JPS62100753A - 多点支持レチクルチヤツク - Google Patents
多点支持レチクルチヤツクInfo
- Publication number
- JPS62100753A JPS62100753A JP60240457A JP24045785A JPS62100753A JP S62100753 A JPS62100753 A JP S62100753A JP 60240457 A JP60240457 A JP 60240457A JP 24045785 A JP24045785 A JP 24045785A JP S62100753 A JPS62100753 A JP S62100753A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- support
- chuck
- point
- supporting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は半導体ウェハに回路パターンを焼込む露光装置
に使用するレチクルチャックに係るものである。
に使用するレチクルチャックに係るものである。
［発明の背Ｊｊｌｌ
露光装置には種々の方式があり、マスクを半導体ウェハ
に近接して等倍投影し露光する近接投影露光方式ミラー
を使用して所定断面の光ビームで半導体ウェハを掃引露
光するミラー投影露光方式、・そしてレンズを使用して
マスクの回路パターンを縮小投影して露光する縮小投影
露光方式がある。
に近接して等倍投影し露光する近接投影露光方式ミラー
を使用して所定断面の光ビームで半導体ウェハを掃引露
光するミラー投影露光方式、・そしてレンズを使用して
マスクの回路パターンを縮小投影して露光する縮小投影
露光方式がある。
いずれの露光方式においてもマスクもしくはレチクルは
レチクルチャックに配置され、負圧をかけて吸着保持し
ている。すなわち、レチクルチャックは露光区域外のレ
チクルのパターン面側で平面支持しているのであるが、
このチャック支持面とレチクルとの間に塵が入ると焦点
ずれを生じて半導体ウェハ側には片ボケとなって現われ
、解像性能を低下させる。特に縮小投影露光方式におい
てはレチクルの片ボケは半導体ウェハの全チップにおい
て発生する。このためレチクルとチャックのゴミ管理が
半導体デバイスの生産上重要な関心事となっている。し
かるに露光装置内のレチクル設定位置は照明系、オート
アライメント系等の配置関係から一般に保守管理の困難
な場所になっている。
レチクルチャックに配置され、負圧をかけて吸着保持し
ている。すなわち、レチクルチャックは露光区域外のレ
チクルのパターン面側で平面支持しているのであるが、
このチャック支持面とレチクルとの間に塵が入ると焦点
ずれを生じて半導体ウェハ側には片ボケとなって現われ
、解像性能を低下させる。特に縮小投影露光方式におい
てはレチクルの片ボケは半導体ウェハの全チップにおい
て発生する。このためレチクルとチャックのゴミ管理が
半導体デバイスの生産上重要な関心事となっている。し
かるに露光装置内のレチクル設定位置は照明系、オート
アライメント系等の配置関係から一般に保守管理の困難
な場所になっている。
〔発明の目的］
本発明の目的は、レチクルとチャック支持面との岡に塵
が侵入してもそれによりレチクルとチャック支持面との
厳密な平行性が崩されることはなく、常にチャック支持
面に対するレチクルの適正配置を保証しているレチクル
チャックを提供することである。
が侵入してもそれによりレチクルとチャック支持面との
厳密な平行性が崩されることはなく、常にチャック支持
面に対するレチクルの適正配置を保証しているレチクル
チャックを提供することである。
本発明に従ってレチクルチャックに点接触支持面を有す
る支持体を使用し、従来の面対面接触に代えて点対面接
触とし、侵入した塵はチャック面に植立する支持体によ
り形成される空間内に取込めるようにして前記の目的を
達成しているのである。
る支持体を使用し、従来の面対面接触に代えて点対面接
触とし、侵入した塵はチャック面に植立する支持体によ
り形成される空間内に取込めるようにして前記の目的を
達成しているのである。
［実施例］
第１図は本発明の多点支持レチクルチャックの平面図で
あり、第２図はそれの側面図で、支持部分を一部破壊し
て示している。これらの図において１は点接触支持部を
有する支持体であり、２はこの支持体へレチクルを保持
する吸着圧の漏洩を阻止する弾性吸盤である。支持体と
弾性吸盤とのアセンブリー１０は負圧をレチクル４に加
える吸気口５を包囲するように配置されている。３はレ
チクルチャックのベースを示す。
あり、第２図はそれの側面図で、支持部分を一部破壊し
て示している。これらの図において１は点接触支持部を
有する支持体であり、２はこの支持体へレチクルを保持
する吸着圧の漏洩を阻止する弾性吸盤である。支持体と
弾性吸盤とのアセンブリー１０は負圧をレチクル４に加
える吸気口５を包囲するように配置されている。３はレ
チクルチャックのベースを示す。
第３図は第２図の一点鎖線で包囲した部分を拡大して示
す。支持体１は半球であって、レチクル４の周縁下面と
点接触している。図に示すようにこれらの半球支持体１
は吸気口５の付近に配置され、そしてこれらの支持体１
を包囲する形で弾性吸！８２が設けられている。塵がこ
の個所に侵入しても半球支持体１の間に取込まれ、その
上のレチクル４に当ってこれを押上げレチクル４を傾斜
させるという゛怖れは全くない。
す。支持体１は半球であって、レチクル４の周縁下面と
点接触している。図に示すようにこれらの半球支持体１
は吸気口５の付近に配置され、そしてこれらの支持体１
を包囲する形で弾性吸！８２が設けられている。塵がこ
の個所に侵入しても半球支持体１の間に取込まれ、その
上のレチクル４に当ってこれを押上げレチクル４を傾斜
させるという゛怖れは全くない。
第４図は点支持体１と弾性吸盤２との配置関係が第３図
と反対になっている別の実施例を示す。
と反対になっている別の実施例を示す。
第５図は第１ないし３図の実施例を斜視図で示している
。
。
レチクルチャックの環状隆起部の頂面の全周に沿って連
続的に弾性吸盤を配置し、その内側に点支持体を配置し
てもよいし、またそのように配置した弾性吸盤の外側に
点支持体を配置してもよい。
続的に弾性吸盤を配置し、その内側に点支持体を配置し
てもよいし、またそのように配置した弾性吸盤の外側に
点支持体を配置してもよい。
［発明の効果］
本発明によりレチクルとチャック支持面との間に塵が侵
入してもそれによりレチクルが押上げられ傾斜して片ボ
ケを投影像に生ぜしめるという事 ５態は回避され、レ
チクルチャックの保守管理が容易となった。
入してもそれによりレチクルが押上げられ傾斜して片ボ
ケを投影像に生ぜしめるという事 ５態は回避され、レ
チクルチャックの保守管理が容易となった。
第１図は本発明の多点支持レチクルチャックの平面図で
あり、第２図はそれの側面図である。 第３図は第２図の一点鎖線で包囲した区域の拡大図であ
る。 第４図は第３図と同様の図であるが、別の実施例を示す
。 第５図は第１．２及び３図に示す実施例の斜視図である
。 図中：に点支持体、２：弾性吸盤、３ニレチクルチヤツ
クのベース、４ニレチクル、５：吸気口。
あり、第２図はそれの側面図である。 第３図は第２図の一点鎖線で包囲した区域の拡大図であ
る。 第４図は第３図と同様の図であるが、別の実施例を示す
。 第５図は第１．２及び３図に示す実施例の斜視図である
。 図中：に点支持体、２：弾性吸盤、３ニレチクルチヤツ
クのベース、４ニレチクル、５：吸気口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、点接触支持部を有する支持体と、 この支持体へレチクルを保持する吸着圧の漏洩を阻止す
る弾性吸盤と を備えることを特徴とする多点支持レチクルチャック。 ２、前記の支持体がピンである特許請求の範囲第１項記
載の多点支持レチクルチャック。 ３、前記の弾性吸盤が前記の支持体を包囲している特許
請求の範囲第１項または２項に記載の多点支持レチクル
チャック。 ４、前記の支持体が前記の弾性吸盤を包囲している特許
請求の範囲第１項または２項に記載の多点支持レチクル
チャック。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60240457A JPS62100753A (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 多点支持レチクルチヤツク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60240457A JPS62100753A (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 多点支持レチクルチヤツク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62100753A true JPS62100753A (ja) | 1987-05-11 |
Family
ID=17059781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60240457A Pending JPS62100753A (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 多点支持レチクルチヤツク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62100753A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312948A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-21 | Nikon Corp | 基板ホルダ |
| JP2005235890A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Canon Inc | 露光装置 |
| JP2006041302A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Canon Inc | 露光装置 |
-
1985
- 1985-10-29 JP JP60240457A patent/JPS62100753A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312948A (ja) * | 1989-06-12 | 1991-01-21 | Nikon Corp | 基板ホルダ |
| JP2005235890A (ja) * | 2004-02-18 | 2005-09-02 | Canon Inc | 露光装置 |
| JP2006041302A (ja) * | 2004-07-29 | 2006-02-09 | Canon Inc | 露光装置 |
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