CN105209218B - 对平坦衬底进行基于激光的加工的方法和设备 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种对平坦衬底(1)(尤其对晶片或玻璃元件)进行基于激光的加工以将该衬底分成多个部分的方法,其中用于加工衬底(1)的激光器(3)的激光束(2a,2b)被引导在衬底(1)处,该方法的特征在于:借助于被定位在激光器(3)的光束路径中的光学装置(6),如沿着光束方向所观察的延伸的激光束焦线(2b)从照射到光学装置(6)上的激光束(2a)中被形成在光学装置(6)的光束输出端上,其中以这样的方式相对于激光束焦线(2b)定位衬底(1)以使沿着如在光束方向中所观察的延伸的激光束焦线(2b)的部分(2c)在衬底(1)的内部中的衬底的材料中产生诱发吸收,借助于此吸收,诱发的裂缝形成沿着所述延伸部分(2c)在衬底的材料中发生。

Description

对平坦衬底进行基于激光的加工的方法和设备
本发明涉及根据权利要求1的通用部分的优选平坦衬底的基于激光的加工及相应的设备以及根据本发明的方法和设备的使用。该方法和设备尤其具有将诸如半导体晶片、玻璃元件等(尤其具有脆性材料)之类的平坦衬底分成多个块(切割晶片或玻璃元件)的目标。如下面更详细地描述的,通常使用具有材料对其基本上透明的波长的脉冲激光。
从现有技术中已经知道借助于激光分离这样的材料的设备和方法。
一方面(例如,DE 10 2011 000 768 A1),可使用激光,借助它们的波长或它们的功率,这些激光被材料高度吸收或者在第一相互作用之后使得材料为高度吸收的(例如利用电荷载流子的生成而加热;诱发吸收),并且随后可消融该材料。对于很多材料,这些方法具有缺点:例如,归因于消融期间的颗粒形成的污染;切割边缘由于热输入可具有微裂缝;切割边缘可具有融化的边缘;切口在材料的厚度上不是均匀的(其在不同深度处具有不同宽度;例如可能存在楔形的切割缺口)。由于材料必须被蒸发或汽化,因而必须使得高的平均激光功率可用。
另一方面,存在用于分离脆性材料的已知的激光方法,这些激光方法经由定向的、激光诱发的裂缝形成而操作。例如,Jenoptik提供一种方法,其中首先利用激光在表面上高度加热迹线并且紧接着这之后,如此迅速地冷却该迹线(例如利用水射流)以使由此所生成的热应力导致裂缝的形成,这些裂缝可通过材料的厚度进行传播(机械应力)并分离材料。
此外,存在一种方法,该方法使用材料对其很大程度上透明的波长下的激光以使得可在材料的内部中生成焦点。激光的强度必须如此高以至于内部损坏在被照射的衬底的材料中的此内部焦点处发生。
最后提到的方法具有诱发的裂缝形成在特定深度处或在表面上的点处发生以使得材料的完整厚度仅经由附加的机械和/或热诱发的裂缝传播来进行分离的缺点。由于裂缝往往不均衡地传播,因而对于大部分的分离表面是相当粗糙的并且时常必须被随后加工。另外,必须在不同深度处反复地采用相同的过程。这进而通过相应的因素而放慢过程速率。
因此,从现有技术开始,本发明的问题是使得一种方法(及相应的设备)可用,利用该方法,可在没有颗粒形成、没有融化的边缘、在边缘处具有最小的裂缝形成、没有显著的切口(因此材料损失)、具有尽可能直的切割边缘以及在高的过程速率的情况下加工平坦衬底,尤其是脆性材料,特别是将其完全地分离。
通过如权利要求1中的方法和如权利要求11中的设备来解决此问题。在各种情况中,该方法或设备的有利的设计变型和/或进一步发展可从从属权利要求中获得。在权利要求16中描述根据本发明的重要应用。在权利要求17和18中描述根据本发明所制作的玻璃物体。
下面首先一般地描述本发明,并且随后借助于许多实施例示例来详细地描述本发明。在各个实施例示例中组合在一起示出的特征在本发明的范围内不必都要必须付诸实践。具体地,各个特征还可被省略或者以其它方式与在同一实施例示例中或者甚至在其它实施例示例中所呈现的其它特征进行组合。而且,实施例示例的各个特征通过它们自己可指向现有技术的有利的进一步发展。
首先,下面描述本发明的基础(根据本发明将衬底分成各个部分的机制)。
根据本发明的分离方法借助于适当的激光光学器件(在下文中也被称为光学装置)针对每个激光脉冲生成激光焦线(与焦点形成对比)。焦线确定激光和衬底的材料之间的交互的区域。如果焦线落在要被分离的材料中,则可选择激光参数以使得根据本发明而发生与材料的相互作用,该相互作用沿着焦线生成裂化区域。这里重要的激光参数是激光的波长、激光的脉冲持续时间、激光的脉冲能量以及可能地还有激光的偏振。
对于激光与材料的相互作用,根据本发明,应当优选规定下列:
1)优选选择激光的波长1以使得材料在此波长下是基本上透明的(具体地,例如:每毫米材料深度,吸收<<10%=>γ<<1/cm;γ=Lambert-Beer吸收系数)。
2)优选选择激光的脉冲持续时间以使得没有显著的热传输(热扩散)能够在相互作用时间期间从相互作用区域向外发生(具体地,例如:τ<<d2/α,d=焦点直径,τ=激光脉冲持续时间;α=材料的热扩散常数)。
3)优选选择激光的脉冲能量以使得相互作用区域中(因此在焦线中)的强度生成诱发吸收,其导致沿着焦线的材料的局部加热,作为被引入在该材料中的热应力的结果,这又导致沿着焦线的裂缝形成。
4)激光的偏振影响在表面处的相互作用(反射率)以及在诱发吸收期间的材料的内部中的相互作用的种类这两者。诱发吸收可经由在热激励之后的诱发的、自由的电荷载流子(典型地电子)、或者经由多光子吸收和内部光电离、或者经由直接的场电离(光的场强直接使电子键合破裂)而发生。可例如经由Keldysh参数(参考)来评估电荷载流子的生成的种类,但该Keldysh参数在根据本发明的方法的使用中不发挥任何作用。仅对于激光的附加吸收/透射依赖于偏振的特定(例如,双折射)材料是重要的,并且因此例如在简单地启发式基础上,应当由用户选择对借助于适当的光学器件(相位板)的相关材料的分离有帮助的偏振。因此,如果材料不是光学各向同性的而例如是双折射的,则激光在该材料中的传播也将受偏振影响。因此,可选择偏振和偏振矢量的取向以使得根据需要仅一条焦线形成而不是两条(寻常光束和非常光束)。在光学各向同性材料的情况中,这不发挥作用。
5)此外,应当经由脉冲持续时间、脉冲能量和焦线直径选择强度以使得没有消融或融化在固体的框架内发生,而仅裂缝形成在固体的框架内发生。对于如玻璃或透明晶体的典型材料,利用亚纳秒范围内的脉冲激光(因此具体地利用例如10和100ps之间的脉冲持续时间)最容易地满足此要求。就这一点而言,还参见图1:在约一微米(0.5到5.0微米,参见图形的中间)的标度长度上,对于诸如玻璃之类的不良热导体,热传导具有直到亚微秒区域(见两条线之间的区域)的效果,而对于如晶体和半导体之类的良好热导体,热传导自纳秒开始已经变得有效。
根据本发明,对于垂直地延伸至衬底平面的裂缝形成的重要过程是超过材料的结构强度(以MPa计的压缩强度)的机械应力。在这里,机械强度是由激光能量经迅速的不同质加热而产生的(热诱发应力)。假设相对于焦线适当定位衬底(见下文),根据本发明的裂缝形成自然地在衬底的表面上开始,因为在那儿变形是最大的。这是因为在表面之上的半空间中,不存在能够接收力的材料。此论点同样适用于具有硬化或预应力表面的材料,只要硬化层或预应力层的厚度相比于沿着焦线突然加热的材料的直径是大的。(就这一点而言,还参见下面描述的图2。)
可经由积分通量(以焦耳/cm2计的能量密度)和对于选择的焦线直径的激光脉冲持续时间来建立相互作用的种类以使得1)优选没有融化在表面上或在材料的内部中发生以及2)优选没有具有颗粒形成的消融在表面上发生。在基本上透明的材料中已知许多类型的诱发吸收:
a)在具有低带隙的半导体和绝缘体中,经由例如低残余吸收(归因于材料中的污染物的迹线或者在激光加工之前在温度下已经热激励的电荷载流子),在第一部分的激光脉冲持续时间内的迅速加热导致附加的电荷载流子的热激励,这进而导致较高的吸收并作为结果导致焦线中的激光吸收的雪崩添加。
b)在绝缘体中,如果存在足够的光强度,则光吸收将经由与材料的原子的非线性光学相互作用而导致电离并且因此又导致自由电荷载流子的生成并且作为结果导致激光的较高的线性吸收。
下面描述期望的分离表面的几何结构的生成(沿着衬底表面上的线在激光束和衬底之间的相对运动)。
根据本发明的与材料的相互作用针对每个激光脉冲沿着焦线在材料中生成单个连续的(如在垂直于衬底表面的方向中所观察的)裂化区域。对于材料的完整分离,针对每个激光脉冲,沿着期望的分离线与彼此如此紧密地建立一系列的这些裂化区域以使裂缝的横向连接产生材料中的期望的裂化表面/轮廓。为此,以特定重复率使激光脉动。选择光斑尺寸和间距以使得在表面上,沿着激光光斑的线,期望的、定向的裂缝形成接着发生。沿着期望的分离表面的各个裂化区域的间距由从激光脉冲到激光脉冲的时间跨度中焦线相对于材料的运行产生。就这一点而言,还参见下面描述的图9。
为了在材料中生成期望的分离表面,可利用可平行于衬底平面移动(并且可选地还垂直于衬底平面)的光学装置来在固定的材料之上移动脉冲激光,或者利用可移动的保持器使材料本身移动到固定的光学装置以使得形成期望的分离线。焦线关于材料的表面的取向(不管垂直的还是在关于表面的90°-β的角度处)可被固定地选择或者可借助于可旋转的光学装置(为简单起见在下文中也被称为光学器件)和/或沿着期望的分离线的可旋转的激光束路径而进行改变。
总的来说,可以多达五个可单独地移动的轴来引导用于期望的分离线的形成的焦线通过材料:两个空间轴(x,y),其固定焦线进入到材料中的进入点,两个角轴其固定焦线从进入点到材料中的取向,以及附加的空间轴(z',不一定正交于x,y),其固定焦线从表面处的进入点穿透到材料中多深。下面所描述的,对于在笛卡尔坐标系(x,y,z)中的几何结构,还参见例如图5a和6。在激光束垂直入射在衬底表面上(β=0°)的情况中,z=z'。
通常,存在由光学器件和激光参数造成的限制:角度θ和的取向仅可进行到激光在材料中的折射允许此的程度(小于材料中的全反射的角度),并且激光焦线的穿透深度受可用的激光脉冲能量以及相应地选择的激光光学器件限制,该激光光学器件仅形成一个长度的焦线,该一个长度的焦线可利用可用的激光脉冲能量来根据本发明生成裂化区域。
用于在所有五个轴中移动焦线的一个可能设计可例如包括在驱动的旋转倾斜台上在坐标x,y中移动材料,同时经由检流计扫描仪和非远心F-θ透镜,焦线在坐标x',y'中相对于透镜中心在透镜的场中移动并且倾斜角度θ和可计算坐标x和x'和y和y'以使得焦线被瞄准在材料表面上的期望的入射点处。检流计扫描仪和F-θ透镜被另外粘附到正交于旋转倾斜台的x,y平面的z轴上,其确定了垂直于材料的焦线的位置(焦线在材料中的深度)。
下面描述将衬底分成多个块的最后步骤(分离或切割)。
材料沿着所生成的裂化表面/轮廓的分离通过材料的固有应力或者通过所引入的力(例如机械(应力)或热(不均匀的加热/冷却))而发生。由于根据本发明没有消融材料,因而通常最初在材料中不存在连续的间隙,而仅存在高度扭曲的断裂表面(微裂缝),该断裂表面互锁并且可能地仍由桥进行连接。通过后续引入的力,剩余的桥经由横向裂缝生长(平行于衬底平面而发生)变得分离并且互锁损坏,以使得可沿着分离表面分离材料。
下面借助于专利权利要求书来描述根据本发明的方法和根据本发明的设备的重要特征。
权利要求1描述了根据本发明的方法的重要特征,并且权利要求11描述了被制成实施根据本发明的方法的设备的重要部件。
在权利要求1和11中所描述的且借助于光学装置所生成的激光束焦线在上下文中也被替代地简单地称为激光束的焦线。根据本发明,如在衬底平面中所观察的,通过根据本发明的裂缝形成(沿着焦线的诱发吸收垂直于衬底平面而延伸)将衬底分成或切成多块。根据本发明的裂缝形成因此垂直于衬底的平面而发生并进入到衬底中或进入到衬底的内部中(纵向的裂缝形成)。如已描述的,通常必须将多个单独的激光束焦线沿着衬底表面上的线引入到衬底中以便能够将衬底的各个块彼此分开。为此,可相对于激光束或光学装置平行于衬底平面移动衬底或者相反地,可相对于固定的衬底平行于衬底平面移动光学装置。
有利地,根据本发明,另外实现从属方法或设备权利要求中的至少一个的特征。在此情况中,还可以任何组合来实现多个从属权利要求的特征。
如果根据权利要求2实现方法,则在衬底的内部中的诱发吸收的延伸段从衬底的一个表面延伸直到衬底中的所定义的深度(或者甚至超过该深度)。诱发吸收的延伸段可包括从一个表面到另一个的整个衬底深度。仅在衬底的内部中(衬底的表面没有同样被包括)生成诱发吸收的纵向延伸段同样是可能的。
其它可有利地实现的特征可从权利要求3中获得(还参见下面描述的图3b)。诱发吸收的延伸段(因此,例如,垂直于衬底平面所引入的裂缝长度)可因此沿着诱发吸收的延伸段从衬底的内部中的点延伸直到衬底的后侧表面或者甚至例如从衬底的前侧表面延伸直到衬底的内部中的点。在每种情况中,垂直于平坦衬底的两个相对的衬底表面来测量层厚度d(即使以关于衬底表面的法线的角度β>0°引导激光束,因此在倾斜入射的情况中)。
在权利要求3中以及在所有的其它权利要求中,所述的范围线各自包括所指示的上限值和下限值。
根据本发明,根据权利要求4有利地生成诱发吸收。这通过设置已经描述的激光参数(其在下面在示例的范围内进一步解释并且也在从属权利要求5到7中被提到)、光学装置的参数以及根据本发明的设备的各个元件的布置的几何参数而产生。基本上,如在权利要求5-7中所指示的参数的特征的任何组合是可能的。在权利要求6中,τ<<δ2/α意味着τ小于δ2/α的1%,优选小于δ2/α的1‰。例如,脉冲持续时间τ可以是10ps(或者甚至更小)、在10和100ps之间或者甚至多于100ps。具有1.5和1.8μm之间的波长的Er:YAG激光器优选被用于Si衬底的分离。一般来说,具有被选择成使得光子能量小于半导体的带隙的波长的激光器优选被用于半导体衬底。
对于将激光束照射到衬底上的根据本发明的方法的有利的光束方向(其随后也定义了激光束焦线相对于衬底平面的取向)可从权利要求8中获得。
在从属权利要求9和10中描述了对于衬底到多个块的最后分离或切割可能仍然必要的附加过程步骤。如已经提到的,相对于光学装置(包括激光器)移动衬底或者相对于衬底移动光学装置(包括激光器)。在权利要求10中所声称的裂缝形成要被理解(与根据本发明的必要的、诱发的裂缝形成对比)为横向裂缝,因此,被理解为在位于衬底的平面中的方向中的横向裂缝形成(对应于沿其分离衬底的线的路线)。
根据权利要求11的根据本发明的设备的有利的发展(其具体描述了用于激光束焦线的生成和定位的光学装置的不同的可能设计)可从从属权利要求12到15中获得。就这一点而言,还参见下面的实施例示例和图3a、4、5a、5b、6、7和8。根据权利要求11的凸透镜可具体是平凸透镜。
根据本发明的重要应用(下面描述更多)可从权利要求16中获得。
此外根据权利要求17所声称的是:具有一个或多个平坦区域(具体地,一个或多个表面)的玻璃物体。沿着该一个或多个表面中的至少一个,在每种情况中存在有多个材料改性,其中每一个材料改性具有在0.1mm和100mm之间的范围内的长度以及在0.5μm和5μm之间的范围内的平均直径。
此外根据权利要求18所声称的是:具有一个或多个平坦区域(具体地,一个或多个表面)的玻璃物体。沿着该一个或多个表面中的至少一个,存在有至少多个材料改性。每一个材料改性具有大致2.0的直接相邻的材料改性的平均间距a与生成材料改性的激光束焦线的平均直径δ的比率V3=a/δ。
与从现有技术中已知的方法或设备对比,本发明具有许多重要的优势。
首先,根据本发明,切割在没有颗粒形成、没有融化的边缘、在边缘处具有最小的裂化、没有显著的切口(因此没有衬底材料的损失)并且具有直的切割边缘的情况下发生。可垂直地(如朝向衬底平面所观察的)或者如用户所期望的,以相对于衬底法线的角度β建立切割。
根据本发明,非常高的平均激光功率不是必要的,但虽然如此仍可实现相对较高的分离速度。在此情况中,重要的是,本发明针对每个激光脉冲(或者每个脉冲串)生成一条激光束焦线(并非只是焦点,焦点是不延伸的或者仅局部延伸的)。下面详细地示出的激光光学器件被用于此。焦线因此确定激光和衬底之间的交互区域。如果焦线至少分段(如在深度的方向中所观察)落在要被分离的衬底材料中,则可选择激光参数以使得与该材料的交互发生,从而根据本发明,沿着整个焦线(或沿着落在衬底中的激光束焦线的整个延伸段)生成裂化区域。例如,可选择的激光参数是激光的波长、激光的脉冲持续时间、激光的脉冲能量以及可能地还有激光的偏振。
除了不存在颗粒形成(或至少最小的颗粒形成)之外,相对例如机械刻划和破坏,根据本发明的方法具有的其它优势是相比于机械刻划线,可实现较高的纵横比(宽度比深度)这一事实。当在机械刻划和破坏的情况中时,通过很大程度上不可控制的裂缝生长来在材料中产生破裂线,根据本发明,分离以关于衬底法线的可非常精确地建立的角度β发生。因此,根据本发明,不存在切割方向的方向性依赖并且有角切割可能很容易。
而且,与通过将激光点状聚焦在表面上或者甚至在衬底材料的内部中来生成点状(聚焦的)缺陷以及在不同的材料深度处设置这样的点状焦点之后的后续破坏进行比较,本发明尤其具有可实现显然更高的切割纵横比的优点。因此避免了由于较少定向的裂缝形成,尤其在较厚的衬底的情况中而出现的那些已知方法的问题。而且,加工速率,尤其是在较厚的衬底的情况中(其中在衬底平面中的特定位置处,在从表面直到衬底的下侧的不同衬底深度处的点状损坏的多个设置是必要的)增加超过多倍。
避免了表面上的消融、表面上的羽化和颗粒形成(当焦线相对于衬底的位置被设置成使得本发明的方法提供本发明的延伸的诱发吸收和裂缝形成从衬底的表面进入衬底的内部中时,后者尤其是)。在此情况中,第一(有意的)损坏因此在表面上直接发生并且归因于诱发吸收以特定的方式和方法沿着裂缝形成区域前进到衬底深度中。
可根据本发明加工各种材料,尤其玻璃盘、蓝宝石盘、半导体晶片等。可加工相应的材料的各个层以及层夹层(多个单独的衬底层的堆叠)。可定位并引导焦线以使得甚至在堆叠内,仅一个特定层变得分离。可加工层堆叠的不同的夹层:玻璃-空气-玻璃夹层、玻璃-膜-玻璃夹层、玻璃-玻璃夹层。因此,甚至在堆叠内的各个位置的选择性切割仅仅与中间层(例如膜或粘附膜)的分离一样可能。
还可根据本发明加工和分离已经涂覆的材料(例如AR涂覆的、TCO涂覆的)或者甚至在一侧上非透明地印刷的衬底。
根据本发明,自由形式切断是可能的,其中几何结构没有受衬底中的裂缝形成所限制。因此,可在透明介质中进行几乎任何自由形式切割(切割方向不是方向性地依赖的)。因此,可在衬底中进行有角的切割,例如具有攻角,该攻角具有距法线的多达β=30°或β=45°的角度。
根据本发明,实际上没有切口的切割是可能的:仅产生通常位于1和10μm广度之间的范围内的材料损坏。因此,尤其没有生成相对于材料或区域的切割损失。这在半导体晶片的切割中是尤其有利的,因为切割损失将减少晶片的主动可用面积。通过根据本发明的方法,焦线切割因此产生增加的面积产量。没有材料损失在宝石(例如钻石)的切割中同样是尤其有利的:尽管本发明的使用区域优选是平坦衬底的切割或分离,然而根据本发明还可加工非平坦衬底或工件。
还可尤其在生产过程的内嵌操作中使用根据本发明的方法。这在以卷对卷过程操作的生产过程中尤为有利地发生。
根据本发明,可使用单脉冲激光器以及生成脉冲串的激光器。基本上,处于连续波操作的激光器的使用也是可想到的。
下面具体的应用领域作为示例出现:
1.在完全地或部分地切割蓝宝石晶片的可能性下分离蓝宝石LED。利用根据本发明的方法,可同样地分离金属层,并且这在单个步骤中。
2.在没有损坏带的情况下的半导体晶片的切割是可能的。为此,焦线仅部分地位于衬底材料的内部中,从而使得其在表面上开始并且在录播膜(在远离激光器转向的衬底的后侧表面上)之前停止:例如,材料的约10%未被分离。该膜因此保持完整,因为焦线在该膜之前“停止”。随后可经由机械力(或热力,见利用CO2激光器的下面的示例)在剩余的10%之上分离半导体晶片。
3.涂覆材料的切割:在这里示例是布拉格反射器(DBR)或者甚至金属涂覆的蓝宝石晶片。可根据本发明切割其上已经沉积有活性金属或金属氧化物层的甚至经处理的硅晶片。其它示例是ITO或AlZnO的加工,需要例如产生触摸屏或智能窗口的衬底被涂覆有ITO或AlZnO。由于非常延伸的(与其直径相比)焦线,该焦线的一部分将移除金属层(或另一层),而剩余的焦线穿透到透明材料中并切割它。这尤其还具有可在一个步骤过程中分离相应地涂覆的衬底,因此在其中在一个操作中分离涂覆和衬底的过程中的优势。
4.根据本发明尤为有利的是非常薄的材料(例如具有小于300μm、小于100μm或者甚至小于50μm的厚度的玻璃的衬底)的切割。可仅在非常高的成本下利用常规的机械方法加工这些材料。当然,在机械方法的情况中,可使得衬底不可用或者使得二次加工操作有必要的边缘、损坏、裂缝、剥落出现。另一方面,根据本发明的切割,特别是薄的材料,提供避免边缘损坏和裂缝以使得二次加工不是必要的、非常高的切割速度(>1m/s)、非常高的产量以及在单个步骤中进行过程的优势。
5.还可尤其在薄膜玻璃(其是利用连续不断地运行的玻璃拉制过程所产生的)的生产中使用根据本发明的方法以修剪膜边缘。
基于以上描述,下面将借助于一些实施例示例来描述本发明。这里:
图1示出了对于不同的材料的热扩散系数α、材料中的线性广度(标度长度,在这里被指示为d)以及时间τ(例如激光脉冲持续时间)之间的关系。
图2示出了基于沿着焦线的诱发吸收的根据本发明的焦线的定位,因此对激光波长透明的材料的加工的原理。
图3a示出了根据本发明可被使用的第一光学装置。
图3b示出了通过激光束焦线相对于衬底的不同定位的衬底的加工的不同可能性。
图4示出了根据本发明可被使用的第二光学装置。
图5a和5b示出了根据本发明可被使用的第三光学装置。
图6示出了根据本发明可被使用的第四光学装置。
图7示出了用于使用来自图3a的第一可用的光学装置的示例来实施方法的根据本发明的设置(代替此光学装置,还有可能通过以图4、5和6的其它所示的光学装置中的一个替换图7中所示的光学装置6来在所指示的装置的框架内使用上述装置)。
图8详细地示出了根据本发明的焦线的生成。
图9示出了根据本发明所加工的玻璃板的表面的显微图像(到衬底平面上的视图)。
图2描绘了根据本发明的加工方法。由激光器3(这里未示出,见图7)所发出的激光束2(其中在光学装置6的光束输入端上的激光束由附图标记2a所指示)被照射到本发明的光学装置6上(就这一点而言,见下面的实施例示例)。光学装置6从光束输出端上的辐射的激光束在沿着光束方向的特定延伸距离(焦线的长度l)上形成延伸的激光束焦线2b。至少分段地,激光束2的激光束焦线2b被定位成在光学装置之后的光束路径中覆盖要被加工的衬底(在这里平坦衬底1)。附图标记1a指定转向光学装置6或激光器的平坦衬底的表面,而附图标记1b指示在距表面1a一距离处的衬底1的通常平行的后侧表面1b。衬底厚度(垂直于表面1a和1b,因此相对于衬底平面所测得的)在这里被指定为d。
如图2示出,在这里衬底1垂直于纵向的光束轴并因此垂直于由超过它的光学装置6在空间中所生成的焦线2b(衬底垂直于附图的平面)并且如沿着光束方向所观察的,相对于焦线2b定位该衬底1以使得如在光束方向中所观察的,焦线2b在衬底的表面1a之前开始并且在衬底的表面1b之前结束,因此仍然在衬底的内部中。如沿着激光束方向所观察的,延伸的激光束焦线2b因此在激光束焦线2b与衬底1的重叠区域中,因此在被焦线2b通过的衬底材料中生成(利用沿着激光束焦线2b的适当的激光强度,这通过将激光束2聚焦在长度l的段上,因此通过长度l的线性聚焦来确保)为延伸的段2c,沿着该激光束方向,在衬底材料中生成诱发吸收,该诱发吸收在沿着段2c的衬底材料中引起裂缝形成。裂缝形成不仅局部地发生而且在诱发吸收的延伸段2c的整个长度上发生。所述段2c的长度(因此,最终激光束焦线2b与衬底1重叠的长度)在这里由L所指示。诱发吸收的段(或者变得经受裂缝形成的衬底材料1中的区域)的平均直径或平均广度在这里由D所指示。此平均广度D在这里基本上对应于激光束焦线2b的平均直径δ。
如图2示出,根据本发明,对激光束2的波长λ透明的衬底材料因此被沿着焦线2b的诱发吸收所加热。图2示出了被加热材料最终扩展以使得相应地诱发的应力根据本发明导致微裂缝形成,并且该应力在表面1a处是最大的。
下面描述可被用于生成焦线2b的特定光学装置6以及这些光学装置可被用在其中的特定光学设置(图7)。所有的装置和设置是基于以上描述,从而使得在每种情况中,相同的附图标记被用于相同的部件或特征或者在功能上对应的部件或特征。因此,在每种情况中,下面仅描述不同。
由于最终导致分离的分离表面根据本发明是或应当是质量高的(关于断裂强度、几何精度、粗糙度和二次加工要求的避免),因而应当如借助于下面的光学装置(在下文中光学装置替代地也被称为激光光学器件)所描述地生成要沿着衬底的表面上的分离线5进行定位的各个焦线。在此情况中,粗糙度尤其起因于焦线的光斑尺寸或光斑直径。为了对于给定波长λ的激光器3(与衬底1的材料相互作用)能够实现例如0.5μm到2μm的小光斑尺寸,通常某些要求需要被强加在激光光学器件6的数值孔径上。这些要求被下面描述的激光光学器件6所满足。
为了实现期望的数值孔径,一方面,根据已知的Abbé公式(N.A.=n sin(θ);n=被加工的玻璃的折射率;θ:一半孔径角;并且θ=arctan(D/2f);D=孔径;f=焦距),光学器件必须具有给定焦距下的必要的孔径。另一方面,激光束必须照明光学器件直到必要的孔径,这通常由借助于激光器和聚焦光学器件之间的扩展望远镜的光束扩展所带来。
对于均匀的相互作用,光斑尺寸沿着焦线不应太大地改变。这可例如(见下面的实施例示例)通过仅在窄的、环形区域中照明聚焦光学器件,同时随后自然地改变光束孔径并因此按百分比来看仅一点点改变数值孔径来确保。
根据图3a(在激光束2的激光束中的中心光束的水平处垂直于衬底平面的截面;这里,同样,激光束2的照明垂直于衬底平面而发生,即,角度β为0°,以使得焦线2b或诱发吸收的延伸段2c平行于衬底法线),由激光器3所发出的激光束2a首先被引导到圆形光圈8,该圆形光圈8对使用的激光束完全不透明。光圈8被取向成垂直于光束纵向轴并且以所指示的光束2a的中心光束为中心。选择光圈8的直径以使得位于光线束2a的中心附近的光束(这里被指示为2aZ)或中心光束击打光圈并且被光圈完全吸收。仅位于光束2a的外周区域中的光束(边缘光束,在这里利用2aR指示)由于比光束直径小的减少的光圈尺寸而未被吸收,而是横向地通过光圈8并击打光学装置6的聚焦光学元件的边缘区域,该聚焦光学元件在这里被制作为球面磨口、双凸透镜7。
以中心光束为中心的透镜6被有意制作为以常规的球面磨口透镜为形式的未校正的、双凸聚焦透镜。换言之,有意利用这种透镜的球面像差。替代地,还有可能使用偏离理想纠正系统并且不形成理想的焦点而是形成具有所定义长度的明显的、纵向延伸的焦线的非球面透镜或多透镜(因此,不确切具有单个焦点的透镜或系统)。透镜的区域因此依赖于沿着焦线2b距透镜的中心的距离而正确地聚焦。在这里,横跨光束方向的光圈8的直径总共达到光束的直径(光束直径由直到下降至1/e的扩展所定义)的约90%和光学装置6的透镜的直径的约75%。根据本发明,因此使用通过遮蔽掉在中间的光束所产生的非像差校正的球面透镜7的焦线2b。所示的是在通过中心光束的平面中的截面,如果关于焦线2b旋转所表示的光束,则其导致完全地三维束。
此焦线的一个缺点在于条件(光斑尺寸、激光强度)沿着焦线并因此沿着材料中的期望的深度而改变,并且因此可能仅能够在焦线的一部分内建立期望种类的相互作用(没有融化、诱发吸收、热/塑性变形直到裂缝形成)。相反地,这意味着可能仅一部分辐射激光以期望的方式被吸收。因此,一方面,该方法的效率(对于期望的分离速率所需的平均激光功率)变得降低,同时另一方面,激光可能被传输到不受期望的、更深地横卧位置(传输到粘合衬底的部分或层或者传输到衬底保持器)并且在那儿产生不受期望的相互作用(加热、散射、吸收、不受期望的修改)。
图3b示出了(不仅用于图3a中的光学装置,而且基本上用于所有其它可用的光学装置6)可通过相对于衬底1适当定位和/或引导光学装置6并且通过适当选择光学装置6的参数来不同地定位激光束焦线2b:如图3b中的第一行指示,可设置焦线2b的长度l以使得其超越衬底厚度d(这里乘上2倍)。因此,如果如在光束的方向中所观察的,关于焦线2b居中地放置衬底1,则在整个衬底厚度上生成诱发吸收的延伸段2c。
在图3b的第二部分中所示的情况中,生成了近似对应于衬底d的广度的长度l的焦线2b。由于相对于线2定位衬底1以使得线2b在衬底之前(因此在衬底外面)的点处开始,因而诱发吸收的延伸部分2c(其在这里从衬底的表面延伸到所定义的衬底深度,但没有一直到后侧表面1b)的长度L在这里小于焦线2b的长度l。图3b中的第三行示出了其中如沿着光束方向所观察的,在焦线2b的开始之前部分地定位衬底1以使得在这里,同样,对于线2b的长度l,l>L(L=在衬底1中的诱发吸收的段2c的广度)的情况。焦线因此在衬底的内部中开始并超过后侧表面1b延伸到衬底的外面。图3b中的第四行最后示出了其中所生成的焦线长度l小于衬底厚度d以使得如果如在光束方向中所观察的,相对于焦线居中地定位衬底,则焦线在这里在衬底的内部中接近于表面1a而开始并且在衬底的内部中接近于表面1b而结束(l=0.75·d)。
根据本发明,尤其有利的是实现焦线定位以使得表面1a、1b中的至少一个被焦线跨越;诱发吸收的段2c因此在至少一个表面处开始。以此方式,可通过避免表面处的消融、羽化和颗粒形成来实现近乎理想的切割。
图4示出了根据本发明的可被使用的另一个光学装置6。基本结构遵循图3中所描述的,从而使得下面仅描述不同。所指示的光学装置是基于使用具有非球面自由表面的光学器件以形成焦线2b,其中形成该表面以使得形成所定义长度l的焦线的思想。为此,非球面透镜可被用作光学装置6的光学元件。例如,在图4中使用所谓的锥形棱镜,其也被称为轴棱锥。轴棱锥是在沿着光轴的线上形成点源(或者将激光束变换成环)的特定圆锥磨口透镜。这种轴棱锥的结构对于本领域技术人员而言基本上是众所周知的;这里,锥角是例如10°。在这里由附图标记9所指示的轴棱锥利用其顶点进行定向,该顶点与光束方向相反并以光束的中心为中心。由于轴棱锥9的焦线2b已经在轴棱锥内开始,因而衬底1(其在这里被布置成垂直于主光束轴)可在光束路径中被定位成就在轴棱锥9之后。如图4示出,由于轴棱锥的光学性质,在衬底1没有离开焦线2b的区域的情况下,衬底1沿着光束方向的移位同样是可能的。在衬底1的材料中的诱发吸收的延伸段2c因此在整个衬底深度d上延伸。
无疑,所示的结构具有下列限制:由于轴棱锥9的焦线已经在透镜内开始,在透镜和材料之间具有有限的工作距离,因而激光能量的特定部分未被聚焦在位于材料中的焦线2b的部分2c中。另外,利用轴棱锥9的可用的折射率和锥角,焦线2b的长度l与光束直径有关,从而使得在相对薄的材料(几毫米)的情况中,焦线总的来说太长,归因于此进而激光能量不能被有目的地聚焦到该材料中。
由于此原因,当其包括轴棱锥和聚焦透镜两者时存在可根据本发明使用的改进的光学装置6。
图5a示出了这样的光学装置6,其中首先如沿着光束方向所观察的,在激光器3的光束路径上定位了具有非球面自由表面的第一光学元件,该第一光学元件被形成以用于延伸的激光束焦线2b的形成。在所指示的情况中,此第一光学元件是具有5°锥角的轴棱锥10,该轴棱锥10被定位成垂直于光束方向并且以激光束3为中心。轴棱锥的顶点指向与光束方向相反的方向。在光束方向中,在距轴棱锥10距离z1处,存在第二、聚焦光学元件,在这里平凸透镜11(其曲率指向轴棱锥)。在这里将距离z1选择为约300mm以使得由轴棱锥10所形成的激光束以环形击打透镜11的外部区域。在距离z2(这里距透镜11约20mm)中,透镜11将在光束输出端上的环形光束聚焦到在这里1.5mm的定义长度的焦线2b上。透镜11的有效焦距在这里为25mm。由轴棱锥10对激光束的环形变换在这里利用附图标记SR来指示。
图5b详细地示出了根据图5的在衬底1的材料中的焦线2b或诱发吸收2c的发展。两个元件10、11的光学性质及其定位在这里发生以使得在光束方向中的焦线2b的广度l与衬底1的厚度d一致。相应地,如图5b中所示,衬底1沿着光束方向的精确定位是必要的以将焦线2b正确地定位在衬底1的两个表面1a和1b之间。
根据本发明,如果焦线在距激光光学器件特定距离处出现,并且较大部分的激光束被聚焦直到焦线的期望的末端,则因此是有利的。如所描述的,这可被实现,主要聚焦元件11(透镜)仅在期望区域上以环形照明,藉此一方面实现了所需的数值孔径并因此实现所需的光斑尺寸并且然而,另一方面,在所需的焦线2b之后,散射圆在光斑中间中的非常短的距离之上失去强度,因为形成了基本上环形光斑。因此,在本发明的意义中的裂缝形成在衬底的期望深度处的短距离内停止。轴棱锥10和聚焦透镜11的组合满足此要求。这里,轴棱锥10以双重方式运行:通过轴棱锥10,基本上圆形的激光光斑以环形被发送到聚焦透镜11并且轴棱锥10的非球面性使焦线在焦平面以外形成而不是在透镜的焦平面中的焦点。可经由轴棱锥上的光束直径来调节焦线2b的长度l。进而可经由轴棱锥透镜的距离z1且经由轴棱锥的锥角来调节沿着焦线的数值孔径。以此方式,整个激光能量可被集中在焦线中。
如果要在衬底的出口端之前停止本发明的含义中的裂缝形成,则环形照明仍然具有以下优势:一方面,尽可能好地使用激光功率,因为很大一部分的激光保持集中于焦线的期望长度中,并且另一方面,归因于环形照明区域连同由其它光学功能所建立的期望像差,可沿着焦线实现均匀的光斑尺寸并且因此可沿着焦线实现根据本发明的均匀的分离过程。
代替图5a中所示的平凸透镜,还有可能使用聚焦弯月形透镜或者另一个更高度校正的聚焦透镜(非球面透镜、多个透镜)。
为了利用图5a中所示的轴棱锥和透镜的组合来生成非常小的焦线2b,必须选择击打轴棱锥的激光束的非常小的光束直径。这具有实际的缺点:光束在轴棱锥的顶点上的居中必须是非常精确的,并且因此该结果变得对激光的方向的变化(光束漂移稳定性)非常敏感。另外,窄地准直的激光束是非常发散的,即,由于光折射,光束在短的路径距离上解散。
可通过插入附加的透镜,准直透镜12(图6)来避免这两者:通过此附加的正透镜12,聚焦透镜11的环形照明可被设置成非常窄的。选择准直透镜12的焦距f'以使得期望的环直径dr在等于f'的从轴棱锥到准直透镜12的距离z1a下产生。可经由间距z1b(准直透镜12到聚焦透镜11)来选择环的期望宽度br。现在短的焦线在纯粹几何学基础上由小宽度的环形照明产生。进而在间距f'中获得最小值。
图6中所示的光学装置6因此是基于图5a中所示的光学装置,从而使得下面仅描述不同。准直透镜12(在这里同样地被制成为平凸透镜(其曲率与光束的方向相反指向))在这里另外被居中地引入在一方面的轴棱锥10(其在这里被设置有其顶点与光束方向相反)和另一方面的平凸透镜11之间的光束路径中。准直透镜12距轴棱锥10的间距在这里由z1a指示,聚焦透镜11距准直透镜12的间距由z1b指示,并且所生成的焦线2b距聚焦透镜11的间距由z2指示(在每种情况中如在光束方向中所观察)。如图6示出,由轴棱锥10所形成并且在发散时且在处于环直径dr下时击打准直透镜12的环形光束SR在聚焦透镜11的点处被设置为期望的环宽度br同时环直径dr至少近似恒定。在所示的情况中,应当生成非常短的焦线2b从而使得在透镜12的点处的约4mm的环宽度br在透镜11的点处通过透镜12的聚焦性质被减少到约0.5mm(环直径dr在这里例如是22mm)。
在所示的示例中,利用来自2mm的激光的典型的光束直径,利用f=25mm焦距的聚焦透镜11以及f'=150mm焦距的准直透镜,可实现低于0.5mm的焦线长度1。另外,Z1a=Z1b=140mm并且Z2=15mm。
下面给出在如图7中的根据本发明的构造中利用如图3a中的光学装置的未硬化玻璃的根据本发明的分离的示例(代替图3a中所示的光学装置6,还有可能通过相应地替换图3a中所示的光圈/透镜组合8,7来在根据图7的构造中使用上述其它光学装置6)。
没有特定着色的硼硅酸盐或钠钙玻璃1(尤其具有低铁含量)从约350nm到约2.5μm是光学透明的。通常,玻璃是不良热导体,由于这个原因,几纳秒的激光脉冲持续时间不允许从焦线2b向外的任何显著的热扩散。然而,较短的激光脉冲持续时间仍然是有利的,因为经由非线性效应的期望的诱发吸收利用亚纳秒或皮秒脉冲(强度高得多)是更容易地实现的。
例如,具有下列参数的商用皮秒激光器3根据本发明适合于分离平板玻璃:波长1064nm、脉冲持续时间10ps、脉冲重复率100kHz、平均功率(在激光器之后直接测得的)多达50W。激光束最初具有约2mm的光束直径(在13%峰值强度处测得的,即,高斯光束的1/e2直径);光束质量是至少M2<1.2(按照DIN/ISO 11146确定)。利用光束扩展光学器件22(商业的Kepler光束望远镜),光束直径被增加10倍到约20-22mm(21、23、24和25是光束偏转镜)。利用具有9-mm直径的所谓的环形光圈8,遮蔽掉光束的内部部分以使得形成环形光束。例如,利用此环形光束照明具有28-mm焦距的平凸透镜7(具有半径13mm的石英玻璃)。根据本发明的焦线通过透镜7的强的(期望的)球面像差而产生。就这一点而言,除了图7之外还参见图8,图8描绘了从通过透镜7的边缘光束中生成焦线2b。
焦线的理论直径δ沿着光束轴而变化;因此在这里衬底厚度d小于约1mm(显示玻璃的典型厚度是0.5mm到0.7mm)的情况下对于同质的裂缝表面的生成是有利的。利用约2μm的光斑尺寸和5μm的光斑到光斑间距,导致0.5m/秒的速度,利用该速度,可在衬底1(见图9)上5次引导焦线。利用衬底上的25W平均功率(在聚焦透镜7之后测得),250μJ的脉冲能量由100kHz的脉冲重复率产生;此脉冲能量还可在2到5个子脉冲的结构化脉冲(间隔开仅20ns的单脉冲的快速序列,所谓的脉冲串)中发生。
未硬化的玻璃基本上没有内部应力,归因于此,在这里,在没有任外部动作的情况下,仍由未分离的桥互锁和链接在一起的变形区域起先仍然将这些块保持在一起。然而,如果引入热应力,则衬底完全地分离并且没有沿着激光断裂表面5的力的附加外部引入。为此,具有多达250W平均功率的CO2激光器被聚焦在约1mm的光斑位置上,并且以多达0.5m/s在分离线5上引导此光斑。由所引入的激光能量(分离线5的5J/cm)所引起的局部热应力将工件1完全地分离。
对于较厚的玻璃的分离,自然必须在较长的焦线l上实现该过程(通过热冲击的诱发吸收和变形区域的形成)的阈值强度。较高的必需的脉冲能量以及较高的平均功率因此跟随。可利用上述光学结构以及在衬底上的39W的最大可用的激光功率(在归因于光学器件的损失之后)管理约3mm厚的玻璃的分离。这里,一方面移除了环形光圈8,并且另一方面,校正了透镜7到衬底的距离(在标称焦距的方向中增加)以使得较长的焦线在衬底中产生。
下面呈现硬化玻璃的分离的另一个实施例示例(同样地利用图3a和7中所示的设备)。
通过沉浸在熔融钾盐浴中在玻璃表面处用钾交换钠来硬化含钠玻璃。这导致在表面处的5-50-μm厚的层中的相当大的内部应力(压缩应力),这进而导致较高的稳定性。
基本上,在硬化玻璃的分离中的过程参数类似于在类似尺寸和组成的未硬化玻璃的情况中的那些。然而,归因于内部应力,尤其归因于不受期望的裂缝生长,硬化玻璃可非常更容易粉碎,该不受期望的裂缝生长没有沿着激光意在的断裂表面5发生,而是进入到材料中。为此原因,更窄地限定用于特定硬化玻璃的成功分离的参数场。具体地,平均激光功率和相关的切割速率必须被相当精确地维持,尤其依赖于硬化层的厚度。对于具有硬化层40μm厚和0.7mm的总厚度以及以上设置的玻璃,例如下列参数产生:在100kHz脉冲重复率下的切割速度1m/s,因此10μm的光斑间距,在14W的平均功率下。
硬化玻璃的内部应力导致断裂区域5在一些时间(几秒)之后完全地形成,并且衬底被分成期望的块。
非常薄的硬化玻璃(<100μm)主要由应力材料构成,即,前侧和后侧例如是钠耗尽的并且因此每一侧被硬化超过30μm,其中仅内部中的40μm保持未硬化。如果表面之一受损,则这种材料非常容易完全地粉碎。在现有技术中,这样的硬化玻璃膜到目前为止不是可加工的。
如果a)焦线的直径是非常小的,例如小于1μm,b)光斑到光斑间距较低,例如在1和2μm之间,以及c)分离速度是足够高的以使裂缝生长不能跑在激光处理(高激光脉冲重复率,例如在0.2到0.5m/s下的200kHz)前面,则根据本发明的方法的这种材料的分离是可能的。
下面呈现用于蓝宝石玻璃和晶体蓝宝石的分离的另一个实施例示例(同样地利用图3a和7中所描述的设备)。
蓝宝石晶体和蓝宝石玻璃事实上是光学上类似的玻璃(透明度和折射率),但它们的机械行为和热行为是相当不同的。因此,蓝宝石是极好的热导体、是机械上极其耐用的并且是非常硬的且耐划伤的。然而,可借助于上述激光器和光学设置分离薄的(0.3mm到0.6mm)蓝宝石晶体和玻璃。由于高的机械稳定性,最小化要被分离的各块之间的剩余的桥是尤为重要的,因为否则需要非常高的力以用于最终的分离。必须从衬底进入表面1a到离开表面1b尽可能完整地形成变形区域。就较厚的玻璃来说,这可利用较高的脉冲能量并且因此较高的平均激光功率来实现。另外,晶体蓝宝石是双折射的。切割表面必须垂直于光轴(所谓的C-切割)。下面的参数可被用于晶体蓝宝石0.45mm厚的分离:在100kHz脉冲重复率下的30W的平均激光功率、2μm的光斑尺寸以及5μm的光斑间距,其对应于在所指示的脉冲重复率下的0.5m/s的切割速度。如在玻璃的情况中,完全分离可能需要例如利用CO2激光光斑执行对分割线5的后续加热以使得经由热应力,变形区域经由裂缝生长而发展成为完全的、连续的、非互锁的分离表面。
最后,图9示出了根据本发明所加工的玻璃板的表面的显微图像。各个焦线或诱发吸收的延伸段2c(其在这里被给予附图标记2c-1、2c-2等)(在垂直于所指示的表面的衬底的深度中)归因于裂缝形成而沿着线5连接以形成用于衬底块的分离的分离表面,沿着线5,在衬底的表面4上引导激光束。可容易看见诱发吸收的多个单独的延伸段,其中在所指示的情况中,激光器的脉冲重复率被匹配至用于在衬底4上移动激光束的馈送速率以使得直接相邻段2c-1、2、2c-2…的平均间距a与激光束焦线的平均直径δ的比率V3=a/δ为约0.2。

Claims (46)

1.一种对晶片或玻璃元件,随后称为衬底(1)进行基于激光的加工以将所述衬底分成多个部分的方法,其中
用于加工所述衬底(1)的激光器(3)的激光束(2a,2b)被引导到所述衬底(1)上,其中选择所述激光器(3)的波长λ以使得所述衬底(1)的材料对此波长透明或者是基本上透明的,从而使得在所述衬底(1)的材料中沿着所述光束方向发生的所述激光束的强度的减少是每毫米的穿透深度为10%或更少,
其中,光学装置(6)被定位在所述激光器(3)的光线路径中;并且沿着所述光束的方向所见,延伸的激光束焦线(2b)从被引导到所述衬底(1)上的所述激光束(2a)中被形成在所述光学装置(6)的光束输出端上;并且
其中,相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得沿着在所述光束的方向中所见的所述激光束焦线(2b)的延伸部分(2c)在所述衬底(1)的材料中产生诱发吸收,从而具有诱发的裂缝形成沿着此延伸部分(2c)在所述衬底的材料中发生的效果,
其特征在于,
相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)延伸直到两个相对衬底表面(1a,1b)中的至少一个,
所述激光束焦线(2b)的平均直径δ也就是说光斑直径是在0.5μm和5μm之间;并且
在所述激光器(3)的光束的输出端上直接测得的平均激光功率是在10瓦特和100瓦特之间。
2.如权利要求1所述的方法,
其特征在于,
(I)相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)从所述两个相对衬底表面中的一个(1a)延伸直到所述两个相对衬底表面中的另一个(1b),也就是说在所述衬底(1)的整个层厚度d上;
或者
(II)相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)从所述两个相对衬底表面中的一个(1a)延伸到所述衬底(1)中但没有一直到所述两个相对衬底表面中的另一个(1b),也就是说没有在所述衬底(1)的整个层厚度d上。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)在所述衬底(1)的层厚度d的80%到98%上延伸。
4.如权利要求1、2或3所述的方法,
其特征在于,
产生所述诱发吸收以使得所述裂缝形成在所述衬底(1)的微结构中发生而没有显著的消融且没有所述衬底(1)的材料的融化。
5.如权利要求1-3中的一项所述的方法,
其特征在于,
在每种情况中,在所述光束的纵向方向中所见,所述激光束焦线(2b)的广度l和/或在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度是在0.1mm和100mm之间;
和/或
垂直于所述两个相对衬底表面(1a,1b)所测得的所述衬底(1)的层厚度d是在30μm和3000μm之间;
和/或
所述激光束焦线(2b)的此广度l与所述衬底(1)的此层厚度d的比率V1=l/d是在10和0.5之间;
和/或
在所述光束的纵向方向中所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度L与横断于所述光束的纵向方向所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的平均广度D的比率V2=L/D是在5和5000之间。
6.如权利要求4所述的方法,
其特征在于,
在每种情况中,在所述光束的纵向方向中所见,所述激光束焦线(2b)的广度l和/或在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度是在0.1mm和100mm之间,
和/或
垂直于所述两个相对衬底表面(1a,1b)所测得的所述衬底(1)的层厚度d是在30μm和3000μm之间;
和/或
所述激光束焦线(2b)的此广度l与所述衬底(1)的此层厚度d的比率V1=l/d是在10和0.5之间;
和/或
在所述光束的纵向方向中所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度L与横断于所述光束的纵向方向所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的平均广度D的比率V2=L/D是在5和5000之间。
7.如权利要求5所述的方法,其特征在于,在每种情况中,在所述光束的纵向方向中所见,所述激光束焦线(2b)的广度l和/或在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度是在0.3mm和10mm之间。
8.如权利要求5所述的方法,其特征在于,垂直于所述两个相对衬底表面(1a,1b)所测得的所述衬底(1)的层厚度d是在100μm和1000μm之间。
9.如权利要求7所述的方法,其特征在于,垂直于所述两个相对衬底表面(1a,1b)所测得的所述衬底(1)的层厚度d是在100μm和1000μm之间。
10.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述激光束焦线(2b)的此广度l与所述衬底(1)的此层厚度d的比率V1=l/d是在5和2之间。
11.如权利要求5所述的方法,其特征在于,在所述光束的纵向方向中所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度L与横断于所述光束的纵向方向所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的平均广度D的比率V2=L/D是在50和500之间。
12.如权利要求1-3中的一项所述的方法,
其特征在于,
选择所述激光器(3)的脉冲持续时间τ以使得在与所述衬底(1)的材料的相互作用的时间内在此材料中的热扩散是可以忽略的,从而使得根据τ<<δ2/α设置τ,δ和所述衬底(1)的材料的热扩散常数α;
和/或
所述激光器(3)的脉冲重复率是在10kHz和1000kHz之间;
和/或
所述激光器(3)是作为单脉冲激光器或作为脉冲串激光器操作的。
13.如权利要求1-3中的一项所述的方法,其特征在于,
所述激光束焦线(2b)的平均直径δ也就是说光斑直径是在2μm和3μm之间;和/或
选择所述激光器(3)的脉冲持续时间τ以使得在与所述衬底(1)的材料的相互作用的时间内在此材料中的热扩散是可以忽略的,从而使得根据τ<<δ2/α设置τ,δ和所述衬底(1)的材料的热扩散常数α,其中τ小于10ns;和/或
所述激光器(3)的脉冲重复率是在10kHz和1000kHz之间;和/或
所述激光器(3)是作为单脉冲激光器或作为脉冲串激光器操作的;和/或
在所述激光器(3)的光束的输出端上直接测得的平均激光功率是在30瓦特和50瓦特之间。
14.如权利要求12所述的方法,其特征在于,并且τ小于100ps。
15.如权利要求1-3中的一项所述的方法,其特征在于,
从下列中的至少一个中选择所述激光器:具有1064nm的波长λ的Nd:YAG激光器、具有1030nm的波长λ的Y:YAG激光器或者具有1.5μm和1.8μm之间的波长λ的Er:YAG激光器。
16.如权利要求1-3中的一项所述的方法,其特征在于,
所述激光束(2a,2b)被垂直地引导到所述衬底(1)上,因此相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得沿着所述激光束焦线(2b)的延伸部分(2c)的所述诱发吸收垂直于所述衬底的平面而发生;
或者
所述激光束(2a,2b)以相对于所述衬底(1)的平面的法线大于0°的角度β被引导到所述衬底(1)上,因此相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得沿着所述激光束焦线(2b)的延伸部分(2c)的所述诱发吸收以关于所述衬底的平面的角度90°-β发生。
17.如权利要求16所述的方法,其特征在于,β≤45°。
18.如权利要求16所述的方法,其特征在于,β≤30°。
19.如权利要求1-3中的一项所述的方法,其特征在于,
沿着线(5)相对于所述衬底(1)的表面(1a,4)移动所述激光束(2a,2b),沿着所述线(5)所述衬底(1)要被切断以获得多个部分,沿着此线(5)产生所述衬底(1)的内部中的多个(2c-1,2c-2,...)诱发吸收的延伸部分(2c)。
20.如权利要求19所述的方法,其特征在于,诱发吸收的直接相邻延伸部分(2c)也就是说直接一个接一个地产生的部分的平均间距a与所述激光束焦线(2b)的平均直径δ也就是说光斑直径的比率V3=a/δ是在0.5和3.0之间。
21.如权利要求19所述的方法,其特征在于,诱发吸收的直接相邻延伸部分(2c)也就是说直接一个接一个地产生的部分的平均间距a与所述激光束焦线(2b)的平均直径δ也就是说光斑直径的比率V3=a/δ是在1.0和2.0之间。
22.如权利要求19所述的方法,其特征在于,
在所述衬底(1)的内部中的多个(2c-1,2c-2,…)诱发吸收的延伸部分(2c)的产生期间和/或之后,机械力被施加在所述衬底(1)上和/或热应力被引入到所述衬底(1)中,以分别在直接相邻的(2c-1,2c-2)诱发吸收的延伸部分(2c)之间引起裂缝形成以用于将所述衬底分成多个部分,
通过沿着所述线(5)利用CO2激光器照射所述衬底(1)来引入所述热应力。
23.如权利要求20所述的方法,其特征在于,
在所述衬底(1)的内部中的多个(2c-1,2c-2,…)诱发吸收的延伸部分(2c)的产生期间和/或之后,机械力被施加在所述衬底(1)上和/或热应力被引入到所述衬底(1)中,以分别在直接相邻的(2c-1,2c-2)诱发吸收的延伸部分(2c)之间引起裂缝形成以用于将所述衬底分成多个部分,
通过沿着所述线(5)利用CO2激光器照射所述衬底(1)来引入所述热应力。
24.如权利要求22或23所述的方法,其特征在于,所述衬底被不均衡地加热并再次冷却。
25.一种对晶片或玻璃元件,随后称为衬底(1)进行基于激光的加工以将所述衬底分成多个部分的设备,利用所述设备
用于加工所述衬底(1)的激光器(3)的激光束(2a,2b)可被引导到所述衬底(1)上,其中选择所述激光器(3)的波长λ以使得所述衬底(1)的材料对此波长透明或者是基本上透明的,从而使得在所述衬底(1)的材料中沿着所述光束方向发生的所述激光束的强度的减少是每毫米的穿透深度为10%或更少,
其中,
所述设备包括光学装置(6),所述光学装置(6)被定位在所述激光器(3)的光线路径中,并且利用所述光学装置(6),沿着所述光束的方向所见,延伸的激光束焦线(2b)可从被引导到所述光学装置(6)上的所述激光束(2a)中被形成在所述光学装置(6)的光束输出端上;并且
所述衬底(1)相对于所述激光束焦线(2b)定位成或者所述衬底(1)能够相对于所述激光束焦线(2b)定位成使得诱发吸收沿着在所述光束的方向中所见的所述激光束焦线(2b)的延伸部分(2c)在所述衬底(1)的材料中发生,从而具有沿着此延伸部分(2c)在所述衬底的材料中引起诱发的裂缝形成的效果,
其中,所述衬底(1)相对于所述激光束焦线(2b)定位成或者所述衬底(1)能够相对于所述激光束焦线(2b)定位成使得在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)延伸直到两个相对衬底表面(1a,1b)中的至少一个,
所述激光束焦线(2b)的平均直径δ也就是说光斑直径是在0.5μm和5μm之间;并且
在所述激光器(3)的光束的输出端上直接测得的平均激光功率是在10瓦特和100瓦特之间。
26.如权利要求25所述的设备,其特征在于,
所述光学装置(6)包括具有球面像差的聚焦光学元件;并且
所述光学装置(6)的光圈(8)在所述激光器(3)的光线路径中被定位在所述聚焦光学元件(7)之前,从而具有可阻挡掉撞击到所述光圈上的位于所述激光束(2a)的中心处的光线束(2aZ)以使得仅位于此中心外面的外围光线(2aR)撞击到此聚焦光学元件上的效果。
27.如权利要求26所述的设备,其特征在于,(i)具有球面像差的所述聚焦光学元件(7)是球面磨口凸透镜;和/或(ii)所述光学装置(6)的所述光圈(8)是环形光圈。
28.如权利要求25所述的设备,
其特征在于,
所述光学装置(6)包括具有非球面自由表面的光学元件,所述光学元件被设计形状以用于形成在所述光束的方向中所见的具有所定义广度l也就是说所定义的长度的所述激光束焦线(2b)。
29.如权利要求28所述的设备,其特征在于,具有所述非球面自由表面的所述光学元件是锥形棱镜或轴棱锥(9)。
30.如权利要求25-29中任一项所述的设备,其特征在于,
所述光学装置(6)在所述激光器(3)的光线路径中首先包括被设计形状以用于所述延伸的激光束焦线(2b)的形成的具有非球面自由表面的第一光学元件,并且在此第一光学元件的光束输出端上且在距所述第一光学元件距离z1处包括第二聚焦光学元件,
定位并对准这两个光学元件以使得所述第一光学元件将撞击在其上的激光辐射环形地(SR)投射到所述第二光学元件上,以使得在距所述第二光学元件距离z2处在所述第二光学元件的光束输出端上产生所述延伸的激光束焦线(2b)。
31.如权利要求25-29中任一项所述的设备,其特征在于,
所述光学装置(6)在所述激光器(3)的光线路径中首先包括被设计形状以用于所述延伸的激光束焦线(2b)的形成的具有非球面自由表面的第一光学元件,其中所述具有非球面自由表面的第一光学元件是锥形棱镜或轴棱锥(10),并且在此第一光学元件的光束输出端上且在距所述第一光学元件距离z1处包括具有凸透镜的第二聚焦光学元件(11);
定位并对准这两个光学元件以使得所述第一光学元件将撞击在其上的激光辐射环形地(SR)投射到所述第二光学元件上,以使得在距所述第二光学元件距离z2处在所述第二光学元件的光束输出端上产生所述延伸的激光束焦线(2b)。
32.如权利要求30所述的设备,
其特征在于,
第三聚焦光学元件在所述激光器(3)的光线路径中被定位在所述第一和第二光学元件之间;
定位并对准所述第三光学元件以使得由所述第一光学元件环形地(SR)形成的所述激光辐射以所定义的平均环直径dr落到所述第三光学元件上,并且所述第三光学元件以此环直径dr并以所定义的环宽度br将所述激光辐射环形地投射到所述第二光学元件上。
33.如权利要求32所述的设备,其特征在于,所述第三聚焦光学元件是平凸准直透镜(12)。
34.使用如权利要求1-3或25-29中的一项所述的方法或设备,用于:
●分离玻璃的衬底,具体地是石英、硼硅酸盐、蓝宝石或钠钙玻璃、含钠玻璃、硬化玻璃或未硬化玻璃的衬底、晶体Al2O3的衬底、SiO2·nH2O(蛋白石)的衬底或者半导体材料的衬底,具体地是Si、GaAs、GaN的衬底;
●分离单层或多层衬底,具体地是玻璃-玻璃复合、玻璃-膜复合、玻璃-膜-玻璃复合或玻璃-空气-玻璃复合;
●分离涂覆衬底,具体地是金属涂覆的蓝宝石晶片、提供有金属或金属氧化物层的硅晶片或涂覆有ITO或AlZnO的衬底;
和/或
●完全地切断单层或多层衬底或切断多层衬底的多个层中的一层或多层但不是所有层。
35.一种通过使用由权利要求1-24中任一项所述的方法制作的玻璃制品,包括至少一个表面,所述玻璃制品沿着所述表面具有多个材料改性,每一个材料改性具有在0.1mm和100mm之间的范围内的长度以及在0.5μm和5μm之间的范围内的平均直径。
36.一种通过使用由权利要求1-24中任一项所述的方法制作的玻璃制品,包括至少一个表面,所述玻璃制品沿着所述表面具有多个材料改性,每一个材料改性具有近似等于2.0的直接相邻的材料改性的平均距离a与创造所述材料改性的激光束焦线的平均直径δ的比率V3=a/δ。
37.一种对晶片或玻璃元件,随后称为衬底(1)进行基于激光的加工以将所述衬底分成多个部分的方法,其中
用于加工所述衬底(1)的激光器(3)的激光束(2a,2b)被引导到所述衬底(1)上,其中选择所述激光器(3)的波长以使得所述衬底(1)的材料对此波长透明或者是基本上透明的,从而使得在所述衬底(1)的材料中沿着所述光束方向发生的所述激光束的强度的减少是每毫米的穿透深度为10%或更少,
其中,光学装置(6)被定位在所述激光器(3)的光线路径中;并且沿着所述光束的方向所见,延伸的激光束焦线(2b)从被引导到所述衬底(1)上的所述激光束(2a)中被形成在所述光学装置(6)的光束输出端上,其中所述光学装置在所述衬底外的至少一个位置中将所述激光束变换成具有环形横截面的光束;并且
相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得沿着在所述光束的方向中所见的所述激光束焦线(2b)的延伸部分(2c)在所述衬底(1)的材料中产生诱发吸收,从而具有诱发的裂缝形成沿着此延伸部分(2c)在所述衬底的材料中发生的效果。
38.如权利要求37所述的方法,其特征在于,所述光学装置(6)包括轴棱锥(10)。
39.如权利要求37所述的方法,其特征在于,产生所述诱发吸收以使得所述裂缝形成在所述衬底(1)的微结构中发生而没有显著的消融且没有所述衬底(1)的材料的融化。
40.如权利要求37所述的方法,其特征在于,相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)延伸直到两个相对衬底表面(1a,1b)中的至少一个。
41.如权利要求40所述的方法,其特征在于,
(I)相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)从所述两个相对衬底表面中的一个(1a)延伸直到所述两个相对衬底表面中的另一个(1b),也就是说在所述衬底(1)的整个层厚度d上;
(II)相对于所述激光束焦线(2b)定位所述衬底(1)以使得在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)从所述两个相对衬底表面中的一个(1a)延伸到所述衬底(1)中但没有一直到所述两个相对衬底表面中的另一个(1b),也就是说没有在所述衬底(1)的整个层厚度d上。
42.如权利要求41所述的方法,其特征在于,在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的延伸部分(2c)在所述衬底(1)的层厚度d的80%到98%上延伸。
43.如权利要求37-42中任一项所述的方法,其特征在于,
在每种情况中,在所述光束的纵向方向中所见,所述激光束焦线(2b)的广度l和/或在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度是在0.1mm和100mm之间;
和/或
垂直于所述两个相对衬底表面(1a,1b)所测得的所述衬底(1)的层厚度d是在30μm和3000μm之间;
和/或
所述激光束焦线(2b)的此广度l与所述衬底(1)的此层厚度d的比率V1=l/d是在10和0.5之间;
和/或
在所述光束的纵向方向中所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度L与横断于所述光束的纵向方向所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的平均广度D的比率V2=L/D是在5和5000之间。
44.如权利要求43所述的方法,其特征在于,
在每种情况中,在所述光束的纵向方向中所见,所述激光束焦线(2b)的广度l和/或在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度是在0.1mm和100mm之间,
和/或
垂直于所述两个相对衬底表面(1a,1b)所测得的所述衬底(1)的层厚度d是在30μm和3000μm之间;
和/或
所述激光束焦线(2b)的此广度l与所述衬底(1)的此层厚度d的比率V1=l/d是在10和0.5之间;
和/或
在所述光束的纵向方向中所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度L与横断于所述光束的纵向方向所见的在所述材料中也就是说在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的平均广度D的比率V2=L/D是在5和5000之间。
45.如权利要求44所述的方法,其特征在于,在每种情况中,在所述光束的纵向方向中所见,所述激光束焦线(2b)的广度l和/或在所述材料中、在所述衬底(1)的内部中的所述诱发吸收的部分(2c)的广度是在0.3mm和10mm之间。
46.一种通过使用由权利要求37或38所述的方法制作的设备。
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EP13151296.4A EP2754524B1 (de) 2013-01-15 2013-01-15 Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie
PCT/EP2014/050610 WO2014111385A1 (de) 2013-01-15 2014-01-14 Verfahren und vorrichtung zum laserbasierten bearbeiten von flächigen substraten

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WO (2) WO2014111385A1 (zh)

Families Citing this family (176)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6121901B2 (ja) 2010-07-12 2017-04-26 ロフィン−シナー テクノロジーズ インコーポレーテッド レーザーフィラメント形成による材料加工方法
US9278886B2 (en) * 2010-11-30 2016-03-08 Corning Incorporated Methods of forming high-density arrays of holes in glass
TWI547454B (zh) * 2011-05-31 2016-09-01 康寧公司 於玻璃中高速製造微孔洞的方法
WO2014079478A1 (en) 2012-11-20 2014-05-30 Light In Light Srl High speed laser processing of transparent materials
US9701564B2 (en) 2013-01-15 2017-07-11 Corning Incorporated Systems and methods of glass cutting by inducing pulsed laser perforations into glass articles
EP2754524B1 (de) 2013-01-15 2015-11-25 Corning Laser Technologies GmbH Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie
JP6121733B2 (ja) * 2013-01-31 2017-04-26 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置及びレーザ加工方法
EP2781296B1 (de) 2013-03-21 2020-10-21 Corning Laser Technologies GmbH Vorrichtung und verfahren zum ausschneiden von konturen aus flächigen substraten mittels laser
US9102011B2 (en) 2013-08-02 2015-08-11 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method and apparatus for non-ablative, photoacoustic compression machining in transparent materials using filamentation by burst ultrafast laser pulses
US9102007B2 (en) * 2013-08-02 2015-08-11 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method and apparatus for performing laser filamentation within transparent materials
US10017410B2 (en) 2013-10-25 2018-07-10 Rofin-Sinar Technologies Llc Method of fabricating a glass magnetic hard drive disk platter using filamentation by burst ultrafast laser pulses
US10252507B2 (en) 2013-11-19 2019-04-09 Rofin-Sinar Technologies Llc Method and apparatus for forward deposition of material onto a substrate using burst ultrafast laser pulse energy
US9517929B2 (en) 2013-11-19 2016-12-13 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method of fabricating electromechanical microchips with a burst ultrafast laser pulses
US10005152B2 (en) 2013-11-19 2018-06-26 Rofin-Sinar Technologies Llc Method and apparatus for spiral cutting a glass tube using filamentation by burst ultrafast laser pulses
US11053156B2 (en) 2013-11-19 2021-07-06 Rofin-Sinar Technologies Llc Method of closed form release for brittle materials using burst ultrafast laser pulses
US10144088B2 (en) 2013-12-03 2018-12-04 Rofin-Sinar Technologies Llc Method and apparatus for laser processing of silicon by filamentation of burst ultrafast laser pulses
US9850160B2 (en) 2013-12-17 2017-12-26 Corning Incorporated Laser cutting of display glass compositions
US9517963B2 (en) 2013-12-17 2016-12-13 Corning Incorporated Method for rapid laser drilling of holes in glass and products made therefrom
US20150165560A1 (en) 2013-12-17 2015-06-18 Corning Incorporated Laser processing of slots and holes
US9701563B2 (en) 2013-12-17 2017-07-11 Corning Incorporated Laser cut composite glass article and method of cutting
US11556039B2 (en) 2013-12-17 2023-01-17 Corning Incorporated Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same
US10442719B2 (en) 2013-12-17 2019-10-15 Corning Incorporated Edge chamfering methods
US9687936B2 (en) 2013-12-17 2017-06-27 Corning Incorporated Transparent material cutting with ultrafast laser and beam optics
US9815730B2 (en) 2013-12-17 2017-11-14 Corning Incorporated Processing 3D shaped transparent brittle substrate
US9676167B2 (en) 2013-12-17 2017-06-13 Corning Incorporated Laser processing of sapphire substrate and related applications
DE102015000449A1 (de) 2015-01-15 2016-07-21 Siltectra Gmbh Festkörperteilung mittels Stoffumwandlung
WO2016083610A2 (de) * 2014-11-27 2016-06-02 Siltectra Gmbh Festkörperteilung mittels stoffumwandlung
US9938187B2 (en) 2014-02-28 2018-04-10 Rofin-Sinar Technologies Llc Method and apparatus for material processing using multiple filamentation of burst ultrafast laser pulses
JP6262039B2 (ja) 2014-03-17 2018-01-17 株式会社ディスコ 板状物の加工方法
JP6301203B2 (ja) * 2014-06-02 2018-03-28 株式会社ディスコ チップの製造方法
KR102445217B1 (ko) 2014-07-08 2022-09-20 코닝 인코포레이티드 재료를 레이저 가공하는 방법 및 장치
MX2017000440A (es) * 2014-07-11 2017-08-16 Corning Inc Sistemas y metodos para cortado de vidrio al inducir perforaciones por láser pulsado en artículos de vidrio.
CN107073642B (zh) 2014-07-14 2020-07-28 康宁股份有限公司 使用长度和直径可调的激光束焦线来加工透明材料的系统和方法
CN107073641B (zh) 2014-07-14 2020-11-10 康宁股份有限公司 接口块;用于使用这种接口块切割在波长范围内透明的衬底的系统和方法
US9617180B2 (en) * 2014-07-14 2017-04-11 Corning Incorporated Methods and apparatuses for fabricating glass articles
WO2016010943A2 (en) 2014-07-14 2016-01-21 Corning Incorporated Method and system for arresting crack propagation
EP3169635B1 (en) 2014-07-14 2022-11-23 Corning Incorporated Method and system for forming perforations
DE102014213775B4 (de) * 2014-07-15 2018-02-15 Innolas Solutions Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen, kristallinen Substraten, insbesondere von Halbleitersubstraten
US9757815B2 (en) 2014-07-21 2017-09-12 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method and apparatus for performing laser curved filamentation within transparent materials
ES2923764T3 (es) 2014-09-16 2022-09-30 Lpkf Laser & Electronics Ag Procedimiento para introducir al menos un rebaje o una ruptura en una pieza de trabajo en forma de placa
WO2016073658A1 (en) 2014-11-05 2016-05-12 Corning Incorporated Bottom-up electrolytic via plating method
KR102138964B1 (ko) 2014-11-19 2020-07-28 트룸프 레이저-운트 시스템테크닉 게엠베하 비대칭 광학 빔 정형을 위한 시스템
DE102014116957A1 (de) * 2014-11-19 2016-05-19 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Optisches System zur Strahlformung
DE102014116958B9 (de) * 2014-11-19 2017-10-05 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Optisches System zur Strahlformung eines Laserstrahls, Laserbearbeitungsanlage, Verfahren zur Materialbearbeitung und Verwenden einer gemeinsamen langgezogenen Fokuszone zur Lasermaterialbearbeitung
KR102232168B1 (ko) * 2014-11-25 2021-03-29 삼성디스플레이 주식회사 기판 커팅 장치
EP4234156A3 (de) 2014-11-27 2023-10-11 Siltectra GmbH Laserbasiertes trennverfahren
US9873628B1 (en) * 2014-12-02 2018-01-23 Coherent Kaiserslautern GmbH Filamentary cutting of brittle materials using a picosecond pulsed laser
US10047001B2 (en) 2014-12-04 2018-08-14 Corning Incorporated Glass cutting systems and methods using non-diffracting laser beams
CN107406293A (zh) 2015-01-12 2017-11-28 康宁股份有限公司 使用多光子吸收方法来对经热回火的基板进行激光切割
CN106132627B (zh) 2015-01-13 2018-09-07 罗芬-新纳技术有限责任公司 用于对脆性材料进行划割并随后进行化学蚀刻的方法和系统
US10429553B2 (en) 2015-02-27 2019-10-01 Corning Incorporated Optical assembly having microlouvers
EP3274306B1 (en) * 2015-03-24 2021-04-14 Corning Incorporated Laser cutting and processing of display glass compositions
DE102015104802A1 (de) * 2015-03-27 2016-09-29 Schott Ag Verfahren zum Trennen von Glas mittels eines Lasers, sowie verfahrensgemäß hergestelltes Glaserzeugnis
EP3274313A1 (en) 2015-03-27 2018-01-31 Corning Incorporated Gas permeable window and method of fabricating the same
JP6472333B2 (ja) * 2015-06-02 2019-02-20 株式会社ディスコ ウエーハの生成方法
US20160368086A1 (en) * 2015-06-16 2016-12-22 Electro Scientific Industries, Inc. Methods and apparatus for processing transparent materials
DE102015008037A1 (de) * 2015-06-23 2016-12-29 Siltectra Gmbh Verfahren zum Führen eines Risses im Randbereich eines Spendersubstrats
DE102015110422A1 (de) * 2015-06-29 2016-12-29 Schott Ag Laserbearbeitung eines mehrphasigen transparenten Materials, sowie mehrphasiger Kompositwerkstoff
DE102015211999A1 (de) * 2015-06-29 2016-12-29 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Laserbearbeitungskopf und Laserbearbeitungsmaschine damit
KR102499697B1 (ko) 2015-07-10 2023-02-14 코닝 인코포레이티드 유연한 기판 시트에서의 홀의 연속 제조 방법 및 이에 관한 물품
DE102015111490A1 (de) * 2015-07-15 2017-01-19 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum lasergestützten Abtrennen eines Teilstücks von einem flächigen Glaselement
DE102015111491A1 (de) 2015-07-15 2017-01-19 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum Abtrennen von Glas- oder Glaskeramikteilen
CN105108331A (zh) * 2015-07-28 2015-12-02 上海信耀电子有限公司 一种整形导光管及激光焊接工艺
DE102015116846A1 (de) * 2015-10-05 2017-04-06 Schott Ag Verfahren zum Filamentieren eines Werkstückes mit einer von der Sollkontur abweichenden Form sowie durch Filamentation erzeugtes Werkstück
CN108136543A (zh) 2015-10-07 2018-06-08 康宁股份有限公司 将要被激光切割的经过涂覆的基材的激光预处理方法
JP6549014B2 (ja) * 2015-10-13 2019-07-24 株式会社ディスコ 光デバイスウエーハの加工方法
CN106601876A (zh) * 2015-10-19 2017-04-26 映瑞光电科技(上海)有限公司 一种led芯片结构及其制作方法
US20190009362A1 (en) * 2015-12-22 2019-01-10 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Method for producing a metal-ceramic substrate with picolaser
DE102016102768A1 (de) 2016-02-17 2017-08-17 Schott Ag Verfahren zur Kantenbearbeitung von Glaselementen und verfahrensgemäß bearbeitetes Glaselement
JP2019511447A (ja) 2016-03-09 2019-04-25 コーニング インコーポレイテッド 複雑に湾曲したガラス物品の冷間成形
WO2017167614A1 (de) * 2016-03-22 2017-10-05 Siltectra Gmbh Kombinierte laserbehandlung eines zu splittenden festkörpers
KR101774290B1 (ko) * 2016-04-25 2017-09-04 주식회사 아톤이엔지 레이저 핀 빔을 이용한 취성 소재 가공 방법 및 장치와 이를 위한 광학계
CN109311725B (zh) 2016-05-06 2022-04-26 康宁股份有限公司 从透明基材激光切割及移除轮廓形状
JP6755705B2 (ja) * 2016-05-09 2020-09-16 株式会社ディスコ レーザー加工装置
US10410883B2 (en) 2016-06-01 2019-09-10 Corning Incorporated Articles and methods of forming vias in substrates
EP3470166B1 (en) * 2016-06-08 2022-10-26 Han's Laser Technology Industry Group Co., Ltd. Method and device for cutting sapphire
JP6744624B2 (ja) * 2016-06-28 2020-08-19 三星ダイヤモンド工業株式会社 管状脆性部材の分断方法並びに分断装置
CN115570743A (zh) 2016-06-28 2023-01-06 康宁公司 将薄强化玻璃层压到用于装饰和显示器盖应用的曲面成型塑料表面
US10134657B2 (en) * 2016-06-29 2018-11-20 Corning Incorporated Inorganic wafer having through-holes attached to semiconductor wafer
US10794679B2 (en) 2016-06-29 2020-10-06 Corning Incorporated Method and system for measuring geometric parameters of through holes
EP3482253B1 (en) 2016-07-05 2021-05-05 Corning Incorporated Cold-formed glass article and assembly process thereof
WO2018022476A1 (en) 2016-07-29 2018-02-01 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing
CN110121398B (zh) * 2016-08-30 2022-02-08 康宁股份有限公司 透明材料的激光加工
DE102017008619A1 (de) * 2016-09-15 2018-03-15 Asahi Glass Company, Limited Verfahren zur Herstellung eines Glasgegenstands und ein Glasgegenstand
US10730783B2 (en) 2016-09-30 2020-08-04 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing transparent workpieces using non-axisymmetric beam spots
WO2018067928A1 (en) * 2016-10-07 2018-04-12 Corning Incorporated Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same
US20180105455A1 (en) 2016-10-17 2018-04-19 Corning Incorporated Silica test probe and other such devices
KR101736693B1 (ko) * 2016-10-19 2017-05-29 전상욱 레이저 회절빔의 필라멘테이션을 이용한 취성 소재 가공 방법 및 이를 위한 레이저 가공 장치
JP7066701B2 (ja) * 2016-10-24 2022-05-13 コーニング インコーポレイテッド シート状ガラス基体のレーザに基づく加工のための基体処理ステーション
US11384001B2 (en) 2016-10-25 2022-07-12 Corning Incorporated Cold-form glass lamination to a display
US20180118602A1 (en) * 2016-11-01 2018-05-03 Corning Incorporated Glass sheet transfer apparatuses for laser-based machining of sheet-like glass substrates
US10752534B2 (en) 2016-11-01 2020-08-25 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing laminate workpiece stacks
US10668561B2 (en) * 2016-11-15 2020-06-02 Coherent, Inc. Laser apparatus for cutting brittle material
HUE064074T2 (hu) * 2016-11-18 2024-02-28 Ipg Photonics Corp Összeállítás és eljárás anyagok lézeres feldolgozására
DE102017100015A1 (de) * 2017-01-02 2018-07-05 Schott Ag Verfahren zum Trennen von Substraten
EP4032699A1 (en) 2017-01-03 2022-07-27 Corning Incorporated Cover glass assembly
US11016590B2 (en) 2017-01-03 2021-05-25 Corning Incorporated Vehicle interior systems having a curved cover glass and display or touch panel and methods for forming the same
KR102410719B1 (ko) * 2017-02-07 2022-06-20 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 유리 필름의 제조 방법
US10688599B2 (en) 2017-02-09 2020-06-23 Corning Incorporated Apparatus and methods for laser processing transparent workpieces using phase shifted focal lines
CN106695117A (zh) * 2017-02-13 2017-05-24 武汉澳谱激光科技有限公司 一种实现轴向均匀线焦斑的光学器件
CN106624355A (zh) * 2017-02-23 2017-05-10 常州特尔玛枪嘴有限公司 一种可调节光斑能量密度分布的激光切割头
EP3610324B1 (en) 2017-04-12 2024-05-29 Saint-Gobain Glass France Electrochromic structure and method of separating electrochromic structure
DE102017206461B4 (de) 2017-04-13 2019-05-02 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zum laserbasierten Trennen eines transparenten, sprödbrechenden Werkstücks
KR102558993B1 (ko) 2017-05-15 2023-07-24 코닝 인코포레이티드 윤곽 유리 제품 및 그 제조 방법
DE102017208290A1 (de) * 2017-05-17 2018-11-22 Schott Ag Vorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten eines Werkstücks entlang einer vorbestimmten Bearbeitungslinie
DE102018109302A1 (de) 2017-05-19 2018-11-22 Schott Ag Bauteil, umfassend Glas oder Glaskeramik, mit entlang einer vorgegebenen Trennlinie angeordneten Vorschädigungen, Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung des Bauteils und dessen Verwendung
US10580725B2 (en) 2017-05-25 2020-03-03 Corning Incorporated Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same
US11078112B2 (en) 2017-05-25 2021-08-03 Corning Incorporated Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same
EP3412400A1 (en) * 2017-06-09 2018-12-12 Bystronic Laser AG Beam shaper and use thereof, device for laser beam treatment of a workpiece and use thereof, method for laser beam treatment of a workpiece
US10626040B2 (en) 2017-06-15 2020-04-21 Corning Incorporated Articles capable of individual singulation
GB201710813D0 (en) * 2017-07-05 2017-08-16 Univ Southampton Method for fabricating an optical fibre preform
WO2019014036A1 (en) 2017-07-11 2019-01-17 Corning Incorporated MOSAIC SCREENS AND METHODS OF MAKING SAME
CN117962601A (zh) 2017-07-18 2024-05-03 康宁公司 复杂弯曲玻璃制品的冷成型
US10906832B2 (en) 2017-08-11 2021-02-02 Corning Incorporated Apparatuses and methods for synchronous multi-laser processing of transparent workpieces
US20190062196A1 (en) 2017-08-25 2019-02-28 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing transparent workpieces using an afocal beam adjustment assembly
WO2019055469A1 (en) 2017-09-12 2019-03-21 Corning Incorporated INSULATING SCREEN FOR DISPLAY DEVICES COMPRISING A TOUCH PANEL ON DECORATIVE GLASS AND ASSOCIATED METHODS
US11065960B2 (en) 2017-09-13 2021-07-20 Corning Incorporated Curved vehicle displays
TW202340816A (zh) 2017-09-13 2023-10-16 美商康寧公司 用於顯示器的基於光導器的無電面板、相關的方法及載具內部系統
US11745588B2 (en) 2017-10-10 2023-09-05 Corning Incorporated Vehicle interior systems having a curved cover glass with improved reliability and methods for forming the same
CN111758063B (zh) 2017-11-21 2022-08-09 康宁公司 用于抬头显示器系统的非球面镜及其形成方法
WO2019108015A2 (en) 2017-11-30 2019-06-06 Corning Precision Materials Co., Ltd. Vacuum mold apparatus, systems, and methods for forming curved mirrors
KR20200084360A (ko) 2017-11-30 2020-07-10 코닝 인코포레이티드 비구면 미러를 진공 성형하기 위한 시스템 및 방법
US10917966B2 (en) 2018-01-29 2021-02-09 Corning Incorporated Articles including metallized vias
CN108161250A (zh) * 2018-01-30 2018-06-15 苏州德龙激光股份有限公司 多焦点动态分布激光加工脆性透明材料的方法及装置
DE102018126381A1 (de) 2018-02-15 2019-08-22 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum Einfügen einer Trennlinie in ein transparentes sprödbrüchiges Material, sowie verfahrensgemäß herstellbares, mit einer Trennlinie versehenes Element
US11554984B2 (en) 2018-02-22 2023-01-17 Corning Incorporated Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness
TW201945111A (zh) 2018-02-23 2019-12-01 美商康寧公司 將液體透鏡從一個陣列的液體透鏡中分離的方法
JP7361705B2 (ja) 2018-03-13 2023-10-16 コーニング インコーポレイテッド 亀裂抵抗性の湾曲したカバーガラスを有する乗物内装システムおよびその形成方法
US11401195B2 (en) * 2018-03-29 2022-08-02 Corning Incorporated Selective laser processing of transparent workpiece stacks
US11152294B2 (en) 2018-04-09 2021-10-19 Corning Incorporated Hermetic metallized via with improved reliability
WO2019226886A1 (en) 2018-05-25 2019-11-28 Corning Incorporated Scribing thin ceramic materials using beam focal line
CN112714752A (zh) 2018-06-19 2021-04-27 康宁公司 透明工件的主动控制激光加工
US11059131B2 (en) 2018-06-22 2021-07-13 Corning Incorporated Methods for laser processing a substrate stack having one or more transparent workpieces and a black matrix layer
JP2021531187A (ja) 2018-07-16 2021-11-18 コーニング インコーポレイテッド 冷間曲げガラス基板を有する乗物内装システムおよびその形成方法
WO2020032124A1 (ja) * 2018-08-10 2020-02-13 日本電気硝子株式会社 ガラス板の製造方法
US20200061750A1 (en) * 2018-08-22 2020-02-27 Coherent Munich GmbH & Co. KG Mitigating low surface quality
CN113056345B (zh) 2018-09-28 2024-01-02 康宁股份有限公司 用于对透明基板改性的系统和方法
KR20210066910A (ko) 2018-10-04 2021-06-07 코닝 인코포레이티드 다중-섹션 디스플레이들을 형성하기 위한 시스템들 및 방법들
CN109767973A (zh) * 2018-12-14 2019-05-17 华南理工大学 一种利用深紫外激光对氧化物半导体薄膜进行退火的方法
CN109702356A (zh) * 2019-01-09 2019-05-03 蓝思智能机器人(长沙)有限公司 一种激光切割覆盖保护膜玻璃的方法
CN113474311B (zh) 2019-02-21 2023-12-29 康宁股份有限公司 具有铜金属化贯穿孔的玻璃或玻璃陶瓷制品及其制造过程
EP3712717A1 (fr) * 2019-03-19 2020-09-23 Comadur S.A. Methode pour marquer une glace de montre en saphir
JP7230650B2 (ja) 2019-04-05 2023-03-01 Tdk株式会社 無機材料基板の加工方法、デバイス、およびデバイスの製造方法
US11054574B2 (en) 2019-05-16 2021-07-06 Corning Research & Development Corporation Methods of singulating optical waveguide sheets to form optical waveguide substrates
JP7364860B2 (ja) * 2019-07-01 2023-10-19 日亜化学工業株式会社 発光素子の製造方法
EP3771695A1 (en) 2019-07-31 2021-02-03 Corning Incorporated Method and system for cold-forming glass
DE102019123239B4 (de) * 2019-08-29 2023-05-04 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Trennen eines Werkstücks mittels eines Laserstrahls
CN110435160A (zh) * 2019-09-09 2019-11-12 广东利元亨智能装备股份有限公司 一种激光焊接头及激光焊接方法
DE102019125124A1 (de) * 2019-09-18 2021-03-18 Rogers Germany Gmbh Verfahren zum Bearbeiten eines Metall-Keramik-Substrats, Anlage für ein solches Verfahren und Metall-Keramik-Substrate hergestellt mit einem solchen Verfahren
CN110967842B (zh) * 2019-11-11 2021-08-06 长春理工大学 基于光镊技术的局域空心光束自由开闭系统
DE102019217577A1 (de) * 2019-11-14 2021-05-20 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Verfahren zur Laserbearbeitung eines Werkstücks, Bearbeitungsoptik und Laserbearbeitungsvorrichtung
KR20210059818A (ko) * 2019-11-15 2021-05-26 삼성전자주식회사 스텔스 다이싱 장치 및 스텔스 다이싱 방법
DE112020005006T5 (de) * 2019-11-21 2022-07-07 AGC Inc. Glasplattenbearbeitungsverfahren, glasplatte
CN111046535B (zh) * 2019-11-25 2022-12-09 暨南大学 一种激光加工热分布计算方法
JP2021086902A (ja) * 2019-11-27 2021-06-03 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP2021088474A (ja) * 2019-12-03 2021-06-10 日本電気硝子株式会社 ガラス物品の製造方法、及びガラス物品
JP2023505148A (ja) * 2019-12-13 2023-02-08 アルコン インコーポレイティド 光学部品に伴う問題を判定するシステム及び方法
TWI794589B (zh) * 2020-02-21 2023-03-01 海納光電股份有限公司 硬脆板材高溫環境加工裝置及方法
LT3875436T (lt) * 2020-03-06 2024-04-10 Schott Ag Substrato elementas ir substrato elemento gavimo ir (arba) atskyrimo atlikimo būdas
JP6787617B2 (ja) * 2020-03-19 2020-11-18 三星ダイヤモンド工業株式会社 管状脆性部材の分断方法並びに分断装置
US11772361B2 (en) 2020-04-02 2023-10-03 Corning Incorporated Curved glass constructions and methods for forming same
US20210379695A1 (en) * 2020-06-04 2021-12-09 Corning Incorporated Methods for laser processing transparent workpieces using modified pulse burst profiles
TWI733604B (zh) * 2020-06-10 2021-07-11 財團法人工業技術研究院 玻璃工件雷射處理系統及方法
DE102020123787A1 (de) 2020-09-11 2022-03-17 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Verfahren zum Trennen eines transparenten Materials
DE102020127116B4 (de) 2020-10-15 2022-07-14 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Laserbearbeiten eines Werkstücks
DE102020132700A1 (de) 2020-12-08 2022-06-09 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Hochenergieglasschneiden
CN112606235B (zh) * 2021-01-12 2022-12-20 盛吉盛精密制造(绍兴)有限公司 一种用于硅片线切割的切割设备
WO2022197972A1 (en) * 2021-03-18 2022-09-22 Divergent Technologies, Inc. Variable beam geometry energy beam-based powder bed fusion
DE102021112271A1 (de) * 2021-05-11 2022-11-17 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Strahlgüte
CN113607092B (zh) * 2021-07-21 2022-07-15 中国科学技术大学 一种光线小角度测量方法及系统
CN117836247A (zh) 2021-08-06 2024-04-05 康宁股份有限公司 抗谐振空心光纤预制件及其制备方法
CN113732511B (zh) * 2021-08-30 2023-01-06 中国科学院西安光学精密机械研究所 光纤表面包层微纳结构飞秒激光加工方法及装置
CN118020006A (zh) * 2021-10-01 2024-05-10 株式会社泰克捷普 细径光束生成装置
WO2023096776A2 (en) 2021-11-29 2023-06-01 Corning Incorporated Laser cutting methods for multi-layered glass assemblies having an electrically conductive layer
DE102021131812A1 (de) 2021-12-02 2023-06-07 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Trennen eines transparenten Werkstücks
US20240010544A1 (en) 2022-07-07 2024-01-11 Corning Incorporated Methods for drilling features in a substrate using laser perforation and laser ablation

Family Cites Families (751)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1790397A (en) 1931-01-27 Glass workins machine
US1529243A (en) 1924-01-30 1925-03-10 Libbey Owens Sheet Glass Co Flattening table for continuous sheet glass
US1626396A (en) 1926-08-02 1927-04-26 Libbey Owens Sheet Glass Co Sheet-glass-drawing apparatus
US2754956A (en) 1951-05-02 1956-07-17 Sommer & Maca Glass Machinery Conveyor structure for flat glass edging beveling and polishing apparatus
US2682134A (en) 1951-08-17 1954-06-29 Corning Glass Works Glass sheet containing translucent linear strips
US2749794A (en) 1953-04-24 1956-06-12 Corning Glass Works Illuminating glassware and method of making it
US2932087A (en) 1954-05-10 1960-04-12 Libbey Owens Ford Glass Co Template cutting apparatus for bent sheets of glass or the like
GB1242172A (en) 1968-02-23 1971-08-11 Ford Motor Co A process for chemically cutting glass
US3647410A (en) 1969-09-09 1972-03-07 Owens Illinois Inc Glass ribbon machine blow head mechanism
US3775084A (en) 1970-01-02 1973-11-27 Owens Illinois Inc Pressurizer apparatus for glass ribbon machine
US3729302A (en) 1970-01-02 1973-04-24 Owens Illinois Inc Removal of glass article from ribbon forming machine by vibrating force
US3673900A (en) 1970-08-10 1972-07-04 Shatterproof Glass Corp Glass cutting apparatus
US3695498A (en) 1970-08-26 1972-10-03 Ppg Industries Inc Non-contact thermal cutting
US3695497A (en) 1970-08-26 1972-10-03 Ppg Industries Inc Method of severing glass
DE2231330A1 (de) 1972-06-27 1974-01-10 Agfa Gevaert Ag Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines scharfen fokus
US3947093A (en) * 1973-06-28 1976-03-30 Canon Kabushiki Kaisha Optical device for producing a minute light beam
GB1500207A (en) 1975-10-29 1978-02-08 Pilkington Brothers Ltd Breaking flat glass into cullet
JPS5318756A (en) 1976-07-31 1978-02-21 Izawa Seimen Koujiyou Yuugen Production of boiled noodle with long preservetivity
DE2757890C2 (de) 1977-12-24 1981-10-15 Fa. Karl Lutz, 6980 Wertheim Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Behältnissen aus Röhrenglas, insbesondere Ampullen
JPS54136045A (en) 1978-04-07 1979-10-22 Inoue Gomu Kogyo Kk Preparation of elastic bumper for automobile* to which ornamental lace body is integrally installed
JPS5713480A (en) 1980-06-26 1982-01-23 Hitachi Ltd Crt display unit
US4441008A (en) 1981-09-14 1984-04-03 Ford Motor Company Method of drilling ultrafine channels through glass
US4546231A (en) 1983-11-14 1985-10-08 Group Ii Manufacturing Ltd. Creation of a parting zone in a crystal structure
US4618056A (en) 1984-03-23 1986-10-21 Omega Castings, Inc. Link conveyor belt for heat treating apparatus
JPS6174794A (ja) 1984-09-17 1986-04-17 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ加工装置の加工ヘツド
US4642439A (en) 1985-01-03 1987-02-10 Dow Corning Corporation Method and apparatus for edge contouring lenses
US4623776A (en) 1985-01-03 1986-11-18 Dow Corning Corporation Ring of light laser optics system
JPS6246930A (ja) 1985-08-21 1987-02-28 Bandou Kiko Kk ガラス板の割断装置
US4646308A (en) 1985-09-30 1987-02-24 Spectra-Physics, Inc. Synchronously pumped dye laser using ultrashort pump pulses
JPS6318756A (ja) 1986-07-09 1988-01-26 Fujiwara Jiyouki Sangyo Kk 生物育成、微生物培養工程における制御温度の監視方法及びその装置
US4749400A (en) 1986-12-12 1988-06-07 Ppg Industries, Inc. Discrete glass sheet cutting
JP2691543B2 (ja) 1986-12-18 1997-12-17 住友化学工業株式会社 光制御板およびその製造方法
DE3789858T2 (de) 1986-12-18 1994-09-01 Sumitomo Chemical Co Platten für Lichtkontrolle.
JPS63192561A (ja) 1987-02-04 1988-08-09 Nkk Corp マルチ切断装置
DE3870584D1 (de) 1987-05-29 1992-06-04 Nippon Sheet Glass Co Ltd Sortiersystem und verfahren fuer flachglasscheiben.
US4918751A (en) 1987-10-05 1990-04-17 The University Of Rochester Method for optical pulse transmission through optical fibers which increases the pulse power handling capacity of the fibers
IL84255A (en) 1987-10-23 1993-02-21 Galram Technology Ind Ltd Process for removal of post- baked photoresist layer
JPH01179770A (ja) 1988-01-12 1989-07-17 Hiroshima Denki Gakuen 金属とセラミックスとの接合方法
US4764930A (en) 1988-01-27 1988-08-16 Intelligent Surgical Lasers Multiwavelength laser source
US4907586A (en) 1988-03-31 1990-03-13 Intelligent Surgical Lasers Method for reshaping the eye
US4929065A (en) 1988-11-03 1990-05-29 Isotec Partners, Ltd. Glass plate fusion for macro-gradient refractive index materials
US4891054A (en) 1988-12-30 1990-01-02 Ppg Industries, Inc. Method for cutting hot glass
US5112722A (en) 1989-04-12 1992-05-12 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Method of producing light control plate which induces scattering of light at different angles
US5104210A (en) 1989-04-24 1992-04-14 Monsanto Company Light control films and method of making
US5035918A (en) 1989-04-26 1991-07-30 Amp Incorporated Non-flammable and strippable plating resist and method of using same
US4951457A (en) 1989-11-08 1990-08-28 Deal Douglas O Narrow pitch articulated chain and links therefor
US4997250A (en) 1989-11-17 1991-03-05 General Electric Company Fiber output coupler with beam shaping optics for laser materials processing system
EP0465675B1 (en) 1990-01-31 1996-09-11 Bando Kiko Co. Ltd. Machine for working glass plate
US5040182A (en) 1990-04-24 1991-08-13 Coherent, Inc. Mode-locked laser
IE912667A1 (en) * 1991-07-29 1993-02-10 Trinity College Dublin Laser Profiling of Lens Edge
US5256853A (en) 1991-07-31 1993-10-26 Bausch & Lomb Incorporated Method for shaping contact lens surfaces
EP1159986A3 (en) 1991-11-06 2004-01-28 LAI, Shui, T. Corneal surgery device and method
US5265107A (en) 1992-02-05 1993-11-23 Bell Communications Research, Inc. Broadband absorber having multiple quantum wells of different thicknesses
US5410567A (en) 1992-03-05 1995-04-25 Corning Incorporated Optical fiber draw furnace
JPH05274085A (ja) 1992-03-26 1993-10-22 Sanyo Electric Co Ltd 入力および表示装置
JPH05300544A (ja) 1992-04-23 1993-11-12 Sony Corp 映像表示装置
JPH05323110A (ja) 1992-05-22 1993-12-07 Hitachi Koki Co Ltd 多ビーム発生素子
US5475197A (en) 1992-06-17 1995-12-12 Carl-Zeiss-Stiftung Process and apparatus for the ablation of a surface
US6016223A (en) 1992-08-31 2000-01-18 Canon Kabushiki Kaisha Double bessel beam producing method and apparatus
JP3553986B2 (ja) 1992-08-31 2004-08-11 キヤノン株式会社 2重ベッセルビーム発生方法及び装置
CA2112843A1 (en) 1993-02-04 1994-08-05 Richard C. Ujazdowski Variable repetition rate picosecond laser
EP0627643B1 (en) 1993-06-03 1999-05-06 Hamamatsu Photonics K.K. Laser scanning optical system using axicon
JP3293136B2 (ja) 1993-06-04 2002-06-17 セイコーエプソン株式会社 レーザ加工装置及びレーザ加工方法
US6489589B1 (en) 1994-02-07 2002-12-03 Board Of Regents, University Of Nebraska-Lincoln Femtosecond laser utilization methods and apparatus and method for producing nanoparticles
JP3531199B2 (ja) * 1994-02-22 2004-05-24 三菱電機株式会社 光伝送装置
US5436925A (en) 1994-03-01 1995-07-25 Hewlett-Packard Company Colliding pulse mode-locked fiber ring laser using a semiconductor saturable absorber
US5400350A (en) 1994-03-31 1995-03-21 Imra America, Inc. Method and apparatus for generating high energy ultrashort pulses
US5778016A (en) 1994-04-01 1998-07-07 Imra America, Inc. Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor
US5656186A (en) * 1994-04-08 1997-08-12 The Regents Of The University Of Michigan Method for controlling configuration of laser induced breakdown and ablation
DE19513354A1 (de) 1994-04-14 1995-12-14 Zeiss Carl Materialbearbeitungseinrichtung
JP2526806B2 (ja) 1994-04-26 1996-08-21 日本電気株式会社 半導体レ―ザおよびその動作方法
WO1995031023A1 (en) 1994-05-09 1995-11-16 Massachusetts Institute Of Technology Dispersion-compensated laser using prismatic end elements
US6016324A (en) 1994-08-24 2000-01-18 Jmar Research, Inc. Short pulse laser system
US5434875A (en) 1994-08-24 1995-07-18 Tamar Technology Co. Low cost, high average power, high brightness solid state laser
US5776220A (en) 1994-09-19 1998-07-07 Corning Incorporated Method and apparatus for breaking brittle materials
US5541774A (en) 1995-02-27 1996-07-30 Blankenbecler; Richard Segmented axial gradient lens
US5696782A (en) 1995-05-19 1997-12-09 Imra America, Inc. High power fiber chirped pulse amplification systems based on cladding pumped rare-earth doped fibers
AT402195B (de) 1995-05-29 1997-02-25 Lisec Peter Vorrichtung zum fördern von glastafeln
DE19535392A1 (de) 1995-09-23 1997-03-27 Zeiss Carl Fa Radial polarisationsdrehende optische Anordnung und Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage damit
US5854490A (en) 1995-10-03 1998-12-29 Fujitsu Limited Charged-particle-beam exposure device and charged-particle-beam exposure method
JPH09106243A (ja) 1995-10-12 1997-04-22 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムの複製方法
JP3125180B2 (ja) 1995-10-20 2001-01-15 新東工業株式会社 シート状樹脂成型設備
US5715346A (en) 1995-12-15 1998-02-03 Corning Incorporated Large effective area single mode optical waveguide
US5692703A (en) 1996-05-10 1997-12-02 Mcdonnell Douglas Corporation Multiple application wheel well design
US5736709A (en) 1996-08-12 1998-04-07 Armco Inc. Descaling metal with a laser having a very short pulse width and high average power
US5854751A (en) 1996-10-15 1998-12-29 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Simulator and optimizer of laser cutting process
US7353829B1 (en) 1996-10-30 2008-04-08 Provectus Devicetech, Inc. Methods and apparatus for multi-photon photo-activation of therapeutic agents
EP0951454B8 (en) 1996-11-13 2002-11-20 Corning Incorporated Method for forming an internally channeled glass article
US5781684A (en) 1996-12-20 1998-07-14 Corning Incorporated Single mode optical waveguide having large effective area
CA2231096A1 (en) 1997-03-25 1998-09-25 Duane E. Hoke Optical fiber dual spindle winder with automatic threading and winding
US6033583A (en) 1997-05-05 2000-03-07 The Regents Of The University Of California Vapor etching of nuclear tracks in dielectric materials
US6156030A (en) 1997-06-04 2000-12-05 Y-Beam Technologies, Inc. Method and apparatus for high precision variable rate material removal and modification
BE1011208A4 (fr) 1997-06-11 1999-06-01 Cuvelier Georges Procede de decalottage de pieces en verre.
DE19728766C1 (de) 1997-07-07 1998-12-17 Schott Rohrglas Gmbh Verwendung eines Verfahrens zur Herstellung einer Sollbruchstelle bei einem Glaskörper
JPH1179770A (ja) 1997-07-10 1999-03-23 Yamaha Corp スクライブ装置及び劈開方法
US6078599A (en) 1997-07-22 2000-06-20 Cymer, Inc. Wavelength shift correction technique for a laser
US6003418A (en) 1997-07-31 1999-12-21 International Business Machines Corporation Punched slug removal system
JP3264224B2 (ja) 1997-08-04 2002-03-11 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
US6520057B1 (en) 1997-09-30 2003-02-18 Eastman Machine Company Continuous system and method for cutting sheet material
JP3185869B2 (ja) 1997-10-21 2001-07-11 日本電気株式会社 レーザ加工方法
DE19750320C1 (de) 1997-11-13 1999-04-01 Max Planck Gesellschaft Verfahren und Vorrichtung zur Lichtpulsverstärkung
WO1999029243A1 (en) 1997-12-05 1999-06-17 Thermolase Corporation Skin enhancement using laser light
US6501578B1 (en) 1997-12-19 2002-12-31 Electric Power Research Institute, Inc. Apparatus and method for line of sight laser communications
JPH11197498A (ja) 1998-01-13 1999-07-27 Japan Science & Technology Corp 無機材料内部の選択的改質方法及び内部が選択的に改質された無機材料
US6272156B1 (en) 1998-01-28 2001-08-07 Coherent, Inc. Apparatus for ultrashort pulse transportation and delivery
JPH11240730A (ja) 1998-02-27 1999-09-07 Nec Kansai Ltd 脆性材料の割断方法
JPH11269683A (ja) 1998-03-18 1999-10-05 Armco Inc 金属表面から酸化物を除去する方法及び装置
US6160835A (en) 1998-03-20 2000-12-12 Rocky Mountain Instrument Co. Hand-held marker with dual output laser
EP0949541B1 (en) 1998-04-08 2006-06-07 ASML Netherlands B.V. Lithography apparatus
DE69931690T2 (de) 1998-04-08 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographischer Apparat
US6256328B1 (en) 1998-05-15 2001-07-03 University Of Central Florida Multiwavelength modelocked semiconductor diode laser
US6308055B1 (en) 1998-05-29 2001-10-23 Silicon Laboratories, Inc. Method and apparatus for operating a PLL for synthesizing high-frequency signals for wireless communications
JPH11347861A (ja) 1998-06-03 1999-12-21 Amada Co Ltd レーザ加工機における複合加工方法およびレーザ加工機における複合加工システム
JPH11347758A (ja) 1998-06-10 1999-12-21 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 超精密加工装置
JP4396953B2 (ja) 1998-08-26 2010-01-13 三星電子株式会社 レーザ切断装置および切断方法
DE19851353C1 (de) 1998-11-06 1999-10-07 Schott Glas Verfahren und Vorrichtung zum Schneiden eines Laminats aus einem sprödbrüchigen Werkstoff und einem Kunststoff
JP3178524B2 (ja) 1998-11-26 2001-06-18 住友重機械工業株式会社 レーザマーキング方法と装置及びマーキングされた部材
US6259058B1 (en) 1998-12-01 2001-07-10 Accudyne Display And Semiconductor Systems, Inc. Apparatus for separating non-metallic substrates
US7649153B2 (en) 1998-12-11 2010-01-19 International Business Machines Corporation Method for minimizing sample damage during the ablation of material using a focused ultrashort pulsed laser beam
US6445491B2 (en) 1999-01-29 2002-09-03 Irma America, Inc. Method and apparatus for optical sectioning and imaging using time-gated parametric image amplification
JP2000225485A (ja) 1999-02-04 2000-08-15 Fine Machining Kk レーザ加工装置のステージ
US6381391B1 (en) 1999-02-19 2002-04-30 The Regents Of The University Of Michigan Method and system for generating a broadband spectral continuum and continuous wave-generating system utilizing same
JP2000247668A (ja) 1999-02-25 2000-09-12 Bando Kiko Kk ガラス板の加工機械
DE19908630A1 (de) 1999-02-27 2000-08-31 Bosch Gmbh Robert Abschirmung gegen Laserstrahlen
JP4218209B2 (ja) 1999-03-05 2009-02-04 三菱電機株式会社 レーザ加工装置
US6501576B1 (en) 1999-03-24 2002-12-31 Intel Corporation Wireless data transfer using a remote media interface
US6484052B1 (en) 1999-03-30 2002-11-19 The Regents Of The University Of California Optically generated ultrasound for enhanced drug delivery
DE60038400T2 (de) 1999-04-02 2009-04-23 Murata Mfg. Co., Ltd., Nagaokakyo-shi Laserverfahren zur Bearbeitung von Löchern nur in einer keramischen Grünfolie mit einem Trägerfilm
US6137632A (en) 1999-04-19 2000-10-24 Iomega Corporation Method and apparatus for lossless beam shaping to obtain high-contrast imaging in photon tunneling methods
JP2000327349A (ja) 1999-05-24 2000-11-28 China Glaze Co Ltd 結晶化ガラス板の曲げ加工方法
US6373565B1 (en) 1999-05-27 2002-04-16 Spectra Physics Lasers, Inc. Method and apparatus to detect a flaw in a surface of an article
CN2388062Y (zh) 1999-06-21 2000-07-19 郭广宗 一层有孔一层无孔双层玻璃车船窗
US6449301B1 (en) 1999-06-22 2002-09-10 The Regents Of The University Of California Method and apparatus for mode locking of external cavity semiconductor lasers with saturable Bragg reflectors
US6185051B1 (en) 1999-06-23 2001-02-06 Read-Rite Corporation High numerical aperture optical focusing device for use in data storage systems
CN1100494C (zh) 1999-07-06 2003-02-05 王仁丁 糊香风味均质豆腐的制备方法
US6259151B1 (en) 1999-07-21 2001-07-10 Intersil Corporation Use of barrier refractive or anti-reflective layer to improve laser trim characteristics of thin film resistors
US6573026B1 (en) 1999-07-29 2003-06-03 Corning Incorporated Femtosecond laser writing of glass, including borosilicate, sulfide, and lead glasses
US6452117B2 (en) 1999-08-26 2002-09-17 International Business Machines Corporation Method for filling high aspect ratio via holes in electronic substrates and the resulting holes
US6729151B1 (en) 1999-09-24 2004-05-04 Peter Forrest Thompson Heat pump fluid heating system
DE19952331C1 (de) 1999-10-29 2001-08-30 Schott Spezialglas Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum schnellen Schneiden eines Werkstücks aus sprödbrüchigem Werkstoff mittels Laserstrahlen
JP2001130921A (ja) 1999-10-29 2001-05-15 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd 脆性基板の加工方法及び装置
JP2001138083A (ja) 1999-11-18 2001-05-22 Seiko Epson Corp レーザー加工装置及びレーザー照射方法
JP4592855B2 (ja) 1999-12-24 2010-12-08 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
DK1242802T3 (da) 1999-12-28 2012-07-23 Corning Inc Fremgangsmåde og apparat til trækprøvning og genindføring af optisk fiber under fibertrækning
US6339208B1 (en) 2000-01-19 2002-01-15 General Electric Company Method of forming cooling holes
US6552301B2 (en) 2000-01-25 2003-04-22 Peter R. Herman Burst-ultrafast laser machining method
JP2001236673A (ja) 2000-02-17 2001-08-31 Minolta Co Ltd 光ヘッド及び光記録・再生装置
DE10010131A1 (de) 2000-03-03 2001-09-06 Zeiss Carl Mikrolithographie - Projektionsbelichtung mit tangentialer Polarisartion
WO2001084230A1 (en) 2000-05-04 2001-11-08 Schott Donnelly Llc Chromogenic glazing
JP3530114B2 (ja) 2000-07-11 2004-05-24 忠弘 大見 単結晶の切断方法
JP2002040330A (ja) 2000-07-25 2002-02-06 Olympus Optical Co Ltd 光学素子切換え制御装置
JP4964376B2 (ja) 2000-09-13 2012-06-27 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP4659300B2 (ja) * 2000-09-13 2011-03-30 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法及び半導体チップの製造方法
JP3626442B2 (ja) * 2000-09-13 2005-03-09 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
KR100673073B1 (ko) 2000-10-21 2007-01-22 삼성전자주식회사 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치
SE0004096D0 (sv) 2000-11-08 2000-11-08 Nira Automotive Ab Positioning system
US20020110639A1 (en) 2000-11-27 2002-08-15 Donald Bruns Epoxy coating for optical surfaces
US6611647B2 (en) 2000-12-12 2003-08-26 Corning Incorporated Large effective area optical fiber
US20020082466A1 (en) 2000-12-22 2002-06-27 Jeongho Han Laser surgical system with light source and video scope
JP4880820B2 (ja) 2001-01-19 2012-02-22 株式会社レーザーシステム レーザ支援加工方法
DE10103256A1 (de) 2001-01-25 2002-08-08 Leica Microsystems Sicherheitsvorrichtung für Mikroskope mit einem Laserstrahl als Beleuchtungsquelle
JP2002228818A (ja) 2001-02-05 2002-08-14 Taiyo Yuden Co Ltd レーザー加工用回折光学素子、レーザー加工装置及びレーザー加工方法
JP3445250B2 (ja) 2001-02-20 2003-09-08 ゼット株式会社 靴 底
EA004167B1 (ru) 2001-03-01 2004-02-26 Общество С Ограниченной Ответственностью "Лазтекс" Способ резки стекла
DE10124803A1 (de) 2001-05-22 2002-11-28 Zeiss Carl Polarisator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisator
US7015491B2 (en) 2001-06-01 2006-03-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, control system
EP1262836B1 (en) 2001-06-01 2018-09-12 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP3725805B2 (ja) 2001-07-04 2005-12-14 三菱電線工業株式会社 ファイバ配線シートおよびその製造方法
SG108262A1 (en) 2001-07-06 2005-01-28 Inst Data Storage Method and apparatus for cutting a multi-layer substrate by dual laser irradiation
US6754429B2 (en) 2001-07-06 2004-06-22 Corning Incorporated Method of making optical fiber devices and devices thereof
SE0202159D0 (sv) 2001-07-10 2002-07-09 Coding Technologies Sweden Ab Efficientand scalable parametric stereo coding for low bitrate applications
US7183650B2 (en) 2001-07-12 2007-02-27 Renesas Technology Corp. Wiring glass substrate for connecting a semiconductor chip to a printed wiring substrate and a semiconductor module having the wiring glass substrate
JP3775250B2 (ja) 2001-07-12 2006-05-17 セイコーエプソン株式会社 レーザー加工方法及びレーザー加工装置
WO2003015976A1 (fr) 2001-08-10 2003-02-27 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Procede et dispositif de chanfreinage de materiau friable
JP3795778B2 (ja) 2001-08-24 2006-07-12 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 水添ビスフェノールa型エポキシ樹脂を用いたレジノイド研削砥石
JP4397571B2 (ja) * 2001-09-25 2010-01-13 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザ照射方法およびレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法
JP2003114400A (ja) 2001-10-04 2003-04-18 Sumitomo Electric Ind Ltd レーザ光学システムおよびレーザ加工方法
JP2003124491A (ja) 2001-10-15 2003-04-25 Sharp Corp 薄膜太陽電池モジュール
EP1306196A1 (de) 2001-10-24 2003-05-02 Telsonic AG Haltevorrichtung, Vorrichtung zum Verschweissen von Werkstücken und Verfahren zum Bereitstellen einer Haltevorrichtung
JP2003154517A (ja) 2001-11-21 2003-05-27 Seiko Epson Corp 脆性材料の割断加工方法およびその装置、並びに電子部品の製造方法
US6720519B2 (en) 2001-11-30 2004-04-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. System and method of laser drilling
US6973384B2 (en) 2001-12-06 2005-12-06 Bellsouth Intellectual Property Corporation Automated location-intelligent traffic notification service systems and methods
JP2003238178A (ja) 2002-02-21 2003-08-27 Toshiba Ceramics Co Ltd ガス導入用シャワープレート及びその製造方法
EP2216128B1 (en) 2002-03-12 2016-01-27 Hamamatsu Photonics K.K. Method of cutting object to be processed
US6744009B1 (en) 2002-04-02 2004-06-01 Seagate Technology Llc Combined laser-scribing and laser-breaking for shaping of brittle substrates
US6787732B1 (en) 2002-04-02 2004-09-07 Seagate Technology Llc Method for laser-scribing brittle substrates and apparatus therefor
DE10219514A1 (de) 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
US7565820B2 (en) 2002-04-30 2009-07-28 Corning Incorporated Methods and apparatus for forming heat treated optical fiber
FR2839508B1 (fr) 2002-05-07 2005-03-04 Saint Gobain Vitrage decoupe sans rompage
JP3559827B2 (ja) 2002-05-24 2004-09-02 独立行政法人理化学研究所 透明材料内部の処理方法およびその装置
US7116283B2 (en) 2002-07-30 2006-10-03 Ncr Corporation Methods and apparatus for improved display of visual data for point of sale terminals
CA2396831A1 (en) * 2002-08-02 2004-02-02 Femtonics Corporation Microstructuring optical wave guide devices with femtosecond optical pulses
DE10240033B4 (de) 2002-08-28 2005-03-10 Jenoptik Automatisierungstech Anordnung zum Einbringen von Strahlungsenergie in ein Werkstück aus einem schwach absorbierenden Material
US6737345B1 (en) 2002-09-10 2004-05-18 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Scheme to define laser fuse in dual damascene CU process
US20040051982A1 (en) 2002-09-13 2004-03-18 Perchak Robert M. Wide angle surface generator & target
JP3929393B2 (ja) 2002-12-03 2007-06-13 株式会社日本エミック 切断装置
JP2004209675A (ja) 2002-12-26 2004-07-29 Kashifuji:Kk 押圧切断装置及び押圧切断方法
KR100497820B1 (ko) 2003-01-06 2005-07-01 로체 시스템즈(주) 유리판절단장치
TWI319412B (en) 2003-01-15 2010-01-11 Sumitomo Rubber Ind Polymeric-type antistatic agent and antistatic polymer composition and fabricating method thereof
JP2004217492A (ja) 2003-01-17 2004-08-05 Murakami Corp ガラス板材の切抜方法
AU2003203192A1 (en) 2003-01-21 2004-08-13 Toyota Steel Center Co., Ltd. Laser cutting device, laser cutting method, and laser cutting system
JP3775410B2 (ja) 2003-02-03 2006-05-17 セイコーエプソン株式会社 レーザー加工方法、レーザー溶接方法並びにレーザー加工装置
US8685838B2 (en) 2003-03-12 2014-04-01 Hamamatsu Photonics K.K. Laser beam machining method
US7617167B2 (en) 2003-04-09 2009-11-10 Avisere, Inc. Machine vision system for enterprise management
CA2522807A1 (en) 2003-04-22 2004-11-04 The Coca-Cola Company Method and apparatus for strengthening glass
US6952519B2 (en) 2003-05-02 2005-10-04 Corning Incorporated Large effective area high SBS threshold optical fiber
US6904218B2 (en) 2003-05-12 2005-06-07 Fitel U.S.A. Corporation Super-large-effective-area (SLA) optical fiber and communication system incorporating the same
US7511886B2 (en) 2003-05-13 2009-03-31 Carl Zeiss Smt Ag Optical beam transformation system and illumination system comprising an optical beam transformation system
DE10322376A1 (de) 2003-05-13 2004-12-02 Carl Zeiss Smt Ag Axiconsystem und Beleuchtungssystem damit
FR2855084A1 (fr) * 2003-05-22 2004-11-26 Air Liquide Optique de focalisation pour le coupage laser
JP2005000952A (ja) 2003-06-12 2005-01-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd レーザー加工方法及びレーザー加工装置
WO2004113993A1 (en) 2003-06-26 2004-12-29 Risø National Laboratory Generation of a desired wavefront with a plurality of phase contrast filters
EP1649965B1 (en) 2003-07-18 2012-10-24 Hamamatsu Photonics K. K. Method of laser beam machining a machining target
WO2005024516A2 (de) 2003-08-14 2005-03-17 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage
JP2005104819A (ja) 2003-09-10 2005-04-21 Nippon Sheet Glass Co Ltd 合せガラスの切断方法及び合せガラス切断装置
US7408616B2 (en) 2003-09-26 2008-08-05 Carl Zeiss Smt Ag Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method
US20050205778A1 (en) 2003-10-17 2005-09-22 Gsi Lumonics Corporation Laser trim motion, calibration, imaging, and fixturing techniques
JP2005135964A (ja) 2003-10-28 2005-05-26 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの分割方法
JP2005138143A (ja) * 2003-11-06 2005-06-02 Disco Abrasive Syst Ltd レーザ光線を利用する加工装置
US7172067B2 (en) 2003-11-10 2007-02-06 Johnson Level & Tool Mfg. Co., Inc. Level case with positioning indentations
JP2005144487A (ja) 2003-11-13 2005-06-09 Seiko Epson Corp レーザ加工装置及びレーザ加工方法
JP3962718B2 (ja) 2003-12-01 2007-08-22 キヤノン株式会社 情報処理装置及びその制御方法、プログラム
US7057709B2 (en) 2003-12-04 2006-06-06 International Business Machines Corporation Printing a mask with maximum possible process window through adjustment of the source distribution
WO2005053925A1 (ja) 2003-12-04 2005-06-16 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. 基板加工方法、基板加工装置および基板搬送方法、基板搬送機構
JP2005179154A (ja) 2003-12-22 2005-07-07 Shibuya Kogyo Co Ltd 脆性材料の割断方法およびその装置
US7633033B2 (en) 2004-01-09 2009-12-15 General Lasertronics Corporation Color sensing for laser decoating
US20080099444A1 (en) 2004-01-16 2008-05-01 Hiroaki Misawa Micro-Fabrication Method
US8270077B2 (en) 2004-01-16 2012-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Polarization-modulating optical element
US20070019179A1 (en) 2004-01-16 2007-01-25 Damian Fiolka Polarization-modulating optical element
ATE539383T1 (de) 2004-01-16 2012-01-15 Zeiss Carl Smt Gmbh Projektionssystem mit einem polarisationsmodulierenden optischen element mit variabler dicke
JP4074589B2 (ja) 2004-01-22 2008-04-09 Tdk株式会社 レーザ加工装置及びレーザ加工方法
TWI395068B (zh) 2004-01-27 2013-05-01 尼康股份有限公司 光學系統、曝光裝置以及曝光方法
JP2005219960A (ja) 2004-02-05 2005-08-18 Nishiyama Stainless Chem Kk ガラスの切断分離方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、フラットパネルディスプレイ
KR100813350B1 (ko) 2004-03-05 2008-03-12 올림푸스 가부시키가이샤 레이저 가공 장치
JP5074658B2 (ja) 2004-03-15 2012-11-14 キヤノン株式会社 最適化方法、最適化装置、及びプログラム
JP2005271563A (ja) * 2004-03-26 2005-10-06 Daitron Technology Co Ltd 硬脆材料板体の分割加工方法及び装置
JP4418282B2 (ja) * 2004-03-31 2010-02-17 株式会社レーザーシステム レーザ加工方法
US7486705B2 (en) * 2004-03-31 2009-02-03 Imra America, Inc. Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback
US20050231651A1 (en) 2004-04-14 2005-10-20 Myers Timothy F Scanning display system
US7187833B2 (en) 2004-04-29 2007-03-06 Corning Incorporated Low attenuation large effective area optical fiber
KR100626554B1 (ko) 2004-05-11 2006-09-21 주식회사 탑 엔지니어링 비금속재 절단장치 및 비금속재 절단시의 절단깊이 제어방법
US7123348B2 (en) 2004-06-08 2006-10-17 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and method utilizing dose control
GB0412974D0 (en) 2004-06-10 2004-07-14 Syngenta Participations Ag Method of applying active ingredients
JP4890746B2 (ja) * 2004-06-14 2012-03-07 株式会社ディスコ ウエーハの加工方法
US7804043B2 (en) 2004-06-15 2010-09-28 Laserfacturing Inc. Method and apparatus for dicing of thin and ultra thin semiconductor wafer using ultrafast pulse laser
DE102005030543A1 (de) 2004-07-08 2006-02-02 Carl Zeiss Smt Ag Polarisatoreinrichtung zur Erzeugung einer definierten Ortsverteilung von Polarisationszuständen
US7283209B2 (en) 2004-07-09 2007-10-16 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for microlithography
US7231786B2 (en) 2004-07-29 2007-06-19 Corning Incorporated Process and device for manufacturing glass sheet
US7259354B2 (en) 2004-08-04 2007-08-21 Electro Scientific Industries, Inc. Methods for processing holes by moving precisely timed laser pulses in circular and spiral trajectories
US7136227B2 (en) 2004-08-06 2006-11-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Fresnel zone plate based on elastic materials
EP1796147A4 (en) 2004-09-22 2008-12-17 Nikon Corp LIGHTING DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND MICROPOWER ELEMENT MANUFACTURING METHOD
JP3887394B2 (ja) 2004-10-08 2007-02-28 芝浦メカトロニクス株式会社 脆性材料の割断加工システム及びその方法
EP1806202B1 (en) 2004-10-25 2011-08-17 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Method and device for forming crack
JP4692717B2 (ja) 2004-11-02 2011-06-01 澁谷工業株式会社 脆性材料の割断装置
JP4222296B2 (ja) 2004-11-22 2009-02-12 住友電気工業株式会社 レーザ加工方法とレーザ加工装置
JP4564343B2 (ja) 2004-11-24 2010-10-20 大日本印刷株式会社 導電材充填スルーホール基板の製造方法
JP2006150385A (ja) 2004-11-26 2006-06-15 Canon Inc レーザ割断方法
US7201965B2 (en) 2004-12-13 2007-04-10 Corning Incorporated Glass laminate substrate having enhanced impact and static loading resistance
KR101096733B1 (ko) 2004-12-27 2011-12-21 엘지디스플레이 주식회사 기판의 절단장치 및 이를 이용한 기판의 절단방법
JP5037138B2 (ja) 2005-01-05 2012-09-26 Thk株式会社 ワークのブレイク方法及び装置、スクライブ及びブレイク方法、並びにブレイク機能付きスクライブ装置
US7542013B2 (en) 2005-01-31 2009-06-02 Asml Holding N.V. System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode
JPWO2006082738A1 (ja) 2005-02-03 2008-06-26 株式会社ニコン オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP2006248885A (ja) 2005-02-08 2006-09-21 Takeji Arai 超短パルスレーザによる石英の切断方法
DE102005013783B4 (de) 2005-03-22 2007-08-16 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Verfahren zum Trennen von spröden Materialien mittels Laser mit unsymmetrischer Strahlungsdichteverteilung
US20070228616A1 (en) 2005-05-11 2007-10-04 Kyu-Yong Bang Device and method for cutting nonmetalic substrate
US20060261118A1 (en) 2005-05-17 2006-11-23 Cox Judy K Method and apparatus for separating a pane of brittle material from a moving ribbon of the material
JP4173151B2 (ja) 2005-05-23 2008-10-29 株式会社椿本チエイン コンベヤチェーン
US7402773B2 (en) * 2005-05-24 2008-07-22 Disco Corporation Laser beam processing machine
DE102005042072A1 (de) 2005-06-01 2006-12-14 Forschungsverbund Berlin E.V. Verfahren zur Erzeugung von vertikalen elektrischen Kontaktverbindungen in Halbleiterwafern
WO2006129473A1 (ja) 2005-06-01 2006-12-07 Phoeton Corp. レーザー加工装置及びレーザー加工方法
EP1894063A1 (en) 2005-06-21 2008-03-05 Carl Zeiss SMT AG A double-facetted illumination system with attenuator elements on the pupil facet mirror
JP4841873B2 (ja) 2005-06-23 2011-12-21 大日本スクリーン製造株式会社 熱処理用サセプタおよび熱処理装置
US7566914B2 (en) 2005-07-07 2009-07-28 Intersil Americas Inc. Devices with adjustable dual-polarity trigger- and holding-voltage/current for high level of electrostatic discharge protection in sub-micron mixed signal CMOS/BiCMOS integrated circuits
JP4490883B2 (ja) 2005-07-19 2010-06-30 株式会社レーザーシステム レーザ加工装置およびレーザ加工方法
US7934172B2 (en) 2005-08-08 2011-04-26 Micronic Laser Systems Ab SLM lithography: printing to below K1=.30 without previous OPC processing
DE102005039833A1 (de) 2005-08-22 2007-03-01 Rowiak Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Materialtrennung mit Laserpulsen
KR20070023958A (ko) 2005-08-25 2007-03-02 삼성전자주식회사 액정 표시 장치용 기판 절단 시스템 및 상기 시스템을이용한 액정 표시 장치용 기판 절단 방법
US7244906B2 (en) 2005-08-30 2007-07-17 Electro Scientific Industries, Inc. Energy monitoring or control of individual vias formed during laser micromachining
DE102006042280A1 (de) 2005-09-08 2007-06-06 IMRA America, Inc., Ann Arbor Bearbeitung von transparentem Material mit einem Ultrakurzpuls-Laser
US9138913B2 (en) 2005-09-08 2015-09-22 Imra America, Inc. Transparent material processing with an ultrashort pulse laser
WO2007032501A1 (ja) 2005-09-12 2007-03-22 Nippon Sheet Glass Company, Limited 中間膜分離液及び中間膜分離方法
US20070068648A1 (en) * 2005-09-28 2007-03-29 Honeywell International, Inc. Method for repairing die cast dies
KR100792593B1 (ko) * 2005-10-12 2008-01-09 한국정보통신대학교 산학협력단 극초단 펄스 레이저를 이용한 단일 펄스 패턴 형성방법 및시스템
US20070111119A1 (en) * 2005-11-15 2007-05-17 Honeywell International, Inc. Method for repairing gas turbine engine compressor components
JP2007142001A (ja) 2005-11-16 2007-06-07 Denso Corp レーザ加工装置およびレーザ加工方法
KR100858983B1 (ko) 2005-11-16 2008-09-17 가부시키가이샤 덴소 반도체 장치 및 반도체 기판 다이싱 방법
US20070111480A1 (en) 2005-11-16 2007-05-17 Denso Corporation Wafer product and processing method therefor
JP4816390B2 (ja) * 2005-11-16 2011-11-16 株式会社デンソー 半導体チップの製造方法および半導体チップ
US7838331B2 (en) 2005-11-16 2010-11-23 Denso Corporation Method for dicing semiconductor substrate
US7977601B2 (en) 2005-11-28 2011-07-12 Electro Scientific Industries, Inc. X and Y orthogonal cut direction processing with set beam separation using 45 degree beam split orientation apparatus and method
CN101331592B (zh) 2005-12-16 2010-06-16 株式会社半导体能源研究所 激光照射设备、激光照射方法和半导体装置的制造方法
GB0600022D0 (en) 2006-01-03 2006-02-08 Pilkington Plc Glazings
JP4483793B2 (ja) 2006-01-27 2010-06-16 セイコーエプソン株式会社 微細構造体の製造方法及び製造装置
US7418181B2 (en) 2006-02-13 2008-08-26 Adc Telecommunications, Inc. Fiber optic splitter module
KR100985428B1 (ko) 2006-02-15 2010-10-05 아사히 가라스 가부시키가이샤 유리 기판의 모따기 방법 및 장치
US7535634B1 (en) 2006-02-16 2009-05-19 The United States Of America As Represented By The National Aeronautics And Space Administration Optical device, system, and method of generating high angular momentum beams
JP4672689B2 (ja) 2006-02-22 2011-04-20 日本板硝子株式会社 レーザを用いたガラスの加工方法および加工装置
US20090013724A1 (en) 2006-02-22 2009-01-15 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass Processing Method Using Laser and Processing Device
WO2007096460A2 (en) 2006-02-23 2007-08-30 Picodeon Ltd Oy Surface treatment technique and surface treatment apparatus associated with ablation technology
DE102006012034A1 (de) 2006-03-14 2007-09-20 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System, insbesondere in einer Beleuchtungseinrichtung einer Projektionsbelichtungsanlage
JP2007253203A (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Sumitomo Electric Ind Ltd レーザ加工用光学装置
US20090050661A1 (en) 2006-03-24 2009-02-26 Youn-Ho Na Glass Cutting Apparatus With Bending Member and Method Using Thereof
JPWO2007119740A1 (ja) 2006-04-13 2009-08-27 東レエンジニアリング株式会社 スクライブ方法、スクライブ装置、及びこの方法または装置を用いて割断した割断基板
US7794904B2 (en) 2006-04-24 2010-09-14 Stc.Unm Method and apparatus for producing interferometric lithography patterns with circular symmetry
US20070298529A1 (en) 2006-05-31 2007-12-27 Toyoda Gosei, Co., Ltd. Semiconductor light-emitting device and method for separating semiconductor light-emitting devices
GB2439962B (en) 2006-06-14 2008-09-24 Exitech Ltd Process and apparatus for laser scribing
US7897487B2 (en) 2006-07-03 2011-03-01 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and chip
JP2008018547A (ja) 2006-07-11 2008-01-31 Seiko Epson Corp 基体の製造方法、tft基板の製造方法、多層構造基板の製造方法、表示装置の製造方法
DE102006035555A1 (de) 2006-07-27 2008-01-31 Eliog-Kelvitherm Industrieofenbau Gmbh Anordnung und Verfahren zur Verformung von Glasscheiben
FR2904437B1 (fr) 2006-07-28 2008-10-24 Saint Gobain Dispositif actif a proprietes energetiques/optiques variables
JP2008037943A (ja) 2006-08-03 2008-02-21 Nitto Denko Corp 衝撃吸収粘着剤シートおよびその製造方法
US8168514B2 (en) 2006-08-24 2012-05-01 Corning Incorporated Laser separation of thin laminated glass substrates for flexible display applications
US8035803B2 (en) 2006-09-06 2011-10-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Subsystem of an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
US8188404B2 (en) 2006-09-19 2012-05-29 Hamamatsu Photonics K.K. Laser processing method and laser processing apparatus
US7867907B2 (en) 2006-10-17 2011-01-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device
DE102006051105B3 (de) * 2006-10-25 2008-06-12 Lpkf Laser & Electronics Ag Vorrichtung zur Bearbeitung eines Werkstücks mittels Laserstrahlung
GB0622232D0 (en) 2006-11-08 2006-12-20 Rumsby Philip T Method and apparatus for laser beam alignment for solar panel scribing
GB0623511D0 (en) 2006-11-24 2007-01-03 Council Cent Lab Res Councils Raman detection of container contents
JP2008132616A (ja) 2006-11-27 2008-06-12 Shibuya Kogyo Co Ltd 脆性材料の割断方法とその装置
US8041127B2 (en) 2006-11-30 2011-10-18 Intuit Inc. Method and system for obscuring and securing financial data in an online banking application
EP2105239B1 (en) 2006-11-30 2016-01-13 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Light condensing optical system, laser processing method and apparatus, and method of manufacturing fragile material
US20080158529A1 (en) 2006-12-28 2008-07-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
AT504726A1 (de) 2007-01-05 2008-07-15 Lisec Maschb Gmbh Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines trennspalts in einer glasscheibe
US8952832B2 (en) 2008-01-18 2015-02-10 Invensense, Inc. Interfacing application programs and motion sensors of a device
JP2008168327A (ja) 2007-01-15 2008-07-24 Shinko Seisakusho:Kk レーザ切断装置
WO2008095695A2 (de) 2007-02-06 2008-08-14 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren und vorrichtung zur überwachung von mehrfachspiegelanordnungen in einem beleuchtungssystem einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
US20100029460A1 (en) 2007-02-22 2010-02-04 Nippon Sheet Glass Company, Limited Glass for anodic bonding
EP2130234B1 (en) 2007-02-27 2014-10-29 Carl Zeiss Laser Optics GmbH Continuous coating installation and method for producing crystalline thin films
TWI486320B (zh) 2007-03-02 2015-06-01 Nippon Electric Glass Co 強化板玻璃及其製造方法
ITMI20070528A1 (it) 2007-03-16 2008-09-17 Piaggio & C Spa Sistema di propulsione e di trasmissione ibrida per motoveicoli
US8937706B2 (en) 2007-03-30 2015-01-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US9250536B2 (en) 2007-03-30 2016-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
WO2008119794A1 (en) 2007-04-03 2008-10-09 Carl Zeiss Smt Ag Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
JP5784273B2 (ja) 2007-04-05 2015-09-24 チャーム エンジニアリング株式会社 レーザ加工方法及び切断方法並びに多層基板を有する構造体の分割方法
FR2914751B1 (fr) 2007-04-06 2009-07-03 Draka Comteq France Fibre optique monomode
JP4863168B2 (ja) 2007-04-17 2012-01-25 日本電気硝子株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
EP1983154B1 (en) 2007-04-17 2013-12-25 Services Pétroliers Schlumberger In-situ correction of triaxial accelerometer and magnetometer measurements made in a well
DE102007018674A1 (de) 2007-04-18 2008-10-23 Lzh Laserzentrum Hannover E.V. Verfahren zum Bilden von Durchgangslöchern in Bauteilen aus Glas
JP2008288577A (ja) 2007-04-18 2008-11-27 Fujikura Ltd 基板の処理方法、貫通配線基板及びその製造方法、並びに電子部品
WO2008136918A2 (en) 2007-05-07 2008-11-13 Corning Incorporated Large effective area fiber
US8236116B2 (en) 2007-06-06 2012-08-07 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et Al Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Method of making coated glass article, and intermediate product used in same
US8374472B2 (en) 2007-06-15 2013-02-12 Ofs Fitel, Llc Bend insensitivity in single mode optical fibers
US8076605B2 (en) 2007-06-25 2011-12-13 Electro Scientific Industries, Inc. Systems and methods for adapting parameters to increase throughput during laser-based wafer processing
DE112008001873A5 (de) 2007-07-21 2010-06-10 Du, Keming, Dr. Optische Anordnung zur Erzeugung von Multistrahlen
US8169587B2 (en) 2007-08-16 2012-05-01 Apple Inc. Methods and systems for strengthening LCD modules
JP2009056482A (ja) 2007-08-31 2009-03-19 Seiko Epson Corp 基板分割方法、及び表示装置の製造方法
JP5113462B2 (ja) 2007-09-12 2013-01-09 三星ダイヤモンド工業株式会社 脆性材料基板の面取り方法
US20100276505A1 (en) 2007-09-26 2010-11-04 Roger Earl Smith Drilling in stretched substrates
JP2009084089A (ja) 2007-09-28 2009-04-23 Omron Laserfront Inc ガラス切断装置及び方法
DE102008041593A1 (de) 2007-10-09 2009-04-16 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
CN101610870B (zh) 2007-10-16 2013-09-11 三星钻石工业股份有限公司 脆性材料基板的u形槽加工方法以及使用该方法的去除加工方法、打孔加工方法和倒角方法
JP5326259B2 (ja) 2007-11-08 2013-10-30 株式会社ニコン 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
DE102007055567A1 (de) 2007-11-20 2009-05-28 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System
KR100949152B1 (ko) 2007-11-23 2010-03-25 삼성코닝정밀유리 주식회사 유리 기판 레이저 절단 장치
JP4710897B2 (ja) 2007-11-28 2011-06-29 セイコーエプソン株式会社 接合体の剥離方法
KR20090057161A (ko) 2007-12-01 2009-06-04 주식회사 이엔팩 초발수성 좌변기 시트
JP2009142886A (ja) 2007-12-18 2009-07-02 Agt:Kk レーザー穴開け加工方法
CN101462822B (zh) 2007-12-21 2012-08-29 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 具有通孔的脆性非金属工件及其加工方法
US8358868B2 (en) 2007-12-25 2013-01-22 Nec Corporation Image processing apparatus, image processing method, image extending apparatus, image compressing apparatus, image transmitting system, and storage medium
US7842583B2 (en) 2007-12-27 2010-11-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor substrate and method for manufacturing semiconductor device
US20090183764A1 (en) 2008-01-18 2009-07-23 Tenksolar, Inc Detachable Louver System
JP5098665B2 (ja) * 2008-01-23 2012-12-12 株式会社東京精密 レーザー加工装置およびレーザー加工方法
JP2009178725A (ja) 2008-01-29 2009-08-13 Sunx Ltd レーザ加工装置及びレーザ加工方法
KR101303542B1 (ko) 2008-02-11 2013-09-03 엘지디스플레이 주식회사 평판표시패널 절단장치
GB0802944D0 (en) 2008-02-19 2008-03-26 Rumsby Philip T Apparatus for laser processing the opposite sides of thin panels
CN102105256B (zh) 2008-02-20 2014-12-31 激光线圈技术有限公司 用于高速切削的渐进激光切料装置
US20100319898A1 (en) 2008-03-13 2010-12-23 Underwood Patrick K Thermal interconnect and integrated interface systems, methods of production and uses thereof
CN105583526B (zh) 2008-03-21 2018-08-17 Imra美国公司 基于激光的材料加工方法和系统
JP5333816B2 (ja) 2008-03-26 2013-11-06 旭硝子株式会社 ガラス板の切線加工装置及び切線加工方法
US8237080B2 (en) 2008-03-27 2012-08-07 Electro Scientific Industries, Inc Method and apparatus for laser drilling holes with Gaussian pulses
JP5345334B2 (ja) 2008-04-08 2013-11-20 株式会社レミ 脆性材料の熱応力割断方法
JP5274085B2 (ja) 2008-04-09 2013-08-28 株式会社アルバック レーザー加工装置、レーザービームのピッチ可変方法、及びレーザー加工方法
US8358888B2 (en) 2008-04-10 2013-01-22 Ofs Fitel, Llc Systems and techniques for generating Bessel beams
JP2009255114A (ja) 2008-04-15 2009-11-05 Linkstar Japan Co Ltd 脆性材料基板の加工装置および切断方法
US8035901B2 (en) 2008-04-30 2011-10-11 Corning Incorporated Laser scoring with curved trajectory
JP5539625B2 (ja) 2008-05-08 2014-07-02 ミヤチテクノス株式会社 レーザ加工方法
PL2119512T3 (pl) 2008-05-14 2018-02-28 Gerresheimer Glas Gmbh Sposób i urządzenie do usuwania cząstek zanieczyszczeń z pojemników w automatycznym systemie wytwarzania
US8061128B2 (en) 2008-05-15 2011-11-22 Ford Global Technologies, Llc Diesel particulate filter overstress mitigation
US8053704B2 (en) 2008-05-27 2011-11-08 Corning Incorporated Scoring of non-flat materials
GB2460648A (en) 2008-06-03 2009-12-09 M Solv Ltd Method and apparatus for laser focal spot size control
JP2009297734A (ja) 2008-06-11 2009-12-24 Nitto Denko Corp レーザー加工用粘着シート及びレーザー加工方法
US8514476B2 (en) 2008-06-25 2013-08-20 View, Inc. Multi-pane dynamic window and method for making same
US7810355B2 (en) 2008-06-30 2010-10-12 Apple Inc. Full perimeter chemical strengthening of substrates
US8268913B2 (en) 2008-06-30 2012-09-18 Fina Technology, Inc. Polymeric blends and methods of using same
US9195144B2 (en) 2008-07-11 2015-11-24 Asml Netherlands B.V. Spectral purity filter, radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
JP2010017990A (ja) 2008-07-14 2010-01-28 Seiko Epson Corp 基板分割方法
US7773848B2 (en) 2008-07-30 2010-08-10 Corning Incorporated Low bend loss single mode optical fiber
KR101499651B1 (ko) 2008-08-01 2015-03-06 주식회사 무한 박막 트랜지스터 어레이 기판의 제조방법 및 제조장치
TWI484563B (zh) 2008-08-01 2015-05-11 Moohan Co Ltd 薄膜電晶體之製造方法與設備
JP5071868B2 (ja) 2008-08-11 2012-11-14 オムロン株式会社 レーザ加工方法、レーザ加工装置、光学素子の製造方法、および光学素子
TW201009525A (en) 2008-08-18 2010-03-01 Ind Tech Res Inst Laser marking method and laser marking system
JP5155774B2 (ja) 2008-08-21 2013-03-06 株式会社ノリタケカンパニーリミテド プラトー面加工用レジノイド超砥粒砥石ホイール
JP2010075991A (ja) 2008-09-29 2010-04-08 Fujifilm Corp レーザ加工装置
JP5435267B2 (ja) 2008-10-01 2014-03-05 日本電気硝子株式会社 ガラスロール、ガラスロールの製造装置、及びガラスロールの製造方法
US8123515B2 (en) 2008-10-02 2012-02-28 Robert Frank Schleelein System and method for producing composite materials with variable shapes
US7869210B2 (en) 2008-10-08 2011-01-11 Dell Products L.P. Temperature control for an information handling system rack
JP5297139B2 (ja) 2008-10-09 2013-09-25 新光電気工業株式会社 配線基板及びその製造方法
US8895892B2 (en) 2008-10-23 2014-11-25 Corning Incorporated Non-contact glass shearing device and method for scribing or cutting a moving glass sheet
US8092739B2 (en) 2008-11-25 2012-01-10 Wisconsin Alumni Research Foundation Retro-percussive technique for creating nanoscale holes
US8131494B2 (en) 2008-12-04 2012-03-06 Baker Hughes Incorporated Rotatable orientation independent gravity sensor and methods for correcting systematic errors
JP2010134328A (ja) 2008-12-08 2010-06-17 Disco Abrasive Syst Ltd 偏光素子およびレーザーユニット
WO2010065989A1 (en) 2008-12-08 2010-06-17 University Of South Australia Formation of nanoporous materials
US9346130B2 (en) 2008-12-17 2016-05-24 Electro Scientific Industries, Inc. Method for laser processing glass with a chamfered edge
KR20110099039A (ko) 2008-12-17 2011-09-05 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 가요성 기재 상의 도전성 나노구조체의 제조
EP2202545A1 (en) 2008-12-23 2010-06-30 Karlsruher Institut für Technologie Beam transformation module with an axicon in a double-pass mode
KR101020621B1 (ko) 2009-01-15 2011-03-09 연세대학교 산학협력단 광섬유를 이용하는 광소자 제조 방법, 광섬유를 이용하는 광소자 및 이를 이용한 광 트위저
JPWO2010087483A1 (ja) 2009-02-02 2012-08-02 旭硝子株式会社 半導体デバイス部材用ガラス基板および半導体デバイス部材用ガラス基板の製造方法
CN102307699B (zh) * 2009-02-09 2015-07-15 浜松光子学株式会社 加工对象物的切断方法
US8341976B2 (en) 2009-02-19 2013-01-01 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
US8347651B2 (en) 2009-02-19 2013-01-08 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
US8327666B2 (en) 2009-02-19 2012-12-11 Corning Incorporated Method of separating strengthened glass
US8245540B2 (en) 2009-02-24 2012-08-21 Corning Incorporated Method for scoring a sheet of brittle material
EP2402984B1 (en) 2009-02-25 2018-01-10 Nichia Corporation Method of manufacturing a semiconductor element, and corresponding semicondutor element
US8218929B2 (en) 2009-02-26 2012-07-10 Corning Incorporated Large effective area low attenuation optical fiber
CN201357287Y (zh) 2009-03-06 2009-12-09 苏州德龙激光有限公司 新型皮秒激光加工装置
CN101502914A (zh) 2009-03-06 2009-08-12 苏州德龙激光有限公司 用于喷油嘴微孔加工的皮秒激光加工装置
JP5300544B2 (ja) 2009-03-17 2013-09-25 株式会社ディスコ 光学系及びレーザ加工装置
KR101041140B1 (ko) 2009-03-25 2011-06-13 삼성모바일디스플레이주식회사 기판 절단 방법
US20100252959A1 (en) 2009-03-27 2010-10-07 Electro Scientific Industries, Inc. Method for improved brittle materials processing
US9723723B2 (en) 2009-03-31 2017-08-01 View, Inc. Temperable electrochromic devices
CN102378664B (zh) 2009-04-07 2015-07-01 通快公司 具有利用射束的切割头和联接到移动切割头的移动单元的抽吸管的切割机
KR200448519Y1 (ko) 2009-04-28 2010-04-21 남동진 돌출형 ⅰc 패키지용 방열판
US20100279067A1 (en) 2009-04-30 2010-11-04 Robert Sabia Glass sheet having enhanced edge strength
JP5514302B2 (ja) 2009-05-06 2014-06-04 コーニング インコーポレイテッド ガラス基板用の担体
ATE551304T1 (de) 2009-05-13 2012-04-15 Corning Inc Verfahren und anlagen zum formen von endlosen glasscheiben
US8539795B2 (en) 2009-05-13 2013-09-24 Corning Incorporated Methods for cutting a fragile material
US8132427B2 (en) 2009-05-15 2012-03-13 Corning Incorporated Preventing gas from occupying a spray nozzle used in a process of scoring a hot glass sheet
JP5340806B2 (ja) * 2009-05-21 2013-11-13 株式会社ディスコ 半導体ウエーハのレーザ加工方法
US8269138B2 (en) 2009-05-21 2012-09-18 Corning Incorporated Method for separating a sheet of brittle material
DE102009023602B4 (de) 2009-06-02 2012-08-16 Grenzebach Maschinenbau Gmbh Vorrichtung zum industriellen Herstellen elastisch verformbarer großflächiger Glasplatten in hoher Stückzahl
US8194170B2 (en) 2009-06-02 2012-06-05 Algonquin College Axicon lens array
US9701581B2 (en) * 2009-06-04 2017-07-11 Corelase Oy Method and apparatus for processing substrates using a laser
US20100332087A1 (en) 2009-06-24 2010-12-30 Mark Robert Claffee Remote Vehicle Controller
TWI395630B (zh) 2009-06-30 2013-05-11 Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd 使用雷射光之玻璃基板加工裝置
JP5416492B2 (ja) 2009-06-30 2014-02-12 三星ダイヤモンド工業株式会社 レーザ光によるガラス基板加工装置
US8592716B2 (en) 2009-07-22 2013-11-26 Corning Incorporated Methods and apparatus for initiating scoring
CN101637849B (zh) 2009-08-07 2011-12-07 苏州德龙激光有限公司 皮秒激光加工设备的高精度z轴载物平台
CN201471092U (zh) 2009-08-07 2010-05-19 苏州德龙激光有限公司 皮秒激光加工设备的高精度z轴载物平台
JP5500914B2 (ja) 2009-08-27 2014-05-21 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザ照射装置
WO2011025908A1 (en) 2009-08-28 2011-03-03 Corning Incorporated Methods for laser cutting articles from chemically strengthened glass substrates
US8932510B2 (en) 2009-08-28 2015-01-13 Corning Incorporated Methods for laser cutting glass substrates
KR101094284B1 (ko) * 2009-09-02 2011-12-19 삼성모바일디스플레이주식회사 기판 절단 장치 및 이를 이용한 기판 절단 방법
KR20120098623A (ko) 2009-09-24 2012-09-05 이에스아이-파이로포토닉스 레이저스, 인코포레이티드 바람직한 펄스 형태를 갖는 레이저 펄스의 버스트를 사용하여 박막 물질에 라인을 스크라이빙하는 방법 및 장치
JP2011079690A (ja) 2009-10-06 2011-04-21 Leo:Kk 回折格子を用いた厚板ガラスのレーザ熱応力割断
US20110088324A1 (en) 2009-10-20 2011-04-21 Wessel Robert B Apparatus and method for solar heat gain reduction in a window assembly
US20110094267A1 (en) 2009-10-28 2011-04-28 Kenneth William Aniolek Methods of producing glass sheets
TWI472494B (zh) 2009-11-03 2015-02-11 Corning Inc 對以非固定速度移動的玻璃帶進行雷射刻痕
US8623496B2 (en) 2009-11-06 2014-01-07 Wisconsin Alumni Research Foundation Laser drilling technique for creating nanoscale holes
NL2005331A (en) 2009-11-18 2011-05-19 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method.
US8338745B2 (en) 2009-12-07 2012-12-25 Panasonic Corporation Apparatus and methods for drilling holes with no taper or reverse taper
US20120234807A1 (en) 2009-12-07 2012-09-20 J.P. Sercel Associates Inc. Laser scribing with extended depth affectation into a workplace
EP2336823A1 (de) 2009-12-18 2011-06-22 Boegli-Gravures S.A. Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Masken für eine Laseranlage zur Erzeugung von Mikrostrukturen.
JP5775530B2 (ja) 2009-12-23 2015-09-09 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 照明システム、リソグラフィ方法、コンピュータプログラム、デバイス製造方法、およびリソグラフィ装置
US9042422B2 (en) 2009-12-30 2015-05-26 National University Corporation Chiba University Tunable external resonator laser
WO2011082065A2 (en) 2009-12-30 2011-07-07 Gsi Group Corporation Link processing with high speed beam deflection
JP5405324B2 (ja) 2010-01-04 2014-02-05 富士フイルム株式会社 撮像レンズおよび撮像装置
JP5461205B2 (ja) 2010-01-19 2014-04-02 日立造船株式会社 レーザ加工方法とその装置
TWI438162B (zh) 2010-01-27 2014-05-21 Wintek Corp 強化玻璃切割方法及強化玻璃切割預置結構
US9234760B2 (en) 2010-01-29 2016-01-12 Blackberry Limited Portable mobile transceiver for GPS navigation and vehicle data input for dead reckoning mode
ITMO20100020A1 (it) 2010-02-02 2011-08-03 Keraglass Engineering S R L Dispositivo per la pulizia di rulli.
WO2011106325A1 (en) 2010-02-25 2011-09-01 The United States Of America, As Represented By The Secretary, Department Of Health And Human Services Azicon beam polarization devices
US8743165B2 (en) 2010-03-05 2014-06-03 Micronic Laser Systems Ab Methods and device for laser processing
JP5249979B2 (ja) * 2010-03-18 2013-07-31 三星ダイヤモンド工業株式会社 脆性材料基板の加工方法およびこれに用いるレーザ加工装置
EP2550128B8 (de) 2010-03-24 2018-05-23 LIMO GmbH Vorrichtung zur beaufschlagung mit laserstrahlung
US20110238308A1 (en) 2010-03-26 2011-09-29 Isaac Thomas Miller Pedal navigation using leo signals and body-mounted sensors
US8654538B2 (en) 2010-03-30 2014-02-18 Ibiden Co., Ltd. Wiring board and method for manufacturing the same
KR20130059337A (ko) 2010-03-30 2013-06-05 아이엠알에이 아메리카, 인코포레이티드. 레이저 기반 재료 가공 장치 및 방법들
US8951889B2 (en) 2010-04-16 2015-02-10 Qmc Co., Ltd. Laser processing method and laser processing apparatus
JP2013144613A (ja) 2010-04-20 2013-07-25 Asahi Glass Co Ltd 半導体デバイス貫通電極形成用のガラス基板の製造方法
JPWO2011132600A1 (ja) 2010-04-20 2013-07-18 旭硝子株式会社 半導体デバイス貫通電極用のガラス基板
WO2011132929A2 (ko) 2010-04-21 2011-10-27 주식회사 엘지화학 유리시트 커팅 장치
DE202010006047U1 (de) 2010-04-22 2010-07-22 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Strahlformungseinheit zur Fokussierung eines Laserstrahls
KR100984727B1 (ko) 2010-04-30 2010-10-01 유병소 대상물 가공 방법 및 대상물 가공 장치
US8245539B2 (en) 2010-05-13 2012-08-21 Corning Incorporated Methods of producing glass sheets
EP2573137B1 (en) 2010-05-19 2023-08-30 Mitsubishi Chemical Corporation Sheet for cards and card
JP5488907B2 (ja) 2010-05-20 2014-05-14 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルムの回収装置及び回収方法
CA2800150C (en) 2010-05-21 2018-09-04 Novartis Ag Influenza virus reassortment method
GB2481190B (en) 2010-06-04 2015-01-14 Plastic Logic Ltd Laser ablation
KR101634422B1 (ko) 2010-06-29 2016-06-28 코닝 인코포레이티드 오버플로 하향인발 융합 공정을 사용해 공동인발하여 만들어진 다층 유리 시트
DE102010025966B4 (de) 2010-07-02 2012-03-08 Schott Ag Interposer und Verfahren zum Herstellen von Löchern in einem Interposer
DE102010025967B4 (de) 2010-07-02 2015-12-10 Schott Ag Verfahren zur Erzeugung einer Vielzahl von Löchern, Vorrichtung hierzu und Glas-Interposer
DE102010025965A1 (de) 2010-07-02 2012-01-05 Schott Ag Verfahren zur spannungsarmen Herstellung von gelochten Werkstücken
DE202010013161U1 (de) 2010-07-08 2011-03-31 Oerlikon Solar Ag, Trübbach Laserbearbeitung mit mehreren Strahlen und dafür geeigneter Laseroptikkopf
JP6121901B2 (ja) * 2010-07-12 2017-04-26 ロフィン−シナー テクノロジーズ インコーポレーテッド レーザーフィラメント形成による材料加工方法
CN103003054B (zh) 2010-07-12 2014-11-19 旭硝子株式会社 压印模具用含TiO2石英玻璃基材及其制造方法
FR2962818B1 (fr) 2010-07-13 2013-03-08 Saint Gobain Dispositif electrochimique a proprietes de transmission optique et/ou energetique electrocommandables.
KR20120015366A (ko) 2010-07-19 2012-02-21 엘지디스플레이 주식회사 강화유리 절단방법 및 절단장치
JP5580129B2 (ja) 2010-07-20 2014-08-27 株式会社アマダ 固体レーザ加工装置
JP2012024983A (ja) 2010-07-21 2012-02-09 Shibuya Kogyo Co Ltd 脆性材料の面取り方法とその装置
JP5669001B2 (ja) 2010-07-22 2015-02-12 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルムの割断方法、ガラスロールの製造方法、及びガラスフィルムの割断装置
WO2012014724A1 (ja) 2010-07-26 2012-02-02 浜松ホトニクス株式会社 基板加工方法
US8828260B2 (en) 2010-07-26 2014-09-09 Hamamatsu Photonics K.K. Substrate processing method
JP2012031018A (ja) 2010-07-30 2012-02-16 Asahi Glass Co Ltd 強化ガラス基板及び強化ガラス基板の溝加工方法と強化ガラス基板の切断方法
US8604380B2 (en) 2010-08-19 2013-12-10 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for optimally laser marking articles
US8584354B2 (en) 2010-08-26 2013-11-19 Corning Incorporated Method for making glass interposer panels
US8720228B2 (en) 2010-08-31 2014-05-13 Corning Incorporated Methods of separating strengthened glass substrates
TWI402228B (zh) 2010-09-15 2013-07-21 Wintek Corp 強化玻璃切割方法、強化玻璃薄膜製程、強化玻璃切割預置結構及強化玻璃切割件
US8887529B2 (en) 2010-10-29 2014-11-18 Corning Incorporated Method and apparatus for cutting glass ribbon
WO2012061304A1 (en) 2010-11-02 2012-05-10 Georgia Tech Research Corporation Ultra-thin interposer assemblies with through vias
US9958750B2 (en) 2010-11-08 2018-05-01 View, Inc. Electrochromic window fabrication methods
US8164818B2 (en) 2010-11-08 2012-04-24 Soladigm, Inc. Electrochromic window fabrication methods
JP5617556B2 (ja) 2010-11-22 2014-11-05 日本電気硝子株式会社 帯状ガラスフィルム割断装置及び帯状ガラスフィルム割断方法
JP2012119098A (ja) 2010-11-29 2012-06-21 Gigaphoton Inc 光学装置、レーザ装置および極端紫外光生成装置
US8616024B2 (en) 2010-11-30 2013-12-31 Corning Incorporated Methods for forming grooves and separating strengthened glass substrate sheets
EP2457881B1 (en) 2010-11-30 2019-05-08 Corning Incorporated Method and apparatus for bending a sheet of material into a shaped article
US9278886B2 (en) 2010-11-30 2016-03-08 Corning Incorporated Methods of forming high-density arrays of holes in glass
US8607590B2 (en) 2010-11-30 2013-12-17 Corning Incorporated Methods for separating glass articles from strengthened glass substrate sheets
EP2649490B1 (en) 2010-12-08 2018-07-11 View, Inc. Improved spacers for insulated glass units
TW201226345A (en) 2010-12-27 2012-07-01 Liefco Optical Inc Method of cutting tempered glass
KR101298019B1 (ko) 2010-12-28 2013-08-26 (주)큐엠씨 레이저 가공 장치
JP5727518B2 (ja) 2011-01-05 2015-06-03 清之 近藤 ビーム加工装置
WO2012096053A1 (ja) 2011-01-11 2012-07-19 旭硝子株式会社 強化ガラス板の切断方法
CN102248302A (zh) 2011-01-13 2011-11-23 苏州德龙激光有限公司 超短脉冲激光异形切割钢化玻璃的装置及其方法
JP2012159749A (ja) 2011-02-01 2012-08-23 Nichia Chem Ind Ltd ベッセルビーム発生装置
US8475507B2 (en) 2011-02-01 2013-07-02 Solta Medical, Inc. Handheld apparatus for use by a non-physician consumer to fractionally resurface the skin of the consumer
US8539794B2 (en) 2011-02-01 2013-09-24 Corning Incorporated Strengthened glass substrate sheets and methods for fabricating glass panels from glass substrate sheets
WO2012108316A1 (ja) * 2011-02-08 2012-08-16 株式会社フジクラ 微細孔を有する基体の製造方法、及び基体
US8933367B2 (en) 2011-02-09 2015-01-13 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Laser processing method
US20130312460A1 (en) 2011-02-10 2013-11-28 National University Corporation Saitama University Manufacturing method of single crystal substrate and manufacturing method of internal modified layer-forming single crystal member
CN103380482B (zh) * 2011-02-10 2016-05-25 信越聚合物株式会社 单结晶基板制造方法及内部改质层形成单结晶部件
DE102011000768B4 (de) 2011-02-16 2016-08-18 Ewag Ag Laserbearbeitungsverfahren und Laserbearbeitungsvorrichtung mit umschaltbarer Laseranordnung
JP5649592B2 (ja) 2011-02-17 2015-01-07 Hoya株式会社 携帯電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法、携帯電子機器用カバーガラスのガラス基板および携帯電子機器
US8584490B2 (en) 2011-02-18 2013-11-19 Corning Incorporated Laser cutting method
JP5193326B2 (ja) 2011-02-25 2013-05-08 三星ダイヤモンド工業株式会社 基板加工装置および基板加工方法
US8776547B2 (en) 2011-02-28 2014-07-15 Corning Incorporated Local strengthening of glass by ion exchange
JP2012187618A (ja) 2011-03-11 2012-10-04 V Technology Co Ltd ガラス基板のレーザ加工装置
NL2006418C2 (nl) 2011-03-18 2012-09-19 Rexnord Flattop Europe Bv Transportsysteem, alsmede gebruik van een ten opzichte van een kunststof module binnenwaarts reikende kamer in een transportsysteem.
KR101253016B1 (ko) 2011-03-31 2013-04-15 아반스트레이트 가부시키가이샤 유리판의 제조 방법
WO2012138009A1 (ko) 2011-04-07 2012-10-11 (주)네톰 무선인식 태그 및 이를 구비한 전자제품 피씨비 및 전자제품 관리 시스템
US8857215B2 (en) 2011-05-18 2014-10-14 Corning Incorporated Apparatus and method for heat treating glass sheets
US8986072B2 (en) 2011-05-26 2015-03-24 Corning Incorporated Methods of finishing an edge of a glass sheet
WO2012164649A1 (ja) 2011-05-27 2012-12-06 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
TWI547454B (zh) 2011-05-31 2016-09-01 康寧公司 於玻璃中高速製造微孔洞的方法
CN103596893A (zh) 2011-06-15 2014-02-19 旭硝子株式会社 玻璃板的切割方法
JP2013007842A (ja) 2011-06-23 2013-01-10 Toyo Seikan Kaisha Ltd 構造体形成装置、構造体形成方法及び構造体
WO2013002165A1 (ja) 2011-06-28 2013-01-03 株式会社Ihi 脆性的な部材を切断する装置、方法、および切断された脆性的な部材
TWI572480B (zh) 2011-07-25 2017-03-01 康寧公司 經層壓及離子交換之強化玻璃疊層
WO2013016823A1 (en) 2011-07-29 2013-02-07 Ats Automation Tooling Systems Inc. Systems and methods for producing silicon slim rods
JP5729873B2 (ja) 2011-08-05 2015-06-03 株式会社マキタ 集塵装置
KR101120471B1 (ko) 2011-08-05 2012-03-05 (주)지엘코어 다중 초점 방식의 펄스 레이저를 이용한 취성 재료 절단 장치
US8635887B2 (en) 2011-08-10 2014-01-28 Corning Incorporated Methods for separating glass substrate sheets by laser-formed grooves
JP2013043808A (ja) 2011-08-25 2013-03-04 Asahi Glass Co Ltd 強化ガラス板切断用保持具及び強化ガラス板の切断方法
DE112012003605T5 (de) 2011-08-29 2014-06-12 Asahi Glass Co., Ltd. Verfahren zum Schneiden einer Glasplatte mit erhöhter Festigkeit und Vorrichtung zum Schneiden einer Glasplatte mit erhöhter Festigkeit
US20130047671A1 (en) 2011-08-29 2013-02-28 Jeffrey T. Kohli Apparatus and method for forming glass sheets
WO2013031778A1 (ja) 2011-08-31 2013-03-07 旭硝子株式会社 強化ガラス板の切断方法、および強化ガラス板切断装置
PH12012000258B1 (en) 2011-09-09 2015-06-01 Hoya Corp Method of manufacturing an ion-exchanged glass article
CN105127603B (zh) 2011-09-15 2017-07-11 日本电气硝子株式会社 玻璃板的激光熔断方法
WO2013039230A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 日本電気硝子株式会社 ガラス板切断方法
JP5861864B2 (ja) 2011-09-15 2016-02-16 日本電気硝子株式会社 ガラス板切断方法およびガラス板切断装置
JP6063670B2 (ja) 2011-09-16 2017-01-18 株式会社アマダホールディングス レーザ切断加工方法及び装置
US8687932B2 (en) 2011-09-21 2014-04-01 Ofs Fitel, Llc Optimized ultra large area optical fibers
US8768129B2 (en) 2011-09-21 2014-07-01 Ofs Fitel, Llc Optimized ultra large area optical fibers
CN104025251B (zh) 2011-09-21 2018-01-09 雷蒂安斯公司 切割材料的系统和过程
US8718431B2 (en) 2011-09-21 2014-05-06 Ofs Fitel, Llc Optimized ultra large area optical fibers
US10239160B2 (en) 2011-09-21 2019-03-26 Coherent, Inc. Systems and processes that singulate materials
JP5931389B2 (ja) 2011-09-29 2016-06-08 川崎重工業株式会社 搬送システム
JP5864988B2 (ja) 2011-09-30 2016-02-17 浜松ホトニクス株式会社 強化ガラス板切断方法
FR2980859B1 (fr) 2011-09-30 2013-10-11 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif de lithographie
DE102011084128A1 (de) 2011-10-07 2013-04-11 Schott Ag Verfahren zum Schneiden eines Dünnglases mit spezieller Ausbildung der Kante
JP2013091578A (ja) 2011-10-25 2013-05-16 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd ガラス基板のスクライブ方法
KR20130049080A (ko) 2011-11-03 2013-05-13 삼성디스플레이 주식회사 회전식 박막 증착 장치 및 그것을 이용한 박막 증착 방법
KR101269474B1 (ko) 2011-11-09 2013-05-30 주식회사 모린스 강화글라스 절단 방법
US20130129947A1 (en) 2011-11-18 2013-05-23 Daniel Ralph Harvey Glass article having high damage resistance
US8677783B2 (en) 2011-11-28 2014-03-25 Corning Incorporated Method for low energy separation of a glass ribbon
US8666214B2 (en) 2011-11-30 2014-03-04 Corning Incorporated Low bend loss optical fiber
JP5963038B2 (ja) 2011-12-05 2016-08-03 株式会社リコー 穿孔装置、用紙処理装置及び画像形成装置
WO2013084879A1 (ja) 2011-12-07 2013-06-13 旭硝子株式会社 強化ガラス板の切断方法、及び強化ガラス板切断装置
WO2013084877A1 (ja) 2011-12-07 2013-06-13 旭硝子株式会社 強化ガラス板の切断方法、および強化ガラス板切断装置
KR20130065051A (ko) 2011-12-09 2013-06-19 삼성코닝정밀소재 주식회사 강화 글라스의 절단 방법 및 이를 이용한 터치스크린패널의 제조방법
KR101987039B1 (ko) 2011-12-12 2019-06-10 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 판유리의 할단 이반 방법
CN103732549A (zh) 2011-12-12 2014-04-16 日本电气硝子株式会社 平板玻璃的切割分离方法、及平板玻璃的切割分离装置
US8724937B2 (en) 2011-12-20 2014-05-13 International Business Machines Corporation Fiber to wafer interface
JP5910075B2 (ja) 2011-12-27 2016-04-27 三星ダイヤモンド工業株式会社 被加工物の加工方法
JP5887929B2 (ja) 2011-12-28 2016-03-16 三星ダイヤモンド工業株式会社 被加工物の分断方法および光学素子パターン付き基板の分断方法
CN103182894A (zh) 2011-12-29 2013-07-03 深圳富泰宏精密工业有限公司 玻璃件及其制作方法
JP2013152986A (ja) 2012-01-24 2013-08-08 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法
JP5685208B2 (ja) 2012-01-24 2015-03-18 株式会社日立製作所 薄板用熱間圧延機の制御装置および薄板用熱間圧延機の制御方法
JP5964607B2 (ja) 2012-02-14 2016-08-03 株式会社カネカ 剥離層付き支持体、基板構造、および電子デバイスの製造方法
US9895771B2 (en) 2012-02-28 2018-02-20 General Lasertronics Corporation Laser ablation for the environmentally beneficial removal of surface coatings
US9828277B2 (en) 2012-02-28 2017-11-28 Electro Scientific Industries, Inc. Methods for separation of strengthened glass
WO2013130581A1 (en) 2012-02-28 2013-09-06 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for separation of strengthened glass and articles produced thereby
US10357850B2 (en) 2012-09-24 2019-07-23 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for machining a workpiece
US20130222877A1 (en) 2012-02-28 2013-08-29 Sage Electrochromics, Inc. Multi-zone electrochromic devices
US9227868B2 (en) 2012-02-29 2016-01-05 Electro Scientific Industries, Inc. Method and apparatus for machining strengthened glass and articles produced thereby
US9082764B2 (en) 2012-03-05 2015-07-14 Corning Incorporated Three-dimensional integrated circuit which incorporates a glass interposer and method for fabricating the same
JP2013187247A (ja) 2012-03-06 2013-09-19 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> インターポーザおよびその製造方法
US9341912B2 (en) 2012-03-13 2016-05-17 View, Inc. Multi-zone EC windows
TW201343296A (zh) * 2012-03-16 2013-11-01 Ipg Microsystems Llc 使一工件中具有延伸深度虛飾之雷射切割系統及方法
JP5964626B2 (ja) 2012-03-22 2016-08-03 株式会社Screenホールディングス 熱処理装置
JP2013203631A (ja) 2012-03-29 2013-10-07 Asahi Glass Co Ltd 強化ガラス板の切断方法、及び強化ガラス板切断装置
JP2013203630A (ja) 2012-03-29 2013-10-07 Asahi Glass Co Ltd 強化ガラス板の切断方法
TW201339111A (zh) 2012-03-29 2013-10-01 Global Display Co Ltd 強化玻璃的切割方法
JP2013216513A (ja) 2012-04-05 2013-10-24 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラスフィルムの切断方法及びガラスフィルム積層体
JP6378167B2 (ja) 2012-04-05 2018-08-22 セイジ・エレクトロクロミクス,インコーポレイテッド エレクトロクロミック素子を製造するためのサーマルレーザースクライブ切断の方法及び装置、並びに対応する切断されたガラスパネル
JP2015120604A (ja) 2012-04-06 2015-07-02 旭硝子株式会社 強化ガラス板の切断方法、及び強化ガラス板切断システム
FR2989294B1 (fr) 2012-04-13 2022-10-14 Centre Nat Rech Scient Dispositif et methode de nano-usinage par laser
US20130288010A1 (en) 2012-04-27 2013-10-31 Ravindra Kumar Akarapu Strengthened glass article having shaped edge and method of making
KR20130124646A (ko) 2012-05-07 2013-11-15 주식회사 엠엠테크 강화 유리 절단 방법
US9365446B2 (en) 2012-05-14 2016-06-14 Richard Green Systems and methods for altering stress profiles of glass
CN102672355B (zh) 2012-05-18 2015-05-13 杭州士兰明芯科技有限公司 Led衬底的划片方法
DE102012010635B4 (de) 2012-05-18 2022-04-07 Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. Verfahren zur 3D-Strukturierung und Formgebung von Oberflächen aus harten, spröden und optischen Materialien
JP6009225B2 (ja) 2012-05-29 2016-10-19 浜松ホトニクス株式会社 強化ガラス板の切断方法
FR2991214B1 (fr) 2012-06-01 2014-06-13 Snecma Procede de percage d'une piece par impulsions laser
US9938180B2 (en) 2012-06-05 2018-04-10 Corning Incorporated Methods of cutting glass using a laser
JP6022223B2 (ja) 2012-06-14 2016-11-09 株式会社ディスコ レーザー加工装置
JP5991860B2 (ja) 2012-06-19 2016-09-14 三星ダイヤモンド工業株式会社 ガラス基板の加工方法
US20130344684A1 (en) 2012-06-20 2013-12-26 Stuart Bowden Methods and systems for using subsurface laser engraving (ssle) to create one or more wafers from a material
JP6065910B2 (ja) 2012-07-09 2017-01-25 旭硝子株式会社 化学強化ガラス板の切断方法
US9462632B2 (en) 2012-07-17 2016-10-04 Qualcomm Incorporated Concurrent data streaming using various parameters from the same sensor
AT13206U1 (de) 2012-07-17 2013-08-15 Lisec Maschb Gmbh Verfahren und Anordnung zum Teilen von Flachglas
TW201417928A (zh) 2012-07-30 2014-05-16 Raydiance Inc 具訂製邊形及粗糙度之脆性材料切割
WO2014022681A1 (en) 2012-08-01 2014-02-06 Gentex Corporation Assembly with laser induced channel edge and method thereof
KR101395054B1 (ko) 2012-08-08 2014-05-14 삼성코닝정밀소재 주식회사 강화유리 커팅 방법 및 강화유리 커팅용 스테이지
KR20140022980A (ko) 2012-08-14 2014-02-26 (주)하드램 강화유리 레이저 절단 장치 및 방법
KR20140022981A (ko) 2012-08-14 2014-02-26 (주)하드램 기판 에지 보호유닛을 포함한 강화유리 레이저 절단 장치 및 방법
WO2014028022A1 (en) 2012-08-16 2014-02-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Diagonal openings in photodefinable glass
US20140047957A1 (en) 2012-08-17 2014-02-20 Jih Chun Wu Robust Torque-Indicating Wrench
JP5727433B2 (ja) 2012-09-04 2015-06-03 イムラ アメリカ インコーポレイテッド 超短パルスレーザでの透明材料処理
CN102923939B (zh) 2012-09-17 2015-03-25 江西沃格光电股份有限公司 强化玻璃的切割方法
CN102898014A (zh) 2012-09-29 2013-01-30 江苏太平洋石英股份有限公司 无接触激光切割石英玻璃制品的方法及其装置
US9227886B2 (en) 2012-10-12 2016-01-05 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Polymerization process
CN102916081B (zh) 2012-10-19 2015-07-08 张立国 一种薄膜太阳能电池的清边方法
LT6046B (lt) 2012-10-22 2014-06-25 Uab "Lidaris" Justiruojamų optinių laikiklių pakeitimo įrenginys ir sistema, turinti tokių įrenginių
US20140110040A1 (en) 2012-10-23 2014-04-24 Ronald Steven Cok Imprinted micro-louver structure method
DE102012110971A1 (de) 2012-11-14 2014-05-15 Schott Ag Trennen von transparenten Werkstücken
US9991090B2 (en) 2012-11-15 2018-06-05 Fei Company Dual laser beam system used with an electron microscope and FIB
WO2014079478A1 (en) 2012-11-20 2014-05-30 Light In Light Srl High speed laser processing of transparent materials
KR20140064220A (ko) 2012-11-20 2014-05-28 에스케이씨 주식회사 보안필름의 제조방법
AU2013348226A1 (en) 2012-11-21 2015-07-09 Nexeon Energy Solutions LLC Energy-efficient film
JP2014104484A (ja) 2012-11-27 2014-06-09 Disco Abrasive Syst Ltd レーザー加工装置
CN102962583A (zh) 2012-11-28 2013-03-13 江苏大学 一种基于激光加热的塑料件微结构成形方法和装置
EP2925690B1 (en) 2012-11-29 2021-08-11 Corning Incorporated Methods of fabricating glass articles by laser damage and etching
US9758876B2 (en) 2012-11-29 2017-09-12 Corning Incorporated Sacrificial cover layers for laser drilling substrates and methods thereof
JP6054161B2 (ja) 2012-12-13 2016-12-27 株式会社ディスコ レーザ加工方法
RU2539970C2 (ru) 2012-12-17 2015-01-27 Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" Источник света с лазерной накачкой и способ генерации излучения
CN203021443U (zh) 2012-12-24 2013-06-26 深圳大宇精雕科技有限公司 玻璃板水射流切割机
CN103013374B (zh) 2012-12-28 2014-03-26 吉林大学 仿生防粘疏水疏油贴膜
EP2750447A1 (en) 2012-12-28 2014-07-02 Alcatel Lucent Neighboring cell selection for an user equipment using a content delivery service in a mobile network
JP5860173B2 (ja) 2012-12-29 2016-02-16 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク
EP2754524B1 (de) 2013-01-15 2015-11-25 Corning Laser Technologies GmbH Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie
CN105531074B (zh) 2013-02-04 2019-09-03 纽波特公司 用于激光切割透明和半透明基底的方法和装置
US10670510B2 (en) * 2013-02-05 2020-06-02 Massachusetts Institute Of Technology 3-D holographic imaging continuous flow cytometry
US9498920B2 (en) 2013-02-12 2016-11-22 Carbon3D, Inc. Method and apparatus for three-dimensional fabrication
JP2014156289A (ja) 2013-02-14 2014-08-28 Mitsubishi Electric Building Techno Service Co Ltd エレベータの主ロープ点検方法
US9919380B2 (en) 2013-02-23 2018-03-20 Coherent, Inc. Shaping of brittle materials with controlled surface and bulk properties
DE102013003118B4 (de) 2013-02-25 2015-03-26 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Verfahren zum Entsorgen von einem bei einem Lochungsvorgang eines Hohlprofils enstehenden Butzens
CN105339316B (zh) 2013-02-25 2018-11-09 康宁股份有限公司 制造薄玻璃块的方法
US10179952B2 (en) 2013-03-08 2019-01-15 Rutgers, The State University Of New Jersey Patterned thin films by thermally induced mass displacement
CN105164581B (zh) 2013-03-08 2020-05-01 Sage电致变色显示有限公司 具有多个独立可控区域和内部母线的电致变色器件
CN103143841B (zh) 2013-03-08 2014-11-26 西北工业大学 一种利用皮秒激光加工孔的方法
KR102209964B1 (ko) 2013-03-13 2021-02-02 삼성디스플레이 주식회사 피코초 레이저 가공 장치
WO2014144322A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Kinestral Technologies, Inc. Laser cutting strengthened glass
JP6061193B2 (ja) 2013-03-18 2017-01-18 大日本印刷株式会社 ブランクのストリッパ機構
EP2781296B1 (de) 2013-03-21 2020-10-21 Corning Laser Technologies GmbH Vorrichtung und verfahren zum ausschneiden von konturen aus flächigen substraten mittels laser
US9878304B2 (en) 2013-03-27 2018-01-30 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. Method of manufacturing water-absorbent resin composition
JP6059059B2 (ja) 2013-03-28 2017-01-11 浜松ホトニクス株式会社 レーザ加工方法
JP6186016B2 (ja) 2013-04-04 2017-08-23 エル・ピー・ケー・エフ・レーザー・ウント・エレクトロニクス・アクチエンゲゼルシヤフト 基板に貫通穴を開ける方法及び装置
ES2959429T3 (es) 2013-04-04 2024-02-26 Lpkf Laser & Electronics Se Procedimiento para la separación de un sustrato
DE102013103370A1 (de) 2013-04-04 2014-10-09 Lpkf Laser & Electronics Ag Verfahren zum Einbringen von Durchbrechungen in ein Glassubstrat sowie ein derart hergestelltes Glassubstrat
PT2984517T (pt) 2013-04-10 2018-10-12 Saint Gobain Película em multicamadas com propriedades óticas eletricamente comutáveis
CN103224117B (zh) 2013-05-10 2016-02-03 深圳市华星光电技术有限公司 一种自动反馈调节碎玻璃传送张力的系统
CN103273195B (zh) 2013-05-28 2015-03-04 江苏大学 激光间接冲击下金属薄板的微冲裁自动化装置及其方法
CN103316990B (zh) 2013-05-28 2015-06-10 江苏大学 脉冲激光驱动飞片加载薄板的微冲裁自动化装置及其方法
US9365413B2 (en) 2013-05-29 2016-06-14 Freescale Semiconductor, Inc. Transducer-including devices, and methods and apparatus for their calibration
RU2019101249A (ru) 2013-06-18 2019-03-05 Вью, Инк. Электрохромные устройства непрямоугольных форм
US9776891B2 (en) 2013-06-26 2017-10-03 Corning Incorporated Filter and methods for heavy metal remediation of water
KR101344368B1 (ko) 2013-07-08 2013-12-24 정우라이팅 주식회사 수직형 유리관 레이저 절단장치
CN103359948A (zh) 2013-07-12 2013-10-23 深圳南玻伟光导电膜有限公司 钢化玻璃的切割方法
KR20150009153A (ko) 2013-07-16 2015-01-26 동우 화인켐 주식회사 강화처리된 유리의 홀 형성 방법
US9102007B2 (en) 2013-08-02 2015-08-11 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method and apparatus for performing laser filamentation within transparent materials
US9102011B2 (en) 2013-08-02 2015-08-11 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method and apparatus for non-ablative, photoacoustic compression machining in transparent materials using filamentation by burst ultrafast laser pulses
US9790128B2 (en) 2013-08-07 2017-10-17 Corning Incorporated Laser controlled ion exchange process and glass articles formed therefrom
US9296646B2 (en) 2013-08-29 2016-03-29 Corning Incorporated Methods for forming vias in glass substrates
TWI618131B (zh) 2013-08-30 2018-03-11 半導體能源研究所股份有限公司 剝離起點形成裝置及形成方法、疊層體製造裝置
MX350229B (es) 2013-09-04 2017-08-30 Saint Gobain Metodo para producir un cristal con un recubrimiento electricamente conductor con defectos aislados electricamente.
CN203509350U (zh) 2013-09-27 2014-04-02 东莞市盛雄激光设备有限公司 皮秒激光加工装置
CN103531414B (zh) 2013-10-14 2016-03-02 南京三乐电子信息产业集团有限公司 一种栅控行波管栅网的皮秒脉冲激光切割制备方法
US10017410B2 (en) 2013-10-25 2018-07-10 Rofin-Sinar Technologies Llc Method of fabricating a glass magnetic hard drive disk platter using filamentation by burst ultrafast laser pulses
US20150121960A1 (en) 2013-11-04 2015-05-07 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method and apparatus for machining diamonds and gemstones using filamentation by burst ultrafast laser pulses
US20150122656A1 (en) 2013-11-04 2015-05-07 Rofin-Sinar Technologies Inc. Mass based filtration devices and method of fabrication using bursts of ultrafast laser pulses
US11053156B2 (en) 2013-11-19 2021-07-06 Rofin-Sinar Technologies Llc Method of closed form release for brittle materials using burst ultrafast laser pulses
US10005152B2 (en) 2013-11-19 2018-06-26 Rofin-Sinar Technologies Llc Method and apparatus for spiral cutting a glass tube using filamentation by burst ultrafast laser pulses
US9517929B2 (en) 2013-11-19 2016-12-13 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method of fabricating electromechanical microchips with a burst ultrafast laser pulses
DE102013223637B4 (de) 2013-11-20 2018-02-01 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Verfahren zum Behandeln eines lasertransparenten Substrats zum anschließenden Trennen des Substrats
KR102216118B1 (ko) 2013-11-25 2021-02-17 코닝 인코포레이티드 실질적인 원통형의 정반사성 반사 표면의 형상을 결정하는 방법
CN105722925B (zh) 2013-11-29 2018-02-16 松下知识产权经营株式会社 涂料组合物及使用了该涂料组合物的光扩散部件
US10144088B2 (en) 2013-12-03 2018-12-04 Rofin-Sinar Technologies Llc Method and apparatus for laser processing of silicon by filamentation of burst ultrafast laser pulses
CN103746027B (zh) 2013-12-11 2015-12-09 西安交通大学 一种在ito导电薄膜表面刻蚀极细电隔离槽的方法
US20150165560A1 (en) 2013-12-17 2015-06-18 Corning Incorporated Laser processing of slots and holes
JP2016540638A (ja) 2013-12-17 2016-12-28 バイエル クロップサイエンス エルピーBayer Cropscience Lp 展開可能なインペラを備えた混合システム、方法、および装置
US9850160B2 (en) 2013-12-17 2017-12-26 Corning Incorporated Laser cutting of display glass compositions
US9687936B2 (en) 2013-12-17 2017-06-27 Corning Incorporated Transparent material cutting with ultrafast laser and beam optics
US9815730B2 (en) 2013-12-17 2017-11-14 Corning Incorporated Processing 3D shaped transparent brittle substrate
US20150165563A1 (en) 2013-12-17 2015-06-18 Corning Incorporated Stacked transparent material cutting with ultrafast laser beam optics, disruptive layers and other layers
US20150166393A1 (en) 2013-12-17 2015-06-18 Corning Incorporated Laser cutting of ion-exchangeable glass substrates
US10442719B2 (en) 2013-12-17 2019-10-15 Corning Incorporated Edge chamfering methods
KR20160100332A (ko) 2013-12-17 2016-08-23 코닝 인코포레이티드 3-d 유리 성형
US9701563B2 (en) 2013-12-17 2017-07-11 Corning Incorporated Laser cut composite glass article and method of cutting
US9676167B2 (en) 2013-12-17 2017-06-13 Corning Incorporated Laser processing of sapphire substrate and related applications
US9517963B2 (en) 2013-12-17 2016-12-13 Corning Incorporated Method for rapid laser drilling of holes in glass and products made therefrom
CN103831539B (zh) 2014-01-10 2016-01-20 合肥鑫晟光电科技有限公司 激光打孔方法及激光打孔系统
JP6390961B2 (ja) 2014-01-28 2018-09-19 株式会社リコー 書込ヘッドユニットの組立装置および書込ヘッドユニットの組立方法
DE102014201739B4 (de) 2014-01-31 2021-08-12 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Laserbearbeitungsvorrichtung sowie Verfahren zum Erzeugen zweier Teilstrahlen
WO2015127583A1 (en) 2014-02-25 2015-09-03 Schott Ag Chemically toughened glass article with low coefficient of thermal expansion
EP2913137A1 (de) 2014-02-26 2015-09-02 Bystronic Laser AG Laserbearbeitungsvorrichtung und Verfahren
CA2939574C (en) 2014-03-04 2019-08-20 Saint-Gobain Glass France Method for cutting a laminated, ultrathin glass layer
US11204506B2 (en) 2014-03-05 2021-12-21 TeraDiode, Inc. Polarization-adjusted and shape-adjusted beam operation for materials processing
US11780029B2 (en) 2014-03-05 2023-10-10 Panasonic Connect North America, division of Panasonic Corporation of North America Material processing utilizing a laser having a variable beam shape
JP6318756B2 (ja) 2014-03-24 2018-05-09 東レ株式会社 ポリエステルフィルム
US20150352671A1 (en) 2014-06-09 2015-12-10 GM Global Technology Operations LLC Laser cutting same side slug removal
US9933682B2 (en) 2014-06-17 2018-04-03 Sage Electrochromics, Inc. Controlled switching for electrochromic devices
WO2015195715A1 (en) 2014-06-17 2015-12-23 Sage Electrochromics, Inc. Moisture resistant electrochromic device
KR102445217B1 (ko) 2014-07-08 2022-09-20 코닝 인코포레이티드 재료를 레이저 가공하는 방법 및 장치
LT2965853T (lt) 2014-07-09 2016-11-25 High Q Laser Gmbh Medžiagos apdorojimas, naudojant pailgintuosius lazerio spindulius
MX2017000440A (es) 2014-07-11 2017-08-16 Corning Inc Sistemas y metodos para cortado de vidrio al inducir perforaciones por láser pulsado en artículos de vidrio.
CN107073642B (zh) 2014-07-14 2020-07-28 康宁股份有限公司 使用长度和直径可调的激光束焦线来加工透明材料的系统和方法
US20160009066A1 (en) 2014-07-14 2016-01-14 Corning Incorporated System and method for cutting laminated structures
CN107073641B (zh) 2014-07-14 2020-11-10 康宁股份有限公司 接口块;用于使用这种接口块切割在波长范围内透明的衬底的系统和方法
US9617180B2 (en) 2014-07-14 2017-04-11 Corning Incorporated Methods and apparatuses for fabricating glass articles
DE102014213775B4 (de) 2014-07-15 2018-02-15 Innolas Solutions Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen, kristallinen Substraten, insbesondere von Halbleitersubstraten
US9757815B2 (en) 2014-07-21 2017-09-12 Rofin-Sinar Technologies Inc. Method and apparatus for performing laser curved filamentation within transparent materials
DE102014110920C5 (de) 2014-07-31 2023-08-03 Schott Ag Geformter Glasartikel mit vorbestimmter Geometrie
CN104344202A (zh) 2014-09-26 2015-02-11 张玉芬 一种有孔玻璃
KR102138964B1 (ko) 2014-11-19 2020-07-28 트룸프 레이저-운트 시스템테크닉 게엠베하 비대칭 광학 빔 정형을 위한 시스템
DE102014116958B9 (de) 2014-11-19 2017-10-05 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Optisches System zur Strahlformung eines Laserstrahls, Laserbearbeitungsanlage, Verfahren zur Materialbearbeitung und Verwenden einer gemeinsamen langgezogenen Fokuszone zur Lasermaterialbearbeitung
US9740063B2 (en) 2014-11-28 2017-08-22 Japan Display Inc. Reflective type liquid crystal display device
US9873628B1 (en) 2014-12-02 2018-01-23 Coherent Kaiserslautern GmbH Filamentary cutting of brittle materials using a picosecond pulsed laser
US10047001B2 (en) 2014-12-04 2018-08-14 Corning Incorporated Glass cutting systems and methods using non-diffracting laser beams
US10900885B2 (en) 2014-12-19 2021-01-26 Captl Llc Flow cytometry using hydrodynamically planar flow
JP6005125B2 (ja) 2014-12-22 2016-10-12 イムラ アメリカ インコーポレイテッド 超短パルスレーザでの透明材料処理
FR3031102B1 (fr) 2014-12-31 2017-01-27 Saint Gobain Procede de rompage d'une forme interieure dans une feuille de verre
EP3274306B1 (en) 2015-03-24 2021-04-14 Corning Incorporated Laser cutting and processing of display glass compositions
EP3274313A1 (en) 2015-03-27 2018-01-31 Corning Incorporated Gas permeable window and method of fabricating the same
US9477037B1 (en) 2015-04-22 2016-10-25 Corning Incorporated Optical fiber for silicon photonics
KR20170006900A (ko) 2015-07-10 2017-01-18 삼성전자주식회사 성형장치 및 이를 이용한 성형방법
DE102015111490A1 (de) 2015-07-15 2017-01-19 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum lasergestützten Abtrennen eines Teilstücks von einem flächigen Glaselement
MX2018001587A (es) 2015-08-10 2018-05-22 Saint Gobain Metodo para cortar una capa delgada de vidrio.
CN105081564B (zh) 2015-08-31 2017-03-29 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种强化玻璃内形孔的加工方法
CN107922259B (zh) 2015-09-04 2021-05-07 Agc株式会社 玻璃板的制造方法、玻璃板、玻璃物品的制造方法、玻璃物品以及玻璃物品的制造装置
JP2018537389A (ja) 2015-11-25 2018-12-20 コーニング インコーポレイテッド ガラスウェブを分離する方法
DE102015120950B4 (de) 2015-12-02 2022-03-03 Schott Ag Verfahren zum lasergestützten Ablösen eines Teilstücks von einem flächigen Glas- oder Glaskeramikelement, flächiges zumindest teilweise keramisiertes Glaselement oder Glaskeramikelement und Kochfläche umfassend ein flächiges Glas- oder Glaskeramikelement
US20170197868A1 (en) 2016-01-08 2017-07-13 Apple Inc. Laser Processing of Electronic Device Structures
DE102016102768A1 (de) 2016-02-17 2017-08-17 Schott Ag Verfahren zur Kantenbearbeitung von Glaselementen und verfahrensgemäß bearbeitetes Glaselement
WO2018022476A1 (en) 2016-07-29 2018-02-01 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing
CN110121398B (zh) 2016-08-30 2022-02-08 康宁股份有限公司 透明材料的激光加工
US10730783B2 (en) 2016-09-30 2020-08-04 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing transparent workpieces using non-axisymmetric beam spots
NL2017998B1 (en) 2016-12-14 2018-06-26 Corning Inc Apparatuses and methods for laser processing transparent workpieces using non-axisymmetric beam spots
EP3597353A1 (en) 2016-09-30 2020-01-22 Corning Incorporated Apparatuses for laser processing transparent workpieces using non-axisymmetric beam spots
US20180118602A1 (en) 2016-11-01 2018-05-03 Corning Incorporated Glass sheet transfer apparatuses for laser-based machining of sheet-like glass substrates
US10668561B2 (en) 2016-11-15 2020-06-02 Coherent, Inc. Laser apparatus for cutting brittle material
EP3609978B1 (en) 2017-04-13 2021-03-17 cynora GmbH Organic molecules in particular for use in optoelectronic devices

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