CN1922528A - 用于具有深紫外光的高数值孔径成象的反折射成象系统 - Google Patents

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Abstract

一种用于微光刻投射的反折射成象系统，以高数值孔径物镜为特征，其中通过限制反射和折射角来产生大部分聚焦能力，以避免额外像差。在浸没配置中，对Mangin镜添加场校正光学部件，用于提高数值孔径。Mangin镜和场校正光学部件之间的光学连接安排成通过限制入射角或折射率差异来控制折射角度。在光瞳中实现径向对称偏振效果，从而改善象对比度。

Description

用于具有深紫外光的高数值孔径成象的反折射成象系统
技术领域
本发明涉及以下类型的成象系统，其中反射面提供相当的聚焦能力(focusingpower)，更为具体地，本发明涉及利用反射和折射的组合用于聚焦目的的反折射缩径(reducing)系统。本发明对用于使用深紫外光以高数值孔径进行微光刻成象的牛顿物镜特别有用。本发明还考虑到成象系统的偏振处理问题。
背景技术
主要通过反射来获得聚焦能力的牛顿设计形式已经被结合到微光刻仪器中，以便准确地投射图象，同时限定色象差。牛顿设计形式超过全折射成象系统的色优势在对透射材料的选择更为有限的紫外光成象来说特别明显。
伴随着使用更短波长的紫外光的趋势，微光刻仪器还寻求更高的数值孔径以获得更高的分辨率。已知的折射物镜所需的高折射角促成了包括色象差在内的许多象差，而利用透射深紫外光(即，小于200nm波长)的有限材料选择很难校正这些象差。某些各向异性，例如特性双折射，在使折射方案更为复杂的更短波长的材料中变得更明显。
尽管反射光学大多对色彩不敏感，但包括球面象差和场曲率的许多其它象差伴随着它们的使用而出现。因此，已经结合反射光学使用折射光学，以平衡彼此在牛顿设计的反折射形式中的强势和弱点。这种反折射形式的例子在共同转让的名称为“用于深紫外线光刻的成象系统”(Imaging System for Deep UltravioletLithography)的美国专利第5,650,877号中得到公开，该专利通过被引用结合在此。
更高分辨率或者要求更高数值孔径，或者对于给定数值孔径要求较短波长，且最好的是两者都能具备。每一个都对成象系统有要求。较短波长(尤其是157nm的光)还限制了对透射材料的选择，并放大了干扰光的均匀传播的各向异性特性。更高数值孔径要求对引入大量象差的光线进行严重弯曲，还加重了材料缺陷。
发明内容
本发明涉及成象系统，尤其涉及能够以低象差进行高分辨率成象的微光刻投射仪器。一个或多个实施例中的成象系统通过以高数值孔径(即，0.85或更大)适应深紫外线波长(即，波长小于200nm)，来获得更高的分辨能力。通过利用反射光学部件的聚焦能力和低折射角的折射光学部件的校正属性的涉及改进，可限制象差。偏振处理用于改善象对比度。
本发明的反折射成象系统的一个例子基于双反射Mangin镜。该Mangin镜具有光透射体、在该光透射体的第一侧的部分反射面、在该光透射体的第二侧的凹反射面、凹反射面内的孔径、以及在该凹反射面的孔径内的光透射体的第二侧的凹折射面。光透射体的第二侧上的凹反射面和凹折射面具有沿公共光轴以相反方向定位的标称曲率中心，用于降低成象光通过该孔径离开光透射体的折射角。具有邻近凹折射面的凸折射面的场校正透镜校正象场内的象差。
部分反射面较佳地是将光透射到凹反射面的折射面。凹反射面在会聚路径上将透射的光反射回部分反射面，且部分反射面在通过凹折射面的更为会聚的路径上将返回光反射向Mangin镜的焦点。场校正透镜的凸折射面反射具有离开凹折射面的标称曲率中心的标称曲率中心，用于影响象场的校正。
场校正透镜较佳地包括具有沿光轴定位的第一和第二侧的透镜体。凸折射面在透镜体的第一侧，而另一个折射面在透镜体的第二侧。透镜体第二侧的折射面较佳地形成浸没界面，该浸没界面被成形成用于将光折射到邻近象平面的液体光学介质中。大体来说，场校正透镜可具有净正光焦度(net positive power)，而浸没界面可具有标称平面形。或者，浸没界面可具有凹面形，用于减少场校正透镜和液体介质之间的折射。
为了在进行校正的同时，最小化地引入象差，较佳地，通过限制会聚光束入射到凹折射面的入射角，而在Mangin镜的凹折射面上限制折射。类似地，可通过限制场校正透镜的凸折射面和Mangin镜的凹折射面之间的曲率差异，而在场校正透镜的凹折射面上限制折射。可通过限制透镜体的折射率和液体光学介质的折射率之间的差异，而在浸没面上限制折射。
在Mangin镜的透射体的第一侧的部分反射面较佳地具有标称平面形，它实际上与在该光透射体的第二侧的凹反射面和凹折射面的公共光轴正交定向。这种形状具有许多优点。平表面以高于现有技术中描述的Mangin镜中通常使用的凹面的会聚角度向孔径反射边缘光线。更高会聚角度以对折射光学部件的聚焦能力的较少依赖性而支持更高数值孔径成象。相对于光轴的入射角和反射角相等，以便光线以大致相等的角度以相反方向穿过Mangin镜体，以循环地(rotationally)平衡角灵敏不对称性，如依赖角度的双折射。部分反射面的平面形还通过简化用于沿公共光轴将凹反射面、凹折射面以及部分折射面彼此定向的去锲固(de-wedging)要求而为Mangin镜提供了制造优势。
根据本发明的反折射成象系统的另一个例子包括主聚焦光学部件，它包括折射体、在该聚焦光学部件的折射体的一侧的反射面、在该聚焦光学部件的折射体的另一侧的折射面、以及反射面内的孔径。折射面是部分透射的，用于将光透向反射面，反射面具有凹面形，用于在会聚路径上将透射的光反射回折射面，且该折射面是部分反射的，用于在更为会聚的路径上通过孔径将返回光反射向成象系统的象平面。靠近主聚焦光学部件的孔径的是具有折射体的双向浸没光学部件。在浸没光学部件的折射体的一侧形成第一浸没面，暴露于双向浸没光学部件和主聚焦光学部件的孔径之间的液体光学介质。在浸没光学部件的折射体的另一侧形成第二浸没面，暴露于双向浸没光学部件和象平面之间的液体光学介质。
可使用周边密封来限定双向浸没光学部件和主聚焦光学部件之间的液体光学介质。也可以将双向浸没光学部件成形成适应暴露于第一浸没面的液体光学介质的、不同于暴露于第二浸没面的液体光学介质的折射率的折射率。暴露于第二浸没面的液体光学介质的折射率可高于暴露于第一浸没面的液体光学介质的折射率，用于优化数值孔径。
双向浸没光学部件的第一浸没面可为凹面形，而双向浸没光学部件的第二浸没面可为平面形。较佳地，通过限制聚焦光学部件的折射体的折射率和暴露于双向浸没光学部件的第一浸没面的液体光学介质的折射率之间的差异，在主聚焦光学部件的孔径处限制折射。类似地，通过限制双向浸没光学部件的折射体的折射率和暴露于第一浸没面的液体光学介质的折射率之间的差异，在双向浸没光学部件的第一浸没面限制折射。类似地，也通过限制双向浸没光学部件的折射体的折射率和暴露于第二浸没面的液体光学介质的折射率之间的差异，在双向浸没光学部件的第二浸没面限制折射。
在本发明的实施例中，本发明还包括以下类型的双反射Mangin镜，它包括具有第一和第二侧的光透射体、在该光透射体的第一侧的第一折射面、在该光透射体的第二侧的反射面、以及该反射面内的孔径。该Mangin镜还包括孔径内在光透射体的第二侧的第二折射面。在光透射体的第二侧的反射面有第一表面形状。在光透射体的第二侧的第二折射面有不同于第一表面形状的第二表面形状，而在光透射体的第一侧的第一折射面有不同于第一和第二表面形状中至少一个的第三表面形状。
在光透射体的第二侧的反射面较佳地是凹反射面。在光透射体的第二侧的第二折射面较佳地是凹折射面。如此，该反射面和第二折射面可共有一公共的光轴，并有位于沿该公共光轴以相反方向定位的标称曲率中心，用于减小成象光通过孔径离开光透射体的折射角。
第一折射面较佳地是部分透射的，用于将光透向反射面。反射面较佳地具有凹面形，用于在会聚路径上将透射的光反射回第一折射面，而第一折射面较佳地是部分反射的，用于通过第二折射面在更为会聚的路径上将返回光反射向焦点。凹折射面的标称曲率中心较佳地离开Mangin镜的焦点，以避免来自凹折射面的反光。
第一折射面较佳地具有平面或凸面(非凹面)形，用于优化在更为会聚路径上反射的光的会聚角。反射涂覆能增强第一折射面的部分反射性。较佳地，该涂覆能在从第一折射面反射的光附近提供更高的反射率，而在通过第一折射面透射的光附近提供较低的反射率。
本发明的牛顿成象系统的一个例子包括第一光学介质和第二光学介质之间的部分反射面、靠近第二光学介质的凹反射镜、以及在该凹反射镜内形成的孔径。在孔径内，至少部分透射的界面位于第二光学介质和第三光学介质之间。结合了第四光学介质的浸没透镜位于第三光学介质和第五学光介质之间。第五光学介质是液体光学介质，用于光学连接浸没透镜和象平面。
第一光路径通过部分反射面和第二光学介质连接第一光学介质和凹反射镜。第二光路径通过第二光学介质连接凹反射镜和部分反射面。第三光路径通过第二光学介质、至少部分透射的界面、第三光学介质、浸没透镜的第四光学介质以及第五光学介质，连接部分反射面和象平面。
浸没光学部件具有靠近第三光学介质的第一折射面和靠近第五光学介质的第二折射面。第一折射面较佳地是凸折射面。第三光学介质也可以是液体光学介质。然而，第二光学介质较佳地是固体光学介质，而在固体光学介质内的折射面和第三光学介质之间形成至少部分透射的界面。
本发明的再一个例子体现在具有牛顿形式的用于深紫外线的反折射成象系统中。组合的反射和折射光学部件包括折射体、折射体一侧的反射面、折射体另一侧的折射面、以及沿光轴的反射面内的孔径。折射面是部分透射的，用于将光透向反射面。反射面具有凹面形，用于在会聚路径上将透射的光反射向折射面。折射面还是部分反射的，用于通过孔径在更为会聚的路径上将返回光反射向沿光轴定位的焦点。折射面具有非凹面形，以便从反射面接近折射面的光以第一角度向光轴倾斜，该第一角度小于或等于折射面反射的光向光轴倾斜的第二角度。
至少和第一角度一样大的第二角度提供了对组合的反射和折射光学部件的反射聚焦能力的优化，以在将对通过折射的聚焦能力的剩余要求最小化的同时，获得期望的数值孔径。例如，折射面可具有凸面形，以便第二角度大于第一角度，或者是标称平面形，以便第一和第二角度大致相等。后一种情况下，折射体由立方晶体材料制成，大致平面形的折射面可用于径向平衡晶体材料的双折射效果。
也可以处理折射面，以影响包括边缘和旁轴光线之间的密度和偏振分布在内的其它光学属性。例如，部分反射处理可用于折射面，以便折射面的反射率按照到光轴的径向距离的函数而变，以补偿反射率按照随光线接近折射面的入射角度的变化的函数所引起的变化。出于偏振处理的目的，反射面和折射面的表面形状可以相关，以便从反射面接近折射面的光线以比另一正交偏振方向更多地反射一个偏振方向的入射角到达该表面，导致径向对称偏振模式。其余的对称偏振光能够形成更高对比度的象。
实际上，可将本发明特别配置成减少不利地影响象对比度的偏振分量。这样配置的浸没成象系统可包括沿光学基准轴光学连接物平面和象平面的成象光学部件的组合件。液体光学介质将成象光学部件中靠近的一个连接到象平面。光瞳位于沿物平面和象平面之间的光学基准轴上物平面的物点和象平面的象点之间延伸的重叠光束的交叉点。位于该光瞳范围内角灵敏偏光器在该光瞳内以径向(如极正交)对称将重叠的光束偏振，这减少了例如与象平面处入射轴平面平行的光线的TM偏振分量，而不会实质上减少与象平面处入射轴平面垂直的光线的TE偏振分量。角灵敏偏光器也可用于以类似的极正交对称性来相对于TM偏振分量减少TE偏振分量。
较佳地，对称是径向的，且偏光器的角灵敏性从关于基准轴的极坐标角(一般为“θ”)(径向对称的基础)和向基准轴倾斜的球面坐标角(一般为“”)(影响偏振效果)来看很明显。例如，虽然偏振效果可随对基准轴的倾角“”而变化，但与倾角“”相关联的效果可在贯穿绕基准轴的极角“θ”的整个范围中相同。可通过支持以径向或较佳地为方位角偏振模式定向的TE偏振分量来获得极正交对称。
成象系统较佳地是焦阑成象系统，尤其用于微光刻投射，其中在光瞳交叉的主光线在象平面(抗蚀层)处大致平行于基准轴延伸。偏振光学部件可靠近焦阑系统的孔径光阑。
光线的TM偏振分量随对基准轴的倾度而变化，该倾度与对基准轴以角度“”的光线倾度互补。不管光线对基准轴的倾度如何，光线的TE偏振分量保持与基准轴垂直。角灵敏偏光器较佳地减少作为光线在象平面对基准轴的倾度的函数的光线的TM分量。如此，对更倾斜于基准轴的光线的TM偏振分量的减少比较小倾斜于基准轴的光线的TM偏振分量的减少要多。因此，最大程度地倾斜于基准轴的边缘光线的偏振效果是非常明显的。
偏光器可以是成象系统内的部分反射面。例如，部分反射面可以是同样具有透射光学体、在该透射光学体的一侧上的凹反射面、以及该反射面内的孔径的Mangin镜的面。部分反射面位于透射光学体的另一侧。重叠光束在会聚路径上从凹反射面反射向部分反射面，并在会聚路径上通过孔径从部分反射面反射。部分反射面可以是平面，以便光线对该平面的法线的倾度与光线对基准轴或凹面的倾度匹配，使得光线对平面的法线的倾度小于光线对基准轴的倾度。较佳地，重叠光束包括边缘光线，且边缘光线以一入射角从凹反射面接近部分反射面，以该入射角，TE偏振分量比TM偏振分量更多地被反射。边缘光线的入射角较佳地小于总内反射(TIR)角。
不仅限制于浸没系统的径向偏振对称的成象系统也可被配置在沿光学基准轴光学连接物平面和象平面的成象光学部件的组合件中。光瞳位于沿光学基准轴在物平面和象平面之间，在物平面物点和象平面的象点之间延伸的重叠光束的交叉点处。成象光学部件包括折射界面，它位于该光瞳范围内，并安排成在光瞳内以径向对称偏振重叠光束的角灵敏偏光器，该径向对称有差别地影响平行于象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量和垂直于象平面处入射轴平面的光线TE偏振分量。与其他成象光学部件协同成形折射界面，以将在反射界面的重叠光束的入射角限制于比在此折射界面处的总内反射所需的角度更小。
比起其他偏振分量，角灵敏偏光器的区别效应较佳地支持反射一个偏振分量。例如，偏光器可按照光线相对于入射点处折射界面的法线的倾度的函数，反射一个偏振分量，而把其他偏振分量排除在外。
角灵敏偏光器较佳地以径向对称在光瞳内对重叠光束偏振，以减少平行于象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量，而没有实际上减少垂直于象平面处入射轴平面的光线的TE偏振分量。光线的TM偏振分量随对基准轴的倾度而变化，该倾度与对象平面的基准轴的光线的倾度互补。不管光线在象平面对基准轴的倾度如何，光线的TE偏振分量保持对基准轴正交。如此，偏光器较佳地按照作为光线在象平面对基准轴的倾度的函数来减少光线的TM偏振分量。
折射界面可构成为非凹折射面，以便成象光线相对于该非凹折射面的法线的倾度不大于相同成象光线相对于基准轴的倾度。例如，折射界面可被构成为凸折射面，使得成象光线相对于非凹折射面的法线的倾度小于相同成象光线相对于基准轴的倾度。
附图说明
图1是用于具有靠近象平面的浸没光学部件的微光刻投射的反折射成象系统的示意图。
图2是具有靠近象平面的双面浸没光学部件的反折射成象系统的类似示意图；
图3是图1的成象系统的Mangin镜和单浸没场校正光学部件的放大示意图。
图4是图2的成象系统的Mangin镜和双浸没场校正光学部件的放大示意图。
图5是具有靠近象平面的浸没光学部件的反折射成象系统的类似示意图。
图6是图5的成象系统的Mangin镜和单浸没场校正光学部件的放大示意图。
具体实施方式
图1示出了用于微光刻投射的反折射成象系统10，它布置成将刻线12(物)成象到抗蚀层14(象)。图3示出了双反射Mangin镜20的放大视图，它为成象系统10提供基本的聚焦能力。大多数为折射组件构成的组合件18设置成用于校正填充双反射Mangin镜20的孔径，同时协助校正象差。贯穿组合件18，使折射角最小化，以免引入不必要的象差。以浸没模式操作的场校正光学部件22和Mangin镜20一起工作，以便在抗蚀层14的焦平面上产生刻线12的最终象。
位于成象系统10的光瞳之处或附近的双反射Mangin镜20的聚焦能力从通过Mangin镜20的边缘光线24a和24b的表示路径来看很明显。边缘光线24a和24b通过形成在光透射体28的正面上的部分反射面26进入Mangin镜20。边缘光线24a和24b通过光透射体28，并被凹反射面30反射到光透射体28的背面。反射后，边缘光线24a和24b沿会聚路径第二次通过光透射体28传播到部分反射面26。边缘光线24a和24b以比第一次透射通过部分反射面26传播的入射角更大的入射角再次到达部分反射面26。以更大的入射角，每一个边缘光线24a和24b都包含从部分反射面26反射的相当大的分量，用于沿更为会聚的路径第三次通过光透射体向凹反射面30内形成的孔径32传播。
光透射体28较佳是由透射深UV波长(即，小于200nm)光的光学材料(如熔融石英或氟化钙)制成的折射体。部分反射面26较佳地是在折射体正面上形成的折射面。可对折射面进行涂覆或其他处理，如透射、反射或偏振的涂覆调节物质。除了改变边缘光线24a和24b的透射和反射之间的入射角之外，透过部分反射面26的光线(例如，边缘光线24a和24b)距离Mangin镜20的光轴的距离比从部分反射面26反射的光线更远。这提供了进一步的机会来通过按照到光轴34的径向距离的函数处理部分反射面26，来区分在部分反射面26透射的光线和反射的光线。这些处理可包括反射或抗反射涂覆，可用于加强主要对向凹反射面30透射光线负责的部分反射面26的径向限定区域内的透射，以及用于加强主要对向孔径32反射光线负责的部分反射面26的径向限定区域内的反射。
在孔径32内，在光传输体28内形成凹折射面36。具有位于沿光轴34在凹反射面30的标称曲率中心的位置相反方向的标称曲率中心的凹折射面36限定折射角(例如，小于10度)，通过该折射角，边缘光线24a和24b在离开Mangin镜元件20时完全，。出于类似的目的，同样具有光透射体38(例如，透镜体)的场光学部件22包括靠近Mangin镜的凹折射面36的凸折射面40。边缘光线24a和24b以有限的入射角接近Mangin镜20的背面上的凹面36和场光学部件22正面上的凸面40，以减少在两个面36和40发生的折射量(例如，小于10度)。此外，场元件32的凸折射面40安装得靠近Mangin元件20的凹折射面36，以限定折射实际会在面36和40之间引入象差的距离。然而，靠近的凹面36和凸面40的曲率中心稍微彼此分开，以提供校正聚焦功能。
场校正光学部件22的背面具有暴露于液体光学介质44(如脱气水)的浸没面42，用于对光致抗蚀层14的浸没界面。浸没面42靠近抗蚀层14较佳地具有平面形(使场光学部件22为平-凹透镜)。尽管边缘光线24a和24b以高入射角接近浸没面42，但在面42上的折射因光线24a和24b所进入的液体光学介质44具有比空气更接近于聚焦光学部件的透射体38的折射率的折射率而受到限制(例如，小于10度)。液体光学介质44的较高折射率也支持使边缘光线24a和24b达到聚焦于抗蚀层14的相当高的数值孔径。浸没面42也能采用凹形，以进一步限制场校正光学部件22和液体光学介质44之间的折射，但在视野方面有些牺牲。
现在很明显看出，Mangin镜20的反射提供了成象系统10的主要聚焦能力。增加凹反射面30的曲率可增加聚焦能力。然而，增加凹反射面30的曲率也会限制Mangin镜20能有效加倍地反射光的孔径尺寸。通常，Mangin镜的折射面是凹的，以减少球面象差的影响。然而，Mangin镜20的部分反射面26较佳地是非凹的，包括近乎平面，以致于从部分反射面26反射的边缘光线24a和24b以会聚角“β”倾向于光轴34，会聚角“β”至少和边缘光线24a和24b从凹反射面30反射的的会聚角“α”一样大。
如说明性的实施例所示，部分折射面26是与光轴34正交定向的平面。因此，从部分反射面26的反射保持凹反射面30首次会聚光线24a和24b的角“α”，以便两个反射角“α”和“β”相等。通过将部分反射面26形成为凹面，即使是更大的“β”也是可能的。然而，部分反射面26的平面形具有显著的制造优势，如可以更容易地将部分反射面26和Mangin镜20的凹反射面30与凹折射面34对准。
下面的表格列出了制造示例性的反折射成象系统10时的制造数据(以毫米为单位)，该反折射成象系统10工作在192.6到194nm范围上的193.3nm基准波长，具有1.2的数值孔径和15x的缩径能力。
  元件号            曲率半径   厚度          孔径直径  材料
  前   后   前   后
  物12   INF   7.0000
  51   43.3356   37.2553   6.6881   11.6500   11.5829   二氧化硅
  空间   333.3049
  52   1024.2604   -137.0424   8.0616   65.7105   66.0127   氟化钙
  空间   96.2258
  53   87.4466   40.8464   7.5129   53.5077   49.9088   二氧化硅
  空间   20.0310
  54   -43.8045   -54.6894   5.0000   51.2325   55.5014   二氧化硅
  空间   8.5625
  55   296.4268   -118.5802   10.4736   64.9622   66.0620   氟化钙
  空间   0.02000
  56   99.6257   56.2463   17.7410   67.2065   63.6415   氟化钙
  空间   10.3943
  57   266.4268   -60.6273   15.0404   64.8690   65.6625   氟化钙
  空间   7.3373
  58   -53.6837   -153.2293   5.0000   63.6834   67.5688   二氧化硅
  空间   21.3538
  孔径光阑59   74.2546
  空间   0.02000
  28(26-30)   INF   -82.8138   18.9632   74.2605   76.0852   二氧化硅
  30   -82.8138   76.0852   REFL
  28(30-26)   -82.8138   INF   -18.9632   76.0852   76.0852   二氧化硅
  26   INF   53.4919   REFL
