JP2005005707A5 - - Google Patents

Claims (28)

1. 放射線ビームを調整するように構成された照明器と、
   パターニングデバイスを保持するように構成された支持構造であって、前記パターニングデバイスが所望のパターンに従って前記放射線ビームにパターンを形成するように構成された支持構造と、
   基板を保持するように構成された基板テーブルと、
   前記パターンが形成された前記放射線ビームを前記基板のターゲット部分の上に投影するように構成された投影システムと、
   前記投影システムと前記基板テーブル上に配置されたオブジェクトとの間の空間の少なくとも一部分を液体で満たすように構成された液体供給システムと、
   前記投影システム又はアライメントシステムからの、前記液体を通過した放射線ビームによって照射されるように位置決め可能な、前記液体に接するように構成されたセンサとを備え、
   前記基板テーブルは、前記センサのエッジの少なくとも一部分を囲むように構成され且つ前記センサの主要な表面と実質的に同一平面上にある、前記投影システムに面する主要な表面を有するエッジ・シール部材を有することを特徴とする、リソグラフィ投影装置。
2. 前記基板テーブルは、前記投影システムと前記センサとの間に位置し且つ前記センサに接触しない中間板を支持するように構成された支持表面を有する、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
3. 前記センサは、前記放射線ビームを検知するように構成された透過イメージ・センサであり、
   前記中間板は、前記センサと前記投影システムとの間に配置可能である、請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
4. 前記センサは、前記基板テーブル上に配置される、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
5. 前記センサは、前記投影システムに対して前記基板テーブルの位置を調整するように構成されたアライメント・センサである、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
6. 前記アライメント・センサの測定格子が５００ｎｍ未満のピッチを有する、請求項５に記載のリソグラフィ投影装置。
7. 前記アライメント・センサが斜めに照明されるように構成されている、請求項５に記載のリソグラフィ投影装置。
8. 前記センサは、透過イメージ・センサである請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
9. 前記センサは、焦点センサである、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
10. 前記センサは、スポット若しくは線量センサ、一体化された干渉計とスキャナ、アライメント・マーク、又はこれら何れかの組み合わせである、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
11. 前記投影システムからの放射線ビームは、パターン化されたビームである、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
12. 前記アライメントシステムは、前記センサを備え、前記基板テーブルを位置合わせするためのアライメント用放射線ビームを前記投影システムから受け取る、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
13. 前記基板テーブルは、前記基板テーブルと前記センサとの間の空間から液体を取り除くように構成された真空ポートを備える、請求項４に記載のリソグラフィ投影装置。
14. 液体の流入を防止するための材料を前記基板テーブルと前記センサとの間の空間に備える、請求項４に記載のリソグラフィ投影装置。
15. 液体に接するセンサの上に前記液体を通してリソグラフィ投影装置の投影システム又はアライメントシステムから放射線ビームを投影するステップと、
    パターン化された放射線ビームを、前記投影システムを使用して、前記液体を通して基板のターゲット部分の上に投影するステップと、を備え、
    前記基板を保持する基板テーブルは、前記センサのエッジの少なくとも一部分を囲むように構成され且つ前記センサの主要な表面と実質的に同一平面上にある、前記投影システムに面する主要な表面を有するエッジ・シール部材を有することを特徴とする、デバイス製造方法。
16. 前記液体は、前記投影システムと前記センサとの間の中間板に支持され、前記中間板は前記センサと接触しない、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
17. 前記センサは、前記放射線ビームを検知するように構成された透過イメージ・センサであり、
    前記中間板は、前記センサと前記投影システムとの間に配置可能である、請求項１６に記載のデバイス製造方法。
18. 前記センサは、前記基板テーブル上に配置される、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
19. 前記センサは、前記基板を保持する基板テーブルの位置を前記投影システムに対して調整するように構成されたアライメント・センサである、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
20. 前記アライメント・センサの測定格子が５００ｎｍ未満のピッチを有する、請求項１９に記載のデバイス製造方法。
21. 前記アライメント・センサが斜めに照明されるように構成されている、請求項１９に記載のデバイス製造方法。
22. 前記センサは、透過イメージ・センサである、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
23. 前記センサは、焦点センサである、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
24. 前記センサは、スポット若しくは線量センサ、一体化された干渉計とスキャナ、アライメント・マーク、又はこれら何れかの組み合わせである、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
25. 前記投影システムからの放射線ビームは、パターン化されたビームである、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
26. 前記アライメントシステムは、前記センサを備え、前記基板テーブルを位置合わせするためのアライメント用放射線ビームを前記投影システムから受け取る、請求項１５に記載のデバイス製造方法。
27. 前記基板テーブルは、前記基板テーブルと前記センサとの間の空間から液体を取り除くように構成された真空ポートを備える、請求項１８に記載のデバイス製造方法。
28. 液体の流入を防止するための材料を前記基板テーブルと前記センサとの間の空間に提供するステップを備える、請求項１８に記載のデバイス製造方法。