JPH10333170A - 広視野角液晶表示装置 - Google Patents
広視野角液晶表示装置Info
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Abstract
た、広視野角液晶表示装置における光漏れを防止する。 【解決手段】 液晶表示装置は、共通電極が形成されて
いる第1基板と、共通電極に対応する位置に形成されて
いる画素電極及びこれと重なる維持電極を有する第2基
板とを含み、共通電極と画素電極のうちの1つに開口部
が設けられており、維持電極は前記開口部に対応する位
置に形成されている。
Description
装置に関する。
液晶を注入し、ここに加える電場の強さを調節して光透
過量を調節する構造からなる。ツイスト・ネマチック(t
wisted-nematic ; TN)方式の液晶表示装置は、内側面に
透明電極が形成されている一対の透明基板、2つの透明
基板間の液晶物質及びそれぞれの透明基板の外側面に取
付けられて光を偏光する2つの偏光板で構成される。電
気場を印加しない状態においては、2つの基板間に詰め
られた液晶分子が基板に平行で一定のピッチ(pitch)を
有して螺線状にねじられ、液晶分子の長軸方向が連続的
に変化するねじれた構造を有する。かかる構造のツイス
ト・ネマチック方式の液晶表示装置では液晶分子の長軸
と短軸の配列に従って視覚特性が決定される。
うちでも、特にノーマリーブラックモード(normally bl
ack mode)である場合には、電気場が印加されない状態
で入射する光が完全に遮断されないため、コントラスト
比がよくない。
配向されたツイスト・ネマチック(vertically-aligned
twisted-nematic ; VATN)方式の液晶表示装置が、米国
特許第3,914,022号で提案されており、“Eu
rodisplay1993,pp.158−159"
においてもTakahashi等によって提案されている。
加されていない状態の液晶分子は、2つの基板に対して
垂直に配向されているため、ノーマリーブラックモード
で十分に暗い状態を作る。
ないという問題点がある。
フィールド(fringe field)による垂直配向方式の単純マ
トリックス液晶表示装置を“SID1991,p.76
2−765"で発表し、Lienは“SID1992,
p.33−35"で単純マトリックス多重領域垂直配向
液晶表示装置が、オン(ON)状態での光透過率が低い問
題点を解決するために、画素電極に開口部を形成する構
造を提案した。
素電極が開いた部分、すなわち、分割された画素領域の
境界となる部分で、光が漏れる現象が現われる。
てなされたもので、その目的は、広視野角を有する液晶
表示装置を提供することにある。また、本発明の目的
は、広視野角液晶表示装置における光漏れを防止するこ
とにある。
置は、共通電極が形成されている第1基板と、前記共通
電極に対応する位置に画素電極及びこれと重なる維持電
極を有する第2基板とからなり、前記共通電極と前記画
素電極のうちの1つに開口部が設けられており、前記維
持電極は前記開口部に対応する位置に形成されている。
れるフリンジフィールドにより発生する光漏れを防止す
る役割を果たす。
は負の誘電率異方性を有する液晶物質が注入されてお
り、この液晶物質はキラルネマチック液晶またはキラル
添加剤が0.01−3.0wt%含有されているネマチ
ック液晶である。
物質の分子軸を垂直に配向するための配向膜が形成され
ている。このような配向膜はラビング処理をしてもしな
くても良い。
ができ、2つ以上を形成することもできる。
ましく、開口部間の幅は8−50μmに形成することが
好ましい。
単位画素領域に形成される線形の開口部は、互いに異な
る方向に、例えば、画素領域を単位にして横方向と縦方
向を繰返すように形成する。このような配置を通して液
晶分子が多様な方向にねじられるようにする。
に、図面に基づいて本発明による垂直配向を利用した液
晶表示装置の実施例についてより詳しく説明する。
による垂直配向を利用した液晶表示装置における、液晶
分子の配列をブラックモード及びホワイトモードに分別
して示した概念図であり、図2は、本発明の実施例によ
る垂直配向を利用した液晶表示装置において開いた画素
電極によって発生するフリンジフィールドによる液晶分
子の配列を示した断面図である。
ス等からなる2つの基板1、2が向かい合っており、2
つの基板1、2の内側面にはITO(indium tin oxide)
等の透明導電物質からなる透明電極12、120及び配
向膜14、140が順に形成されている。2つの基板
1、2の間には、負の誘電率異方性を有するキラルネマ
チック液晶や左旋性または右旋性のキラル添加剤が0.
01−3.0wt%添加されているネマチック液晶物質
からなる液晶層100がある。それぞれの基板1、2の
外側面には、液晶層100に入射する光および液晶層1
00を通過して出る光を偏光させる偏光板13、130
がそれぞれ取付けられており、下部基板1に取付けられ
た偏光板13の偏光軸(A)は、上部基板2に取付けられ
た偏光板130の偏光軸(B)に対して90度の角をなし
ている。配向膜14はラビング処理してもしなくても良
い。
もので、液晶層100の液晶分子3は、配向膜14の配
向力によって2つの基板1、2の表面に対して垂直方向
に配列されている。
光板13を通過した光は偏光方向が変わらずに液晶層1
00を通過する。次に、この光は、上部基板2に取付け
られている偏光板130により遮断されてブラック状態
を現す。
を示すもので、液晶分子3は下部基板1から上部基板2
に至るまで90度の角度をなすように螺線状にねじれて
いるため、液晶分子3の長軸の方向が連続的に変化する
ツイスト構造を有する。ここで、2つの基板1、2に隣
接した部分では、加えられた電気場による力よりは配向
膜14の配向力が強いので、液晶分子3は垂直に配向さ
れたもとの状態を維持する。
13を通過して偏光された光は、液晶層100を通過し
ながらその偏光軸が液晶分子3の長軸方向のねじれに従
って90度回転することになり、これによって、反対側
の基板2に取付けられている偏光板13を通過するよう
になり、ホワイト状態となる。
利用した液晶表示装置において視野角を補償するために
提案された構造及び原理を示すものである。上部または
下部基板1、2に形成されているITO電極4、5のう
ち、上部基板2の電極4の一部が開いている。電界を印
加しない状態においては、図1(A)に示すように、液
晶分子3は2つの基板1、2に垂直に配列された状態を
維持するため、電極が開いていない時と同様にブラック
状態を現す。電界を印加すると、大部分のところでは基
板1、2に垂直である電気場が形成されるが、ITO電
極4の開いた部分付近での電気場は2つの基板1、2に
対して完全に垂直に形成されない。このように開いた部
分付近で形成される歪んだ電気場をフリンジフィールド
(fringefield)という。液晶が負の誘電率異方性を有す
るため、液晶分子3の配列方向は電気場の方向と垂直に
なろうとする。
開いた部分付近の液晶分子3の長軸は、2つの基板1、
2の表面に対して傾いた状態でねじれることになる。
膜トランジスタ基板及びカラーフィルタ基板からなる。
薄膜トランジスタ基板には互いに交差する多数のゲート
線とデータ線が形成されており、ゲート線とデータ線に
定義される各領域を指す単位画素領域には画素電極及び
薄膜トランジスタが形成されている。これに向かい合う
カラーフィルタ基板には全面に共通電極が形成されてお
り、薄膜トランジスタ基板の単位画素に対応する領域で
ある単位画素領域を定義するブラックマトリックスが形
成されている。
設けられた部分に維持電極を形成して光漏れを防止する
構造を提示する。
1実施例について説明する。図3は本発明による液晶表
示装置におけるカラーフィルタ基板を示した平面図であ
る。 図3はカラーフィルタ基板の共通電極を単位画素
領域別に開いた構造であって、1つの単位画素領域を示
したものである。
Pの境界にブラックマトリックス7のパターンが形成さ
れており、共通電極6は全面に形成されている。この
時、共通電極6には縦方向に2つの線形開口部15が互
いに平行に形成されている。
範囲であり、開口部15間の距離は8−50μmの範囲
であることが好ましい。より好ましくは、開口部15の
幅は3−12μmであり、開口部間の距離は10−30
μmである。
装置における薄膜トランジスタ基板を示した配置図であ
り、図5は図4のV−V′線により切断した断面図であ
る。図4及び5に示したように、透明なガラス基板20
の上に互いに平行な第1及び第2ゲート線81、82が
横方向に形成されており、第1ゲート線81と第2ゲー
ト線82とを連結する2つの維持電極11が縦方向に互
いに平行に形成されている。この維持電極11はカラー
フィルタ基板の共通電極6に形成されている開口部15
に該当する位置に配置されて、フリンジフィールドによ
る光漏れを防止する役割を果たす。
び第2ゲート線81、82を覆っており、ゲート絶縁膜
30の上部にはデータ線9が縦方向に形成されている。
