JP2015135967A - 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置は、投影光学系が配置される第1領域と、第1領域と異なる第2領域とを含む所定領域内で、基板を載置して移動可能な第1ステージWST1と、所定領域内で移動可能な第2ステージWST2と、第1、第2ステージをそれぞれ第1、第2領域の一方から他方に移動するとともに、所定領域内で第1、第2ステージを独立に移動するリニアモータシステム82、84、83、85と、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第1ステージとの間に液浸領域が維持される第1状態と、投影光学系と第2ステージとの間に液浸領域が維持される第2状態との一方が他方に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、リニアモータシステムによって、投影光学系の下方で第1、第2ステージを移動する制御システムと、を備える。
【選択図】図7
Description
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1はプロセス係数である。この式(1)より、使用する露光波長(露光光の波長)が短くなるほど、また投影光学系の開口数(NA)が大きいほど、解像度Rは高くなる。そのため、集積回路の微細化に伴い投影露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、今日では、KrFエキシマレーザ(波長248nm)より短波長のArFエキシマレーザ(波長193nm)を光源とする露光装置も実用化されている。また、投影光学系の開口数も次第に増大してきている。
本発明の他の態様に従えば、上記の露光装置を用いて基板を露光することと、前記露光された基板を現像することとを含むデバイス製造方法が提供される。
本発明のさらに他の態様に従えば、投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光方法であって、前記投影光学系が配置される第1領域と異なる第2領域に配置され、前記基板に計測ビームを照射して前記基板の位置情報を計測する計測系と、前記投影光学系との下方に配置されるベース部材上で、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域と接触可能な上面と、前記上面の開口内に設けられるホルダと、を有し、前記開口内で前記ホルダによって前記基板を保持可能な第1ステージと、前記液浸領域と接触可能な上面と、前記投影光学系と前記液体とを介して前記照明光を検出する計測部材と、を有し、前記第1ステージに対して相対移動可能な第2ステージと、を浮上支持することと、前記ベース部材上で浮上支持される前記第1、第2ステージを駆動する電磁モータによって、前記基板の露光が行われる前記第1領域と前記基板の計測および交換が行われる前記第2領域との一方から他方に前記第1ステージを移動することと、前記投影光学系と対向して配置される前記第1、第2ステージの一方に対して前記第1、第2ステージの他方が接近するように、前記第1、第2ステージを相対移動するとともに、前記投影光学系の下に前記液浸領域を実質的に維持しつつ前記一方のステージの代わりに前記他方のステージが前記投影光学系と対向して配置されるように、前記投影光学系の光軸と直交する所定方向に関して、前記投影光学系に対して前記接近した第1、第2ステージを移動することと、を含み、前記第1ステージに保持される基板の交換が行われるように搬送系によって前記第2領域の交換位置に基板が搬送される露光方法が提供される。
本発明のさらに他の態様に従えば、上記の露光方法を用いて基板を露光することと、前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
本発明は、第1の観点からすると、液体が局所的に供給される2次元面内の第1領域と該第1領域の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で、第1ステージと第2ステージとを独立して駆動するステージ駆動方法において、前記第1、第2ステージのうちの一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが、前記第1軸方向に交差する第2軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1、第2ステージを前記第2軸方向に同時に駆動することを特徴とする第1のステージ駆動方法である。
以下、本発明の第1の実施形態を図1〜図10に基づいて説明する。
また、ウエハの移動方向とは無関係に、供給ノズル21a〜21c,22a〜22c,27a,28aから液体Lqを供給しつづけ、回収ノズル23a,23b,24a,24b,29a,29b,30a,30bから液体Lqを回収し続けるようにしても良い。また、液体給排システムは上述の図4の形態に限られず、投影光学系PLの像面側に液浸領域を形成することができれば、いろいろな形態を適用することができる。
なお焦点位置検出系は、ウエハ表面の位置情報を液体を介して検出するものであっても良いし、液体を介さずに検出するものであっても良い。また焦点位置検出系は、投影光学系PLの像面側でウエハ表面の位置情報を検出するものに限られず、投影光学系PLから離れた場所でウエハ表面の位置情報を検出するものであっても良い。
次に、本発明の第2の実施形態を図11〜図15(B)に基づいて説明する。ここで、前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。この第2の実施形態の露光装置では、ウエハステージ装置の構成等、及び2つのウエハステージを用いた並行処理動作が前述の第1の実施形態と異なる。また、マーク検出系が1つのみ設けられている点が、前述の第1の実施形態と異なる。その他の部分の構成等は、前述の第1の実施形態と同様になっている。従って、以下では重複説明を避ける観点から相違点を中心として説明する。
次に、本発明の第3の実施形態について、図16〜図18(B)に基づいて説明する。ここで、前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。この第3の実施形態の露光装置では、ウエハステージ装置の構成等が前述した第1の実施形態と異なるのみで、その他の部分の構成は、同様になっている。従って、以下では重複説明を避ける観点から相違点を中心として説明する。
次に、本発明の第4の実施形態について、図20〜図23(B)に基づいて説明する。ここで、前述した第3の実施形態と同一若しくは同等の部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。この第4の実施形態の露光装置では、ウエハステージ装置の構成(干渉計の配置を含む)が前述した第3の実施形態と一部相違するのみで、その他の部分の構成等は、その第3の実施形態の装置と同様になっている。従って、以下では重複説明を避ける観点から相違点を中心として説明する。
次に上記各実施形態の露光装置をリソグラフィ工程で使用するデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
Claims (100)
- 投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系が配置される第1領域と異なる第2領域に配置され、前記基板に計測ビームを照射して、前記基板の位置情報を計測する計測系と、
前記投影光学系および前記計測系の下方に配置されるベース部材と、
前記ベース部材上に配置されるとともに、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域と接触可能な上面と、前記上面の開口内に設けられるホルダと、を有し、前記開口内で前記ホルダによって前記基板を保持可能な第1ステージと、
前記ベース部材上に配置されるとともに、前記液浸領域と接触可能な上面と、前記投影光学系と前記液体とを介して前記照明光を検出する計測部材と、を有し、前記第1ステージに対して相対移動可能な第2ステージと、
前記第1ステージに保持される基板の交換が行われるように前記第2領域の交換位置に基板を搬送する搬送系と、
前記ベース部材上で浮上支持される前記第1、第2ステージを駆動する電磁モータを有し、前記基板の露光が行われる前記第1領域と前記基板の計測および交換が行われる前記第2領域との一方から他方に前記第1ステージが移動されるように前記電磁モータによって前記第1ステージを駆動する駆動システムと、
前記駆動システムによる前記第1、第2ステージの駆動を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記投影光学系と対向して配置される前記第1、第2ステージの一方に対して前記第1、第2ステージの他方が接近するように、前記第1、第2ステージを相対移動するとともに、前記投影光学系の下に前記液浸領域を実質的に維持しつつ前記一方のステージの代わりに前記他方のステージが前記投影光学系と対向して配置されるように、前記投影光学系の光軸と直交する所定方向に関して、前記投影光学系に対して前記接近した第1、第2ステージを移動する。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記基板の露光動作において、前記基板の一部に前記液浸領域が位置し、かつ前記液浸領域に対して前記基板が相対移動するように前記第1ステージが駆動される。 - 請求項1又は2に記載の露光装置において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われるとともに、前記計測系によって前記液体を介すことなくマークの検出が行われる。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動において、前記液浸領域は、前記接近した第1、第2ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持されつつ前記一方のステージから前記他方のステージに移動される。 - 請求項4に記載の露光装置において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記1、第2ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、前記一方のステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持しつつ、前記所定方向に関して前記他方のステージが前記一方のステージに接近するように相対移動される。 - 請求項6に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。 - 請求項6又は7に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、前記所定方向に関して接近しつつ、前記所定方向と交差する方向に関してその位置関係が調整されるように相対移動される。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が実質的に維持される、あるいは前記第1、第2ステージの間隙からの液体の漏出が防止又は抑制されるように近接した状態、又は接触した状態となるまで相対移動され、
前記接近した第1、第2ステージは、前記近接又は接触した状態が実質的に維持されつつ、前記投影光学系に対して前記所定方向に移動される。 - 請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記接近した第1、第2ステージは、前記所定方向に関して前記上面が並置され、前記上面の境界又は間隙が前記液浸領域の下を通るように、前記投影光学系に対して前記所定方向に移動される。 - 請求項1〜10のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1ステージは、前記投影光学系と前記液体とを介して前記照明光を検出する計測部材を有し、
前記第2ステージは、前記上面の開口内に設けられるホルダを有し、前記開口内で前記ホルダによって基板を保持可能である。 - 請求項11に記載の露光装置において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動の前後でそれぞれ、前記第1ステージと前記第2ステージとで互いに異なる動作が並行して行われるように、前記第1、第2領域の一方で前記第1ステージが移動されるとともに、前記第1、第2領域の他方で前記他方のステージが移動される。 - 請求項11又は12に記載の露光装置において、
前記第1ステージと前記第2ステージとで互いに異なる動作が行われるように、前記第1領域で前記一方のステージが移動されるとともに、前記第2領域で前記他方のステージが移動され、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動に先立ち、前記他方のステージが、前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項11〜13のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記一方のステージに保持される基板の露光動作と並行して、前記計測系による、前記他方のステージに保持される基板の計測動作が実行され、前記他方のステージは、前記基板の計測動作後、前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項11〜14のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のステージが、前記第1領域から前記第2領域に移動されるとともに、前記投影光学系と対向して配置される前記他方のステージに保持される基板の露光が行われる。 - 請求項15に記載の露光装置において、
前記他方のステージに保持される基板の露光動作と並行して、前記第2領域において前記一方のステージに保持される基板の交換が行われる。 - 請求項11〜16のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1ステージに保持される基板の露光動作と、前記第2ステージに保持される基板の露光動作とが交互に行われ、前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動はその露光動作の間に行われる。 - 請求項11〜17のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。 - 請求項11〜18のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージの少なくとも一方に設けられ、前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動において、前記接近した第1、第2ステージの間隙からの前記液浸領域の液体の漏れを抑制する抑制部材を、さらに備える。 - 請求項19に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含む。 - 請求項19に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、少なくとも一部が前記接近した第1、第2ステージの間隙に位置するカバー部材を含み、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ、前記カバー部材を通じて前記一方のステージから前記他方のステージに移動される。 - 請求項21に記載の露光装置において、
前記カバー部材はその表面が前記接近した第1、第2ステージの上面とほぼ同一面となるように配置される。 - 請求項21又は22に記載の露光装置において、
前記カバー部材はその表面が前記少なくとも一方のステージの上面よりも外側に突出して配置される。 - 請求項21〜23のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記カバー部材は、前記第1、第2ステージにそれぞれ設けられ、
前記第1ステージのカバー部材は、前記一方のステージの代わりに前記他方のステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動で用いられ、
前記第2ステージのカバー部材は、前記他方のステージの代わりに前記一方のステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動で用いられる。 - 請求項11〜24のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記上面と前記基板の表面との間に間隙が形成され、かつ前記上面と前記基板の表面とが実質的に同一面となるように、前記開口内で前記ホルダによって前記基板を保持するとともに、前記上面によって、前記開口内で前記ホルダに保持される基板の表面から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を維持する。 - 請求項25に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記上面に設けられる基準を有し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して、前記基準を用いる計測が行われるように移動される。 - 請求項26に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記計測系によって前記基準が検出されるように移動される。 - 請求項26又は27に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記開口と異なる、前記上面の開口内に配置されるとともに、前記基準が表面に形成される基準部材を有する。 - 請求項28に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記基準が形成される表面が前記上面と実質的に同一面となるように前記基準部材が設けられる。 - 請求項26〜29のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動に続いて前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光を前記基準に照射するため、前記基準が前記液浸領域の下に配置されるように移動され、
前記基準を用いる計測に続いて前記基板の露光が行われる。 - 請求項11〜30のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われるとともに、前記走査露光中、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向と交差する方向に移動される。 - 請求項11〜31のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測系は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系から離れて配置される。 - 請求項11〜32のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2領域は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向と交差する方向に関して位置が異なる。 - 請求項11〜31のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測系は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向に関して前記投影光学系から離れて配置される。 - 請求項11〜31、34に記載の露光装置において、
前記第1、第2領域は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向に関して位置が異なる。 - 請求項11〜35のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは互いに異なる経路で前記第1領域から前記第2領域に移動される。 - 請求項11〜36のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは互いに異なる経路で前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項11〜37のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。 - 請求項11〜38のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで経路が実質的に同一となるように移動される。 - 請求項11〜39のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、前記接近した第1、第2ステージの対向する端部が、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで同一となるように位置付けられる。 - 請求項11〜40のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記接近した第1、第2ステージは、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで、前記所定方向に関して逆向きに移動される。 - 請求項11〜35のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは互いに同一の経路で前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項11〜35、42のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは互いに同一の経路で前記第1領域から前記第2領域に移動される。 - 請求項11〜35、42、43のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。 - 請求項11〜35、42〜44のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで経路が異なるように同一となるように移動される。 - 請求項11〜35、42〜45のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、前記接近した第1、第2ステージの対向する端部が、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで異なるように位置付けられる。 - 請求項11〜35、42〜46のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記接近した第1、第2ステージは、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで、前記所定方向に関して同一向きに移動される。 - 請求項1〜47のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液体と接する、前記投影光学系の光学部材の周囲に配置されるノズルユニットを有し、前記ノズルユニットを介して供給される液体によって前記液浸領域を形成するとともに、前記ノズルユニットを介して前記液浸領域の液体を回収する局所液浸システムを、さらに備える。 - 請求項48に記載の露光装置において、
前記局所液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とを並行して行う。 - デバイス製造方法であって、
請求項1〜49のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含む。 - 投影光学系と液体とを介して照明光で基板を露光する露光方法であって、
前記投影光学系が配置される第1領域と異なる第2領域に配置され、前記基板に計測ビームを照射して前記基板の位置情報を計測する計測系と、前記投影光学系との下方に配置されるベース部材上で、前記液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域と接触可能な上面と、前記上面の開口内に設けられるホルダと、を有し、前記開口内で前記ホルダによって前記基板を保持可能な第1ステージと、前記液浸領域と接触可能な上面と、前記投影光学系と前記液体とを介して前記照明光を検出する計測部材と、を有し、前記第1ステージに対して相対移動可能な第2ステージと、を浮上支持することと、
前記ベース部材上で浮上支持される前記第1、第2ステージを駆動する電磁モータによって、前記基板の露光が行われる前記第1領域と前記基板の計測および交換が行われる前記第2領域との一方から他方に前記第1ステージを移動することと、
前記投影光学系と対向して配置される前記第1、第2ステージの一方に対して前記第1、第2ステージの他方が接近するように、前記第1、第2ステージを相対移動するとともに、
前記投影光学系の下に前記液浸領域を実質的に維持しつつ前記一方のステージの代わりに前記他方のステージが前記投影光学系と対向して配置されるように、前記投影光学系の光軸と直交する所定方向に関して、前記投影光学系に対して前記接近した第1、第2ステージを移動することと、を含み、
前記第1ステージに保持される基板の交換が行われるように搬送系によって前記第2領域の交換位置に基板が搬送される。 - 請求項51に記載の露光方法において、
前記基板の露光動作において、前記基板の一部に前記液浸領域が位置し、かつ前記液浸領域に対して前記基板が相対移動するように前記第1ステージが駆動される。 - 請求項51又は52に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われるとともに、前記計測系によって前記液体を介すことなくマークの検出が行われる。 - 請求項51〜53のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動において、前記液浸領域は、前記接近した第1、第2ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持されつつ前記一方のステージから前記他方のステージに移動される。 - 請求項54に記載の露光方法において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記1、第2ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。 - 請求項51〜55のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは、前記一方のステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持しつつ、前記所定方向に関して前記他方のステージが前記一方のステージに接近するように相対移動される。 - 請求項56に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。 - 請求項56又は57に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは、前記所定方向に関して接近しつつ、前記所定方向と交差する方向に関してその位置関係が調整されるように相対移動される。 - 請求項51〜58のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が実質的に維持される、あるいは前記第1、第2ステージの間隙からの液体の漏出が防止又は抑制されるように近接した状態、又は接触した状態となるまで相対移動され、
前記接近した第1、第2ステージは、前記近接又は接触した状態が実質的に維持されつつ、前記投影光学系に対して前記所定方向に移動される。 - 請求項51〜59のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記接近した第1、第2ステージは、前記所定方向に関して前記上面が並置され、前記上面の境界又は間隙が前記液浸領域の下を通るように、前記投影光学系に対して前記所定方向に移動される。 - 請求項51〜60のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1ステージは、前記投影光学系と前記液体とを介して前記照明光を検出する計測部材を有し、
前記第2ステージは、前記上面の開口内でホルダによって基板を保持する。 - 請求項61に記載の露光方法において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動の前後でそれぞれ、前記第1ステージと前記第2ステージとで互いに異なる動作が並行して行われるように、前記第1、第2領域の一方で前記第1ステージが移動されるとともに、前記第1、第2領域の他方で前記他方のステージが移動される。 - 請求項61又は62に記載の露光方法において、
前記第1ステージと前記第2ステージとで互いに異なる動作が行われるように、前記第1領域で前記一方のステージが移動されるとともに、前記第2領域で前記他方のステージが移動され、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動に先立ち、前記他方のステージが、前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項61〜63のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記一方のステージに保持される基板の露光動作と並行して、前記計測系による、前記他方のステージに保持される基板の計測動作が実行され、前記他方のステージは、前記基板の計測動作後、前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項61〜64のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のステージが、前記第1領域から前記第2領域に移動されるとともに、前記投影光学系と対向して配置される前記他方のステージに保持される基板の露光が行われる。 - 請求項65に記載の露光方法において、
前記他方のステージに保持される基板の露光動作と並行して、前記第2領域において前記一方のステージに保持される基板の交換が行われる。 - 請求項61〜66のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1ステージに保持される基板の露光動作と、前記第2ステージに保持される基板の露光動作とが交互に行われ、前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動はその露光動作の間に行われる。 - 請求項61〜67のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。 - 請求項61〜68のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージの少なくとも一方に設けられる抑制部材によって、前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動において、前記接近した第1、第2ステージの間隙からの前記液浸領域の液体の漏れが抑制される。 - 請求項69に記載の露光方法において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含む。 - 請求項69に記載の露光方法において、
前記抑制部材は、少なくとも一部が前記接近した第1、第2ステージの間隙に位置するカバー部材を含み、
前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ、前記カバー部材を通じて前記一方のステージから前記他方のステージに移動される。 - 請求項71に記載の露光方法において、
前記カバー部材はその表面が前記接近した第1、第2ステージの上面とほぼ同一面となるように配置される。 - 請求項71又は72に記載の露光方法において、
前記カバー部材はその表面が前記少なくとも一方のステージの上面よりも外側に突出して配置される。 - 請求項71〜73のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記カバー部材は、前記第1、第2ステージにそれぞれ設けられ、
前記第1ステージのカバー部材は、前記一方のステージの代わりに前記他方のステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動で用いられ、
前記第2ステージのカバー部材は、前記他方のステージの代わりに前記一方のステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動で用いられる。 - 請求項61〜74のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記上面と前記基板の表面との間に間隙が形成され、かつ前記上面と前記基板の表面とが実質的に同一面となるように、前記開口内で前記ホルダによって前記基板を保持するとともに、前記上面によって、前記開口内で前記ホルダに保持される基板の表面から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を維持する。 - 請求項75に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記上面に設けられる基準を有し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して、前記基準を用いる計測が行われるように移動される。 - 請求項76に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記計測系によって前記基準が検出されるように移動される。 - 請求項76又は77に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記開口と異なる、前記上面の開口内に配置されるとともに、前記基準が表面に形成される基準部材を有する。 - 請求項78に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記基準が形成される表面が前記上面と実質的に同一面となるように前記基準部材が設けられる。 - 請求項76〜79のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記投影光学系に対する前記接近した第1、第2ステージの移動に続いて前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記照明光を前記基準に照射するため、前記基準が前記液浸領域の下に配置されるように移動され、
前記基準を用いる計測に続いて前記基板の露光が行われる。 - 請求項61〜80のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われるとともに、前記走査露光中、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向と交差する方向に移動される。 - 請求項61〜81のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測系は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系から離れて配置される。 - 請求項61〜82のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2領域は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向と交差する方向に関して位置が異なる。 - 請求項61〜81のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測系は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向に関して前記投影光学系から離れて配置される。 - 請求項61〜81、84に記載の露光方法において、
前記第1、第2領域は、前記接近した第1、第2ステージが移動される前記所定方向に関して位置が異なる。 - 請求項61〜85のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは互いに異なる経路で前記第1領域から前記第2領域に移動される。 - 請求項61〜86のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは互いに異なる経路で前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項61〜87のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。 - 請求項61〜88のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで経路が実質的に同一となるように移動される。 - 請求項61〜89のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは、前記接近した第1、第2ステージの対向する端部が、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで同一となるように位置付けられる。 - 請求項61〜90のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記接近した第1、第2ステージは、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで、前記所定方向に関して逆向きに移動される。 - 請求項61〜85のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは互いに同一の経路で前記第2領域から前記第1領域に移動される。 - 請求項61〜85、92のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは互いに同一の経路で前記第1領域から前記第2領域に移動される。 - 請求項61〜85、92、93のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。 - 請求項61〜85、92〜94のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージはそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と、前記第2領域から前記第1領域への移動とで経路が異なるように同一となるように移動される。 - 請求項61〜85、92〜95のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2ステージは、前記接近した第1、第2ステージの対向する端部が、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで異なるように位置付けられる。 - 請求項61〜85、92〜96のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記接近した第1、第2ステージは、前記第1ステージの代わりに前記第2ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動と、前記第2ステージの代わりに前記第1ステージを前記投影光学系と対向して配置するための、前記接近した第1、第2ステージの移動とで、前記所定方向に関して同一向きに移動される。 - 請求項51〜97のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液体と接する、前記投影光学系の光学部材の周囲に配置されるノズルユニットを介して供給される液体によって前記液浸領域が形成されるとともに、前記ノズルユニットを介して前記液浸領域の液体が回収される。 - 請求項98に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とが並行して行われる。 - デバイス製造方法であって、
請求項51〜99のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含む。
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