JP2010068003A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
基板テーブルと別個に形成されたカバープレート、およびカバープレートの温度を制御することによって基板テーブルの温度を安定化させる手段があるリソグラフィ装置を開示する。カバープレートが基板テーブルの熱遮蔽材として作用するように、カバープレートと基板テーブルの間に設けた断熱材があるリソグラフィ装置を開示する。基板テーブルの歪みを測定し、基板テーブルの歪みを参照することによって基板の位置制御を改善する手段を備えるリソグラフィ装置を開示する。
【選択図】 図12
Description
Claims (27)
- 基板を支持するように構成された基板テーブルと、
変調した放射ビームを基板に投影するように構成された投影システムと、
露光中に前記投影システムと基板の間の領域に液体を提供するように構成された液体供給システムと、
物理的に前記基板テーブルから分離し、露光中に前記基板の半径方向外側に位置し、前記基板に実質的に隣接し且つ同一高さにある、前記投影システムに対向する表面を提供するように構成されたカバープレートと、
前記カバープレートの一部の温度を制御することによって、対応するターゲット温度からの前記基板テーブルの一部の温度偏差を減少させるように構成された基板テーブル温度安定化デバイスと、
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記温度安定化デバイスが、前記カバープレートの一部に熱を入力するように構成された加熱要素、前記カバープレートの一部から熱を抽出するように構成された冷却要素、または前記加熱要素と前記冷却要素の両方を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記温度安定化デバイスが、前記カバープレートに埋め込まれた流路のネットワークと、対応するターゲット温度からの前記基板テーブルの一部の温度偏差を減少させるために、前記流路のネットワーク内の熱交換流体の温度、圧力、または両方を制御するように設けられたコントローラとを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記温度安定化デバイスが、加熱要素と、対応するターゲット温度からの前記基板テーブルの一部の温度偏差を減少させるために、前記加熱要素からの熱出力を制御するように構成されたコントローラとを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記加熱要素が、ターゲット温度の領域で温度により生じた相転移を受ける材料を備え、前記相転移が前記材料を、転移温度より低い比較的高い加熱出力を生成する状態から、転移温度より高い比較的低い加熱出力を生成する状態へと変化させる、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブル温度安定化デバイスが、相転移を受ける前記材料に電流を通すように設けられ、前記相転移は、前記加熱要素材料を、転移温度より低い比較的小さい抵抗の状態から転移温度より高い比較的大きい抵抗の状態へと変化させるように構成される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブル温度安定化デバイスが、相転移を受ける前記材料に変化する磁界を与えるように構成され、前記相転移が、前記加熱要素材料を、転移温度より低い磁気ヒステリシス状態から転移温度より高い非磁気ヒステリシス状態へと変化させるように構成される、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブル、前記カバープレートまたはそれらの両方の一部の温度を測定するように構成された温度センサをさらに備え、前記基板テーブル温度安定化デバイスが、前記温度センサからの温度読み取り値を使用して、対応するターゲット温度からの前記基板テーブルの一部の温度偏差を減少させるように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブルと前記基板の間に位置し、前記基板を支持するように設けられた基板ホルダをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 熱伝導性結合媒体が、前記基板テーブルと、前記カバープレート、前記基板ホルダ、またはそれらの両方との間に設けられるように構成される、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記熱伝導性結合媒体が流体、インジウム、またはそれらの両方である、請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板ホルダがSiSiCを含む材料から形成される、請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 変調した放射ビームを液体に通して基板テーブルに保持された基板に投影すること、および、
カバープレートの一部の温度を制御することによって、対応するターゲット温度からの前記基板テーブルの一部の温度偏差を減少させること、を含み、前記カバープレートは、前記基板テーブルから物理的に分離し、前記変調した放射ビームの投影中に前記基板の半径方向外側にあり、前記基板に実質的に隣接し且つ同一高さにある表面を有する、デバイス製造方法。 - 基板を支持するように構成された基板テーブルと、
変調した放射ビームを基板に投影するように構成された投影システムと、
露光中に前記投影システムと前記基板の間の領域に液体を提供するように構成された液体供給システムと、