2つのゲート線81、82のうち、上部の第1ゲート線
81とデータ線9とが交差する部分には薄膜トランジス
タ(thin film transistor ; TFT)が形成されており、こ
の上には平坦化された保護膜40が覆われている。保護
膜40の上部には端部分が第1及び第2ゲート線82及
びデータ線9と重なる画素電極10が形成されており、
その上には画素電極10を覆う配向膜50が形成されて
いる。ここで、配向膜50はラビング処理されていても
いなくても良い。
横方向または傾いた方向に形成されることもできる。
本発明の第2実施例による構造を示している。図6に示
したように、1つの単位画素領域Pの境界にブラックマ
トリックス7のパターンが形成されており、共通電極6
は全面に形成されている。ここで共通電極6に形成され
た開口部15は横方向に多数形成されている。
距離は、開口部を縦方向に形成した本発明の第1実施例
の場合と同様である。
装置における薄膜トランジスタ基板を示した配置図であ
る。図7に示したように、互いに平行な第1及び第2ゲ
ート線81、82が横方向に形成されており、画素領域
Pには第1ゲート線81と第2ゲート線82とを連結す
る1つの分枝12が隣り合うデータ線9と平行に形成さ
れており、多数の維持電極11がゲート線81、82と
平行に分枝12から延長されている。この維持電極11
は本発明の第1実施例と同様に、カラーフィルタ基板の
共通電極6に形成されている開口部15に該当する位置
に配置され、フリンジフィールドによる光漏れを防止す
る役割を果たす。
された本発明の第3実施例及び第4実施例による構造を
示している。図8及び10に示したように、1つの単位
画素領域Pの境界にブラックマトリックス7のパターン
が形成されており、共通電極6は全面に形成されてい
る。ここで、共通電極6に形成された開口部15は斜線
方向に形成されている。図8に示した本発明の第3実施
例の場合、画素の右上から左下に向う方向の開口部及
び、画素の右下から左上に向う方向の開口部がそれぞれ
1つずつ形成されている。図10に示したように本発明
の第4実施例の場合には、2つの開口部が全て画素の右
上から左下に向っており、互いに平行に形成されてい
る。
距離は、開口部を縦方向に形成した本発明の第1実施例
の場合と同様である。
び第4実施例による液晶表示装置における薄膜トランジ
スタを示した配置図である。図9に示したように、互い
に平行な第1及び第2ゲート線81、82が横方向に形
成されており、画素領域Pには第1ゲート線81と第2
ゲート線82とを連結する1つの分枝12が隣り合うデ
ータ線9と平行に形成されており、2つの維持電極11
が分枝のゲート線と隣接した下上部分から斜線方向に画
素の中央部分に向って延長されている。図11に示した
薄膜とトランジスタ基板も互いに平行な第1及び第2ゲ
ート線81、82が横方向に形成されており、画素領域
Pには第1ゲート線81と第2ゲート線82とを連結す
る1つの分枝12が隣り合うデータ線9と平行に形成さ
れており、2つの維持電極11が右上から左下方向に互
いに平行に形成されている。第3及び第4実施例におい
て、この維持電極11は、本発明の第1実施例と同様に
カラーフィルタ基板の共通電極6に形成されている開口
部15に該当する位置に配置されて、フリンジフィール
ドによる光漏れを防止する役割を果たす。
の上に形成されている配向膜はラビングしてもしなくて
も良い。但し、ラビング処理をする場合には、ラビング
方向は開口部の方向に対して0度から135度をなすこ
とが好ましい。
画素に形成される開口部の形状を異なるようにして視野
角を拡張する構造を提示する。これを図12乃至15を
参照して説明する。
を示した図面である。図12に示したように、赤、緑、
青色のカラーフィルタに対応する多数の画素領域を定義
するブラックマトリックス7のパターンが形成されてお
り、線形の開口部15が形成されているITO電極4が
形成されている。ここで、隣り合う画素領域の開口部1
5は互いに異なる方向に形成されている。すなわち、開
口部15が画素を単位として横方向と縦方向に繰返され
て形成されている。たとえば、赤色画素領域には開口部
15が縦方向に形成されており、これと隣り合う緑色画
素領域には開口部15が横方向に形成されている。
と仮定する。そうすると、青色と緑色の画素はオフ(OF
