KR102420382B1 - 스테이지 구동 장치, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법 - Google Patents

스테이지 구동 장치, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 스테이지를 구동하는 스테이지 구동 장치를 제공하고, 상기 장치는 스테이지의 구동 방향을 따라 배열된 복수의 코일을 갖는 고정자와, 스테이지가 제공된 가동자를 포함하는 리니어 모터와; 리니어 모터를 제어하도록 구성되는 제어부를 포함하고, 가동자는 복수의 코일의 상측과 하측 중 한 쪽에 제공된 영구 자석과 다른 쪽에 제공된 전자석을 포함하고, 고정자는 복수의 코일의 전자석 측을 덮도록 제공되는 요크 부재를 포함하고, 제어부는 복수의 코일 및 전자석에의 통전을 제어함으로써 고정자에 대해 가동자를 부상시키면서 구동 방향으로의 스테이지의 구동을 제어한다.

Description

스테이지 구동 장치, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법{STAGE DRIVING APPARATUS, LITHOGRAPHY APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}
본 발명은 스테이지 구동 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스 등의 제조에 사용되는 리소그래피 장치는, 기판, 원판 등을 보유지지하는 스테이지를 위한 구동 기구로서, 복수의 코일이 배열된 고정자와, 해당 스테이지가 제공된 가동자를 갖는 리니어 모터를 사용할 수 있다. 리니어 모터는, 일반적으로, 고정자에서의 코일의 배열 방향을 따라서 가동자를 구동하는 기능을 갖지만, 고정자에 대하여 가동자를 부상시킬 수 없다. 그 때문에, 리니어 모터를 갖는 스테이지 구동 장치에서는, 정압 베어링 같은 스테이지(가동자)를 부상시키기 위한 기구가 추가로 제공될 수 있다. 일본 특허 공개 공보 제11-23752호에는, 베이스에 대해 기체를 분출함으로써 스테이지를 부상시키는 공기 베어링이 제공된 스테이지 구동 장치가 제안되어 있다.
일본 특허 공개 공보 제11-23752호에 기재되어 있는 바와 같이, 공기 베어링을 갖는 스테이지 구동 장치에서는, 베이스에의 기체의 분출에 의해 베이스 상의 파티클(이물)이 비산하여, 기판이나 원판 등을 오염시킬 수 있다.
본 발명은 단순한 구성으로 스테이지를 부상시키는데 유리한 스테이지 구동 장치를 제공한다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 스테이지를 구동하는 스테이지 구동 장치가 제공되며, 상기 장치는, 상기 스테이지의 구동 방향을 따라 배열된 복수의 코일을 갖는 고정자와, 상기 스테이지가 제공된 가동자를 포함하는 리니어 모터와; 상기 리니어 모터를 제어하도록 구성되는 제어부를 포함하고, 상기 가동자는, 상기 복수의 코일의 상측과 하측 중 한쪽에 제공된 영구 자석과, 상기 복수의 코일의 상기 상측과 상기 하측 중 다른 쪽에 제공된 전자석(electromagnet)을 포함하고, 상기 고정자는 상기 복수의 코일의 상기 전자석 측을 덮도록 제공된 요크 부재를 포함하며, 상기 제어부는, 상기 복수의 코일 및 상기 전자석에의 통전을 제어함으로써 상기 고정자에 대하여 상기 가동자를 부상시키면서 상기 구동 방향으로의 상기 스테이지의 구동을 제어한다.
본 발명의 추가적인 특징은 첨부된 도면을 참고한 예시적인 실시예에 대한 이하의 설명으로부터 명확해질 것이다.
도 1은 임프린트 장치의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 2는 제1 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 3은 제1 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 4는 제1 실시형태에 다른 스테이지 구동 장치의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 5는 제1 리니어 모터에 의해 발생하는 인력을 설명하기 위한 도면이다.
도 6a 및 도 6b는 가동자에 부상력을 발생시키는 원리를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 제2 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 8은 제3 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 9는 제4 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치의 구성예를 도시하는 도면이다.
도 10a 내지 도 10f는 물품 제조 방법을 도시하는 도면이다.
본 발명의 예시적인 실시형태를 첨부의 도면을 참고하여 이하에서 설명한다. 동일한 참조 번호는 도면 전체를 통해 동일한 부재를 나타내며, 그에 대한 반복적인 설명은 주어지지 않는다는 것에 유의한다.
이하의 실시형태는, 몰드를 사용해서 기판 상에 임프린트재의 패턴을 형성하는 임프린트 장치에 본 발명에 따른 스테이지 구동 장치를 적용하는 경우를 예시할 것이다. 그러나, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 마스크 패턴을 기판 상에 전사하는 노광 장치 및 하전 입자 선을 기판에 조사해서 당해 기판에 패턴을 형성하는 묘화 장치 등의 다른 유형의 리소그래피 장치에도 본 발명에 따른 스테이지 구동 장치를 적용할 수 있다. 이하의 설명에서는, 기판의 표면과 평행한 면 내에서 서로 직교하는 방향을 각각 X 방향 및 Y 방향으로 정의하고, 기판의 표면에 수직인 방향을 Z 방향으로 정의한다.
<제1 실시형태>
본 발명의 제1 실시형태에 따른 임프린트 장치(100)에 대해서 설명한다. 임프린트 장치는, 기판 상에 공급된 임프린트재와 몰드를 접촉시키고, 임프린트재에 경화용 에너지를 부여함으로써, 몰드의 요철 패턴이 전사된 경화물의 패턴을 형성하는 장치이다. 예를 들어, 임프린트 장치(100)는, 기판 상에 임프린트재(R)를 공급하고, 요철을 갖는 패턴이 형성된 몰드(M)를 기판 상의 임프린트재(R)에 접촉시킨 상태에서 당해 임프린트재(R)를 경화시킨다. 그리고, 임프린트 장치(100)는 몰드(M)와 기판(W) 사이의 간격을 넓히고, 경화된 임프린트재(R)로부터 몰드(M)를 박리(이형)함으로써, 임프린트재(R)의 패턴을 기판(W) 상에 형성한다. 이하의 설명에서는, 이렇게 임프린트 장치(100)에 의해 행해지는 일련의 처리를 "임프린트 처리"라 칭하는 경우가 있다.
임프린트재로서는, 경화용 에너지에 의해 경화되는 경화성 조성물(미경화 상태의 수지라 칭하기도 함)이 사용된다. 경화용 에너지로서는, 전자기파, 열 등이 사용된다. 전자기파는, 예를 들어 그 파장이 10 nm 내지 1 mm(포함)의 범위로부터 선택되는 적외선, 가시광선, 또는 UV 선 등의 광이다.
경화성 조성물은 광의 조사 혹은 가열에 의해 경화하는 조성물이다. 광에 의해 경화하는 광경화성 조성물은 적어도 중합성 화합물과 광중합 개시제를 함유하고, 필요에 따라 비중합성 화합물 또는 용제를 함유해도 된다. 비중합성 화합물은, 증감제, 수소 공여체, 내첨형 이형제, 계면활성제, 산화방지제, 폴리머 성분 등을 포함하는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 재료이다.
임프린트재는 스핀 코터나 슬릿 코터에 의해 기판 상에 막 형상으로 부여된다. 혹은, 임프린트재는 액체 분사 헤드를 사용하여, 액적 형상, 혹은 복수의 액적이 연결되어 형성되는 섬 또는 막 형상으로 기판 상에 부여되어도 된다. 임프린트재의 점도(25℃에서의 점도)는, 예를 들어 1 mPa·s 내지 100 mPa·s(포함)이다.
[임프린트 장치의 구성]
도 1은 본 실시형태에 따른 임프린트 장치(100)의 구성을 도시하는 개략도이다. 임프린트 장치(100)는, 몰드 보유지지 유닛(1)과, 기판 스테이지(2)와, 구동 유닛(3)과, 계측 유닛(4)과, 경화 유닛(5)과, 디스펜서(6)(공급 유닛)와, 반송 유닛과, 제어부(8)를 포함한다. 제어부(8)는, 예를 들어 CPU 및 메모리(저장 유닛)을 포함하고, 임프린트 처리를 제어한다(임프린트 장치(100)의 각 유닛을 제어한다). 도 1에 도시하는 경우에서는, 몰드 보유지지 유닛(1), 계측 유닛(4), 경화 유닛(5) 및 디스펜서(6)는 각각 구조체(9)에 의해 지지되고, 기판 스테이지(2)는 베이스(10)를 상방으로 이동시키도록 구성된다. 본 실시형태에서는, 기판 스테이지(2)를 구동하는 스테이지 구동 장치가 구동 유닛(3)과 제어부(8)에 의해 구성될 수 있다.
몰드(M)는, 통상, 석영 등의 자외선을 투과시킬 수 있는 재료를 사용하여 제조된다. 몰드(M)의 기판 측 면의 일부 영역에는, 기판 상의 임프린트재(R)에 전사되는 요철을 갖는 패턴이 형성된다. 또한, 기판(W)으로서는 유리, 세라믹, 금속, 반도체, 수지 등이 사용될 수 있고, 필요에 따라, 그 표면에 기판과는 다른 재료로 이루어지는 부재가 형성되어 있어도 된다. 기판(W)의 구체적인 예는, 실리콘 웨이퍼, 화합물 반도체 웨이퍼, 및 실리카 유리를 포함한다. 임프린트재의 추가 전에, 필요에 따라, 임프린트재와 기판 사이의 부착성을 향상시키기 위해서 부착층을 제공해도 된다.
몰드 보유지지 유닛(1)은, 예를 들어 진공 흡착에 의해 몰드(M)를 보유지지하고, 몰드(M)와 기판(W) 사이의 간격을 변경하도록 몰드(M)를 Z 방향으로 구동한다. 몰드 보유지지 유닛(1)은, Z 방향으로 몰드(M)를 구동하는 기능뿐만 아니라, 예를 들어 X 및 Y 방향과 θ 방향(Z축 둘레의 회전 방향)으로 몰드(M)를 구동하는 기능도 가질 수 있다. 기판 스테이지(2)는, 예를 들어 진공 흡착에 의해 기판(W)을 보유지지하고, 구동 유닛(3)에 의해 예를 들어 X 및 Y 방향으로 구동된다. 구동 유닛(3)의 구체적인 구성에 대해서는 후술한다.
계측 유닛(4)은 예를 들어 이미지 센서를 포함하는 스코프를 갖는다. 계측 유닛(4)은 몰드(M)에 제공된 마크와 기판(W)에 제공된 마크 사이의 위치 관계를 해당 스코프로 검지함으로써 몰드(M)와 기판(W) 사이의 상대 위치를 계측한다. 경화 유닛(5)은, 몰드(M)와 기판 상의 임프린트재(R)가 접촉하고 있는 상태에서, 임프린트재(R)에 몰드(M)를 통해서 광(예를 들어, 자외선)을 조사함으로써 임프린트재(R)를 경화시킨다. 디스펜서(6)는, 기판 상에 임프린트재(R)(미경화 수지)를 분배(공급)한다. 반송 유닛(7)은, 예를 들어 로봇 핸드(7a)를 포함한다. 반송 유닛(7)은 로봇 핸드(7a)에 의해 기판 스테이지(2) 위에 기판(W)을 반송할 수 있고 기판 스테이지(2)로부터 기판(W)을 회수할 수 있다.
[스테이지 구동 장치의 구성]
이어서, 기판 스테이지(2)를 구동하는 스테이지 구동 장치의 구성에 대해서 도 2 내지 도 4를 참조하여 설명한다. 도 2 내지 도 4는, 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치의 구성예를 도시하는 도면이다. 도 2는 스테이지 구동 장치를 상방(+Z 방향)으로부터 본 도면이다. 도 3은 도 2의 A-A' 단면을 -Y 방향으로부터 본 도면을 나타낸다. 도 4는 도 2의 B - B' 단면을 +X 방향으로부터 본 도면을 나타낸다. 도 2 내지 도 4에 도시하는 경우에서는, 기판 스테이지(2) 및 구동 유닛(3)이 도시되어 있지만, 구동 유닛(3)과 함께 스테이지 구동 장치를 구성하는 제어부(8)에 대해서는 도시하지 않는다.
기판 스테이지(2)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 예를 들어 진공 흡착 등에 의해 기판을 보유지지하는 기판 척(21)과, 기판 척(21)을 지지하는 지지판(22)과, 기판 척에 대하여 기판(W)을 승강시키는 승강 기구(23)를 포함할 수 있다. 승강 기구(23)는, 예를 들어 로봇 핸드(7a)에 의한 기판의 반송/회수를 행할 때, 기판 척(21)의 보유지지 면으로부터 리프트 핀(23a)을 돌출시킴으로써, 기판 척(21)을 기판(W)으로부터 이격시킬 수 있다.
