CN107315324B - 一种曝光机基台装置及曝光机 - Google Patents

Abstract

本发明涉及液晶显示技术领域，公开了一种曝光机基台装置及曝光机，该曝光机基台装置，包括：基台，基台具有玻璃承载面，且基台上设置有多个开口位于玻璃承载面的真空吸附孔，其中：每一个真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，支撑机构的自身轴线与真空吸附孔的轴心线平行，且支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面，每一个真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔。上述曝光机基台装置中，在基台上设置真空吸附孔，真空吸附孔内设置支撑机构，避免基台与玻璃基板完全吸附，保证玻璃基板均匀受力，使得在曝光过程中玻璃基板的所有位置曝光程度一致，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

Description

一种曝光机基台装置及曝光机

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种曝光机基台装置及曝光机。

背景技术

曝光机基台在制作的过程中，需要通过吸附形成基台与玻璃基板的密闭区进行玻璃基板的固定，现有的基台表面设置有凸起，用来防止基台与玻璃基板完全吸附在一起，但由于凸起处的玻璃基板与非凸起处的玻璃基板的形变状态不一致，导致玻璃基板在曝光过程中产生曝光差异性，甚至在液晶显示模组的点灯状态下产生明显的差异。

发明内容

本发明提供了一种曝光机基台装置及曝光机，该曝光机基台装置中，采用基台上的真空吸附孔和真空吸附孔内的支撑机构，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种曝光机基台装置，包括：基台，所述基台具有玻璃承载面，且所述基台上设置有多个开口位于所述玻璃承载面的真空吸附孔，其中：

每一个所述真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，所述支撑机构的自身轴线与所述真空吸附孔的轴心线平行，且所述支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面，所述支撑机构具有第一工位，且当所述支撑机构处于第一工位时，所述支撑面与所述玻璃承载面处于同一平面，且所述支撑面的面积小于所述真空吸附孔的面积；

每一个所述真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔。

上述曝光机基台装置中，玻璃基板放置到基台的玻璃承载面上，当支撑机构处于第一工位时，可以通过抽气孔进行抽气，由于支撑面的面积小于真空吸附孔的面积，即支撑面上形成有一个或多个缺口，使通气孔产生的吸附力通过缺口施加到玻璃基板上，即真空吸附孔产生吸附力，将玻璃基板固定在基台的玻璃承载面上，在曝光开始前，每一个真空吸附孔中的支撑机构绕自身轴线高速转动，使得支撑机构的支撑面能够均匀地对玻璃基板中与真空吸附孔相对的部位进行均匀支撑，并且，支撑面对玻璃基板提供的支撑力能够抵消真空吸附孔吸附玻璃的力，使得玻璃基板处于真空吸附孔区域部位与位于非真空吸附孔区域部位的形变状态尽量一致，从而可以消除因曝光差异导致的亮度不均、画面异常等问题。

因此，上述曝光机基台装置中，在基台上设置真空吸附孔，真空吸附孔内设置支撑机构，避免基台与玻璃基板完全吸附，保证玻璃基板均匀受力，使得在曝光过程中玻璃基板的所有位置曝光程度一致，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

进一步地，至少一部分所述真空吸附孔内的支撑机构具有第二工位，且当所述支撑机构处于第二工位时，所述支撑面高于所述玻璃承载面。

进一步地，所述支撑机构包括支撑杆，所述支撑杆与所述基台转动连接，所述支撑杆的自由端设置有所述支撑面。

进一步地，所述支撑面的旋转中心距所述真空吸附孔的边缘的最大距离不大于所述真空吸附孔的直径。

进一步地，所述支撑面投射到所述真空吸附孔的底面上的投影形状为十字形。

进一步地，所述支撑机构的一端连接有驱动组件。

进一步地，所述驱动组件包括气动元件或电动机。

进一步地，所述抽气孔远离玻璃基板的一端连接有抽气装置。

进一步地，所述基台上设置有多个所述真空吸附孔，每个所述真空吸附孔内均设置有所述支撑机构。

本发明还提供了一种曝光机，包括上述技术方案中所述的任意一种曝光机基台装置。

附图说明

图1为本发明提供的基台的结构示意图；

图2为本发明提供的真空吸附孔的结构示意图；

图3为本发明提供的支撑机构处于第一工位时的示意图；

图4为本发明提供的支撑机构处于第二工位时的示意图。

图标：1-基台；2-真空吸附孔；21-抽气孔；22-支撑面；23-支撑杆。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参考图1至图3，本发明实施例提供的曝光机基台装置，包括：基台1，基台1具有玻璃承载面，且基台1上设置有多个开口位于玻璃承载面的真空吸附孔2，其中：

每一个真空吸附孔2内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，支撑机构的自身轴线与真空吸附孔2的轴心线平行，且支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面22，支撑机构具有第一工位，且当支撑机构处于第一工位时，支撑面22与玻璃承载面处于同一平面，且支撑面22的面积小于真空吸附孔2的面积；

每一个真空吸附孔2内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔21。

上述曝光机基台装置中，玻璃基板放置到基台1的玻璃承载面上，当支撑机构处于第一工位时，可以通过抽气孔21进行抽气，由于支撑面22的面积小于真空吸附孔2的面积，即支撑面22上形成有一个或多个缺口，使通气孔产生的吸附力通过缺口施加到玻璃基板上，即真空吸附孔2产生吸附力，将玻璃基板固定在基台1的玻璃承载面上，在曝光开始前，每一个真空吸附孔2中的支撑机构绕自身轴线高速转动，使得支撑机构的支撑面22能够均匀地对玻璃基板中与真空吸附孔2相对的部位进行均匀支撑，并且，支撑面22对玻璃基板提供的支撑力能够抵消真空吸附孔2吸附玻璃的力，使得玻璃基板处于真空吸附孔2区域部位与位于非真空吸附孔区域部位的形变状态尽量一致，从而可以消除因曝光差异导致的亮度不均、画面异常等问题。

