JPH02190825A - 液晶電気光学素子 - Google Patents

液晶電気光学素子

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JPH02190825A
JPH02190825A JP1160489A JP1160489A JPH02190825A JP H02190825 A JPH02190825 A JP H02190825A JP 1160489 A JP1160489 A JP 1160489A JP 1160489 A JP1160489 A JP 1160489A JP H02190825 A JPH02190825 A JP H02190825A
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
transparent electrode
optical element
photolithography
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JP1160489A
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English (en)
Inventor
Minoru Yazaki
矢崎 稔
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は液晶電気光学素子に関し、特に電気制御複屈折
効果を利用した液晶電気光学素子に関する。
[従来の技術] 従来の電気制御複屈折効果を利用した液晶電気光学素子
は、第5図に示した如く一般的に透明電極が設けられた
2枚の基板の間に負のネマチック液晶を入れ、このセル
の両側に、偏光板を直交してそれぞれ配置する。この液
晶電気光学素子の電極間に電圧が印加されていないとき
は、液晶の分子は”ホメオトロピック方向”と呼ばれる
方向に対してわずかチルトし、基板に対して略垂直にな
っており、入射光はほとんどセルを通過することができ
ない。電極間に適当な電圧が印加されると、液晶の分子
はホメオトロピック方向に対しである角度をなす方向に
略向き、その角度は印加電圧または励起電圧によって決
まる。それにより一部の入射光がセルを通過できセルを
通過する光の強度を電気的に制御することが出来る。こ
のような電気料#複屈折効果を利用した液晶セルの構造
は、−a的にはホメオトロピック配向に近いチルト配向
をさせるために、透明電極上にSiO等の斜方蒸着した
後、更に垂直配向処理を施し、これら基板間に液晶を保
持している。この配向処理は通常、基板法線方向から0
. 5〜3#程度のプレチルト角を与えるためで、これ
は電圧を印加したときある決まった方向に液晶分子を倒
させるためである。
[発明が解決しようとする課題] しかし、従来の液晶電気光学素子では、SiO等の斜方
蒸着膜を用いるため、量産性が悪く、均一でしかも大き
な液晶電気光学素子を得ることがむずかしいという課題
があっ力。そこで本発明では、量産性の悪い斜方蒸着の
代わりに透明電極自体を基板に対して傾斜することによ
り、液晶分子を透明電極に対して略垂直に立たせ、これ
により従来斜方蒸着膜を用いたときと同等の配向状態を
得るものであり、しかも従来法では、困難で有った均一
性、量産性の優れた配向を広範囲に容易に得ることを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明の液晶電気光学素子は、少なくとも、透明電極を
備えた第一の基板と、透明電極とを備えた第二の基板と
、前記2枚の基板間に挟まれた液晶と、それらを挟んで
両側、に配置された一対の偏光板とからなる液晶電気光
学素子において、前記基板の少なくとも一方の基板上の
透明電極が基板に対して傾斜していることを特徴とする
また、前記一対の偏光板の間に、前記液晶以外の光学的
異方体を備えたことを特徴とする。
また、前記光学的異方体が有する3つの主要な屈折率N
1o、N2o、N3eの内、ある一つの屈折率N3eが
他の2つの屈折率N Io、  N 2oよりも小さく
、かつその屈折率N3eに対応する軸が、前記基板法線
方向にほぼ平行であることを特徴とする。
[実施例] 以下、実施例により本発明の詳細を示す。
(実施例1) 第1図に、本発明の実施例1における液晶1jl気光学
素子の断面拡大略図を示す。図中、1は上側偏光板、3
は液晶セル、4は下側偏光板である。
2枚の偏光板は、その吸収軸が互いに直交したクロスニ
コルの関係にある。また、上側偏光板の吸収軸方向は、
隣接する液晶セルの第1の基板の電極のパターン長手方
向と45°の角度をなしている。液晶セルの第1の基板
31は、基板上に感光性アクリル樹脂をスピンナーによ
り約2μm塗布し、フォトリソで33の如くパターニン
グした徨、更に33上にスピンナーにより再度感光性ア
クリルを塗布し、フォトリソでパターニングして傾斜を
得たものである。また33のパターンの高さを変化する
ことにより34の傾斜の角度を色々選択することができ
る。更にこの上にITOIIを形成し、フォトリソで傾
斜面上に電極パターン35を形成した。次ぎにこの基板
上に、有機チタネート混合物を塗布、焼成した。一方第
2の基板32はITOII5をフォトリソでパターニン
グして第1の基板の電極パターンとほぼ直交させ、配向
処理は有機チタネート混合物の塗布、焼成によって行っ
た。これによって、第1の基板上では約1″のプレチル
ト角を()、第2の基板上ではほぼ完全なホメオトロと
ツク配向を得た。液晶37としては、メルク社製のZL
エニー318を用いた。これは特にECB用として開5
発されたΔε=−2゜On型ネマチック液晶である。複
屈折率Δnは0゜1243であり、セルギャップdを5
.6μmに設定した。得られた電気光学素子のコントラ
スト比は、セル法線方向でおよそ1: 90であり、全
体に均一で良好なコントラスト比が得られた。
(実施例2) 第2図に、本発明の実施例2における液晶電気光学素子
の断面拡大略図を示す。図中、1は上側偏光板、2は光
学異性体、3は液晶セル、4は下側偏光板である。セル
構造、液晶材料並びにセルギャップについては実施例1
と同様である。光学的異性体としては、N 1 o= 
