JP2012142604A - 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。露光装置は、投影光学系が配置される第1領域と、第1領域と異なる第2領域とを含む所定領域内で、基板を載置して移動可能な第1ステージと、所定領域内で移動可能な第2ステージと、第1、第2ステージをそれぞれ第1、第2領域の一方から他方に移動するとともに、所定領域内で第1、第2ステージを独立に移動するリニアモータシステムと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第1ステージとの間に液浸領域が維持される第1状態と、投影光学系と第2ステージとの間に液浸領域が維持される第2状態との一方が他方に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、リニアモータシステムによって、投影光学系の下方で第1、第2ステージを移動する制御システムと、を備える。
【選択図】図7
Description
ここで、λは露光波長、NAは投影光学系の開口数、k1はプロセス係数である。この式(1)より、使用する露光波長(露光光の波長)が短くなるほど、また投影光学系の開口数(NA)が大きいほど、解像度Rは高くなる。そのため、集積回路の微細化に伴い投影露光装置で使用される露光波長は年々短波長化しており、今日では、KrFエキシマレーザ(波長248nm)より短波長のArFエキシマレーザ(波長193nm)を光源とする露光装置も実用化されている。また、投影光学系の開口数も次第に増大してきている。
なお、本明細書においては、水以外の液体を用いた場合に、先端レンズなどに形成される染みも水染み(ウォーターマーク)と称する。
すなわち、一方のステージ上に液体が保持された状態から、両方のステージ上に跨って液体が保持される状態を経て、他方のステージ上に液体が保持された状態に、液体の全回収、再度の供給という工程を経ることなく、遷移させることが可能となる。従って、第1の状態から第2の状態への遷移を短時間で行うことが可能となる。
以下、本発明の第1の実施形態を図1〜図10に基づいて説明する。
この照明系10では、レチクルブラインドで規定されたレチクルR上のスリット状の照明領域をエネルギビームとしての照明光(露光光)ILによりほぼ均一な照度で照明する。
ここで、照明光ILとしては、一例としてArFエキシマレーザ光(波長193nm)が用いられている。また、オプティカルインテグレータとしては、フライアイレンズ、ロッドインテグレータ(内面反射型インテグレータ)あるいは回折光学素子などを用いることができる。この他、照明系10として、例えば特開平6−349701号公報及びこれに対応する米国特許第5,534,970号などに開示される構成を採用しても良い。本国際出願で指定した指定国(又は選択した選択国)の国内法令が許す限りにおいて、上記各公報及び対応する米国特許出願公開明細書又は米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
これらのX軸リニアガイド86、87は、例えばX軸方向に沿って所定間隔でかつ交互に配置されたN極磁石とS極磁石の複数の組から成る永久磁石群を内蔵する磁極ユニットによって構成されている。これらのX軸リニアガイド86、87の上方には、各2つのスライダ82,84及び83,85が、対応するX軸リニアガイド86、87を上方から取り囲む状態で非接触で設けられている。すなわち、合計4つのスライダ82、84、83、85は、X軸リニアガイド86又は87を上方及び側方から囲むような断面逆U字状の形状を有し、対応するX軸リニアガイド86又は87に対して不図示のエアパッドをそれぞれ介して例えば数μm程度のクリアランスを介して浮上支持されている。スライダ82、84、83、85のそれぞれは、例えばX軸方向に沿って所定間隔で配置された電機子コイルをそれぞれ内蔵する電機子ユニットによって構成されている。すなわち、本実施形態では、電機子ユニットから成るスライダ82、84と磁極ユニットから成るX軸リニアガイド86とによって、ムービングコイル型のX軸リニアモータがそれぞれ構成されている。同様にスライダ83、85とX軸リニアガイド87とによって、ムービングコイル型のX軸リニアモータがそれぞれ構成されている。以下においては、上記4つのX軸リニアモータのそれぞれを、それぞれの可動子を構成するスライダ82、84、83、85と同一の符号を用いて、適宜、X軸リニアモータ82、X軸リニアモータ84、X軸リニアモータ83、及びX軸リニアモータ85と呼ぶものとする。
なお、補助プレート72a〜72dは、一つの部材で構成しても良い。また、投影光学系PLの像面側に液体Lqを保持可能であれば、ウエハ表面と補助プレート表面との間に段差があっても良い。
従って、これらのY軸干渉計44,46,48では、ウエハステージWST1又はWST2のY軸方向の位置計測以外に、X軸回りの回転量(ピッチング量)の計測が可能となっている。