因此，上述曝光机基台装置中，在基台1上设置真空吸附孔2，真空吸附孔2内设置支撑机构，避免基台1与玻璃基板完全吸附，保证玻璃基板均匀受力，使得在曝光过程中玻璃基板的所有位置曝光程度一致，有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。

参照图4，作为上述支撑机构的一种实施方式，至少一部分真空吸附孔2内的支撑机构具有第二工位，且当支撑机构处于第二工位时，支撑面22高于玻璃承载面。

上述支撑机构中，真空吸附孔2中的至少一部分支撑机构具有第二工位，便于将玻璃基板放置到基台1上进行固定，具有第二工位的支撑机构在曝光前支撑面22高于玻璃承载面，当玻璃基板进入到曝光机内部时，将玻璃基板放置于支撑面22上，支撑机构从第二工位运动至第一工位，将玻璃基板放置在基台1的玻璃承载面上，便于对玻璃基板进行曝光。

具体地，支撑机构包括支撑杆23，支撑杆23与基台1转动连接，支撑杆23的自由端设置有支撑面22。

上述支撑机构中，支撑机构包括支撑杆23和支撑面22，支撑杆23与基台1转动连接，使支撑杆23可绕平行于真空吸附孔2的轴线方向转动，以带动支撑面22的高速转动。

具体地，支撑面22的旋转中心距真空吸附孔2的边缘的最大距离不大于真空吸附孔2的直径。

支撑机构的支撑面22与基台1的玻璃承载面在同一平面上，且支撑面22旋转中心到真空吸附孔2的距离不大于真空吸附孔2的直径，保证了在支撑面22在高速转动过程中玻璃基板的受到均匀的支撑力，使得玻璃基板所有位置的形变状态一致，实现了玻璃基板曝光过程中处于均匀状态。

参照图2，具体地，支撑面22投射到真空吸附孔2的底面上的投影形状为十字形。

上述支撑面22投射到真空吸附孔2的投影形状我十字型，真空吸附孔2中产生的吸附力通过十字型支撑面22上的缺口施加到玻璃基板上，对玻璃基板进行固定。

本曝光机基台装置还包括与支撑机构的一端连接的驱动组件。

支撑机构上连接有驱动组件，用以驱动支撑机构高速转动，实现避免基台1与玻璃基板完全吸附的现象发生，保证玻璃基板均匀受力，提高玻璃基板的曝光效果。

具体地，驱动组件包括气动元件或电动机。

本曝光机基台装置还包括与抽气孔21远离玻璃基板的一端连接的抽气装置。

抽气孔21的一端设置有抽气装置，当固定玻璃基板时，抽气装置工作，将真空吸附孔2中的空气抽出，使真空吸附孔2中的气压小于外界大气压，实现对玻璃基板的固定，当曝光完成后，抽气装置通过抽气孔21向真空吸附孔2内排气，增加真空吸附孔2内的气压，方便玻璃基板脱离基台1。

作为基台1的一种实施方式，基台1上设置有多个真空吸附孔2，每个真空吸附孔2内均设置有支撑机构。

上述基台中，基台1上设置有多个真空吸附孔2，为保证每个真空吸附孔2处对应的玻璃基板的受力大小与非真空吸附孔处的玻璃基板的受力大小一致，在每个真空吸附孔2内设置支撑机构。

本发明实施例还提供了一种曝光机，包括上述实施例中的任意一种曝光机基台装置。

显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种曝光机基台装置，其特征在于，包括：基台，所述基台具有玻璃承载面，且所述基台上设置有多个开口位于所述玻璃承载面的真空吸附孔，其中：

每一个所述真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构，所述支撑机构的自身轴线与所述真空吸附孔的轴心线平行，且所述支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面，所述支撑机构具有第一工位，且当所述支撑机构处于第一工位时，所述支撑面与所述玻璃承载面处于同一平面，且所述支撑面的面积小于所述真空吸附孔的面积；

每一个所述真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔；

在曝光开始前，每一个真空吸附孔中的支撑机构绕自身轴线高速转动，以使支撑机构的支撑面能够均匀地对玻璃基板中与真空吸附孔相对的部位进行均匀支撑，且为玻璃基板提供的支撑力能够抵消真空吸附孔吸附玻璃的力，使得玻璃基板处于真空吸附孔区域部位与位于非真空吸附孔区域部位的形变状态尽量一致。

2.根据权利要求1所述的曝光机基台装置，其特征在于，至少一部分所述真空吸附孔内的支撑机构具有第二工位，且当所述支撑机构处于第二工位时，所述支撑面高于所述玻璃承载面。

3.根据权利要求1所述的曝光机基台装置，其特征在于，所述支撑机构包括支撑杆，所述支撑杆与所述基台转动连接，所述支撑杆的自由端设置有所述支撑面。

4.根据权利要求1所述的曝光机基台装置，其特征在于，所述支撑面的旋转中心距所述真空吸附孔的边缘的最大距离不大于所述真空吸附孔的直径。

5.根据权利要求4所述的曝光机基台装置，其特征在于，所述支撑面投射到所述真空吸附孔的底面上的投影形状为十字形。

6.根据权利要求1所述的曝光机基台装置，其特征在于，所述支撑机构的一端连接有驱动组件。

7.根据权利要求6所述的曝光机基台装置，其特征在于，所述驱动组件包括气动元件或电动机。

8.根据权利要求1所述的曝光机基台装置，其特征在于，所述抽气孔远离玻璃基板的一端连接有抽气装置。

9.一种曝光机，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的曝光机基台装置。