JP4415939B2 - 露光方法、基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板に露光する露光方法、基板を支持する基板ステージ、露光装置、及びデバイス製造方法に関するものである。
R=k1・λ/NA … (1)
δ=±k2・λ/NA2 … (2)
光学素子2は螢石で形成されている。螢石は水との親和性が高いので、光学素子2の液体接触面2aのほぼ全面に液体1を密着させることができる。すなわち、本実施形態においては光学素子2の液体接触面2aとの親和性が高い液体(水)1を供給するようにしているので、光学素子2の液体接触面2aと液体1との密着性が高く、光学素子2と基板Pとの間の光路を液体1で確実に満たすことができる。なお、光学素子2は水との親和性が高い石英であってもよい。また光学素子2の液体接触面2aに親水化(親液化)処理を施して、液体1との親和性をより高めるようにしてもよい。また、鏡筒PKは、その先端付近が液体(水)1に接することになるので、少なくとも先端付近はTi(チタン)等の錆びに対して耐性のある金属で形成される。
こうすることによっても、支持部34に支持された基板Pのノッチ部NTとプレート部30の平坦面31とのギャップを小さくすることができる。更に、プレート部30の平坦面31と内側面36と同様に、突起部材152の上面や側面を撥液処理するなどして撥液性にすることで、液体1の浸入をより効果的に防止することができる。
露光装置EXとしては、マスクMと基板Pとを同期移動してマスクMのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置(スキャニングステッパ)の他に、マスクMと基板Pとを静止した状態でマスクMのパターンを一括露光し、基板Pを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置(ステッパ)にも適用することができる。また、本発明は基板P上で少なくとも2つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
Claims (47)
- 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することによって前記基板を露光する露光方法において、
前記基板の側面が撥液処理されていることを特徴とする露光方法。 - 前記基板の裏面が撥液処理されていることを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することによって前記基板を露光する露光方法において、
前記基板の裏面が撥液処理されていることを特徴とする露光方法。 - 請求項1〜請求項3のいずれか一項記載の露光方法を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
- 投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することによって前記基板を露光する液浸露光に用いられ、前記基板を保持して移動可能な基板ステージにおいて、
少なくとも一部の表面が撥液性であることを特徴とする基板ステージ。 - 周壁とその内側に配置された複数の支持部とを備え、
前記基板は、前記周壁に囲まれた空間を負圧にすることによって前記支持部に保持され、
前記周壁の上面は撥液性であることを特徴とする請求項5記載の基板ステージ。 - 前記周壁の高さは前記支持部の高さよりも低いことを特徴とする請求項6記載の基板ステージ。
- 前記基板の周囲に前記基板の表面とほぼ同じ高さの平坦部を有し、
前記平坦部の少なくとも一部の表面が撥液性であることを特徴とする請求項5に記載の基板ステージ。 - 前記平坦部の内側に前記基板が配置される凹部が形成され、
前記凹部は、前記平坦部に隣接する内側面を備え、
前記内側面の少なくとも一部が撥液性であることを特徴とする請求項8記載の基板ステージ。 - 前記基板を保持するための基板ホルダを備え、
前記基板ホルダは、周壁とその内側に配置された支持部とを備え、
前記周壁に囲まれた空間を負圧にすることによって前記支持部に前記基板を保持することを特徴とする請求項5記載の基板ステージ。 - 前記基板ホルダの少なくとも一部の表面が撥液性であることを特徴とする請求項10記載の基板ステージ。
- 前記周壁の上面が撥液性であることを特徴とする請求項11記載の基板ステージ。
- 前記基板ホルダは着脱可能であり、
前記基板ホルダとの接触面が撥液性であることを特徴とする請求項10に記載の基板ステージ。 - 前記基板ホルダは着脱可能であり、
前記基板ホルダの裏面が撥液性であることを特徴とする請求項10に記載の基板ステージ。 - 前記基板の周囲に前記基板の表面とほぼ同じ高さの平坦部を有し、
前記平坦部の内側に前記基板が配置される凹部が形成され、
前記凹部は、前記平坦部に隣接する内側面を有することを特徴とする請求項10に記載の基板ステージ。 - 前記平坦部の少なくとも一部の表面が撥液性であることを特徴とする請求項15記載の基板ステージ。
- 前記内側面の少なくとも一部が撥液性であることを特徴とする請求項15又は16記載の基板ステージ。
- 前記凹部に前記基板ホルダが配置され、
前記凹部の内側面に対向する前記基板ホルダの側面の少なくとも一部が撥液性であることを特徴とする請求項15に記載の基板ステージ。 - 前記凹部に前記基板ホルダが配置され、
前記凹部の内側面と前記基板ホルダの側面との間の空間を陽圧化することを特徴とする請求項15に記載の基板ステージ。 - 前記凹部に前記基板ホルダが配置され、
前記凹部の内側面と前記基板ホルダの側面との間の空間に液体を保持可能であることを特徴とする請求項15に記載の基板ステージ。 - 前記凹部に前記基板ホルダが配置され、
前記凹部の内側面と前記基板ホルダの側面との間の空間に流入した液体を回収する回収手段を備えたことを特徴とする請求項15に記載の基板ステージ。 - 前記凹部の内側面と前記基板ホルダの側面との間の空間の圧力を、前記周壁に囲まれた空間の圧力よりも低くすることを特徴とする請求項15に記載の基板ステージ。
- 前記基板の側面が撥液処理されていることを特徴とする請求項5に記載の基板ステージ。
- 前記基板の裏面が撥液処理されていることを特徴とする請求項5に記載の基板ステージ。
- 前記基板は、位置合わせのための切り欠きが形成されていないことを特徴とする請求項5記載の基板ステージ。
- 周壁とその内側に形成された支持部とを備え、
前記周壁に囲まれた空間を負圧することによって、前記支持部に前記基板を保持することを特徴とする請求項8記載の基板ステージ。 - 前記基板と前記平坦部との間から前記周壁の外側の空間に浸入した液体を回収する回収部を備えたことを特徴とする請求項26記載の基板ステージ。
- 前記平坦部の内側に前記基板が配置される凹部が形成され、
前記凹部は、前記基板の側面と対向する内側面を有し、
前記内側面の少なくとも一部が撥液性であることを特徴とする請求項27記載の基板ステージ。 - 前記周壁の上面は、撥液性であることを特徴とする請求項28記載の基板ステージ。
- 前記周壁は、前記支持部よりも低いことを特徴とする請求項29記載の基板ステージ。
- 周壁とその内側に形成された支持部とを備え、
前記周壁に囲まれた空間を負圧することによって、前記支持部に前記基板を保持することを特徴とする請求項5記載の基板ステージ。 - 前記支持部に支持された前記基板の周囲に、前記基板の表面とほぼ面一の面を形成する平坦部と、
前記平坦部の内側に前記基板が配置される凹部が形成され、
前記凹部は、前記基板の側面と対向する内側面を有し、
前記内側面の少なくとも一部が撥液性であることを特徴とする請求項31記載の基板ステージ。 - 前記基板と前記平坦部との間から前記周壁の外側の空間に浸入した液体を回収する回収部を有することを特徴とする請求項32記載の基板ステージ。
- 前記周壁の上面は、撥液性であることを特徴とする請求項33記載の基板ステージ。
- 前記周壁は、前記支持部よりも低いことを特徴とする請求項34記載の基板ステージ。
- 請求項5〜請求項35のいずれか一項記載の基板ステージを備えたことを特徴とする露光装置。
- 請求項36に記載の基板ステージを備えた露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
- 前記平坦部の内側に前記基板が配置される凹部が形成され、
前記凹部に配置された前記基板の表面と、前記平坦部の高さとがほぼ同じ高さであることを特徴とする請求項8記載の基板ステージ。 - 前記平坦部の少なくとも一部は、前記液体に対して非溶解性の材料により撥液性が付与されていることを特徴とする請求項8又は38記載の基板ステージ。
- 前記平坦部の少なくとも一部は、フッ素系樹脂材料により撥液性が付与されていることを特徴とする請求項39記載の基板ステージ。
- 前記平坦部の少なくとも一部は、アクリル系樹脂材料により撥液性が付与されていることを特徴とする請求項39記載の基板ステージ。
- 前記凹部は前記平坦部と隣接した内側面を有し、前記内側面の少なくとも一部が撥液性を有することを特徴とする請求項38〜41のいずれか一項記載の基板ステージ。
- 前記凹部に前記基板を保持する基板ホルダを有し、
前記凹部の内側面と前記基板ホルダの側面との間の空間に流入した液体を回収する回収手段を備えたことを特徴とする請求項38記載の基板ステージ。 - 前記平坦部は着脱可能に設けられていることを特徴とする請求項38〜43のいずれか一項記載の基板ステージ。
- 請求項38〜44のいずれか一項記載の基板ステージを備え、
前記液体によって前記基板上の一部に形成される液浸領域を介して前記基板を露光することを特徴とする露光装置。 - 前記液浸領域は、前記基板のエッジ領域を液浸露光する際、前記基板の一部と前記平坦部の一部とにまたがって形成されることを特徴とする請求項45記載の露光装置。
- 請求項45又は46記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
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