F)状態のままとなり、赤色の画素だけがオン(ON)状態と
なる。この時、隣接した赤色画素のITO電極4の開口
部は、それぞれ横方向と縦方向に形成されている。この
時の液晶分子の動きを図13(A)及び図13(B)を
参考にして説明する。
口部15が縦方向に形成されており、図13(B)では
ITO電極4の線形開口部15が横方向に形成されてい
る。
ると、2つの電極4の間の液晶分子は、地面下部から見
る時、左旋性液晶である。
液晶分子は形成される電気場の方向に垂直に傾くことに
なる。これと同時に、図13(A)では、開口部15が
Y軸に形成されて、Y軸上側に位置した液晶分子はX軸
の右側に、Y軸下側に位置した液晶分子はX軸の左側の
方向にそれぞれねじれる。また、図13(B)では、開
口部15がX軸に形成されて、X軸右側に位置した液晶
分子はY軸の下側の方向に、X軸左側に位置した液晶分
子はY軸の上側にそれぞれねじれる。
うに、4つの方向で液晶分子がねじれるため、上下左右
方向の視野角が同一に形成され、階調反転も現れない。
従って、全体に視野角が拡張する。
板及び薄膜トランジスタ基板の構造について詳細に説明
する。
単位画素領域別に開いた構造であり、隣り合う2つの単
位画素領域を示したものである。図14に示したよう
に、図3と同様にそれぞれの単位画素領域P1、P2を
定義するブラックマトリックス7のパターンが形成され
ており、共通電極6は全面に形成されている。
方向に2つの線形開口部15が互いに平行に形成されて
おり、これと隣り合う画素領域P2の共通電極6には横
方向に多数の線形開口部15が互いに平行に形成されて
ている。
離は、第1実施例に従うことが好ましい。
ランジスタ基板の構造を示したもので、図12の画素領
域P1に対応する画素領域P1には、図4と同様に第1
ゲート線81と第2ゲート線82とを連結する2つの維
持電極11が縦方向に互いに平行に形成されている。画
素領域P2には、図7と同様に第1ゲート線81と第2
ゲート線82とを連結する1つの分枝12が隣り合うデ
ータ線9と平行に形成されており、多数の維持電極11
がゲート線81、82と平行に分枝12から延長されて
いる。
1は、図14における共通電極6に形成されている開口
部15に対応する位置に配置される。
と重なって維持畜電器を形成する役割を果たすと同時
に、共通電極6の開口部15によって形成されるディス
クリネーション(disclination)によって漏れる光を遮断
するブラックマトリックスの役割を果たす。
成することができる。図16乃至19に、隣り合う画素
の開口部を、異なる形状に形成した本発明の第6乃至第
9実施例による液晶表示装置のカラーフィルタ基板の構
造を示している。
液晶表示装置の構造は、図10に示した本発明の第4実
施例による形状の開口部が形成された画素と、これを1
80度回転させた形状の画素とを横方向に交互に配置
し、縦方向には同じ列に同じ形状の画素が配列されるよ
うに形成したものである。図17に示した本発明の第7
実施例による液晶表示装置の構造は、横方向の配列は第
7実施例と同様であるが、縦方向にも画素の形状が交互
に繰返されるように配置したものである。図18に示し
た本発明の第8実施例による液晶表示装置の構造は、図
8に示した本発明の第3実施例による形状に開口部が形
成された画素と、これを180度回転させた形状の画素
とを横方向に交互に配置し、縦方向には同じ列に同じ形
状の画素が配列されるように形成したものである。図1
9に示した本発明の第9実施例による液晶表示装置の構
造は、横方向の配列は第8実施例と同様であるが、縦方
向にも画素の形状が交互に繰返されるように配置したも
のである。
球形の基板間隔材を用いる場合、基板間隔材による液晶
配向の不良が生じて光漏れが発生する可能性があるの
で、金属や有機材料を利用した柱状の基板間隔材を使用
することが好ましい。
材が含まれた液晶表示装置の断面図である。薄膜トラン
ジスタ30が形成されている基板10と、カラーフィル
タ(図示省略)が形成されている基板20との間に、液
晶物質40が注入されている。下側基板10に形成され
ている薄膜トランジスタ30は、ゲート電極31とその
上を覆っているゲート絶縁膜32、ゲート電極31上の
ゲート絶縁膜32上に形成されている半導体層33及び
ゲート電極31を中心に両側に形成されているソース/
