KR20190059302A - 스탬핑용 시트 금속 블랭크의 급속 가열 - Google Patents

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세드릭 우
라울 빌라스 쿨카니
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노벨리스 인크.
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Abstract

금속 블랭크를 열간 성형하는 시스템 및 방법은 히터에서 금속 블랭크를 수용하는 단계 및 히터의 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계를 포함한다. 시스템 및 방법은 또한 자기 로터를 회전시킴으로써 자기 로터를 통해 금속 블랭크를 가열하는 단계를 포함한다. 자기 로터를 회전시키는 단계는 금속 블랭크가 가열되도록 금속 블랭크로 자기장을 유도한다.

Description

스탬핑용 시트 금속 블랭크의 급속 가열
본 출원은 2016년 9월 27일자로 출원된 발명의 명칭이 "ROTATING MAGNET HEAT INDUCTION"인 미국 가특허 출원 번호 제62/400,426호; 및 2017년 5월 14일자로 출원된 발명의 명칭이 "ROTATING MAGNET HEAT INDUCTION"인 미국 가특허 출원 번호 제62/505,948호의 이익을 주장하며, 그 개시는 이로써 그 전체가 참조로 통합된다.
추가적으로, 본 출원은 2017년 9월 27일자로 출원된 발명의 명칭이 "MAGNETIC LEVITATION HEATING OF METAL WITH CONTROLLED SURFACE QUALITY"인 David Anthony Gaensbauer 등의 미국 정식 특허 출원 번호 제15/716,692호, 및 "2017년 9월 27일자로 출원된 발명의 명칭이 "ROTATING MAGNET HEAT INDUCTION"인 Antoine Jean Willy Pralong 등의 미국 정식 특허 출원 번호 제15/716,887호와 관련되며, 그 개시는 이로써 그 전체가 참조로 통합된다.
본 출원은 금속 가공에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 열간 성형(hot forming)을 위한 금속 블랭크(metal blank)의 급속 가열을 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.
많은 응용분야는 알루미늄 또는 알루미늄 합금과 같은 금속 제품을 사용할 수 있다. 일 예로서, 금속 제품은 자동차, 항공기 및 철도 응용분야를 포함하는, 운송 응용분야에서 사용될 수 있다. 예를 들어, 금속 제품은 범퍼, 사이드 빔, 루프 빔, 크로스 빔, 필러 보강재, 내부 패널, 외부 패널, 사이드 패널, 내부 후드, 외부 후드, 또는 트렁크 리드 패널과 같은, 자동차 구조 부품을 제조하기 위해 사용될 수 있다. 다른 예로서, 금속 제품은 전자기기 응용분야에 사용될 수 있다. 예를 들어, 금속 제품은 휴대 전화 및 태블릿 컴퓨터를 포함하는, 전자 장치용 하우징을 제조하기 위해 사용될 수 있다. 일부 예에서, 금속 제품은 휴대 전화(예를 들어, 스마트 폰), 태블릿 하단 섀시, 및 다른 휴대용 전자기기의 외부 케이스용 하우징을 제조하기 위해 사용될 수 있다.
다양한 성형 기술은 특정 형상을 갖는 금속 제품을 형성하기 위해 이용될 수 있다. 하나의 그러한 성형 기술은 열간 성형 또는 프레싱이다. 열간 성형은 알루미늄 또는 고강도 강철의 블랭크와 같은 다양한 블랭크를 형상화하기 위해 사용될 수 있지만, 생산성을 증가시키고 열간 성형 공정과 연관되는 비용을 감소시키기 위해 더 짧은 사이클 타임을 갖는 열간 성형 공정이 요구될 수 있다.
본 특허에서 사용되는 용어 "발명(invention)", "이 발명(this invention)", "상기 발명(the invention)", 및 "본 발명(the present invention)"은 이 특허의 발명 대상 및 아래의 특허 청구범위 모두를 광범위하게 지칭하는 것으로 의도된다. 이들 용어를 포함하는 진술은 본원에 설명되는 발명 대상을 제한하거나 아래의 특허 청구범위의 의미 또는 범위를 제한하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 이 특허에 의해 커버되는 본 발명의 실시예들은 본 요약이 아닌, 이하의 청구범위에 의해 정의된다. 본 요약은 본 발명의 다양한 실시예들의 높은 수준의 개요이고 아래의 상세한 설명 섹션에서 더 설명되는 개념 중 일부를 소개한다. 본 요약은 청구된 발명 대상의 핵심 또는 필수 기능을 식별하도록 의도되지 않으며, 그것은 청구된 발명 대상의 범위를 결정하기 위해 단독으로 사용되도록 의도되지 않는다. 발명 대상은 이 발명의 전체 명세서의 적절한 부분들, 임의의 또는 전체 도면들, 및 각각의 청구범위를 참조하여 이해되어야 한다.
특정 예에 따르면, 열간 성형 시스템은 자기 로터(magnetic rotor)를 갖는 히터를 포함한다. 다양한 예에서, 히터는 자기 로터에 인접하여 금속 기판의 블랭크를 수용하고 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 가열하도록 구성된다.
특정 예에 따르면, 방법은 히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계 및 히터의 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계를 포함한다. 일부 예에서, 방법은 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 미리 결정된 기간 동안 블랭크를 가열하는 단계를 포함한다.
특정 예에 따르면, 방법은 히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계를 포함한다. 특정 예에서, 히터는 자기 로터를 포함한다. 일부 예에서, 방법은 히터의 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계를 포함한다. 다양한 예에서, 방법은 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 가열하는 단계를 포함한다. 일부 경우에서, 방법은 블랭크가 미리 결정된 온도일 때 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계를 포함한다.
본 개시에서 설명되는 다양한 구현예는 반드시 본원에 명시적으로 개시될 필요는 없지만 다음의 상세한 설명 및 첨부된 도면을 검토할 시 당업자에게 명백할 추가적인 시스템, 방법, 특징, 및 이점을 포함할 수 있다. 모든 그러한 시스템, 방법, 특징, 및 이점은 본 개시 내에 포함되고 첨부된 청구범위에 의해 보호되도록 의도된다.
다음 도면의 특징 및 구성요소는 본 개시의 일반적인 원리를 강조하기 위해 예시된다. 도면 전체에 걸쳐 대응하는 특징 및 구성요소는 일관성 및 명확성을 위해 참조 부호를 매칭시킴으로써 지정될 수 있다.
도 1은 본 개시의 일 양태에 따른 히터를 포함하는 열간 성형 시스템의 개략적인 사시도이다.
도 2는 도 1의 시스템의 측면 개략도이다.
본 발명의 예시의 발명 대상은 여기서 법정 요구 사항을 충족시키기 위해 특이성으로 설명되지만, 이 설명은 반드시 청구항의 범위를 제한하도록 의도되지 않는다. 청구된 발명 대상은 다른 방식으로 구체화될 수 있고, 상이한 요소 또는 단계를 포함할 수 있고, 다른 기존 또는 미래의 기술과 함께 사용될 수 있다. 이 설명은 개별 단계의 순서 또는 요소의 배열이 명시적으로 설명되는 경우를 제외하고 다양한 단계 또는 요소 중의 또는 그 사이의 임의의 특정 순서 또는 배열을 암시하는 것으로 해석되지 않아야 한다.
많은 금속 가공 기술은 재료의 블랭크 또는 스트립을 운송 및 자동차, 전자기기, 및 다양한 다른 응용분야와 같은 다양한 응용분야에 대해 최종 원하는 형상으로 형성하기 위해 사용될 수 있다. 고강도 강철 및 알루미늄과 같은 재료의 블랭크 또는 스트립에 대한 하나의 그러한 금속 가공 기술은 열간 성형이다. 열간 성형 동안, 블랭크, 예컨대 강철 또는 알루미늄 또는 다른 재료의 블랭크는 열간 성형 프레스로 위치되고, 다이 표면은 블랭크가 열간 성형 프레스에 의해 가압됨에 따라 블랭크를 형상화한다. 종종, 열간 성형 공정을 용이하게 하기 위해, 블랭크는 프레싱 전에 가열된다. 그러나, 종래의 히터는 금속 블랭크를 적절히 가열하기 위해 더 긴 사이클 타임을 필요로 한다. 예를 들어, 종래의 히터는 전형적으로 알루미늄 블랭크의 크기 및 두께에 따라 알루미늄 블랭크를 가열하기 위해 약 10-20분을 필요로한다. 이 연장된 가열 시간은 블랭크의 더 긴 전체 사이클 타임을 야기하며, 이는 열간 성형 공정과 연관되는 비용을 증가시킨다.
