JP7060995B2 - ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係る第1実施形態のインプリント装置100について説明する。インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材と型とを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、型の凹凸パターンが転写された硬化物のパターンを形成する装置である。例えば、本実施形態のインプリント装置100は、基板上にインプリント材Rを供給し、凹凸のパターンが形成されたモールドM(型)を基板上のインプリント材Rに接触させた状態で当該インプリント材Rを硬化させる。そして、モールドMと基板Wとの間隔を広げて、硬化させたインプリント材RからモールドMを剥離(離型)することにより、インプリント材Rのパターンを基板上に形成する。以下では、このようにインプリント装置100で行われる一連の処理を「インプリント処理」と呼ぶことがある。
図1は、本実施形態のインプリント装置100の構成を示す概略図である。インプリント装置100は、モールド保持部1と、基板ステージ2と、駆動部3と、計測部4と、硬化部5と、吐出部6(供給部)と、搬送部7と、制御部8とを含みうる。制御部8は、例えばCPUやメモリ(記憶部)などを有し、インプリント処理を制御する(インプリント装置100の各部を制御する)。図1に示す例では、モールド保持部1、計測部4、硬化部5および吐出部6はそれぞれ構造体9によって支持されており、基板ステージ2は定盤10の上方を移動可能に構成されている。また、本実施形態では、基板ステージ2を駆動するステージ装置が、駆動部3と制御部8とによって構成されうる。
次に、基板ステージ2を駆動するステージ装置の構成について、図2~図4を参照しながら説明する。図2~図4は、本実施形態のステージ装置の構成例を示す図である。図2は、ステージ装置を上方(+Z方向)から見た図を示し、図3は、図2のA-A’断面を-Y方向側から見た図を示し、図4は、図2のB-B’断面を+X方向側から見た図を示している。図2~図4に示す例では、基板ステージ2および駆動部3が図示されており、駆動部3とともにステージ装置を構成する制御部8については図示を省略している。
Fz+Fa+Fb+Fc+Fd=Fm ・・・(1)
(-Fa+Fb+Fc-Fd)・Δx=Fm・Lx ・・・(2)
(Fa+Fb-Fc-Fd)・Δy=Fm・Ly ・・・(3)
次に、Y方向の推力を可動子30bに与えるための複数のコイル31を利用してZ方向の浮上力を可動子30bに与える本実施形態の第1リニアモータ30の原理について、従来のリニアモータ50の構成と比較しながら説明する。図6は、本実施形態の第1リニアモータ30において可動子30bに浮上力を発生させる原理を説明するための図である。図6(a)は、従来のリニアモータ50の構成を示す概略図であり、図6(b)は、本実施形態の第1リニアモータ30の構成を示す概略図である。なお、図6(b)では、説明を分かりやすくするため、調整機構39(第2コイル39a、第2永久磁石39b)の図示を省略している。
本発明に係る第2実施形態のインプリント装置について説明する。第2実施インプリント装置は、第1実施形態のインプリント装置100の構成を基本的に引き継ぐものであり、上述した第1リニアモータ30を有するステージ装置を含みうる。
本発明に係る第3実施形態について説明する。図8は、本実施形態のステージ装置を上方から見た図である。本実施形態のステージ装置は、複数の基板ステージ2と、複数の基板ステージ2をそれぞれY方向に駆動する複数の第1リニアモータ30とを含む。また、第2リニアモータ40は、複数の基板ステージ2に対応するように設けられた複数の可動子40bと、当該複数の可動子40bに対して共通に設けられた固定子40aとを含みうる。このようなステージ装置では、第2リニアモータ40の固定子40aにおいて、各可動子40bの位置に応じてコイル41への通電が切り換えられ、各基板ステージ2(各可動子40b)の駆動が個別に制御される。これにより、基板ステージを複数設けたクラスタ化を実現し、スループットを向上させることができる。
本発明に係る第4実施形態について説明する。図9は、本実施形態のステージ装置を上方から見た図である。本実施形態のステージ装置は、複数の基板ステージ2と、複数の基板ステージ2の各々をY方向に駆動する第1リニアモータ30とを含む。本実施形態の第1リニアモータ30は、複数の基板ステージ2に対応するように設けられた複数の可動子30bと、当該複数の可動子30bに対して共通に設けられた固定子30aとを含みうる。このようなステージ装置では、第1リニアモータ30の固定子30aにおいて、各可動子30bの位置に応じてコイル31への通電が切り換えられ、各基板ステージ2(各可動子30b)の駆動が個別に制御される。これにより、基板ステージ2を複数設けたクラスタ化を実現し、スループットを向上させることができる。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に供給(塗布)されたインプリント材に上記のインプリント装置(インプリント方法)を用いてパターンを形成する工程と、かかる工程でパターンを形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (19)
- ステージを駆動するステージ装置であって、
前記ステージの駆動方向に沿って複数のコイルが配列された固定子と、前記ステージが設けられた可動子とを有するリニアモータと、
前記リニアモータを制御する制御部と、
を含み、
前記可動子は、前記複数のコイルの上方および下方のうち一方に設けられた永久磁石と、他方に設けられた電磁石とを有し、
前記固定子は、前記複数のコイルにおける前記電磁石側を覆うように設けられたヨーク部材を有し、
前記永久磁石は、前記ヨーク部材と前記永久磁石との間に引力が生じるように配置され、
前記電磁石は、前記電磁石への通電によって前記ヨーク部材と前記電磁石との間に引力が生じるように配置され、
前記制御部は、前記複数のコイルおよび前記電磁石への通電を制御することにより、前記固定子に対する前記可動子の浮上を制御するとともに、前記駆動方向への前記ステージの駆動を制御する、ことを特徴とするステージ装置。 - 前記可動子は、複数の前記電磁石を有し、
前記制御部は、複数の前記電磁石への通電を制御することで、前記ステージの姿勢を制御する、ことを特徴とする請求項1に記載のステージ装置。 - 前記固定子に設けられたスケールと、前記可動子に設けられたヘッドとを有するエンコーダを更に含み、
前記ヘッドは、複数の前記電磁石の間に設けられている、ことを特徴とする請求項2に記載のステージ装置。 - 前記駆動方向と垂直な横方向における前記固定子と前記可動子との相対位置を調整する調整機構を更に含み、
前記調整機構は、前記横方向における前記固定子の側面に設けられた第2コイルと、前記可動子に設けられた第2永久磁石とを有し、前記第2コイルへの通電を制御することにより前記相対位置を調整する、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のステージ装置。 - 前記調整機構は、前記横方向における前記固定子の両側面に対してそれぞれ設けられている、ことを特徴とする請求項4に記載のステージ装置。
- 前記第2コイルは、前記駆動方向における長さが、前記固定子における前記複数のコイルの配置範囲より長くなるように構成されている、ことを特徴とする請求項4又は5に記載のステージ装置。
- 前記ヨーク部材は、金属材料によって構成されている、ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記電磁石は、磁束量を検知するためのサーチコイルを含み、
前記制御部は、前記サーチコイルでの検知結果に基づいて、前記電磁石への通電を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のステージ装置。 - 前記永久磁石および前記電磁石は、上下方向において前記複数のコイルおよび前記ヨーク部材を挟み込むように配置されている、ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記制御部は、前記複数のコイルへの通電を制御することによって前記駆動方向へのステージの駆動を制御しながら、前記電磁石への通電を制御することによって前記固定子に対する前記可動子の浮上を制御する、ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のステージ装置。
- 前記永久磁石は前記複数のコイルの下方に配置され、前記電磁石は前記ヨーク部材の上方に配置されている、ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載のステージ装置。
- ステージを駆動するステージ装置であって、
前記ステージの駆動方向に沿って複数のコイルが配列された固定子と、前記ステージが設けられた可動子とを有するリニアモータと、
前記固定子に設けられたスケールと、前記可動子に設けられたヘッドとを有するエンコーダと、
前記リニアモータを制御する制御部と、
を含み、
前記可動子は、前記複数のコイルの上方および下方のうち一方に設けられた永久磁石と、他方に設けられた複数の電磁石とを有し、
前記固定子は、前記複数のコイルにおける前記複数の電磁石側を覆うように設けられたヨーク部材を有し、