ドレーン電極341、342からなる。薄膜トランジス
タが形成されている基板10の全面に保護膜50が形成
されており、画素領域には画素電極60が形成されて保
護膜50に穿たれた接触孔を通してドレーン電極342
と接触している。基板間隔材100は薄膜トランジスタ
の上側に形成されており、金属または有機材料からな
る。これは薄膜トランジスタ基板を形成する際に用いら
れる材料を利用して形成することができる。
開口部を形成しているが画素電極10にこれを形成する
こともできる。しかし、この場合には画素電極10と共
通電極6との間に形成されるフリンジフィールドがデー
タ線9、ゲート線81、82及び維持電極11に印加さ
れる電圧の影響を受けることになる。このような信号線
に印加される電圧によって形成される電気場の影響を取
り除くために、3μm以上の有機絶縁膜で保護膜40を
十分に厚く形成することが好ましい。
がゲート線81、82に連結されている構造を示した
が、独立配線方式を適用する場合においては維持電極1
1はゲート線と連結されない。
示装置は、電界印加の際にフリンジフィールドを利用し
て液晶分子の長軸方向を多様にすることにより、広視野
角を有すると同時に、維持電極を利用してフリンジフィ
ールドが形成される部分から光漏れを防止することがで
きる。
表示装置における、液晶分子の配向をブラックモード及
びホワイトモードに基づいて示した概念図である。
表示装置における開いた画素電極及び液晶晶分子の配向
を示した断面図である。
液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板を示した平面
図である。
液晶表示装置における薄膜トランジスタ基板を示した平
面図である。
る。
液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板を示した平面
図である。
液晶表示装置における薄膜トランジスタ基板を示した平
面図である。
液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板を示した平面
図である。
液晶表示装置における薄膜トランジスタ基板を示した平
面図である。
た液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板を示した平
面図である。
た液晶表示装置における薄膜トランジスタ基板を示した
平面図である。
赤、緑、青色のカラーフィルタに対応する多数の画素領
域を示した図面である。
た液晶表示装置におけるねじられる液晶分子の配列方向
を示した図面である。
た液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板を示した平
面図である。
た液晶表示装置における薄膜トランジスタ基板を示した
平面図である。
赤、緑、青色のカラーフィルタに対応する多数の画素領
域を示した図である。
赤、緑、青色のカラーフィルタに対応する多数の画素領
域を示した図である。
赤、緑、青色のカラーフィルタに対応する多数の画素領
域を示した図である。
赤、緑、青色のカラーフィルタに対応する多数の画素領
域を示した図である。
である。
Claims (59)
- 【請求項1】共通電極が形成されている第1基板と、 前記共通電極に対応する位置に形成されている画素電極
及びこれと重なる維持電極を有する第2基板とを含み、 前記共通電極と前記画素電極のうちの1つに開口部が設
けられており、前記維持電極は前記開口部に対応する位
置に形成されている液晶表示装置。 - 【請求項2】前記第1基板と前記第2基板との間に注入
されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさら
に含む請求項1に記載の液晶表示装置。 - 【請求項3】前記液晶物質はキラルネマチック液晶であ
る請求項2に記載の液晶表示装置。 - 【請求項4】前記液晶物質はキラル添加剤が0.01−
3.0wt%含有されているネマチック液晶である請求項
2に記載の液晶表示装置。 - 【請求項5】前記第1基板及び第2基板は、前記液晶物
質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求項
2に記載の液晶表示装置。 - 【請求項6】前記配向膜はラビングされていない請求項
