの含有率が前記範
囲内であれば、前記デスマット処理により充分に除去で
き、また、コスト面でも有利である。より好ましいＣｕ
の含有率は０．３〜１．０重量％である。

【００４１】Ｍｇの含有率は０．１〜１．５重量％であ
るのが好ましい。ＭｇはＪＩＳ２０００系、３０００
系、５０００系、７０００系材料のスクラップに多く含
まれる元素である。特にｃａｎ ｅｎｄ材に多く含まれ
るため、スクラップ材に含まれる主要な不純物金属の１
つである。Ｍｇも比較的アルミニウム中に固溶しやす
く、Ｓｉと金属間化合物を形成する。しかし、Ｍｇの含
有率が前記範囲内であれば、前記金属間化合物は、前記
デスマット処理で容易に除去できるから、たとえスクラ
ップ材や再生アルミニウム地金を圧延したアルミニウム
板を用いた場合においても、所謂バージン材から作製し
た平版印刷原版とほぼ同様の性能を有する平版印刷原版
が得られる。より好ましいＭｇの含有率は０．５〜１．
５重量％で、さらに好ましくは１．０〜１．５重量％で
ある。

【００４２】Ｍｎの含有率は０．１〜１．５重量％であ
るのが好ましい。ＭｎはＪＩＳ３０００系材料のスクラ
ップに多く含まれる元素である。特にｃａｎ ｂｏｄｙ
材に多く含まれるため、スクラップ材に含まれる主要な
不純物金属の１つである。Ｍｎも比較的アルミニウム中
に固溶しやすく、ＡｌＦｅＳｉと金属間化合物を形成す
る。しかし、Ｍｎの含有率が前記範囲内であれば、Ｓｉ
およびＭｇのところで述べたのと同様の理由から好まし
い。より好ましいＭｎの含有率は０．５〜１．５重量
％、さらに好ましくは１．０〜１．５重量％である。

【００４３】Ｚｎの含有率は０．１〜０．５重量％であ
るのが好ましい。Ｚｎは、特にＪＩＳ７０００系のスク
ラップに多く含まれる元素であり、比較的アルミニウム
中に固溶しやすい。しかし、Ｚｎの含有率が前記範囲内
であれば、前記デスマット処理により、容易に除去でき
るから、所謂バージン材から作製した平版印刷原版とほ
ぼ同様の性能を有するものが安価に得られる点で好まし
い。より好ましいＺｎの含有率は０．３〜０．５重量％
である。

【００４４】Ｃｒの含有率は０．０１〜０．１重量％で
あるのが好ましい。ＣｒはＪＩＳ５０００系、６０００
系、７０００系のスクラップに少量含まれる不純物金属
である。Ｃｒの含有率が前記範囲内であれば、前記デス
マット処理により充分除去できるから、耐過酷インキ汚
れ性などの点で問題になることはない。また、コスト的
にも有利である。より好ましいＣｒの含有率は０．０５
〜０．１重量％である。

【００４５】Ｔｉの含有率は０．０３〜０．５重量％で
あるのが好ましい。Ｔｉは通常結晶微細化材として０．
０１〜０．０４重量％添加される元素である。ＪＩＳ５
０００系、６０００系、７０００系のスクラップには不
純物金属として比較的多めに含まれる。Ｔｉの含有率が
前記範囲内であれば、ＣｒおよびＺｎのところで述べた
のと同様の理由から好ましい。より好ましいＴｉの含有
率は０．０５〜０．５重量％である。

【００４６】本発明で用いるアルミニウム板は、例え
ば、前記アルミニウム等、スクラップ材、または再生ア
ルミニウム地金を常法で鋳造した鋳塊に、適宜圧延処理
や熱処理を施し、厚さ０．１〜０．７ｍｍまで圧延し、
必要に応じて平面性矯正処理を施して製造される。

【００４７】なお、前記アルミニウム等、スクラップ
材、再生アルミニウム地金の鋳造方法としては、ＤＣ鋳
造法、ＤＣ鋳造法において均熱処理および焼鈍処理の少
なくとも一方を省略した方法、および連続鋳造法を用い
ることができる。

【００４８】前記アルミニウム板は、帯状の薄板の連続
体であるアルミニウムウェブであってもよいし、最終製
品である平版印刷原版のサイズに予め切断された枚葉状
のシートであってもよい。

【００４９】２．粗面化工程および陽極酸化工程 本発明の平板印刷版用支持体の製造方法は、前記アルミ
ニウム板の表面を粗面化する粗面化工程のみを有しても
よく、前記粗面化工程に加えて、前記粗面化工程におい
て粗面化されたアルミニウム板の表面を陽極酸化処理す
る陽極酸化工程を有していてもよい。

【００５０】前記粗面化工程に加えて陽極酸化工程を有
する場合には、粗面化工程と陽極酸化工程とにおいてド
ライアイス粒子の噴射を行うことが好ましい。

【００５１】前述のように、粗面化工程においては、通
常、アルミニウム板に、機械的粗面化処理、エッチング
処理、および電解粗面化処理の少なくとも１種の粗面化
処理を施す。

【００５２】前記アルミニウム板に、機械的粗面化処理
を施し、次いで、エッチング処理、電解粗面化処理の順
に粗面化処理を施すことが好ましいが、前記機械的粗面
化処理を省略してもよい。また、エッチング処理の後に
デスマット処理を行なってもよい。

【００５３】更に、前記電解粗面化処理を施したアルミ
ニウム板に２回目のエッチング処理を施してもよい。２
回目のエッチング処理を施す場合には、１回目および２
回目のエッチング処理の後にデスマット処理を行なって
も良い。

【００５４】更に、前記アルミニウム板に、１回目のエ
ッチング処理およびデスマット処理を施し、次いで、予
備の電解粗面化処理を施し、その後、２回目のエッチン
グ処理およびデスマット処理を施し、電解粗面化処理を
施し、最後に３回目のエッチング処理およびデスマット
処理を施してもよい。

【００５５】前記粗面化工程において粗面化処理を１回
だけ行なう場合には、前記粗面化処理の後にドライアイ
ス粒子を噴射することが好ましい。

【００５６】一方、前記粗面化工程において２回以上の
粗面化処理を行なう場合には、最後の粗面化処理の後に
ドライアイス粒子を噴射してもよいが、各粗面化処理の
後にドライアイス粒子を噴射することが好ましい。ま
た、エッチング処理の後にデスマット処理を行なう場合
には、エッチング処理の後とデスマット処理の後とにド
ライアイス粒子を噴射することが好ましい。

【００５７】前記陽極酸化工程においては、前記粗面化
工程で粗面化したアルミニウム板を陽極酸化処理した
後、陽極酸化皮膜を親水化する親水化処理を施したり、
前記陽極酸化皮膜の細孔を塞ぐ封孔処理を施したりして
もよい。

【００５８】前記陽極酸化工程において親水化処理また
は封孔処理などの後処理を行なう場合には、前記親水化
処理または封孔処理の後にドライアイス粒子を噴射する
ことが好ましい。

【００５９】（１）ドライアイス粒子噴射 ドライアイス粒子としては、ドライアイス粉末およびド
ライアイスペレットの何れも使用できる。ドライアイス
粒子の平均粒子径は、１〜１０００μｍの範囲が好まし
く、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。

【００６０】ドライアイス粒子噴射は、たとえば図１に
示すドライアイス粉末噴射装置１００を用いて行なうこ
とができる。

【００６１】図１に示すように、ドライアイス粉末噴射
装置１００は、液化炭酸を急激に膨張させてドライアイ
ス粉末に変化させる膨張室Ａと、膨張室Ａに液化炭酸を
供給する炭酸ガスボンベＢと、膨張室Ａで生成したドラ
イアイス粉末を噴射するドライアイス噴射ノズルＣと、
前記ドライアイス噴射ノズルＣに窒素ガスを供給する窒
素ガスボンベＤとを備える。

【００６２】炭酸ガスボンベＢと膨張室Ａとは液化炭酸
供給管路Ｂ２で接続され、膨張室Ａとドライアイス噴射
ノズルＣとは、ドライアイス粉末吸出し管路Ａ２で接続
されている。一方、窒素ガスボンベＤとドライアイス噴
射ノズルＣとの間には、窒素ガス供給管路Ｄ２が設けら
れている。

【００６３】液化炭酸供給管路Ｂ２および窒素ガス供給
管路Ｄ２には、それぞれ減圧弁Ｂ４およびＤ４が設けら
れている。

【００６４】ドライアイス噴射ノズルＣの構成の詳細を
図２に示す。図２に示すように、ノズルＣは、前記ドラ
イアイス粉末を噴射する略円筒状のドライアイス噴射管
Ｃ２と、ドライアイス噴射管Ｃ２の一端に連続して形成
され、Ｓ字状に屈曲し、ドライアイス噴射管Ｃ２の内径
よりも大きな内径を有する拡大部が内部に形成されたエ
ジェクタＣ４と、エジェクタＣ４内部に先端部が貫入し
たドライアイス供給管Ｃ６とを備える。

【００６５】エジェクタＣ４におけるドライアイス噴射
管Ｃ２に連続する側の端部においては、拡大部は、内径
が円錐状に縮小し、ドライアイス噴射管Ｃ２の内壁に連
続する縮径部Ｃ８を形成している。

【００６６】ドライアイス供給管Ｃ６は、全体として略
円筒状であり、先端には、ドライアイス噴射管Ｃ２の内
径よりも僅かに小さな外径を有する円筒状の小径部Ｃ１
０が形成されている。小径部Ｃ１０は、噴射管２の内壁
面における縮径部Ｃ８近傍の部分に、ドライアイス噴射
管Ｃ２に対して同心に延在している。したがって、小径
部Ｃ１０と、エジェクタＣ４における縮径部Ｃ８および
ドライアイス噴射管Ｃ２の内壁面との間には、円筒状の
狭小な隙間が形成される。

【００６７】エジェクタＣ４におけるドライアイス噴射
管Ｃ２に連続する側とは反対側の端部には、窒素ガス供
給管路Ｄ２が接続され、ドライアイス供給管Ｃ６におけ
るドライアイス粉末を噴射する側とは反対側の端部に
は、ドライアイス粉末吸出し管路Ａ２が接続されてい
る。ドライアイス供給管Ｃ６とドライアイス粉末吸出し
管路Ａ２との間、およびエジェクタＣ４と窒素ガス供給
管路Ｄ２との間との間には、それぞれロータリージョイ
ントＣ１２およびＣ１４が介装されている。ロータリー
ジョイントＣ１２およびＣ１４により、ドライアイス供
給管Ｃ６とドライアイス粉末吸出し管路Ａ２、およびエ
ジェクタＣ４と窒素ガス供給管路Ｄ２とは、互いに回転
可能に結合されている。

【００６８】ドライアイス粉末噴射装置１００の作用に
ついて以下に説明する。

【００６９】炭酸ガスボンベＢから膨張室Ａに液化炭酸
を供給すると、前記液化炭酸は、膨張室Ａ内で急激に膨
張して半分が雪状のドライアイス粉末になり、残りが気
化する。そして、前記ドライアイス粉末は、膨張室Ａ内
に蓄積する。炭酸ガスボンベＢからの膨張室Ａへの液化
炭酸の供給量は、ドライアイス噴射ノズルＣ１個当たり
０．１〜１ｋｇ／分の範囲が好ましく、供給圧力は、１
〜２０ＭＰａが好ましい。

【００７０】一方、窒素ガスボンベＤからドライアイス
噴射ノズルＣに窒素ガスを供給すると、前記窒素ガス
は、ドライアイス供給管Ｃ６における小径部Ｃ１０と、
エジェクタＣ４における縮径部Ｃ８およびドライアイス
噴射管Ｃ２の内壁面との間の狭小な隙間を高速で流通
し、ドライアイス噴射管Ｃ２の先端から外部に噴射され
る。これにより、ドライアイス噴射管Ｃ２の内部におけ
る小径部Ｃ１０の先端近傍に減圧部が形成されるから、
膨張室Ａ内部のドライアイス粉末は、ドライアイス粉末
吸出し管路Ａ２およびドライアイス供給管Ｃ６を通って
ドライアイス噴射管Ｃ２の内部に吸い出される。そし
て、前記窒素ガスの流れに乗ってドライアイス噴射管Ｃ
２の先端から外部に噴射される。

【００７１】前記ドライアイス粉末噴射装置１００にお
いて平均粒径１０００μｍ程度のドライアイスペレット
を噴射するときは、ドライアイス粉末をペレット化して
ドライアイスペレットにするペレタイザを膨張室Ａに設
け、前記ペレタイザで得られたドライアイスペレットを
ドライアイス噴射ノズルＣから噴射することが好まし
い。

【００７２】ドライアイス噴射ノズルＣからアルミニウ
ム板に前記ドライアイス粉末を噴射する圧力は、１〜２
０ＭＰａが好ましい。また、ドライアイス噴射ノズルＣ
の先端から洗浄しようとするアルミニウム板までの間隔
は、１〜１００ｍｍが好ましく、特に１０〜５０ｍｍの
範囲が好ましい。

【００７３】（２）粗面化処理 （２−１）機械的粗面化処理 機械的粗面化処理においては、前記アルミニウム板の一
方または両方の面を、円柱状の胴の表面に、ナイロン
（商標名）、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂
からなる合成樹脂毛などのブラシ毛を多数植設したロー
ラ状ブラシを用いて擦って粗面化することが一般的であ
る。但し、表面に研磨層を設けたローラである研磨ロー
ラを使用してもよい。

【００７４】前記ローラ状ブラシにおけるブラシ毛の長
さは、前記ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じ
て適宜定めることができるが、一般的には、１０〜１０
０ｍｍの範囲である。

【００７５】研磨材としては、珪砂およびパミスストー
ンが使用されるが、珪砂は、パミスストーンに比較して
硬く、壊れ難いので、アルミニウム板の表面を非常に効
率良く目立てできるから好ましい。

【００７６】前記研磨材の平均粒径は、粗面化効率が高
く、しかも砂目立てピッチが狭くできる点から、３〜４
０μｍの範囲が好ましく、特に、１０〜３０μｍの範囲
が好ましい。

【００７７】前記研磨材は、例えば水中に懸濁させた研
磨スラリー液として使用できる。前記研磨スラリー液に
は、他に、増粘剤、界面活性剤等の分散剤、および防腐
剤等を配合してもよい。

【００７８】前記ローラ状ブラシを用いた機械的粗面化
装置の一例を図３に示す。

【００７９】図３に示す機械的粗面化装置１１０は、本
発明におけるアルミニウム板の一例であるアルミニウム
ウェブＷが搬送される経路である搬送面Ｔの上方に配設
され、前記アルミニウムウェブＷの上面を粗面化する３
本のローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃと、ローラ
状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃのそれぞれに対し、前
記搬送面Ｔを挟んで反対側に２個づつ設けられ、アルミ
ニウムウェブＷを下方から支持する支持ローラ４Ａ、４
Ａ’、４Ｂ、４Ｂ’、４Ｃ、および４Ｃ’と、上面が開
口した箱状であり、ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、
および支持ローラ４Ａ、４Ａ’、４Ｂ、４Ｂ’、４Ｃ、
４Ｃ’を収容する筐体８とを備えている。

【００８０】ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃの
それぞれにおけるアルミニウムウェブＷの搬送方向ｔに
対して上流側（以下、単に「上流側」という。）には、
アルミニウムウェブＷの上面に前記珪砂のスラリーであ
る研磨材スラリーを供給するスラリー供給管６Ａ、６
Ｂ、および６Ｃが設けられている。

【００８１】ローラ状ブラシ２Ａ，２Ｂ、２Ｃの回転速
度は、１００〜１０００回転／分程度が好ましく、又、
回転方向は、アルミニウムウェブＷにおける研磨面にお
いて、アルミニウムウェブＷの搬送方向ｔと同方向であ
っても反対方向であってもよい。

【００８２】また、ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および
２Ｃのそれぞれには、ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、およ
び２Ｃを上下方向に移動させるブラシ移動機構（図示せ
ず。）を設けてもよい。前記ブラシ移動機構を設けるこ
とにより、前記ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃ
のアルミニウムウェブＷへの押圧力が調節できる。