블랭크를 열간 성형하고 열간 성형용 블랭크를 제조하기 위한 시스템 및 방법이 개시된다. 일부 예에서, 시스템 및 방법은 열간 성형 전에 블랭크를 예열하기 위해 자기 가열(magnetic heating)을 사용하는 것을 포함한다. 본 개시의 양태 및 특징은 다양하고 적합한 금속 블랭크와 함께 사용될 수 있고, 알루미늄 또는 알루미늄 합금의 금속 블랭크에 특히 유용할 수 있다. 특히, 바람직한 결과는 금속 블랭크가 2xxx 시리즈, 3xxx 시리즈, 4xxx 시리즈, 5xxx 시리즈, 6xxx 시리즈, 7xxx 시리즈, 또는 8xxx 시리즈 알루미늄 합금과 같은 합금일 때 달성될 수 있다. 알루미늄 및 그 합금을 명명하고 식별 시에 가장 통상적으로 사용되는 번호 지정 시스템의 이해를 위해, "단조 알루미늄 및 단조 알루미늄 합금에 대한 국제 단조 지정 및 화학 조성 제한(International Alloy Designations and Chemical Composition Limits for Wrought Aluminum and Wrought Aluminum Alloys)" 또는 "주조 및 잉곳 형태의 알루미늄 합금에 대한 알루미늄 협회 합금 지정 및 화학 조성 제한의 등록 기록(Registration Record of Aluminum Association Alloy Designations and Chemical Compositions Limits for Aluminum Alloys in the Form of Castings and Ingot)"을 참조하며, 둘 다는 알루미늄 협회(Aluminum Association)에 의해 발행된다.
본 출원에서 합금 템퍼 또는 상태에 대한 참조가 이루어진다. 가장 통상적으로 사용되는 합금 템퍼 설명의 이해를 위해, "합금 및 템퍼 지정 시스템에 대한 미국 국가 표준(ANSI) H35(American National Standards(ANSI) H35 on Alloy and Temper Designation Systems)"를 참조한다. F 상태 또는 템퍼는 제조된 바와 같은 알루미늄 합금을 지칭한다. O 상태 또는 템퍼는 어닐링 이후 알루미늄 합금을 지칭한다. T4 상태 또는 템퍼는 용액 열처리(즉, 용액화) 이후 자연 에이징(aging)이 이어지는 알루미늄 합금을 지칭한다. T6 상태 또는 템퍼는 용액 열처리 이후 인공 에이징이 이어지는 알루미늄 합금을 지칭한다. T7 상태 또는 템퍼는 용액 열처리 이후 그 다음 오버에이징 또는 안정화가 이어지는 알루미늄 합금을 지칭한다. T8 상태 또는 템퍼는 용액 열처리 이후, 냉간 가공 및 그 다음 인공 에이징이 이어지는 알루미늄 합금을 지칭한다. T9 상태 또는 템퍼는 용액 열처리 이후, 인공 에이징, 및 그 다음 냉간 가공이 이어지는 알루미늄 합금을 지칭한다. H1 상태 또는 템퍼는 변형 경화(strain hardening) 이후 알루미늄 합금을 지칭한다. H2 상태 또는 템퍼는 변형 경화 이후 부분 어닐링이 이어지는 알루미늄 합금을 지칭한다. H3 상태 또는 템퍼는 변형 경화 및 안정화 이후 알루미늄 합금을 지칭한다. HX 상태 또는 템퍼 뒤의 둘째 자리 숫자(예를 들어, H1X)는 최종 변형 경화 정도를 나타낸다.
본 개시의 양태 및 특징은 블랭크를 통해 이동하거나 시변하는 자기장을 유도하기 위해 블랭크 위 및/또는 아래에 배열되는 하나 이상의 자기 로터를 포함하는 히터를 갖는 열간 성형 시스템 및 방법을 포함한다. 변화하는 자기장은 블랭크 내에 전류(예를 들어, 와전류)를 생성할 수 있으며, 따라서 블랭크를 가열한다.
일부 경우에서, 본원에 개시되는 자기 로터는 알루미늄, 알루미늄 합금, 마그네슘, 마그네슘계 재료, 티타늄, 티타늄계 재료, 구리, 구리계 재료, 강철, 강철계 재료, 청동, 청동계 재료, 황동, 황동계 재료, 복합재료, 복합재료에 사용되는 시트, 또는 임의의 다른 적절한 금속, 비금속 또는 재료 조합을 포함하는, 비철금속(non-ferrous) 재료와 함께 사용될 수 있다. 물품은 모놀리식 재료뿐만 아니라, 롤-결합 재료, 클래드 재료, 복합 재료(탄소 섬유-함유 재료와 같지만 이에 제한되지 않음), 또는 다양한 다른 재료와 같은 비모놀리식 재료를 포함한다. 하나의 비제한적 예에서, 자기 로터는 알루미늄 금속 스트립, 슬래브, 블랭크와 같은 금속 물품, 또는 철을 함유하는 알루미늄 합금을 포함하는 알루미늄 합금으로 이루어지는 다른 물품을 가열하기 위해 사용될 수 있다.
각각의 자기 로터는 하나 이상의 영구 자석 또는 전자석을 포함한다. 일부 예에서, 한 쌍의 매칭된 자기 로터는 블랭크의 패스라인(passline)의 대향 측면 상에 위치될 수 있다. 다른 예에서, 하나 이상의 자기 로터는 패스라인 위 또는 아래에 위치된다. 자기 로터는 순방향 또는 역방향으로 회전 가능하고, 전기 모터, 공압 모터, 다른 자기 로터, 또는 다양한 다른 적절한 메커니즘을 포함하지만, 이에 제한되지 않는 다양한 적절한 방법을 통해 회전될 수 있다. 자기 로터의 방향 및 회전 속도는 필요에 따라 조정 및 제어될 수 있다. 일부 예에서, 자기 로터는 패스라인으로부터 미리 결정된 거리에 위치될 수 있다. 특정 경우에서, 자기 로터와 패스라인 사이의 거리는 필요에 따라 조정 및 제어될 수 있다.
열간 성형 가공을 위한 정밀한 가열 제어는 히터를 사용할 때 달성될 수 있다. 그러한 정밀 제어는 로터 내의 자석의 강도, 로터 내의 자석의 수, 로터 내의 자석의 방향, 로터 내의 자석의 크기, 로터의 속도, 순방향 또는 역방향의 회전 방향, 로터의 크기, 단일 로터 세트 내의 수직 오프셋 로터 사이의 수직 갭, 단일 로터 세트 내의 로터의 측방향 오프셋 배치, 인접한 로터 세트 사이의 종방향 갭, 가열되는 블랭크의 두께, 로터와 블랭크 사이의 거리, 가열되는 블랭크의 순방향 속도, 및 사용되는 로터의 수를 포함하는 다양한 요인의 조작을 통해 달성될 수 있다. 다른 요인이 또한 제어될 수 있다. 일부 경우에서, 히터는 금속 블랭크가 금속 블랭크를 신속하게 가열하거나 이를 가열하는 것을 정지시키는 히터 내에 있는지 여부에 따라 자석의 회전이 정지 및 시작될 수 있기 때문에 빠른 응답 히터이다. 일부 경우에서, 전술된 요인 중 하나 이상의 제어는 그 중에서도, 컴퓨터 모델, 오퍼레이터 피드백, 또는 자동 피드백(예를 들어, 실시간 센서로부터의 신호에 기초함)에 기초할 수 있다.
본원에서 사용되는 바와 같이, 용어 "위", "아래", "수직", 및 "수평"은 금속 스트립 또는 블랭크가 그 상단 및 하단 표면이 일반적으로 지면과 평행한 채 수평 방향으로 이동하고 있는 것처럼 금속 스트립 또는 블랭크에 대한 상대적인 배향을 설명하기 위해 사용된다. 본원에서 사용되는 바와 같은 용어 "수직"은 금속 스트립 또는 블랭크의 방향에 관계없이, 금속 스트립 또는 블랭크의 표면(예를 들어, 상단 또는 하단 표면)에 수직인 방향을 지칭할 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같은 용어 "수평"은 금속 스트립 또는 블랭크의 방향에 관계없이, 이동 금속 스트립 또는 블랭크의 이동의 방향과 평행한 방향과 같은, 금속 스트립 또는 블랭크의 표면(예를 들어, 상단 또는 하단 표면)과 평행한 방향을 지칭할 수 있다. 용어 "위" 및 "아래"는 금속 스트립 또는 블랭크의 방향에 관계없이, 금속 스트립의 상단 또는 하단 표면을 넘어서는 위치를 지칭할 수 있다.
블랭크(102)를 위한 열간 성형 시스템(100)의 일 예가 도 1 및 도 2에 개략적으로 예시된다. 시스템(100)이 열간 성형 시스템으로서 설명되지만, 시스템(100)은 또한 성형 온도가 열간 성형 시스템에서와 같이 높지 않은 온간 성형 시스템(warm forming system)일 수 있다는 것이 이해될 것이다.