5に記載の液晶表示装置。 - 【請求項7】前記開口部は2つ以上であり、線形である
請求項1に記載の液晶表示装置。 - 【請求項8】前記開口部の幅は3−15μmの範囲であ
る請求項7に記載の液晶表示装置。 - 【請求項9】前記開口部間の距離は8−50μmの範囲
である請求項8に記載の液晶表示装置。 - 【請求項10】多数のゲート線と多数のデータ線とが設
けられており、前記ゲート線及びデータ線の交差で定義
される各単位の画素領域に、画素電極、そして前記画素
電極と重なって維持畜電器を形成する維持電極が形成さ
れている第1基板と、 前記第1基板と向かい合って、前記維持電極に対応する
位置に開口部を有する共通電極が形成されている第2基
板とを含む液晶表示装置。 - 【請求項11】前記第1基板と前記第2基板との間に注
入されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさ
らに含む請求項10に記載の液晶表示装置。 - 【請求項12】前記液晶物質はキラルネマチック液晶で
ある請求項11に記載の液晶表示装置。 - 【請求項13】前記液晶物質はキラル添加剤が0.01
−3.0wt%含有されているネマチック液晶である請求
項11に記載の液晶表示装置。 - 【請求項14】前記第1基板及び第2基板は、前記液晶
物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求
項11に記載の液晶表示装置。 - 【請求項15】前記配向膜はラビングされていない請求
項14に記載の液晶表示装置。 - 【請求項16】前記開口部及び前記維持電極は、単位画
素領域に2つ以上が形成されている請求項10に記載の
液晶表示装置。 - 【請求項17】前記開口部は前記データ線と平行に線形
に形成されている請求項16に記載の液晶表示装置。 - 【請求項18】前記開口部は前記ゲート線と平行に線形
に形成されている請求項16に記載の液晶表示装置。 - 【請求項19】前記開口部は前記データ線及び前記ゲー
ト線と0−90度の角度をなし、線形に形成されている
請求項16に記載の液晶表示装置。 - 【請求項20】前記開口部は互いに平行に形成されてい
る請求項19に記載の液晶表示装置。 - 【請求項21】前記第1基板及び第2基板は、前記液晶
物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求
項20に記載の液晶表示装置。 - 【請求項22】前記配向膜はラビング処理されている請
求項21に記載の液晶表示装置。 - 【請求項23】前記配向膜のラビング方向は、前記開口
部の方向と0−135度の角度をなす請求項22に記載
の液晶表示装置。 - 【請求項24】前記開口部の幅は3−15μmの範囲で
ある請求項16に記載の液晶表示装置。 - 【請求項25】単位画素領域内における前記開口部間の
距離は8−50μmの範囲である請求項24に記載の液
晶表示装置。 - 【請求項26】前記ゲート線と前記維持電極は互いに連
結されている請求項10に記載の液晶表示装置。 - 【請求項27】金属または有機材料からなる基板間隔材
をさらに含む請求項2に記載の液晶表示装置。 - 【請求項28】多数のゲート線と多数のデータ線が形成
されており、前記ゲート線及び前記データ線の交差で定
義される各単位の画素領域に、画素電極、そして前記画
素電極と重なって維持畜電器を形成する維持電極が形成
されており、前記画素電極は前記維持電極に対応する位
置に設けられた開口部を有する第1基板と、前記第1基
板と向かい合って、共通電極が形成されている第2基板
とを含む液晶表示装置。 - 【請求項29】前記第1基板と前記第2基板との間に注
入されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさ
らに含む請求項28に記載の液晶表示装置。 - 【請求項30】前記液晶物質はキラルネマチック液晶で
ある請求項29に記載の液晶表示装置。 - 【請求項31】前記液晶物質はキラル添加剤が0.01
−3.0wt%含有されているネマチック液晶である請求
項29に記載の液晶表示装置。 - 【請求項32】前記第1基板及び第2基板は、前記液晶
物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求