【００８３】筐体８の上方における上流側には、機械的
粗面化装置１１０に向かって搬送されたアルミニウムウ
ェブＷを筐体８の内部に導く１対の入口側ニップローラ
１０が設けられ、下流側には、ローラ状ブラシ２Ａ、２
Ｂ、および２Ｃで粗面化されたアルミニウムウェブＷを
筐体８の外部に導く１対の出口側ニップローラ１２が設
けられている。また、ローラ状ブラシ２Ａの上流側に
は、入口側ニップローラ１０により筐体８の内部に導か
れたアルミニウムウェブＷをローラ状ブラシ２Ａと支持
ローラ４Ａとの間に導く上流側ガイドローラ１４が設け
られ、ローラ状ブラシ２Ｃの下流側には、ローラ状ブラ
シ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃで粗面化されたアルミニウム
ウェブＷを出口側ニップローラ１２に導く下流側ガイド
ローラ１６が設けられている。なお、出口側ニップロー
ラ１２は、アルミニウムウェブＷに付着した研磨材スラ
リーを切り、後述するドライアイス洗浄装置１２０に前
記研磨材スラリーが大量に持ち込まれるのを防止する機
能も有する。

【００８４】筐体８の下方には、スラリー供給管６Ａ、
６Ｂ、および６Ｃから供給された研磨材スラリーを回収
するスラリー回収槽１８が設けられている。筐体８の底
面には、前記研磨材スラリーをスラリー回収槽１８に落
下させるスラリー回収管路２０が接続されている。

【００８５】スラリー回収槽１８の底面近傍には、スラ
リー回収槽１８中の研磨材スラリーをスラリー供給管６
Ａ、６Ｂ、６Ｃに供給するスラリー供給管路２２が接続
されている。スラリー供給管路２２にはポンプＰ１が介
装されている。

【００８６】機械的粗面化装置１１０には、更に、スラ
リー回収槽１８中の研磨材スラリーに含まれる研磨材の
平均粒径が一定になるように調整する粒子径調整部２４
が設けられている。

【００８７】粒子径調整部２４は、前記研磨材スラリー
から粒径の小さな粒子を分離して除去するサイクロンな
どの分級器２６と、スラリー回収槽１８中の研磨材スラ
リーを分級器２６に導入する管路２８と、分級器２６で
分級された研磨材のうち粒径の大きな方をスラリー回収
槽１８に戻すスラリー戻し管路３０と、前記研磨材のう
ち粒径の小さな方を排出するスラリー排出管路３２とを
備える。なお、管路２８にはポンプＰ２が介装されてい
る。

【００８８】スラリー回収槽１８には、更に、内部の研
磨材スラリーを攪拌して研磨材が沈殿しないようにする
攪拌機３４が設けられている。

【００８９】機械的粗面化装置１１０の搬送方向ｔに対
して下流側（以下、単に「下流側」という。）には、機
械的粗面化装置１１０で機械的粗面化処理されたアルミ
ニウムウェブＷの表面をドライアイス粒子で洗浄するド
ライアイス洗浄装置１２０が配設されている。

【００９０】ドライアイス洗浄装置１２０は、内部をア
ルミニウムウェブＷが通過する筐体３６と、筐体３６の
内部に配設され、アルミニウムウェブＷの両面にドライ
アイス粒子を噴射するドライアイス噴射ノズルＣとを有
する。

【００９１】ドライアイス噴射ノズルＣは、図１に示す
ように、ドライアイス粉末噴射装置１００に接続されて
いる。詳細な構成は、図２に示す通りである。

【００９２】ドライアイス噴射ノズルＣは、ドライアイ
ス噴射管Ｃ２の先端がアルミニウムウェブＷに向くよう
に配設されている。ドライアイス噴射ノズルＣは、図４
に示すように、搬送方向ｔに対する角度θがある一定の
角度、例えば４５℃である仮想線に沿って１列または２
列以上に配列することができる。なお、図４において、
前記仮想線を１点鎖線で示す。図４に示すようにドライ
アイス噴射ノズルＣを配列すれば、図５に示すように、
ドライアイス噴射管Ｃ２からアルミニウムウェブＷに噴
射されたドライアイス粒子の噴射パターンＢｐが互いに
重なるから、前記アルミニウムウェブＷの表面に、幅方
向の洗浄むらが生じ難い故に好ましい。

【００９３】筐体３６の上面には、アルミニウムウェブ
Ｗに噴射されたドライアイス粒子が昇華して生じた炭酸
ガスを外部に排出する排気ダクト３６Ａが設けられ、筐
体３６の底面には、アルミニウムウェブＷの表面から除
去された研磨材スラリーを外部に排出する排液管３６Ｂ
が設けられている。

【００９４】（２−２）エッチング処理 前記エッチング処理は、通常、前記アルミニウム板をア
ルカリ剤に接触させることにより行なわれる。

【００９５】アルミニウム板をアルカリ剤に接触させる
方法としては、例えば前記アルカリ剤を収容する槽中に
前記アルミニウム板を連続的に通過させる方法、前記ア
ルカリ剤を収容する槽中に前記アルミニウム板を浸漬す
る方法、および前記アルカリ剤を前記アルミニウム板の
表面に噴霧する方法などがある。

【００９６】前記アルカリ剤としては、苛性アルカリお
よびアルカリ金属塩の溶液等が挙げられる。前記溶液に
おける苛性アルカリおよびアルカリ金属塩の濃度は０．
０１〜３０重量％が好ましく、温度は２０〜９０℃の範
囲が好ましい。

【００９７】苛性アルカリとしては、苛性ソーダおよび
苛性カリ等が挙げられる。

【００９８】前記アルカリ金属塩としては、メタ珪酸ソ
ーダ、珪酸ソーダ、メタ珪酸カリ、および珪酸カリ等の
アルカリ金属珪酸塩、炭酸ソーダおよび炭酸カリ等のア
ルカリ金属炭酸塩、アルミン酸ソーダおよびアルミン酸
カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩、グルコン酸ソーダ
およびグルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩、
並びに第二燐酸ソーダ、第二燐酸カリ、第三燐酸ソー
ダ、および第三燐酸カリ等のアルカリ金属燐酸水素塩等
が挙げられる。前記アルカリ剤としては、エッチング速
度が速い点および安価である点から、苛性アルカリの溶
液、および前記苛性アルカリとアルカリ金属アルミン酸
塩との溶液が特に好ましい。

【００９９】エッチング量は、０．１〜２０ｇ／ｍ²の
範囲が好ましく、１〜１５ｇ／ｍ²の範囲が特に好まし
く、２〜１０ｇ／ｍ²の範囲が最も好ましい。エッチン
グ時間は、１〜１８０秒の範囲が好ましい。エッチング
量およびエッチング時間が前記範囲内であれば、機械的
粗面化処理で平版印刷版用支持体の表面に形成された凹
凸が適度に残存するから、非画像部における保水性が高
く、非画像部にインキが付着して所謂ブラン汚れなどの
外観不良を生じさせることのない平版印刷原版が作製で
きる平版印刷版用支持体が得られる。

【０１００】前記エッチング処理は、アルミニウム板の
エッチング処理に通常に使用されるエッチング槽を用い
て行うことができる。前記エッチング槽としては、バッ
チ式および連続式の何れも使用できる。また、前記エッ
チング槽の代わりに、前記アルカリ剤をアルミニウム板
に噴霧する噴霧装置を用いてもよい。なお、前記エッチ
ング槽または噴霧装置の下流側に、「（２−１）機械的
粗面化」のところで述べたドライアイス洗浄装置１２０
と同様のドライアイス洗浄装置を設け、前記エッチング
処理においてアルミニウム板の表面に付着したアルカリ
剤を、ドライアイス粒子を噴射することにより、除去す
ることが好ましい。

【０１０１】（２−３）電解粗面化処理 電解粗面化処理としては、酸性溶液中において前記アル
ミニウム板に直流または交流を印加して前記アルミニウ
ム板を電解する処理が挙げられるが、前記アルミニウム
板に交流を印加する交流電解粗面化が一般的である。

【０１０２】上記交流電解粗面化においては、酸性水溶
液中で、アルミニウム板を電極として交流電流を通じて
電解し、前記アルミニウム板の表面を粗面化する。

【０１０３】前記交流電解粗面化に用いる交流電流の波
形は、サイン波、矩形波、三角波、台形波等が挙げら
れ、この中でも矩形波および台形波が好ましい。

【０１０４】前記交流電流の周波数は、電源装置を製作
するコストの観点から３０〜２００Ｈｚが好ましく、４
０〜１２０Ｈｚがより好ましい。

【０１０５】前記交流電流におけるアノード反応時間ｔ
ａ、カソード反応時間ｔｃ、電流値が０から正または負
のピークに達するまでの時間ｔｐは、前記交流電流が台
形波である場合において、０．１〜２ｍｓｅｃが好まし
く、０．３〜１．５ｍｓｅｃがより好ましい。上記時間
ｔｐが０．１ｍｓｅｃ以上であれば、電源回路のインピ
ーダンスの影響が少なく、電流波形の立ち上がり時に大
きな電源電圧が不要であるから、電源の設備コストが安
価である。また、上記時間ｔｐが２ｍｓｅｃ以下であれ
ば、酸性水溶液中の微量成分の影響は無視できる程度で
あり、均一な粗面化処理が行なわれる。

【０１０６】一方、前記交流電流におけるアノードサイ
クル側のピーク時の電流Ｉａｐ、および、カソードサイ
クル側のピーク時の電流Ｉｃｐは、ともに１０〜２００
Ａ／ｄｍ²が好ましい。また、Ｉｃｐ／Ｉａｐは、０．
９〜１．５の範囲内にあることが好ましい。

【０１０７】上記粗面化処理工程において、電気化学的
な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード
反応にあずかる電気量の総和は、１〜５００クーロン／
ｄｍ ²が好ましい。

【０１０８】前記交流電解粗面化においては、アルミニ
ウム板が陽極となる時における電気量、即ち陽極時電気
量ＱＡと、陰極となる時における電気量、即ち陰極時電
気量ＱＣとの比ＱＣ／ＱＡが０．９〜１の範囲内であれ
ば、該アルミニウム板表面にハニカム状の細孔であるハ
ニカムピットを均一に形成することができるから好まし
い。特に、上記ＱＣ／ＱＡが０．９５〜０．９９の範囲
内であれば好ましい。

【０１０９】前記交流電解粗面化において用いられる交
流電流のｄｕｔｙは、アルミニウム板表面を均一に粗面
化する点から０．２５〜０．５の範囲内が好ましく、電
源装置の製作上の都合からは０．５が最も好ましい。本
発明でいうｄｕｔｙとは、交流電流の周期Ｔにおいて、
アルミニウム板が陽極反応する時間（アノード反応時
間）をｔａとしたときのｔａ／Ｔをいう。特に、カソー
ド反応時のアルミニウム板表面には、水酸化アルミニウ
ムを主体とするスマット成分が生成し、更に、酸化被膜
の溶解や破壊が発生することがある。そして、前記酸化
皮膜の溶解や破壊が生じると、前記溶解や破壊が生じた
部分は、次のアルミニウム板のアノード反応時における
ピッティング反応の開始点となる。したがって、交流電
流のｄｕｔｙの選択は均一な交流電解粗面化を行なう点
から特に重要である。

【０１１０】なお、前記交流電解粗面化において、交流
電流の流れない時間を１回以上設け、前記時間を０．０
０１秒以上０．６秒未満とすれば、前記ハニカムピット
がアルミニウム板の表面全体に均一に形成されるから好
ましい。

【０１１１】本発明に用いる酸性水溶液としては、通常
の直流電流または交流電流を用いた電機化学的な粗面化
処理に用いるものを使用でき、その中でも硝酸を主体と
する酸性水溶液を用いることが好ましい。ここで、本発
明でいう「主体とする」とは、水溶液中に主体となる成
分が、成分全体に対して、３０質量％以上、好ましくは
５０質量％以上含まれていることをいう。以下、他の成
分においても同様である。

【０１１２】上記硝酸を主体とする酸性水溶液として
は、上述の通り、通常の直流電流または交流電流を用い
た電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、例
えば、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモ
ニウム等の硝酸化合物のうち１つ以上を、０．０１ｇ／
リットルから飽和に達するまで、硝酸濃度５〜１５ｇ／
リットルの硝酸水溶液に添加して使用することができ
る。上記硝酸を主体とする酸性水溶液中には、Ｆｅ、Ｓ
ｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、およびＴｉ等のア
ルミニウム板中に含まれる金属等が溶解されていてもよ
い。

【０１１３】上記硝酸を主体とする酸性水溶液として
は、硝酸と、アルミニウム塩と、硝酸塩とを含有し、か
つ、アルミニウムイオンが１〜１５ｇ／リットル、好ま
しくは１〜１０ｇ／リットル、およびアンモニウムイオ
ンが１０〜３００ｐｐｍとなるように、硝酸濃度５〜１
５ｇ／リットルの硝酸水溶液中に硝酸アルミニウムおよ
び硝酸アンモニウムを添加して得られたものを用いるこ
とが好ましい。なお、上記アルミニウムイオンとアンモ
ニウムイオンとは電気化学的な粗面化処理をおこなって
いる間に自然発生的に増加していくものである。また、
この際の液温は１０〜９５℃が好ましく、４０〜８０℃
がより好ましい。

【０１１４】前記電解粗面化処理においては、縦型、フ
ラット型、およびラジアル型など、各種の電解槽が使用
できる。なお、前記電解槽の下流側に、「（２−１）機
械的粗面化」のところで述べたドライアイス洗浄装置１
２０と同様のドライアイス洗浄装置を設け、前記電解粗
面化処理においてアルミニウム板の表面に付着した酸性
水溶液を、ドライアイス粒子を噴射することにより除去
することが好ましい。

【０１１５】（２−４）デスマット処理 デスマット処理は、前記エッチング処理に前記アルミニ
ウム板の表面に生じたＦｅなどの酸化物および水酸化物
などを主体とする黒色の粉末であるスマットを除去する
処理である。

【０１１６】前記デスマット処理は、通常、硫酸、硝
酸、塩酸、燐酸、およびクロム酸のうち、一種以上を含
む酸性水溶液に前記アルミニウム板を浸漬するか、また
は前記アルミニウム板の表面に前記酸性水溶液を噴霧す
ることにより、行うことができる。

【０１１７】前記酸性水溶液中の酸濃度は、１〜５００
ｇ／リットルが好ましい。

【０１１８】前記酸性水溶液中には、アルミニウムイオ
ンおよび前記アルミニウム板中のＦｅなどの不純物に由
来する金属イオンが溶解していてもよいが、前記アルミ
ニウムイオンおよび金属イオンの溶解量は、０．１〜１
５ｇ／リットルが好ましい。

【０１１９】前記酸性溶液の液温は、２０〜９５℃が好
ましく、とくに３０〜８０℃が好ましい。

【０１２０】前記デスマット処理の時間は、１〜１８０
秒が好ましい。

【０１２１】前記酸性水溶液としては、前記電解粗面化
処理で使用された酸性水溶液を使用すれば、廃液量を削
減できるから好ましい。

【０１２２】なお、前記酸性水溶液としては、酸として
主に硫酸を含有する硫酸水溶液、酸として主に硝酸を含
有する硝酸水溶液、および酸として主に塩酸を含有する
塩酸水溶液が特に好ましい。特に、デスマット処理され
たアルミニウム板を陽極酸化処理する場合には、前記デ
スマット処理においては硫酸水溶液を使用することが好
ましい。

【０１２３】（ａ）硫酸水溶液 前記硫酸水溶液中の硫酸の濃度は、１００〜５００ｇ／
リットルが好ましく、特に２５０〜３００ｇ／リットル
が好ましい。液温は、６０〜９０℃が好ましい。また、
前記酸性水溶液のところで述べたアルミニウムイオンお
よび金属イオンを含有していてもよいが、アルミニウム
イオン濃度は、前記液温において、固形の硫酸アルミニ
ウムが析出しない程度であることが好ましく、具体的に
は、０．１〜１５ｇ／リットルの範囲が好ましく、特
に、０．１〜１０ｇ／リットルの範囲が好ましい。

