JP4986185B2 - 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4986185B2 JP4986185B2 JP2009539947A JP2009539947A JP4986185B2 JP 4986185 B2 JP4986185 B2 JP 4986185B2 JP 2009539947 A JP2009539947 A JP 2009539947A JP 2009539947 A JP2009539947 A JP 2009539947A JP 4986185 B2 JP4986185 B2 JP 4986185B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- moving body
- moving
- exposure
- exposure apparatus
- area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
Description
本発明は、第2の観点からすると、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで物体を露光する露光装置であって、前記投影光学系が配置される第1領域と異なる第2領域に配置され、前記物体の位置情報を検出する検出系と、前記物体を載置可能かつ前記第1、第2領域を含む所定領域内で可動な第1移動体と、前記物体を載置可能かつ前記所定領域内で前記第1移動体とは独立して可動な第2移動体と、前記第1、第2移動体が配置されるベース部材と、前記第1、第2移動体にそれぞれ可動子が設けられ、前記ベース部材に固定子が設けられる平面モータを有し、前記平面モータによって前記第1、第2移動体をそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域に移動し、かつ前記第2領域から前記第1領域に移動する駆動系と、前記物体が下面側に対向して配置され、かつ前記投影光学系の下端部の周囲に設けられる液浸部材を有し、前記投影光学系の直下に液体を供給する局所液浸システムと、を備え、前記第1移動体は、前記ベース部材の一端側からケーブルが接続され、前記第2移動体は、前記ベース部材の、前記一端と対向する他端側からケーブルが接続され、前記供給される液体によって、前記投影光学系の直下に液浸領域が形成され、前記駆動系は、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第1、第2移動体を、第1方向に関して接近し、かつ前記第1方向と直交する第2方向に関して位置が異なるように移動するとともに、前記投影光学系の下方で前記接近させた第1、第2移動体を移動して、前記一方の移動体を前記第1、第2移動体の他方に置き換え、前記液浸領域は、前記置換によって前記一方の移動体から前記他方の移動体に移動され、かつ前記置換において前記投影光学系の直下に維持される第2の露光装置である。
本発明は、第4の観点からすると、投影光学系と液体とを介してエネルギビームで物体を露光する露光方法であって、前記投影光学系が配置される第1領域と、前記物体の位置情報を検出する検出系が配置される、前記第1領域と異なる第2領域とを含む所定領域内で、それぞれ前記物体を載置してベース部材上に配置される第1、第2移動体を独立して移動することと、前記第1、第2移動体をそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域に移動するとともに、前記第2領域から前記第1領域に移動することと、前記物体が下面側に対向して配置され、かつ前記投影光学系の下端部の周囲に設けられる液浸部材を有する局所液浸システムによって、前記投影光学系の直下に液体を供給することと、前記投影光学系と前記液体とを介して前記エネルギビームで前記物体を露光することと、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第1、第2移動体を、第1方向に関して接近し、かつ前記第1方向と直交する第2方向に関して位置が異なるように移動することと、前記投影光学系の下方で前記接近させた第1、第2移動体を移動して、前記一方の移動体を前記第1、第2移動体の他方に置き換えることと、を含み、前記供給される液体によって、前記投影光学系の直下に液浸領域が形成され、前記液浸領域は、前記置換によって前記一方の移動体から前記他方の移動体に移動され、かつ前記置換において前記投影光学系の直下に維持され、前記第1移動体は、前記ベース部材の一端側からケーブルが接続され、前記第2移動体は、前記ベース部材の、前記一端と対向する他端側からケーブルが接続され、前記第1、第2移動体は、前記第1、第2移動体にそれぞれ可動子が設けられ、前記ベース部材に固定子が設けられる平面モータを有する駆動系によって移動される第2の露光方法である。
b.両ウエハステージWST1、WST2がX軸方向に関してずれた状態でスクラム状態となるようにすることで、両ウエハステージWST1,WST2の移動ストロークをより一層短くすることができ、これによってスループットを一層向上させることができる。
c.ウエハステージWST1,WST2それぞれに接続されている後述するケーブルの長さを、短くすることができる。
Claims (64)
- 光学系と液体とを介してエネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
前記物体を載置可能で、前記液体が供給される前記光学系直下の液浸領域を含む第1領域と該第1領域の第1方向の一側に位置する前記物体の位置情報を取得する第2領域とを含む所定範囲の領域内で所定平面に実質的に沿って移動可能な第1移動体と;
前記物体を載置可能で、前記第1領域と前記第2領域とを含む領域内で前記所定平面に実質的に沿って前記第1移動体とは独立して移動可能な第2移動体と;
前記第1、第2移動体を前記所定平面に実質的に沿って駆動するとともに、一方の移動体が前記第1領域に位置する第1の状態から他方の移動体が前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させる際に、前記第1移動体と前記第2移動体とが前記所定平面内で前記第1方向と垂直な第2方向に関してずれ、かつ前記第1方向に関して互いに近接又は接触した状態で前記第1、第2移動体を前記第1方向に駆動する移動体駆動系と;を備え、
前記第1移動体と前記第2移動体とが前記第1方向に関して互いに近接又は接触した状態における前記第1移動体と前記第2移動体との前記第2方向のずれの向きが前記第1、第2移動体の前記第1方向の位置関係に応じて異なる露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記一方の移動体が前記第1移動体である場合には、前記第2移動体は、前記第1移動体に対して前記第2方向の一側にずらして配置され、
前記一方の移動体が前記第2移動体である場合には、前記第1移動体は、前記第2移動体に対して前記第2方向の他側にずらして配置される露光装置。 - 請求項1又は2に記載の露光装置において、
前記第1移動体には、前記第2方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられ、
前記第2移動体には、前記第2方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられている露光装置。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体駆動系は、前記第1移動体と前記第2移動体との端部同士が前記第2方向に関して少なくとも前記光学系直下の液浸領域よりも広い幅だけ互いに対向する前記近接又は接触した状態で前記第1、第2移動体を前記第1方向に駆動する露光装置。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1移動体は、前記第2方向に関して、前記液浸領域から一側に所定距離離れた第1位置と前記液浸領域の近傍の第2位置との間の所定範囲の領域内で移動し、
前記第2移動体は、第2方向に関して、前記液浸領域から他側に所定距離離れた第3位置と前記液浸領域の近傍の第4位置との間の所定範囲の領域内で移動する露光装置。 - 請求項5に記載の露光装置において、
前記近接又は接触した状態では、前記第1移動体は、前記第1方向のいずれかの端部かつ前記第2方向の他側の端部を、前記第2移動体に近接又は接触させる露光装置。 - 請求項5又は6に記載の露光装置において、
前記近接又は接触した状態では、前記第2移動体は、前記第1方向のいずれかの端部かつ前記第2方向の一側の端部を、前記第1移動体に近接又は接触させる露光装置。 - 請求項5〜7のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2の移動体の少なくとも一方の、少なくとも前記第1方向の一側には、その上面が前記第1、第2移動体の上面と略同一面となる状態で、前記第2方向の幅が前記液浸領域より広い受け渡し部が突設され、
前記第1の状態と第2の状態との間の遷移時に、前記移動体駆動系により、前記第1移動体と前記第2移動体とは、前記受け渡し部を介して前記近接又は接触した状態が維持される露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置において、
前記第1移動体の前記第1方向の一側の前記第2方向の他側の一部に前記受け渡し部が突設され、
前記第2移動体の前記第1方向の一側の前記第2方向の一側の一部に前記受け渡し部が突設されている露光装置。 - 請求項8又は9に記載の露光装置において、
前記受け渡し部は、前記第1、第2移動体それぞれの前記第1方向の両側に、前記近接又は接触した状態で相互に対向し得る状態でそれぞれ突設されている露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記相互に対向し得る2つの前記受け渡し部のそれぞれの先端には、互いに係合するとともに、係合状態では見かけ上フルフラットな面を形成可能な係合部が形成されている露光装置。 - 請求項8〜11のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2の移動体が前記近接又は接触した状態にあるとき、前記第1移動体と前記第2移動体とが前記受け渡し部を介して前記第1方向に関して近接しており、
前記第1移動体と前記第2移動体との少なくとも一方には、前記近接又は接触した状態で、両移動体間の間隙に位置することで該間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材が設けられている露光装置。 - 請求項1〜12のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1移動体には、前記第2方向の一側からケーブルが接続され、
前記第2移動体には、前記第2方向の他側からケーブルが接続されている露光装置。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第2領域に配置され、前記第1及び第2移動体のうち、その直下に位置した特定移動体上に存在するマークを検出するマーク検出系を更に備える露光装置。 - 請求項1〜14のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記遷移の際には、前記光学系と前記第1領域に位置する移動体との間に、前記液体が保持され続ける露光装置。 - 請求項1〜15のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体駆動系は、前記第1、第2の移動体を前記所定平面に沿って駆動する平面モータを含む露光装置。 - 投影光学系と液体とを介してエネルギビームで物体を露光する露光装置であって、
前記投影光学系が配置される第1領域と異なる第2領域に配置され、前記物体の位置情報を検出する検出系と、
前記物体を載置可能かつ前記第1、第2領域を含む所定領域内で可動な第1移動体と、
前記物体を載置可能かつ前記所定領域内で前記第1移動体とは独立して可動な第2移動体と、
前記第1、第2移動体が配置されるベース部材と、
前記第1、第2移動体にそれぞれ可動子が設けられ、前記ベース部材に固定子が設けられる平面モータを有し、前記平面モータによって前記第1、第2移動体をそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域に移動し、かつ前記第2領域から前記第1領域に移動する駆動系と、
前記物体が下面側に対向して配置され、かつ前記投影光学系の下端部の周囲に設けられる液浸部材を有し、前記投影光学系の直下に液体を供給する局所液浸システムと、を備え、
前記第1移動体は、前記ベース部材の一端側からケーブルが接続され、
前記第2移動体は、前記ベース部材の、前記一端と対向する他端側からケーブルが接続され、
前記供給される液体によって、前記投影光学系の直下に液浸領域が形成され、
前記駆動系は、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第1、第2移動体を、第1方向に関して接近し、かつ前記第1方向と直交する第2方向に関して位置が異なるように移動するとともに、前記投影光学系の下方で前記接近させた第1、第2移動体を移動して、前記一方の移動体を前記第1、第2移動体の他方に置き換え、