物理的に前記基板テーブルから分離し、露光中に前記基板の半径方向外側に位置し、前記基板に実質的に隣接し且つ同一高さにある、前記投影システムに対向する表面を提供するように構成されたカバープレートと、
前記カバープレートからの前記基板テーブルの熱遮蔽を提供するために、前記カバープレートと前記基板テーブルの間の熱伝達を減少させるように構成された断熱材と、
を含む、リソグラフィ装置。 - 前記断熱材が、その上に前記カバープレートが装着された低い熱コンダクタンスの節を備える、請求項14に記載のリソグラフィ装置。
- 前記低コンダクタンスの節が、低い熱伝導性、前記カバープレートとの最小の接触領域、前記基板テーブルとの最小の接触領域、またはそのいずれかの組合せを有するように構成される、請求項15に記載のリソグラフィ装置。
- 変調した放射ビームを液体に通して基板テーブルに保持された基板に投影すること、および、
カバープレートと前記基板テーブルの間の熱伝達を減少させ、それによって前記カバープレートによる前記基板テーブルの熱遮蔽を可能にするように、前記カバープレートを断熱すること、を含み、前記カバープレートが、前記基板テーブルから物理的に分離し、前記変調した放射ビームの投影中に前記基板の半径方向外側にあり、前記基板に実質的に隣接し且つ同一高さにある表面を有する、デバイス製造方法。 - 基板を支持するように構成された基板テーブルと、
変調した放射ビームを基板に投影するように構成された投影システムと、
前記基板テーブルの一部の位置を求めるように構成された測定システムと、
前記基板テーブルの歪みに関するデータを提供するように構成された基板テーブル歪み測定デバイスと、
前記測定システムで測定した前記基板テーブルの一部の前記位置、および前記基板テーブル歪み測定デバイスによって提供された前記基板テーブルの歪みに関するデータを参照することにより、前記投影システムに対して前記基板の位置を制御するように構成された基板位置コントローラと、を含む、リソグラフィ装置。 - 前記測定システムが、
前記基板の側面に装着された実質的に平面の反射器と、
前記反射器の表面の局所的領域に放射を誘導するように構成された放射源と、
前記反射器の前記局所的領域から反射した放射を捕捉して、そこから前記反射器表面と基準点との間の距離を測定するように構成された放射検出器と、を含み、
前記基板テーブル歪み測定デバイスが、前記基板テーブルの歪みによって生じた前記反射器の表面プロファイルに関するデータを提供する、請求項18に記載のリソグラフィ装置。 - 前記基板テーブル歪み測定デバイスが、前記基板テーブル、前記反射器、またはそれらの両方の一部に熱で生じた歪みを測定するように構成される、請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブル歪み測定デバイスが、複数対の放射源および放射検出器を備え、それぞれが前記反射器表面の異なる部分とそれに対応する基準点との間の距離を測定し、それによって前記反射器の表面プロファイルに関するデータを導出するように構成される、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブル歪み測定デバイスが、予測理論モデルに基づいて前記反射器の前記表面プロファイルを推定するように構成される、請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基板テーブル歪み測定デバイスが、校正データメモリに記憶されている校正データに基づいて前記表面プロファイルを推定するように構成される、請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 変調した放射ビームを基板テーブルによって保持された基板に投影すること、
前記基板テーブルの一部の位置を測定すること、および、
前記基板テーブルの前記一部の前記測定位置、および前記基板テーブルの歪みに関するデータを参照することにより、前記変調した放射ビームを投影するために使用される投影システムに対する前記基板の位置を制御すること、
を含む、デバイス製造方法。 - リソグラフィ装置の基板テーブル反射器の表面プロファイルをマッピングする方法であって、
基板を支持するように構成された基板テーブルの第一側面に装着され、実質的に平面である第一反射器であって、第一軸に平行な垂線を有する第一反射器を提供すること、
前記基板テーブルの第二側面に装着され、実質的に平面である第二反射器であって、前記第一軸に対して平行でない第二軸に平行な垂線を有する第二反射器を提供すること、および、
前記第二反射器の表面から基準フレームの基準点までの垂直距離を測定しながら、前記第一軸に平行に前記基板テーブルを動かすこと、
を含む、マッピング方法。 - 前記第一反射器の表面から基準フレームの基準点への垂直距離を測定しながら、前記第二軸に平行に前記基板テーブルを動かすことをさらに含む、請求項25に記載のマッピング方法。
- 第二軸に実質的に平行な方向で反射器の表面から基準点までの距離を測定しながら、第一軸に平行に基板テーブルを動かすことによって、基板テーブルの反射器の表面プロファイルをマッピングし、前記第二軸が前記第一軸に対して実質的に直交すること、
変調した放射ビームを基板に投影すること、および、
前記基板の異なったターゲット領域を露光するために変調した放射ビームを投影するのに使用される投影システムに対して基板を動かすこと、を含み、前記位置が、基準点からの前記基板テーブル反射器の距離の測定値、および前記基板テーブル反射器の前記表面プロファイルを参照することにより求められるものであるデバイス製造方法。
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