JPH0247515A - 光学式エンコーダ - Google Patents
光学式エンコーダInfo
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- JPH0247515A JPH0247515A JP19709288A JP19709288A JPH0247515A JP H0247515 A JPH0247515 A JP H0247515A JP 19709288 A JP19709288 A JP 19709288A JP 19709288 A JP19709288 A JP 19709288A JP H0247515 A JPH0247515 A JP H0247515A
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Landscapes
- Optical Transform (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えば位置や角度の検出に使用される光学式
エンコーダに関する。
エンコーダに関する。
[従来の技術]
第2図は従来の光学式エンコーダの一例を示す縦断面図
である。図において、(1)はガラス材質の回転ディス
ク、(2)は上部に回転ディスク(1)が固定され、下
部にモータ(図示せず)が連結された回転軸、(3)は
ガラス材質の固定基板である。
である。図において、(1)はガラス材質の回転ディス
ク、(2)は上部に回転ディスク(1)が固定され、下
部にモータ(図示せず)が連結された回転軸、(3)は
ガラス材質の固定基板である。
(4)は回転ディスク(1)の下面及び固定基板(3)
の上面に設けられた格子パターンで、1つ以上のスリッ
ト列を有し、例えばクロム蒸着後フォトリソグラフ技術
により製作されたものである。(5)は、平行光線を出
射するレンズ付の発光素子、(6)は発光素子(5)と
対向配置され、発光素子(5)から出射して格子パター
ン(4)が設けられた回転ディスク(1)、固定基盤(
3)を通過した光線を受光する受光素子である。(9a
) 、 (9b)はそれぞれ発光素子(5)、受光素子
(6)が固定されたプリント基板である。(7)はステ
ージ、(8)は回転軸(2)を支持する軸受けである。
の上面に設けられた格子パターンで、1つ以上のスリッ
ト列を有し、例えばクロム蒸着後フォトリソグラフ技術
により製作されたものである。(5)は、平行光線を出
射するレンズ付の発光素子、(6)は発光素子(5)と
対向配置され、発光素子(5)から出射して格子パター
ン(4)が設けられた回転ディスク(1)、固定基盤(
3)を通過した光線を受光する受光素子である。(9a
) 、 (9b)はそれぞれ発光素子(5)、受光素子
(6)が固定されたプリント基板である。(7)はステ
ージ、(8)は回転軸(2)を支持する軸受けである。
なお、(1o)は光学式エンコーダのカバーである。
次に動作について説明する。いま、モータを駆動して回
転軸(2)を■方向に回転させると、回転ディスク(1
)も■方向に回転し、格子パターン(4)が光路を開閉
する。このため、発光素子(5)から出射した平行光線
が、回転ディスク(1)、格子パターン(4)、固定基
板(3)を通過して受光素子(6)に達すると、受光素
子(6)は三角波の山、谷が潰れた擬似正弦波を出力す
る。この擬似正弦波を増幅して矩形波に整形し、これを
カウントすることによりモータの回転速度、角度等を知
ることができる。
転軸(2)を■方向に回転させると、回転ディスク(1
)も■方向に回転し、格子パターン(4)が光路を開閉
する。このため、発光素子(5)から出射した平行光線
が、回転ディスク(1)、格子パターン(4)、固定基
板(3)を通過して受光素子(6)に達すると、受光素
子(6)は三角波の山、谷が潰れた擬似正弦波を出力す
る。この擬似正弦波を増幅して矩形波に整形し、これを
カウントすることによりモータの回転速度、角度等を知
ることができる。
[発明が解決しようとする課題]
上記のように構成した従来の光学式エンコーダによれば
、ガラス材質の回転ディスク及び固定基板の表裏で空気
との屈折率の違いがあるので、発光素子から出射した平
行光線が途中で反射され、通過する光量が減少してしま
うという問題があった。
、ガラス材質の回転ディスク及び固定基板の表裏で空気
との屈折率の違いがあるので、発光素子から出射した平
行光線が途中で反射され、通過する光量が減少してしま
うという問題があった。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされた
もので、ガラス材質の回転ディスク及び固定基板の表裏
での光線の反射を防止し、通過する光量の減少を抑制で
きる光学式エンコーダを得ることを目的とする。
もので、ガラス材質の回転ディスク及び固定基板の表裏
での光線の反射を防止し、通過する光量の減少を抑制で
きる光学式エンコーダを得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明は上記の目的を達成するためになされたもので、
発光素子と受光素子で形成する光路を回転ディスク及び
固定基板の屈折率と同一又はほぼ等しい屈折率をもつ液
体で満たした光学式エンコーダを提供するものである。
発光素子と受光素子で形成する光路を回転ディスク及び
固定基板の屈折率と同一又はほぼ等しい屈折率をもつ液
体で満たした光学式エンコーダを提供するものである。
[作 用]
光路を満した液体は、その屈折率が光路中の構成部品と
同一又ははパ等しいので、構成部品の表裏における反射
を防止する。
同一又ははパ等しいので、構成部品の表裏における反射
を防止する。
[発明の実施例]
第1図は本発明実施例の縦断面図である。なお、第2図
と同一又は相当部分には同じ符号を付し、説明を省略す
る。(la)は回転ディスク、(3a)は固定基板で、
これらの材質は、例えば光学ガラスBK−7(屈折率:
1.51)により構成されている。
と同一又は相当部分には同じ符号を付し、説明を省略す
