JP6466597B2 - サポート装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
サポート装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6466597B2 JP6466597B2 JP2017556857A JP2017556857A JP6466597B2 JP 6466597 B2 JP6466597 B2 JP 6466597B2 JP 2017556857 A JP2017556857 A JP 2017556857A JP 2017556857 A JP2017556857 A JP 2017556857A JP 6466597 B2 JP6466597 B2 JP 6466597B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- extractor
- holder
- liquid
- extract
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 243
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 49
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 31
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 30
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 15
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 14
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 141
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 103
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 36
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000005514 two-phase flow Effects 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000012782 phase change material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrafluoroethane Chemical compound FCC(F)(F)F LVGUZGTVOIAKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002449 FKM Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006094 Zerodur Substances 0.000 description 1
- 206010000496 acne Diseases 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/42—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera for automatic sequential copying of the same original
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本出願は、2015年4月29日に出願された欧州出願15165563.6号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
本発明は、サポート装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。
テーブル面および凹部を有する対象物テーブルと、
凹部内に嵌合して対象物面を有する対象物を支持するよう構成され、対象物面とテーブル面とが実質的に同一平面上となるようにする対象物ホルダと、
凹部内かつ対象物ホルダの径方向外側にある抽出体であって、流体を抽出するよう構成される抽出開口を備え、抽出体が対象物ホルダおよび対象物テーブルから実質的に分離するように対象物ホルダおよび対象物テーブルの双方から離間する抽出体と、
抽出体と対象物ホルダの間の隙間をシールするためのシール装置であって、抽出体および対象物ホルダの一方のみに固定される可撓性部材を備えるシール装置と、を備える。
テーブル面および凹部を有する対象物テーブルと、
凹部内に嵌合して対象物面を有する対象物を支持するよう構成され、対象物面とテーブル面とが実質的に同一平面上となるようにする対象物ホルダと、
凹部内かつ対象物ホルダの径方向外側にある抽出体であって、流体を抽出するよう構成される抽出開口を備え、抽出体が対象物ホルダおよび対象物テーブルから実質的に分離するように対象物ホルダおよび対象物テーブルの双方から離間する抽出体と、を備え、
抽出体は、対象物ホルダの外周面に対向する内面を有し、その内面の毛細管部分は、外周面と毛細管部分の間に毛細管ギャップが形成されるように構成される。
サポート装置は、
テーブル面および凹部を有する対象物テーブルと、
凹部内に嵌合して対象物面を有する対象物を支持するよう構成され、対象物面とテーブル面とが実質的に同一平面上となるようにする対象物ホルダと、
凹部内かつ対象物ホルダの径方向外側にある抽出体であって、流体を抽出するよう構成される抽出開口を備え、抽出体が対象物ホルダおよび対象物テーブルから実質的に分離するように対象物ホルダおよび対象物テーブルの双方から離間する抽出体と、
抽出体と対象物ホルダの間の隙間をシールするためのシール装置であって、抽出体および対象物ホルダの一方のみに固定される可撓性部材を備えるシール装置と、を備える。
サポート装置は、
テーブル面および凹部を有する対象物テーブルと、
凹部内に嵌合して対象物面を有する対象物を支持するよう構成され、対象物面とテーブル面とが実質的に同一平面上となるようにする対象物ホルダと、
凹部内かつ対象物ホルダの径方向外側にある抽出体であって、流体を抽出するよう構成される抽出開口を備え、抽出体が対象物ホルダおよび対象物テーブルから実質的に分離するように対象物ホルダおよび対象物テーブルの双方から離間する抽出体と、を備え、
抽出体は、対象物ホルダの外周面に対向する内面を有し、その内面の毛細管部分は、外周面と毛細管部分の間に毛細管ギャップが形成されるように構成される。
放射ビームB(例えばUV放射またはDUV放射)を調整するよう構成される照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するよう構築され、特定のパラメータにしたがってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするよう構成される第1位置決め装置PMに接続されるサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
例えば一以上のセンサを支持するセンサテーブルまたは基板(例えばレジストコートされた基板)Wを保持するよう構築される基板サポート装置60であるサポートテーブルであって、特定のパラメータにしたがってテーブルの(例えば基板Wの)表面を正確に位置決めするよう構成される第2位置決め装置PWに接続されるサポートテーブルと、
パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されるパターンを基板Wの(例えばダイの一部、一つのダイ、または二以上のダイを備える)ターゲット部分Cに投影するよう構成される投影システム(例えば屈折型投影レンズシステム)PSと、を備える。
Claims (7)
- リソグラフィ装置用のサポート装置であって、
テーブル面および凹部を有する対象物テーブルと、
前記凹部内に嵌合して対象物面を有する対象物を支持するよう構成され、前記対象物面と前記テーブル面とが実質的に同一平面上となるようにする対象物ホルダと、
前記凹部内かつ前記対象物ホルダの径方向外側にある抽出体であって、流体を抽出するよう構成される抽出開口を備え、前記抽出体が前記対象物ホルダおよび前記対象物テーブルから実質的に分離するように前記対象物ホルダおよび前記対象物テーブルの双方から離間する抽出体と、を備え、
前記抽出体は、前記対象物ホルダの外周面と対向する内面を有し、前記内面の毛細管部分は、前記外周面と前記毛細管部分の間に毛細管ギャップが形成されるように構成されることを特徴とするサポート装置。 - 前記抽出体は、前記毛細管ギャップから流体を抽出するよう構成されるギャップ抽出開口を有することを特徴とする請求項1に記載のサポート装置。
- 前記毛細管部分は、前記内面の一部のみに延在することを特徴とする請求項1または2に記載のサポート装置。
- 前記抽出体は、前記抽出体に熱エネルギーを供給し、および/または、前記抽出体から熱エネルギーを除去するよう構成される抽出体調整システムを備えることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のサポート装置。
- 前記内面および/または前記外周面の少なくとも一部には、その疎水性を増大させるコーティングまたは表面処理が設けられることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のサポート装置。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載のサポート装置を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置を用いるデバイス製造方法であって、サポート装置で基板を支持しながらパターニングデバイスによりパターンが付与されたビームを前記基板に投影することを備え、
前記サポート装置は、
テーブル面および凹部を有する対象物テーブルと、
前記凹部内に嵌合して対象物面を有する対象物を支持するよう構成され、前記対象物面と前記テーブル面とが実質的に同一平面上となるようにする対象物ホルダと、
前記凹部内かつ前記対象物ホルダの径方向外側にある抽出体であって、流体を抽出するよう構成される抽出開口を備え、前記抽出体が前記対象物ホルダおよび前記対象物テーブルから実質的に分離するように前記対象物ホルダおよび前記対象物テーブルの双方から離間する抽出体と、を備え、
前記抽出体は、前記対象物ホルダの外周面と対向する内面を有し、前記内面の毛細管部分は、前記外周面と前記毛細管部分の間に毛細管ギャップが形成されるように構成されることを特徴とするデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP15165563.6 | 2015-04-29 | ||
EP15165563 | 2015-04-29 | ||
PCT/EP2016/056235 WO2016173779A1 (en) | 2015-04-29 | 2016-03-22 | Support apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018515808A JP2018515808A (ja) | 2018-06-14 |
JP6466597B2 true JP6466597B2 (ja) | 2019-02-06 |
Family
ID=53015645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017556857A Active JP6466597B2 (ja) | 2015-04-29 | 2016-03-22 | サポート装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10578959B2 (ja) |
JP (1) | JP6466597B2 (ja) |
NL (1) | NL2016469A (ja) |
WO (1) | WO2016173779A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3455677A1 (en) * | 2016-05-12 | 2019-03-20 | ASML Netherlands B.V. | Extraction body for lithographic apparatus |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4509852A (en) | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
JP3977324B2 (ja) | 2002-11-12 | 2007-09-19 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置 |
EP1429188B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-06-19 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus |
EP2495613B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-07-31 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US7213963B2 (en) | 2003-06-09 | 2007-05-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1699072B1 (en) | 2003-12-03 | 2016-08-31 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method |
KR101119813B1 (ko) * | 2003-12-15 | 2012-03-06 | 가부시키가이샤 니콘 | 스테이지 장치, 노광 장치, 및 노광 방법 |
JP2005302880A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Canon Inc | 液浸式露光装置 |
KR100565674B1 (ko) | 2004-05-21 | 2006-03-30 | 엘지전자 주식회사 | 양방향 유기 el 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
JP2006120889A (ja) | 2004-10-22 | 2006-05-11 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法及びその方法に用いられる半導体ウェハホルダ |
US7230681B2 (en) | 2004-11-18 | 2007-06-12 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for immersion lithography |
JP2006173527A (ja) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Sony Corp | 露光装置 |
JP2006200562A (ja) | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Nikon Corp | シール部材及びシール方法、テーブル及びステージ装置、並びに露光装置 |
JP4708876B2 (ja) | 2005-06-21 | 2011-06-22 | キヤノン株式会社 | 液浸露光装置 |
JP2007235112A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-09-13 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US20070177119A1 (en) * | 2006-02-02 | 2007-08-02 | Keiko Chiba | Exposure apparatus and device manufacturing method |
US7787101B2 (en) * | 2006-02-16 | 2010-08-31 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for reducing contamination in immersion lithography |
US8027019B2 (en) | 2006-03-28 | 2011-09-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007266504A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Canon Inc | 露光装置 |
KR20070109005A (ko) | 2006-05-09 | 2007-11-15 | 삼성전자주식회사 | 기판 스테이지 및 이를 포함하는 이멀젼 노광 장치 |
JP2008078623A (ja) | 2006-08-25 | 2008-04-03 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7791709B2 (en) | 2006-12-08 | 2010-09-07 | Asml Netherlands B.V. | Substrate support and lithographic process |
US8634052B2 (en) | 2006-12-13 | 2014-01-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method involving a ring to cover a gap between a substrate and a substrate table |
JP4961299B2 (ja) | 2007-08-08 | 2012-06-27 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
EP2131242A1 (en) * | 2008-06-02 | 2009-12-09 | ASML Netherlands B.V. | Substrate table, lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2010034227A (ja) | 2008-07-28 | 2010-02-12 | Nikon Corp | ステ−ジ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
US20100045949A1 (en) | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, maintaining method and device fabricating method |
NL2005478A (en) | 2009-11-17 | 2011-05-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, removable member and device manufacturing method. |
NL2005874A (en) | 2010-01-22 | 2011-07-25 | Asml Netherlands Bv | A lithographic apparatus and a device manufacturing method. |
CN107367907B (zh) | 2012-05-29 | 2019-05-03 | Asml荷兰有限公司 | 支撑装置、光刻装置和器件制造方法 |
-
2016
- 2016-03-22 JP JP2017556857A patent/JP6466597B2/ja active Active
- 2016-03-22 NL NL2016469A patent/NL2016469A/en unknown
- 2016-03-22 WO PCT/EP2016/056235 patent/WO2016173779A1/en active Application Filing
- 2016-03-22 US US15/567,279 patent/US10578959B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018515808A (ja) | 2018-06-14 |
US10578959B2 (en) | 2020-03-03 |
WO2016173779A1 (en) | 2016-11-03 |
NL2016469A (en) | 2016-11-07 |
US20180107107A1 (en) | 2018-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11300890B2 (en) | Lithographic apparatus, support table for a lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP6554445B2 (ja) | 支持装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
JP6318205B2 (ja) | オブジェクトホルダ及びリソグラフィ装置 | |
KR101043358B1 (ko) | 기판 테이블, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
US9798253B2 (en) | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
EP1653283A2 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
US9835957B2 (en) | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
JP5290333B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
CN108292109B (zh) | 衬底保持器、光刻设备及制造器件的方法 | |
EP2267536B1 (en) | Lithographic apparatus | |
US8616598B2 (en) | Apparatus and method for contactless handling of an object | |
JP6649463B2 (ja) | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法 | |
JP6466597B2 (ja) | サポート装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US11385547B2 (en) | Extraction body for lithographic apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181024 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181211 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6466597 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |