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표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
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ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
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Susceptor shaft
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(ko)
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
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(ko)
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2019-06-10 |
2020-12-21 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법
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(ko)
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2019-06-11 |
2020-12-23 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
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美商蘭姆研究公司 |
利用鹵化物化學品的光阻顯影
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교번하는 에칭 및 패시베이션 프로세스
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램 리써치 코포레이션 |
복수의 패터닝 복사-흡수 엘리먼트들 및/또는 수직 조성 경사를 갖는 포토레지스트
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오지 홀딩스 가부시키가이샤 |
패턴 형성 방법, 레지스트 재료, 및 패턴 형성 장치
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
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美商英培雅股份有限公司 |
輻射圖案化組合物在基板上的穩定化界面
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치
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(ko)
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2019-07-17 |
2021-01-28 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
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2019-07-17 |
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에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
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Asmip私人控股有限公司 |
形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
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유기금속성 금속 칼코게나이드 클러스터 및 리소그래피에 대한 적용
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Asm Ip私人控股有限公司 |
实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法
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(ko)
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2021-02-10 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치 및 방법
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CN112309899B
(zh)
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2019-07-30 |
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Asmip私人控股有限公司 |
基板处理设备
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CN112309900B
(zh)
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2019-07-30 |
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Asmip私人控股有限公司 |
基板处理设备
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(en)
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Vertical batch furnace assembly
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Asm Ip Holding B.V. |
Vertical batch furnace assembly
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US11587815B2
(en)
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2019-07-31 |
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Asm Ip Holding B.V. |
Vertical batch furnace assembly
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Patterning process of a semiconductor structure with enhanced adhesion
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Asm Ip私人控股有限公司 |
用于化学源容器的液位传感器
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2019-08-09 |
2021-02-18 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
냉각 장치를 포함한 히터 어셈블리 및 이를 사용하는 방법
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USD965044S1
(en)
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2019-08-19 |
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Susceptor shaft
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USD965524S1
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2019-08-19 |
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Susceptor support
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2019-08-21 |
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エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． |
成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
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USD979506S1
(en)
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Asm Ip Holding B.V. |
Insulator
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(ko)
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2019-08-22 |
2021-03-05 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
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KR20210024420A
(ko)
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2019-08-23 |
2021-03-05 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
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US11286558B2
(en)
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2019-08-23 |
2022-03-29 |
Asm Ip Holding B.V. |
Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
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信越化学工業株式会社 |
レジスト材料及びパターン形成方法
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信越化学工業株式会社 |
レジスト材料及びパターン形成方法
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(ko)
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2025-05-12 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
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KR102733104B1
(ko)
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2019-09-05 |
2024-11-22 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치
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(en)
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Asm Ip Holding B.V. |
Method of forming a carbon-containing layer and structure including the layer
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Asm Ip Holding B.V. |
Substrate processing method
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(zh)
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2019-10-02 |
2023-12-22 |
Asm Ip私人控股有限公司 |
通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
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KR20210042810A
(ko)
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2019-10-08 |
2021-04-20 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
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TWI846953B
(zh)
|
2019-10-08 |
2024-07-01 |
荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
基板處理裝置
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TW202128273A
(zh)
|
2019-10-08 |
2021-08-01 |
荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
氣體注入系統、及將材料沉積於反應室內之基板表面上的方法
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KR102879443B1
(ko)
|
2019-10-10 |
2025-11-03 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
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US12009241B2
(en)
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2019-10-14 |
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Asm Ip Holding B.V. |
Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
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KR102446459B1
(ko)
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2019-10-15 |
2022-09-21 |
삼성에스디아이 주식회사 |
반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
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KR102446362B1
(ko)
*
|
2019-10-15 |
2022-09-21 |
삼성에스디아이 주식회사 |
반도체 포토 레지스트용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
|
|
TWI834919B
(zh)
|
2019-10-16 |
2024-03-11 |
荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法
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US11637014B2
(en)
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2019-10-17 |
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Asm Ip Holding B.V. |
Methods for selective deposition of doped semiconductor material
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KR102845724B1
(ko)
|
2019-10-21 |
2025-08-13 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
|
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KR20210050453A
(ko)
|
2019-10-25 |
2021-05-07 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
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2023-01-23 |
2024-08-02 |
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EP4641300A1
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2023-02-03 |
2025-10-29 |
Nissan Chemical Corporation |
Composition for forming resist underlayer film to reduce environmental impact
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KR20250144998A
(ko)
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2023-02-09 |
2025-10-13 |
닛산 가가쿠 가부시키가이샤 |
레지스트 하층막 형성 조성물
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JP2024116024A
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2023-02-15 |
2024-08-27 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
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JPWO2024181330A1
(cg-RX-API-DMAC7.html)
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2023-02-27 |
2024-09-06 |
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KR20250160464A
(ko)
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2023-02-28 |
2025-11-13 |
닛산 가가쿠 가부시키가이샤 |
탄소-탄소 이중 결합을 가지는 실리콘 함유 레지스트 하층막 형성용 조성물
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EP4435516A1
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2023-03-16 |
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Method for forming resist underlayer film and patterning process
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朗姆研究公司 |
用于单一处理室中euv图案化的干法显影与蚀刻工艺的集成
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2023-03-24 |
2025-11-11 |
닛산 가가쿠 가부시키가이샤 |
광학 회절체 제조용 레지스트 하층막 형성용 조성물
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2023-03-30 |
2025-11-25 |
日产化学株式会社 |
抗蚀剂下层膜形成用组合物
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JPWO2024204764A1
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2023-04-25 |
2025-11-28 |
默克专利有限公司 |
抗蚀剂图案填充液以及使用其来制造抗蚀剂图案的方法
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2023-05-09 |
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日商日產化學股份有限公司 |
阻劑下層膜形成用組成物
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KR20240170272A
(ko)
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2023-05-26 |
2024-12-03 |
삼성에스디아이 주식회사 |
금속 함유 포토레지스트 현상액 조성물, 및 이를 이용한 현상 단계를 포함하는 패턴 형성 방법
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WO2024246119A1
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2023-05-31 |
2024-12-05 |
Merck Patent Gmbh |
Organometallic tin oxo carboxylate clusters with mixed organic ligands for euv lithography
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WO2025024029A1
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2023-07-27 |
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Metal organic resist photosensitivity improvement using carboxylic acid
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Merck Patent Gmbh |
Organometallic cluster containing sulfur for euv lithography background
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2023-08-28 |
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信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
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JP2025032875A
(ja)
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2023-08-28 |
2025-03-12 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、及びパターン形成方法
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WO2025059115A1
(en)
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2023-09-12 |
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Inpria Corporation |
Organotin photoresist compositions having fluoride generator compounds, fluorinated organotin coatings and patterning
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(zh)
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2023-09-13 |
2025-08-01 |
德商馬克專利公司 |
具有改良熱及光穩定性之分子內穩定化單烷基金屬化合物及其用途
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KR102767194B1
(ko)
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2023-09-22 |
2025-02-14 |
전남대학교산학협력단 |
주석-산소 이중결합을 포함하는 주석 화합물, 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
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TW202532421A
(zh)
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2023-11-08 |
2025-08-16 |
德商馬克專利公司 |
具有含線性或環狀酯官能基之羧酸配位子的有機金屬錫氧羧酸酯團簇
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JP2025093759A
(ja)
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2023-12-12 |
2025-06-24 |
東京エレクトロン株式会社 |
基板処理方法、プラズマ処理装置
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JP2025099570A
(ja)
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2023-12-22 |
2025-07-03 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
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JP2025099887A
(ja)
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2023-12-22 |
2025-07-03 |
信越化学工業株式会社 |
金属含有膜形成用化合物、金属含有膜形成用組成物、パターン形成方法
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US20250270240A1
(en)
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2024-02-23 |
2025-08-28 |
Inpria Corporation |
Organometallic compositions with polyene ligands, radiation sensitive coatings with bridging organic ligands and patterning
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US20250271755A1
(en)
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2024-02-28 |
2025-08-28 |
Inpria Corporation |
Controlled environment processing, rest steps, and baking processes for metal oxide-based resist patterning
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WO2025226903A1
(en)
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2024-04-25 |
2025-10-30 |
Inpria Corporation |
Peroxide-stabilized organotin photoresist compositions and patterning
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