  28(26-36)   INF   11.0239   17.5713   53.4919   76.0852   二氧化硅
  空间   0.6823
  38(40-42)   6.6465   INF   2.9229   7.3577   2.5339   氟化钙
  44   INF   INF   0.6000   2.5339   0.7070   水
  象14   INF   0.7070
下面是用于定义成象系统的其他一阶数据，其中FFL是从第一面测量的，BFL是从最后的面测量的。
  无限共轭对(infinite conjugates)
  EFL   53.4911
  BFL   -2.9659
  FFL   551.6155
  F/NO   0.4219
  使用的共轭对(at used conjugates)
  缩径   0.0667
  有限F/NO   0.4167
  物距   7.0000
  总轨迹   601.5438
  象距   0.6000
  OAL   593.9438
  旁轴象高   0.3535
  旁轴图象距   0.6001
  半场角度   0.5551
  入口光瞳直径   88.2731
  入口光瞳距离   542.9388
  出口光瞳直径   378.8727
  出口光瞳距离   226.6206
图2示出了根据本发明的另一个反折射成象系统70，它适合与图4示出的双反射Mangin镜80一起使用。与前述的反折射成象系统10类似，反折射成象系统70具有牛顿形式，用于以高缩减比在抗蚀层14(象)上投射刻线12(物)的象。双反射Mangin镜80提供大部分聚焦能力。折射光学组合件78填充双反射Mangin镜80的孔径，同时补偿成象系统70内产生的各种象差。双反射Mangin镜80位于或靠近象空间内焦阑成象系统的光瞳。如图4所示，场校正光学部件82布置成两个液体光学介质86和88之间的双向浸没光学部件。液体光学介质86将双反射Mangin镜80与场光学部件82连接，而液体光学介质88将场光学部件82和成象系统70的象平面内的抗蚀层14连接。
与前面的实施例类似，代表成象系统70使光线聚焦的范围的边缘光线84a和84b通过折射面96进入Mangin镜80的折射体98(光学透射体)，折射面96适合于部分透射和部分折射。边缘光线84a和84b以靠近法线入射角接近折射面96，且为此原因(尤其是该原因)趋向于完全透过折射面96。穿过折射体98后，边缘光线g4a和g4b从折射体98的背面形成的凹反射面100反射。反射的边缘光线84a和84b第二次通过折射体98被引向会聚路径，以角度“α”向Mangin镜80的光轴94倾斜。会聚的边缘光线84a和84b的每一个都包括在第三次通过折射体98的更为会聚的路径上从折射面96反射的相当大的分量，该会聚路径以角度“β”向Mangin镜80的光轴94倾斜。形成折射面96(例如，具有非凹，且较佳地为接近平面形)，以便边缘光线84a和84b从折射面96以角度“β”反射，“β”等于或大于边缘光线84a和84b从凹反射面100反射的角“α”。
折射面96的反射率至少部分由以下引起：(a)折射体98及其相邻空气介质的折射率之间的差异；和(b)会聚光线接近折射面96的入射角。此外，可使用涂覆以更有效地控制光穿越折射面96的透射和反射。例如，可对折射面96施加涂覆，从而进一步根据折射面折射面96上的入射角或入射位置进行区分，以便更有效地透射和反射成象系统70使其聚焦的光线范围的光线。例如，可在成象光线主要倾向于反射的折射面96的环形区域95中增加涂覆物的反射率，在成象光线主要倾向于透射的折射面96的环形区域97减少涂覆物的反射率。
会聚边缘光线84a和84b通过凹反射面100的孔径102内的凸折射面106离开Mangin镜80。凸折射面106的曲率中心至少近似和凹反射面100的曲率中心相匹配，以便表面100和表面106占据折射体98的背面上的连续形(例如，球形)的不同部分。尽管会聚的径向光线以较高的入射角接近凸折射面106，但通过用液体光学介质86填充Mangin镜80和的场校正光学部件82之间的空间来限制折射(例如，小于10度)。液体光学介质86(可以是脱气水)降低了跨凸折射面106的折射率差异。
场校正光学部件82具有折射体108和靠近Mangin镜80的凸折射面106的凸折射面110，以及靠近抗蚀层14的平面折射面112。如此，场校正光学部件82可以被称为具有正聚焦能力的平凸光学部件。场校正光学部件82也可以被称为双向浸没光学部件，因为凸折射面110是暴露于液体光学介质86的浸没面，而平面折射面112是暴露于液体光学介质88的浸没面。
液体光学介质86和88升高的折射率限制穿过场光学部件82的折射面110和112的折射量(例如小于10度)。尽管边缘光线84a和84b以相当大的入射角接近各个折射面110和112，但因在折射面110和112的相对侧的光学介质86和88的折射率的有限差异而使折射受到限制。尽管脱气水对于液体光学介质86和88而言是优选的，但它们中的一个或两个也可以使用不同的光学液体。例如，液体光学介质86可由独立于液体光学介质88的外围密封114限定在Mangin镜80和场光学部件82之间。在成象系统70的同一整体设计内，两个液体光学介质86和88可改变，以适合不同的抗蚀层14并进行精细的光学调整。
下面的表格列出了制造示例性的反折射成象系统70的制造数据(以毫米为单位)，类似于前面的实施例，成象系统70工作在193nm波长，具有1.2数值孔径和15x缩径能力。
  元件号              曲率半径   厚度           孔径直径   材料
  前   后   前   后
  物12   INF   86.8698
  61   65.7102   51.6419   20.5066   23.0980   22.3354   二氧化硅
  空间   245.4068
  62   435.1054   -150.4084   9.0483   69.8704   70.1300   氟化钙
  空间   102.1563
  63   116.2850   43.2535   6.6875   55.8903   52.7145   二氧化硅
  空间   20.6876
  64   -47.7576   -71.4321   12.0956   54.3401   64.5469   二氧化硅
  空间   7.0370
  65   134.9633   -101.5776   17.8787   78.4571   79.2839   氟化钙
  空间   0.0200
  66   79.3961   56.4347   4.3609   77.2784   73.6386   二氧化硅
  空间   9.9511
  67   113.8151   -132.3919   14.8674   74.1772   73.8734   氟化钙
  空间   6.8027
  68   -73.9770   -198.0131   5.0848   72.7498   73.3303   二氧化硅
  空间   11.3173
  孔径光阑69   74.3728
  空间   0.6827
  98(96-100)   -1043.7160   -89.2413   19.7738   74.3736   74.9846   二氧化硅
  100   -89.2413   74.9846   REFL
  98(100-96)   -89.2413   -1043.716   -19.7738   74.9846   74.9846   二氧化硅
  96   -1043.7160   48.5489   REFL
  98(96-106)   -1043.7160   -89.2413   19.7738   48.5489   74.9846   二氧化硅
  86   -89.2413   4.0537   0.2000   10.0000   4.9516   水
  82   4.0537   INF   1.8436   4.9516   2.5339   二氧化硅
  88   INF   INF   0.6000   2.5397   10.0000   水
  象14   INF    10.0000
尽管列出部分反射面96具有表示折射体98的正面上的凹面的负曲率半径，但该曲率半径的尺寸使得仍然认为面96是标称平面的。同样，尽管反射面100和折射面106共有相同的负曲率，但根据传统的光学标号，认为反射面100是凹的，而折射面106是凸的。
下面是用于定义成象系统的其他一阶数据，其中FFL是从第一面测量的，而BFL是从最后的面测量的。
        无限共轭对
  EFL   62.0784
  BFL   -3.5384
  FFL   562.7456
  F/NO   0.4284
  使用的共轭对(at used conjugates)
  缩径   0.0667
  有限F/NO   0.4167
  物距   85.8698
  总轨迹   602.8784
  象距   0.6000
  OAL   516.4086
  旁轴象高   0.3535
  旁轴象距   0.6001
  半场角度   0.4835
  入口光瞳直径   100.9403
  入口光瞳距离   542.9926
  出口光瞳直径   220.9644
  出口光瞳距离   132.3550
所述成象系统10和70的元件之间的空间一般是空气，且较佳地是氮，而元件本身一般是玻璃的，且较佳地是熔融石英或氟化钙。一个或多个液体介质，较佳地是脱气水，设想它们在最后的元件22或82的一侧或两侧。一般地，这些设计有利于获得高的数值孔径，包括实际上大于1(例如1.2)的数值孔径，同时将整个设计中的界面处的折射量最小化。
此外，这些设计有利于将边缘光线相对于贯穿折射光学部件18或78的大部分的光轴34或94的倾角最小化，以便将立方晶体材料(例如，氟化钙)内的双折射的影响最小化。大多数倾斜是由于反射的结果而发生在双反射Mangin镜20或80内。Mangin镜20或80的折射体28或98可以是熔融石英，以将双折射的影响最小化。然而，即使在Mangin镜20或80的折射体28或98内使用注入氟化钙之类的立方晶体材料，多重反射具有同步效应(clocking effect)，有助于更为均匀地分布双折射效应。实际上，可通过将部分反射面26或96安排成接近平面形来优化同步效应，以便光线以相对于光轴34或94(相应于其中一个晶轴的方向)近似相等的角度以相反方向通过折射体28或98。
一般地，需要中心遮蔽以防止旁轴光线直接通过Mangin镜20或80的正面的折射面26或96与Mangin镜背面的孔径32或102内的折射面36或106之间的折射体28或98。这种遮蔽确保Mangin镜20或80双倍反射通过孔径32或102的任何光。
部分反射面26或96也可以设置成对在更为会聚的路径上反射到孔径32和102的光具有依赖角度的径向对称偏振效应。以接近但小于总内部反射角的入射角(例如，在Brewster角附近)，两个正交偏振方向中的一个(即，入射平面中的偏振方向TM)不被反射。透射的TM偏振光丢失。因为在入射平面内涉及Brewster角，且入射光线在与光轴34或94交叉的轴平面位置弯曲，则以Brewster角或靠近该角入射到反射面26或96的光线径向对称地偏振，表现为偏振光的方位角分布。
