KR100673073B1 - 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치 - Google Patents
레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100673073B1 KR100673073B1 KR1020000062131A KR20000062131A KR100673073B1 KR 100673073 B1 KR100673073 B1 KR 100673073B1 KR 1020000062131 A KR1020000062131 A KR 1020000062131A KR 20000062131 A KR20000062131 A KR 20000062131A KR 100673073 B1 KR100673073 B1 KR 100673073B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- laser beam
- cooling fluid
- width
- cutting
- cutting path
- Prior art date
Links
- 0 CC(*)C(C1)(*(C2)O)C(C)(C3)CCC2CC13N=O Chemical compound CC(*)C(C1)(*(C2)O)C(C)(C3)CCC2CC13N=O 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/09—Severing cooled glass by thermal shock
- C03B33/091—Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam
- C03B33/093—Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam using two or more focussed radiation beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
- B23K26/0736—Shaping the laser spot into an oval shape, e.g. elliptic shape
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/14—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using a fluid stream, e.g. a jet of gas, in conjunction with the laser beam; Nozzles therefor
- B23K26/146—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring using a fluid stream, e.g. a jet of gas, in conjunction with the laser beam; Nozzles therefor the fluid stream containing a liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
- B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
- B23K2101/40—Semiconductor devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/50—Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
Abstract
Description
구체적으로, 상기 제1 레이저빔(130)과 상기 냉각 유체빔(170) 사이의 거리 L1은 25mm 이하인 것이 바람직하다. 즉, 냉각 유체빔(170)은 상기 제1 레이저빔(130)의 단부로부터 25mm 이하로 이격된 위치에 조사되는 것이 바람직하다.
Claims (32)
- 비금속 기판에 설정된 절단 경로 상에 제1 레이저 빔을 주사하여 상기 절단 경로의 제1 영역을 급속 가열하는 단계;상기 급속 가열된 상기 절단 경로 상에 냉각 유체빔를 분사하여 상기 절단 경로 상에 소정 깊이를 갖는 스크라이브 라인을 형성하는 단계; 및상기 제1 레이저 빔의 주사 경로를 따라 제2 레이저 빔을 주사하여 상기 스크라이브 라인을 급속 가열함으로써 상기 비금속 기판을 완전히 절단하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔은 상기 스크라이브 라인의 바로 위에 주사하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔은 상기 비금속 기판의 용융점 이하의 온도를 갖는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 레이저 빔의 폭은 상기 제2 레이저빔의 폭보다는 작고, 상기 냉각유체빔의 폭은 상기 제1 레이저빔의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 레이저 빔의 폭은 5mm 미만이고, 상기 제2 레이저 빔의 폭은 제1 레이저 빔의 폭보다 크고 20mm보다는 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 냉각 유체빔는 상기 절단 경로 중 상기 제1 레이저 빔이 주사된 제1 영역에 접하고 있는 제2 영역에 분사하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제1항에 있어서, 상기 냉각 유체빔은 상기 절단 경로 중 상기 제1 레이저 빔이 주사된 제1 영역으로부터 소정 간격 이격된 제3 영역에 분사하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제7항에 있어서, 상기 냉각 유체빔과 상기 제1 레이저 빔의 간격은 25mm이하인 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제1항에 있어서, 상기 냉각 유체빔은 상기 절단 경로 중 상기 제1 레이저 빔이 주사된 제1 영역의 내부에 위치한 제4 영역에 분사하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔은 타원형이나 원형의 빔 패턴으로 주사 하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단방법.
