JP2006041302A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2006041302A5
JP2006041302A5 JP2004221127A JP2004221127A JP2006041302A5 JP 2006041302 A5 JP2006041302 A5 JP 2006041302A5 JP 2004221127 A JP2004221127 A JP 2004221127A JP 2004221127 A JP2004221127 A JP 2004221127A JP 2006041302 A5 JP2006041302 A5 JP 2006041302A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
original
exposure apparatus
holding
holding portion
original holding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004221127A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006041302A (ja
JP4411158B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004221127A priority Critical patent/JP4411158B2/ja
Priority claimed from JP2004221127A external-priority patent/JP4411158B2/ja
Publication of JP2006041302A publication Critical patent/JP2006041302A/ja
Publication of JP2006041302A5 publication Critical patent/JP2006041302A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4411158B2 publication Critical patent/JP4411158B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (10)

  1. 原版面に描かれたパターンを、投影光学系を介して基板に投影転写する露光装置において、
    該原版に当接し保持位置決めを行なう為の原版保持面が設けられた第1の原版保持部位と、前記第1の原版保持部位の原版保持面に対して異なる位置で該原版に当接し保持を行ない、前記第1の原版保持部位に対して相対的に変位可能に支持された第2の原版保持部位が設けられたことを特徴とする露光装置。
  2. 前記第1の原版保持部位及び前記第2の原版保持部位の少なくともいずれかの原版保持面に、真空吸引手段または静電吸引手段が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
  3. 前記第1の原版保持部位と前記第2の原版保持部位は、該原版を保持する際に、両者の該原版保持部位の該原版保持面が該原版に当接することを特徴とする請求項1又は2のいずれか1項に記載の露光装置。
  4. 前記第2の原版保持部位の該原版保持面に真空吸引溝を有し、該真空吸引溝に該原版面と部分当接する部位を複数箇所設けたことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
  5. 前記第2の原版保持部位は、該原版面に対して略鉛直方向に弾性変位可能であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。
  6. 前記第2の原版保持部位は、前記第1の原版保持部位の外周部に設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の露光装置。
  7. 複数の前記第1の原版保持部位間に前記第2の原版保持部位が一体的に設けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の露光装置。
  8. 前記第2の原版保持部位は、該原版面の位置決め計測手段の計測光透過孔が設けられていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の露光装置。
  9. 前記第2の原版保持部位は、複数の分割体を備えてなり、各分割体の原版保持面が該原版に対して独立して変位可能なことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の露光装置。
  10. 請求項1〜9のいずれかに記載の露光装置を用いて露光対象に露光を行う工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を具備することを特徴とするデバイス製造方法。
JP2004221127A 2004-07-29 2004-07-29 露光装置 Expired - Fee Related JP4411158B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004221127A JP4411158B2 (ja) 2004-07-29 2004-07-29 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004221127A JP4411158B2 (ja) 2004-07-29 2004-07-29 露光装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006041302A JP2006041302A (ja) 2006-02-09
JP2006041302A5 true JP2006041302A5 (ja) 2007-09-13
JP4411158B2 JP4411158B2 (ja) 2010-02-10

Family

ID=35905956

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004221127A Expired - Fee Related JP4411158B2 (ja) 2004-07-29 2004-07-29 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4411158B2 (ja)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101484435B1 (ko) 2003-04-09 2015-01-19 가부시키가이샤 니콘 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
TWI609409B (zh) 2003-10-28 2017-12-21 尼康股份有限公司 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
TWI385414B (zh) 2003-11-20 2013-02-11 尼康股份有限公司 光學照明裝置、照明方法、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
TWI505329B (zh) 2004-02-06 2015-10-21 尼康股份有限公司 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法
EP2660853B1 (en) 2005-05-12 2017-07-05 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus and exposure method
US7352438B2 (en) * 2006-02-14 2008-04-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7733463B2 (en) * 2006-05-05 2010-06-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JPWO2007135998A1 (ja) * 2006-05-24 2009-10-01 株式会社ニコン 保持装置及び露光装置
JP5013941B2 (ja) 2007-04-19 2012-08-29 キヤノン株式会社 ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP5267029B2 (ja) 2007-10-12 2013-08-21 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法
US8379187B2 (en) 2007-10-24 2013-02-19 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
CN110268331B (zh) 2017-02-10 2021-12-07 Asml控股股份有限公司 掩模版夹持设备

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62100753A (ja) * 1985-10-29 1987-05-11 Canon Inc 多点支持レチクルチヤツク
JP2750554B2 (ja) * 1992-03-31 1998-05-13 日本電信電話株式会社 真空吸着装置
JPH07136885A (ja) * 1993-06-30 1995-05-30 Toshiba Corp 真空チャック
JP3372127B2 (ja) * 1994-11-18 2003-01-27 日本電信電話株式会社 真空吸着装置
JP2001332480A (ja) * 2000-05-24 2001-11-30 Canon Inc 原版チャック、該原版チャックを備えた露光装置および半導体デバイス製造方法
WO2002065519A1 (fr) * 2001-02-13 2002-08-22 Nikon Corporation Dispositif de support, procede de support, dispositif d'exposition et procede de production des dispositifs

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006041302A5 (ja)
JP2005150527A5 (ja)
EP1783821A4 (en) EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR PRODUCING THE DEVICE
EP1571696A4 (en) EXPOSURE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURE
TW200620410A (en) Measurement method, exposure method, and device manufacturing method
TWI263859B (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005029192A3 (en) Surface triangulation and profiling through a thin film coating
WO2005064400A3 (en) Chuck system, lithographic apparatus using the same and device manufacturing method
TW201203318A (en) Exposure method, exposure device, and device manufacturing method
JP2005005707A5 (ja)
WO2005062128A3 (en) Immersion lithographic process using a conforming immersion medium
EP1286218A3 (en) Lithographic patterning using a high transmission attenuated phase-shift mask and multiple exposures of optimised coherence
EP1571698A4 (en) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
EP1708028A3 (en) Optical element, exposure apparatus, and device manufacturing method
EP1783822A4 (en) EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE DEVICE ELEMENT CLEANING METHOD, EXPOSURE DEVICE MAINTENANCE METHOD, MAINTENANCE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP2005275405A5 (ja)
WO2005067815A8 (en) Stage alignment in lithography tools
JP2008300394A5 (ja)
JP2005235890A5 (ja)
JP2005093654A5 (ja)
JP2007220987A (ja) 平面板の保持体
JP2005136289A5 (ja)
JP2008140794A5 (ja)
JP2005243904A5 (ja)
JP2006319065A5 (ja)