る。(la)は回転ディスク、(3a)は固定基板で、
これらの材質は、例えば光学ガラスBK−7(屈折率:
1.51)により構成されている。
(11)は発光素子(5)の光路を含む全体を満たした
例えばマツチングオイル[シリコン油(商品8二K F
5B、屈折率: 1.49〜1.50. メーカー:
信越化学)]で、回転ディスク(1a)、固定基板(3
a)の屈折率と同一又はほぼ等しい屈折率を有する液体
である。なお、(12)は軸受(8)の上部においてス
テージ(7)に設けられた浦もれ防止のためのシールで
ある。
例えばマツチングオイル[シリコン油(商品8二K F
5B、屈折率: 1.49〜1.50. メーカー:
信越化学)]で、回転ディスク(1a)、固定基板(3
a)の屈折率と同一又はほぼ等しい屈折率を有する液体
である。なお、(12)は軸受(8)の上部においてス
テージ(7)に設けられた浦もれ防止のためのシールで
ある。
上記のように構成した本発明の詳細な説明すれば次の通
りである。いま、モータを駆動して回転軸〈2)を■方
向に回転させると、回転ディスク(1a)も■方向に回
転し、格子パターン(4)が光路を開閉する。これによ
り、発光素子(5)から出射した平行光線が受光素子(
6)に達すると、受光素子り6)は三角波の山、谷が潰
れた擬似正弦波を出力する。この際、発光素子(5)か
ら出射した平行光線は、まずマツチングオイル[シリコ
ン油](11)、回転ディスク(1a)、格子パターン
(4)を経てマツチングオイル(11)に至るが、回転
ディスク(1a)の表裏ではマツチングオイル(11)
と屈折率の差異がないので、光線が反射することはない
。さらにこの光線は、格子パターン(4)、固定基板(
3a)、マツチングオイル(11)を通過して受光素子
(6)に達するが、固定基板(3a)の表裏でもマツチ
ングオイル(11)と屈折率の差異がないので、光線が
反射することはない。
りである。いま、モータを駆動して回転軸〈2)を■方
向に回転させると、回転ディスク(1a)も■方向に回
転し、格子パターン(4)が光路を開閉する。これによ
り、発光素子(5)から出射した平行光線が受光素子(
6)に達すると、受光素子り6)は三角波の山、谷が潰
れた擬似正弦波を出力する。この際、発光素子(5)か
ら出射した平行光線は、まずマツチングオイル[シリコ
ン油](11)、回転ディスク(1a)、格子パターン
(4)を経てマツチングオイル(11)に至るが、回転
ディスク(1a)の表裏ではマツチングオイル(11)
と屈折率の差異がないので、光線が反射することはない
。さらにこの光線は、格子パターン(4)、固定基板(
3a)、マツチングオイル(11)を通過して受光素子
(6)に達するが、固定基板(3a)の表裏でもマツチ
ングオイル(11)と屈折率の差異がないので、光線が
反射することはない。
このことは次の理由による。すなわち一般に屈折率の異
なる物質境界面における垂直入射光の反射率R(%)は
、次の様に示される。
なる物質境界面における垂直入射光の反射率R(%)は
、次の様に示される。
ここで、n 、n2は屈折率である。
■
従来の光学式エンコーダは、光路中に空気(屈折率:1
)が介在するので、空気とガラスとの境界面では約4%
の反射が生じて透過光が減少する。
)が介在するので、空気とガラスとの境界面では約4%
の反射が生じて透過光が減少する。
おおまかに考えると、従来の光学式エンコーダでは、光
路において上述の境界面が4か所存在するので、約16
%の反射が生じることになる。しかしながら、本発明で
は光路中にマツチングオイル(シリコン油)を介在させ
たので屈折率の差がほとんどなくなり、反射率はほぼ零
となる。
路において上述の境界面が4か所存在するので、約16
%の反射が生じることになる。しかしながら、本発明で
は光路中にマツチングオイル(シリコン油)を介在させ
たので屈折率の差がほとんどなくなり、反射率はほぼ零
となる。
なお、以上の説明では、回転ディスクを用いてモータの
回転速度及び角度を検出する場合を示したが、回転ディ
スクの代りに可能直尺を設けて位置を検出するようにし
てもよい。
回転速度及び角度を検出する場合を示したが、回転ディ
スクの代りに可能直尺を設けて位置を検出するようにし
てもよい。
また、上述の実施例では一対の発光素子と受光素子を設
けた場合を示したが、二対以上設けてもよい。
けた場合を示したが、二対以上設けてもよい。
[発明の効果コ
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、光路
に液体を満たし、光路中での屈折率の差異を減少させ、
反射による透過光の減少を低下させるようにしたので、
高精度の光学式エンコーダを得ることができる。
に液体を満たし、光路中での屈折率の差異を減少させ、
反射による透過光の減少を低下させるようにしたので、
高精度の光学式エンコーダを得ることができる。
第1図は本発明の実施例を示す縦断面図、第2図は従来
の光学式エンコーダの一例を示す縦断面、図である。 (1a)・・・回転ディスク、(3a)・・・固定基板
、(4)・・・格子パターン、(5)・・・発光素子、
(6)受光素子、(11)・・・マツチングオイル、 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示すも
のとする。 代理人 弁理士 佐々木 宗 治 マ
の光学式エンコーダの一例を示す縦断面、図である。 (1a)・・・回転ディスク、(3a)・・・固定基板
、(4)・・・格子パターン、(5)・・・発光素子、
(6)受光素子、(11)・・・マツチングオイル、 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示すも
のとする。 代理人 弁理士 佐々木 宗 治 マ
Claims (1)
- 互いに対向する少なくとも一対の発光素子と受光素子の
間の光路中に1つ以上のスリット列を有する回転ディス
クと1つ以上のスリット列を有する固定基板とを配置し
てなる光学式エンコーダにおいて、上記光路に上記回転