구동 유닛(3)은, 기판 스테이지(2)를 Y 방향으로 구동하는 제1 리니어 모터(30)(제1 구동 유닛)과, 기판 스테이지(2)를 제1 리니어 모터(30)와 함께 X 방향으로 구동하는 제2 리니어 모터(40)(제2 구동 유닛)를 포함할 수 있다.
먼저, 제1 리니어 모터(30)의 구성에 대해서 설명한다. 제1 리니어 모터(30)는, 기판 스테이지(2)의 구동 방향(Y 방향)을 따라 복수의 코일(31)이 배열된 고정자(30a)와, 고정자(30a)를 따라 Y 방향으로 이동할 수 있는 가동자(30b)를 포함한다. 가동자(30b)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 고정자(30a)가 관통 연장되고 기판 스테이지(2)(지지판(22))이 설치된 하우징(32)과, 하우징(32) 내에서 고정자(30a)의 하방에 배치된 할바흐 배열(Halbach array)을 갖는 영구 자석(33)을 포함한다. 제어부(8)는 고정자(30a)의 각 코일(31)의 통전을 제어하여 가동자(30b)(하우징(32))를 고정자(30a)를 따라 이동시킨다. 이에 의해 기판 스테이지(2)를 Y 방향으로 구동할 수 있다. 더 구체적으로는, 제어부(8)는 통전될 고정자(30a)의 복수의 코일(31)을 전환함으로써 가동자(30b)에 Y 방향의 추력을 발생시키고 가동자(30b)를 고정자(30a)를 따라 이동시킬 수 있다.
본 실시형태에 따른 제1 리니어 모터(30)에서는, 고정자(30a)는 요크 부재(34)를 더 포함하고, 가동자(30b)는 하우징(32) 내에서 고정자(30a)의 상방에 제공된 전자석(35)을 더 포함한다. 요크 부재(34)는, 예를 들어 금속 재료로 형성되고, 복수의 코일(31)의 전자석측을 덮도록 제공될 수 있다. 전자석(35)은, 예를 들어 통전 코일(36)과 서치 코일(37)이 설치된 E 형의 자성 코어로 형성될 수 있다. 제어부(8)는, 요크 부재(34)와 영구 자석(33) 사이에 작용하는 인력을 요크 부재(34)와 전자석(35) 사이에 작용하는 인력과 일치시키도록, 서치 코일(37)에 의해 검지된 쇄교 자속량에 기초하여, 통전 코일(36)에의 통전을 제어한다. 이에 의해, 고정자(30a)에 대하여 가동자(30b)를 부상시킬 수 있다. 복수의 전자석(35)이, 도 2에 도시한 바와 같이, X 및 Y 방향으로 서로 이격해서 제공된다(도 2에서는 4개의 전자석(35a 내지 35d)). 이렇게 복수의 전자석(35)을 제공함으로써, 각 전자석(35)과 요크 부재(34) 사이에 작용하는 인력을 조정하여, 구동 방향에 평행한 축 둘레(ωY 방향) 및 구동 방향에 수직한 축 둘레(ωX 방향)에서의 기판 스테이지(2)의 자세(기울기)를 제어할 수 있다.
예를 들어, 도 5에 도시한 바와 같이, 요크 부재(34)와 영구 자석(33) 사이에 작용하는 인력(Z 방향)을 Fz로 하고, 요크 부재(34)와 전자석(35a 내지 35d) 사이에 작용하는 인력(Z 방향)을 Fa 내지 Fd로 한다. 이 경우, 가동자(30b)를 고정자(30a)에 대하여 부상시키기 위해서는, 이하의 식(1)에 의해 표현되는 바와 같이, 인력 Fz와 인력 Fa 내지 Fd의 합력을, 가동자(30b)의 자중(m)(기판 스테이지(2)의 자중을 포함)에 의해 발생하는 중력(Fm)과 일치시키는 것이 필요하다. 따라서, 제어부(8)는, 서치 코일(37)에 의해 획득된 검지 결과에 기초하여, 식 (1)을 만족시키도록 각 전자석(35a 내지 35d)의 통전 코일(36)에의 통전을 제어함으로써, 가동자(30b)를 고정자(30a)에 대하여 부상시킬 수 있다.
Fz+Fa+Fb+Fc+Fd=Fm ...(1)
고정자(30a)의 무게 중심과 가동자(30b)의 무게 중심 사이의 X 방향의 어긋남량을 Lx로 하고, 고정자(30a)의 무게 중심으로부터의 각 전자석(35)의 거리를 Δx로 하면, 구동 방향에 평행한 축 둘레(ωY 방향)의 모멘트는 이하에 주어진 식 (2)를 만족할 필요가 있다. 마찬가지로, 고정자(30a)의 무게 중심과 가동자(30b)의 무게 중심 사이의 Y 방향의 어긋남량을 Ly로 하고, 고정자(30a)의 무게 중심으로부터의 각 전자석(35)의 거리를 Δy로 하면, 구동 방향에 수직한 축 둘레(ωX 방향)의 모멘트는 이하에 주어진 식 (3)을 만족할 필요가 있다. 따라서, 제어부(8)는, 서치 코일(37)에 의해 획득된 검지 결과에 기초하여, 식 (2) 및 (3)을 만족하도록 각 전자석(35)의 통전 코일(36)에의 통전을 제어함으로써, 고정자(30a)(즉, 기판 스테이지(2))의 자세를 제어할 수 있다.
(-Fa+Fb+Fc-Fd)·Δx=Fm·Lx ...(2)
(Fa+Fb-Fc-Fd)·Δy=Fm·Ly ...(3)
제1 리니어 모터(30)에는, 가동자(30b)의 위치를 계측하기 위한 인코더(38)와, 구동 방향에 수직한 가로 방향(lateral direction; X 방향)에서의 고정자(30a)와 가동자(30b) 사이의 상대 위치를 조정하는 조정 기구(39)가 제공될 수 있다.
인코더(38)는, 고정자(30a)에 설치되고 Y 방향으로 연장되는 스케일(38a)과, 가동자(30b)에 설치되는 헤드(38b)(수광 유닛)를 포함하고, X 방향에서의 복수의 전자석(35)의 사이에 배치될 수 있다. 본 실시형태에 따른 인코더(38)는, 도 2에 도시한 바와 같이, 고정자(30a)에 대한 가동자(30b)의 Y 방향 위치를 계측하기 위한 2개의 헤드(38by)와, 고정자(30a)에 대한 가동자(30b)의 X 방향의 위치를 계측하기 위한 헤드(38bx)를 포함할 수 있다. Y 방향 위치를 계측하기 위한 헤드(38by)를 2개 제공함으로써, Z축 둘레(ωZ 방향)에서의 기판 스테이지(2)의 자세(회전량)도 계측할 수 있다.
조정 기구(39)는, 도 2 내지 도 3에 도시한 바와 같이, X 방향에서의 고정자(30a)(복수의 코일(31))의 측면에 설치된 제2 코일(39a)과, 제2 코일(39a)의 일부를 수직방향으로 끼워넣도록 가동자(30b)에 설치된 제2 영구 자석(39b)을 포함한다. 제2 코일(39a)은, 도 2에 도시한 바와 같이, Y 방향에서의 길이가 고정자(30a)의 복수의 코일(31)의 배치 범위(또는 Y 방향으로의 가동자의 가동 범위)보다 길어지도록 연장되고, 고온 수지를 사용해서 고정자(30a)와 일체로서 형성될 수 있다. 조정 기구(39)는, X 방향에서의 고정자(30a)의 양 측면에 제공되는 것이 바람직하다. 이 경우, 도 2에 도시한 바와 같이, 양 측면의 조정 기구(39)에 제2 영구 자석(39b)을 Y 방향으로 서로 어긋나도록 배치하면, X 방향의 상대 위치에 추가하여, Z축 둘레(ωZ 방향)에서의 기판 스테이지(2)의 자세도 조정할 수 있다. 조정 기구(39)에서는, 제어부(8)는 인코더(38)에 의해 계측된 기판 스테이지(2)의 위치(X 방향) 및 자세(ωZ 방향)에 기초하여, 제2 코일(39a)의 통전을 제어한다. 이에 의해, 고정자(30a)와 가동자(30b) 사이에서 X 방향의 추력을 발생시키고, 고정자(30a)와 가동자(30b)의 상대 위치(X 방향) 및 상대 자세(ωZ 방향)를 조정할 수 있다.
이 경우, 본 실시형태에 따른 제1 리니어 모터(30)는, 고정자(30a)의 하방에 영구 자석(33)을 배치하고, 고정자(30a)의 상방에 전자석(35)을 배치하도록 구성된다. 그러나, 이것으로 한정되지 않는다. 고정자(30a)의 상측과 하측 중 한쪽에 영구 자석(33)을 배치하고, 다른 쪽에 전자석(35)을 배치해도 된다. 더 구체적으로는, 고정자(30a)의 하방에 전자석(35)을 배치하고, 고정자(30a)의 상방에 영구 자석(33)을 배치해도 된다. 이 경우, 요크 부재(34)는, 복수의 코일(31)의 전자석측을 덮도록 고정자(30a)의 하측에 설치된다.
이어서, 제2 리니어 모터(40)의 구성에 대해서 설명한다. 제2 리니어 모터(40)는, 도 4에 도시한 바와 같이, 기판 스테이지(2)의 구동 방향(X 방향)을 따라 복수의 코일(41)이 배열된 고정자(40a)와, 고정자(40a)를 따라 X 방향으로 이동가능한 가동자(40b)를 포함한다. 가동자(40b)는, 고정자(40a)가 관통 연장되고 제1 리니어 모터(30)의 고정자(30a)가 설치되는 하우징(42)과, Y 방향에서 고정자(40a)를 끼워넣도록 하우징 내에 배치된 할바흐 배열을 갖는 영구 자석(43)을 포함한다. 제어부(8)는 고정자(40a)의 각 코일(41)의 통전을 제어하여 가동자(40b)(하우징(42))를 고정자(40a)를 따라 이동시킨다. 이는 기판 스테이지(2)를 제1 리니어 모터(30)와 함께 X 방향으로 이동시킬 수 있다. 더 구체적으로는, 제어부(8)가 통전될 고정자(40a)의 복수의 코일(41)을 전환함으로써, 가동자(40b)에 X 방향의 추력을 발생시키고, 가동자(40b)를 고정자(40a)를 따라 이동시킬 수 있다.
제2 리니어 모터(40)에는, X 방향으로의 가동자(40b)의 이동을 안내하기 위한 안내 기구(44)와, 가동자(40b)의 X 방향 위치를 계측하기 위한 인코더(45)가 제공된다. 안내 기구(44)는, 베이스(10)에 설치되고 X 방향으로 연장되는 레일(44a)과, 가동자(40b)에 설치되고 레일(44a) 위를 이동가능한 캐리어(44b)를 포함한다. 인코더(45)는, 베이스(10)에 설치되어서 X 방향으로 연장되는 스케일(45a)과, 가동자(40b)에 설치된 헤드(45b)(수광 유닛)을 포함한다.
본 실시형태는, 제2 리니어 모터(40)로서, 자석을 갖는 가동자를 로렌츠 힘(Lorentz force)에 의해 이동시키는 가동 자석형 리니어 모터를 사용한다. 그러나, 이것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 실시형태는 코일을 갖는 가동자를 로렌츠 힘에 의해 이동시키는 가동 코일형 리니어 모터를 사용해도 된다. 또한, 본 실시형태는, 기판 스테이지(2)를 제1 리니어 모터(30)와 함께 X 방향으로 구동하는 제2 구동 유닛으로서 제2 리니어 모터(40)를 사용한다. 그러나, 상기 실시형태는 스텝핑 자기 모터 등의 리니어 모터 이외의 구동 기구를 제2 리니어 모터(40) 대신에 사용해도 된다.
[종래 구성과의 비교]
Y 방향 추력을 가동자(30b)에 부여하기 위한 복수의 코일(31)을 이용해서 Z 방향 부상력을 가동자(30b)에 부여하는 본 실시형태에 따른 제1 리니어 모터(30)의 원리에 대해서, 종래의 리니어 모터(50)의 구성과 비교하여 설명한다. 도 6a 및 도 6b는, 본 실시형태에 따른 제1 리니어 모터(30)에서 가동자(30b)에 부상력을 발생시키는 원리를 설명하기 위한 도면이다. 도 6a는, 종래의 리니어 모터(50)의 구성을 도시하는 개략도이다. 도 6b는, 본 실시형태에 따른 제1 리니어 모터(30)의 구성을 도시하는 개략도이다. 도 6b는, 용이한 이해를 위해 조정 기구(39)(제2 코일(39a) 및 제2 영구 자석(39b))의 도시를 생략한다.
리니어 모터(50)의 가동자(50b)에서는, 도 6a에 도시하는 바와 같이, 요크 부재(54)를 통해서 하우징(52)에 각각 설치된 한 쌍의 영구 자석(53a, 53b)이, 고정자(50a)에서의 복수의 코일(51)을 수직방향으로부터 끼워넣고 있다. 이렇게 배치된 영구 자석(53a, 53b)과 각각의 코일(51) 사이에서는 화살표로 나타내는 것과 같은 인력이 작용하지만, 이들 인력은 가동자(50b) 전체에서 보면 내력이며, 서로 상쇄된다. 즉, 종래의 리니어 모터(50)는, 가동자(50b)의 자중을 지지하기에 충분한 크기의 부상력을 발생시킬 수 없기 때문에, 정압 베어링(공기 베어링 또는 자기 베어링) 등의 자중 보상 기구(55)가 제공될 필요가 있다.
도 6b에 도시된 바와 같이, 본 실시형태에 따른 제1 리니어 모터(30)에서는, 가동자(30b)의 고정자(30a)의 상방에 전자석(35)이 제공되고, 고정자(30a)에는, 복수의 코일(31)의 전자석측을 덮도록 요크 부재(34)가 제공된다. 이렇게 구성하면, 고정자(30a)의 하방에 배치된 가동자(30b)의 영구 자석(33)과 고정자(30a)의 코일(31) 사이에 작용하는 인력에 의해, 가동자(30b)의 자중을 지지하기에 충분히 큰 부상력을 발생시킬 수 있다. 전자석(35)과 요크 부재(34) 사이에 작용하는 인력을 제어함으로써, 가동자(30b)의 부상력과 중력 사이의 밸런스를 유지할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치의 제1 리니어 모터(30)에서, 가동자(30b)는 고정자(30a)의 하방에 배치된 영구 자석(33)과 고정자(30a)의 상방에 배치된 전자석(35)을 포함한다. 고정자(30a)는 복수의 코일(31)의 전자석측을 덮도록 배치된 요크 부재(34)를 포함한다. 이러한 구성에 의해, 제1 리니어 모터(30)에서는, Y 방향의 추력을 가동자(30b)에 부여하기 위한 복수의 코일(31)을 이용하여, 고정자(30a)에 대해 Z 방향의 부상력을 가동자(30b)에 부여할 수 있다. 즉, 제1 리니어 모터(30)는, 가동자(30b)를 부상시키기 위해서 정압 베어링(공기 베어링, 자기 베어링 등)이 별도로 제공되는 종래의 구성과 비교하여 간단한 구성으로 가동자(30b)를 부상시킬 수 있다.
이 경우, 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치는, 상술한 제1 리니어 모터(30)를 사용함으로써, 베이스(10)의 재료 및 가공 정밀도(표면 조도, 평탄도 등)의 중요도를 저감한다. 따라서, 본 실시형태는, 베이스(10)의 재료로서 종래 사용되어 온 철 재료보다 밀도가 작은 재료를 사용하거나, 용접 구조, 리브 구조, 중공 구조 등으로 베이스(10)를 형성할 수 있다. 이는 스테이지 구동 장치의 전체 중량을 크게 감소시킬 수 있다. 베이스(10)에 사용될 수 있는 재료는, 예를 들어 알루미늄 합금, 세라믹스, 마그네슘 합금, 섬유 강화 플라스틱(FRP), 및 탄소 섬유 강화 플라스틱(CFRP)을 포함한다.
도 4에 도시한 바와 같이, 기판 상에의 패턴 형성에서의 파티클(이물)의 영향을 저감하기 위한 저감 기구(11)를, 제1 리니어 모터(30)의 가동자(30b)의 하방(예를 들어, 가동자(30b)의 이동 영역의 하방)에 제공할 수 있다. 즉, 저감 기구(11)는, 제1 리니어 모터(30)의 가동자(30b)가 저감 기구(11) 위를 통과할 수 있도록, 가동자(30b)와 베이스(10) 사이에 제공될 수 있다. 저감 기구(11)의 예는, 몰드(M)로부터 전하를 제거하기 위한 제전 기구, 장치 내의 파티클을 수집(회수)하기 위한 집진 기구, 장치를 배기하기 위한 배기 기구, X 및 Y 방향을 따른 기류를 생성하는 생성 기구, 및 장치 내에 클린 에어를 공급하는 공급 기구를 포함한다. 예를 들어, 제전 기구는 저감 기구(11)로서 사용하는 경우, 이온화된 기체나 자외선 등을 하방으로부터 몰드(M)에 가할 수 있기 때문에, 몰드(M)로부터 전하를 효율적으로 제거할 수 있다.
<제2 실시형태>
본 발명의 제2 실시형태에 따른 임프린트 장치에 대해서 설명한다. 제2 실시형태에 따른 임프린트 장치는 기본적으로 제1 실시형태에 따른 임프린트 장치(100)의 구성을 이어받으며, 상술한 제1 리니어 모터(30)를 갖는 스테이지 구동 장치를 포함할 수 있다.
임프린트 장치에서 파티클에 기인한 패턴 형성 에러가 발생하는 경우, 스테이지 구동 장치를 임프린트 장치로부터 인출하여 클리닝 및 부품 교환 같은 메인터넌스 작업을 행하는 경우가 있다. 따라서, 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치는, 기판 스테이지(2)(제1 리니어 모터(30))가 임프린트 장치로부터 인출될 수 있도록 구성된다.
도 7은 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치를 상방으로부터 본 도면이다. 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 제2 리니어 모터(40)의 가동자(40b) 및 안내 기구(44)의 레일(44a)이 임프린트 장치(베이스(10))의 외부로 연장(인출)될 수 있도록 구성될 수 있다. 이 경우에, 인코더(45)의 스케일(45a)이 임프린트 장치의 외부로 연장되도록 구성될 수 있고, 레이저 간섭계 같은 다른 계측 유닛이 인코더 대신에 사용될 수 있다. 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치에서는, 제1 리니어 모터(30)의 가동자(30b)가 고정자(30a)에 대하여 부상된 상태에 있기 때문에, 제1 리니어 모터(30)를 베이스(10)로부터 이동시키는 경우에도, 가동자(30b)의 부상된 상태를 유지시킬 수 있다.
<제3 실시형태>
본 발명에 따른 제3 실시형태에 대해서 설명한다. 도 8은 본 실시형태에 다른 스테이지 구동 장치를 상방으로부터 본 도면이다. 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치는, 복수의 기판 스테이지(2)와 복수의 기판 스테이지(2)를 각각 Y 방향으로 구동하는 복수의 제1 리니어 모터(30)를 포함한다. 제2 리니어 모터(40)는, 복수의 기판 스테이지(2)에 대응하여 제공된 복수의 가동자(40b)와 복수의 가동자(40b)에 대하여 공통으로 제공된 고정자(40a)를 포함할 수 있다. 이러한 스테이지 구동 장치에서는, 제2 리니어 모터(40)의 고정자(40a)는, 각 가동자(40b)의 위치에 따라서 코일(41)에의 통전을 전환함으로써, 각 기판 스테이지(2)(각 가동자(40b))의 구동을 개별적으로 제어한다. 이에 의해 복수의 기판 스테이지가 제공된 클러스터화를 실현하고 스루풋을 향상시킬 수 있다.
<제4 실시형태>
본 발명의 제4 실시형태에 대해서 설명한다. 도 9는 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치를 상방으로부터 본 도면이다. 본 실시형태에 따른 스테이지 구동 장치는, 복수의 기판 스테이지(2)와, 복수의 기판 스테이지(2)의 각각을 Y 방향으로 구동하는 제1 리니어 모터(30)를 포함한다. 본 실시형태에 따른 제1 리니어 모터(30)는, 복수의 기판 스테이지(2)에 대응하여 제공된 복수의 가동자(30b)와, 당해 복수의 가동자(30b)에 공통으로 제공된 고정자(30a)를 포함할 수 있다. 이러한 스테이지 구동 장치에서는, 제1 리니어 모터(30)의 고정자(30a)는, 각 가동자(30b)의 위치에 따라서 코일(31)에의 통전을 전환함으로써, 각 기판 스테이지(2)(각 가동자(30b))의 구동을 제어한다. 이에 의해, 복수의 기판 스테이지(2)가 제공된 클러스터화를 실현할 수 있고 스루풋을 향상시킬 수 있다.
<물품 제조 방법의 실시형태>
본 발명의 실시형태에 따른 물품 제조 방법은 예를 들어 미세구조를 갖는 소자 또는 반도체 디바이스 같은 미세-디바이스 같은 물품을 제조하는데 적합하다. 본 실시형태의 물품을 제조하는 방법은 상술한 임프린트 장치(임프린트 방법)을 사용하여 기판에 공급(도포)된 임프린트재에 패턴을 형성하는 단계, 및 이 단계에서 패턴이 형성된 기판을 가공하는 단계를 포함한다. 또한, 대응하는 제조 방법은 다른 주지의 단계(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 및 패키징 등)를 포함한다. 본 실시형태의 물품 제조 방법은 종래의 방법에 비하여 물품에 대한 성능, 품질, 생산성 및 제조 비용 중 적어도 하나에서 유리하다.
임프린트 장치를 사용하여 형성된 경화물의 패턴은 다양한 물품의 적어도 일부에 영구적으로 사용되거나 다양한 물품을 제조할 때 일시적으로 사용된다. 물품은 전기 회로 소자, 광학 소자, MEMS, 기록 소자, 센서, 몰드 등이다. 전기 회로 소자는 DRAM, SRAM, 플래시 메모리, 및 MRAM 같은 휘발성 또는 불휘발성 반도체 메모리, LSI, CCD, 이미지 센서, 및 FPGA 같은 반도체 소자 등일 수 있다. 몰드는 예를 들어 임프린트용 몰드일 수 있다.
경화물의 패턴은 전술한 물품의 구성 부재의 적어도 일부로서 그대로 사용되거나 레지스트 마스크로서 일시적으로 사용된다. 레지스트 마스크는 기판을 처리하는 단계에서 에칭, 이온 주입 등이 행해진 후에 제거된다.
이어서, 물품을 제조하는 상세한 방법에 대해서 설명한다. 도 10a에 도시된 바와 같이, 표면에 절연 부재 등인 피처리재(2z)가 형성되어 있는 실리콘 웨이퍼인 기판(1z)을 준비하고, 그 다음 잉크젯법 등에 의해 임프린트재(3z)를 피처리재(2z)의 표면에 도포한다. 여기서, 복수의 액적 형상의 임프린트재(3z)가 기판 상에 도포된 상황이 도시되어 있다.
도 10b에 도시된 바와 같이, 임프린팅용 몰드(4z)는, 오목부 및 볼록부로 구성된 패턴이 형성되어 있는 측면이 기판 상의 임프린트재(3z)를 향하도록 배향된다. 도 10c에 도시된 바와 같이, 임프린트재(3z)가 도포된 기판(1z) 및 몰드(4z)는 접촉되고, 압력이 가해진다. 임프린트재(3z)는 몰드(4z)와 피처리재(2z) 사이의 공간 안으로 충전된다. 이 상태에서 몰드(4z)를 통해 경화용 에너지로서의 광이 조사되면, 임프린트재(3z)는 경화된다.
도 10d에 도시된 바와 같이, 몰드(4z) 및 기판(1z)이 임프린트재(3z)가 경화된 후에 분리되면, 임프린트재(3z)의 경화물의 패턴이 기판(1z)에 형성된다. 이 경화물의 패턴은 몰드의 오목부가 경화물의 볼록부에 대응하고 몰드의 볼록부가 경화물의 볼록부에 대응하는 형상을 갖는데, 즉 몰드(4z)의 오복부 및 볼록부로 구성되는 패턴이 임프린트재(3z)에 전사되게 된다.
도 10e에 도시된 바와 같이, 경화물의 패턴이 에칭 저항 마스크로서 에칭되면, 피처리재(2z)의 표면으로부터, 경화물이 존재하지 않거나 얇게 잔존하는 부분이 제거되고, 홈(5z)이 형성된다. 도 10f에 도시된 바와 같이, 경화물의 패턴이 제거되면, 피처리재(2z)의 표면에 홈(5z)이 형성된 물품을 얻을 수 있다. 여기서는 경화물의 패턴이 제거되지만, 예를 들어 패턴은 처리 후에 제거되지 않고 반도체 소자 등에 포함되는 층간 절연용 막, 즉 물품의 구성 부재로서 사용될 수 있다.
<다른 실시형태>
본 발명의 실시형태(들)는, 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 저장 매체(보다 완전하게는 '비일시적 컴퓨터 판독가능 저장 매체'라 칭할수도 있음)에 기록된 컴퓨터 실행가능 명령어(예를 들어, 하나 이상의 프로그램)를 판독 및 실행하고 그리고/또는 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하는 하나 이상의 회로(예를 들어, 주문형 집적 회로(ASIC))를 포함하는 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해, 그리고 예를 들어 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 저장 매체로부터 컴퓨터 실행가능 명령어를 판독 및 실행함으로써 그리고/또는 전술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 하나 이상의 회로를 제어함으로써 상기 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해 실행되는 방법에 의해 실현될 수도 있다. 컴퓨터는 하나 이상의 프로세서(예를 들어, 중앙 처리 유닛(CPU), 마이크로 처리 유닛(MPU))를 포함할 수 있고 컴퓨터 실행가능 명령어를 판독 및 실행하기 위한 별도의 컴퓨터 또는 별도의 프로세서의 네트워크를 포함할 수 있다. 컴퓨터 실행가능 명령어는 예를 들어 네트워크 또는 저장 매체로부터 컴퓨터에 제공될 수 있다. 저장 매체는, 예를 들어 하드 디스크, 랜덤 액세스 메모리(RAM), 리드 온리 메모리(ROM), 분산형 컴퓨팅 시스템의 스토리지, 광디스크(예를 들어, 콤팩트 디스크(CD), 디지털 다기능 디스크(DVD) 또는 블루레이 디스크(BD)TM), 플래시 메모리 디바이스, 메모리 카드 등 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
(기타의 실시예)
본 발명은, 상기의 실시형태의 1개 이상의 기능을 실현하는 프로그램을, 네트워크 또는 기억 매체를 개입하여 시스템 혹은 장치에 공급하고, 그 시스템 혹은 장치의 컴퓨터에 있어서 1개 이상의 프로세서가 프로그램을 읽어 실행하는 처리에서도 실현가능하다.
또한, 1개 이상의 기능을 실현하는 회로(예를 들어, ASIC)에 의해서도 실행가능하다.
본 발명을 예시적인 실시형태를 참고하여 설명하였지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시형태로 한정되지 않음을 이해해야 한다. 이하의 청구항의 범위는 이러한 모든 변형과 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 최광의로 해석되어야 한다.

Claims (19)

  1. 스테이지를 구동하는 스테이지 구동 장치이며,
    상기 스테이지의 구동 방향을 따라 배열된 복수의 코일을 갖는 고정자와, 상기 스테이지가 제공된 가동자를 포함하는 리니어 모터와;
    상기 리니어 모터를 제어하도록 구성되는 제어부를 포함하고,
    상기 가동자는, 상기 복수의 코일의 상측과 하측 중 한쪽에 제공된 영구 자석과, 상기 복수의 코일의 상기 상측과 상기 하측 중 다른 쪽에 제공된 전자석(electromagnet)을 포함하고,
    상기 고정자는 상기 복수의 코일의 상기 전자석 측을 덮도록 제공된 요크 부재를 포함하며,
    상기 영구 자석은, 상기 요크 부재와 상기 영구 자석 사이에 인력이 작용하도록 배치되고,
    상기 전자석은, 상기 전자석에의 통전에 의해 상기 요크 부재와 상기 영구 자석 사이에 인력이 작용하도록 배치되고,
    상기 제어부는, 상기 복수의 코일 및 상기 전자석에의 통전을 제어함으로써 상기 고정자에 대하여 상기 가동자를 부상시키게 제어하면서 상기 구동 방향으로의 상기 스테이지의 구동을 제어하는, 스테이지 구동 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가동자는 복수의 상기 전자석을 포함하며,
    상기 제어부는 상기 복수의 전자석에의 통전을 제어함으로써 상기 스테이지의 자세를 제어하는, 스테이지 구동 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 고정자에 제공된 스케일과 상기 가동자에 제공된 헤드를 포함하는 인코더를 더 포함하며,
    상기 헤드는 상기 복수의 전자석의 사이에 제공되어 있는, 스테이지 구동 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 구동 방향에 수직한 가로 방향(lateral direction)에서의 상기 고정자와 상기 가동자 사이의 상대 위치를 조정하도록 구성되는 조정 기구를 더 포함하며,
    상기 조정 기구는, 상기 가로 방향에서의 상기 고정자의 측면에 제공된 제2 코일과 상기 가동자에 제공된 제2 영구 자석을 포함하고, 상기 제2 코일에의 통전을 제어함으로써 상기 상대 위치를 조정하는, 스테이지 구동 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 조정 기구는 상기 가로 방향에서의 상기 고정자의 2개의 측면 각각에 대하여 제공되는, 스테이지 구동 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 제2 코일은, 상기 고정자에서의 상기 복수의 코일의 배치 범위보다 긴 상기 구동 방향에서의 길이를 갖도록 구성되는, 스테이지 구동 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 요크 부재는 금속 재료로 형성되는, 스테이지 구동 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 전자석은 자속량을 검지하도록 구성되는 서치 코일을 포함하며,
    상기 제어부는, 상기 서치 코일에 의해 취득된 검지 결과에 기초하여 상기 전자석에의 통전을 제어하는, 스테이지 구동 장치.
  9. 기판 상에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이며,
    상기 기판을 보유지지하도록 구성되는 스테이지와;
    상기 스테이지를 구동하도록 구성되는 스테이지 구동 장치를 포함하고,
    상기 스테이지 구동 장치는,
    상기 스테이지의 구동 방향을 따라 배열된 복수의 코일을 갖는 고정자와, 상기 스테이지가 제공된 가동자를 포함하는 리니어 모터와;
    상기 리니어 모터를 제어하도록 구성되는 제어부를 포함하고,
    상기 가동자는 상기 복수의 코일의 상측과 하측 중 한쪽에 제공된 영구 자석과, 상기 복수의 코일의 상기 상측과 상기 하측 중 다른 쪽에 제공된 전자석을 포함하고,
    상기 고정자는 상기 복수의 코일의 상기 전자석 측을 덮도록 제공된 요크 부재를 포함하며,
    상기 영구 자석은, 상기 요크 부재와 상기 영구 자석 사이에 인력이 작용하도록 배치되고,
    상기 전자석은, 상기 전자석에의 통전에 의해 상기 요크 부재와 상기 영구 자석 사이에 인력이 작용하도록 배치되고,
    상기 제어부는, 상기 복수의 코일 및 상기 전자석에의 통전을 제어함으로써 상기 고정자에 대하여 상기 가동자를 부상시키게 제어하면서 상기 구동 방향으로의 상기 스테이지의 구동을 제어하는, 리소그래피 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 기판 상의 패턴 형성에서의 이물의 영향을 저감하도록 구성되는 기구를 더 포함하며,
    상기 기구는 상기 가동자의 이동 영역의 하방에 배치되어 있는, 리소그래피 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 스테이지 구동 장치는 상기 스테이지가 상기 리소그래피 장치의 외부로 인출될 수 있도록 구성되는, 리소그래피 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 영구 자석과 상기 전자석은, 상기 복수의 코일과 상기 요크 부재를 수직 방향으로 끼워넣도록 배치되는, 스테이지 구동 장치.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 복수의 코일에의 통전을 제어하면서 상기 전자석에의 통전을 제어함으로써, 상기 고정자에 대하여 상기 가동자를 부상시키게 제어하는, 스테이지 구동 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 영구 자석은 상기 복수의 코일의 하측에 배치되고, 상기 전자석은 상기 복수의 코일의 상측에 배치되는, 스테이지 구동 장치.
  15. 제8항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 요크 부재와 통전 코일 사이에 작용하는 인력이 상기 요크 부재와 상기 영구 자석 사이에 작용하는 인력과 일치하도록, 상기 서치 코일에 의해 취득된 검지 결과에 기초하여 상기 전자석에의 통전을 제어하는, 스테이지 구동 장치.
  16. 스테이지를 구동하는 스테이지 구동 장치이며,
    상기 스테이지의 구동 방향을 따라 배열된 복수의 코일을 갖는 고정자와, 상기 스테이지가 제공된 가동자를 포함하는 리니어 모터와;
    상기 구동 방향에 수직한 가로 방향(lateral direction)에서의 상기 고정자와 상기 가동자 사이의 상대 위치를 조정하도록 구성되는 조정 기구와,
    상기 리니어 모터를 제어하도록 구성되는 제어부를 포함하고,
    상기 가동자는, 상기 복수의 코일의 상측과 하측 중 한쪽에 제공된 영구 자석과, 상기 복수의 코일의 상기 상측과 상기 하측 중 다른 쪽에 제공된 전자석(electromagnet)을 포함하고,
    상기 고정자는 상기 복수의 코일의 상기 전자석 측을 덮도록 제공된 요크 부재를 포함하며,
    상기 제어부는, 상기 복수의 코일 및 상기 전자석에의 통전을 제어함으로써 상기 고정자에 대하여 상기 가동자를 부상시키면서 상기 구동 방향으로의 상기 스테이지의 구동을 제어하고,
    상기 조정 기구는, 상기 가로 방향에서의 상기 고정자의 측면에 제공된 제2 코일과 상기 가동자에 제공된 제2 영구 자석을 포함하고, 상기 제2 코일에의 통전을 제어함으로써 상기 상대 위치를 조정하는, 스테이지 구동 장치.
  17. 기판 상에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이며,
    상기 기판을 보유지지하도록 구성되는 스테이지와;
    상기 스테이지를 구동하도록 구성되는 스테이지 구동 장치와;
    상기 기판 상의 패턴 형성에서의 이물의 영향을 저감하도록 구성되는 기구를 포함하며,
    상기 스테이지 구동 장치는,
    상기 스테이지의 구동 방향을 따라 배열된 복수의 코일을 갖는 고정자와, 상기 스테이지가 제공된 가동자를 포함하는 리니어 모터와;
    상기 리니어 모터를 제어하도록 구성되는 제어부를 포함하고,
    상기 가동자는 상기 복수의 코일의 상측과 하측 중 한쪽에 제공된 영구 자석과, 상기 복수의 코일의 상기 상측과 상기 하측 중 다른 쪽에 제공된 전자석을 포함하고,
    상기 고정자는 상기 복수의 코일의 상기 전자석 측을 덮도록 제공된 요크 부재를 포함하며,
    상기 제어부는, 상기 복수의 코일 및 상기 전자석에의 통전을 제어함으로써 상기 고정자에 대하여 상기 가동자를 부상시키면서 상기 구동 방향으로의 상기 스테이지의 구동을 제어하고,
    상기 기구는 상기 가동자의 이동 영역의 하방에 배치되어 있는, 리소그래피 장치.
  18. 기판 상에 패턴을 형성하는 리소그래피 장치이며,
    상기 기판을 보유지지하도록 구성되는 스테이지와;
    상기 스테이지를 구동하도록 구성되는 스테이지 구동 장치를 포함하며,
    상기 스테이지 구동 장치는,
    상기 스테이지의 구동 방향을 따라 배열된 복수의 코일을 갖는 고정자와, 상기 스테이지가 제공된 가동자를 포함하는 리니어 모터와;
    상기 리니어 모터를 제어하도록 구성되는 제어부를 포함하고,
    상기 가동자는 상기 복수의 코일의 상측과 하측 중 한쪽에 제공된 영구 자석과, 상기 복수의 코일의 상기 상측과 상기 하측 중 다른 쪽에 제공된 전자석을 포함하고,
    상기 고정자는 상기 복수의 코일의 상기 전자석 측을 덮도록 제공된 요크 부재를 포함하며,
    상기 제어부는, 상기 복수의 코일 및 상기 전자석에의 통전을 제어함으로써 상기 고정자에 대하여 상기 가동자를 부상시키면서 상기 구동 방향으로의 상기 스테이지의 구동을 제어하고,
    상기 스테이지 구동 장치는 상기 스테이지가 상기 리소그래피 장치의 외부로 인출될 수 있도록 구성되는, 리소그래피 장치.
  19. 물품 제조 방법이며,
    제9항 내지 제11항, 제17항 및 제18항 중 어느 한 항에 따른 리소그래피 장치를 사용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 패턴이 형성된 상기 기판을 가공하여 상기 물품을 제조하는 단계를 포함하는, 물품 제조 방법.
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