この場合、先端レンズ91とウエハW1(又はW2)との間に保持された水Lqは、常に入れ替わっている。
また、ウエハの移動方向とは無関係に、供給ノズル21a〜21c,22a〜22c,27a,28aから液体Lqを供給しつづけ、回収ノズル23a,23b,24a,24b,29a,29b,30a,30bから液体Lqを回収し続けるようにしても良い。
また、液体給排システムは上述の図4の形態に限られず、投影光学系PLの像面側に液浸領域を形成することができれば、いろいろな形態を適用することができる。
なお焦点位置検出系は、ウエハ表面の位置情報を液体を介して検出するものであっても良いし、液体を介さずに検出するものであっても良い。また焦点位置検出系は、投影光学系PLの像面側でウエハ表面の位置情報を検出するものに限られず、投影光学系PLから離れた場所でウエハ表面の位置情報を検出するものであっても良い。
このとき、基準マーク板FM2上の一対の第1基準マーク及びレチクルアライメントマークの像の検出は、投影光学系PL及び水を介して行われる。
次に、本発明の第2の実施形態を図11〜図15(B)に基づいて説明する。ここで、前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。この第2の実施形態の露光装置では、ウエハステージ装置の構成等、及び2つのウエハステージを用いた並行処理動作が前述の第1の実施形態と異なる。また、マーク検出系が1つのみ設けられている点が、前述の第1の実施形態と異なる。その他の部分の構成等は、前述の第1の実施形態と同様になっている。従って、以下では重複説明を避ける観点から相違点を中心として説明する。
なお、上記の移動の間中、ウエハステージWST1’、WST2’は弾性シール部材93を介して相互に接触する位置関係を保っている。
次に、本発明の第3の実施形態について、図16〜図18(B)に基づいて説明する。
ここで、前述した第1の実施形態と同一若しくは同等の部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。この第3の実施形態の露光装置では、ウエハステージ装置の構成等が前述した第1の実施形態と異なるのみで、その他の部分の構成は、同様になっている。従って、以下では重複説明を避ける観点から相違点を中心として説明する。
またウエハステージWSTには、計測用の部材を搭載しても良いし、搭載してなくても良い。
図17(B)には、上記の移動の途中に水(液浸領域)がウエハステージWST、計測ステージMST上に同時に跨って存在するときの状態、すなわちウエハステージWST上から計測ステージMST上に水が渡される直前の状態が示されている。
なお、ウエハW上の各ショット領域の露光のための加速開始位置へのウエハステージWSTの移動は、上記のウエハアライメントの結果得られたウエハW上の複数のショット領域の位置座標と、直前に計測したベースラインとに基づいて行われる。
またウエハの交換毎などに計測ステージMSTに搭載された計測用部材を使って各種の計測を行って、その後の露光動作に計測結果を反映させることができるので、常に高精度に調整された状態でウエハの露光を行うことができる。
また、遷移の際の両ステージの間隙への水(液体)の漏れ出しは、漏れ出し量がわずかであれば許容される場合もあり得るので、遷移の際の両ステージの間隔は、ステージの材質やステージ表面の状態や形状、液体の種類だけでなく、漏れ出しの許容量を考慮して決めるようにしても良い。
次に、本発明の第4の実施形態について、図20〜図23(B)に基づいて説明する。
ここで、前述した第3の実施形態と同一若しくは同等の部分については、同一の符号を用いるとともにその説明を簡略にし、若しくは省略するものとする。この第4の実施形態の露光装置では、ウエハステージ装置の構成(干渉計の配置を含む)が前述した第3の実施形態と一部相違するのみで、その他の部分の構成等は、その第3の実施形態の装置と同様になっている。従って、以下では重複説明を避ける観点から相違点を中心として説明する。
この場合、庇部111aの上面と計測ステージMST’の上面の夫々を撥水性(水との接触角が80°以上)にすることによって、その隙間への水の浸入をより確実に防止することができる。なお、この移動の間に、干渉計IF2からの干渉計ビームは計測ステージMST’の端面Sbに当たらなくなるが、それとほぼ同時に(その直前又は直後に)干渉計IF3の干渉計ビームが計測ステージMST’の端面Sbに当たるようになるので、その時点で干渉計IF3のリセット(又はプリセット)が主制御装置20によって実行されている。
次に上記各実施形態の露光装置をリソグラフィ工程で使用するデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
以上のステップ211〜ステップ214それぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
Claims (43)
- 液体が局所的に供給される2次元面内の第1領域と該第1領域の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で、第1ステージと第2ステージとを独立して駆動するステージ駆動方法において、
前記第1、第2ステージのうちの一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが、前記第1軸方向に交差する第2軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1、第2ステージを前記第2軸方向に同時に駆動することを特徴とするステージ駆動方法。 - 請求項1に記載のステージ駆動方法において、
前記第1、第2ステージは、該第1、第2ステージのいずれにも着脱自在に係合可能で、係合状態にある特定ステージを少なくとも前記第2軸方向に駆動可能な一組のリニアアクチュエータにより別々に駆動され、
前記遷移の際には、一方のステージと一方のリニアアクチュエータ、及び他方のステージと他方のリニアアクチュエータとが係合状態にあり、前記遷移の後に、各ステージとリニアアクチュエータとの係合を解除し、一方のステージと他方のリニアアクチュエータとの係合及び他方のステージと一方のリニアアクチュエータとの係合を行うことを特徴とするステージ駆動方法。 - 請求項1に記載のステージ駆動方法において、
前記遷移の際には、前記第1領域に位置する方のステージ上に、前記液体が保持され続けることを特徴とするステージ駆動方法。 - 請求項1に記載のステージ駆動方法において、
前記第1、第2ステージ上の、前記遷移の際に両ステージが近接又は接触する側の面以外の面にそれぞれ設けられた第1、第2ミラーの反射面にそれぞれ測長ビームを照射し、それぞれの測長ビームの前記第1、第2ミラーの反射面からの反射光に基づいて、前記第1、第2ステージの位置を管理することを特徴とするステージ駆動方法。 - 液体が局所的に供給される2次元面内の第1領域と該第1領域の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で第1ステージを駆動し、前記第1領域と該第1領域の前記第1軸方向の他側に位置する第3領域とを含む所定範囲の領域内で第2ステージを駆動するステージ駆動方法において、
前記第1、第2ステージのうちの一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが前記第1軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1、第2ステージを前記第1軸方向に同時に駆動することを特徴とするステージ駆動方法。 - 請求項5に記載のステージ駆動方法において、
前記遷移の際には、前記第1領域に位置する方のステージ上に、前記液体が保持され続けることを特徴とするステージ駆動方法。 - 請求項5に記載のステージ駆動方法において、
前記第1、第2ステージ上の、前記遷移の際に両ステージが近接又は接触する側の面以外の面にそれぞれ設けられた第1、第2ミラーの反射面にそれぞれ測長ビームを照射し、それぞれの測長ビームの前記第1、第2ミラーの反射面からの反射光に基づいて、前記第1、第2ステージの位置を管理することを特徴とするステージ駆動方法。 - 液体が局所的に供給される2次元面内の第1領域と該第1領域の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で独立に駆動可能な第1、第2ステージと;
前記第1、第2ステージのうちの一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが、前記第1軸方向に交差する第2軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1、第2ステージが前記第2軸方向に同時に移動するように前記第1、第2ステージを制御する制御装置と;を備えるステージ装置。 - 液体が局所的に供給される2次元面内の第1領域と該第1領域の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第1ステージと;
前記第1領域と該第1領域の前記第1軸方向の他側に位置する第3領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第2ステージと;
前記第1、第2ステージのうちの一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが前記第1軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1、第2ステージが前記第1軸方向に同時に移動するように、前記第1、第2ステージを制御する制御装置と;を備えるステージ装置。 - 投影光学系と基板との間に液体を供給し、前記投影光学系と前記液体とを介してエネルギビームにより前記基板を露光する露光装置であって、
前記液体が供給される前記投影光学系直下の第1領域と、前記投影光学系の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第1ステージと;
前記第1領域と、前記投影光学系の第1軸方向の他側に位置する第3領域とを含む領域内で移動可能な第2ステージと;
前記第1、第2ステージを駆動するとともに、一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが、前記第1軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1、第2ステージを前記第1軸方向に同時に駆動するステージ駆動系と;
前記第2領域上方に配置され、前記第1ステージ上に存在するマークを検出する第1のマーク検出系と;
前記第3領域上方に配置され、前記第2ステージ上に存在するマークを検出する第2のマーク検出系と;を備える露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、ともに基板を載置可能なステージであることを特徴とする露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージのうちの一方のステージは、他方のステージに対向する側の上端部の一部が他の部分より突出した板状の庇部とされ、
前記庇部の少なくとも先端部に所定のクリアランスを介して係合可能な段部が、前記他方のステージの前記一方のステージに対向する側の面の少なくとも一部に設けられ、前記庇部と前記段部とが係合した状態では、前記一方のステージの上面の少なくとも一部と前記他方のステージの上面の少なくとも一部とで所定の大きさのフルフラットな面を形成可能であることを特徴とする露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージのそれぞれは、第1軸方向の一側の上端部の一部が他の部分より突出した板状の庇部とされるとともに、それぞれのステージの前記第1軸方向の他側の面の少なくとも一部には、他方のステージの前記庇部の少なくとも先端部に所定のクリアランスを介して係合可能な段部が設けられ、
一方のステージの前記庇部と他方のステージの前記段部とが係合した状態では、前記一方のステージの上面の少なくとも一部と前記他方のステージの上面の少なくとも一部とで所定の大きさのフルフラットな面を形成可能であることを特徴とする露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記ステージ駆動系は、前記遷移の際、前記第1ステージと前記第2ステージとを近接した状態で維持し、
前記第1ステージ及び前記第2ステージの少なくとも一方には、前記遷移の際に前記両ステージの間隙に位置することで該間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材が設けられていることを特徴とする露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記遷移の際には、前記投影光学系と前記第1領域に位置するステージとの間に、前記液体が保持され続けることを特徴とする露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージ上の、前記遷移の際に両ステージが近接又は接触する側の面以外の面にそれぞれ設けられた第1、第2ミラーと;
前記第1、第2ミラーの反射面にそれぞれ測長ビームを照射し、それぞれの測長ビームの前記第1、第2ミラーの反射面からの反射光に基づいて、前記第1、第2ステージの位置を計測する干渉計と;を更に備える露光装置。 - 投影光学系と基板との間に液体を供給し、前記投影光学系と前記液体とを介してエネルギビームにより前記基板を露光する露光装置であって、
前記液体が供給される前記投影光学系直下の第1領域と該第1領域の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能で、前記基板を載置可能な第1ステージと;
前記第1領域と該第1領域の前記第1軸方向の他側に位置する第3領域とを含む領域内で移動可能で、所定の計測に用いられる第2ステージと;
前記第1、第2ステージを駆動するとともに、一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが前記第1軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1ステージと前記第2ステージとを前記第1軸方向に同時に駆動するステージ駆動系と;を備える露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記第2ステージには、前記投影光学系を介して前記エネルギビームを受光するセンサの少なくとも一部、及び少なくとも1つの基準マークが形成された基準マーク板の少なくとも一方が設けられていることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記第2ステージは、前記投影光学系及び前記液体を介した前記エネルギビームの受光結果を用いる計測に用いられることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記ステージ駆動系は、前記エネルギビームにより基板を露光する際に、前記第2ステージを用いた計測結果の少なくとも一部に基づいて、前記第1ステージを駆動することを特徴とする露光装置。 - 請求項21に記載の露光装置において、
前記ステージ駆動系は、前記第1ステージ上の基板の交換が行われる間に、前記第2ステージを用いた計測が実行されるように、各ステージを駆動することを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記第2ステージの前記第1ステージに対向する側の面の少なくとも一部には、当該第2ステージの位置計測に用いられる反射面が設けられていることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージのうちの一方のステージは、他方のステージに対向する側の上端部の一部が他の部分より突出した板状の庇部とされ、
前記庇部の少なくとも先端部に所定のクリアランスを介して係合可能な段部が、前記他方のステージの前記一方のステージに対向する側の面の少なくとも一部に設けられ、前記庇部と前記段部とが係合した状態では、前記一方のステージの上面の少なくとも一部と前記他方のステージの上面の少なくとも一部とで所定の大きさのフルフラットな面を形成可能であることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージのそれぞれは、第1軸方向の一側の上端部の一部が他の部分より突出した板状の庇部とされるとともに、それぞれのステージの前記第1軸方向の他側の面の少なくとも一部には、他方のステージの前記庇部の少なくとも先端部に所定のクリアランスを介して係合可能な段部が設けられ、
一方のステージの前記庇部と他方のステージの前記段部とが係合した状態では、前記一方のステージの上面の少なくとも一部と前記他方のステージの上面の少なくとも一部とで所定の大きさのフルフラットな面を形成可能であることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記ステージ駆動系は、前記遷移の際、前記第1ステージと前記第2ステージとを近接した状態で維持し、
前記第1ステージ及び前記第2ステージの少なくとも一方には、前記遷移の際に前記両ステージの間隙に位置することで該間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材が設けられていることを特徴とする露光装置。 - 請求項26に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記遷移の際には、前記投影光学系と前記第1領域に位置するステージとの間に、前記液体が保持され続けることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージ上の、前記遷移の際に両ステージが近接又は接触する側の面以外の面にそれぞれ設けられた第1、第2ミラーと;
前記第1、第2ミラーの反射面にそれぞれ測長ビームを照射し、それぞれの測長ビームの前記第1、第2ミラーの反射面からの反射光に基づいて、前記第1、第2ステージの位置を計測する干渉計と;を更に備える露光装置。 - 投影光学系と基板との間に液体を供給し、前記投影光学系と前記液体とを介して前記基板を露光する露光装置であって、
前記液体が供給される前記投影光学系直下の第1領域と該第1領域の第1軸方向の一側に位置する第2領域とを含む所定範囲の領域内で移動可能な第1ステージと;
前記第1領域と前記第2領域とを含む領域内で前記第1ステージとは独立して移動可能な第2ステージと;
前記第1、第2ステージを駆動するとともに、一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが前記第1軸方向に交差する第2軸方向に関して近接した状態及び接触した状態のいずれかを維持して前記第1、第2ステージを同時に前記第2軸方向に駆動するステージ駆動系と;を備える露光装置。 - 請求項30に記載の露光装置において、
前記ステージ駆動系は、前記第1、第2ステージのいずれにも着脱自在に係合可能で、係合状態にある特定ステージを前記第2軸方向に関して駆動可能で、両ステージを別々に駆動する一組のリニアアクチュエータを含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項31に記載の露光装置において、
前記遷移の後に、一方のステージと一方のリニアアクチュエータとが係合し、かつ他方のステージと他方のリニアアクチュエータとが係合している状態から、一方のステージと他方のリニアアクチュエータとが係合し、かつ他方のステージと一方のリニアアクチュエータとが係合している状態に、切り換える切り換え装置を、更に備える露光装置。 - 請求項30に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージは、ともに基板を載置可能なステージであり、
前記第2領域に配置され、前記第1及び第2ステージのうち、その直下に位置した特定ステージ上に存在するマークを検出するマーク検出系を更に備える露光装置。 - 請求項30に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージのそれぞれは、第1軸方向の一側の上端部の一部が他の部分より突出した板状の庇部とされるとともに、それぞれのステージの前記第1軸方向の他側の面の少なくとも一部には、他方のステージの前記庇部の少なくとも先端部に所定のクリアランスを介して係合可能な段部が設けられ、
一方のステージの前記庇部と他方のステージの前記段部とが係合した状態では、前記一方のステージの上面の少なくとも一部と前記他方のステージの上面の少なくとも一部とで所定の大きさのフルフラットな面を形成可能であることを特徴とする露光装置。 - 請求項30に記載の露光装置において、
前記ステージ駆動系は、前記遷移の際、前記第1ステージと前記第2ステージとを近接した状態で維持し、
前記第1ステージ及び前記第2ステージの少なくとも一方には、前記遷移の際に前記両ステージの間隙に位置することで該間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材が設けられていることを特徴とする露光装置。 - 請求項35に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項30に記載の露光装置において、
前記遷移の際には、前記投影光学系と前記第1領域に位置するステージとの間に、前記液体が保持され続けることを特徴とする露光装置。 - 請求項30に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージ上の、前記遷移の際に両ステージが近接又は接触する側の面以外の面にそれぞれ設けられた第1、第2ミラーと;
前記第1、第2ミラーの反射面にそれぞれ測長ビームを照射し、それぞれの測長ビームの前記第1、第2ミラーの反射面からの反射光に基づいて、前記第1、第2ステージの位置を計測する干渉計と;を更に備える露光装置。 - 投影光学系と基板との間に液体を供給し、前記投影光学系と前記液体とを介して前記基板を露光する露光装置であって、
前記液体が供給される投影光学系直下の第1領域と該第1領域とは異なる領域とを含む領域内で移動可能な第1ステージと;
前記第1領域と該第1領域とは異なる領域とを含む領域内で、前記第1ステージとは独立して移動可能な第2ステージと;
前記第1、第2ステージを駆動するとともに、一方のステージが前記第1領域に位置する第1の状態から他方のステージが前記第1の領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1ステージと前記第2ステージとが所定方向に関して近接した状態を維持して前記第1、第2ステージを同時に前記所定方向に駆動するステージ駆動系と;
前記第1ステージ及び前記第2ステージの少なくとも一方に設けられ、前記第1の状態から前記第2の状態に遷移する際に前記両ステージの間隙に位置することで前記間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材と;を備える露光装置。 - 請求項39に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、シール部材及び撥水コートの少なくとも一方を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項39に記載の露光装置において、
前記遷移の際には、前記投影光学系と前記第1領域に位置するステージとの間に、前記液体が保持され続けることを特徴とする露光装置。 - 請求項39に記載の露光装置において、
前記第1、第2ステージ上の、前記遷移の際に両ステージが近接又は接触する側の面以外の面にそれぞれ設けられた第1、第2ミラーと;
前記第1、第2ミラーの反射面にそれぞれ測長ビームを照射し、それぞれの測長ビームの前記第1、第2ミラーの反射面からの反射光に基づいて、前記第1、第2ステージの位置を計測する干渉計と;を更に備える露光装置。 - 請求項10〜42のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記エネルギビームにより基板を露光するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
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