ディスク及び固定基板の屈折率と同一又はほぼ等しい屈
折率を有する液体を満たしたことを特徴とする光学式エ
ンコーダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19709288A JPH0247515A (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 光学式エンコーダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19709288A JPH0247515A (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 光学式エンコーダ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0247515A true JPH0247515A (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16368595
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19709288A Pending JPH0247515A (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 光学式エンコーダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0247515A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004509348A (ja) * | 2000-09-22 | 2004-03-25 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニー | 変位測定装置 |
JP2005175034A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2005223275A (ja) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Canon Inc | 投影露光装置、デバイス製造方法及びセンサユニット |
US9851644B2 (en) | 2005-12-30 | 2017-12-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US10180629B2 (en) | 2003-06-09 | 2019-01-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1988
- 1988-08-09 JP JP19709288A patent/JPH0247515A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004509348A (ja) * | 2000-09-22 | 2004-03-25 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニー | 変位測定装置 |
US10180629B2 (en) | 2003-06-09 | 2019-01-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US10678139B2 (en) | 2003-06-09 | 2020-06-09 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2005175034A (ja) * | 2003-12-09 | 2005-06-30 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2005223275A (ja) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Canon Inc | 投影露光装置、デバイス製造方法及びセンサユニット |
US7256868B2 (en) | 2004-02-09 | 2007-08-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus, device manufacturing method, and sensor unit |
US7522264B2 (en) | 2004-02-09 | 2009-04-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection exposure apparatus, device manufacturing method, and sensor unit |
US9851644B2 (en) | 2005-12-30 | 2017-12-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US10222711B2 (en) | 2005-12-30 | 2019-03-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US10761433B2 (en) | 2005-12-30 | 2020-09-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US11275316B2 (en) | 2005-12-30 | 2022-03-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US11669021B2 (en) | 2005-12-30 | 2023-06-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
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