도 1 및 도 2에 예시된 바와 같이, 열간 성형 시스템(100)은 히터(104) 및 열간 성형 프레스(106)를 포함한다. 일부 예에서, 열간 성형 시스템(100)은 블랭크 무버(mover) (108)를 포함한다. 히터(104)는 수직, 대각선 또는 수평과 같은, 지면에 대해 다양한 방향으로 배향될 수 있고, 도 1 및 도 2에 도시된 방향에 제한되지 않는다. 예를 들어, 히터(104)는 수직이거나(그리고 블랭크(102)는 히터(104)를 통해 수직으로 통과함), 대각선이거나(그리고 블랭크(102)는 지면에 대해 소정의 각도로 히터(104)를 통과함), 수평이거나, 다양한 다른 방향 또는 방향의 조합으로 배향될 수 있다.
일부 예에서, 열간 성형 시스템(100)은 선택적으로 또한 제2 히터(110)를 포함한다. 열간 성형 공정 동안에, 블랭크(102)는 히터(104)에 의해 가열되고, 선택적으로 제2 히터(110)에 의해 가열되고, 블랭크 무버(108)에 의해 열간 성형 프레스(106)로 이동되고, 열간 성형 프레스(106)를 사용하여 미리 결정된 형상으로 형성된다.
도 1 및 도 2에 예시된 바와 같이, 히터(104)는 적어도 하나의 자기 로터(112)를 포함하고, 특정 예에서, 히터(104)는 하나보다 많은 자기 로터(112)를 포함한다. 예를 들어, 히터(104)는 1개의 자기 로터(112), 2개의 자기 로터(112), 3개의 로터(112), 4개의 자기 로터(112), 5개의 자기 로터(112), 6개의 자기 로터(112) 또는 6개 초과의 자기 로터(112)를 포함할 수 있다. 이와 같이, 자기 로터(112)의 개수는 본 개시를 제한하는 것으로 간주되지 않아야 한다. 도 1 및 도 2에 예시된 비제한적 예에서, 히터(104)는 2개의 자기 로터(112)를 포함한다.
각각의 자기 로터(112)는 하나 이상의 영구 자석 또는 전자석을 포함한다. 자기 로터(112)는 순방향(도 2의 시계 방향) 또는 역방향(도 2의 반시계 방향)으로 회전 가능하다(도 2의 화살표(122) 참조). 다양한 예에서, 자기 로터(112)는 전기 모터, 공압 모터, 다른 자기 로터, 또는 다양한 다른 적절한 메커니즘을 포함하지만, 이에 제한되지 않는 다양한 적절한 방법을 통해 회전될 수 있다.
자기 로터(112)는 처리 동안에, 자기 로터(112)가 블랭크(102)와 비접촉 구성이도록 블랭크(102)의 패스라인으로부터 이격된다. 다양한 예에서, 자기 로터(112)는 특정 자기 로터(112)와 블랭크(102) (또는 블랭크(102)의 패스라인) 사이의 거리가 조정 및 제어될 수 있도록 수직으로 조정 가능하다.
일부 예에서, 자기 로터(112)는 패스라인 위에 위치되는 상단 자기 로터(112A) 및 패스라인 아래에 위치되는 하단 자기 로터(112A)를 갖는 세트로서 제공된다. 다른 예에서, 히터(104)는 하단 자기 로터(112B)만, 상단 자기 로터(112A)만, 또는 상단 자기 로터(112A) 및 하단 자기 로터(112B)의 다양한 조합을 포함한다. 일부 예에서, 적어도 하나의 상단 자기 로터(112A)는 대응하는 하단 자기 로터(112B)와 수평 정렬되지만, 그것이 반드시 그럴 필요는 없다. 특정 예에서, 상단 자기 로터(112A)는 갭(128) (도 2)이 자기 로터(112A 및 112B) 사이에 정의되도록 대응하는 하단 자기 로터(112B)로부터 수직 오프셋된다. 도 1 및 도 2에 예시된 바와 같이, 처리 동안에, 블랭크(102)는 갭(128)을 통해 통과된다. 다른 경우에서, 상단 자기 로터(112A)는 하단 자기 로터(112B)에 대해 수평 오프셋될 수 있다.
다양한 예에서, 상단 자기 로터(112A) 및 하단 자기 로터(112B)는 상단 자기 로터(112A)에서 하단 자기 로터(112B)까지의 거리 인 갭(128)의 크기가 조정 및 제어될 수 있도록 수직으로 조정 가능하다(도 2의 화살표(126) 참조). 다양한 예에서, 갭(128)은 유압 피스톤, 스크루 드라이브, 또는 다른 적절한 예를 포함하지만, 이에 제한되지 않는 다양한 액추에이터를 통해 제어될 수 있다. 특정 예에서, 갭(128)은 최소 갭 사이즈와 최대 갭 사이즈 사이에서 가변될 수 있다. 일부 경우에서, 자기장의 세기, 및 따라서 블랭크(102)로 부여되는 열의 양은 자기 로터(112A-B)와 블랭크(102) 사이의 거리를 변화시킴으로써 제어될 수 있다. 다양한 예에서, 상단 자기 로터(112A)는 하단 자기 로터(112B)와 독립적으로 또는 이와 함께 수직으로 조정 가능할 수 있다. 상기 언급된 바와 같이, 자기장의 세기, 및 따라서 블랭크(102)로 부여되는 열의 양은 다른 또는 추가 방식으로 조정될 수 있다.
특정 예에서, 자기 로터(112A-B)는 측방향으로 조정될 수 있다(도 1의 화살표(120) 참조). 측방향 이동은 특정 로터(112A-B)에 의해 커버되는 블랭크(102)의 표면의 백분율을 제어할 수 있고, 따라서 블랭크(102)로 부여되는 열의 양 및 위치를 제어할 수 있다. 특정 예에서, 자기 로터(112A-B)는 블랭크(102)의 온도 프로파일을 제어하기 위해 측방향으로 조정될 수 있다. 예를 들어, 일부 경우에서, 블랭크(102)의 에지는 블랭크(102)의 비-에지 부분보다 보다 급속히 가열될 수 있고, 자기 로터(112A-B)는 블랭크(102)의 온도 변화가 감소되도록 측방향으로 조정될 수 있다. 다양한 예에서, 자기 로터(112A-B)는 자기 로터(112)의 인접한 세트 사이의 갭을 제어하고/하거나(도 2의 화살표(124) 참조) 블랭크(102)에 대한 자기 로터(112)의 종방향 위치를 제어하기 위해 종방향으로 조정 가능할 수 있다.
일부 예에서, 상단 자기 로터(112A) 및 하단 자기 로터(112B)는 동일한 방향으로 회전하지만, 그들이 반드시 그럴 필요는 없다. 예를 들어, 일부 경우에서, 상단 자기 로터(112A) 및 하단 자기 로터(112B)는 대향 방향으로 회전할 수 있다. 다양한 예에서, 한 세트의 자기 로터의 자기 로터(112A-B)는 다른 세트의 자기 로터와 대응하는 자기 로터(112A-B)와 동일한 또는 상이한 방향으로 회전할 수 있다. 자기 로터(112A-B)는 약 100 rpm 내지 약 5000 rpm과 같은, 다양한 회전 속도로 회전할 수 있다. 하나의 비제한적 예에서, 자기 로터(112A-B)는 분당 약 1800 rpm으로 회전하지만, 다양한 다른 회전 속도가 이용될 수 있다. 자기 로터(112A-B)가 회전함에 따라, 자석은 블랭크(102)가 가열되도록 블랭크(102)로 자기장을 유도한다. 다양한 예에서, 자기 로터(112)의 회전을 통해, 히터(104)는 블랭크(102)를 가열하도록 구성된다.
다수의 자기 로터(112A-B)를 갖는 특정 예에서, 자기 로터(112A-B)는 각각의 자기 로터(112A-B)에 의해 부여되는 블랭크(102)의 온도 상승의 양이 제한되도록 선택적으로 제어될 수 있다. 일부 예에서, 블랭크(102)를 가열하는 것에 더하여, 자기 로터(112A-B)를 회전시키는 것은 또한 블랭크(102)가 자기 로터(112A-B)를 접촉하는 것 없이(예를 들어, 자기 로터(112A-B)는 블랭크(102)를 부상 또는 부유시킴) 자기 로터(112) 위 및/또는 그 사이를 통과하는 것을 허용하는 수직 안정화를 제공할 수 있다. 예를 들어, 일부 경우에서, 자기 로터(112A-B)는 블랭크(102)를 부유시키고 로터(112A-B)와 블랭크(102) 사이의 접촉을 최소화하고/하거나 제거하기 위해 블랭크(102)의 표면에 수직 또는 실질적으로 수직인 힘을 부여한다.