1. 660、N20=1、 643、N5e=1.5
00.厚み約4μmのセロハンシートを用いた。配向処
理は両基板31.32ともミリスチン酸クロム錯体等の
一塩基性カルボン酸クロム錯体の塗布、焼成により行っ
た。これによって、第1の基板上では約3°のプレチル
ト角を得、第2の基板上ではほぼ完全なホメオトロピッ
ク配向を(りた。実施例2においては、光学異性体2を
用いたために、特開昭62−210423号に提案され
ている液晶素子と同等の効果で、視角が拡大している。
セル法線方向のコントラスト比は約1: 70でコント
ラスト比l:5以上が取れる視角範囲は、上下方向に±
45゜左右方向に±65°であった・ (実施例3) 第3図に、本発明の実施例3における液晶素子の断面拡
大略図を示す0図中、1は上側偏光板、3は液晶セル、
4は下側偏光板である。また、上側偏光板の吸収軸方向
は、隣接する液晶セルの第1の基板の電極のパターン長
手方向と451の角度をなしている。液晶セルの第1の
基板31は、基板上に感光性ポリイミド4M脂をスピン
ナーにより約1μm塗布し、フォトリソで33の如くパ
ターニングした後、更に33上にスピンナーにより再度
感光性ポリイミドを塗布し、フォトリソでパターニング
して傾斜を得たものである。更にこの上にITOのパタ
ーニング性を良くするためのオーバーコート腹としてポ
リイミド膜39を形成し、更にこの上にITO膜を設け
、フォトリソで傾斜面上に電極パターン35を形成した
。次ぎにこの基板上に、有機チタネート混合物を塗布、
焼成した。一方第2の基板32も第1の基Fi31と同
様に作成し傾斜面が対向するようにし、電極が直交する
ように組み立てた。配向処理は有機チタネート混合物の
塗布、焼成によって行った。これによって、第1の基板
上では約0.5°のプレチルト角を得、第2の基板上で
もほぼ0.5@のプレチルト角を持った配向を得た。液
晶37としては、メルク社製のZLエニー318を用い
た。これは特にECB用として開発された△ε=−2.
Onεニー2.On型ネマチツク屈折率Δnは0.12
43であり、セルギャップdを5.6μmに設定した。
得られた電気光学素子のコントラスト比は、セル法線方
向でおよそ1:110であり、全体に均一で良好なコン
トラスト比が得られた。
(実施例4) 第4図に、本発明の実施例4における液晶電気光学素子
の断面拡大略図を示す。図中、1は上側偏光板、2は光
学異性体、3液晶セル、4は下側偏光板である。セル構
造、液晶材料並びにセルギャップについては実施例3と
同様である。光学的異性体としては、N 1 o= 1
. 660、N2o=1゜643、N5e=1.500
、厚み約4μmのセロハンシートを用いた。配向処理は
両基ui31゜32ともミリスチン酸クロム錯体等の一
塩基性カルボン酸クロム錯体の塗布、焼成により行った
これによって、第1の基板上では約2°のプレチルト角
を得、第2の基板上でもほぼ2°のプレチルトを持った
配向を得た。実施例4においては、光学異性体2を用い
たために、特開昭62−210423号に提案されてい
る液晶素子と同等の効果で、視角が拡大している。セル
法線方向のコントラスト比は約1=90でコントラスト
比1:5異常が取れる視角範囲は、上下方向に±50°
C1左右方向に±70°であった。
上記実施例は、本発明の一実施例を示すもので、本実施
例では感光性樹脂を用いることで、電極傾斜面を得たが
これに限定されるものではなく、他の樹脂または金属を
用いこれ遮光マスクを兼用して用いることも可能である
。更にITO電極電極相脂層を染料または顔料の入った
樹脂を使用することによりカラーフィルタとして用いる
ことも可能である。また、本実施例においては、傾斜面
を得るのに2回樹脂をパターン化したもので行っている
が、ガラスまたは異方性材料等を直接傾斜状に作成して
も傾斜面が得られれば同様の効果は期待できるものであ
る。
[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、フォトリソで傾斜面
を形成できるため、従来困難であったホメオトロビック
配向に近いチルト配向を均一にしかも広範囲に得られる
効果を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例1における液晶電気光学素子
の断面図である。 第2図は、本発明の実施例2における液晶電気光学素子
の断面図である。 第3図は、本発明の実施例3における液晶電気光学素子
の断面図である。 第4図は、本発明の実施例4における液晶電気光学素子
の断面図である。 第5図は、従来の液晶電気光学素子の断面図である。 1、上(l!1偏光板 2、光学異性体 3、液晶セル 4、下側偏光板 31、第1の基板 32、第2の基板 33゜ 34゜ 36゜ 37゜ 38゜ 39゜ 40゜ 41゜ 樹脂パターン層 傾斜面パターン 透明電極 斜方蒸着膜 液晶 液晶分子のプレチルト角 オーバーコート膜 垂直配向膜 シール部 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木喜三部(他1名)≠ 第4図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも、透明電極を備えた第一の基板と、透
    明電極とを備えた第二の基板と、前記2枚の基板間に挟
    まれた液晶と、それらを挟んで両側に配置された一対の
    偏光板とからなる液晶電気光学素子において、前記基板
    の少なくとも一方の基板上の透明電極が基板に対して傾
    斜していることを特徴とする液晶電気光学素子。
  2. (2)前記一対の偏光板の間に、前記液晶以外の光学的
    異方体を備えたことを特徴とする請求項1記載の液晶電
    気光学素子。
  3. (3)前記光学的異方体が有する3つの主要な屈折率N
    1o、N2o、N3eの内、ある一つの屈折率N3eが
    他の2つの屈折率N1o、N2oよりも小さく、かつそ
    の屈折率N3eに対応する軸が、前記基板法線方向にほ
    ぼ平行であることを特徴とする請求項2記載の液晶電気
    光学素子。
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