通常，如果可能的话，要避免这种偏振损失，以便使成象系统更为有效。然而，本发明提供利用所产生的偏振对称来增强以高数值孔径成象，如在浸没光学系统10和70内所发现的那样。以高入射角接近象平面的随机偏振光包括沿光轴的偏振分量，该分量不是完全参于图象形成，并具有降低整体对比度的效果。到抗蚀层14的入射平面中的偏振方向(即TM)是对于以更高入射角进行象形成来说最不希望的。TM偏振方向的电场矢量根据相对于抗蚀层14的法线测量的入射角而与光轴34或94互补倾斜。TM偏振的干扰效应由于相同入射平面内电场矢量的倾角之间的差异而减少。例如，相同入射平面内以90度相对倾斜的电场矢量完全不会干扰。(以更高的入射角差异可能得到负对比度)。该问题不会影响TE偏振方向，在入射角的整个范围内，其电场矢量保持平行于入射平面。
在部分反射面26或96对入射角的进一步控制可用于产生径向偏振对称，用于产生更为锐利的象。因为部分反射面26或96位于成象系统10的光瞳附近，以最高的入射角接近部分反射面26或96边缘光线24a和24b或84a和84b也以最高的入射角接近抗蚀层14。因此，通过调整形状、处理(例如涂覆)或跨部分反射面26或96的折射率差异，可使Brewster角与选定范围的高入射角相匹配，用于丢弃所选范围内不期望的TM偏振。Brewster角(或参照角)在会聚光束到达部分反射面26或96的全范围入射角中的的准确位置可设为有利于TM偏振方向在该范围的较高端的透射。
然而，较高的入射角应保持小于全内反射角，以保持期望的偏振效果。可通过增加部分反射面26或96的凸状，在全内反射界限内减小部分反射面26或96的较高的入射角，同时保持所希望的会聚角“β”。使从部分反射面26或96反射的会聚光束径向偏振，尤其是以更高的倾角，这有利于能以更完全的对比度成象的极正交(例如，方位角)偏振模式。
在抗蚀层14的面的相同的Brewster角效应倾向于比期望的TE偏振更有效地耦合不期望的TM偏振。然而，液体光学介质44或88减小了TM偏振光的反射率，这降低了跨抗蚀层14的面的折射率差异。例如，对具有折射率为1.8的抗蚀层而言，以57度倾斜的TM偏振的反射率因折射率约为1.4的液体光学介质44或88(例如，水)的存在而从24％减小到8％。
部分反射面26或96的偏振效应较佳地发生在光瞳范围内，如靠近孔径59或69，在此，例如从物点13和15发出的成象系统10的光束17和19或成象系统70的光束117和119彼此重叠。在重叠区域内，光束17和19或117和119被一起处理，使得每一个在接近它们在象平面(抗蚀层14)内的唯一象点时都保持径向对称偏振模式(例如，方位角偏振模式)。在类似范围内设置径向对称偏振器可作出与孔径光阑59或69相配的类似偏振效果。
图5和图6示出了双焦阑双折射成象系统130和另一个双反射Mangin镜140。与前面两个实施例类似，成象系统130在抗蚀层14(象)上以高的缩减比投射刻线(物)的象。然而，成象系统130在物空间和象空间内都是焦阑的。
在焦阑物空间内，从代表性的物点13和15发出的光束137和139的主光线141和143平行于公共光轴144延伸。在以孔径光阑159为中心的光瞳空间内，主光线141和143与光轴144交叉，且光束137和139彼此重叠。在焦阑象空间内，如果主光线141和143不被Mangin镜140前的光阑所阻断，则它们将平行于光轴144返回，用于形成抗蚀层14中相应的象点。可在光瞳空间内一起处理光瞳空间内重叠的光束137和139，以便在形成抗蚀层14内相应的象点时可以有相同或类似的效果。
Mangin镜140提供大部分聚焦能力，而与Mangin镜140相关联的场校正光学部件142具有与抗蚀层14的浸没界面，用于限制折射并增加数值孔径。填充Mangin镜140前的孔径159的折射光学组合件138对于物空间来说在形式上是焦阑的，而Mangin镜140和场校正光学部件142一起对于象空间来说在形式上是焦阑的，它们的每一个都共有孔径159附近的公共光瞳。
如图6所示，重叠的边缘光线134a和134b藉由穿过光透射体148上的凸折射面146而进入Mangin镜140。边缘光线134a和134b通过光透射体148传播并在以“α”角相对于光轴144倾斜的会聚路径上从凹反射面150反射。通过在以“β”角相对于光轴144倾斜的更为会聚的路径上将返回的边缘光线134a和134b反射向凸折射面146内形成的孔径152，凸折射面146也充当部分反射面。
在前面两个实施例中，部分反射面26和96是平面或近似平面的，角“α”和“β”彼此近似相等，且约等于相对于入射点的面法线测量的边缘光线到达该面的入射角。然而，在Mangin镜140内，角“β”明显大于角“α”，因为在入射点，面法线147因凸折射面146的凸状而向光轴144倾斜。实际的入射角“μ”等于角“α”和“β”的平均值。
正是入射角“μ”部分地控制凸折射面146的反射属性，而角“β”部分地对Mangin镜140的聚焦能力负责。通过控制凸折射面146的凸状，可独立于Mangin镜140的聚焦能力而调整凸折射面146的反射属性。这种独立调整对利用凸折射面146的角偏振灵敏性是特别重要的。例如，边缘光线134a和134b的入射角“μ”可设定为小于总内反射角，以便边缘光线134的偏振特性仍然受到边缘光线碰到凸折射面而造成的区别影响。
例如，入射角“μ”可设为Brewster角附近，使得对因透射而损耗的TM偏振分量来说，凸折射面146更有利于对TE偏振分量的反射。这种区别影响大多较佳地产生于更高入射角。因为凸折射面146在光束137和139基本重叠的光瞳范围内，则在光束137和139每一个内的偏振效果是相似的。因此，与象平面(抗蚀层14)更高入射角光线相关联的TM偏振分量类似地由于光束137和139的每一个内的与围绕光轴144的凸折射面146的径向对称匹配的径向对称而最小化称。
尽管凸折射面146的区别偏振效果主要是入射角“μ”和跨凸折射面146折射率差异的函数，但可通过对该凸折射面应用偏振涂覆或其它处理而进一步控制偏振效果。凸折射面146上相对高的入射角使得该面特别适合于获得期望的角度灵敏性和径向对称偏振效果。然而，也可以在光瞳范围内使用不同的面或光学构造，以在重叠的光束137和139上获得期望的径向对称偏振效果。
与图3的实施例类似，在孔径152内形成凹折射面156，用于限制会聚光线接近孔径152的入射角。场校正光学部件152具有在光透射体158的一侧上的凸折射面160和在另一侧的基本平面162。Mangin镜140的凹折射面156和场校正光学部件152的凸折射面160在形式上分离，以通过有限的折射角而产生场校正效果。平面162是与用于以高数值孔径但有限的折射角将场校正光学部件152与抗蚀层154耦合的液体光介质154接触的浸没面。
下面的表格列出了以192.6到194nm谱范围内的193.3nm为基准波长，用于反折射成象系统130的制造数据(以毫米为单位)。
    元件号                曲率半径       厚度            孔径直径       材料
  前   后   前   后
  物12   INF   8.8120
  171   43.8766   32.2866   20.9205   12.0911   12.1413   二氧化硅
  148.3546
  172   -1715.9101   A(1)   5.9311   44.9003   45.4512   氟化钙
  262.5214
  173   241.5870   47.0285   4.5000   47.3665   46.7355   二氧化硅
  18.8190
  174   -38.4333   -57.1318   5.0020   49.0497   55.4000   二氧化硅
  0.1482
  175   375.3203   -63.6290   19.8929   62.8751   67.2032   氟化钙
  12.6018
  176   106.4111   57.2145   19.9818   70.8697   67.1712   氟化钙
  9.1360
  177   138.1296   -82.3658   15.4741   68.6578   69.3138   氟化钙
  4.5986
  178   -66.3868   A(2)   5.0000   68.8332   72.1529   二氧化硅
  11.9800
孔径光阑179   76.0465
  0.0200
  (146-150)   283.3503   -118.5485   23.0274   76.7809   78.0418   氟化钙
  150   -118.5485   78.0418   REFL
  (150-146)   -118.5485   283.3503   -23.0274   78.0418   78.0418   氟化钙
  146   283.3503   56.3647   REFL
  (146-156)   283.3503   14.6951   22.0074   56.3674   78.0418   氟化钙
  0.0238
  (160-162)   9.0476   INF   3.5207   8.7659   3.0056   二氧化硅
  154   INF   INF   0.7539   3.0056   0.7070   水
  象14   INF   0.7070
与其它表格相同，正半径指示向右边的曲率中心，而负半径指示向左边的曲率中心。厚度是邻近面间的轴距，而象直径是旁轴值而非光线跟踪值。
光学元件172和178具有非球面背面，表示为A(1)和A(2)。这些面
由根据下面的公式在下面的表格内产生的一组系数定义：
Z = ( CURV ) Y 2 1 + ( 1 - ( 1 + K ) ( CURV ) 2 Y 2 ) 1 / 2 + ( A ) Y 4 + ( B ) Y 6 + ( C ) Y 8 + ( D ) Y 10
  面       CURV       K        A        B         C        D
  A(1)   -0.00971830   0.000000   -2.87514E-08   -6.97112E-12   7.24275E-15   -5.39628E-18
  A(2)   -0.00608055   0.000000   2.78960E-08   -2.57837E-12   1.98478E-16   4.73140E-18
下面是用于定义成象系统的其他一阶数据，其中FFL是从第一面测量的，而BFL是从最后的面测量的。
        无限共轭对
  EFL   -1458.4794
  BFL   97.9869
  FFL   -15239.5785
  F/NO   -0.0603
              使用的共轭对
  缩径   0.0667
  有限F/NO   0.4167
  物距   8.8120
  总轨迹   600.0000
  象距   0.7539
  OAL   590.4341
  旁轴象高   0.3535
  旁轴象距   0.7540
  半场角度   0.0029
  入口光瞳直径   16845.5552
  入口光瞳距离   104938.4560
  出口光瞳直径   142.3294
  出口光瞳距离   85.6641
尽管关于有限数量的实施例描述了本发明，但出于以下目的，本发明的描述和说明致使本发明可适用于多种不同的方式，例如高数值孔径成象、减少象差、适应深UV波长、以及增强象对比度。

Claims (80)

1.一种反折射成象系统，包含：
双反射Mangin镜，它具有：
光透射体，
在所述光透射体的第一侧的部分反射面，
在所述光透射体的第二侧的凹反射面，
在所述凹反射面内的孔径，以及
在所述光透射体的第二侧的所述凹反射面的所述孔径内的凹折射面；
在所述光透射体的第二侧的所述凹反射面和所述凹折射面具有位于沿公共光轴上的相反方向的标称曲率中心，用于减小成象光通过所述孔径离开所述光透射体的折射角；以及
用于校正象场内的象差的场校正透镜，该场校正透镜具有靠近所述凹折射面的凸折射面。
2.如权利要求1所述的成象系统，其特征在于，所述场校正透镜的所述凸折射面具有离开所述凹折射面的标称曲率中心的标称曲率中心，用于影响象场内的校正。
3.如权利要求1所述的成象系统，其特征在于，所述场校正透镜包括透镜体、位于所述透镜体的第一侧的凸折射面、以及位于该透镜体的第二侧的另一折射面。
4.如权利要求3所述的成象系统，其特征在于，所述另一折射面是浸没界面，用于将光透射到靠近所述象场的液体光学介质中。
5.如权利要求3所述的成象系统，其特征在于，所述场校正透镜具有净正光焦度。
6.如权利要求3所述的成象系统，其特征在于，所述另一折射面具有标称平面形。
7.如权利要求3所述的成象系统，其特征在于，所述另一折射面具有凹面形。
8.如权利要求4所述的成象系统，其特征在于，通过限制会聚光束入射到所述凹折射面的入射角，而限制在Mangin镜的所述凹折射面的折射。
9.如权利要求8所述的成象系统，其特征在于，通过限制所述场校正透镜的凸折射面和所述Mangin镜的所述凹折射面之间的曲率差异，而限制在所述场校正透镜的所述凸折射面的折射。
10.如权利要求8所述的成象系统，其特征在于，通过限制所述透镜体的折射率和所述液体光学介质的折射率之间的差异，而限制在所述浸没面的折射。
11.如权利要求1所述的成象系统，其特征在于，所述光透射体的第一侧的所述部分反射面具有标称平面形，以基本正交于所述光透射体的第二侧的所述凹反射面和所述凹折射面的公共光轴的方向定向。
12.如权利要求1所述的成象系统，其特征在于，所述光透射体的第一侧的所述部分反射面具有凸面形，以基本正交于所述光透射体的第二侧的所述凹反射面和所述凹折射面的公共光轴的方向定向。
13.如权利要求1所述的成象系统，其特征在于，所述部分反射面是用于向所述凹反射面透射光的折射面，所述凹反射面在会聚路径上将透射的光反射回所述部分反射面；以及所述部分反射面在更为会聚的路径上通过所述凹折射面将返回光反射向Mangin镜的焦点。
14.一种反折射成象系统，包含：
主聚焦光学部件，具有折射体、在所述聚焦光学部件的折射体的第一侧的反射面、在所述聚焦光学部件的折射体的另一侧的折射面、以及所述反射面内的孔径；
所述折射面是部分透射的，用于将光透射到所述反射面，所述反射面具有凹面形，用于在会聚路径上将透射的光反射回所述折射面；以及所述折射面是部分反射的，用于在更为会聚的路径上通过所述孔径将返回光反射向所述成象系统的象平面；
双向浸没光学部件，具有折射体、在所述浸没光学部件的折射体的一侧成形的用于暴露于所述双向浸没光学部件和所述主聚焦光学部件的所述孔径之间的液体光学介质的第一浸没面、以及在所述浸没光学部件的折射体的另一侧用于暴露于所述双向浸没光学部件和所述象平面之间的液体光学介质的第二浸没面。
15.如权利要求14所述的成象系统，其特征在于，还包含外围密封，用于限定所述双向浸没光学部件和所述主聚焦光学部件之间的所述液体光学介质。
16.如权利要求15所述的成象系统，其特征在于，所述双向浸没光学部件形成为适应暴露于所述第一浸没面的液体光学介质的不同于暴露于所述第二浸没面的液体光学介质的折射率的折射率。
17.如权利要求16所述的成象系统，其特征在于，暴露于所述第二浸没面的液体光学介质的折射率高于暴露于所述第一浸没面的液体光学介质的折射率，以优化数值孔径。
18.如权利要求14所述的成象系统，其特征在于，所述双向浸没光学部件的所述第一浸没面具有凸面形。
19.如权利要求18所述的成象系统，其特征在于，所述双向浸没光学部件的所述第二浸没面具有平面形。
20.如权利要求18所述的成象系统，其特征在于，所述双向浸没光学部件的所述第二浸没面具有凹面形。
21.如权利要求14所述的成象系统，其特征在于，通过限制所述聚焦光学部件的折射体的折射率和暴露于所述双向浸没光学部件的第一浸没面的液体光学介质的折射率之间的差异，而限制在所述主聚焦光学部件的所述孔径的折射。
22.如权利要求21所述的成象系统，其特征在于，通过限制所述双向浸没光学部件的折射体的折射率和暴露于所述第一浸没面的液体光学介质的折射率之间的差异，而限制在所述双向浸没光学部件的所述第一浸没面上的折射。
23.如权利要求19所述的成象系统，其特征在于，通过限制所述双向浸没光学部件的折射体的折射率和暴露于所述第二浸没面的液体光学介质的折射率之间的差异，而限制在所述双向浸没光学部件的所述第二浸没面上的折射。
24.如权利要求14所述的成象系统，其特征在于，在所述聚焦光学部件的折射体的另一侧的所述折射面具有标称平面形。
25.如权利要求14所述的成象系统，其特征在于，在所述聚焦光学部件的折射体的另一侧的所述折射面具有凹面形。
26.一种双折射Mangin镜，包含：
具有第一和第二侧的光透射体；
在所述光透射体的第一侧的第一折射面；
在所述光透射体的第二侧的反射面；
所述反射面内的孔径；
在所述光透射体的第二侧、在所述孔径内的第二折射面；
在所述光透射体的第二侧的所述反射面具有第一表面形状；
在所述光透射体的第二侧的所述第二折射面具有不同于所述第一表面形状的第二表面形状；以及
在所述光透射体的第一侧上的所述第一折射面具有不同于所述第一表面形状和所述第二表面形状中至少一个表面形状的第三表面形状。
27.如权利要求26所述的镜，其特征在于，所述第一和第二表面形状是非平面形，而所述第三表面形状是平面形。
28.如权利要求26所述的镜，其特征在于，所述第一和第二表面形状是非平面形，而所述第三表面形状是凸面形。
29.如权利要求26所述的镜，其特征在于，所述第一和第二表面形状是凹面形，在所述光透射体的第二侧的所述反射面具有凹反射面形，而在所述光透射体的第二侧的所述第二折射面具有凹折射面形。
30.如权利要求29所述的镜，其特征在于，所述反射面和所述第二折射面共有一公共光轴，且沿所述公共光轴在相反方向具有标称曲率中心，用于减小成象光通过所述孔径离开所述光透射体的折射角。
31.如权利要求30所述的镜，其特征在于，所述第三表面形状是非凹面形，在所述光透射体的第一侧的所述第一折射面具有非凹的、部分透射和部分反射的表面。
32.如权利要求31所述的镜，其特征在于，所述第三表面形状是平面形。
33.如权利要求26所述的镜，其特征在于：
所述第一折射面是部分透射的，用于向所述反射面透射光，
所述反射面具有凹面形，用于在会聚路径上将透射的光反射回所述第一折射面，以及
所述第一折射面是部分反射的，用于在更为会聚的路径上通过所述第二折射面将返回光反射向焦点。
34.如权利要求33所述的镜，还包含应用于所述第一折射面的涂覆，该涂覆在从所述第一折射面反射的光附近提供更高的反射率，以及在通过所述第一折射面透射的光附近提供较低的反射率。
35.一种牛顿成象系统，包含：
在第一光学介质和第二光学介质之间的部分反射界面；
靠近所述第二光学介质的凹反射镜；
在所述第二光学介质和第三光学介质之间的孔径内的至少部分透射的界面；
包括所述第三光学介质和第五光学介质之间的第四光学介质的浸没透镜；
所述第五光学介质是用于光学上连接所述浸没透镜和象平面的液体光学介质；
所述第一光学介质和所述凹反射镜之间穿越所述部分反射界面和所述第二光学介质的第一光路径；
所述凹反射镜和所述部分反射界面之间穿越所述第二光学介质的第二光路径；
所述部分反射界面和所述象平面之间穿越所述第二光学介质、所述至少部分透射的界面、所述第三光学介质、所述浸没透镜的所述第四光学介质以及所述第五光学介质的第三光路径。
36.如权利要求35所述的成象系统，其特征在于，所述浸没光学部件具有靠近所述第三光学介质的第一折射面和靠近所述第五光学介质的第二折射面，且所述第一折射面是凸折射面。
37.如权利要求36所述的成象系统，其特征在于，所述第三光学介质是液体光学介质。
38.如权利要求36所述的成象系统，其特征在于，所述第二光学介质是固体光学介质，且在所述固体光学介质的凹折射面和所述第三光学介质之间形成所述至少部分透射的界面。
39.如权利要求38所述的成象系统，其特征在于，所述部分反射界面具有标称平面形。
40.如权利要求39所述的成象系统，其特征在于，所述部分反射界面形成在所述第一光学介质和所述固体光学介质的所述平面折射面之间。
41.如权利要求38所述的成象系统，其特征在于，所述部分反射界面具有凸面形。
42.一种具有牛顿形式的用于深紫外线的反折射成象系统，包含：
组合的反射和折射光学部件，具有折射体、在所述折射体的一侧的反射面、在所述折射体的另一侧的折射面、以及沿光轴在所述反射面内的孔径；
所述折射面是部分透射的，用于向所述反射面透射光；
所述反射面具有凹面形，用于在会聚路径上将透射的光反射回所述折射面；
所述折射面还是部分反射的，用于在更为会聚的路径上通过所述孔径将返回光反射向沿所述光轴的焦点；以及
所述折射面具有非凹面形，以便从所述反射面接近所述折射面的光以第一角度向所述光轴倾斜，所述第一角度小于或等于由所述折射面反射的光倾斜于所述光轴的第二角度。
43.如权利要求42所述的成象系统，其特征在于，所述折射面具有凸面形，以便所述第二角度大于所述第一角度。
44.如权利要求42所述的成象系统，其特征在于，所述折射面具有标称平面形，以便所述第一和第二角度基本相等。
45.如权利要求44所述的成象系统，其特征在于，所述折射体由立方晶体材料制成，而所述平面折射面定向成径向平衡所述晶体材料的的双折射象差。
46.如权利要求42所述的成象系统，还包含应用于所述折射面的部分反射处理，以便所述折射面的反射率按照到所述光轴的径向距离的函数而变化，以补偿按照光接近所述折射面的入射角的变化的函数的反射率的变化。
47.如权利要求42所述的成象系统，其特征在于，所述反射面和述折射面是相关的，以便从所述反射面接近所述折射面的光的边缘光线以某一入射角到达所述折射面，该入射角反射一个偏振方向比反射正交偏振方向更多。
48.如权利要求47所述的成象系统，其特征在于，所述折射面足够凹，以便从所述反射面接近所述折射面的光的边缘光线以小于总内反射角的入射角到达所述折射面。
49.如权利要求47所述的成象系统，其特征在于，所述折射面形成为对于较大的入射角提供较大的角度灵敏偏振效果。
50.如权利要求42所述的成象系统，其特征在于，所述折射面对从所述折射面反射的光产生径向对称偏振效果。