前記制御部は、前記複数のコイルおよび前記複数の電磁石への通電を制御することにより、前記固定子に対して前記可動子を浮上させるとともに、前記駆動方向への前記ステージの駆動と前記ステージの姿勢とを制御し、
前記ヘッドは、前記複数の電磁石の間に設けられている、
ことを特徴とするステージ装置。 - ステージを駆動するステージ装置であって、
前記ステージの駆動方向に沿って複数のコイルが配列された固定子と、前記ステージが設けられた可動子とを有するリニアモータと、
前記駆動方向と垂直な横方向における前記固定子と前記可動子との相対位置を調整する調整機構と、
前記リニアモータを制御する制御部と、
を含み、
前記可動子は、前記複数のコイルの上方および下方のうち一方に設けられた永久磁石と、他方に設けられた電磁石とを有し、
前記固定子は、前記複数のコイルにおける前記電磁石側を覆うように設けられたヨーク部材を有し、
前記制御部は、前記複数のコイルおよび前記電磁石への通電を制御することにより、前記固定子に対して前記可動子を浮上させるとともに、前記駆動方向への前記ステージの駆動を制御し、
前記調整機構は、前記横方向における前記固定子の側面に設けられた第2コイルと、前記可動子に設けられた第2永久磁石とを有し、前記第2コイルへの通電を制御することにより前記相対位置を調整し、
前記第2コイルは、前記駆動方向における長さが、前記固定子における前記複数のコイルの配置範囲より長くなるように構成されている、
ことを特徴とするステージ装置。 - ステージを駆動するステージ装置であって、
前記ステージの駆動方向に沿って複数のコイルが配列された固定子と、前記ステージが設けられた可動子とを有するリニアモータと、
前記リニアモータを制御する制御部と、
を含み、
前記可動子は、前記複数のコイルの上方および下方のうち一方に設けられた永久磁石と、他方に設けられ、磁束量を検知するためのサーチコイルを含む電磁石とを有し、
前記固定子は、前記複数のコイルにおける前記電磁石側を覆うように設けられたヨーク部材を有し、
前記制御部は、前記サーチコイルでの検知結果に基づいて前記複数のコイルおよび前記電磁石への通電を制御することにより、前記固定子に対して前記可動子を浮上させるとともに、前記駆動方向への前記ステージの駆動を制御する、
ことを特徴とするステージ装置。 - 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
ステージの移動を制御する請求項1乃至14のいずれか1項に記載のステージ装置を含み、
前記基板は、前記ステージによって保持されている、ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記基板上へのパターン形成における異物の影響を低減する機構を更に含み、
前記機構は、前記可動子の移動領域の下方に配置されている、ことを特徴とする請求項15に記載のリソグラフィ装置。 - 前記ステージ装置は、前記ステージを前記リソグラフィ装置の外部に引き出すことができるように構成されている、ことを特徴とする請求項15又は16に記載のリソグラフィ装置。
- 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
ステージの駆動を制御するステージ装置と、
前記基板上へのパターン形成における異物の影響を低減する機構と、
を含み、
前記基板は、前記ステージによって保持されており、
前記ステージ装置は、
前記ステージの駆動方向に沿って複数のコイルが配列された固定子と、前記ステージが設けられた可動子とを有するリニアモータと、
前記リニアモータを制御する制御部と、
を含み、
前記可動子は、前記複数のコイルの上方および下方のうち一方に設けられた永久磁石と、他方に設けられた電磁石とを有し、
前記固定子は、前記複数のコイルにおける前記電磁石側を覆うように設けられたヨーク部材を有し、
前記制御部は、前記複数のコイルおよび前記電磁石への通電を制御することにより、前記固定子に対して前記可動子を浮上させるとともに、前記駆動方向への前記ステージの駆動を制御し、
前記機構は、前記可動子の移動領域の下方に配置されている、
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項15乃至18のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にパターンを形成する形成工程と、
前記形成工程でパターンを形成された前記基板を加工する加工工程と、を含み、
前記加工工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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