前記液浸領域は、前記置換によって前記一方の移動体から前記他方の移動体に移動され、かつ前記置換において前記投影光学系の直下に維持される露光装置。 - 請求項17に記載の露光装置において、
前記第2方向に関する前記第1、第2移動体の位置関係は、前記第1移動体の前記第2移動体への置換と、前記第2移動体の前記第1移動体への置換とで異なる露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記第1、第2移動体は、前記第1移動体の前記第2移動体への置換と、前記第2移動体の前記第1移動体への置換とで、前記第2方向に関して逆向きにずれるように移動される露光装置。 - 請求項18又は19に記載の露光装置において、
前記第1移動体の前記第2移動体への置換では、前記ベース部材上で、前記第2移動体は、前記第1移動体に対して前記他端側にずれて配置され、
前記第2移動体の前記第1移動体への置換では、前記ベース部材上で、前記第1移動体は、前記第2移動体に対して前記一端側にずれて配置される露光装置。 - 請求項18〜20のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1移動体は、前記ベース部材の前記第2方向に関して一端側からケーブルが接続され、
前記第2移動体は、前記ベース部材の前記第2方向に関して他端側からケーブルが接続される露光装置。 - 請求項17〜21のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下方で前記第1、第2移動体が移動される所定方向は、前記第2方向と交差する露光装置。 - 請求項17〜22のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記物体は走査露光が行われ、
前記第1、第2移動体は、前記投影光学系の下方で、前記走査露光で前記物体が移動される所定方向に関して移動される露光装置。 - 請求項17〜23のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2領域は所定方向に関して位置が異なり、
前記第1、第2移動体は、前記投影光学系の下方で前記所定方向に関して移動される露光装置。 - 請求項17〜24のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1移動体と前記第2移動体は異なる経路を通って前記第1、第2領域の一方から他方に移動される露光装置。 - 請求項25に記載の露光装置において、
前記第1、第2領域の一方から他方への移動において、前記第1移動体は、前記ベース部材上で前記一端側の経路を通り、前記第2移動体は、前記ベース部材上で前記他端側の経路を通る露光装置。 - 請求項17〜26のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2移動体はそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と前記第2領域から前記第1領域への移動とで異なる経路を通る露光装置。 - 請求項17〜27のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2移動体の少なくとも一方は、前記置換において前記投影光学系と対向して配置される上面を有する受け渡し部を含み、
前記液浸領域は、前記置換において前記受け渡し部を介して前記一方の移動体から前記他方の移動体に移動される露光装置。 - 請求項28に記載の露光装置において、
前記受け渡し部は、前記置換において前記少なくとも一方の移動体から外側に突出して配置される露光装置。 - 請求項28又は29に記載の露光装置において、
前記受け渡し部は、前記置換において前記上面が前記第1、第2移動体の上面とほぼ同一面となるように配置される露光装置。 - 請求項17〜30のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2移動体にそれぞれ設けられるヘッドと、前記第1、第2移動体の外部に配置される格子部とを有するエンコーダーシステムによって、前記第1、第2移動体の位置情報を計測する計測システムを、さらに備える露光装置。 - デバイス製造方法であって、
請求項1〜31のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光物体を露光するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。 - 光学系と液体とを介してエネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、
前記物体を載置可能で、前記液体が供給される前記光学系直下の液浸領域を含む第1領域と該第1領域の第1方向の一側に位置する前記物体の位置情報を取得する第2領域とを含む所定範囲の領域内で所定平面に実質的に沿ってそれぞれ独立に移動可能な第1移動体と第2移動体とを、前記所定平面内で前記第1方向と垂直な第2方向にずらした状態で、かつ前記第1方向に関して互いに近接又は接触させた状態で前記第1方向に駆動することで、前記液浸領域を、一方の移動体から他方の移動体に受け渡し、一方の移動体が前記第1領域に位置する第1の状態から他方の移動体が前記第1領域に位置する第2の状態に遷移させ、
前記第1移動体と前記第2移動体とが前記第1方向に関して互いに近接又は接触した状態における前記第1移動体と前記第2移動体との前記第2方向のずれの向きが前記第1、第2移動体の前記第1方向の位置関係に応じて異なる露光方法。 - 請求項33に記載の露光方法において、
前記一方の移動体が前記第1移動体である場合には、前記第2移動体は、前記第1移動体に対して前記第2方向の一側にずらして配置され、
前記一方の移動体が前記第2移動体である場合には、前記第1移動体は、前記第2移動体に対して前記第2方向の他側にずらして配置される露光方法。 - 請求項33又は34に記載の露光方法において、
前記第1移動体には、前記第2方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられ、
前記第2移動体には、前記第2方向の少なくとも一側に前記所定平面に対して傾斜した反射面が設けられ、
前記近接又は接触した状態では、前記第1移動体と前記第2移動体とは、前記反射面が設けられていない辺同士が前記第1方向に関して少なくとも一部近接又は接触する露光方法。 - 請求項33〜35のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1移動体と前記第2移動体とは、前記近接又は接触した端部同士が前記第2方向に関して少なくとも前記光学系直下の液浸領域よりも広い幅だけ互いに対向した前記近接又は接触した状態で前記第1方向に駆動される露光方法。 - 請求項33〜36のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1移動体は、前記所定平面内で前記第1方向に垂直な第2方向に関して、前記液浸領域から一側に所定距離離れた第1位置と前記液浸領域の近傍の第2位置との間の所定範囲の領域内で移動し、
前記第2移動体は、前記第2方向に関して、前記液浸領域の他側に所定距離離れた第3位置と前記液浸領域の近傍の第4位置との間の所定範囲の領域内で移動する露光方法。 - 請求項37に記載の露光方法において、
前記近接又は接触した状態では、前記第1移動体は、前記第1方向のいずれかの端部かつ前記第2方向の他側の端部を、前記第2移動体に近接又は接触させる露光方法。 - 請求項37又は38に記載の露光方法において、
前記近接又は接触した状態では、前記第2移動体は、前記第1方向のいずれかの端部かつ前記第2方向の一側の端部を、前記第1移動体に近接又は接触させる露光方法。 - 請求項37〜39のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2の移動体の少なくとも一方の、少なくとも前記第1方向の一側には、その上面が前記第1、第2移動体の上面と略同一面となる状態で、前記第2方向の幅が前記液浸領域より広い受け渡し部が突設され、
前記第1の状態と第2の状態との間の遷移時に、前記第1移動体と前記第2移動体とは、前記受け渡し部を介して前記近接又は接触した状態が維持される露光方法。 - 請求項40に記載の露光方法において、
前記第1移動体の前記第1方向の一側の前記第2方向の他側の一部に前記受け渡し部が突設され、
前記第2移動体の前記第1方向の一側の前記第2方向の一側の一部に前記受け渡し部が突設されている露光方法。 - 請求項40又は41に記載の露光方法において、
前記受け渡し部は、前記第1、第2移動体それぞれの前記第1方向の両側に、前記近接又は接触した状態で相互に対向し得る状態でそれぞれ突設されている露光方法。 - 請求項42に記載の露光方法において、
前記相互に対向し得る2つの前記受け渡し部のそれぞれの先端には、互いに係合するとともに、係合状態では見かけ上フルフラットな面を形成可能な係合部が形成されている露光方法。 - 請求項38〜43のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2の移動体が前記近接又は接触した状態にあるとき、前記第1移動体と前記第2移動体とが前記受け渡し部を介して前記第1方向に関して近接しており、
前記第1移動体と前記第2移動体との少なくとも一方には、前記近接又は接触した状態で、両移動体間の間隙に位置することで該間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材が設けられている露光方法。 - 請求項33〜44のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1移動体には、前記第2方向の一側からケーブルが接続され、
前記第2移動体には、前記第2方向の他側からケーブルが接続されている露光方法。 - 請求項33〜45のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第2領域では、前記第1及び第2移動体のうち、所定位置の直下に位置した特定移動体上に存在するマークがマーク検出系で検出される露光方法。 - 請求項33〜46のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記遷移の際には、前記光学系と前記第1領域に位置する移動体との間に、前記液体が保持され続ける露光方法。 - 請求項33〜47のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2の移動体は、平面モータにより前記所定平面に沿って駆動される露光方法。 - 投影光学系と液体とを介してエネルギビームで物体を露光する露光方法であって、
前記投影光学系が配置される第1領域と、前記物体の位置情報を検出する検出系が配置される、前記第1領域と異なる第2領域とを含む所定領域内で、それぞれ前記物体を載置してベース部材上に配置される第1、第2移動体を独立して移動することと、
前記第1、第2移動体をそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域に移動するとともに、前記第2領域から前記第1領域に移動することと、
前記物体が下面側に対向して配置され、かつ前記投影光学系の下端部の周囲に設けられる液浸部材を有する局所液浸システムによって、前記投影光学系の直下に液体を供給することと、
前記投影光学系と前記液体とを介して前記エネルギビームで前記物体を露光することと、
一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第1、第2移動体を、第1方向に関して接近し、かつ前記第1方向と直交する第2方向に関して位置が異なるように移動することと、
前記投影光学系の下方で前記接近させた第1、第2移動体を移動して、前記一方の移動体を前記第1、第2移動体の他方に置き換えることと、を含み、
前記供給される液体によって、前記投影光学系の直下に液浸領域が形成され、
前記液浸領域は、前記置換によって前記一方の移動体から前記他方の移動体に移動され、かつ前記置換において前記投影光学系の直下に維持され、
前記第1移動体は、前記ベース部材の一端側からケーブルが接続され、
前記第2移動体は、前記ベース部材の、前記一端と対向する他端側からケーブルが接続され、
前記第1、第2移動体は、前記第1、第2移動体にそれぞれ可動子が設けられ、前記ベース部材に固定子が設けられる平面モータを有する駆動系によって移動される露光方法。 - 請求項49に記載の露光方法において、
前記第2方向に関する前記第1、第2移動体の位置関係は、前記第1移動体の前記第2移動体への置換と、前記第2移動体の前記第1移動体への置換とで異なる露光方法。 - 請求項50に記載の露光方法において、
前記第1、第2移動体は、前記第1移動体の前記第2移動体への置換と、前記第2移動体の前記第1移動体への置換とで、前記第2方向に関して逆向きにずれるように移動される露光方法。 - 請求項50又は51に記載の露光方法において、