51.如权利要求50所述的成象系统，其特征在于，所述组合的反射和折射光学部件有利于沿光轴连接物平面和象平面，且所述折射面的所述径向对称偏振效果对平行于所述象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量和垂直于所述象平面处入射轴平面的光线的TE偏振分量有区别影响。
52.如权利要求51所述的成象系统，其特征在于，所述折射面的所述径向对称偏振效果减少了平行于所述象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量，而不会实质上减少垂直于所述象平面处入射轴平面的光线的TE偏振分量。
53.一种浸没成象系统，包含：
沿光学基准轴光学连接物平面和象平面的成象光学部件的组合件；
连接所述成象光学部件中邻近的一个和所述象平面的液体光学介质；
沿所述光学基准轴位于所述物平面和所述象平面之间、处于在所述物平面的物点和所图象平面的象点之间延伸的重叠光束的交叉点的光瞳；
位于所述光瞳范围内的角灵敏偏光器，它以径向对称对所述光瞳范围内的所述重叠光束进行偏振，对平行于所述象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量和垂直于所述象平面处入射轴平面的光线的TE偏振分量有区别影响。
54.如权利要求53所述的系统，其特征在于，所述角灵敏偏光器产生极正交偏振模式。
55.如权利要求54所述的系统，其特征在于，所述极正交偏振模式是方位角偏振模式。
56.如权利要求53所述的系统，其特征在于，所述角灵敏偏光器以径向对称对所述光瞳内的所述重叠光束进行偏振，减少平行于所述象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量，而没有实质减少垂直于所述象平面处入射轴平面的光线的TE偏振分量。
57.如权利要求56所述的系统，其特征在于，所述光线的所述TM偏振分量按照光线在所述象平面处对所述基准轴的倾度的函数随对所述基准轴的倾度而变化。
58.如权利要求57所述的系统，其特征在于，所述光线的所述TM偏振分量随对所述基准轴的倾度而变化，该倾度是所述光线在所述象平面处对所述基准轴的倾度的互补。
59.如权利要求57所述的系统，其特征在于，无论所述光线在所述象平面处对所述基准轴的倾度如何，所述光线的所述TE偏振分量保持与所述基准轴正交。
60.如权利要求53所述的系统，其特征在于，所述系统是焦阑成象系统，其中在所述光瞳交叉的主光线在所述象平面处基本上平行于所述基准轴延伸。
61.如权利要求60所述的系统，其特征在于，所述系统是双焦阑系统，其中主光线在所述物平面处也基本上平行于所述基准轴延伸。
62.如权利要求53所述的系统，其特征在于，所述偏振光学部件位于孔径光阑附近。
63.如权利要求57所述的系统，其特征在于，所述偏光器按照所述光线在所述象平面处对所述基准轴的倾度的函数来减少所述光线的所述TM偏振分量。
64.如权利要求63所述的系统，其特征在于，对于较少倾斜于所述基准轴的光线的TM偏振分量来说，所述偏光器对于更倾斜于所述基准轴的光线的所述TM偏振分量减少更多。
65.如权利要求53所述的系统，其特征在于，所述偏光器是部分反射面。
66.如权利要求65所述的系统，其特征在于，所述部分反射面是具有透射光学体、在所述透射光学体的一侧上的凹反射面、在所述反射面内的孔径、以及在所述透射光学体另一侧上的部分反射面的Mangin镜的面。
67.如权利要求66所述的系统，其特征在于，所述重叠光束在会聚路径上从所述凹反射面反射向所述部分反射面，并在通过所述孔径的会聚路径上从所述部分反射面反射。
68.如权利要求67所述的系统，其特征在于，所述部分反射面是非凹面，以便所述光线相对于所述部分反射面的法线的倾度不大于相同光线相对于所述基准轴的倾度。
69.如权利要求67所述的系统，其特征在于，所述重叠光束包括边缘光线，且所述边缘光线从所述凹反射面以小于在所述部分反射面的总内反射角的入射角接近所述部分反射面。
70.一种具有径向偏振对称的成象系统，包含：
沿光学基准轴光学连接物平面和象平面的成象光学部件的组合件；
沿所述光学基准轴位于所述物平面和所述象平面之间、处于在所述物平面的物点和所述象平面的象点之间延伸的重叠光束的交叉点的光瞳；
所述成象光学部件包括位于所述光瞳范围内并排列成角灵敏偏光器的折射界面，所述偏光器以径向对称对所述光瞳内的所述重叠光束进行偏振，对平行于所述象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量和垂直于所述象平面处入射轴平面的光线的TE偏振分量区别影响；以及
所述折射界面是协同其它成象光学部件一起成形的，以将所述重叠光束在所述折射界面的入射角限制到小于在所述折射界面的总内反射所要求的角度。
71.如权利要求70所述的系统，其特征在于，所述角灵敏偏光器的区别效果包括相对于其它偏振分量而更有利于对一个偏振分量的反射。
72.如权利要求71所述的系统，其特征在于，所述偏光器按照所述光线在入射点上相对于所述折射界面的法线的倾度的函数，反射一个偏振分量而排除其它偏振分量。
73.如权利要求70所述的系统，其特征在于，所述角灵敏偏光器以径向对称对所述光瞳内的所述重叠光束进行偏振，减少平行于所述象平面处入射轴平面的光线的TM偏振分量，而不会实质减少垂直于所述象平面处入射轴平面的光线的TE偏振分量。
74.如权利要求73所述的系统，其特征在于，所述光线的所述TM偏振分量按照光线在所述象平面处对所述基准轴的倾度的函数随对所述基准轴的倾度而变化。
75.如权利要求74所述的系统，其特征在于，所述光线的所述TM分量随对所述基准轴的倾度而变化，该倾度与所述光线在所述图象平面处对所述基准轴的倾度互补。
76.如权利要求74所述的系统，其特征在于，无论所述光线在所述象平面处对所述基准轴的倾度如何，所述光线的所述TE偏振分量保持与所述基准轴正交。
77.如权利要求74所述的系统，其特征在于，所述偏光器按照所述光线在所述象平面处对所述基准轴的倾度的函数来减少所述光线的所述TM偏振分量。
78.如权利要求74所述的系统，其特征在于，对于较少倾斜于所述基准轴的光线的TM偏振分量来说，所述偏光器对于更倾斜于所述基准轴的光线的所述TM偏振分量减少更多。
79.如权利要求70所述的系统，其特征在于，所述折射界面形成为非凹折射面，以便所述成象光相对于所述非凹折射面的法线的倾度不大于相同成象光相对于基准轴的倾度。
80.如权利要求70所述的系统，其特征在于，所述折射界面形成为凸折射面，以便所述成象光相对于所述非凹折射面的法线的倾度小于相同成象光相对于基准轴的倾度。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101435914B (zh) * 2008-12-09 2010-06-02 宁波理工监测科技股份有限公司 一种日盲紫外照相机镜头
CN101540848B (zh) * 2008-02-12 2011-10-19 索尼株式会社 摄像元件和摄像装置
CN107949804A (zh) * 2015-09-03 2018-04-20 3M创新有限公司 光学系统

Families Citing this family (88)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW538256B (en) * 2000-01-14 2003-06-21 Zeiss Stiftung Microlithographic reduction projection catadioptric objective
JP3953460B2 (ja) 2002-11-12 2007-08-08 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ投影装置
CN100470367C (zh) 2002-11-12 2009-03-18 Asml荷兰有限公司 光刻装置和器件制造方法
US10503084B2 (en) 2002-11-12 2019-12-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US9482966B2 (en) 2002-11-12 2016-11-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE10261775A1 (de) 2002-12-20 2004-07-01 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur optischen Vermessung eines Abbildungssystems
US7884998B2 (en) * 2003-02-21 2011-02-08 Kla - Tencor Corporation Catadioptric microscope objective employing immersion liquid for use in broad band microscopy
KR101562447B1 (ko) 2003-02-26 2015-10-21 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
WO2004086470A1 (ja) 2003-03-25 2004-10-07 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
EP1612850B1 (en) 2003-04-07 2009-03-25 Nikon Corporation Exposure apparatus and method for manufacturing a device
KR20110104084A (ko) 2003-04-09 2011-09-21 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피 유체 제어 시스템
SG141426A1 (en) 2003-04-10 2008-04-28 Nikon Corp Environmental system including vacuum scavange for an immersion lithography apparatus
EP3352015A1 (en) 2003-04-10 2018-07-25 Nikon Corporation Environmental system including a transport region for an immersion lithography apparatus
JP4488005B2 (ja) 2003-04-10 2010-06-23 株式会社ニコン 液浸リソグラフィ装置用の液体を捕集するための流出通路
WO2004092830A2 (en) 2003-04-11 2004-10-28 Nikon Corporation Liquid jet and recovery system for immersion lithography
SG2014015135A (en) 2003-04-11 2015-06-29 Nippon Kogaku Kk Cleanup method for optics in immersion lithography