다른 경우에서, 블랭크(102)는 히터(104)에서 지지부(118)에 의해 지지될 수 있다. 지지부(118)는 플랫폼, 브래킷, 컨베이어, 또는 다양한 다른 적절한 지지 구조일 수 있다. 일부 경우에서, 지지부(118)는 히터(104), 제2 히터(110), 또는 히터(104 및 110) 둘 다에 대해 블랭크(102)를 측방향으로 위치시키도록 구성된다. 특정 경우에서, 지지부(118)는 히터(104)를 통해 그리고 선택적으로 제2 히터(110)를 통해 블랭크(102)를 전진시킬 수 있지만, 그것이 반드시 그럴 필요는 없다.
다양한 예에서, 히터(104)는 미리 결정된 기간 동안 블랭크(102)를 가열하도록 구성된다. 다양한 예에서, 미리 결정된 기간은 가열 시간 및 소킹 시간(soaking time)을 포함할 수 있지만, 그것이 반드시 그럴 필요는 없다. 일부 비제한적 예에서, 히터(104)는 약 30초 내지 20분 동안 블랭크(102)를 가열한다. 하나의 비제한적 예에서, 미리 결정된 기간은 약 30초 내지 약 6분 이다. 다른 예에서, 미리 결정된 기간은 20분보다 더 클 수 있다. 히터(104)가 전체 장치인 하나의 비제한적 예에서(예를 들어, 제2 히터(110)가 생략됨), 미리 결정된 기간은 가열 시간 및 소킹 시간을 포함할 수 있다. 다른 예에서, 제2 히터(110)가 포함되는 경우, 미리 결정된 기간은 블랭크(102)가 히터(104) 및 제2 히터(110) 둘 다에 의해 가열되는 시간을 포함할 수 있지만, 그것은 반드시 그럴 필요는 없다.
다양한 예에서, 히터(104)는 블랭크(102)를 미리 결정된 온도로 가열한다. 일부 비제한적 예에서, 미리 결정된 온도는 블랭크(102)의 용액화 온도(solutionizing temperature)이지만, 그것은 반드시 그럴 필요는 없다. 예를 들어, 다른 비제한적 경우에서, 미리 결정된 온도는 워밍 온도(warming temperature), 또는 다양한 다른 온도일 수 있다. 다른 예에서, 미리 결정된 온도는 블랭크의 용액화 온도 미만이다. 특정의 비제한적 예에서, 히터(104)는 약 200℃ 내지 약 600℃의 온도로 블랭크(102)를 가열한다. 다른 예에서, 히터(104)는 특정 응용에 따라 200℃ 미만 또는 600℃ 초과의 온도로 블랭크(102)를 가열할 수 있다. 하나의 비제한적 예로서, 히터(104)는 7xxx 시리즈 알루미늄 합금 블랭크(102)를 약 400℃ 내지 약 500℃의 온도로 가열할 수 있다. 다른 비제한적 예로서, 히터(104)는 6xxx 시리즈 알루미늄 합금 블랭크를 약 400℃ 내지 약 600℃의 온도로 가열할 수 있다. 추가적인 비제한적 예로서, 히터(104)는 다양한 템퍼를 갖는 금속 블랭크 또는 시트의 온간 성형(warm forming)을 위해 제공될 수 있다. 하나의 비제한적 예로서, 히터(104)는 시트의 특정 합금에 따라 T6 시트를 약 200℃ 또는 300℃로부터의 온도로 가열할 수 있다.
다양한 예에서, 블랭크(102)는 히터(104)를 통과하는(또는 히터(104)의 자기 로터(112A-B)의 각 세트를 통과하는) 다중 패스를 만들 수 있다. 다양한 예에서, 블랭크(102)는 히터(104) (또는 히터(104)의 자기 로터(112A-B)의 각각의 세트)를 통과하는 홀수의 패스를 만들 수 있다. 예를 들어, 블랭크(102)는 히터(104)를 통과하는 1개의 패스, 히터(104)를 통과하는 3개의 패스, 히터(104)를 통과하는 5개의 패스, 히터(104)를 통과하는 7개의 패스, 또는 히터(104)를 통과하는 7개보다 많은 패스를 만들 수 있다. 특정 예들에서, 2개 이상의 자기 로터(112A-B) 세트는 블랭크(102)가 히터(104)를 통과하는 단일 패스(또는 임의의 원하는 수의 패스)를 만들도록 다양한 적절한 구성으로 배열될 수 있다. 다른 예에서, 블랭크(102)는 자기 로터(112A-B)의 구성 및 배열에 따라 히터(104) (또는 히터(104)의 자기 로터(112A-B)의 각각의 세트)를 통과하는 짝수의 패스를 만들 수 있다.
일부 선택적 경우에서, 열간 성형 시스템(100)은 제2 히터(110)를 포함한다. 다양한 예에서, 제2 히터(110)는 블랭크(102)가 먼저 히터(104)에 의해 가열되고 그 다음 제2 히터(110)에 의해 가열되도록 배열된다. 그러한 예에서, 제2 히터(110)는 블랭크 용액화 온도와 같은, 블랭크 온도를 균질화하기 위해 선택적으로 사용될 수 있다. 다른 예에서, 히터(104) 및 제2 히터(110)의 순서는 역전될 수 있다. 제2 히터(110)는 블랭크 수용 영역(114)을 포함한다. 일부 경우에서, 지지부(118)는 블랭크가 블랭크 수용 영역(114)에 있을 때 블랭크(102)를 지지할 수 있다. 다른 예에서, 지지부(118)로부터의 상이한 지지부는 블랭크(102)를 지지할 수 있다. 일부 예에서, 제2 히터(110)는 가스 작동식 히터(직접 플레임 충돌과 같은 직접 또는 간접), 롤러로(roller furnace), 유도 히터, 적외선 히터, 전기로, 또는 다양한 다른 적합한 유형의 히터일 수 있다. 다양한 다른 예에서, 제2 히터(110)는 히터(104)와 유사하고 하나 이상의 자기 로터(112)를 포함할 수 있다. 하나의 비제한적 예로서, 제2 히터(110)는 자기 로터(112)를 포함하는 롤러로일 수 있으며, 이는 롤러로의 길이를 상당히 단축시킬 수 있다. 다양한 예에서, 제2 히터(110)는 미리 결정된 기간 동안 블랭크(102)를 가열할 수 있다. 이전에 설명된 바와 같이, 일부 경우에서, 미리 결정된 기간은 블랭크(102)가 히터(104) 및 제2 히터(110) 둘 다에 의해 가열되는 시간을 포함하지만, 그것은 반드시 그럴 필요는 없다. 특정 예에서, 제2 히터(110)는 약 30초 내지 약 20분의 기간 동안 블랭크(102)를 가열할 수 있다.
특정 예에서, 제2 히터(110)에게 히터(104)를 제공함으로써, 블랭크(102)의 온도 프로파일은 제어될 수 있다. 예를 들어, 일부 경우에서, 히터(104)는 블랭크(102)를 용액화 온도 미만인 제1 온도로 가열할 수 있고, 제2 히터(110)는 블랭크(102)를 제1 온도로부터 용액화 온도로 가열할 수 있다. 일부 예에서, 히터(104)는 제1 기간 동안 블랭크(102)를 가열할 수 있고 제2 히터(110)는 제2 기간 동안 블랭크를 가열할 수 있다. 일부 예에서, 히터(104)가 블랭크(102)를 가열하는 시간의 양은 블랭크(102)의 크기 및/또는 두께, 자기 로터(112)의 수, 히터(104)를 통과하는 블랭크(102)의 패스의 수, 자기 로터(112)의 회전 속도, 자기 로터(112)의 회전 방향, 자기 로터(112)에서 블랭크(102)까지의 거리, 또는 다양한 다른 요인을 포함하지만, 이에 제한되지 않는 다양한 요인에 의존할 수 있다. 특정 예에서, 히터(104)는 상당한 왜곡이 블랭크(102)에 도입되지 않도록 블랭크(102)를 가열한다. 하나의 비제한적 예로서, 히터(104)는 약 1초 내지 약 30초의 기간 동안 블랭크(102)를 가열할 수 있다. 다른 예에서, 히터(104)는 30초 초과 동안 블랭크(102)를 가열할 수 있다.
다른 예에서, 제2 히터(110)는 블랭크(102)의 온도 프로파일을 제어하기 위해 제공될 수 있다. 하나의 비제한적 예로서, 일부 경우에서, 히터(104)로 블랭크(102)를 가열하는 것은 블랭크(102)가 다양한 온도 프로파일을 가질 수 있게 할 수 있다. 예를 들어, 일부 비제한적 경우에서, 블랭크(102)의 에지는 블랭크(102)의 비-에지 부분의 온도보다 더 큰 온도를 가질 수 있다. 일부 경우에서, 제2 히터(110)는 블랭크(102)의 온도 프로파일을 제어하기 위해 히터(104) 후에 블랭크(102)를 가열할 수 있다. 하나의 비제한적 예로서, 제2 히터(110)는 블랭크(102)가 균일한 온도 프로파일을 갖도록 블랭크(102)를 가열할 수 있다.
블랭크 무버(108)는 열간 성형 시스템(100)의 다양한 구성요소 사이에서 블랭크(102)를 이동시키기 위해 다양한 위치에 제공될 수 있다. 예를 들어, 일부 경우에서, 블랭크 무버(108)는 제2 히터(110)와 열간 성형 프레스(106) 사이에서 블랭크(102)를 이동시키기 위해 제2 히터(110)와 열간 성형 프레스(106) 사이에 제공된다. 유사하게, 블랭크 무버(108) (또는 다른 블랭크 무버(108))는 히터(104)로부터 제2 히터(110)로 블랭크(102)를 이동시키기 위해 히터(104)와 제2 히터(110) 사이에 제공될 수 있다.
블랭크 무버(108)는 블랭크(102)를 지지하기 위한 지지부(130)를 포함한다. 다양한 구성요소에서, 블랭크 무버(108)는 열간 성형 시스템(100)의 다양한 구성요소 사이에서 블랭크(102)를 이동시키기 위한 다양하고 적절한 메커니즘 또는 장치일 수 있다. 하나의 비제한적 예로서, 블랭크 무버(108)는 블랭크(102)를 지지하고 이동시키는 로봇 아암을 포함할 수 있다. 다른 예에서, 다른 유형의 블랭크 무버(108)가 이용될 수 있다. 이와 같이, 블랭크 무버(108)의 개수 및 유형은 본 개시를 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다.
열간 성형 프레스(106)는 다이(116) 및 공구(117)를 포함한다. 다이(116)는 블랭크(102)가 열간 성형 프레스(106) 내에 위치될 때, 공구(117)가 다이(116)를 향하여 이동하고 다이(116)에 의해 정의되는 형상으로 블랭크(102)를 형성하도록 미리 결정된 형상을 갖는다. 일부 예에서, 열간 성형 프레스(106)는 미리 결정된 프레스 속도로 블랭크(102)를 열간 성형할 수 있다. 일부 비제한적 예에서, 미리 결정된 프레스 속도는 약 100 mm/초 내지 약 400 mm/초일 수 있지만, 다양한 다른 프레스 속도가 이용될 수 있다. 다양한 예에서, 열간 성형 프레스(106)는 유압 프레스, 기계 프레스, 서보-제어 프레스, 또는 다양한 다른 적절한 유형의 프레스일 수 있다. 일부 예에서, 다이(116)는 수냉식 다이이다. 일부 경우에서, 다이(116)는 웜 다이(warm die)이고/이거나 제어 가능한 온도 프로파일을 가질 수 있을 것이다. 하나의 비제한적 예로서, 강철을 성형하는 동안과 같은 일부 경우에서, 다이(116)는 블랭크(102)가 다이(116)에 의해 정의되는 형상으로 형성될 때 상이한 일부(part) 위치에서 상이한 최종 속성(properties)을 달성하기 위해 다이(116)의 일부 구역에서 가열되고 다이(116)의 다른 구역에서 냉각될 수 있다. 이전에 설명된 바와 같이, 일부 예에서, 시스템(100)은 온간 성형 시스템(warm forming system)일 수 있다. 그러한 경우에서, 프레스(106)는 온간 성형 프레스이고, 성형 온도는 열간 성형 프레스와 같이 높지 않다. 일부 경우에서, 시스템(100)은 다이(116)를 갖는 열간 성형 프레스(106)에 더하여 또는 이를 대신하여 상승된 온도에서 블로우 성형(blow forming)을 포함할 수 있다. 블로우 성형 동안에, 예열된 블랭크(102)는 공구에 도입되고 그 다음 다양한 압력에서 고온 가스로 변형된다.
특정 예에서, 열간 성형 시스템(100)은 히터(104)에 대한 다양한 위치에서 다양한 센서 또는 모니터(131)를 포함한다. 이들 센서(131)는 그것이 처리됨에 따라 블랭크(102)의 위치, 블랭크(102)의 이동, 블랭크(102)의 온도, 블랭크(102)에 걸친 온도 분포 및/또는 블랭크(102)에 대한 다양한 정보를 검출 및 모니터링할 수 있다. 일부 예에서, 센서에 의해 수집되는 정보는 자기 로터(112A-B) (예를 들어, 회전 속도, 회전 방향, 블랭크(102)로부터의 거리 등)를 조정하기 위해 컨트롤러에 의해 사용될 수 있고 그것에 의해 블랭크(102)의 가열을 제어한다. 일부 예에서, 컨트롤러는 히터(104)를 통과하는 블랭크(102)의 패스의 수를 조정할 수 있다.
일 예로서, 히터(104)는 블랭크(102)의 과열을 감소시키거나 방지하고/하거나 자기 로터(112A-B)의 활성 및 비활성을 제어하도록 제어될 수 있다. 예를 들어, 자기 로터(112A-B)는 블랭크(102)가 히터(104) 내에 있지 않거나, 블랭크(102)가 미리 결정된 기간 동안 가열된 후거나, 블랭크(102)가 미리 결정된 온도로 가열된 후거나, 다양한 다른 요인의 경우 비활성화될 수(즉, 회전을 멈출 수) 있다. 유사하게, 자기 로터(112A-B)는 블랭크가 히터(104)에 근접하거나, 블랭크(102)의 온도가 미리 결정된 온도 미만이거나, 블랭크(102)가 미리 결정된 기간 미만의 기간 동안 가열되거나, 다양한 다른 요인의 경우에 기초하여 다시 회전을 시작하거나 계속해서 회전(및 따라서 블랭크(102)를 다시 가열하기 시작)할 수 있다. 따라서, 자기 로터(112A-B)를 통해, 히터(104)는 블랭크(102)를 급속 가열하거나 이를 가열하는 것을 정지할 수 있다.
다른 예로서, 히터(104 및/또는 110)는 블랭크(102)의 균일한 또는 원하는 온도 프로파일을 보장하도록 제어될 수 있다. 예를 들어, 센서 또는 모니터(131)는 블랭크가 히터(104)에서 인출됨에 따라 블랭크(102)의 온도를 검출할 수 있다. 검출된 온도에 기초하여, 자기 로터(112)는(예를 들어, 자기 로터(112)에 대한 파워 입력, 자기 로터(112A-B)의 속도, 블랭크(102)로부터 자기 로터(112A-B)의 거리 등을 조정함으로써) 제어될 수 있고/있거나 제2 히터(110)는 블랭크(102)의 온도 및/또는 블랭크(102)에 걸친 온도를 제어하도록 제어될 수 있다.
추가적인 예로서, 히터(104)는 상이한 유형의 블랭크(102)를 수용하도록 제어될 수 있다. 예를 들어, 블랭크(102)의 유형 및/또는 원하는 공정 또는 제품 요건에 따라, 블랭크(102)는 상이한 처리 시간, 처리 온도 등에서 히터(104) 및/또는 히터(110)에 의해 가열될 수 있다. 자기 로터(112A-B)를 제어함으로써 온도는 종래의 히터보다 더욱 빨리 변화될 수 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 금속 블랭크(102)를 열간 성형하는 방법이 또한 개시된다. 다양한 예에서, 방법은 히터(104)에서 금속 기판의 블랭크(102)를 수용하는 단계를 포함한다. 일부 비제한적 예에서, 블랭크(102)는 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함한다.
방법은 히터(104)의 자기 로터(112A-B)에 인접하여 블랭크(102)를 위치시키는 단계 및 자기 로터(112A-B)를 회전시켜 블랭크(102)로 자기장을 유도하여 블랭크(102)를 가열하는 단계를 포함한다. 일부 예에서, 블랭크(102)는 미리 결정된 기간 동안 가열된다. 예를 들어, 일부 비제한적 예에서, 블랭크(102)는 약 30초 내지 약 20분 동안 가열된다. 일부 예에서, 미리 결정된 기간은 다른 요인 중에서 블랭크(102)의 크기 및/또는 두께에 의존할 수 있다. 다른 예에서, 블랭크(102)는 미리 결정된 온도로 가열된다. 예를 들어, 일부 비제한적 경우에서, 블랭크(102)는 약 200℃ 내지 약 600℃의 온도로 가열된다. 일부 예에서, 미리 결정된 온도는 블랭크(102)의 용액화 온도이다. 용액화 온도는 블랭크(102)의 특정 재료 조성에 의존할 수 있다. 하나의 비제한적 예로서, 히터(104)는 7xxx 시리즈 알루미늄 합금 블랭크(102)를 약 400℃ 내지 약 500℃의 온도로 가열할 수 있다. 다른 비제한적 예로서, 히터(104)는 6xxx 시리즈 알루미늄 합금 블랭크를 약 400℃ 내지 약 600℃의 온도로 가열할 수 있다. 일부 예에서, 용액화 온도는 다른 요인 중에서 블랭크(102)의 크기 및/또는 두께에 의존할 수 있다.
특정 경우에서, 블랭크(102)를 위치시키는 단계는 지지부(118) 상에 블랭크(102)를 위치시키는 단계를 포함한다. 일부 예에서, 방법은 자기 로터(112A-B)의 측방향 위치를 유지하는 동안 자기 로터(112A-B)에 대해 지지부(118)와 함께 측방향으로 블랭크(102)를 이동시키는 단계를 포함한다. 다른 예에서, 블랭크(102)를 위치시키는 단계는 지지부(118) 상에 블랭크(102)를 위치시키는 단계 및 블랭크(102)의 측방향 위치를 유지하는 동안 블랭크(102)에 대해 자기 로터(112A-B)를 측방향 이동시키는 단계를 포함한다.
일부 예에서, 방법은 자기 로터(112A-B)에 의해 블랭크(102)로 유도되는 열의 양을 조정하기 위해 자기장을 조정하는 단계를 포함한다. 특정 예에서, 자기장을 조정하는 단계는 자기 로터(112A-B)의 회전 속도를 조정하는 단계, 자기 로터(112A-B)의 회전 방향을 조정하는 단계, 블랭크(102)에 대한 자기 로터(112A-B)의 수직 위치를 조정하는 단계, 블랭크(102)에 대한 자기 로터(112A-B)의 측방향 위치를 조정하는 단계, 및/또는 블랭크(102)에 대한 자기 로터(112A-B)의 종방향 위치를 조정하는 단계를 포함한다. 다양한 경우에서, 방법은 예컨대 센서(131)를 사용하여, 블랭크(102)의 온도를 검출하는 단계, 검출된 온도를 미리 결정된 온도에 비교하는 단계, 및 검출된 온도가 미리 결정된 온도와 매칭하도록 블랭크(102)의 가열을 조정하기 위해 자기 로터(112A-B)를 조정하는 단계를 포함한다. 다양한 예에서, 블랭크(102)를 위치시키는 단계는 블랭크(102)를 자기 로터(112A-B)로부터 미리 결정된 거리에 위치시키는 단계를 포함한다.
다양한 예에서, 방법은 선택적으로 히터(104)로부터 블랭크(102)를 제거하는 단계, 제2 히터(110)에 블랭크(102)를 위치시키는 단계, 및 제2 히터(110)로 블랭크(102)를 가열하는 단계를 포함한다. 다양한 예에서, 제2 히터(110)로 블랭크(102)를 가열하는 단계는 블랭크(102)의 온도 프로파일을 제어하는 단계를 포함한다. 특정 예에서, 제2 히터(110)로 블랭크(102)를 가열하는 단계는 블랭크(102)의 용액화 온도로 블랭크(102)를 가열하는 단계를 포함한다. 일부 경우에서, 히터(104)로부터 블랭크(102)를 제거하는 단계 및 제2 히터(110)에 블랭크(102)를 위치시키는 단계는 지지부(118) 상에 블랭크를 이동시키는 단계를 포함한다. 일부 예에서, 지지부(118)는 블랭크(102)를 히터(104)로부터 제2 히터(110)로 이동시키기 위한 컨베이어 또는 다른 적절한 지지부이다.
일부 예에서, 방법은 히터(104) (또는 히터(110))가 블랭크(102)를 가열 한 후에 히터(104) (또는 히터(110))로부터 블랭크(102)를 제거하는 단계를 포함한다. 특정 예에서, 블랭크(102)는 미리 결정된 기간 후에 및/또는 블랭크(102)가 미리 결정된 온도인 후에 제거된다. 특정 예에서, 방법은 블랭크(102)를 히터(104)로부터 열간 성형 프레스(106)로 이동시키기 위해 블랭크 무버(108)를 사용하는 단계를 포함한다. 일부 경우에, 방법은 열간 성형 프레스(106)로 블랭크(102)를 열간 성형하는 단계를 포함한다. 특정 경우에서, 블랭크(102)를 열간 성형하는 단계는 열간 성형 프레스(106)의 다이(116) 상에 블랭크(102)를 위치시키는 단계 및 다이(116)가 블랭크(102)를 형상화하도록 열간 성형 프레스(106)로 블랭크(102)를 가압하는 단계를 포함한다.
본원에서 설명되는 개념들에 따라 다양한 실시예 유형의 추가적인 설명을 제공하는, "ECs(Example Combinations)"로서 명시적으로 열거되는 적어도 일부를 포함하는, 예시적 실시예의 집합이 아래에 제공된다. 이들 예는 상호 배타적이거나, 총망라하거나, 제한적이도록 의미되지 않고; 본 발명은 이들 예시적 실시예에 제한되지 않으며 오히려 발행된 청구범위 및 그들의 균등물의 범위 내의 모든 가능한 수정 및 변형을 포함한다.
EC 1. 방법은: 히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계 - 히터는 자기 로터를 포함함 -; 히터의 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계; 및 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 미리 결정된 기간 동안 가열하는 단계를 포함하는 방법.
EC 2. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 미리 결정된 기간 동안 가열하는 단계는 블랭크를 미리 결정된 온도로 가열하는 단계를 포함하고, 미리 결정된 온도는 블랭크의 용액화 온도인 방법.
EC 3. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 온도는 약 200℃ 내지 약 600℃인 방법.
EC 4. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 기간 후에 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 5. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 제거하는 단계는 블랭크를 히터로부터 열간 성형 프레스로 제거하기 위해 무버(mover)를 사용하는 단계를 포함하는 방법.
EC 6. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 열간 성형 프레스를 사용하여 미리 결정된 형상으로 열간 성형하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 7. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 열간 성형 프레스는 수냉식 다이를 포함하는 방법.
EC 8. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 위치시키는 단계는 자기 로터의 측방향 위치를 유지시키는 동안 자기 로터에 대해 무버로 블랭크를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 9. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 위치시키는 단계는 금속 블랭크의 측방향 위치를 유지시키는 동안 금속 블랭크에 대해 자기 로터를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 10. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터에 의해 유도되는 열의 양을 조정하기 위해 자기장을 조정하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 11. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기장을 조정하는 단계는 자기 로터의 회전 속도를 조정하는 단계, 자기 로터의 회전 방향을 조정하는 단계, 블랭크에 대한 자기 로터의 수직 위치를 조정하는 단계, 블랭크에 대한 자기 로터의 측방향 위치를 조정하는 단계, 또는 블랭크에 대한 자기 로터의 종방향 위치를 조정하는 단계 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
EC 12. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기장을 조정하는 단계는: 블랭크의 온도를 검출하는 단계; 검출된 온도를 미리 결정된 온도와 비교하는 단계; 및 검출된 온도가 미리 결정된 온도와 매칭하도록 블랭크의 가열을 조정하기 위해 자기 로터를 조정하는 단계를 포함하는 방법.
EC 13. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계는 자기 로터로부터 미리 결정된 거리에 블랭크를 위치시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 14. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터는 상단 자기 로터이고, 히터는 상단 자기 로터로부터 수직 오프셋 되는 하단 자기 로터를 더 포함하고, 자기 로터에 인접하여 블랭크를 통과시키는 단계는 상단 자기 로터와 하단 자기 로터 사이에 정의되는 갭을 통해 블랭크를 통과시키는 단계를 포함하고, 자기 로터를 회전시키는 단계는 블랭크를 가열하기 위해 상단 자기 로터 및 하단 자기 로터를 회전시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 15. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 기간은 약 30초 내지 약 20분인 방법.
EC 16. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 히터는 제1 히터이고, 방법은: 상기 미리 결정된 기간 후에 제1 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계; 블랭크를 제2 히터에 위치시키는 단계; 및 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 17. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계는 블랭크의 온도 프로파일을 제어하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 18. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 제2 히터는 가스 작동식 히터, 적외선 히터, 롤러로, 전기로, 또는 유도 히터를 포함하는 방법.
EC 19. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계는 블랭크의 용액화 온도로 블랭크를 가열하는 단계를 포함하는 방법.
EC 20. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 제1 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계 및 제2 히터에 블랭크를 위치시키는 단계는 무버로 블랭크를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 21. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 무버는 컨베이어인 방법.
EC 22. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크는 알루미늄을 포함하는 방법.
EC 23. 방법은: 히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계 - 히터는 자기 로터를 포함함 -; 히터의 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계; 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 가열하는 단계; 및 블랭크가 미리 결정된 온도에 있을 때 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계를 포함하는 방법.
EC 24. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 온도는 블랭크의 용액화 온도인 방법.
EC 25. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 온도는 약 200℃ 내지 약 600℃인 방법.
EC 26. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 제거하는 단계는 히터로부터 열간 성형 프레스로 블랭크를 제거하기 위해 무버를 사용하는 단계를 포함하는 방법.
EC 27. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 열간 성형 프레스로 블랭크를 열간 성형하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 28. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 열간 성형 프레스는 수냉식 다이를 포함하는 방법.
EC 29. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 위치시키는 단계는 자기 로터의 측방향 위치를 유지시키는 동안 자기 로터에 대해 무버로 블랭크를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 30. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 위치시키는 단계는 금속 블랭크의 측방향 위치를 유지시키는 동안 금속 블랭크에 대해 자기 로터를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 31. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터에 의해 유도되는 열의 양을 조정하기 위해 자기장을 조정하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 32. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기장을 조정하는 단계는 자기 로터의 회전 속도를 조정하는 단계, 자기 로터의 회전 방향을 조정하는 단계, 블랭크에 대한 자기 로터의 수직 위치를 조정하는 단계, 블랭크에 대한 자기 로터의 측방향 위치를 조정하는 단계, 또는 블랭크에 대한 자기 로터의 종방향 위치를 조정하는 단계 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
EC 33. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기장을 조정하는 단계는: 블랭크의 온도를 검출하는 단계; 검출된 온도를 미리 결정된 온도와 비교하는 단계; 및 검출된 온도가 미리 결정된 온도와 매칭하도록 블랭크의 가열을 조정하기 위해 자기 로터를 조정하는 단계를 포함하는 방법.
EC 34. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계는 자기 로터로부터 미리 결정된 거리에 블랭크를 위치시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 35. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터는 상단 자기 로터이고, 히터는 상단 자기 로터로부터 수직 오프셋되는 하단 자기 로터를 더 포함하고, 자기 로터에 인접하여 블랭크를 통과시키는 단계는 상단 자기 로터와 하단 자기 로터 사이에 정의되는 갭을 통해 블랭크를 통과시키는 단계를 포함하고, 자기 로터를 회전시키는 단계는 블랭크를 가열하기 위해 상단 자기 로터 및 하단 자기 로터를 회전시켜는 단계를 포함하는 방법.
EC 36. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 히터는 제1 히터이고, 방법은: 미리 결정된 기간 후에 제1 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계; 블랭크를 제2 히터에 위치시키는 단계; 및 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 37. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계는 블랭크의 온도 프로파일을 제어하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 38. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 제2 히터는 가스 작동식 히터, 적외선 히터, 롤러로, 전기로, 또는 유도 히터를 포함하는 방법.
EC 39. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계는 블랭크의 용액화 온도로 블랭크를 가열하는 단계를 포함하는 방법.
EC 40. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 제1 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계 및 제2 히터에 블랭크를 위치시키는 단계는 무버로 블랭크를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 41. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 무버는 컨베이어인 방법.
EC 42. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크는 알루미늄을 포함하는 방법.
EC 43. 열간 성형 시스템은: 자기 로터를 포함하는 히터를 포함하며, 히터는: 자기 로터에 인접하여 금속 기판의 블랭크를 수용하고; 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 44. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 히터는 미리 결정된 기간 동안 블랭크를 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 45. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 블랭크를 가열하는 미리 결정된 기간은 약 30초 내지 약 20분인 열간 성형 시스템.
EC 46. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 히터는 블랭크를 미리 결정된 온도로 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 47. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 미리 결정된 온도는 블랭크의 용액화 온도인 열간 성형 시스템.
EC 48. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 히터로부터 열간 성형 프레스로 블랭크를 이동시키도록 구성되는 무버를 더 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 49. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 열간 성형 프레스를 더 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 50. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 열간 성형 프레스는 수냉식 다이를 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 51. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 히터는 자기 로터에 대해 블랭크를 측방향으로 위치시키도록 구성되는 무버를 더 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 52. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 무버는 컨베이어를 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 53. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 자기 로터는 블랭크에 대해 측방향으로 이동 가능한 열간 성형 시스템.
EC 54. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 자기 로터의 적어도 하나의 특성은 블랭크로 유도되는 자기장이 자기 로터에 의해 유도되는 열의 양을 조정하기 위해 조정 가능하도록 조정 가능한 열간 성형 시스템.
EC 55. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 적어도 하나의 특성은 자기 로터의 회전 속도, 자기 로터의 회전 방향, 블랭크에 대한 자기 로터의 수직 위치, 블랭크에 대한 자기 로터의 측방향 위치, 또는 블랭크에 대한 자기 로터의 종방향 위치를 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 56. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 블랭크의 온도를 검출하도록 구성된 센서; 및 통신중인 컨트롤러를 더 포함하며, 컨트롤러는 블랭크의 검출된 온도에 기초하여 자기 로터를 조정하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 57. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 자기 로터는 상단 자기 로터이며, 히터는 갭이 하단 자기 로터와 상단 자기 로터 사이에 정의되도록 상단 자기 로터로부터 수직 오프셋되는 하단 자기 로터를 더 포함하고, 히터는 갭에 블랭크를 수용하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 58. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 히터는 제1 히터이고, 열간 성형 시스템은: 제2 히터를 포함하되, 제2 히터는: 제1 히터로부터 블랭크를 수용하고; 블랭크를 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 59. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 제2 히터는 블랭크의 온도 프로파일을 제어하도록 더 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 60. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 제2 히터는 가스 작동식 히터, 적외선 히터, 롤러로, 전기로, 또는 유도 히터를 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 61. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 열간 성형 프레스; 및 무버를 더 포함하며, 무버는 제2 히터로부터 열간 성형 프레스로 블랭크를 이동시키도록 구성되고, 열간 성형 프레스는 블랭크를 형상화하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 62. 방법은: 히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계 - 히터는 자기 로터를 포함함 -; 히터의 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계; 및 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 미리 결정된 기간 동안 가열하는 단계를 포함하는 방법.
EC 63. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 미리 결정된 기간 동안 가열하는 단계 블랭크를 미리 결정된 온도로 가열하는 단계를 포함하고; 미리 결정된 온도는 약 200℃ 내지 약 600℃인 방법.
EC 64. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 기간 후에 히터로부터 블랭크를 제거하고 블랭크를 열간 성형 프레스로 이동시키는 단계; 및 블랭크를 열간 성형 프레스로 미리 결정된 형상으로 열간 성형하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 65. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 위치시키는 단계는 자기 로터의 측방향 위치를 유지시키는 동안 자기 로터에 대해 무버로 블랭크를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 66. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 위치시키는 단계는 금속 블랭크의 측방향 위치를 유지시키는 동안 금속 블랭크에 대해 자기 로터를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 67. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터에 의해 유도되는 열의 양을 조정하기 위해 자기장을 조정하는 단계를 더 포함하며, 자기장을 조정하는 단계는 자기 로터의 회전 속도를 조정하는 단계, 자기 로터의 회전 방향을 조정하는 단계, 블랭크에 대한 자기 로터의 수직 위치를 조정하는 단계, 블랭크에 대한 자기 로터의 측방향 위치를 조정하는 단계, 또는 블랭크에 대한 자기 로터의 종방향 위치를 조정하는 단계 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
EC 68. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 자기 로터는 상단 자기 로터이고, 히터는 상단 자기 로터로부터 수직 오프셋되는 하단 자기 로터를 더 포함하고, 자기 로터에 인접하여 블랭크를 통과시키는 단계는 상단 자기 로터와 하단 자기 로터 사이에 정의되는 갭을 통해 블랭크를 통과시키는 단계를 포함하고, 자기 로터를 회전시키는 단계는 블랭크를 가열하기 위해 상단 자기 로터 및 하단 자기 로터를 회전시키는 단계를 포함하는 방법.
EC 69. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 기간은 약 30초 내지 약 20분인 방법.
EC 70. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 히터는 제1 히터이고, 방법은: 미리 결정된 기간 후에 제1 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계; 블랭크를 제2 히터에 위치시키는 단계; 및 블랭크를 제2 히터로 미리 결정된 온도로 가열하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 71. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 제2 히터는 가스 작동식 히터, 적외선 히터, 롤러로, 전기로, 또는 유도 히터를 포함하는 방법.
EC 72. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 온도는 블랭크의 용액화 온도이고, 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계는 블랭크의 온도 프로파일을 제어하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 73. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크는 알루미늄을 포함하는 방법.
EC 74. 방법은: 히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계 - 히터는 자기 로터를 포함함 -; 히터의 자기 로터에 인접하여 블랭크를 위치시키는 단계; 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 가열하는 단계; 및 블랭크가 미리 결정된 온도에 있을 때 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계를 포함하는 방법.
EC 75. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 미리 결정된 온도는 약 200℃ 내지 약 600℃인 방법.
EC 76. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 히터는 제1 히터이고, 방법은: 미리 결정된 기간 후에 제1 히터로부터 블랭크를 제거하는 단계; 블랭크를 제2 히터에 위치시키는 단계; 블랭크를 제2 미리 결정된 기간 동안 제2 히터로 가열하는 단계; 블랭크를 제2 히터로부터 제거하는 단계; 및 열간 성형 프레스로 블랭크를 열간 성형하는 단계를 더 포함하는 방법.
EC 77. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 방법에 있어서, 블랭크를 제2 히터로 가열하는 단계는 블랭크의 용액화 온도로 블랭크를 가열하는 단계를 포함하는 방법.
EC 78. 열간 성형 시스템은: 자기 로터를 포함하는 히터를 포함하며, 히터는: 자기 로터에 인접하여 금속 기판의 블랭크를 수용하고; 자기 로터를 회전시켜 블랭크에 자기장을 유도하여 블랭크를 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 79. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 히터는 제1 히터이고, 열간 성형 시스템은: 제2 히터를 더 포함하되, 제2 히터는: 제1 히터로부터 블랭크를 수용하고; 블랭크를 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
EC 80. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 제2 히터는 가스 작동식 히터, 적외선 히터, 롤러로, 전기로, 또는 유도 히터를 포함하는 열간 성형 시스템.
EC 81. 선행 또는 후속의 예시적 조합 중 임의의 열간 성형 시스템에 있어서, 열간 성형 프레스; 및 무버를 더 포함하며, 무버는 블랭크를 히터로부터 열간 성형 프레스로 이동시키도록 구성되고, 열간 성형 프레스는 블랭크를 형상화하도록 구성되는 시스템.
상기 설명된 양태들은 단지 가능한 구현예이며, 단지 본 개시의 원리들의 명확한 이해를 위해 진술된다. 많은 변형 및 수정은 본 개시의 사상 및 원리를 실질적으로 벗어나는 것 없이 설명된 실시예(들)에 대해 이루어질 수 있다. 모든 그러한 수정 및 변형은 본원에서 본 개시의 범위 내에 포함되도록 의도되며, 개별 양태 또는 요소 또는 단계의 조합에 대한 모든 가능한 청구범위는 본 개시에 의해 지지되도록 의도된다. 더욱이, 특정 용어가 이어지는 청구범위뿐만 아니라, 본원에서 이용되지만, 그들은 일반적이고 설명적인 의미로만 사용되고, 설명된 발명, 또는 이어지는 청구범위를 제한하기 위한 목적이 아니다.

Claims (20)

  1. 방법에 있어서,
    히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계 - 상기 히터는 자기 로터를 포함함 -;
    상기 히터의 상기 자기 로터에 인접하여 상기 블랭크를 위치시키는 단계; 및
    상기 자기 로터를 회전시켜 상기 블랭크에 자기장을 유도하여 상기 블랭크를 미리 결정된 기간 동안 가열하는 단계를 포함하는 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 자기 로터를 회전시켜 상기 블랭크에 상기 자기장을 유도하여 상기 블랭크를 상기 미리 결정된 기간 동안 가열하는 단계는 상기 블랭크를 미리 결정된 온도로 가열하는 단계를 포함하고, 상기 미리 결정된 온도는 약 200℃ 내지 약 600℃ 인 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 미리 결정된 기간 후에 상기 히터로부터 상기 블랭크를 제거하고 상기 블랭크를 열간 성형 프레스로 이동시키는 단계; 및
    상기 열간 성형 프레스로 상기 블랭크를 미리 결정된 형상으로 열간 성형하는 단계를 더 포함하는 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 블랭크를 위치시키는 단계는 상기 자기 로터의 측방향 위치를 유지시키는 동안 상기 자기 로터에 대해 무버로 상기 블랭크를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 블랭크를 위치시키는 단계는 상기 블랭크의 측방향 위치를 유지하는 동안 상기 블랭크에 대해 상기 자기 로터를 이동시키는 단계를 포함하는 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 자기 로터에 의해 유도되는 열의 양을 조정하기 위해 상기 자기장을 조정하는 단계를 더 포함하며, 상기 자기장을 조정하는 단계는 상기 자기 로터의 회전 속도를 조정하는 단계, 상기 자기 로터의 회전 방향을 조정하는 단계, 상기 블랭크에 대한 상기 자기 로터의 수직 위치를 조정하는 단계, 상기 블랭크에 대한 상기 자기 로터의 측방향 위치를 조정하는 단계, 또는 상기 블랭크에 대한 상기 자기 로터의 종방향 위치를 조정하는 단계 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 자기 로터는 상단 자기 로터이며, 상기 히터는 상기 상단 자기 로터로부터 수직 오프셋되는 하단 자기 로터를 더 포함하고, 상기 자기 로터에 인접하여 상기 블랭크를 통과시키는 단계는 상기 상단 자기 로터와 상기 하단 자기 로터 사이에 정의되는 갭을 통해 상기 블랭크를 통과시키는 단계를 포함하고, 상기 자기 로터를 회전시키는 단계는 상기 블랭크를 가열하기 위해 상기 상단 자기 로터 및 상기 하단 자기 로터를 회전시키는 단계를 포함하는 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 미리 결정된 기간은 약 30초 내지 약 20분인 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 히터는 제1 히터이고, 상기 방법은:
    상기 미리 결정된 기간 후에 상기 제1 히터로부터 상기 블랭크를 제거하는 단계;
    상기 블랭크를 제2 히터에 위치시키는 단계; 및
    상기 블랭크를 미리 결정된 온도로 상기 제2 히터로 가열하는 단계를 더 포함하는 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제2 히터는 가스 작동식 히터, 적외선 히터, 롤러로, 전기로, 또는 유도 히터를 포함하는 방법.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 미리 결정된 온도는 상기 블랭크의 용액화 온도이고, 상기 블랭크를 상기 제2 히터로 가열하는 단계는 상기 블랭크의 온도 프로파일을 제어하는 단계를 더 포함하는 방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 블랭크는 알루미늄 또는 알루미늄 합금을 포함하는 방법.
  13. 방법에 있어서,
    히터에서 금속 기판의 블랭크를 수용하는 단계 - 상기 히터는 자기 로터를 포함함 -;
    상기 히터의 상기 자기 로터에 인접하여 상기 블랭크를 위치시키는 단계;
    상기 자기 로터를 회전시켜 상기 블랭크에 자기장을 유도하여 상기 블랭크를 가열하는 단계; 및
    상기 블랭크가 미리 결정된 온도에 있을 때 상기 히터로부터 상기 블랭크를 제거하는 단계를 포함하는 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 미리 결정된 온도는 약 200℃ 내지 약 600℃ 인 방법.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 히터는 제1 히터이고, 상기 방법은:
    제1 미리 결정된 기간 후에 상기 제1 히터로부터 상기 블랭크를 제거하는 단계;
    상기 블랭크를 제2 히터에 위치시키는 단계;
    상기 블랭크를 제2 미리 결정된 기간 동안 상기 제2 히터로 가열하는 단계;
    상기 블랭크를 상기 제2 히터로부터 제거하는 단계; 및
    상기 블랭크를 열간 성형 프레스로 열간 성형하는 단계를 더 포함하는 방법.
  16. 제15항에 있어서,
    상기 블랭크를 상기 제2 히터로 가열하는 단계는 상기 블랭크의 용액화 온도로 상기 블랭크를 가열하는 단계를 포함하는 방법.
  17. 열간 성형 시스템에 있어서,
    자기 로터를 포함하는 히터를 포함하며,
    상기 히터는:
    상기 자기 로터에 인접한 금속 기판의 블랭크를 수용하고;
    상기 자기 로터를 회전시켜 상기 블랭크에 자기장을 유도하여 상기 블랭크를 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 히터는 제1 히터이고, 상기 열간 성형 시스템은:
    제2 히터를 더 포함하되, 상기 제2 히터는:
    상기 제1 히터로부터 상기 블랭크를 수용하고;
    상기 블랭크를 가열하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 제2 히터는 가스 작동식 히터, 적외선 히터, 롤러로, 전기로, 또는 유도 히터를 포함하는 열간 성형 시스템.
  20. 제17항에 있어서,
    열간 성형 프레스; 및
    무버를 더 포함하며,
    상기 무버는 상기 히터로부터 상기 열간 성형 프레스로 상기 블랭크를 이동시키도록 구성되고,
    상기 열간 성형 프레스는 상기 블랭크를 형상화하도록 구성되는 열간 성형 시스템.
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