前記第1移動体の前記第2移動体への置換では、前記ベース部材上で、前記第2移動体は、前記第1移動体に対して前記他端側にずれて配置され、
前記第2移動体の前記第1移動体への置換では、前記ベース部材上で、前記第1移動体は、前記第2移動体に対して前記一端側にずれて配置される露光方法。 - 請求項50〜52のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1移動体は、前記ベース部材の前記第2方向に関して一端側からケーブルが接続され、
前記第2移動体は、前記ベース部材の前記第2方向に関して他端側からケーブルが接続される露光方法。 - 請求項49〜53のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方で前記第1、第2移動体が移動される所定方向は、前記第2方向と交差する露光方法。 - 請求項49〜54のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記物体は走査露光が行われ、
前記第1、第2移動体は、前記投影光学系の下方で、前記走査露光で前記物体が移動される所定方向に関して移動される露光方法。 - 請求項49〜55のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第1、第2領域は所定方向に関して位置が異なり、
前記第1、第2移動体は、前記投影光学系の下方で前記所定方向に関して移動される露光方法。 - 請求項49〜56のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1移動体と前記第2移動体は異なる経路を通って前記第1、第2領域の一方から他方に移動される露光方法。 - 請求項57に記載の露光方法において、
前記第1、第2領域の一方から他方への移動において、前記第1移動体は、前記ベース部材上で前記一端側の経路を通り、前記第2移動体は、前記ベース部材上で前記他端側の経路を通る露光方法。 - 請求項49〜58のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2移動体はそれぞれ、前記第1領域から前記第2領域への移動と前記第2領域から前記第1領域への移動とで異なる経路を通る露光方法。 - 請求項49〜59のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2移動体の少なくとも一方に設けられる受け渡し部はその上面が、前記置換において前記投影光学系と対向して配置され、
前記液浸領域は、前記置換において前記受け渡し部を介して前記一方の移動体から前記他方の移動体に移動される露光方法。 - 請求項60に記載の露光方法において、
前記受け渡し部は、前記置換において前記少なくとも一方の移動体から外側に突出して配置される露光方法。 - 請求項60又は61に記載の露光方法において、
前記受け渡し部は、前記置換において前記上面が前記第1、第2移動体の上面とほぼ同一面となるように配置される露光方法。 - 請求項49〜62のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第1、第2移動体にそれぞれ設けられるヘッドと、前記第1、第2移動体の外部に配置される格子部とを有するエンコーダーシステムによって、前記第1、第2移動体の位置情報が計測される露光方法。 - 請求項33〜63のいずれか一項に記載の露光方法により前記物体を露光するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009539947A JP4986185B2 (ja) | 2007-11-07 | 2008-11-04 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007289203 | 2007-11-07 | ||
JP2007289203 | 2007-11-07 | ||
JP2009539947A JP4986185B2 (ja) | 2007-11-07 | 2008-11-04 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
PCT/JP2008/003160 WO2009060585A1 (ja) | 2007-11-07 | 2008-11-04 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2009060585A1 JPWO2009060585A1 (ja) | 2011-03-17 |
JP4986185B2 true JP4986185B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=40625493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009539947A Expired - Fee Related JP4986185B2 (ja) | 2007-11-07 | 2008-11-04 | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8797508B2 (ja) |
JP (1) | JP4986185B2 (ja) |
KR (1) | KR101470671B1 (ja) |
CN (1) | CN101675500B (ja) |
HK (1) | HK1137077A1 (ja) |
TW (1) | TWI435183B (ja) |
WO (1) | WO2009060585A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8902402B2 (en) * | 2008-12-19 | 2014-12-02 | Nikon Corporation | Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8599359B2 (en) | 2008-12-19 | 2013-12-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method |
US8773635B2 (en) * | 2008-12-19 | 2014-07-08 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method |
US8760629B2 (en) * | 2008-12-19 | 2014-06-24 | Nikon Corporation | Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body |
US8488109B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP5507392B2 (ja) | 2009-09-11 | 2014-05-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | シャッター部材、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
US20110102761A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-05-05 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, and device fabricating method |
US20110096306A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method |
US20110096312A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device fabricating method |
US20110096318A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-04-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device fabricating method |
US20110123913A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-05-26 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposing method, and device fabricating method |
US20110128523A1 (en) * | 2009-11-19 | 2011-06-02 | Nikon Corporation | Stage apparatus, exposure apparatus, driving method, exposing method, and device fabricating method |
US8488106B2 (en) * | 2009-12-28 | 2013-07-16 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
US9207549B2 (en) | 2011-12-29 | 2015-12-08 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method with encoder of higher reliability for position measurement |
US8779635B2 (en) * | 2012-04-10 | 2014-07-15 | Kla-Tencor Corporation | Arrangement of reticle positioning device for actinic inspection of EUV reticles |
JP6362312B2 (ja) * | 2013-09-09 | 2018-07-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法 |
KR20230130161A (ko) | 2015-02-23 | 2023-09-11 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 노광 장치, 그리고 관리 방법, 중첩 계측 방법 및 디바이스 제조 방법 |
TWI749514B (zh) | 2015-02-23 | 2021-12-11 | 日商尼康股份有限公司 | 測量裝置、微影系統、以及元件製造方法 |
CN111948912A (zh) * | 2015-02-23 | 2020-11-17 | 株式会社尼康 | 基板处理系统及基板处理方法、以及组件制造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006332656A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Asml Netherlands Bv | 2ステージ・リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2007018127A1 (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
WO2007055237A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2008130745A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Canon Inc | 液浸露光装置 |
Family Cites Families (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4780617A (en) | 1984-08-09 | 1988-10-25 | Nippon Kogaku K.K. | Method for successive alignment of chip patterns on a substrate |
KR100300618B1 (ko) | 1992-12-25 | 2001-11-22 | 오노 시게오 | 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법 |
US6208407B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-03-27 | Asm Lithography B.V. | Method and apparatus for repetitively projecting a mask pattern on a substrate, using a time-saving height measurement |
CN100578876C (zh) | 1998-03-11 | 2010-01-06 | 株式会社尼康 | 紫外激光装置以及使用该紫外激光装置的曝光装置和曝光方法 |