項28に記載の液晶表示装置。 - 【請求項33】前記配向膜はラビングされていない請求
項32に記載の液晶表示装置。 - 【請求項34】前記開口部及び前記維持電極は、単位画
素領域に2つ以上が形成されている請求項28に記載の
液晶表示装置。 - 【請求項35】前記開口部は前記データ線と平行に線形
に形成されている請求項34に記載の液晶表示装置。 - 【請求項36】前記開口部は前記ゲート線と平行に線形
に形成されている請求項34に記載の液晶表示装置。 - 【請求項37】前記開口部は前記データ線及び前記ゲー
ト線と0−90度の角度をなし、線形に形成されている
請求項34に記載の液晶表示装置。 - 【請求項38】前記開口部は互いに平行に形成されてい
る請求項37に記載の液晶表示装置。 - 【請求項39】前記第1基板及び第2基板は、前記液晶
物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求
項38に記載の液晶表示装置。 - 【請求項40】前記配向膜はラビング処理されている請
求項39に記載の液晶表示装置。 - 【請求項41】前記配向膜のラビング方向は、前記開口
部の方向と0−135度の角度をなす請求項40に記載
の液晶表示装置。 - 【請求項42】前記開口部の幅は3−15μmの範囲で
ある請求項34に記載の液晶表示装置。 - 【請求項43】単位画素領域内における前記開口部間の
距離は、8−50μmの範囲である請求項42に記載の
液晶表示装置。 - 【請求項44】前記ゲート線、データ線及び維持電極と
前記画素電極との間に形成されている有機絶縁膜をさら
に含む請求項28に記載の液晶表示装置。 - 【請求項45】前記有機絶縁膜の厚さは3μm以上であ
る請求項44に記載の液晶表示装置。 - 【請求項46】金属または有機材料からなる基板間隔材
をさらに含む請求項28に記載の液晶表示装置。 - 【請求項47】多数のゲート線と多数のデータ線とが形
成されており、前記ゲート線及び前記データ線の交差で
定義される各単位の画素領域に画素電極が形成されてい
る第1基板と、 前記第1基板と向かい合って共通電極が形成されている
第2基板とを含み、 前記共通電極と前記画素電極のうちの1つに線形の開口
部が設けられ、隣り合う単位画素領域の前記開口部は互
いに異なる方向に形成されている液晶表示装置。 - 【請求項48】前記第1基板に前記開口部に対応する位
置に形成されており、前記画素電極と重なって維持畜電
器を形成する維持電極をさらに含む請求項47に記載の
液晶表示装置。 - 【請求項49】隣り合う単位画素領域の前記線形開口部
は、前記データ線及び前記ゲート線とそれぞれ平行に形
成されている請求項48に記載の液晶表示装置。 - 【請求項50】任意の単位画素領域の前記線形開口部
は、前記データ線及び前記ゲート線と0−90度の角度
をなし、前記任意の単位画素領域に隣接した画素領域の
前記線形開口部は、前記任意の単位画素領域の線形開口
部を180度回転させた形状に形成されている請求項4
8に記載の液晶表示装置。 - 【請求項51】前記開口部及び前記維持電極は、単位画
素領域に2つ以上が形成されている請求項47に記載の
液晶表示装置。 - 【請求項52】前記開口部の幅は3−15μmの範囲で
ある請求項51に記載の液晶表示装置。 - 【請求項53】単位画素領域内における前記開口部間の
距離は8−50μmの範囲である請求項52に記載の液
晶表示装置。 - 【請求項54】前記第1基板と前記第2基板との間に注
入されており、負の誘電率異方性を有する液晶物質をさ
らに含む請求項47に記載の液晶表示装置。 - 【請求項55】前記液晶物質はキラルネマチック液晶で
ある請求項54に記載の液晶表示装置。 - 【請求項56】前記液晶物質はキラル添加剤が0.01
−3.0wt%含有されているネマチック液晶である請求
項54に記載の液晶表示装置。 - 【請求項57】前記第1基板及び第2基板は、前記液晶
物質の分子軸を垂直に配向する配向膜をさらに含む請求
項54に記載の液晶表示装置。 - 【請求項58】前記配向膜はラビングされていない請求
項57に記載の液晶表示装置。 - 【請求項59】金属または有機材料からなる基板間隔材
をさらに含む請求項54に記載の液晶表示装置。
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