JP2006319065A5 -

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液体を介してウェハを露光する露光装置であって、
レチクルのパターンを前記ウェハに投影する投影光学系と、
前記ウェハをチャックで保持し、移動するステージとを備え、
前記ステージは、前記チャックで保持された前記ウェハの周辺に配置され、前記ウェハとともに前記液体を支持する板を有し、
その板の前記液体と接触する表面には、配列間隔が５０ｎｍ乃至５００μｍ，突起高さが５０ｎｍ乃至２００μｍである微細構造が形成されていることを特徴とする露光装置。
前記板の前記液体と接触する表面の材質は、Ｓｉ，ＳｉＣ，ＳｉＮ，Ａｌ _２Ｏ _３またはＳｉＯ _２であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
前記板は、交換可能であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
前記板の前記液体と接触する表面の接触角は、３０°以上であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
請求項１乃至４のうちいずれか一項記載の露光装置を用いてウェハを露光するステップと、
その露光されたウェハを現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。