SG107560A1 (en) | 2000-02-25 | 2004-12-29 | Nikon Corp | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
KR100815222B1 (ko) | 2001-02-27 | 2008-03-19 | 에이에스엠엘 유에스, 인크. | 리소그래피 장치 및 적어도 하나의 레티클 상에 형성된 적어도 두 개의 패턴으로부터의 이미지로 기판 스테이지 상의 필드를 노출시키는 방법 |
JP2002280283A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-27 | Canon Inc | 基板処理装置 |
TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
DE60217283T2 (de) * | 2001-11-30 | 2007-10-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung |
JP2005536775A (ja) | 2002-08-23 | 2005-12-02 | 株式会社ニコン | 投影光学系、フォトリソグラフィ方法および露光装置、並びに露光装置を用いた方法 |
SG135052A1 (en) | 2002-11-12 | 2007-09-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1420298B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-02-20 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
SG2012087615A (en) | 2003-02-26 | 2015-08-28 | Nippon Kogaku Kk | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
SG194264A1 (en) | 2003-04-11 | 2013-11-29 | Nikon Corp | Apparatus having an immersion fluid system configured to maintain immersion fluid in a gap adjacent an optical assembly |
TWI515769B (zh) | 2003-06-19 | 2016-01-01 | 尼康股份有限公司 | An exposure apparatus, an exposure method, and an element manufacturing method |
JP4444920B2 (ja) | 2003-09-19 | 2010-03-31 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2005059617A2 (en) | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection objective having a high aperture and a planar end surface |
JP5102492B2 (ja) | 2003-12-19 | 2012-12-19 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 結晶素子を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズ |
US7589822B2 (en) | 2004-02-02 | 2009-09-15 | Nikon Corporation | Stage drive method and stage unit, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2005317916A (ja) | 2004-03-30 | 2005-11-10 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
EP3306647A1 (en) | 2004-10-15 | 2018-04-11 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
US20060092399A1 (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, a control system for controlling a lithographic apparatus, and a device manufacturing method |
US7515281B2 (en) | 2005-04-08 | 2009-04-07 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7161659B2 (en) * | 2005-04-08 | 2007-01-09 | Asml Netherlands B.V. | Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method |
CN101980084B (zh) | 2006-02-21 | 2013-01-23 | 株式会社尼康 | 曝光装置、曝光方法及组件制造方法 |
EP3293577A1 (en) * | 2006-02-21 | 2018-03-14 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method |
US7310132B2 (en) * | 2006-03-17 | 2007-12-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2007281308A (ja) * | 2006-04-10 | 2007-10-25 | Canon Inc | 液浸露光装置 |
US7483120B2 (en) * | 2006-05-09 | 2009-01-27 | Asml Netherlands B.V. | Displacement measurement system, lithographic apparatus, displacement measurement method and device manufacturing method |
KR101419196B1 (ko) | 2006-09-29 | 2014-07-15 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 장치 및 노광 방법, 그리고 디바이스 제조 방법 |
JP2008124194A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Canon Inc | 液浸露光方法および液浸露光装置 |
JP2008124219A (ja) | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Canon Inc | 液浸露光装置 |
US20080158531A1 (en) | 2006-11-15 | 2008-07-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
US8040490B2 (en) * | 2006-12-01 | 2011-10-18 | Nikon Corporation | Liquid immersion exposure apparatus, exposure method, and method for producing device |
JP2009218564A (ja) * | 2008-02-12 | 2009-09-24 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
-
2008
- 2008-11-04 CN CN200880011784.0A patent/CN101675500B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-04 KR KR1020097025768A patent/KR101470671B1/ko active IP Right Grant
- 2008-11-04 WO PCT/JP2008/003160 patent/WO2009060585A1/ja active Application Filing
- 2008-11-04 JP JP2009539947A patent/JP4986185B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-06 US US12/265,831 patent/US8797508B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-11-07 TW TW097142980A patent/TWI435183B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-05-13 HK HK10104656.5A patent/HK1137077A1/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006332656A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Asml Netherlands Bv | 2ステージ・リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2007018127A1 (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Nikon Corporation | ステージ装置及び露光装置 |
WO2007055237A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
JP2008130745A (ja) * | 2006-11-20 | 2008-06-05 | Canon Inc | 液浸露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101470671B1 (ko) | 2014-12-08 |
WO2009060585A1 (ja) | 2009-05-14 |
TWI435183B (zh) | 2014-04-21 |
CN101675500A (zh) | 2010-03-17 |
TW200935184A (en) | 2009-08-16 |
KR20100085833A (ko) | 2010-07-29 |
JPWO2009060585A1 (ja) | 2011-03-17 |
US20090225288A1 (en) | 2009-09-10 |
HK1137077A1 (en) | 2010-07-16 |
CN101675500B (zh) | 2011-05-18 |
US8797508B2 (en) | 2014-08-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4986185B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5169786B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP6327385B2 (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
JP5516691B2 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110802 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110811 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111017 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111017 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110802 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111214 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120406 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120419 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4986185 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |