KR102532280B1 - 전기변색 코팅 유리 제품 및 이를 레이저 처리하기 위한 방법 - Google Patents

Abstract

본원에는 적어도 하나의 표면 상에 전기변색 층으로 코팅되고 레이저 손상의 최소 영역을 포함하는 유리 제품, 및 그와 같은 유리 제품을 레이저 처리하기 위한 방법이 개시된다. 또한, 그와 같은 코팅된 유리 제품을 포함하는 절연 유리 유닛이 본원에 개시된다.

Description

전기변색 코팅 유리 제품 및 이를 레이저 처리하기 위한 방법

본 출원은 2016년 10월 7일 출원된 미국 출원 제15/288,071호를 우선권 주장하고 있으며, 상기 특허 문헌의 내용은 참조를 위해 본 발명에 모두 포함된다.

본 개시는 일반적으로 전기변색(electrochromic) 코팅 유리 제품에 관한 것이며, 특히 그와 같은 제품을 레이저 처리하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 개시는 또한 전기변색 층으로 코팅된 유리 기판을 포함하는 절연된 유리 유닛에 관한 것이다.

전기변색 필름으로 코팅된 유리 기판은 건축 및 자동차 애플리케이션을 포함하는 다양한 애플리케이션에 유용할 수 있다. 예를 들어, 실내 또는 차량에서 광 강도 및/또는 광 흡수를 변화시키는데 사용될 수 있다. 절연 유리 유닛(IGU)은 IGU의 에너지 등급을 향상시키기 위해 아르곤과 같은 절연 가스로 채워질 수 있는 유리 시트들 간 공동을 형성하는 둘레 시일(seal)이 있는 2개의 유리 시트로 구성될 수 있다. 특정 애플리케이션에서, IGU의 유리 시트들 중 하나는 전기변색 층으로 코팅될 수 있다. 그와 같은 코팅된 IGU는 전기변색 층, 예컨대 버스 바에 전압을 인가하기 위한 하나 이상의 구성 요소를 추가로 포함할 수 있으며, 이에 따라 IGU에 의한 다양한 파장 및/또는 열의 전달을 낮추는 착색 효과를 제공할 수 있다.

전기변색 층을 포함하는 IGU 또는 임의의 다른 유리 제품의 제조 중에, 절단 및 연마 단계 동안 생성된 수분 및 입자에 대한 이들 필름의 감도로 인해, 전기변색 층은 절단 및 연마 단계 후에 유리에 도포될 수 있다. 예를 들어, 연마 공정 중에 사용되는 수성 냉각제에 전기변색 필름을 노출시키면, 그 필름의 블리스터링(blistering) 및/또는 파손을 초래할 수 있으며, 이에 의해 그 기능 및/또는 미적 품질을 저해할 수 있다. 그와 같이, 통상적인 IGU 생산의 경우, 대형 유리 기판을 전기변색 필름으로 코팅한 다음 그 코팅된 기판을 소정 크기로 절단("코팅-앤드-절단(coat-and-cut)")하는 대신, 유리 시트를 원하는 IGU 형태 및 크기로 먼저 절단한 다음 전기변색 필름으로 코팅("절단-앤드-코팅(cut-and-coat")하는 경우가 종종 있다.

그러나, 절단-앤드-코팅 공정은 픽스쳐링(fixturing)으로 인해 전기변색 층으로 코팅되지 않거나 균일하게 코팅되지 않은 상당한 영역을 갖는 유리 기판을 초래할 수 있다. 예를 들어, 코팅 장치에서 유리 기판을 제 위치에 위치시켜 유지하기 위한 구성 요소는 유리 기판을 에지-투-에지(edge-to-edge)로 코팅하는 능력을 방해할 수 있다. 추가로, 그러한 픽스쳐링이 각각의 유리 기판 형태 및/또는 크기에 특정되고 상이한 유리 형태 및/또는 크기를 수용하도록 조정되어야 하기 때문에, 코팅-앤드-절단 공정은 제조 유연성을 감소시킬 수 있다. 반대로, 코팅-앤드-절단 공정은 대형 유리 기판에 대한 단일의 표준 픽스쳐링을 구현할 수 있으며, 이후 유리 기판은 적절한 크기로 절단(코팅-앤드-절단)될 수 있다.

따라서, 전기변색 필름을 실질적으로 손상시키지 않고 그리고/또 코팅되지 않은 또는 불균일하게 코팅된 영역을 포함하는 유리 기판을 초래하지 않는 전기변색 필름으로 코팅된 유리 기판을 제조하기 위한 방법을 제공하는 것이 유리할 것이다. 추가로, 증가된 제조 유연성 및/또는 감소된 제조 비용을 제시할 수 있는, 예컨대 일반적인 형태 및/또는 크기를 갖는 유리 기판을 코팅하고 이후 원하는 애플리케이션을 위해 특정 형태 및/또는 크기로 유리를 절단하는데 사용될 수 있는 그와 같은 전기변색 코팅 유리 제품을 제조하기 위한 방법을 제공하는 것이 유리할 것이다.

본 개시는 다양한 실시예들에서 제1표면, 대향하는 제2표면, 및 상기 제2표면의 적어도 일부에 배치된 전기변색 코팅을 포함하는 유리 제품에 관한 것이며, 여기서 상기 유리 제품에 전압의 인가에 따라, 유리 기판의 코팅부의 제1영역은 상기 코팅부의 제2영역의 제2가시광 전송보다 적은 제1가시광 전송을 갖는다. 일부의 실시예들에 따르면, 상기 제1영역은 전압의 인가에 따라 착색되고 상기 제2영역은 착색되지 않는다. 다양한 실시예들에서, 상기 제1 및 제2영역은 다수의 결함 스폿(spot) 및 라인을 포함하는 윤곽(contour)에 의해 분리될 수 있다. 일부의 실시예들에서, 상기 결함 라인은 제1 또는 제2표면에 대해 직각으로 보았을 때 선형이거나 곡선일 수 있다. 추가의 실시예들에 따르면, 제1 및/또는 제2영역은 제1 또는 제2표면에 대해 직각으로 보았을 때 유리 제품 상의 패턴을 포함할 수 있다.

본원에는 제1표면, 대향하는 제2표면, 및 실질적으로 상기 제2표면 전체에 배치된 전기변색 코팅을 포함하는 유리 제품이 더 개시되며, 여기서 상기 전기변색 코팅은 상기 유리 제품의 적어도 하나의 에지에 인접한 레이저 손상된 주변 영역을 포함하고, 상기 레이저 손상된 주변 영역은 약 10 mm, 1 mm, 또는 0.1 mm 미만의 폭을 갖는다. 그와 같은 유리 제품을 포함하는 절연 유리 유닛이 본원에 더 개시된다.

관점 (1)에서, 본 개시는 제1표면, 대향하는 제2표면, 및 하나 이상의 에지를 포함하는 유리 기판, 여기서 상기 하나 이상의 에지 중 적어도 하나 이상은 레이저-수정된 에지를 포함함; 및 상기 제2표면의 적어도 일부에 배치되고, 윤곽을 각각 갖는 적어도 2개의 전기적 불연속 영역을 포함하는 전기변색 코팅을 포함하는 전기변색 유리 제품을 제공하며, 상기 2개의 전기적 불연속 영역은 약 0.1 μm 내지 약 25 μm의 폭을 갖는 레이저-수정된 불연속 라인에 의해 분리된다. 관점 (2)에서, 본 개시는 관점 (1)의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 상기 전기변색 코팅은 산화 텅스텐을 포함한다. 관점 (3)에서, 본 개시는 관점 (1) 또는 (2)의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 상기 전기적 불연속 영역은 실질적으로 레이저 손상되지 않는다. 관점 (4)에서, 본 개시는 관점 (1) 내지 (3) 중 어느 한 관점의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 레이저-수정된 불연속 라인에 인접한 유리 기판의 제2표면은 실질적으로 레이저 손상되지 않는다. 관점 (5)에서, 본 개시는 관점 (4)의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 상기 적어도 2개의 전기적 불연속 영역의 적어도 하나의 윤곽은 비선형이다. 관점 (6)에서, 본 개시는 관점 (1) 내지 (5) 중 어느 한 관점의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 레이저 절단 불연속부는 FWHM에서 10^-10 내지 10^-15초의 펄스 폭을 갖는 레이저에 의해 형성된 연속 라인이다. 관점 (7)에서, 본 개시는 관점 (1) 내지 (6) 중 어느 한 관점의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 제2영역은 제1영역의 패턴을 포함하거나 또는 제1영역은 제2영역의 패턴을 포함한다. 관점 (8)에서, 본 개시는 관점 (1) 내지 (7) 중 어느 한 관점의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 유리 제품은 약 0.1 mm 내지 약 10 mm 범위의 두께를 갖는 유리 시트를 포함한다. 관점 (9)에서, 본 개시는 관점 (1) 내지 (8) 중 어느 한 관점의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 적어도 2개의 전기적 불연속 영역 중 하나는 유리 기판의 하나 이상의 에지에 인접한 제2표면의 영역을 포함한다. 관점 (10)에서, 본 개시는 관점 (9)의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 유리 기판의 하나 이상의 에지에 인접한 전기적 불연속 영역은 약 0.1 mm 미만의 폭을 갖는다. 관점 (11)에서, 본 개시는 관점 (9)의 전기변색 유리 제품을 제공하며, 유리 기판의 하나 이상의 에지에 인접한 전기적 불연속 영역은 유리 제품의 코팅부의 약 5% 이하를 포함한다.

관점 (12)에서, 본 개시는 제1표면, 대향하는 제2표면, 및 실질적으로 상기 제2표면 전체에 배치된 전기변색 코팅을 포함하는 유리 제품을 제공하며, 여기서 상기 전기변색 코팅은 유리 제품의 적어도 하나의 에지에 인접한 레이저 손상된 주변 영역을 포함하고, 상기 레이저 손상된 주변 영역은 약 0.1 mm 미만의 폭을 갖는다. 관점 (13)에서, 본 개시는 관점 (12)의 유리 제품을 제공하며, 상기 레이저 손상된 주변 영역은 유리 제품의 제2표면의 약 5% 이하를 포함한다. 관점 (14)에서, 본 개시는 관점 (12) 또는 (13)의 유리 제품을 제공하며, 적어도 하나의 에지는 선형 또는 곡선 윤곽을 갖는다. 관점 (15)에서, 본 개시는 관점 (12) 내지 (14) 중 어느 한 관점의 유리 제품을 제공하며, 상기 유리 제품은 약 0.1 mm 내지 약 10 mm 범위의 두께를 갖는 유리 시트를 포함한다. 관점 (16)에서, 본 개시는 관점 (12) 내지 (15) 중 어느 한 관점의 유리 제품을 제공하며, 제2표면의 코팅부는 제1영역 및 제2영역을 포함하고, 유리 제품에 전압의 인가에 따라, 상기 제1영역은 상기 제2영역의 제2가시광 전송보다 적은 제1가시광 전송을 갖는다. 관점 (17)에서, 본 개시는 관점 (16)의 유리 제품을 제공하며, 제1 및 제2영역은 하나 이상의 레이저 라인을 포함하는 불연속 라인에 의해 분리된다. 관점 (18)에서, 본 개시는 관점 (17)의 유리 제품을 제공하며, 여기서 그 윤곽은 선형 또는 곡선이다.

관점 (19)에서, 본 개시는 관점 (1) 내지 (11) 중 어느 한 관점의 전기변색 유리 제품을 포함하는 절연 유리 유닛을 제공한다.

관점 (20)에서, 본 개시는 관점 (12) 내지 (18) 중 어느 한 관점의 유리 제품을 포함하는 절연 유리 유닛을 제공한다.

본 개시의 추가의 특징 및 이점은 이하의 상세한 설명에서 설명될 것이고, 부분적으로는 그 설명으로부터 당업자에게 명백할 것이고, 또는 이하의 상세한 설명, 청구범위 및 첨부 도면을 포함한 본원에 기술된 방법들을 실시함으로써 인식될 것이다.

상술한 일반적인 설명 및 다음의 상세한 설명은 모두 본 개시의 다양한 실시 예를 제시하고 청구범위의 성질 및 특성을 이해하기 위한 개관 또는 기초를 제공하기 위한 것이다. 첨부 도면은 본 발명을 더 잘 이해할 수 있게 하기 위해 포함되며, 본 명세서에 통합되어 본 명세서의 일부를 구성한다. 도면은 본 개시의 다양한 실시예를 도시하고 상세한 설명과 함께 본 개시의 원리 및 동작을 설명하는 역할을 한다.

본 발명은 전기변색 코팅 유리 제품 및 이를 레이저 처리하기 위한 방법을 제공할 수 있다.

다음의 상세한 설명은 가능하다면 동일한 도면 참조부호가 동일한 구성 요소를 지칭하는 다음의 도면과 연관지어 읽혀질 때 더 잘 이해될 수 있으며, 첨부된 도면은 반드시 일정한 비율로 도시된 것은 아니라는 것을 이해해야 한다.
도 1a-b는 다수의 결함 라인을 포함하는 윤곽을 갖는 유리 기판을 나타내고;
도 2a-b는 초점 라인을 따라 유리 기판에 흡수를 유도하기 위해 레이저 빔 초점 라인의 위치맞춤을 나타내고;
도 3은 본 개시의 다양한 실시예들에 따른 레이저 빔 초점 라인에 레이저 빔을 포커싱하기 위한 광학 어셈블리을 나타내며;
도 4a-c는 본 개시의 특정 실시예들에 따른 전기변색 코팅 및 비코팅 영역을 포함하는 유리 기판을 나타낸다.

방법

본원에 개시된 유리 제품은 유리 상에 코팅된 전기변색 층의 결함 또는 불연속성을 유도하는 하나 이상의 방법과 선택적으로 조합하여 재료를 드릴링하고, 절단하고, 분리하고, 천공하고, 또는 달리 처리하는 목적으로 유리 내에 작은(예컨대, 100, 10, 또는 1 미크론 또는 더 작은) "구멍"을 생성하기 위한 하나 이상의 방법을 사용하여 제조될 수 있다. 소정 실시예들에서, 초단(즉, 10^-10 내지 10^-15초 FWHM의 펄스 폭, 예컨대 나노초 내지 펨토초) 펄스 레이저 빔(예를 들어, 1064, 532, 355 또는 266 nm와 같은 파장에서 작동하는)은 유리 표면 또는 내부의 초점 영역에 결함이 생성될 수 있는 임계치 이상의 에너지 밀도로 포커싱될 수 있다. 그러한 공정을 반복함으로써, 미리 정해진 경로 또는 윤곽을 따라 정렬된 일련의 레이저-유도 결함이 생성될 수 있다. 일부의 실시예들에서, 레이저-유도 결함 라인들은 유리 내에서 기계적 약점의 제어된 영역이 생성될 수 있고 선택적으로 규정된 윤곽을 따라 재료를 균열시키거나 분리(기계적으로 또는 열적으로)하는데 사용될 수 있도록 서로 충분히 근접하게 이격될 수 있다. 예를 들어, 초단 펄스 레이저와 접촉한 후, 유리를 하나 이상의 부분으로 분리하기 위해, 제2레이저 빔, 예컨대 이산화탄소(CO₂) 레이저와 같은 적외선 레이저 또는 열 응력의 다른 소스와 접촉할 수 있다.

다양한 실시예들에 따르면, 원하는 형태를 형성하기 위해 기판이 분리될 수 있는 최소 저항의 윤곽 또는 경로의 윤곽을 그릴 수 있는, 유리 기판 내에 하나 이상의 수직 결함 또는 결함 스폿, 일련의 스폿, 또는 라인이 생성될 수 있으며, 상기 윤곽은 유리 기판의 제1표면에서 대향하는 제2표면까지 확장되는 다수의 결함 라인 또는 영역을 포함한다. 처리될 기판은 기판 두께의 전부 또는 일부를 관통하는 높은 종횡비 초점 라인으로 응축될 수 있는 초단 펄스 레이저 빔(예컨대, 펄스 폭 ＜ 100 psec; 파장 ≤ 1064 nm)으로 조사될 수 있다.

이러한 높은 에너지 밀도의 볼륨 내에서, 기판은 높은 광 강도에 의해 트리거될 수 있는 비선형 효과를 통해 변형될 수 있다. 이러한 강도 임계치 이하에서는, 기판은 레이저 방사선에 투명할 수 있고, 결함 라인들을 생성하도록 변형되지 않을 수 있다. 본원에 사용한 바와 같이, 기판의 흡수가 레이저의 파장에서 기판 깊이의 mm 당 약 10% 미만, 예컨대 약 5% 미만, 또는 약 1% 미만일 때 기판은 레이저 파장에 대해 "실질적으로 투명"하다. 원하는 윤곽 또는 경로를 통해 레이저를 스캐닝함으로써, 하나 이상의 좁은 결함 라인이 기판에 생성될 수 있고, 그러한 윤곽은 유리 기판이 분리될 수 있는 둘레 또는 형태 및/또는 코팅된 기판의 착색 또는 비착색 영역을 규정할 수 있다.

초단 펄스 레이저는 유리와 같은 실질적으로 투명한 재료에서 다중-광자 흡수(MPA)를 생성할 수 있다. MPA는 하나의 상태, 일반적으로 기저 상태에서 높은 에너지 전자 상태로 분자를 여기시키기 위해 동일하거나 다른 주파수의 2개 이상의 광자를 동시에 흡수하는 것이다. 분자의 관련된 하위 및 상위 상태 간 에너지 차이는 2개의 광자의 에너지의 합과 동일하다. 유도 흡수라고도 불리는 MPA는, 예컨대 선형 흡수보다 몇 배 더 약한 2차 또는 3차 프로세스일 수 있다. 이는, 예를 들어 유도 흡수의 강도가 광 강도의 제곱에 비례할 수 있으며, 따라서 비선형 광학 프로세스라는 점에서 선형 흡수와 다르다.

펄스 레이저 빔은 기판이 실질적으로 투명한 파장들, 예를 들어 532, 355, 또는 266 nm와 같이 약 1064 nm 이하의 파장(이들 사이의 모든 범위 및 하위 범위 포함)들로부터 선택된 파장을 가질 수 있다. 펄스 레이저에 대한 예시의 파워 레벨은, 일부의 실시예들에서, 약 25 W 내지 약 125 W, 또는 약 50 W 내지 약 100 W와 같은 약 10 W 내지 약 150 W의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 그러한 펄스 레이저 빔은 10 나노초보다 작은, 예컨대 약 100 피코초의 펄스 지속시간을 가질 수 있다. 일부의 실시예들에서, 상기 펄스 레이저 빔은 약 1 피코초 초과 내지 100 피코초 미만의 범위, 예컨대 약 5 피코초 내지 약 50 피코초, 약 10 피코초 내지 약 30 피코초, 또는 약 15 피코초 내지 약 20 피코초 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 펄스 지속시간을 갖는다. 추가의 실시예들에서, 펄스 레이저 빔의 펄스 반복률은 약 10 kHz 내지 약 650 kHz, 약 50 kHz 내지 약 500 kHz, 약 100 kHz 내지 약 400 kHz, 또는 약 200 kHz 내지 약 300 kHz와 같이 약 1 kHz 내지 약 4 MHz의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

상기 펄스 레이저 빔은, 일부의 실시예들에서 단일 펄스 모드, 또는 다른 실시예들에서 버스트 모드에서 동작할 수 있다. 후자의 실시예들에서, 펄스 버스트는, 예를 들어 버스트 당 3, 4, 5, 10, 15, 20, 25, 또는 그 이상(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 펄스와 같이 2개 이상의 펄스를 포함할 수 있다. 펄스 버스트의 개별 펄스들 간 지속시간은, 예를 들어 약 10 나노초 내지 약 30 나노초, 또는 약 20 나노초 내지 약 40 나노초와 같이 약 1 나노초 내지 약 50 나노초의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 특정 실시예들에서, 펄스 버스트들 간 지속시간은 약 5 마이크로초 내지 약 10 마이크로초와 같이 약 1 마이크로초 내지 약 20 마이크로초의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 따라서, 상기 펄스 레이저 빔의 펄스 반복 주파수는 약 20 kHz 내지 약 150 kHz, 또는 약 50 kHz 내지 약 100 kHz와 같이 약 1 kHz 내지 약 200 kHz의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

버스트 모드에서, 버스트 당 평균 레이저 파워는 약 100 μJ/버스트 내지 약 750 μJ/버스트, 약 200 μJ/버스트 내지 약 500 μJ/버스트, 또는 약 250 μJ/버스트 내지 약 400 μJ/버스트와 같이 약 50 μJ/버스트 내지 약 1000 μJ/버스트의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 추가의 실시예들에 따르면, 주어진 재료에 인가된 평균 레이저 파워는 재료의 mm 당 μJ/버스트로서 측정될 수 있으며, 예를 들어 약 40 μJ/버스트/mm 내지 약 2500 μJ/버스트/mm, 약 100 μJ/버스트/mm 내지 약 2000 μJ/버스트/mm, 약 250 μJ/버스트/mm 내지 약 1500 μJ/버스트/mm, 또는 약 500 μJ/버스트/mm 내지 약 1000 μJ/버스트/mm(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)와 같이 주어진 재료(예컨대, 유리)의 단위 두께(mm) 당 약 40 μJ/버스트보다 클 수 있다. 예를 들어, 0.1-0.2 mm 두께의 Corning Eagle XG^® 유리 기판은 1000-2000 μJ/버스트/mm의 예시적인 레이저 파워를 제공하기 위해 200 μJ/버스트 펄스 레이저를 사용하여 처리될 수 있다. 다른 비-한정 예에서, 0.5-0.7 mm 두께의 Corning Eagle XG^® 유리 기판은 570-1400 μJ/버스트/mm의 예시적인 레이저 파워를 제공하기 위해 400-700 μJ/버스트 펄스 레이저를 사용하여 처리될 수 있다.

비-한정 실시예들에 따르면, 유리 기판 및 펄스 레이저 빔은 서로에 대해 병진 이동될 수 있는데, 예컨대 유리 기판은 펄스 레이저 빔에 대해 병진 이동될 수 있고 그리고/또는 펄스 레이저 빔은 유리 기판에 대해 병진 이동되어 윤곽을 생성할 수 있다. 하나의 특정 실시예에서, 유리 기판은 병진 이동되고 펄스 레이저는 펄스 레이저가 자체적으로 병진 이동되는 동안 거기에 인가된다. 예를 들어, 롤-투-롤 공정에서, 유리 기판은 예컨대 수십 미터 또는 그 이상과 같이 매우 길 수 있으며, 레이저 처리 동안 실질적으로 연속으로 병진 이동될 수 있다. 레이저는 유리 기판에 하나 이상의 윤곽을 생성하기 위해 적절한 속도 및 적절한 벡터에 따라 병진 이동된다. 상기 기판 또는 레이저는 이러한 처리 중에 그들의 속도를 변경할 수 있다.

상기 윤곽은 이후의 분리 또는 이후의 전압 인가(예컨대, 착색)에 의해 생성될 형태의 둘레를 따르거나 규정할 수 있는 다수의 결함 라인을 포함할 수 있다. 그러한 병진 이동 또는 스캔 속도는, 예를 들어 레이저 파워 및/또는 반복률을 포함하는 다양한 레이저 처리 파라미터에 좌우될 수 있다. 예시의 병진 이동 또는 스캔 속도는, 예를 들어 약 100 mm/s 내지 약 4000 mm/s, 약 200 mm/s 내지 약 3000 mm/s, 약 300 mm/s 내지 약 2500 mm/s, 약 400 mm/s 내지 약 2000 mm/s, 또는 약 500 mm/s 내지 약 1000 m/s와 같이 약 1 mm/s 내지 약 5000 mm/s의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

펄스 레이저 빔의 반복률 및/또는 스캔 속도는 결함 라인들 간 원하는 주기(또는 피치)를 생성하기 위해 변경될 수 있다. 일부의 실시예들에서, 상기 결함 라인들은 약 1 ㎛ 내지 약 20 ㎛, 약 2 ㎛ 내지 약 15 ㎛, 약 3 ㎛ 내지 약 12 ㎛, 약 4 ㎛ 내지 약 10 ㎛, 또는 약 5 ㎛ 내지 약 8 ㎛와 같이 약 0.5 ㎛ 내지 약 25 ㎛의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)로 이격될 수 있다. 예를 들어, 300 mm/s의 선형 절단(또는 스캔) 속도에 대해, 결함 라인들 간 3 ㎛ 주기는 적어도 100 kHz의 버스트 반복률을 갖는 펄스 레이저에 대응한다. 유사하게, 600 mm/s의 스캔 속도에 대해, 결함 라인들 간 3 ㎛주기는 적어도 200 kHz의 버스트 반복률을 갖는 펄스 레이저에 대응한다.

추가로, 결함 라인들의 치수는, 예를 들어 레이저 빔 초점 라인의 길이 및/또는 레이저 빔 초점 라인의 평균 스폿 직경과 같은 레이저 포커싱 파라미터에 의해 영향을 받을 수 있다. 펄스 레이저는, 예를 들어 비교적 높은 종횡비(길이:직경)를 갖는 하나 이상의 결함 라인들을 생성하는데 사용될 수 있으며, 이에 따라 일부 실시예들에서 기판의 제1표면에서 대향하는 제2표면까지 확장하는 매우 얇은 긴 결함 라인이 생성될 수 있다. 그와 같은 결함 라인들은 원칙적으로 단일의 레이저 펄스에 의해 생성될 수 있거나 또는 영향 받는 영역(예컨대, 증가된 결함 라인 길이 및/또는 폭)을 증가시키기 위해 추가의 펄스들이 사용될 수 있다.

도 1a-b에 일반적으로 기술된 바와 같이, 전기변색 층(150)을 포함하는 유리 기판(130)을 절단하기 위한 방법은 펄스 레이저(140)를 사용하여 처리될 기판에 다수의 결함 라인(120)을 포함하는 윤곽 또는 폴트 라인(110; fault line)을 생성하는 단계를 포함할 수 있다. 그러한 결함 라인(120)들은, 예를 들어 유리 기판의 두께에 걸쳐, 예컨대 유리 시트의 주(평평한) 표면(a, b)에 거의 직각으로 확장할 수 있다. 도 1a에 나타낸 윤곽(110)과 같은 선형 윤곽이 유리 기판(130) 및/또는 펄스 레이저(140)를 1차원으로 병진 이동시킴으로써 생성될 수 있지만, 상기 유리 기판 및/또는 펄스 레이저를 2차원으로 병진 이동시킴으로써 곡선 또는 비선형 윤곽이 생성될 수도 있다.

도 1b에 나타낸 바와 같이, 이후 유리 기판(130)은 2개의 분리된 부분(130a 및 130b)을 생성하기 위해 상기 윤곽(110)을 따라 분리될 수 있으며, 여기서 그러한 분리된 에지 또는 표면들은 상기 윤곽(110)에 의해 규정되고, 상기 분리된 각각의 부분은 전기변색 층(150)을 포함한다.

도 2a-b를 참조하면, 기판을 레이저 처리하기 위한 방법은 펄스 레이저 빔(2)을 빔 전파 방향으로 지향된 레이저 빔 초점 라인(2b)으로 포커싱하는 단계를 포함할 수 있다. 레이저(나타내지 않음)는 광학 어셈블리(6)에 입사하는 부분(2a)을 가질 수 있는 펄스 레이저 빔(2)을 방출할 수 있다. 상기 광학 어셈블리(6)는 레이저 빔의 입사 부분(2a)을 길이(L) 및 직경(D)을 가질 수 있는 빔 방향을 따라 레이저 빔 초점 라인(2b)으로 변환할 수 있다. 기판(1)은 결국 상기 기판(1)으로 지향될 수 있는 레이저 빔 초점 라인(2b)과 적어도 부분적으로 중첩하도록 빔 경로에 위치될 수 있다. 제1표면(1a)은 광학 어셈블리(6)를 마주 대하도록 위치될 수 있으며, 반면 대향하는 제2표면(1b)은 광학 어셈블리(6)로부터 멀리 마주 대하도록 위치되거나, 또는 그 반대로 위치될 수 있다. 상기 기판의 두께(d)는 표면 1a와 1b 간 수직으로 확장될 수 있다.

도 2a에 나타낸 바와 같이, 기판(1)은 광학 어셈블리(6)에 의해 생성된 초점 라인(2b) 및 레이저 빔의 종축에 수직으로 정렬될 수 있다. 다양한 실시예들(나타낸 바와 같은)에서, 초점 라인(2b)은 기판(1)의 표면(1a) 앞에서 시작하고 표면(1b)을 넘어 확장하지 않는다. 물론, 초점 라인(2b)이 상기 표면(1a) 이후에서 시작하고 그리고/또 표면(1b)을 넘어 확장하도록(나타내지 않음) 다른 초점 라인 방위가 사용될 수 있다. 레이저 빔 초점 라인 및 기판이 중첩하는 영역은 강도가 길이(I)의 섹션, 즉 길이(I)의 라인 포커스 상에 레이저 빔(2)을 포커싱함으로써 생성될 수 있는 레이저 빔 초점 라인(2b)을 따라 충분한 레이저 강도를 가정하여 레이저 에너지의 유도 흡수 또는 비선형 다광자에 의해 변경될 수 있다.

상기 유도 흡수는 섹션(2c)을 따라 기판 재료에서 결함 라인 형성을 생성할 수 있다. 일부의 실시예들에서, 그러한 결함 라인은 미세한 일련의 (예컨대, 100nm＜직경＜10㎛) "구멍"(천공 또는 결함 라인이라고도 함)일 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 개별 천공은 수백 kHz(초 당 수십만 천공)의 속도로 생성될 수 있다. 기판과 펄스 레이저를 서로에 대해 병진 이동시킴으로써, 이러한 천공은 원하는 공간적 분리(주기 또는 피치라고도 함)로 서로 인접하여 생성될 수 있다. 결함 라인의 주기는 기판의 분리를 용이하게 하고 그리고/또 원하는 착색 효과를 생성하기 위해 원하는대로 선택될 수 있다. 그러한 결함 라인들 간 예시의 주기는, 예컨대 약 1 ㎛ 내지 약 20 ㎛, 약 2 ㎛ 내지 약 15 ㎛, 약 3 ㎛ 내지 약 12 ㎛, 약 4 ㎛ 내지 약 10 ㎛, 또는 약 5 ㎛ 내지 약 8 ㎛와 같이 약 0.5 ㎛ 내지 약 25 ㎛의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

특정의 비-한정 실시예들에서, 상기 결함 라인은 제1표면 (1a)으로부터 대향하는 제2표면(1b)으로 확장되는, 예컨대 기판(1)의 전체 두께(d)를 가로질러 확장되는 "관통 구멍" 또는 개방 채널일 수 있다. 결함 라인 형성은 또한 도 2a에서 길이(L)를 갖는 섹션(2c)에 의해 나타낸 바와 같이, 기판 두께의 일부를 가로질러 확장될 수 있다. 따라서, 상기 섹션(2c)의 길이(L)는 기판(1)에 대한 레이저 빔 초점 라인(2b)과 결과의 결함 라인의 길이 간 중첩의 길이에 대응한다. 섹션(2c)의 평균 직경(D)은 레이저 빔 초점 라인(2b)의 평균 직경과 거의 일치할 수 있다. 도 2b를 참조하면, 도 2a의 레이저 빔(2)에 노출된 기판(1)이 결국 레이저 에너지의 유도 흡수로 인해 팽창되어 재료에서의 대응하는 유도 응력이 미세 크랙 형성을 유발할 수 있다. 그러한 유도 응력은 다양한 실시예에 따라 표면(1a)에서 가장 클 수 있다.

본원에 규정된 바와 같이, 결함 라인의 폭은 유리 기판에 생성된 개방 채널 또는 직경 공기 구멍의 내부 폭에 대응한다. 예를 들어, 일부의 실시예들에서, 그러한 결함 라인의 폭은 약 0.25 ㎛ 내지 약 4 ㎛, 약 0.5 ㎛ 내지 약 3.5 ㎛, 약 1 ㎛ 내지 약 3 ㎛, 또는 약 1.5 ㎛ 내지 약 2 ㎛와 같이 약 0.1 ㎛ 내지 약 5 ㎛의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 일부의 실시예들에서, 결함 라인의 폭은 레이저 빔 초점 라인의 평균 스폭 직경 만큼 클 수 있으며, 예를 들어 레이저 빔 초점 라인의 평균 스폿 직경은 또한 약 0.25 ㎛ 내지 약 4 ㎛, 약 0.5 ㎛ 내지 약 3.5 ㎛, 약 1 ㎛ 내지 약 3 ㎛, 또는 약 1.5 ㎛ 내지 약 2 ㎛와 같이 약 0.1 ㎛ 내지 약 5 ㎛의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 유리 기판이 다수의 결함 라인을 포함하는 윤곽을 따라 분리되는 실시예들에서, 그러한 결함 라인들은 분리된 부분의 절단 에지(들)를 따라 잠재적으로 보여질 수 있고, 이들 영역은 상기 결함 라인들의 폭에 필적하는 폭, 예컨대 약 0.1 ㎛ 내지 약 5 ㎛를 가질 수 있다.

펄스 레이저 빔은, 예를 들어 선택된 광학 어셈블리 구성에 따라 변할 수 있는 임의의 원하는 길이(I)를 갖는 레이저 빔 초점 라인으로 포커싱될 수 있다. 일부의 실시예들에서, 그러한 레이저 빔 초점 라인 길이는, 예를 들어 약 0.1 mm 내지 약 50 mm, 약 0.5 mm 내지 약 20 mm, 약 1 mm 내지 약 10 mm, 약 2 mm 내지 약 8 mm, 또는 약 3 mm 내지 약 5 mm와 같이 약 0.01 mm 내지 약 100 mm의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 다양한 실시예들에서, 상기 레이저 빔 초점 라인 길이(I)는 기판의 두께(d)에 대응하거나, 기판의 두께(d)보다 작거나, 또는 기판의 두께(d)보다 클 수 있다. 그와 같이, 일부의 실시예들에서, 본원에 개시된 방법들은 2개 이상의 기판의 스택과 같은 하나 이상의 기판을 처리 또는 절단하는데 사용될 수 있다. 비-한정 실시예들에 따르면, 다양한 위치에서 기판들 간 하나 이상의 공극이 존재하는 경우에도, 펄스 레이저 빔은 단일의 레이저 통과로 약 100 mm 이상, 예컨대 20 ㎛ 내지 200 mm의 전체 두께까지 유리 기판의 스택을 천공할 수 있다. 예를 들어, 각 기판의 두께가 0.5 mm인 200 개의 기판 스택의 각각의 기판은 레이저의 단일의 통과에 의해 천공될 수 있다. 예를 들어, 약 1 미크론(0.001 mm) 두께의 전기변색 필름을 갖는 각각의 기판은 200개의 그와 같은 100.2 mm 두께의 기판의 스택(100 mm 유리 및 0.2 mm 전기변색 필름)을 만들 것이다. 추가로, 일부의 실시예들은 광학적으로 투명하고 다층의 천공을 허용하는 유리 기판들 간 추가의 코팅 및/또는 보호 재료를 더 포함할 수 있다. 그와 같은 코팅은 SiO₂, Al₂O₃, 및 실록산과 같은 유기 및 무기 중합체를 포함하지만 이에 한정되지 않는다.

상기 결함 라인 또는 다수의 결함 라인은 다양한 방법을 사용하여 생성될 수 있다. 예를 들어, 다양한 장치가 레이저 빔 초점 라인을 생성하기 위해 레이저 빔을 포커싱하는데 사용될 수 있다. 레이저 빔 초점 라인은, 예를 들어 가우스-베셀 레이저 빔 프로파일을 생성하기 위해 가우시안 레이저 빔을 액시콘 렌즈로 전송함으로써 생성될 수 있다. 가우스-베셀 빔은 가우시안 빔보다 더 천천히 회절될 수 있다(예컨대, 수십 미크론 이하와 반대로 수백 미크론 또는 밀리미터의 범위에 대해 단일의 마이크론 스폿 크기를 유지할 수 있음). 따라서, 가우스-베셀 빔에 대한 포커스 강도의 깊이 또는 길이는 가우시안 빔의 것보다 훨씬 클 수 있다. 다른 천천히 회절하는 또는 회절하지 않는 빔 또한 에어리(Airy) 및 베셀 빔과 같은 광학 요소들을 사용하여 사용되거나 생성될 수 있다. 레이저 빔 포커스 라인을 생성하기 위한 예시의 광학 어셈블리가 본원에 전체적으로 통합된 미국 특허출원 제14/529,520호 및 제14/530,457호에 제공된다. 포커싱은, 예를 들어 임의의 다양한 도넛-형상의 레이저 빔, 구면 렌즈, 액시콘 렌즈, 회절 소자, 또는 높은 강도의 선형 영역을 형성하기 위한 임의의 다른 적절한 방법 또는 장치를 사용하여 수행될 수 있다. 충분한 강도가 비선형 광학 효과로 인해 기판 재료의 파손을 생성하기 위해 생성되는 한, 펄스 레이저의 타입(예컨대, 피코초, 펨토초 등) 및/또는 그 파장(예컨대, IR, UV, 녹색 등) 또한 변경될 수 있다.

도 3은 펄스 레이저 빔(2)을 길이(I)를 갖는 레이저 빔 초점 라인(2b)으로 포커싱하고 전기변색 층(7)을 갖는 유리 기판(1)으로 지향하게 하는데 사용될 수 있는 하나의 예시적인 광학 어셈블리(6)를 나타낸다. 그러한 광학 어셈블리(6)는, 예를 들어 액시콘 렌즈(3), 콜리메이팅 렌즈(4), 및 포커싱 렌즈(5)를 포함한다. 상기 광학 어셈블리의 각 렌즈의 초점 길이는 원하는 직경 및/또는 길이를 갖는 레이저 빔 초점 라인을 생성하도록 변경될 수 있다. 예를 들어, 상기 포커싱 렌즈(5)는 약 20 mm 내지 약 40 mm, 또는 약 25 mm 내지 약 30 mm와 같이 약 10 mm 내지 약 50 mm 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 초점 길이를 가질 수 있다. 유사하게, 상기 콜리메이팅 렌즈(4)는 약 75 mm 내지 약 150 mm, 또는 약 100 mm 내지 약 125 mm와 같이 약 50 mm 내지 약 200 mm 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 초점 길이를 가질 수 있다.

다양한 비-한정 실시예들에서, 액시콘 렌즈(3)는, 초단 베셀 빔(피코초 또는 펨토초 지속시간의)을 사용하여, 높은 종횡비의 높은 강도 영역, 예컨대 테이퍼-프리(taper-free) 레이저 마이크로채널을 생성하기 위해 광학 렌즈 어셈블리(6)에 통합될 수 있다. 액시콘은 광 축을 따라 라인 상에 스폿 소스를 형성할 수 있는 원뿔형 절단 렌즈이다(예컨대, 레이저 빔을 링으로 변환하는). 액시콘 및 이들의 구성은 통상의 기술자들에게 공지되어 있으며, 예를 들어 10˚ 내지 약 15˚와 같이 약 5˚ 내지 약 20˚ 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 원뿔 각을 가질 수 있다.

상기 액시콘 렌즈(3)는 원래의 직경 D1(예컨대, 약 2-3 mm와 같이 약 1-5 mm)을 갖는 레이저 빔을, 예컨대 도 2a에 나타낸 초점 라인 직경(D)에 대응하는 보다 작은 직경을 갖는 거의 원통형이고 높은 종횡비(예컨대, 긴 길이 및 작은 직경)의 높은 강도 영역으로 응축시킬 수 있다. 그러한 응축된 레이저 빔 내에 생성된 높은 강도는 레이저 에너지가 기판으로 전달되어 결함 라인의 형성을 초래하도록 레이저 및 기판의 전자기장의 비선형 상호 작용을 야기할 수 있다. 그러나, 레이저 강도가 충분히 높지 않은 기판의 영역(예컨대, 중심 수렴 라인을 둘러싸는 영역)에서, 기판은 레이저로부터 기판 재료로 에너지를 전달하기 위한 메커니즘이 없도록 레이저에 대해 투명할 수 있다. 그와 같이, 레이저 강도가 비선형 임계치 아래에 노출되는 유리 기판 영역에는 손상이나 변화가 없을 수 있다.

펄스 레이저 빔을 사용하여 다수의 결함 라인 또는 천공을 포함하는 윤곽을 생성한 후에, 유리 기판은 제2레이저 빔을 사용하여 2개 이상의 부분으로 선택적으로 분리될 수 있다. 제2레이저 빔은 윤곽 주위에 열 응력 영역을 생성하기 위한 열원으로서 사용되어 결함 라인을 인장시켜 분리를 유도할 수 있다. 상기 제2레이저 빔은 유리 기판이 투명하지 않은 임의의 파장, 예컨대 약 1064 nm보다 큰 적외선 파장을 방출할 수 있다. 일부의 실시예들에서, 상기 제2레이저 빔은 약 10 ㎛와 같이 약 5 ㎛보다 큰 파장에서 방출될 수 있다. 적절한 적외선 레이저는, 예를 들어 변조되거나 변조될 수 없는 CO₂ 레이저 등을 포함할 수 있다. 제2레이저 빔의 비-한정 예는 약 10.2 ㎛ 내지 약 10.7 ㎛, 또는 약 10.4 ㎛ 내지 약 10.6 ㎛와 같이 약 10 ㎛보다 큰 파장 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)에서 동작하는 변조 CO₂ 레이저를 포함하나, 이것으로 한정하진 않는다.

도 1a-b를 참조하면, 상기 제2레이저 빔(나타내지 않음)은 유리 기판(130)의 제1표면(a)과 접촉하여 유리 기판을 2개 이상의 부분(130a, 130b)으로 분리하기 위해 윤곽(110)을 따라 병진 이동될 수 있다. 제2표면(b)은 제2레이저 빔과 접촉하는 표면(a)으로부터 멀리 마주 대하는 전기변색 층(150)을 포함할 수 있다. 상기 제2레이저 빔은 윤곽(110a) 및 그 주위에 열 응력의 영역을 생성하여 그 윤곽(110)을 따라 유리 기판(130)의 분리를 유도하여 분리된 부분(130a, 130b)을 생성할 수 있다.

상기 제2레이저 빔에 대한 예시의 파워 레벨은, 일부의 실시예들에서, 약 100 W 내지 약 400 W, 약 150 W 내지 약 300 W, 또는 약 200 W 내지 약 250 W와 같이 약 50 W 내지 약 500 W의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 연속(예컨대, 비변조) 모드에서 동작할 때, 상기 제2레이저 빔은 변조 모드에서 동작할 때보다 낮은 파워를 가질 수 있다. 예를 들어, 각각의 레이저 파워가 변할 수 있고 주어진 예시의 범위들로 한정되지 않을 지라도, 연속의 제2레이저 빔은 약 50 W 내지 약 300 W 범위의 파워 레벨을 가질 수 있으며, 반면 변조된 제2레이저 빔은, 약 200 W 내지 약 500 W 범위의 파워 레벨을 가질 수 있다. 추가의 실시예들에서, 제2레이저 빔의 평균 스폿 직경은 약 2 mm 내지 약 9 mm, 약 3 mm 내지 약 8 mm, 약 4 mm 내지 약 7 mm, 또는 약 5 mm 내지 약 6 mm와 같이 약 1 mm 내지 약 10 mm 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 상기 제2레이저 빔에 의해 생성된 열은 윤곽 및/또는 그 주위의 열 응력 영역을 야기할 수 있으며, 이러한 영역은 미크론 정도의 직경, 예컨대 약 1 ㎛ 내지 약 20 ㎛, 약 2 ㎛ 내지 약 15 ㎛, 약 3 ㎛ 내지 약 10 ㎛, 약 4 ㎛ 내지 약 8 ㎛, 또는 약 5 ㎛ 내지 약 6 ㎛와 같이 약 20 ㎛ 미만 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 직경을 갖는다.

다양한 실시예들에 따르면, 상기 제2레이저 빔은 변조될 수 있으며, 약 1 마이크로초 초과 내지 약 약 200 마이크로초 미만, 예컨대 약 5 마이크로초 내지 약 150 마이크로초, 약 10 마이크로초 내지 약 100 마이크로초, 약 20 마이크로초 내지 약 80 마이크로초, 약 30 마이크로초 내지 약 60 마이크로초, 또는 약 40 마이크로초 내지 약 50 마이크로초의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)와 같이, 약 200 마이크로초보다 작은 펄스 지속시간을 가질 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 그러한 변조된 제2레이저 빔의 상승 시간은 약 10 마이크로초 내지 약 150 마이크로초, 약 20 마이크로초 내지 약 100 마이크로초, 약 30 마이크로초 내지 약 80 마이크로초, 약 40 마이크로초 내지 약 70 마이크로초, 또는 약 50 마이크로초 내지 약 60 마이크로초의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)와 같이 약 150 마이크로초보다 작을 수 있다.

추가의 실시예들에서, 상기 변조된 제2레이저 빔의 펄스 반복률(또는 변조 속도)는 약 5 kHz 내지 약 80 kHz, 약 10 kHz 내지 약 60 kHz, 약 20 kHz 내지 약 50 kHz, 또는 약 30 kHz 내지 약 40 kHz의 범위와 같이 약 1 kHz 내지 약 100 kHz의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 비-한정 실시예들에 따르면, 제2레이저 빔 펄스들 간 피치 또는 주기는 약 5 ㎛ 내지 약 90 ㎛, 약 10 ㎛ 내지 약 80 ㎛, 약 20 ㎛ 내지 약 70 ㎛, 약 30 ㎛ 내지 약 60 ㎛, 또는 약 40 ㎛ 내지 약 50 ㎛와 같이 약 1 ㎛ 내지 약 100 ㎛의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

특정 실시예들에서, 유리 기판의 제1표면은 단일의 통과로 상기 제2레이저 빔과 접촉되거나, 또는 다른 실시예들에서, 다수의 통과가 이루어질 수 있다. 예를 들어, 상기 제2레이저 빔은, 어디에서든 2 내지 9의 통과, 3 내지 8의 통과, 4 내지 7의 통과, 또는 5 내지 6의 통과와 같이 1 내지 10의 통과(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)를 사용하여, 유리 기판에 대해 병진 이동되거나, 또는 그 반대로 병진 이동될 수 있다. 그러한 병진 이동의 속도는 약 150 mm/s 내지 약 900 mm/s, 약 200 mm/s 내지 약 800 mm/s, 약 250 mm/s 내지 약 700 mm/s, 약 300 mm/s 내지 약 600 mm/s, 또는 약 400 mm/s 내지 약 500 mm/s와 같이 약 100 mm/s 내지 약 1000 mm/s의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

다른 관점은 하부 기판에 손상을 주거나 손상을 제한하지 않으면서 기판 상에 전기변색 층에 구멍, 보이드, 갭, 또는 다른 불연속성을 생성하기 위해 상기 소정의 프로세스의 사용을 포함한다. 그와 같은 실시예들에서, 상기 전기변색 층(150)은 레이저 흡수 또는 침투 깊이를 변경하는데 사용될 수 있다. 일부의 실시예들에서, 상기 전기변색 층(150)은 레이저 광의 흡수를 증가시키기 위해 채색되거나 어두워진 상태로 배치되며, 그와 같은 실시예들에서, 레이저는 전기변색 층(150)의 광 흡수 파장에 가까운 파장으로 조정될 수 있다. 그와 같은 실시예들에서, 상기 전기변색 층의 흡수는 전기변색 층의 변형을 돕거나, 레이저 침투 깊이에 영향을 주거나, 또는 유리 또는 전기변색 층을 변형시키는데 필요한 전체 레이저 펄스 파워를 증가 또는 감소시킬 수 있다.

상기 전기변색 층에 불연속성을 생성함에 있어서, 일반적으로 2개 이상의 전기적으로 분리된 영역을 생성하는 것이 목표인 경우가 있다. 따라서, 기판 상에 전기변색 층의 2개 이상의 영역을 전기적으로 분리하도록 명시적으로 형성된 레이저-형성 라인으로 규정된 불연속 라인은 통상적으로 연속적일 필요가 있으며, 이는 전기변색 층의 2개의 영역을 서로 완전히 분리하고, 전기변색 필름의 적어도 한 층의 제거를 요구할 수 있다는 것을 의미한다. 전기변색 층에 불연속성을 생성하는데 필요한 레이저 파워 또는 에너지 레벨은 통상적으로 유리 기판에 손상을 유발하는데 필요한 것보다 훨씬 작다. 펄스 또는 연속 레이저가 사용될 수 있다. 펄스 레이저의 사용은 전기변색 재료가 전기변색 재료 또는 기판을 가열하지 않고 제거되어 인접한 유지된 전기변색 재료 또는 유리 기판의 성질을 손상시키는 것을 피할 수 있다는 점에서 유리할 수 있다. 더욱이, 레이저의 파장은 밝거나 어두워진 상태에서 전기변색 필름의 흡수를 효과적으로 목표로 할 수 있다. 또한, 빔은 필요에 따라 기판을 통해 또는 기판의 반대편으로 포커싱될 수 있다.

펄스화된 경우, 예시의 레이저 파워는, 일부의 실시예들에서, 약 0.25 W 내지 약 50 W, 또는 약 1 W 내지 약 100 W의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 일 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 상기 펄스화 레이저 빔(간단히, 펄스 레이저 빔)은 100 나노초 내지 10 펨토초, 예컨대 약 100 피코초의 펄스 지속시간을 가질 수 있다. 일부의 실시예들에서, 상기 펄스 레이저 빔은 약 1 피코초 초과 내지 약 100 피코초 미만, 예컨대 약 5 피코초 내지 약 50 피코초, 약 10 피코초 내지 약 30 피코초, 또는 약 15 피코초 내지 약 20 피코초 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 펄스 지속시간을 갖는다. 추가의 실시예들에서, 펄스 레이저 빔의 펄스 반복률은 약 10 kHz 내지 약 650 kHz, 약 50 kHz 내지 약 500 kHz, 약 100 kHz 내지 약 400 kHz, 또는 약 200 kHz 내지 약 300 kHz와 같이 약 1 kHz 내지 약 4 MHz의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

전기변색에서 불연속성 생성을 위한 파워 레벨이 훨씬 작기 때문에, 연속 레이저 소스가 또한 사용될 수 있다. 연속 레이저에 대한 파워 레벨은 약 0.25 W 내지 약 50 W, 또는 약 1 W 내지 약 100 W와 같이 약 0.25 W 내지 약 150 W의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)이며, 주로 파장, 초점, 및 시간에 따라 빔이 특정 영역을 타겟으로 한다.

상기 불연속 라인은 그것을 형성하는데 사용된 레이저와 거의 동일한 폭일 수 있다. 상기 불연속 라인의 폭은 약 0.25 ㎛ 내지 약 4 ㎛, 약 0.5 ㎛ 내지 약 3.5 ㎛, 약 1 ㎛ 내지 약 3 ㎛, 또는 약 1.5 ㎛ 내지 약 2 ㎛와 같이 약 0.1 ㎛ 내지 약 5 ㎛의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다. 불연속 라인의 폭은, 일부의 실시예들에서, 레이저 빔 초점 라인의 평균 스폿 직경 만큼 클 수 있으며, 예컨대 그러한 레이저 빔 초점 라인의 평균 스폿 직경은 또한 약 0.25 ㎛ 내지 약 4 ㎛, 약 0.5 ㎛ 내지 약 3.5 ㎛, 약 1 ㎛ 내지 약 3 ㎛, 또는 약 1.5 ㎛ 내지 약 2 ㎛와 같이 약 0.1 ㎛ 내지 약 5 ㎛의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)일 수 있다.

유리 제품

본원에는 제1표면, 대향하는 제2표면, 및 상기 제2표면의 적어도 일부에 배치된 전기변색 코팅을 포함하는 유리 제품이 개시되며, 상기 유리 제품에 전압의 인가에 따라, 유리 기판의 코팅부의 제1영역은 상기 코팅부의 제2영역의 제2가시광 전송보다 적은 제1가시광 전송을 갖는다. 도 4a를 참조하면, 라인(Z)에 의해 분리된 표면의 일부(E; 음영부) 및 비코팅부(U; 비음영부)를 포함하는 유리 제품의 제2표면이 나타나 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 본원에 개시된 방법은 도 4b-c의 유리 제품들 뿐만 아니라 이들의 소정 원하는 변형물을 생산하기 위해 도 4a의 유리 제품을 레이저 처리하는데 사용될 수 있다.

일부의 실시예들에서, 전기변색 층은 하나 이상의 무기 재료를 포함한다. 일부의 실시예들에서, 상기 전기변색 층은 하나 이상의 산화 텅스텐을 포함한다.

예를 들어, 제1펄스 레이저는 본원에서 레이저 "스크라이브(scribe)" 또는 "천공"이라고도 부르는 윤곽 A1(점선)을 생성하는데 사용될 수 있다. 제1펄스 레이저 및 제2레이저는 윤곽 B1(이중선)을 따라 추적되어 유리를 2개의 부분으로 분리하여 도 4b에 나타낸 유리 제품 뿐만 아니라 코팅되지 않은 나머지(나타내지 않음)를 생성할 수 있다. C1에 전압의 인가에 따라, 코팅부(E)의 C1이 "착색될" 수 있고 그리고/또 상기 코팅부(E)의 제2영역(C2)과 비교하여 감소된 투과율(예컨대, 가시 파장 400-700 nm)을 가질 수 있으며, 이는 비활성화되거나 변경되지 않은(또는 착색되지 않은) 상태로 유지될 수 있다. 대안으로, 전압이 C2에 인가되고 C1에 인가되지 않으면, 상기 C1과 유사하게 수행할 수 있다. 스크라이브 라인이 층들을 서로 전기적으로 분리시킴에 따라 C1 및 C2 모두는 이제 서로 독립적으로 착색될 수 있다.

윤곽 A1에 따른 레이저 스크라이브는 C1과 C2 간 전기변색 효과에 대한 전기적 장벽을 생성하는 역할을 한다. 그와 같이, 유리 제품은 전기변색 층으로 코팅된 경우에도 C1에 전압의 인가에 따라 전기변색 효과를 나타내지 않는 "새로운" 비착색(그러나 코팅된) 영역(C2) 및 비코팅(예컨대, 비착색)부(U)를 포함할 수 있다(그리고 그 반대로). 따라서, 레이저 스크라이브 또는 천공 프로세스는 제1 또는 제2영역 내의 패턴 뿐만 아니라 선형 및 곡선 윤곽을 포함하는 소정의 원하는 패턴을 유리 기판 상에 생성하는데 사용될 수 있다. 그러한 윤곽 또는 레이저 스크라이브는 상술한 바와 같이 다수의 불연속 라인을 포함할 수 있고 전기변색 층 또는 유리 기판을 현저히 손상시키지 않으면서 소정의 원하는 시각 효과를 생성하도록 각각의 영역을 분리할 수 있다. 상기 불연속 라인의 폭은 약 0.25 ㎛ 내지 약 10 ㎛, 약 0.5 ㎛ 내지 약 5 ㎛, 약 1 ㎛ 내지 약 3 ㎛, 또는 약 1.5 ㎛ 내지 약 2 ㎛와 같이 약 0.1 ㎛ 내지 약 25 ㎛ 범위((이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함))일 수 있다.

일부의 실시예들에서, C2는 레이저에 의해 손상되지 않거나, 또는 거의 손상되지 않을 수 있다. 예를 들어, 이러한 영역의 전기변색 코팅 및/또는 유리 기판은 레이저 손상되지 않을 수 있거나, 또는 이하 보다 상세히 설명하는 바와 같이, 윤곽을 따라 매우 작은 레이저 손상 영역을 나타낼 수 있다. 따라서, 그러한 윤곽은 단일의 마더보드로부터 2개 이상의 액티브 장치를 생성한다. 레이저 절단이 정밀하고 파워가 전기변색 필름에 거의 손상을 주지 않으면서 매우 미세한 라인을 생성하도록 제어될 수 있기 때문에, C1 및 C2의 전기변색 층은 손상되지 않고 아주 적은 전기변색 재료가 소비된다.

일부의 실시예들에서, 전기변색 필름에서의 불연속성의 형성은 제품의 특정 영역에서 착색 효과를 제거하는데 사용될 수 있다. 코팅된 기판의 주어진 영역에서 착색 효과를 제거하기 위한 현재의 방법들은, 예컨대 원하는 영역에서 코팅을 "연소"시키기 위해 레이저 제거를 사용하여 코팅을 제거하는 단계를 포함한다. 그러나, 그와 같은 공정은 부정확할 수 있으며, 전기변색 층 및 하부 유리 기판 모두에 큰 손상 영역을 초래할 수 있다. 예를 들어, 전기변색 층이 원하는 영역으로부터 완전히 제거되도록 보장하기 위해, 고출력 레이저를 사용하여 다수의 통과가 이루어져 나머지 전기변색 층이 손상되고 그리고/또 그 하부의 유리 기판이 손상되는 넓은 영역(또는 스트립)이 발생할 수 있다. 그와 같은 레이저 손상 영역은 수십 밀리미터 정도의 폭, 예를 들어 약 20 mm 초과, 약 25 mm 초과, 또는 심지어 약 30 mm 초과의 폭을 가질 수 있다.

또한, 본원에는 제1표면, 대향하는 제2표면, 및 실질적으로 상기 제2표면 전체에 배치된 전기변색 코팅을 포함하는 유리 제품이 개시되며, 여기서 상기 전기변색 코팅은 유리 제품의 적어도 하나의 에지에 인접한 레이저 손상된 주변 영역을 포함하고, 상기 레이저 손상된 주변 영역은 약 10, 1, 또는 0.1 mm 미만의 폭을 갖는다. 도 4a를 다시 참조하면, 제1펄스 레이저가 윤곽 A2(점선)를 생성하는데 사용될 수 있으며, 제1펄스 레이저 및 제2레이저는 도 4c에 나타낸 유리 제품을 생성하기 위해 유리를 2개의 부분으로 분리하도록 윤곽 B2(이중선)를 따라 추적될 수 있다. 전압의 인가에 따라, 코팅부(E)의 제1영역(C1)이 착색될 수 있고 그리고/또 상기 코팅부(E)의 제2영역(C2)과 비교하여 감소된 투과율(예컨대, 가시 파장 400-700 nm)을 가질 수 있으며, 이는 변경되지 않은(또는 착색되지 않은) 상태로 유지될 수 있다.

비코팅부(U)를 걸쳐 절단되는 윤곽 B1과 달리, 윤곽 B2는 코팅된 영역(E)을 걸쳐 절단된다. 이론에 구속되기를 바라지 않고, 본원에 개시된 레이저 절단 방법은 전기변색 층에 대해 최소의 손상으로 상기 코팅된 유리 제품을 분리할 수 있다고 믿어진다. 본원에 개시된 레이저 처리 방법은 전기변색 필름이 레이저 손상되는 비교적 작은 영역(윤곽 폭)을 제공하고 전압의 인가시 전기변색 효과를 나타내지 않는다. 예를 들어, 레이저 절단 프로세스는 비교적 얇은(예컨대, 약 0.1 mm보다 작은) 절단 에지(e)를 따라 레이저 손상 영역(L)을 생성할 수 있다. 일부의 실시예들에서, 그러한 레이저 손상 영역(L)은 약 9 mm, 8 mm, 5 mm, 1 mm, 0.5 mm, 0.1 mm, 0.09 mm, 0.08 mm, 0.07 mm, 0.06 mm, 0.05 mm, 0.04 mm, 0.03 mm, 0.02 mm, 0.01 mm 미만, 또는 그 이하의 범위, 예컨대 약 0.01 mm 내지 약 0.1 mm의 범위와 같이 약 10 mm, 1 mm, 또는 0.1 mm 미만의 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)인 폭을 가질 수 있다.

본원에 개시된 유리 제품은 비교의 공정 의해 생성된 비코팅 및/또는 손상된 영역과 비교하여 상대적으로 작은 레이저 손상 영역을 가질 수 있다. 예를 들어, 절단-앤드-코팅 공정은 픽스쳐링으로부터의 간섭으로 인해 코팅되지 않은 상당한 영역을 발생시킬 수 있다. 유사하게, 유리가 코팅되고 나서 통상적인 수성 에지 연마 방법을 사용하여 절단되면, 절단 에지에 인접한 전기변색 층에 대한 손상(예컨대, 블리스터링 등)은 훨씬 더 클 것이다. 더욱이, 종래 기술의 방법을 사용하여 그러한 기판(절단-앤드-코팅 또는 코팅-앤드-절단)의 소정의 부분 상에 착색 효과를 제거하고자 하는 경우, 제거 공정 동안 생성된 레이저 손상 영역은 훨씬 더 클 것이다(예컨대, 폭 20 mm 이상).

본원의 유리 제품은 기능적인 전기변색 층으로 실질적으로 코팅된, 예컨대, 전압의 인가에 따라 종래 기술의 방법을 사용하여 이전에 가능하지 않았던 에지-투-에지 착색된 적어도 하나의 표면을 포함할 수 있다. 특정 실시예들에서, 실질적으로 유리 제품의 모든 표면은 그러한 제품의 하나 이상의 에지를 따라 하나 이상의 레이저 손상 영역(＜0.1 mm)을 포함할 수 있는 전기변색 층으로 코팅될 수 있다. 예를 들어, 유리 기판의 표면을 전기변색 층으로 코팅한 다음, 그 코팅된 기판을 단일의 윤곽을 따라 분리하여 유리 기판의 비코팅부를 제거할 수 있다(예컨대, 픽스쳐링으로 인해). 따라서, 생성된 유리 제품은 실질적으로 전기변색 층으로 코팅될 수 있고 윤곽 에지 근처의 주변 레이저 손상 영역을 포함할 수 있다. 추가의 실시예들에서, 코팅된 유리 기판은 2개 이상의 윤곽을 따라 분리될 수 있고, 생성된 유리 제품은 2개 이상의 레이저 손상 영역을 포함할 수 있다. 전압의 인가에 따라, 에지에서 소정의 레이저 손상 영역을 제외하고, 에지-투-에지 착색 효과가 관찰될 수 있다. 그러나, 그와 같은 레이저 손상 영역은 종래 기술의 공정에 의해 생성된 비코팅 및/또는 비손상 영역과 비교하여 비교적 작을 수 있다. 다양한 실시예들에 따르면, 비록 유리 제품의 크기가 감소됨에 따라, 레이저 손상된 영역이 차지한 표면의 상대적인 퍼센테이지가 증가할 수 있을 지라도, 레이저 손상된 영역은, 이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함하여, 약 4%, 3%, 2%, 1%, 0.5%, 0.1%, 또는 0.01% 미만과 같은 유리 표면의 코팅부의 약 5% 미만을 포함할 수 있다.

본원에 개시된 유리 제품은 자동차, 건축, 및 다른 유사한 애플리케이션에 적합한 당 업계에 공지된 임의의 유리를 포함할 수 있다. 예시의 유리 기판은 알루미노실리케이트, 알칼리-알루미노실리케이트, 보로실리케이트, 알칼리-보로실리케이트, 알루미노보로실리케이트, 알칼리-알루미노보로실리케이트, 소다 림 실리케이트, 및 다른 적합한 유리를 포함할 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 특정 실시예들에서, 상기 기판은 약 0.3 mm 내지 약 5 mm, 약 0.5 mm 내지 약 3 mm, 또는 약 1 mm 내지 약 2 mm와 같이 약 0.1 mm 내지 약 10 mm 범위(이들 사이의 모든 범위 및 그 하위 범위를 포함)의 두께를 가질 수 있다. 광 필터로서 사용하기에 적합한 상업적으로 이용 가능한 유리의 비-한정 예로는 코닝사의 EAGLE XG^®, Iris^TM, Lotus^TM, Willow^®, Gorilla^®, HPFS^® 및 ULE^® 유리를 포함한다. 적절한 유리는, 예를 들어 미국 특허 4,483,700, 5,674,790, 및 7,666,511에 개시되어 있으며, 이들 문헌의 내용은 참조를 위해 본원에 모두 포함된다.

상기 기판은 제1표면 및 대향하는 제2표면을 가진 유리 시트를 포함할 수 있다. 그러한 표면들은, 특정 실시예들에서, 평면 또는 실질적으로 평면일 수 있으며, 예컨대 실질적으로 평평하고 그리고/또 레벨일 수 있다. 또한, 상기 기판은, 일부의 실시예들에서, 적어도 하나의 곡률 반경으로, 예컨대, 볼록한 또는 오목한 기판과 같은 3차원 기판과 같이 만곡될 수 있다. 상기 제1 및 제2표면은, 다양한 실시예들에서, 평행하거나 거의 평행할 수 있다. 또한, 상기 기판은 적어도 하나의 에지, 예를 들어, 적어도 2개의 에지, 적어도 3개의 에지, 또는 적어도 4개의 에지를 더 포함할 수 있다. 비-한정 예로서, 상기 기판은 4개의 에지를 갖는 직사각형 또는 정사각형 시트를 포함할 수 있지만, 다른 형태 및 구성이 구상되고 본 개시의 범위 내에 속한다. 본원에 개시된 레이저 절단 방법은 다양한 곡선 윤곽 및 곡선, 예컨대 비선형 에지를 갖는 결과의 유리 제품을 생성하는데에도 사용될 수 있다.

본원에 개시된 유리 제품은 절연 유리 유닛(IGU)과 같은 다양한 제품을 생성하는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 전기변색 층으로 코팅된 표면의 적어도 일부를 포함하는 유리 제품은 IGU를 생성하기 위해 제2유리에 대해 둘레를 따라 실링될 수 있다. 유리 제품은 전기변색 층으로 코팅된 후에 크기 및/또는 형태로 절단될 수 있기 때문에, 그러한 IGU의 제조는 개선된 유연성 및/또는 비용 절감을 가질 수 있다.

다양한 개시된 실시예들은 그 특정 실시예와 관련하여 기술된 특정 특징, 요소 또는 단계들을 포함할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 또한, 하나의 특정 실시예와 관련하여 설명되었지만, 특정 특징, 요소 또는 단계는 다양한 도시되지 않은 조합 또는 교환으로 대안의 실시예와 상호 교환되거나 결합될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "그러한", "하나" 또는 "한"은 "적어도 하나"를 의미하며, 명시적으로 반대로 나타내지 않는 한 "단지 하나"로 제한되어서는 안됨을 이해해야 한다. 따라서, 예를 들어, "하나의 레이저"에 대한 언급은 그 맥락이 명확하게 달리 나타내지 않는 한, 그러한 레이저를 2개 이상 갖는 예를 포함한다. 마찬가지로, "복수형"은 "둘 이상"을 의미한다. 그와 같이, "다수의 결함 라인"은 3개 이상의 그와 같은 결함 라인 등과 같이 2개 이상의 그와 같은 결함 라인을 포함한다.

범위는 본원에서 "약" 하나의 특정 값에서, 및/또는 "약" 다른 특정 값으로 표현될 수 있다. 그러한 범위가 표현될 때, 예는 하나의 특정 값 및/또는 다른 특정 값을 포함한다. 유사하게, 값들이 근사치로 표현될 때, "약"이라는 전제를 사용하면, 특정 값이 다른 측면을 형성한다는 것을 알아야 할 것이다. 그러한 범위 각각의 끝점은 다른 끝점과 관련하여, 그리고 다른 끝점과는 독립적으로 중요하다는 것을 더 이해해야 할 것이다.

본원에 사용된 용어 "실질적", "실질적으로" 및 그 변형은 기술된 특징이 값 또는 설명과 동일하거나 거의 동일하다는 것을 나타내기 위한 것이다. 예를 들어, "실질적으로 평면인" 표면은 평면 또는 거의 평면인 표면을 나타내는 것으로 의도된다.

달리 명시하지 않는 한, 본원에 기재된 임의의 방법은 그 단계들이 특정 순서로 수행될 것을 요구하는 것으로서 해석되는 것은 결코 아니다. 따라서, 방법 청구항이 그 단계들에 뒤따라야 할 순서를 실제로 암시하지 않거나 또는 그 단계들이 특정 순서로 한정되어야 한다는 것이 청구항들 또는 설명들에 달리 명시적으로 언급되지 않은 경우, 특정 순서가 유추되는 것을 의도하기 위한 것은 아니다.

특정 실시예들의 다양한 특징, 요소 또는 단계가 과도적인 표현 "포함하는"을 사용하여 개시될 수 있지만, "구성되는" 또는 "본질적으로 구성되는"이라는 과도적인 표현을 사용하여 기술될 수 있는 실시예들을 포함하는 대안의 실시예들이 암시된다는 것을 알아야 한다. 따라서, 예를 들어, A+B+C를 포함하는 제품에 대한 암시된 대안의 실시들은 제품이 A+B+C로 이루어진 실시예들 및 제품이 필수적으로 A+B+C로 이루어진 실시예들을 포함한다.

본 개시의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 본 개시에 대한 다양한 변경 및 변형이 이루어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다. 그러한 개시된 내용의 사상 및 내용을 포함하는 개시된 실시예들의 변경 조합, 부분 조합 및 변형이 당업자에게 발생할 수 있으므로, 그러한 개시는 수반된 청구범위 및 그 등가물의 범위 내에 있는 모든 것을 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

Claims (20)

1. 제1표면, 대향하는 제2표면, 및 상기 제2표면 전체에 배치된 전기변색 코팅을 포함하는 유리 제품으로서, 상기 전기변색 코팅은 유리 제품의 적어도 하나의 에지에 인접한 레이저 손상된 주변 영역을 포함하고, 상기 레이저 손상된 주변 영역은 펄스 레이저 빔 및 제2레이저 빔에 의해 형성되고 0.1 mm 미만의 폭을 가지며,
   상기 유리 제품은:
   상기 펄스 레이저 빔이 전기변색 층이 없는 유리 기판의 표면으로부터 유리 기판 내로 지향 및 확장되고 전기변색 층을 포함하는 유리 기판의 표면을 넘지 않고 유리 기판에 윤곽을 생성하고;
   상기 제2 레이저 빔이 전기변색 층이 없는 유리 기판의 표면과 접촉하고 상기 윤곽을 따라 이동하여 유리 기판을 복수의 유리 제품으로 분리함으로써; 표면에 전기변색 층이 코팅된 유리 기판을 절단하여 얻어지는, 유리 제품.
2. 청구항 1에 있어서,
   상기 레이저 손상된 주변 영역은 유리 제품의 제2표면의 5% 이하를 포함하는, 유리 제품.
3. 청구항 1에 있어서,
   (i) 적어도 하나의 에지는 선형 또는 곡선 윤곽을 갖고;
   (ii) 유리 제품은 0.1 mm 내지 10 mm 범위의 두께를 갖는 유리 시트를 포함하는, 유리 제품.
4. 청구항 3에 있어서,
   제2표면의 코팅부는 제1영역 및 제2영역을 포함하고, 유리 제품에 전압의 인가에 따라, 상기 제1영역은 상기 제2영역의 제2가시광 전송보다 적은 제1가시광 전송을 갖는, 유리 제품.
5. 청구항 4에 있어서,
   (i) 제1 및 제2영역은 하나 이상의 레이저 라인을 포함하는 불연속 라인에 의해 분리되고;
   (ii) 윤곽은 선형 또는 곡선인, 유리 제품.
6. 청구항 1 내지 5 중 어느 한 항의 유리 제품을 포함하는 절연 유리 유닛.
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