【０１２４】前記硫酸水溶液中におけるデスマット処理
時間は、１〜１８０秒が好ましい。前記電解粗面化処理
前にデスマット処理を行なう場合には、特に６０〜１２
０秒の範囲が好ましく、後述する陽極粗面化処理前にデ
スマット処理を行なう場合には、特に１〜１０秒の範囲
が好ましい。

【０１２５】（ｂ）硝酸水溶液 前記硝酸水溶液中の硝酸の濃度は、１〜２０ｇ／リット
ルの範囲が好ましい。また、硝酸アルミニウム、硝酸ナ
トリウム、および硝酸アンモニウムから選択される硝酸
塩を１種以上含有していてもよい。前記硝酸塩の含有量
は、１ｇ〜飽和量／リットルが好ましい。更に、前記硝
酸水溶液中には、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ｃｒ、およびＴｉのイオンが含まれていてもよい。

【０１２６】前記硝酸水溶液としては、硝酸５〜１５ｇ
／リットル、アルミニウムイオン５〜１５ｇ／リット
ル、アンモニウムイオン１０〜３００ｐｐｍになるよう
に、希硝酸に硝酸アルミニウムおよび硝酸アンモニウム
を添加した溶液が最も好ましい。

【０１２７】液温は、４０〜８０℃が好ましく、５０〜
７０℃が最も好ましい。

【０１２８】（ｃ）塩酸水溶液 前記塩酸水溶液中の塩酸の濃度は、１〜２０ｇ／リット
ルの範囲が好ましい。また、塩化アルミニウム、塩化ナ
トリウム、および塩化アンモニウムから選択される塩化
物を１種以上含有していてもよい。前記塩化物の含有量
は、１ｇ〜飽和量／リットルが好ましい。更に、前記塩
酸水溶液中には、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚ
ｎ、Ｃｒ、およびＴｉのイオンが含まれていてもよい。

【０１２９】前記塩酸水溶液としては、塩酸５〜１５ｇ
／リットル、アルミニウムイオン５〜１５ｇ／リット
ル、アンモニウムイオン１０〜３００ｐｐｍになるよう
に、希塩酸に塩化アルミニウムおよび塩化アンモニウム
を添加した溶液が最も好ましい。

【０１３０】液温は、１０〜９５℃が好ましく、３０〜
５０℃が最も好ましい。

【０１３１】（３）陽極酸化処理 陽極酸化処理においては、前記粗面化処理が施されたア
ルミニウム板を、常法に従って陽極酸化処理する。

【０１３２】陽極酸化処理においては、たとえば硫酸、
燐酸、蓚酸、クロム酸、およびアミドスルホン酸の少な
くとも１種を含有する電解液中で、前記アルミニウム板
に直流または脈流を印加する。

【０１３３】陽極酸化処理に使用される電解液として
は、前記電解液のほかに、硫酸、燐酸、蓚酸、クロム
酸、およびアミドスルホン酸の少なくとも１種とアルミ
ニウムイオンとを含有するものも挙げられる。

【０１３４】電解液における電解質の濃度は、１〜８０
重量％の範囲が好ましく、温度は、５〜７０℃の範囲が
好ましい。

【０１３５】陽極酸化処理は、陽極酸化皮膜の量が０．
１〜１０ｇ／ｍ²になるように行なうことが、平版印刷
版用支持体の耐磨耗性、ひいては前記平版印刷版用支持
体を支持体とする平版印刷原版の耐久性の点から好まし
く、電流密度は、０．５〜６０Ａ／ｄｍ²の範囲が好ま
しく、電圧は、１〜１００Ｖの範囲が好ましい。電解時
間は１秒〜５分の範囲が好ましい。

【０１３６】３．平版印刷原版 本発明の平版印刷原版は、前記平版印刷版用支持体にお
ける機械的粗面化処理等を施した側の表面に感光性樹脂
を含有する感光性樹脂溶液を塗布し、暗所で乾燥するこ
とにより形成できる。

【０１３７】感光性樹脂溶液の塗布方法としては、回転
塗布法、ワイヤーバー法、ディップ塗布法、エアーナイ
フ塗布法、ロール塗布法、およびブレード塗布法等、従
来公知の方法が挙げられる。

【０１３８】前記平版印刷版用支持体の機械的粗面化処
理等を施した側の表面に感光性の製版層を形成するに
は、予め、必要に応じて、珪酸ソーダおよび珪酸カリ等
のアルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬して親水化処理す
るか、または、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合
物を塗布して親水性の下塗り層を形成することが好まし
い。

【０１３９】珪酸ソーダおよび珪酸カリ等のアルカリ金
属珪酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第２，
７１４，０６６号明細書および米国特許第３，１８１，
４６１号明細書に記載の方法および手順に従って行なう
ことができ、前記親水性の下塗り層の形成は、特開昭５
９−１０１６５１号公報および特開昭６０−１４９４９
１号公報に記載された条件および手順にしたがって行な
うことができる。前記親水性ビニルポリマーとしては、
ポリビニルスルホン酸、およびスルホン酸基を有するｐ
−スチレンスルホン酸等のスルホン酸基含有ビニルモノ
マーと（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の通常の
ビニルモノマーとの共重合体が挙げられ、親水性化合物
としては、ＮＨ₂基、−ＣＯＯＨ基、およびスルホン基
の少なくとも１つを有する化合物が挙げられる。

【０１４０】前記製版層の形成に使用される感光性樹脂
としては、光が当たると現像液に溶けるようになるポジ
型感光性樹脂、および光が当たると現像液に溶解しなく
なるネガ型感光性樹脂が挙げられる。

【０１４１】ポジ型感光性樹脂としては、キノンジアジ
ド化合物およびナフトキノンジアジド化合物等のジアジ
ド化合物と、フェノールノボラック樹脂およびクレゾー
ルノボラック樹脂等のフェノール樹脂との組み合わせ等
が挙げられる。

【０１４２】一方、ネガ型感光性樹脂としては、芳香族
ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等のアルデヒド類と
の縮合物等のジアゾ樹脂、前記ジアゾ樹脂の無機酸塩、
および前記ジアゾ樹脂の有機酸塩等のジアゾ化合物と、
（メタ）アクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、およびポ
リウレタン等の結合剤との組み合わせ、並びに（メタ）
アクリレート樹脂およびポリスチレン樹脂等のビニルポ
リマーと、（メタ）アクリル酸エステルおよびスチレン
等のビニルモノマーと、ベンゾイン誘導体、ベンゾフェ
ノン誘導体、およびチオキサントン誘導体等の光重合開
始剤との組み合わせ等が挙げられる。

【０１４３】前記感光性樹脂溶液における溶剤として
は、前記感光性樹脂を溶解し、しかも、室温である程度
の揮発性を有する溶剤が挙げられ、具体的には、たとえ
ばアルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、
エーテル系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、アミド系
溶剤、および炭酸エステル系溶剤等が挙げられる。

【０１４４】アルコール系溶剤としては、エタノール、
プロパノール、およびブタノール等が挙げられる。ケト
ン系溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、およ
びジエチルケトン等が挙げられる。エステル系溶剤とし
ては、酢酸エチル、酢酸プロピル、蟻酸メチル、蟻酸エ
チル等が挙げられる。エーテル系溶剤としては、テトラ
ヒドロフランおよびジオキサン等が挙げられ、グリコー
ルエーテル系溶剤としては、エチルセロソルブ、メチル
セロソルブ、およびブチルセロソルブ等が挙げられる。
アミド系溶剤としては、ジメチルホルムアミドおよびジ
メチルアセトアミド等が挙げられる。炭酸エステル系溶
剤としては、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエ
チル、および炭酸ジブチル等が挙げられる。

【０１４５】感光性樹脂の溶液には、更に、各種着色剤
等を配合することができる。前記着色剤としては、通常
の色素のほか、露光により発色する露光発色色素、およ
び露光により殆どまたは完全に無色になる露光消色色素
等が使用できる。前記露光発色色素としては、たとえば
ロイコ色素等が挙げられる。一方、前記露光消色色素と
しては、トリフェニルメタン系色素、ジフェニルメタン
系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノ
ナフトキノン系色素、アゾメチン系色素、およびアント
ラキノン系色素等が挙げられる。

【０１４６】また、前記平版印刷版支持体に、感熱性樹
脂を主成分とする溶液を塗布して乾燥し、感熱性の製版
層を形成してもよい。

【０１４７】前記平版印刷原版を、必要に応じて適宜の
大きさに裁断した後、露光および現像を行うか、レーザ
光線を照射して印刷画像を直接書き込むかして製版す
る。

【０１４８】

【実施例】以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説
明する。なお、本発明の範囲は、以下の実施例の範囲に
は限定されることはない。

【０１４９】（実施例１） 《平版印刷版用支持体の作製》表１に示す組成を有する
アルミニウム合金の溶湯を、脱ガスし、濾過した後、Ｄ
Ｃ鋳造法で鋳塊を製造した。

【０１５０】前記鋳塊の表面を１０ｍｍ削り取り、前記
鋳塊を過熱し、均熱処理を行なうことなく、４００℃で
熱間圧延し、板圧が４ｍｍのアルミニウム合金板を得
た。

【０１５１】次いで、前記アルミニウム合金板を、厚み
が１．５ｍｍになるまで冷間圧延し、焼鈍処理を行なっ
た後、再度冷間圧延を行なって厚みを０．２４ｍｍまで
減少させ、平面性を矯正してアルミニウムウェブを得
た。

【０１５２】

【表１】

【０１５３】前記アルミニウムウェブに、 （１）機械的粗面化処理、 （２）第１回目のエッチング処理 （３）第１回目のデスマット処理 （４）予備的な電解粗面化処理 （５）第２回目のエッチング処理 （６）第２回目のデスマット処理 （７）電解粗面化処理 （８）第３回目のエッチング処理 （９）第３回目のデスマット処理 （１０） 陽極酸化処理 を順次施した。前記処理（１）〜処理（１０）のそれぞ
れが終了する毎に、ニップローラで処理液を切り、図３
に示すドライアイス洗浄装置１２０を用いて前記アルミ
ニウムウェブの両面にドライアイス粉末を噴射してドラ
イアイス洗浄した。

【０１５４】前記ドライアイス洗浄により生じた廃液
は、ドライアイスが気化した後に、前記ドライアイス洗
浄の直前の工程に戻して再利用した。

【０１５５】前記ドライアイス洗浄においては、平均粒
径が３０μｍのドライアイス粉末を用いた。

【０１５６】ドライアイス洗浄装置１２０においては、
ドライアイス噴射管Ｃ２の先端からアルミニウムウェブ
の表面までの距離が２０ｍｍになるように、５０ｍｍの
取り付けピッチで、図４に示すように、前記アルミニウ
ムウェブの表面に対して平行であり、アルミニウムウェ
ブの搬送方向ｔに対して４５°の角度を成す仮想線に沿
ってドライアイス噴射ノズルＣを筐体３６の内部に２列
に固定した。

【０１５７】前記処理（１）〜処理（１０）は、以下の
条件に従って行なった。

【０１５８】（１）機械的粗面化処理 研磨材スラリーとして、比重１．１２の珪砂（平均粒径
２５μｍ）を水に懸濁させた懸濁液を用い、図３に示す
機械的粗面化装置１１０を用いて機械的粗面化を行なっ
た。

【０１５９】ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃと
しては、長さ５０ｍｍ、直径０．４８ｍｍの６・１０ナ
イロンの毛を、直径３００ｍｍのステンレス鋼製ローラ
の表面に孔を開けて密になるように植設したものを用い
た。

【０１６０】一方、支持ローラ４Ａ、４Ａ’、４Ｂ、４
Ｂ’、４Ｃ、４Ｃ’としては、直径２００ｍｍのステン
レス鋼製ローラを用いた。そして、支持ローラ４Ａと支
持ローラ４Ａ’、支持ローラ４Ｂと支持ローラ４Ｂ’、
および支持ローラ４Ｃと支持ローラ４Ｃ’との中心間の
距離が何れも３００ｍｍになるように、支持ローラ４
Ａ、４Ａ’、４Ｂ、４Ｂ’、４Ｃ、４Ｃ’を配設した。

【０１６１】ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃ
は、機械的粗面化後のアルミニウムウェブの平均表面粗
さが０．４５μｍになるような圧力で前記アルミニウム
ウェブに押し付け、粗面化面における回転方向が前記ア
ルミニウムウェブＷの搬送方向ｔと同方向になるように
回転させた。ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および２Ｃを
押し付ける圧力は、ローラ状ブラシ２Ａ、２Ｂ、および
２Ｃを回転させる駆動モータの負荷に基づいて制御し
た。

【０１６２】なお、前記研磨材スラリーの温度と比重と
から前記研磨材スラリー中の珪砂の濃度を連続的に求
め、前記濃度が一定になるように、水および珪砂をスラ
リー回収槽１８に補充しつつ、機械的粗面化を行なっ
た。また、機械的粗面化において粉砕され、細粒化した
珪砂は、粒子径調整部２４における分級器２６で除去
し、前記研磨材スラリー中の珪砂の粒度分布がほぼ一定
になるようにした。なお、分級希２６としては、サイク
ロンを用いた。

【０１６３】（２）第１回目のエッチング処理 苛性ソーダおよびアルミニウムイオンをそれぞれ２７重
量％および６．５重量％含有し、液温が７０℃のアルカ
リ性水溶液をアルカリ剤として用い、前記アルミニウム
ウェブにおける前記機械的粗面化を施した側の面の溶解
量が８ｇ／ｍ²であり、前記面とは反対側の面の溶解量
が２ｇ／ｍ²になるように、前記アルミニウムウェブの
両面に前記アルカリ性水溶液を吹付けた。

【０１６４】前記アルカリ性水溶液の温度、比重、およ
び導電率と、苛性ソーダおよびアルミニウムイオンの濃
度との関係を予め求めておき、前記アルカリ性水溶液の
温度、比重、および導電率を測定して前記測定結果に基
づいて苛性ソーダおよびアルミニウムイオンの濃度を求
め、前記濃度が一定になるように、水と４８重量％苛性
ソーダ溶液とを補充しつつ、前記エッチング処理を行な
った。

【０１６５】（３）第１回目のデスマット処理 前記エッチング処理を施したアルミニウムウェブに、液
温が７０℃であり、硫酸を３００ｇ／リットル含有し、
アルミニウムイオンを２ｇ／リットル含有する硫酸水溶
液をスプレーで２秒間吹き付けた。

【０１６６】（４）予備的な電解粗面化処理 塩酸の濃度が７．５ｇ／リットルになり、アルミニウム
イオンの濃度が５ｇ／リットルになるように、希塩酸に
塩化アルミニウムを配合した塩酸水溶液中で、前記アル
ミニウムウェブに交流を印加して交流電解粗面化を行っ
た。前記塩酸水溶液の液温は３５℃であった。

【０１６７】前記交流電解粗面化においては、内部に、
前記アルミニウムウェブを巻き掛けるドラムを有し、前
記ドラムを取り囲むように形成され、絶縁体によって円
筒状に結合された一対の半円筒状の電極を有し、底部に
給液ノズルを設けたラジアル型の交流電解槽を用いた。

【０１６８】前記交流電解粗面化は、前記アルミニウム
ウェブが前記交流電解槽を通過するまでに、アノード反
応に与る電気量が２００クーロン／ｄｍ²になるように
行った。

【０１６９】前記交流電解槽に印加した交流は、周波数
が６０Ｈｚであり、電流値が０から正または負のピーク
に達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃである台形波
であり、アノードサイクル側のピーク時の電流Ｉａｐ、
および、カソードサイクル側のピーク時の電流Ｉｃｐ
は、ともに５０Ａ／ｄｍ²であり、Ｉｃｐ／Ｉａｐは、
１．０であった。ｄｕｔｙは０．５であった。

【０１７０】前記交流電解槽における電解休止時間は、
給液ノズル部分においては０．５秒であり、絶縁体にお
いては０．０１７秒であった。

【０１７１】前記交流電解槽においては、塩酸水溶液中
の塩酸およびアルミニウムイオンの濃度と、前記塩酸水
溶液の温度、導電率、および超音波伝播速度との関係を
予め求め、前記交流電解槽中の塩酸水溶液の温度、導電
率、および超音波伝播速度を測定して塩酸およびアルミ
ニウムイオンの濃度を求め、前記濃度が一定になるよう
に、濃塩酸および水の添加量を制御した。

【０１７２】（５）第２回目のエッチング処理 第１回目のエッチング処理に使用したのと同様の組成を
有し、液温が４５℃のアルカリ性水溶液を、前記アルミ
ニウムウェブにおける前記予備的な電解粗面化を施した
側の面の溶解量が０．３ｇ／ｍ²であり、前記面とは反
対側の面の溶解量が０．１ｇ／ｍ²になるように、前記
アルミニウムウェブの両面に吹付けた。

【０１７３】前記アルカリ性水溶液中の苛性ソーダおよ
びアルミニウムイオンの濃度は、第１回目のエッチング
処理のときと同様な方法で制御した。

【０１７４】（６）第２回目のデスマット処理 前記アルミニウム板の両面に、第１回目のデスマット処
理（３）で使用されたものと同様の硫酸水溶液を６０秒
間噴霧した。

【０１７５】（７）電解粗面化処理 予備的な電解粗面化処理（４）で使用したのと同様なラ
ジアル型の交流電解槽を用い、硝酸の濃度が１０ｇ／リ
ットルになり、アルミニウムイオンの濃度が１０ｇ／リ
ットルになり、アンモニウムイオンの濃度が７０ｐｐｍ
になるように、濃度１０ｇ／リットルの希塩酸に硝酸ア
ルミニウムと硝酸アンモニウムとを配合した硝酸水溶液
中で、アルミニウムウェブに交流を印加して交流電解粗
面化を行った。前記硝酸水溶液の液温は５０℃であっ
た。前記交流は、アルミニウムウェブが前記交流電解槽
を通過する間にアノード反応に与る電気量が、前記第２
回目のデスマット処理（６）のときと同様になるように
印加した。

【０１７６】前記交流電解槽に印加した交流は、周波数
が６０Ｈｚであり、電流値が０から正または負のピーク
に達するまでの時間ｔｐが０．８ｍｓｅｃである台形波
であり、アノードサイクル側のピーク時の電流Ｉａｐ、
カソードサイクル側のピーク時の電流Ｉｃｐ、およびｄ
ｕｔｙは、何れも、予備的な電解粗面化処理（４）で印
加した交流と同様であった。

【０１７７】前記交流電解槽における電解休止時間も、
予備的な電解粗面化処理（４）のときと同様であった。

【０１７８】前記交流電解槽においては、予備的な電解
粗面化処理（４）のときと同様に、前記交流電解槽中の
硝酸水溶液の温度、導電率、および超音波伝播速度か
ら、硝酸、アルミニウムイオン、およびアンモニウムイ
オンの濃度を求め、前記濃度が一定になるように、硝酸
の濃度が６７重量％の濃硝酸と水とを、前記給液ノズル
から、通電量に応じて添加し、余剰の硝酸水溶液をオー
バーフローさせることにより、前記交流電解槽中の硝
酸、アルミニウムイオン、およびアンモニウムイオンの
濃度を一定に保持した。

【０１７９】（８）第３回目のエッチング処理 苛性ソーダおよびアルミニウムイオンを、それぞれ２６
重量％および６．５％含有し、液温が４５℃のアルカリ
性水溶液を用い、前記アルミニウムウェブの一方の面に
おける溶解量が１ｇ／ｍ²になり、前記面とは反対側の
面の溶解量が０．３ｇ／ｍ²になるように、前記アルミ
ニウムウェブの両面に吹付けた。

【０１８０】前記アルカリ性水溶液中の苛性ソーダおよ
びアルミニウムイオンの濃度は、第１回目のエッチング
処理のときと同様な方法で制御した。

【０１８１】（９）第３回目のデスマット処理 第３回目のエッチング処理を施したアルミニウムウェブ
に、第１回目のデスマット処理（３）で使用したのと同
様の組成を有する硫酸水溶液をスプレーで１０秒間吹き
付けた。

【０１８２】前記硫酸水溶液中の硫酸およびアルミニウ
ムイオンの濃度と、前記硫酸水溶液の温度、比重、およ
び導電度との関係を予め求めておき、前記温度、比重、
および導電度を測定して、前記測定結果に基づき、水と
硫酸濃度が５０重量％の濃硫酸とを前記硫酸水溶液に添
加して硫酸およびアルミニウムイオンの濃度を一定に保
持した。

【０１８３】（１０）陽極酸化処理 硫酸およびアルミニウムイオンを、それぞれ１０ｇ／リ
ットルおよび５ｇ／リットル含有し、液温が５０℃の硫
酸水溶液を用い、陽極酸化皮膜の量が２．４ｇ／ｍ²に
なるように、前記第３回目のデスマット処理（９）を施
したアルミニウム板に直流を印加した。

【０１８４】前記硫酸水溶液中の硫酸およびアルミニウ
ムイオンの濃度の制御は、前記第３回目のデスマット処
理（９）と同様に行った。

【０１８５】《平版印刷原版の作製》前記手順に従って
得られた平版印刷版用支持体における粗面化処理を施し
た側の面に下塗層、および感光性樹脂溶液を塗布して乾
燥させて感光性の製版層を形成することにより、乾燥膜
厚が２．０ｇ／ｍ²のポジ型平版印刷原版を作製した。

【０１８６】前記ポジ型平版印刷原版に画像を焼き付け
て現像し、平版印刷版を作製した。

【０１８７】前記平版印刷版の非画像部を走査型電子顕
微鏡で観察したところ、均一なハニカム状ビットが形成
されているのが認められた。

【０１８８】（比較例１）実施例１において、前記処理
（１）〜処理（１０）のそれぞれが終了する毎に、前記
アルミニウムウェブにドライアイス粉末を噴射する代り
に水を噴射して洗浄した以外は、実施例１と同様の手順
に従って平版印刷版用支持体、平版印刷原版、および平
版印刷版を作製した。

【０１８９】大量の廃液が生成したので、前記廃液を処
理する排液処理装置には大型のものが必要であった。ま
た、前記廃液を再利用するには、大掛かりな濃縮装置が
必要であり、前記廃液のリサイクルは、コスト的に不可
能であった。

【０１９０】（実施例２）実施例１と同様の手順に従っ
て作製した平版印刷版用支持体を、沸騰した純水中に通
して陽極酸化皮膜に存在する細孔を封じる封孔処理を行
なった。

【０１９１】前記封孔処理を行なった平版印刷版用支持
体を、液温が７０℃であり、珪酸ソーダの濃度が２．５
重量％の珪酸ソーダ水溶液に１４秒間浸漬して親水化処
理した。

【０１９２】なお、前記珪酸ソーダ水溶液については、
珪酸ソーダの濃度と、液温および導電率との関係を求
め、前記珪酸ソーダ水溶液の液温と導電率とを測定して
珪酸ソーダの濃度を求め、前記珪酸ソーダの濃度が一定
になるように水と珪酸ソーダ原液とを添加した。

【０１９３】親水化処理した平版印刷版用支持体をニッ
プローラに通して液切りをし、ドライアイス粉末を吹き
付けてドライアイス洗浄を行った。

【０１９４】ドライアイス洗浄後の平版印刷版用支持体
の表面に、実施例１と同様にして製版層を形成し、平版
印刷原版を作製した。そして、前記平版印刷原版の製版
層に画像を形成して平版印刷版を形成した。

【０１９５】前記平版印刷版の非画像部を走査型電子顕
微鏡で観察したところ、均一なハニカム状ビットが形成
されているのが認められた。

【０１９６】（実施例３）実施例１と同様の手順に従っ
て作製した平版印刷版用支持体を、液温が７０℃であ
り、珪酸ソーダの濃度が２．５重量％の珪酸ソーダ水溶
液に５秒間浸漬して親水化処理した。

【０１９７】親水化処理した平版印刷版用支持体をニッ
プローラに通して液切りをし、ドライアイス洗浄を行っ
た。

【０１９８】ドライアイス洗浄後の平版印刷版用支持体
の表面に、実施例１と同様にして製版層を形成し、平版
印刷原版を作製した。そして、前記平版印刷原版の製版
層に画像を形成して平版印刷版を形成した。 前記平版
印刷版の非画像部を走査型電子顕微鏡で観察したとこ
ろ、均一なハニカム状ビットが形成されているのが認め
られた。

【０１９９】（実施例４）実施例１と同様の手順に従っ
て作製した平版印刷版用支持体を、液温が７０℃である
ポリビニルスルホン酸の１．５重量％水溶液に５秒間浸
漬して親水化処理した。

【０２００】前記水溶液中のポリビニルスルホン酸の濃
度と、前記水溶液の温度および導電率との関係を予め求
めておき、前記水溶液の液温と導電率とを測定してポリ
ビニルスルホン酸の濃度を求め、前記濃度が一定になる
ように水とポリビニルスルホン酸原液とを添加した。

【０２０１】前記親水化処理後の平版印刷版用支持体を
ニップローラに通して液切りをし、ドライアイス洗浄を
行った。

【０２０２】ドライアイス洗浄後の平版印刷版用支持体
の表面に、実施例１と同様にして製版層を形成し、平版
印刷原版を作製した。そして、前記平版印刷原版の製版
層に画像を形成して平版印刷版を形成した。

【０２０３】前記平版印刷版の非画像部を走査型電子顕
微鏡で観察したところ、均一なハニカム状ビットが形成
されているのが認められた。

【０２０４】（実施例５）実施例１〜４においてニップ
ローラを使用しなかった以外は、実施例１〜４と同様の
手順に従って平版印刷版支持体を作製し、前記平版印刷
版用支持体の表面に、実施例１と同様にして製版層を形
成し、平版印刷原版を作製した。そして、前記平版印刷
原版の製版層に画像を形成して平版印刷版を形成した。

【０２０５】前記平版印刷版用支持体においては、ニッ
プローラの表面に付着した塵が転写することが無かった
ので、実施例１〜４に係る平版印刷版よりも、印刷特性
が更に良好であった。

【０２０６】（実施例６）アルミニウム板として、下記
の表２に示す組成を有するものを用い、実施例１におけ
る処理（１）〜処理（１０）のうち、機械的粗面化処理
（１）を行わなかった以外は、実施例１と同様の手順に
従って平版印刷版用支持体を作製した。

【０２０７】

【表２】

【０２０８】前記平版印刷版用支持体の表面を走査型電
子顕微鏡で観察したところ、均一なハニカムピットの生
成が認められた。

【０２０９】前記平版印刷版用支持体の粗面化面に、実
施例１と同様の手順で製版層を形成して平版印刷原版を
得、前期平版印刷原版に画層を焼き付けて現像して平版
印刷原版を得た。

【０２１０】前記平版印刷原版の印刷特性を実施例１と
同様の手順で評価したところ、印刷性能が良好で、非画
像部が、インキで酷く汚れることがなかった。

【０２１１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来の方法に比較して洗浄廃水の発生量を大幅に削減で
き、しかも、洗浄廃液を容易に再利用できる故に、スク
ラップ材や再製アルミニウム地金から製造されたアルミ
ニウム板を用いた場合にも、平版印刷版用支持体を安価
に製造できる平版印刷版用支持体の製造方法が提供され
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明に係る平版印刷版用支持体の製
造方法において、ドライアイス粒子の噴射に使用される
ドライアイス粉末噴射装置の一例を示す概略図である。

【図２】図２は、図１に示すドライアイス粉末噴射装置
が備えるドライアイス噴射ノズルの拡大図である。

【図３】図３は、ドライアイス洗浄装置を備える機械的
粗面化装置の一例を示す概略図である

【図４】図４は、図３に示す機械的粗面化装置が備える
ドライアイス洗浄装置におけるドライアイス噴射ノズル
の配置の一例を示す配置図である。

【図５】図５は、前記ドライアイス噴射ノズルにおける
ドライアイス粒子の噴射パターンを示す概略図である。

【符号の説明】

Ａ 膨張室 Ｂ 炭酸ガスボンベ Ｃ ドライアイス噴射ノズル Ｃ２ ドライアイス噴射管 Ｃ４ エジェクタ Ｃ６ ドライアイス供給管 Ｄ 窒素ガスボンベ ２Ａ ローラ状ブラシ ２Ｂ ローラ状ブラシ ２Ｃ ローラ状ブラシ １８ スラリー回収槽 ２４ 粒子径調整部 １００ ドライアイス粉末噴射装置 １１０ 機械的粗面化装置 １２０ ドライアイス洗浄装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２５Ｄ 11/04 Ｃ２５Ｄ 11/04 Ｅ 11/16 ３０１ 11/16 ３０１ 11/18 ３０１ 11/18 ３０１Ａ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ // Ｂ０５Ｃ 19/04 Ｂ０５Ｃ 19/04 (72)発明者 澤田 宏和 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 上杉 彰男 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H096 AA06 CA01 CA03 2H114 AA04 AA14 AA23 AA24 BA01 BA10 DA04 DA64 EA01 EA03 EA05 GA02 GA03 GA04 GA08 GA09 3B116 AA01 AB01 BA06 BB02 BB32 BB82 BB90 4F042 AA02 DA01 DA06

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム板の少なくとも一方の面
   に少なくとも１種の粗面化処理を施す粗面化工程を有し
   てなり、 前記粗面化処理後に、前記アルミニウム板の表面にドラ
   イアイス粒子を噴射して前記アルミニウム板を洗浄する
   ことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。
2. 【請求項２】 アルミニウム板の少なくとも一方の面
   に少なくとも１種の粗面化処理を施す粗面化工程と、 前記粗面化工程において粗面化処理を施したアルミニウ
   ム板を陽極酸化処理し、前記アルミニウム板の表面に陽
   極酸化皮膜を形成する陽極酸化工程とを有してなり、 前記粗面化処理後および前記陽極酸化処理後の何れかま
   たは両方において、前記アルミニウム板の表面にドライ
   アイス粒子を噴射して前記アルミニウム板を洗浄するこ
   とを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。
3. 【請求項３】 前記粗面化処理は、前記アルミニウム
   板を機械的に粗面化する機械的粗面化処理、前記アルミ
   ニウム板を化学的に粗面化するエッチング処理、および
   前記アルミニウム板に交流または直流を印加して電気化
   学的に粗面化する電解粗面化処理のうちの少なくとも１
   種である請求項１または２に記載の平版印刷版用支持体
   の製造方法。
4. 【請求項４】 前記粗面化工程において、前記アルミ
   ニウム板に機械的粗面化処理を施し、次いでエッチング
   処理および電解粗面化処理の少なくとも一方を施す請求
   項３に記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
5. 【請求項５】 前記陽極酸化工程において、前記陽極
   酸化処理を施したアルミニウム板の表面を親水化する親
   水化処理を行なう請求項２〜４の何れか１項に記載の平
   版印刷版用支持体の製造方法。
6. 【請求項６】 前記陽極酸化工程においては、前記陽
   極酸化処理により形成された陽極酸化皮膜における細孔
   を封ずる封孔処理を行なう請求項２〜５の何れか１項に
   記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
7. 【請求項７】 前記アルミニウム板は、アルミニウム含
   有量が９９．４〜９５重量％であり、しかも、Ｆｅ、Ｓ
   ｉ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｃｒ、およびＴｉからな
   る群より選択された１以上の元素を含有するアルミニウ
   ム地金から製造されてなる請求項１〜６の何れか１項に
   記載の平版印刷版用支持体の製造方法。
8. 【請求項８】 請求項１〜７の何れか１項に記載の平版
   印刷版用支持体の製造方法により製造されたことを特徴
   とする平版印刷版用支持体。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の平版印刷版用支持体に
   おける粗面化処理された側の面に、感光性または感熱性
   の製版層を形成してなることを特徴とする平版印刷原
   版。