- 비금속 기판에 설정된 절단 경로를 가열하여 상기 절단 경로 상에 스크라이브 라인이 형성되도록 하는 제1 레이저 빔, 및 상기 제1 레이저 빔과 소정 거리 이격되어 상기 제1 레이저 빔의 주사 경로를 따라 하나의 빔 패턴이 형성되도록 제2 레이저 빔을 주사하는 레이저 빔 발생수단; 및상기 제1 레이저 빔과 상기 제2 레이저 빔 사이의 상기 절단 경로 상에 냉각 유체빔를 분사하여 크랙을 발생시키는 냉각 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제11항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔은 상기 비금속 기판의 용융점 이하의 온도를 갖는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제11항에 있어서, 상기 레이저 빔 발생수단은 상기 제1 및 제2 레이저 빔을 생성하는 레이저 소스를 포함하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제11항에 있어서, 상기 제1 레이저 빔의 폭은 상기 제2 레이저빔의 폭보다는 작고, 상기 냉각유체빔의 폭은 상기 제1 레이저빔의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제11항에 있어서, 상기 제1 레이저 빔의 폭은 5mm 미만이고, 상기 제2 레이저 빔의 폭은 제1 레이저 빔의 폭보다 크고 20mm보다는 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제11항에 있어서, 상기 냉각 유체 빔과 상기 제1 레이저 빔 사이의 거리가 0보다 큰 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제16항에 있어서, 상기 냉각 유체빔과 상기 제1 레이저 빔의 거리는 25mm이하인 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제11항에 있어서, 상기 냉각 유체 빔과 상기 제1 레이저 빔 사이의 거리가 0보다 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제11항에 있어서, 상기 냉각 유체빔과 상기 제1 레이저 빔 사이의 거리가 0인 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제11항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔의 깊이는 상기 제1 레이저 빔의 깊이보다 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제11항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔은 타원형이나 원형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 비금속 기판에 설정된 절단 경로를 가열하여 상기 절단 경로 상에 스크라이브 라인이 형성되도록 하는 제1 레이저 빔, 및 상기 제1 레이저 빔과 소정 거리 이격되어 상기 스크라이브 라인 상에 제2 레이저 빔을 주사하는 레이저 빔 발생수단; 및상기 제1 레이저 빔과 상기 제2 레이저 빔 사이의 상기 절단 경로 상에 냉각 유체를 분사하여 크랙을 발생시키는 냉각 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제22항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔은 상기 비금속 기판의 용융점 이하의 온도를 갖는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제22항에 있어서, 상기 레이저 빔 발생수단은 상기 제1 및 제2 레이저 빔을 생성하는 레이저 소스를 포함하는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제22항에 있어서, 상기 제1 레이저 빔의 폭은 상기 제2 레이저빔의 폭보다는 작고, 상기 냉각유체빔의 폭은 상기 제1 레이저빔의 폭보다 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제22항에 있어서, 상기 제1 레이저 빔의 폭은 5mm 미만이고, 상기 제2 레이저 빔의 폭은 제1 레이저 빔의 폭보다 크고 20mm보다는 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단 장치.
- 제22항에 있어서, 상기 냉각 유체와 상기 제1 레이저 빔 사이의 거리가 0보다 큰 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제27항에 있어서, 상기 냉각 유체빔과 상기 제1 레이저 빔의 거리는 25mm이하인 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제22항에 있어서, 상기 냉각 유체와 상기 제1 레이저 빔 사이의 거리가 0보다 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제22항에 있어서, 상기 냉각 유체와 상기 제1 레이저 빔 사이의 거리가 0인 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제22항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔의 깊이는 상기 제1 레이저 빔의 깊이보다 작은 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
- 제22항에 있어서, 상기 제2 레이저 빔은 타원형이나 원형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 비금속 기판의 절단장치.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020000062131A KR100673073B1 (ko) | 2000-10-21 | 2000-10-21 | 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치 |
TW090103968A TWI251519B (en) | 2000-10-21 | 2001-02-21 | Method and apparatus for cutting a non-metal substrate by using a laser beam |
JP2001084508A JP3787073B2 (ja) | 2000-10-21 | 2001-03-23 | レーザビームを利用した非メタル基板の切断方法及び装置 |
CNB011121505A CN1196562C (zh) | 2000-10-21 | 2001-03-30 | 用激光束切割非金属衬底的方法和装置 |
US09/978,040 US6541730B2 (en) | 2000-10-21 | 2001-10-17 | Method and apparatus for cutting a non-metal substrate by using a laser beam |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020000062131A KR100673073B1 (ko) | 2000-10-21 | 2000-10-21 | 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20020031573A KR20020031573A (ko) | 2002-05-02 |
KR100673073B1 true KR100673073B1 (ko) | 2007-01-22 |
Family
ID=19694742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020000062131A KR100673073B1 (ko) | 2000-10-21 | 2000-10-21 | 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6541730B2 (ko) |
JP (1) | JP3787073B2 (ko) |
KR (1) | KR100673073B1 (ko) |
CN (1) | CN1196562C (ko) |
TW (1) | TWI251519B (ko) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101262923B1 (ko) | 2010-08-17 | 2013-05-09 | 주식회사 이오테크닉스 | 레이저를 이용한 스크라이빙 방법 및 스크라이빙 장치 |
KR20160101103A (ko) * | 2013-12-17 | 2016-08-24 | 코닝 인코포레이티드 | 슬롯 및 구멍의 레이저 가공 |
US11775020B2 (en) | 2020-04-27 | 2023-10-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
Families Citing this family (94)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100701013B1 (ko) * | 2001-05-21 | 2007-03-29 | 삼성전자주식회사 | 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단방법 및 장치 |
JP4133812B2 (ja) * | 2001-07-18 | 2008-08-13 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 脆性材料基板のスクライブ装置およびスクライブ方法 |
SG139508A1 (en) * | 2001-09-10 | 2008-02-29 | Micron Technology Inc | Wafer dicing device and method |
TW568809B (en) * | 2001-09-21 | 2004-01-01 | Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd | Method for scribing substrate of brittle material and scriber |
KR100794284B1 (ko) * | 2001-09-29 | 2008-01-11 | 삼성전자주식회사 | 비금속 기판 절단 방법 |
SG102639A1 (en) * | 2001-10-08 | 2004-03-26 | Micron Technology Inc | Apparatus and method for packing circuits |
JP4408607B2 (ja) * | 2002-06-11 | 2010-02-03 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | スクライブ方法及びスクライブ装置 |
SG142115A1 (en) | 2002-06-14 | 2008-05-28 | Micron Technology Inc | Wafer level packaging |
AU2003246209A1 (en) * | 2002-07-01 | 2004-01-19 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Device and method for scribing substrate of brittle material |
TWI277612B (en) * | 2002-08-09 | 2007-04-01 | Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd | Method and device for scribing fragile material substrate |
US7838795B2 (en) * | 2002-08-21 | 2010-11-23 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | Method of breaking a brittle substrate |
CN100528507C (zh) * | 2002-11-06 | 2009-08-19 | 三星钻石工业股份有限公司 | 划线形成设备和划线形成方法 |
US6972391B2 (en) * | 2002-11-21 | 2005-12-06 | Hadco Santa Clara, Inc. | Laser trimming of annular passive components |
JP4337059B2 (ja) * | 2003-03-21 | 2009-09-30 | ローツェ システムズ コーポレーション | ガラス板切断装置 |
SG119185A1 (en) | 2003-05-06 | 2006-02-28 | Micron Technology Inc | Method for packaging circuits and packaged circuits |
JP2005252196A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
DE102004012402B3 (de) * | 2004-03-13 | 2005-08-25 | Schott Ag | Verfahren zum Freiformschneiden von gewölbten Substraten aus sprödbrüchigem Material |
JP4440036B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2010-03-24 | 株式会社ディスコ | レーザー加工方法 |
CN1323817C (zh) * | 2004-12-22 | 2007-07-04 | 孙春雨 | 一种能控制切割深度的刀轮 |
US20070039990A1 (en) * | 2005-05-06 | 2007-02-22 | Kemmerer Marvin W | Impact induced crack propagation in a brittle material |
JP2007067082A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの穿孔方法 |
CN100482398C (zh) * | 2005-09-30 | 2009-04-29 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 激光切割装置与方法 |
KR100737705B1 (ko) * | 2005-10-28 | 2007-07-10 | 케이 이엔지(주) | 야그 레이저를 이용한 액정 패널의 초기 크랙 형성 장치 및 이를 이용한 액정 패널의 제조 방법 |
US20070138228A1 (en) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Brown James W | Method and apparatus for finishing a glass sheet |
KR100972488B1 (ko) * | 2005-12-29 | 2010-07-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 레이저를 이용한 액정표시소자 절단장치 및 절단방법, 이를이용한 액정표시소자 제조방법 |
JP4851795B2 (ja) * | 2006-01-13 | 2012-01-11 | 株式会社ディスコ | ウエーハの分割装置 |
KR100722961B1 (ko) * | 2006-04-05 | 2007-05-30 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 기판 절단 장치 |
CN101121220A (zh) * | 2006-08-11 | 2008-02-13 | 富士迈半导体精密工业(上海)有限公司 | 脆性材料基板切割方法 |
US20080041833A1 (en) * | 2006-08-21 | 2008-02-21 | Nicholas Dominic Cavallaro | Thermal tensioning during thermal edge finishing |
TWI298280B (en) * | 2006-09-06 | 2008-07-01 | Nat Applied Res Laboratories | Method for cutting non-metal material |
JP2008183599A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-08-14 | Japan Steel Works Ltd:The | 高脆性非金属材料製の被加工物の加工方法及びその装置 |
JP2008246808A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Japan Steel Works Ltd:The | 高脆性非金属材料製の被加工物の加工方法及びその装置 |
US7971012B2 (en) * | 2007-05-15 | 2011-06-28 | Pitney Bowes Inc. | Mail processing computer automatic recovery system and method |
US7982162B2 (en) * | 2007-05-15 | 2011-07-19 | Corning Incorporated | Method and apparatus for scoring and separating a brittle material with a single beam of radiation |
TWI341242B (en) * | 2007-07-31 | 2011-05-01 | Nat Applied Res Laboratories | Device for cutting brittle material |
JP5060880B2 (ja) * | 2007-09-11 | 2012-10-31 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 脆性材料基板の分断装置および分断方法 |
JP5345334B2 (ja) * | 2008-04-08 | 2013-11-20 | 株式会社レミ | 脆性材料の熱応力割断方法 |
US8051679B2 (en) * | 2008-09-29 | 2011-11-08 | Corning Incorporated | Laser separation of glass sheets |
CN102203943B (zh) * | 2008-10-29 | 2013-07-31 | 欧瑞康太阳能股份公司(特吕巴赫) | 通过多激光束照射将在基板上形成的半导体膜划分成多个区域的方法 |
US9302346B2 (en) * | 2009-03-20 | 2016-04-05 | Corning, Incorporated | Precision laser scoring |
US8622625B2 (en) * | 2009-05-29 | 2014-01-07 | Corning Incorporated | Fiber end face void closing method, a connectorized optical fiber assembly, and method of forming same |
JP2012016735A (ja) * | 2010-07-09 | 2012-01-26 | Mitsubishi Materials Corp | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 |
TWI576320B (zh) | 2010-10-29 | 2017-04-01 | 康寧公司 | 用於裁切玻璃帶之方法與設備 |
WO2012075097A1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | Corning Incorporated | Methods for separating a sheet of brittle material |
CN102627396A (zh) * | 2011-06-14 | 2012-08-08 | 胡伟 | 一种玻璃/陶瓷深加工成型方法及成型设备 |
US8635887B2 (en) * | 2011-08-10 | 2014-01-28 | Corning Incorporated | Methods for separating glass substrate sheets by laser-formed grooves |
JP5887929B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2016-03-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 被加工物の分断方法および光学素子パターン付き基板の分断方法 |
JP5887928B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2016-03-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 被加工物の分断方法および光学素子パターン付き基板の分断方法 |
JP5887927B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2016-03-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 分断装置 |
WO2014079478A1 (en) | 2012-11-20 | 2014-05-30 | Light In Light Srl | High speed laser processing of transparent materials |
EP2754524B1 (de) | 2013-01-15 | 2015-11-25 | Corning Laser Technologies GmbH | Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie |
US9701564B2 (en) | 2013-01-15 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Systems and methods of glass cutting by inducing pulsed laser perforations into glass articles |
EP2781296B1 (de) | 2013-03-21 | 2020-10-21 | Corning Laser Technologies GmbH | Vorrichtung und verfahren zum ausschneiden von konturen aus flächigen substraten mittels laser |
US10442719B2 (en) | 2013-12-17 | 2019-10-15 | Corning Incorporated | Edge chamfering methods |
US9676167B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-06-13 | Corning Incorporated | Laser processing of sapphire substrate and related applications |
US9517963B2 (en) | 2013-12-17 | 2016-12-13 | Corning Incorporated | Method for rapid laser drilling of holes in glass and products made therefrom |
US11556039B2 (en) | 2013-12-17 | 2023-01-17 | Corning Incorporated | Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same |
US9701563B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Laser cut composite glass article and method of cutting |
US9815730B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-11-14 | Corning Incorporated | Processing 3D shaped transparent brittle substrate |
US9687936B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-06-27 | Corning Incorporated | Transparent material cutting with ultrafast laser and beam optics |
US9850160B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-12-26 | Corning Incorporated | Laser cutting of display glass compositions |
WO2016007572A1 (en) | 2014-07-08 | 2016-01-14 | Corning Incorporated | Methods and apparatuses for laser processing materials |
CN208586209U (zh) | 2014-07-14 | 2019-03-08 | 康宁股份有限公司 | 一种用于在工件中形成限定轮廓的多个缺陷的系统 |
LT3169477T (lt) | 2014-07-14 | 2020-05-25 | Corning Incorporated | Skaidrių medžiagų apdorojimo sistema ir būdas, naudojant lazerio pluošto židinio linijas, kurių ilgis ir skersmuo yra reguliuojami |
CN107073641B (zh) | 2014-07-14 | 2020-11-10 | 康宁股份有限公司 | 接口块;用于使用这种接口块切割在波长范围内透明的衬底的系统和方法 |
EP3169479B1 (en) | 2014-07-14 | 2019-10-02 | Corning Incorporated | Method of and system for arresting incident crack propagation in a transparent material |
US9617180B2 (en) | 2014-07-14 | 2017-04-11 | Corning Incorporated | Methods and apparatuses for fabricating glass articles |
DE102014213775B4 (de) * | 2014-07-15 | 2018-02-15 | Innolas Solutions Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen, kristallinen Substraten, insbesondere von Halbleitersubstraten |
US10047001B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-08-14 | Corning Incorporated | Glass cutting systems and methods using non-diffracting laser beams |
EP3708548A1 (en) | 2015-01-12 | 2020-09-16 | Corning Incorporated | Laser cutting of thermally tempered substrates using the multiphoton absorption method |
WO2016154284A1 (en) | 2015-03-24 | 2016-09-29 | Corning Incorporated | Laser cutting and processing of display glass compositions |
GB201505042D0 (en) * | 2015-03-25 | 2015-05-06 | Nat Univ Ireland | Methods and apparatus for cutting a substrate |
WO2016160391A1 (en) | 2015-03-27 | 2016-10-06 | Corning Incorporated | Gas permeable window and method of fabricating the same |
US11420894B2 (en) | 2015-04-24 | 2022-08-23 | Nanoplus Ltd. | Brittle object cutting apparatus and cutting method thereof |
US11186060B2 (en) | 2015-07-10 | 2021-11-30 | Corning Incorporated | Methods of continuous fabrication of holes in flexible substrate sheets and products relating to the same |
JP6172403B2 (ja) * | 2015-07-28 | 2017-08-02 | Jfeスチール株式会社 | 線状溝形成方法および線状溝形成装置 |
JP6124425B1 (ja) * | 2015-10-26 | 2017-05-10 | 株式会社日本製鋼所 | レーザ処理装置整流装置およびレーザ処理装置 |
CN109311725B (zh) | 2016-05-06 | 2022-04-26 | 康宁股份有限公司 | 从透明基材激光切割及移除轮廓形状 |
US10410883B2 (en) | 2016-06-01 | 2019-09-10 | Corning Incorporated | Articles and methods of forming vias in substrates |
US10794679B2 (en) | 2016-06-29 | 2020-10-06 | Corning Incorporated | Method and system for measuring geometric parameters of through holes |
EP3490945B1 (en) | 2016-07-29 | 2020-10-14 | Corning Incorporated | Methods for laser processing |
US10522963B2 (en) | 2016-08-30 | 2019-12-31 | Corning Incorporated | Laser cutting of materials with intensity mapping optical system |
WO2018064409A1 (en) | 2016-09-30 | 2018-04-05 | Corning Incorporated | Apparatuses and methods for laser processing transparent workpieces using non-axisymmetric beam spots |
EP3848333A1 (en) | 2016-10-24 | 2021-07-14 | Corning Incorporated | Substrate processing station for laser-based machining of sheet-like glass substrates |
US10752534B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-08-25 | Corning Incorporated | Apparatuses and methods for laser processing laminate workpiece stacks |
US10688599B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-06-23 | Corning Incorporated | Apparatus and methods for laser processing transparent workpieces using phase shifted focal lines |
US11078112B2 (en) | 2017-05-25 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same |
US10580725B2 (en) | 2017-05-25 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same |
US10626040B2 (en) | 2017-06-15 | 2020-04-21 | Corning Incorporated | Articles capable of individual singulation |
KR102582734B1 (ko) * | 2017-09-27 | 2023-09-27 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 기판 절단 장치 |
US11554984B2 (en) | 2018-02-22 | 2023-01-17 | Corning Incorporated | Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness |
CN109732223A (zh) * | 2019-01-30 | 2019-05-10 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 晶圆片切割的装置 |
CN110625267A (zh) * | 2019-08-22 | 2019-12-31 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 一种加工蓝宝石衬底led晶圆的方法及激光装置 |
CN111299866B (zh) * | 2020-05-15 | 2020-09-08 | 佛山市联动科技股份有限公司 | 晶圆片的激光全切割方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07323382A (ja) * | 1994-06-02 | 1995-12-12 | Souei Tsusho Kk | 割断加工方法 |
US5609284A (en) * | 1992-04-02 | 1997-03-11 | Fonon Technology Limited | Method of splitting non-metallic materials |
JP2000233936A (ja) * | 1999-02-10 | 2000-08-29 | Mitsuboshi Diamond Kogyo Kk | ガラス切断装置 |
KR100300417B1 (ko) * | 1999-01-18 | 2001-09-22 | 김순택 | 투명도전막이 형성된 유리의 절단장치 |
KR100300418B1 (ko) * | 1999-01-18 | 2001-09-22 | 김순택 | 비금속 재료의 절단방법 및 그 장치 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5290274A (en) * | 1992-06-16 | 1994-03-01 | Laser Medical Technology, Inc. | Laser apparatus for medical and dental treatments |
-
2000
- 2000-10-21 KR KR1020000062131A patent/KR100673073B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2001
- 2001-02-21 TW TW090103968A patent/TWI251519B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-03-23 JP JP2001084508A patent/JP3787073B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-30 CN CNB011121505A patent/CN1196562C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-10-17 US US09/978,040 patent/US6541730B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5609284A (en) * | 1992-04-02 | 1997-03-11 | Fonon Technology Limited | Method of splitting non-metallic materials |
JPH07323382A (ja) * | 1994-06-02 | 1995-12-12 | Souei Tsusho Kk | 割断加工方法 |
KR100300417B1 (ko) * | 1999-01-18 | 2001-09-22 | 김순택 | 투명도전막이 형성된 유리의 절단장치 |
KR100300418B1 (ko) * | 1999-01-18 | 2001-09-22 | 김순택 | 비금속 재료의 절단방법 및 그 장치 |
JP2000233936A (ja) * | 1999-02-10 | 2000-08-29 | Mitsuboshi Diamond Kogyo Kk | ガラス切断装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101262923B1 (ko) | 2010-08-17 | 2013-05-09 | 주식회사 이오테크닉스 | 레이저를 이용한 스크라이빙 방법 및 스크라이빙 장치 |
KR20160101103A (ko) * | 2013-12-17 | 2016-08-24 | 코닝 인코포레이티드 | 슬롯 및 구멍의 레이저 가공 |
KR102270486B1 (ko) | 2013-12-17 | 2021-06-29 | 코닝 인코포레이티드 | 슬롯 및 구멍의 레이저 가공 |
US11775020B2 (en) | 2020-04-27 | 2023-10-03 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3787073B2 (ja) | 2006-06-21 |
CN1349875A (zh) | 2002-05-22 |
JP2002144067A (ja) | 2002-05-21 |
KR20020031573A (ko) | 2002-05-02 |
TWI251519B (en) | 2006-03-21 |
CN1196562C (zh) | 2005-04-13 |
US6541730B2 (en) | 2003-04-01 |
US20020046997A1 (en) | 2002-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100673073B1 (ko) | 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치 | |
KR100701013B1 (ko) | 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단방법 및 장치 | |
JP4394354B2 (ja) | 非金属基板の切断方法及び装置 | |
JP7190631B2 (ja) | マルチビームフェムト秒レーザによって材料を切断する方法及び器具 | |
JP2019064916A (ja) | 透明及び半透明な基板をレーザ切断する方法及び装置 | |
TWI653115B (zh) | 於透明材料內部施行雷射絲化之方法 | |
US6713720B2 (en) | Method for cutting a non-metallic substrate | |
JP5837300B2 (ja) | 単一放射線ビームによる脆性材料のスコアリングおよび分離方法および装置 | |
US20080035617A1 (en) | Method for processing brittle substrates without micro-cracks | |
JP2009248160A (ja) | 脆性材料の熱応力割断方法 | |
JP2011000605A (ja) | 脆性材料基板の割断方法 | |
JP2004035315A (ja) | 脆性材料基板の分断方法および脆性材料基板分断装置 | |
KR100659931B1 (ko) | 레이저를 이용한 기판 절단 장치 및 그 방법 | |
KR100371103B1 (ko) | 비금속 기판 절단 장치 및 그 절단 방법 | |
JPH06326337A (ja) | レーザ加工装置 | |
KR100631304B1 (ko) | 레이저 빔을 이용한 유리기판 절단 장치 및 그 방법 | |
KR100822198B1 (ko) | 비금속 재료의 절단 장치 및 절단 방법 | |
KR20230020545A (ko) | 투명 작업편의 고각 레이저 처리를 위한 위상-변형 준-비-회절 레이저 빔 | |
JP2001212683A (ja) | 脆性材料の割断装置、脆性材料の割断方法および液晶表示装置の製造方法 | |
JPH08276398A (ja) | 基板分割方法及び基板分割装置 | |
JP2009262408A (ja) | 脆性材料基板のスクライブ方法および装置 | |
KR100400059B1 (ko) | 비금속 기판 절단 장치 및 그 절단 방법 | |
JP2011159827A (ja) | 透明基板の改質領域形成方法 | |
RU2238918C2 (ru) | Способ резки хрупких неметаллических материалов | |
JP2000167680A (ja) | 非金属材料の加工方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130115 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140102 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141231 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151230 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170102 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180102 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |