JP2021088474A

JP2021088474A - ガラス物品の製造方法、及びガラス物品

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Publication number: JP2021088474A
Application number: JP2019218791A
Authority: JP
Inventors: 平尾　徹; Toru Hirao; 徹平尾
Original assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date: 2019-12-03
Filing date: 2019-12-03
Publication date: 2021-06-10

Abstract

【課題】光学特性の均一性の低下を抑えることのできるガラス物品の製造方法、及び光学特性を好適に発揮させることのできるガラス物品を提供する。【解決手段】ガラス物品１１の製造方法は、ガラスＧを切断する工程を備える。ガラス物品１１の製造方法は、ガラスＧの切断予定線ＰＬに沿ってレーザー光Ｌを走査しつつ、ガラスＧの内部にレーザー光Ｌの光軸方向に沿った複数の加工痕Ｍを形成する第１工程と、ガラスＧに機械的な外力を加えて複数の加工痕Ｍを進展させることでガラスＧを切断する第２工程とを備える。第１工程では、ガラスＧの厚さを１ｍｍとした場合、９０％以上の透過率となる波長のレーザー光Ｌをガラスに照射する。【選択図】図１

Description

本発明は、ガラス物品の製造方法、及びガラス物品に関する。

従来、特許文献１，２に開示されるように、レーザー光をガラスの内部に集光させてガラスの内部に改質された加工痕を形成した後、その加工痕を進展させてガラスを切断する方法が知られている。このようにガラスに形成した加工痕を進展させる方法としては、延伸性を有する樹脂フィルム（エキスパンド用のテープ）をガラスに貼り付けた後、その樹脂フィルムを延伸することで加工痕に機械的な外力を加える方法が知られている。

特開２０１４−１４８４５４号公報特開２０１３−１５７５４５号公報

上記のように、レーザー光を照射することでガラスの内部に加工痕を形成した後、その加工痕を進展させることでガラスを切断する方法では、レーザー光の照射によってガラスが加熱されることにより、ガラスの照射箇所近傍に局所的なガラスに歪が生じる。このようなガラスの歪が過大である場合、ガラスを切断して得られるガラス物品の端面付近における光学特性（例えば、リタデーション等）に影響を与える。すなわち、従来のレーザー光を用いてガラスを切断する方法では、レーザー光照射による局所歪が大きくなり易く、ガラス物品の全体における光学特性の均一性が低下し易い。

本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学特性の均一性の低下を抑えることのできるガラス物品の製造方法、及び光学特性を好適に発揮させることのできるガラス物品を提供することにある。

上記課題を解決するガラス物品の製造方法は、ガラスを切断する工程を備えるガラス物品の製造方法であって、前記ガラスの切断予定線に沿ってレーザー光を走査しつつ、前記ガラスの内部に前記レーザー光の光軸方向に沿った複数の加工痕を形成する第１工程と、前記ガラスに機械的な外力を加えて前記複数の加工痕を進展させることで前記ガラスを切断する第２工程と、を備え、前記第１工程では、前記ガラスの厚さを１ｍｍとした場合、９０％以上の透過率となる波長のレーザー光を前記ガラスに照射する。

この方法によれば、第１工程においてガラスに対するレーザー光の吸収が抑えられるため、ガラスが過剰に加熱され難くなる。また、第２工程では、ガラスに熱衝撃を与えずに、ガラスに機械的な外力を加えてガラスを切断している。このような第１工程及び第２工程により、ガラス物品の端面付近に加熱を要因として残留する歪を抑えることができる。

上記ガラス物品の製造方法において、前記第１工程では、波長が１０００ｎｍ以上であり、パルスエネルギーが２６０μＪ以下であり、かつ繰り返し周波数が９ｋＨｚ以下のレーザー光を前記ガラスに照射することが好ましい。

この方法によれば、ガラス物品の端面付近に加熱を要因として残留する歪をより抑えることができる。
上記ガラス物品の製造方法において、前記第１工程における前記レーザー光のパルス幅は、１９ｐｓ以下であることが好ましい。

この方法によれば、ガラス物品の端面付近に加熱を要因として残留する歪をさらに抑えることができる。
上記ガラス物品の製造方法において、前記第１工程では、前記ガラスの切断予定線に沿って前記レーザー光を１回走査することが好ましい。

この方法によれば、複数の加工痕の形状を安定化することができる。これにより、第２工程において切断した切断面、すなわちガラス物品の端面の平滑性を高めることができる。

上記ガラス物品の製造方法において、前記ガラスは、厚さが０．５ｍｍ以上の板状のガラスであってもよい。
上記ガラス物品の製造方法において、前記ガラスは、結晶化ガラスであってもよい。

ガラス物品は、厚さが０．５ｍｍ以上の結晶化ガラスを有し、リタデーションの最大値が１．０ｎｍ以下であることが好ましい。
この構成によれば、光学特性を好適に発揮させることができる。

上記ガラス物品において、前記結晶化ガラスは、算術平均高さ（Ｓａ）が１．０μｍ以下である端面を有することが好ましい。
上記ガラス物品において、前記結晶化ガラスの組成は、質量％で、ＳｉＯ_２：５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３：２０．５〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ：２％以上、ＴｉＯ_２：１．５〜３％、ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２：３．８〜５％、及びＳｎＯ_２：０．１〜０．５％を含有し、３．７≦Ｌｉ_２Ｏ＋０．７４１ＭｇＯ＋０．３６７ＺｎＯ≦４．５とＳｒＯ＋１．８４７ＣａＯ≦０．５との関係を満たすことが好ましい。

本発明によれば、光学特性の均一性の低下を抑えることができる。

実施形態におけるガラス物品の製造方法を説明する概略斜視図である。ガラス物品の製造方法を説明する概略断面図である。ガラス物品の製造方法を説明する概略断面図である。ガラス物品の製造方法を説明する概略断面図である。ガラス物品の製造方法を説明する概略斜視図である。ガラス物品の製造方法の変更例を説明する概略斜視図である。

以下、ガラス物品の製造方法、及びガラス物品の一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張又は簡略化して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。

図１〜図５に示すように、ガラス物品１１の製造方法は、ガラスＧを切断する工程を備える。図１〜図４に示すように、ガラス物品１１の製造方法は、ガラスＧの切断予定線ＰＬに沿ってレーザー光Ｌを走査しつつ、ガラスＧの内部にレーザー光Ｌの光軸方向（照射深さ方向）に沿った複数箇所に複数の加工痕Ｍを形成する第１工程を備えている。図５に示すように、ガラス物品１１の製造方法は、ガラスＧに機械的な外力を加えて複数の加工痕Ｍを進展させることでガラスＧを切断する第２工程をさらに備えている。

ガラス物品１１の製造方法に用いるガラスＧは、例えば、厚さが０．５ｍｍ以上の板状のガラスであることが好ましい。さらに、ガラスＧは、厚さが０．７ｍｍ以上の板状のガラスであることがより好ましく、より好ましくは０．８ｍｍ以上の板状のガラスである。ガラスＧの厚さの上限は、特に限定されないが、例えば、３０ｍｍ以下である。

ガラス物品１１の製造方法に用いるガラスＧとしては、例えば、ソーダガラス、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、アルミノシリケートガラス、アルカリ含有ガラス、無アルカリガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。ガラスＧは、強化ガラスであってもよいし、未強化ガラスであってもよい。ガラスＧは、機能性の被膜が積層された膜付きガラスであってもよい。

ガラス物品１１の製造方法に用いるガラスＧは、例えば、結晶化ガラスが好適である。結晶化ガラスとしては、例えば、Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスが挙げられる。Ｌｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスは、β−石英固溶体又はβ−スポジュメン固溶体を主結晶として含有する。

好ましい結晶化ガラスとしては、ガラス組成として質量％でＳｉＯ_２：５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３：２０．５〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ：２％以上、ＴｉＯ_２：１．５〜３％、ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２：３．８〜５％、及びＳｎＯ_２：０．１〜０．５％を含有し、３．７≦Ｌｉ_２Ｏ＋０．７４１ＭｇＯ＋０．３６７ＺｎＯ≦４．５とＳｒＯ＋１．８４７ＣａＯ≦０．５との関係を満たすガラスを挙げることができる。ＭｇＯとＺｎＯの係数は、各成分の含有量をＬｉ_２Ｏモル換算にするためのものである。また、ＣａＯの係数は、ＳｒＯモル換算にするためのものである。ガラス組成は、合計を１００質量％とするものであり、合計が１００質量％を超える組成を含まない。

第１工程では、ガラスＧの厚さを１ｍｍとした場合、９０％以上の透過率となる波長のレーザー光ＬをガラスＧに照射する。これにより、ガラスＧへのレーザー光Ｌの吸収を抑えることでガラスＧが過剰に加熱されることを抑えることができる。透過率は、内部透過率であり、日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計ＵＨ−４１５０によって測定することができる。

レーザー光Ｌの波長は、例えば、１０００ｎｍ以上であることが好ましい。
レーザー光Ｌのパルスエネルギーは、ガラスＧの加熱をより抑えるという観点から、２６０μＪ以下であることが好ましく、より好ましくは２５０μＪ以下であり、さらに好ましくは２４０μＪ以下である。また、レーザー光Ｌのパルスエネルギーの値をより小さくすることで、ガラス物品１１の端面の平滑性を高めることが可能となる。

レーザー光Ｌのパルスエネルギーは、より進展し易い加工痕Ｍを形成するという観点から、８０μＪ以上であることが好ましく、より好ましくは９０μＪ以上であり、さらに好ましくは１００μＪ以上である。

レーザー光Ｌの繰り返し周波数は、ガラスＧの加熱をより抑えるという観点から、９ｋＨｚ以下であることが好ましく、より好ましくは８ｋＨｚ以下であり、さらに好ましくは７ｋＨｚ以下である。また、レーザー光Ｌの繰り返し周波数の値をより小さくすることで、ガラス物品１１の端面の平滑性を高めることが可能となる。

レーザー光Ｌの繰り返し周波数は、より進展し易い加工痕Ｍを形成するという観点から、５ｋＨｚ以上であることが好ましく、より好ましくは５．５ｋＨｚ以上であり、さらに好ましくは６ｋＨｚ以上である。

レーザー光Ｌのパルス幅は、ガラスＧの加熱をより抑えるという観点から、１９ｐｓ（ピコ秒）以下であることが好ましく、より好ましくは１７ｐｓ以下であり、さらに好ましくは１５ｐｓ以下である。レーザー光Ｌのパルス幅は、より進展し易い加工痕Ｍを形成するという観点から、５ｐｓ以上であることが好ましく、より好ましくは７ｐｓ以上であり、さらに好ましくは９ｐｓ以上である。

レーザー光Ｌの平均出力は、ガラスＧの加熱をより抑えるという観点から、２．４Ｗ以下であることが好ましく、より好ましくは２Ｗ以下であり、さらに好ましくは、１．７Ｗ以下である。レーザー光Ｌの平均出力は、より進展し易い加工痕Ｍを形成するという観点から、０．４Ｗ以上であることが好ましく、より好ましくは０．５Ｗ以上であり、さらに好ましくは０．６Ｗ以上である。

レーザー光Ｌの走査速度は、例えば、ガラス物品１１の生産効率を高めるという観点から、１０ｍｍ／ｓ以上であることが好ましく、より好ましくは１５ｍｍ／ｓ以上である。レーザー光Ｌの走査速度は、より進展し易い加工痕Ｍを形成するという観点から、５０ｍｍ／ｓ以下であることが好ましく、より好ましくは４０ｍｍ／ｓ以下である。

第１工程において、ガラスＧの切断予定線ＰＬに沿ったレーザー光Ｌの走査回数は、１回であってもよいし、複数回であってもよい。ここで、レーザー光Ｌの走査回数が複数回の場合、レーザー光Ｌの集光点の位置が複数回の走査において互いに異なり易く、これにより複数の加工痕Ｍの形状が不規則となる結果、切断面の平滑性が低下するおそれがある。このため、レーザー光Ｌの走査回数は、複数の加工痕Ｍの形状を安定化し、切断面の平滑性を高めるという観点から、１回であることが好ましい。

レーザー光Ｌの光軸方向、すなわちガラスＧの厚さ方向における複数の加工痕Ｍの間隔（ピッチ）は、１０μｍ以上、２００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。
図３及び図４では、Ｘ軸方向に沿って延びる切断予定線ＰＬに沿ってレーザー光Ｌを走査したガラスＧを模式的に示している。図３に示すように、切断予定線ＰＬ（レーザー光Ｌの走査方向）に沿って連続した加工痕ＭをガラスＧに形成してもよいし、図４に示すように、Ｘ軸方向に延びる切断予定線ＰＬに沿って配列（点在）した複数の加工痕ＭをガラスＧに形成してもよい。例えば、第１工程の時間を短縮するという観点から、切断予定線ＰＬに沿って配列した複数の加工痕ＭをガラスＧに形成することが好ましい。このように切断予定線ＰＬに沿って複数の加工痕ＭをガラスＧに形成する場合、レーザー光Ｌの走査方向に沿った複数の加工痕Ｍの間隔（ピッチ）は、１μｍ以上、１００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。

図１に示すように、第１工程におけるレーザー光Ｌは、レーザーユニット１２を用いて照射する。レーザーユニット１２は、光源１３と多焦点光学系１４とを備えている。光源１３としては、超短パルスレーザー光を発生する光源を好適に用いることができる。光源１３としては、例えば、ツリウム（Ｔｍ）含有のファイバーレーザー（中心波長：１．９５μｍ）を発生する光源が挙げられる。

ガラスＧは、図示を省略した支持台上に配置される。支持台とレーザーユニット１２とは、図示を省略した移動機構により、ＸＹＺ軸に沿った方向に相対移動可能に構成されている。

第２工程においてガラスＧに機械的な外力を加える方法は、特に限定されない。第２工程は、例えば、延伸性を有する樹脂フィルム（エキスパンド用のテープ）をガラスＧに貼り付けた後、その樹脂フィルムを延伸することでガラスＧに外力を加える方法により行うことができる。また、第２工程は、ガラスの一部を押圧する押圧部材を備えた周知の割断装置を用いて行ってもよい。

次に、ガラス物品１１の一例について説明する。
ガラス物品１１は、厚さが０．５ｍｍ以上の結晶化ガラスを有している。結晶化ガラスは、温度変化による膨張や収縮の量が極めて小さいため、温度変化の比較的大きい環境での使用に好適である。また、例えば、可視光の光透過性が求められる用途では、β−石英固溶体を主結晶として含むＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスを好適に用いることができる。

ガラス物品１１のリタデーションの最大値は、１．０ｎｍ以下である。リタデーションの最大値が小さくなるほど、ガラス物品１１の光学特性の均一性が高まるため、ガラス物品１１を光学用途に好適に用いることができる。リタデーションは、複屈折（Δｎ）と厚さ（ｄ）の積（Δｎｄ）であり、リタデーションの最大値は、市販の複屈折測定装置で測定可能である。複屈折測定装置としては、例えば、ユニオプト社製の複屈折測定装置を利用可能であり、この複屈折測定装置は、光ヘテロダイン法による共通光路干渉計とフーリエ解析法を利用している。リタデーションの最大値は、０．９ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．８ｎｍ以下である。なお、ガラス物品１１のリタデーションの最大値の下限は、０ｎｍを超え、例えば、０．０１ｎｍ以上である。

上記のガラス物品１１の製造方法では、ガラスＧを切断して形成される端面の平滑性を高めることもできる。ガラス物品１１の結晶化ガラスは、例えば、算術平均高さ（Ｓａ）が１．０μｍ以下の端面を有することが好ましい。ガラス物品１１の端面の算術平均高さ（Ｓａ）は、０．８μｍ以下であることがより好ましく、さらに好ましくは、０．６μｍ以下である。算術平均高さ（Ｓａ）は、ＩＳＯ２５１７８に準拠して測定することができる。

なお、上記のガラス物品１１の製造方法における第１工程で形成される加工痕Ｍは、レーザー光Ｌの照射による加熱溶融により形成されるため、ガラス物品１１の端面は、加工痕Ｍに基づく火造り面を含む。

ガラス物品１１としては、例えば、光透過性を有するカバー部材、光透過性を有する基板等が挙げられる。カバー部材の用途としては、例えば、レーザーモジュール、ＬＥＤ光源、光センサ、撮像素子、光スイッチ等の光学デバイス、液晶表示部、有機ＥＬ表示部等の表示部等を覆う用途が挙げられる。基板としては、例えば、透明電極を有する基板が挙げられる。

（試験例）
次に、試験例について説明する。
試験例１〜７では、表１に示す条件で板状のガラスに加工痕を形成する第１工程を行った。試験例１〜６で用いたレーザー光の波長は、ガラスの厚さを１ｍｍとした場合、９０％以上の透過率となる波長である。試験例７で用いたレーザー光Ｌの波長は、ガラスの厚さを１ｍｍとした場合、９０％未満の透過率となる波長である。試験例１〜７において、ガラスの切断予定線に沿ったレーザー光の走査回数は１回である。

試験例１〜４，６，７で用いたガラスは、β−石英固溶体を主結晶として含有するＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスであり、組成として、質量％でＳｉＯ_２：６５．７５％、Ａｌ_２Ｏ_３：２２．３％、Ｌｉ_２Ｏ：３．６％、ＴｉＯ_２：２．０％、ＺｒＯ_２：２．２、ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２：４．２％、及びＳｎＯ_２：０．２％を含有し、“Ｌｉ_２Ｏ＋０．７４１ＭｇＯ＋０．３６７ＺｎＯ”は、４．１であり、“ＳｒＯ＋１．８４７ＣａＯ”は、０である。試験例５で用いたガラスは結晶を含まず、ガラスの組成として、質量％でＳｉＯ_２：６５．４％、Ａｌ_２Ｏ_３：８．０％、Ｂ_２Ｏ_３：８．９％、ＣａＯ：３．２％、ＺｎＯ：０．９％、Ｎａ_２Ｏ：１３．３％、ＳｎＯ_２：０．３％を含むガラスである。

次に、試験例１〜７のガラスを手で折り割る第２工程を行うことで、ガラス物品のサンプルを作製した。この第２工程を行った際に、ガラスを折り割る際に必要な力に基づいて、切断の容易性について評価した。また、試験例１〜７のガラス物品のサンプルについて、リタデーション（Δｎｄ）の最大値、及び端面の算術平均高さ（Ｓａ）を測定した。これらの結果を表１に示す。

試験例１〜６におけるガラス物品のサンプルでは、試験例７におけるガラス物品のサンプルよりもリタデーション（Δｎｄ）の最大値が低い。すなわち、試験例１〜６では、試験例７よりも光学特性の均一性の低下を抑えることができることが分かる。試験例１〜５におけるガラス物品のサンプルでは、試験例６におけるガラス物品のサンプルよりも端面の算術平均高さ（Ｓａ）が低い。すなわち、試験例１〜５では、試験例６よりもガラス物品の端面の平滑性を高めることができることが分かる。

次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
（１）ガラス物品１１の製造方法は、ガラスＧの切断予定線ＰＬに沿ってレーザー光Ｌを走査しつつ、ガラスＧの内部にレーザー光Ｌの光軸方向に沿った複数の加工痕Ｍを形成する第１工程と、ガラスＧに機械的な外力を加えて複数の加工痕Ｍを進展させることでガラスＧを切断する第２工程とを備えている。ガラス物品１１の製造方法における第１工程では、ガラスＧの厚さを１ｍｍとした場合、９０％以上の透過率となる波長のレーザー光ＬをガラスＧに照射している。

この方法によれば、第１工程においてガラスＧに対するレーザー光の吸収が抑えられるため、ガラスＧが過剰に加熱され難くなる。また、第２工程では、ガラスＧに熱衝撃を与えずに、ガラスＧに機械的な外力を用いてガラスＧを切断している。このような第１工程及び第２工程により、ガラス物品１１の端面付近に加熱を要因として残留する歪を抑えることができる。従って、光学特性の均一性の低下を抑えることができる。

（２）ガラス物品１１の製造方法における第１工程では、波長が１０００ｎｍ以上であり、パルスエネルギーが２６０μＪ以下であり、かつ繰り返し周波数が９ｋＨｚ以下のレーザー光ＬをガラスＧに照射することが好ましい。この場合、ガラス物品１１の端面付近に加熱を要因として残留する歪をより抑えることができる。従って、光学特性の均一性の低下をより抑えることができる。また、ガラスＧの切断面、すなわちガラス物品１１の端面の平滑性を高めることもできる。

（３）第１工程におけるレーザー光Ｌのパルス幅は、１９ｐｓ以下であることが好ましい。この場合、ガラス物品１１の端面付近に加熱を要因として残留する歪をさらに抑えることができる。従って、光学特性の均一性の低下をさらに抑えることができる。

（４）第１工程では、ガラスＧの切断予定線ＰＬに沿ってレーザー光Ｌを１回走査することが好ましい。この場合、複数の加工痕Ｍの形状を安定化することができる。これにより、第２工程において切断した切断面、すなわちガラス物品１１の端面の平滑性を高めることができる。

（５）厚さが０．５ｍｍ以上の板状のガラスをカッター等で切削することでスクライブ線を形成し、そのスクライブ線に沿ってガラスを割断する切断方法では、スクライブ線が任意の方向に進展し易く、切断予定線ＰＬに沿った切断が極めて困難である。本実施形態のガラス物品１１の製造方法では、厚さが０．５ｍｍ以上の板状のガラスＧであっても、ガラスＧの内部の複数の加工痕Ｍが所定の方向に進展し易いため、ガラスＧを切断予定線ＰＬに沿って容易に切断することができる。従って、例えば、ガラス物品１１の歩留まりを向上させることが可能となる。

（６）ガラス物品１１は、例えば、厚さが０．５ｍｍ以上の結晶化ガラスを有し、結晶化ガラスのリタデーションの最大値が１．０ｎｍ以下である。この構成によれば、ガラス物品１１の光学特性を好適に発揮させることができる。また、ガラス物品１１を温度変化の比較的大きい環境で使用することも可能である。このガラス物品１１の結晶化ガラスは、算術平均高さ（Ｓａ）が１．０μｍ以下である端面を有することで、例えば、ガラス物品１１の組み付け精度を高めることができる。

（変更例）
ガラス物品１１の外形は、四角形状に限定されず、四角形状以外の多角形状であってもよいし、曲線を有していてもよい。また、ガラスＧの切断予定線ＰＬは、連続した環状の切断予定線であってもよい。例えば、図６に示すように、ガラスＧの切断予定線ＰＬを曲線状かつ連続した環状の切断予定線ＰＬに変更することもできる。この場合、ガラス物品１１の製造方法をガラスＧの穴開け加工に適用し、貫通孔１１ａを有するガラス物品１１を得ることができる。また、例えば、曲線状の外形を有するガラス物品１１を得ることもできる。

１１…ガラス物品、Ｇ…ガラス、Ｌ…レーザー光、Ｍ…加工痕、ＰＬ…切断予定線。

Claims

ガラスを切断する工程を備えるガラス物品の製造方法であって、
前記ガラスの切断予定線に沿ってレーザー光を走査しつつ、前記ガラスの内部に前記レーザー光の光軸方向に沿った複数の加工痕を形成する第１工程と、
前記ガラスに機械的な外力を加えて前記複数の加工痕を進展させることで前記ガラスを切断する第２工程と、を備え、
前記第１工程では、前記ガラスの厚さを１ｍｍとした場合、９０％以上の透過率となる波長のレーザー光を前記ガラスに照射する、ガラス物品の製造方法。
前記第１工程では、波長が１０００ｎｍ以上であり、パルスエネルギーが２６０μＪ以下であり、かつ繰り返し周波数が９ｋＨｚ以下のレーザー光を前記ガラスに照射する、請求項１に記載のガラス物品の製造方法。
前記第１工程における前記レーザー光のパルス幅は、１９ｐｓ以下である、請求項２に記載のガラス物品の製造方法。
前記第１工程では、前記ガラスの切断予定線に沿って前記レーザー光を１回走査する、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のガラス物品の製造方法。
前記ガラスは、厚さが０．５ｍｍ以上の板状のガラスである、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のガラス物品の製造方法。
前記ガラスは、結晶化ガラスである、請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のガラス物品の製造方法。
厚さが０．５ｍｍ以上の結晶化ガラスを有し、前記結晶化ガラスのリタデーションの最大値が１．０ｎｍ以下である、ガラス物品。
前記結晶化ガラスは、算術平均高さ（Ｓａ）が１．０μｍ以下である端面を有する、請求項７に記載のガラス物品。
前記結晶化ガラスの組成は、質量％で、ＳｉＯ_２：５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３：２０．５〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ：２％以上、ＴｉＯ_２：１．５〜３％、ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２：３．８〜５％、及びＳｎＯ_２：０．１〜０．５％を含有し、３．７≦Ｌｉ_２Ｏ＋０．７４１ＭｇＯ＋０．３６７ＺｎＯ≦４．５とＳｒＯ＋１．８４７ＣａＯ≦０．５との関係を満たす、請求項７又は請求項８に記載のガラス物品。