JP6262039B2 - 板状物の加工方法 - Google Patents
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Description
レーザー光線を照射する集光器を備えたパルスレーザー光線照射手段によって板状物に対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線の集光点を板状物の内部に位置付けて形成すべき貫通口の輪郭に沿って照射することにより、板状物の内部に形成すべき貫通口の輪郭に沿ってレーザー加工を施す貫通口輪郭形成工程と、
該貫通口輪郭形成工程が実施された板状物の形成すべき貫通口の輪郭に対応して超音波付与手段の超音波振動子を位置付けて超音波を作用することにより、レーザー加工された形成すべき貫通口の輪郭を破壊して板状物に貫通口を形成する貫通口形成工程と、を含み、
該集光器の集光レンズの開口数(NA)は、板状物の屈折率(N)で除した値が0.05〜0.2となる範囲で設定され、
該貫通口輪郭形成工程は、パルスレーザー光線の集光点を板状物の内部に位置付けて照射することにより、板状物に集光点とパルスレーザー光線が入射された側との間に細孔と該細孔をシールドする非晶質とを成長させたシールドトンネルを形成すべき貫通口の輪郭に沿って形成する、
ことを特徴とする板状物の加工方法が提供される。
また、上記板状物はサファイア基板であり、集光器の集光レンズの開口数(NA)は0.1〜0.35となる範囲で設定される。
ここで、開口数(NA)と屈折率(N)と開口数(NA)を屈折率(N)で除した値(S=NA/N)との関係について、図5を参照して説明する。図5において集光レンズ51aに入光したパルスレーザー光線LBは光軸に対して角度(θ)をもって集光される。このとき、sinθが集光レンズ51aの開口数(NA)である(NA=sinθ)。集光レンズ51aによって集光されたパルスレーザー光線LBが単結晶基板からなる板状物10に照射されると、板状物10を構成する単結晶基板は空気より密度が高いのでパルスレーザー光線LBは角度(θ)から角度(α)に屈折して集光点Pに集光される。このとき、光軸に対する角度(α)は、板状物10を構成する単結晶基板の屈折率(N)によって異なる。屈折率(N)は(N=sinθ/sinα)であるから、開口数(NA)を単結晶基板の屈折率(N)で除した値(S=NA/N)はsinαとなる。従って、sinαを0.05〜0.2の範囲(0.05≦sinα≦0.2)に設定することが重要である。
以下、集光レンズ51aの開口数(NA)を単結晶基板の屈折率(N)で除した値(S=NA/N)が0.05〜0.2の範囲に設定された理由について説明する。
板状物10としての厚みが500μmのサファイア(Al2O3)基板(屈折率:1.76)を次の加工条件でシールドトンネルを形成し、シールドトンネルの良不良を判定した。
加工条件
波長 :1064nmのパルスレーザー
繰り返し周波数 :50kHz
パルス幅 :10ps
平均出力 :2W
集光スポット径 :Φ10μm
加工送り速度 :500mm/秒
集光レンズの開口数(NA) シールドトンネルの良不良 S=NA/N
0.05 不良:なし
0.1 やや良好 0.057
0.15 良好 0.085
0.2 良好 0.114
0.25 良好 0.142
0.3 良好 0.170
0.35 良好 0.198
0.4 不良 0.227
0.45 不良:ボイドができる
0.5 不良:ボイドができる
0.55 不良:ボイドができる
0.6 不良:ボイドができる
以上のようにサファイア基板(屈折率:1.76)においては、パルスレーザー光線を集光する集光レンズ51aの開口数(NA)が、開口数(NA)を単結晶基板の屈折率(N)で除した値(S=NA/N)が0.05〜0.2の範囲に設定することにより、シールドトンネルが形成される。従って、サファイア基板(屈折率:1.76)においては、パルスレーザー光線を集光する集光レンズ51aの開口数(NA)は、0.1〜0.35に設定することが重要である。
板状物10としての厚みが500μmの炭化珪素(SiC)基板(屈折率:2.63)を次の加工条件でシールドトンネルを形成し、シールドトンネルの良不良を判定した。
加工条件
波長 :1064nmのパルスレーザー
繰り返し周波数 :50kHz
パルス幅 :10ps
平均出力 :0.5W
集光スポット径 :φ10μm
加工送り速度 :500mm/秒
集光レンズの開口数(NA) シールドトンネルの良不良 S=NA/N
0.05 不良:なし
0.1 不良:なし
0.15 やや良好 0.057
0.2 良好 0.076
0.25 良好 0.095
0.3 良好 0.114
0.35 良好 0.133
0.4 良好 0.152
0.45 良好 0.171
0.5 良好 0.19
0.55 やや良好 0.209
0.6 不良:ボイドができる
以上のように炭化珪素(SiC)基板(屈折率:2.63)においては、パルスレーザー光線を集光する集光レンズ51aの開口数(NA)を単結晶基板の屈折率(N)で除した値(S=NA/N)が0.05〜0.2の範囲に設定することにより、シールドトンネルが形成される。従って、炭化珪素(SiC)基板においては、パルスレーザー光線を集光する集光レンズ51aの開口数(NA)は、0.15〜0.55に設定することが重要である。
板状物10としての厚みが500μmの石英ガラス基板(屈折率:1.45)を次の加工条件でシールドトンネルを形成し、シールドトンネルの良不良を判定した。
加工条件
波長 :1064nmのパルスレーザー
繰り返し周波数 :50kHz
パルス幅 :10ps
平均出力 :2W
集光スポット径 :φ10μm
加工送り速度 :500mm/秒
集光レンズの開口数(NA) シールドトンネルの良不良 S=NA/N
0.05 不良:なし 0.035
0.1 良好 0.069
0.15 良好 0.103
0.2 良好 0.138
0.25 良好 0.172
0.3 やや良好 0.207
0.35 不良:ボイドができる 0.241
0.4 不良:ボイドができる 0.276
以上のように石英ガラス基板(屈折率:1.45)においては、パルスレーザー光線を集光する集光レンズ51aの開口数(NA)を単結晶基板の屈折率(N)で除した値(S=NA/N)が0.05〜0.2の範囲に設定することにより、シールドトンネルが形成される。従って、石英ガラス基板(屈折率:1.45)においては、パルスレーザー光線を集光する集光レンズ51aの開口数(NA)は、0.1〜0.25に設定することが重要である。
上述したシールドトンネル加工は、パルスレーザー光線を1回照射することにより表裏面に至るシールドトンネルを形成することができるメリットがあり、後述する貫通口形成工程を実施することにより形成されたシールドトンネルに沿って板状物に貫通口を形成することができる。
また、貫通口輪郭形成工程の他の実施形態としては、図6の(a)に示すように集光レンズ51aの開口数(NA)を0.7〜0.9に設定して集光点Pを板状物の内部に位置付けてパルスレーザー光線を照射することにより図6の(a)に示すように板状物10の内部に破断の起点となる改質層120を形成することができる(改質層形成加工)。
従って、板状物10に印された形成すべき貫通口の輪郭101に沿って改質層を形成した後に、後述する貫通口形成工程を実施することにより形成された改質層に沿って板状物に貫通口を形成することができる。
ただし、パルスレーザー光線を1回照射することにより形成される改質層の深さは30μm程度であることから板状物の厚みが500μmの場合には、板状物の厚み方向に6層以上の改質層を形成することにより貫通口を形成することができる。厚みが500μmのサファイア基板、炭化珪素基板、石英ガラス基板に改質層を形成する加工条件は同一であり、以下の加工条件によって加工される。
加工条件
集光レンズの開口数(NA) :0.8
波長 :1064nmのパルスレーザー
繰り返し周波数 :50kHz
パルス幅 :10ps
平均出力 :2W
集光スポット径 :φ10μm
加工送り速度 :500mm/秒
ショット数 :6回
貫通口形成工程の加工条件:
超音波振動子 :チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)
出力 :25W
繰り返し周波数 :20kHz
振幅 :15μm
振動端子の材質 :チタン
振動端子の突起幅 :0.15mm
3:チャックテーブル機構
36:チャックテーブル
37:第1の加工送り手段
38:第2の加工送り手段
4:レーザー光線照射ユニット
5:レーザー光線照射手段
51:集光器
6:撮像手段
7:超音波付与手段
71:超音波振動子
711:振動端子
10:板状物
F:環状のフレーム
T:保護テープ
Claims (3)
- 板状物に所望形状の貫通口を形成する板状物の加工方法であって、
レーザー光線を照射する集光器を備えたパルスレーザー光線照射手段によって板状物に対して透過性を有する波長のパルスレーザー光線の集光点を板状物の内部に位置付けて形成すべき貫通口の輪郭に沿って照射することにより、板状物の内部に形成すべき貫通口の輪郭に沿ってレーザー加工を施す貫通口輪郭形成工程と、
該貫通口輪郭形成工程が実施された板状物の形成すべき貫通口の輪郭に対応して超音波付与手段の超音波振動子を位置付けて超音波を作用することにより、レーザー加工された形成すべき貫通口の輪郭を破壊して板状物に貫通口を形成する貫通口形成工程と、を含み、
該集光器の集光レンズの開口数(NA)は、板状物の屈折率(N)で除した値が0.05〜0.2となる範囲で設定され、
該貫通口輪郭形成工程は、パルスレーザー光線の集光点を板状物の内部に位置付けて照射することにより、板状物に集光点とパルスレーザー光線が入射された側との間に細孔と該細孔をシールドする非晶質とを成長させたシールドトンネルを形成すべき貫通口の輪郭に沿って形成する、
ことを特徴とする板状物の加工方法。 - 該板状物は石英ガラス基板であり、該集光器の集光レンズの開口数(NA)は0.1〜0.25となる範囲で設定される、請求項1記載の板状物の加工方法。
- 該板状物はサファイア基板であり、該集光器の集光レンズの開口数(NA)は0.1〜0.35となる範囲で設定される、請求項1記載の板状物の加工方法。
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