CN101980087B (zh) 2003-04-11 2013-03-27 株式会社尼康 浸没曝光设备以及浸没曝光方法
JP2006523958A (ja) 2003-04-17 2006-10-19 株式会社ニコン 液浸リソグラフィで使用するためのオートフォーカス素子の光学的構造
TWI295414B (en) 2003-05-13 2008-04-01 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
TW201515064A (zh) 2003-05-23 2015-04-16 尼康股份有限公司 曝光方法及曝光裝置以及元件製造方法
TWI612556B (zh) 2003-05-23 2018-01-21 Nikon Corp 曝光裝置、曝光方法及元件製造方法
CN100541717C (zh) 2003-05-28 2009-09-16 株式会社尼康 曝光方法、曝光装置以及器件制造方法
US7213963B2 (en) 2003-06-09 2007-05-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7684008B2 (en) 2003-06-11 2010-03-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TW201818451A (zh) 2003-06-13 2018-05-16 日商尼康股份有限公司 曝光裝置、元件製造方法
KR101674329B1 (ko) 2003-06-19 2016-11-08 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조방법
EP2466382B1 (en) 2003-07-08 2014-11-26 Nikon Corporation Wafer table for immersion lithography
KR20060026883A (ko) 2003-07-09 2006-03-24 가부시키가이샤 니콘 결합장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법
EP2264532B1 (en) 2003-07-09 2012-10-31 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
WO2005006418A1 (ja) 2003-07-09 2005-01-20 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2005010960A1 (ja) 2003-07-25 2005-02-03 Nikon Corporation 投影光学系の検査方法および検査装置、ならびに投影光学系の製造方法
EP1503244A1 (en) 2003-07-28 2005-02-02 ASML Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
CN102043350B (zh) 2003-07-28 2014-01-29 株式会社尼康 曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法
US7779781B2 (en) 2003-07-31 2010-08-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP2804048A1 (en) 2003-08-29 2014-11-19 Nikon Corporation Exposure apparatus and device fabricating method
TWI263859B (en) 2003-08-29 2006-10-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR101238114B1 (ko) 2003-09-03 2013-02-27 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법
WO2005029559A1 (ja) 2003-09-19 2005-03-31 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
US8208198B2 (en) 2004-01-14 2012-06-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Catadioptric projection objective
TW200518187A (en) 2003-09-29 2005-06-01 Nikon Corp Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
EP1672681B8 (en) 2003-10-08 2011-09-21 Miyagi Nikon Precision Co., Ltd. Exposure apparatus, substrate carrying method, exposure method, and method for producing device
EP1672682A4 (en) 2003-10-08 2008-10-15 Zao Nikon Co Ltd SUBSTRATE TRANSPORT DEVICE AND METHOD, EXPOSURE DEVICE AND METHOD AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD
TW201738932A (zh) 2003-10-09 2017-11-01 Nippon Kogaku Kk 曝光裝置及曝光方法、元件製造方法
US7411653B2 (en) 2003-10-28 2008-08-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP4295712B2 (ja) 2003-11-14 2009-07-15 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置及び装置製造方法
KR101394764B1 (ko) 2003-12-03 2014-05-27 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법, 그리고 광학 부품
US7466489B2 (en) * 2003-12-15 2008-12-16 Susanne Beder Projection objective having a high aperture and a planar end surface
CN100487860C (zh) 2003-12-15 2009-05-13 株式会社尼康 台装置、曝光装置和曝光方法
WO2005059645A2 (en) * 2003-12-19 2005-06-30 Carl Zeiss Smt Ag Microlithography projection objective with crystal elements
KR101179350B1 (ko) 2004-01-14 2012-09-11 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 반사굴절식 투영 대물렌즈
US20080151365A1 (en) * 2004-01-14 2008-06-26 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective
US7463422B2 (en) * 2004-01-14 2008-12-09 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure apparatus
ATE459898T1 (de) 2004-01-20 2010-03-15 Zeiss Carl Smt Ag Belichtungsvorrichtung und messeinrichtung für eine projektionslinse
US7589822B2 (en) 2004-02-02 2009-09-15 Nikon Corporation Stage drive method and stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101227211B1 (ko) 2004-02-03 2013-01-28 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR101441777B1 (ko) 2004-03-25 2014-09-22 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US7712905B2 (en) 2004-04-08 2010-05-11 Carl Zeiss Smt Ag Imaging system with mirror group
EP1747499A2 (en) 2004-05-04 2007-01-31 Nikon Corporation Apparatus and method for providing fluid for immersion lithography
WO2005111689A2 (en) 2004-05-17 2005-11-24 Carl Zeiss Smt Ag Catadioptric projection objective with intermediate images
US7616383B2 (en) 2004-05-18 2009-11-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN101833247B (zh) 2004-06-04 2013-11-06 卡尔蔡司Smt有限责任公司 微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统
KR101512884B1 (ko) 2004-06-09 2015-04-16 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US7463330B2 (en) 2004-07-07 2008-12-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
ATE441937T1 (de) 2004-07-12 2009-09-15 Nikon Corp Belichtungsgerät und bauelemente- herstellungsverfahren
KR20070048164A (ko) 2004-08-18 2007-05-08 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
US7701550B2 (en) 2004-08-19 2010-04-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7397533B2 (en) 2004-12-07 2008-07-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7880860B2 (en) 2004-12-20 2011-02-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP3079164A1 (en) 2005-01-31 2016-10-12 Nikon Corporation Exposure apparatus and method for producing device
US8692973B2 (en) 2005-01-31 2014-04-08 Nikon Corporation Exposure apparatus and method for producing device
US7282701B2 (en) 2005-02-28 2007-10-16 Asml Netherlands B.V. Sensor for use in a lithographic apparatus
USRE43576E1 (en) 2005-04-08 2012-08-14 Asml Netherlands B.V. Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method
US7649611B2 (en) 2005-12-30 2010-01-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
DE102006021797A1 (de) 2006-05-09 2007-11-15 Carl Zeiss Smt Ag Optische Abbildungseinrichtung mit thermischer Dämpfung
US8237911B2 (en) 2007-03-15 2012-08-07 Nikon Corporation Apparatus and methods for keeping immersion fluid adjacent to an optical assembly during wafer exchange in an immersion lithography machine
US8665536B2 (en) * 2007-06-19 2014-03-04 Kla-Tencor Corporation External beam delivery system for laser dark-field illumination in a catadioptric optical system
US7633689B2 (en) 2007-07-18 2009-12-15 Asml Holding N.V. Catadioptric optical system for scatterometry
EP3252801A1 (en) * 2007-08-10 2017-12-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9176393B2 (en) 2008-05-28 2015-11-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and a method of operating the apparatus
US8633377B2 (en) 2008-10-27 2014-01-21 The Regents Of The University Of California Light concentration apparatus, systems and methods
US8355214B2 (en) * 2009-07-30 2013-01-15 The Regents Of The University Of California Light collection apparatus, system and method
DE102009037077B3 (de) 2009-08-13 2011-02-17 Carl Zeiss Smt Ag Katadioptrisches Projektionsobjektiv
EP2381310B1 (en) 2010-04-22 2015-05-06 ASML Netherlands BV Fluid handling structure and lithographic apparatus
WO2012170916A2 (en) * 2011-06-10 2012-12-13 Canon Kabushiki Kaisha Optical system with catadioptric optical subsystem
JP5836686B2 (ja) * 2011-07-28 2015-12-24 キヤノン株式会社 反射屈折光学系及びそれを有する撮像装置
RU2573245C2 (ru) * 2013-04-24 2016-01-20 Общество С Ограниченной Ответственностью "Лаборатория Эландис" Способ бесконтактного управления с помощью поляризационного маркера и комплекс его реализующий
US9465144B2 (en) 2013-12-30 2016-10-11 Raytheon Company Hybrid grin diffractive optics
WO2020002005A1 (en) * 2018-06-26 2020-01-02 Jt International Sa Optical vaporisation system for an electronic cigarette

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2683393A (en) * 1949-05-20 1954-07-13 Drew Robert Lionel Reflecting objective for microscopes
US3711184A (en) * 1971-04-12 1973-01-16 Kollsman Instr Corp Large catadioptric objective
US4523816A (en) * 1983-08-12 1985-06-18 Vivitar Corporation Catadioptric lens
SU1506415A1 (ru) * 1987-12-04 1989-09-07 Ленинградский Институт Точной Механики И Оптики Зеркально-линзовый объектив
US5452126A (en) * 1993-11-10 1995-09-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Lightweight binocular telescope
US5930055A (en) * 1994-09-29 1999-07-27 Eisenberg; Yeshayahu S. Lens apparatus
CA2177424C (en) * 1995-06-06 2001-02-13 Bruce A. Cameron Solid catadioptric lens
US5650877A (en) 1995-08-14 1997-07-22 Tropel Corporation Imaging system for deep ultraviolet lithography
KR100317139B1 (ko) * 1999-05-27 2001-12-22 윤덕용 초고분해능 포물선형 렌즈
US7075721B2 (en) 2002-03-06 2006-07-11 Corning Incorporated Compensator for radially symmetric birefringence
US6919988B2 (en) * 2002-05-06 2005-07-19 Raytheon Company Optical system for simultaneous imaging of LWIR and millimeter wave radiation
US7307783B2 (en) * 2003-02-21 2007-12-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Catadioptric imaging system employing immersion liquid for use in broad band microscopy
US20060082905A1 (en) * 2004-10-14 2006-04-20 Shafer David R Catadioptric projection objective with an in-line, single-axis configuration

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101540848B (zh) * 2008-02-12 2011-10-19 索尼株式会社 摄像元件和摄像装置
CN101435914B (zh) * 2008-12-09 2010-06-02 宁波理工监测科技股份有限公司 一种日盲紫外照相机镜头
CN107949804A (zh) * 2015-09-03 2018-04-20 3M创新有限公司 光学系统
US11325330B2 (en) 2015-09-03 2022-05-10 3M Innovative Properties Company Optical system
US11787137B2 (en) 2015-09-03 2023-10-17 3M Innovative Properties Company Optical system

Also Published As

Publication number Publication date
US20050179994A1 (en) 2005-08-18
US7564633B2 (en) 2009-07-21
WO2005081030A1 (en) 2005-09-01
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JP2007523383A (ja) 2007-08-16

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